KR102370244B1 - Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern - Google Patents

Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern Download PDF

Info

Publication number
KR102370244B1
KR102370244B1 KR1020170113531A KR20170113531A KR102370244B1 KR 102370244 B1 KR102370244 B1 KR 102370244B1 KR 1020170113531 A KR1020170113531 A KR 1020170113531A KR 20170113531 A KR20170113531 A KR 20170113531A KR 102370244 B1 KR102370244 B1 KR 102370244B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
carbon atoms
hydrocarbon group
formula
represented
Prior art date
Application number
KR1020170113531A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180028038A (en
Inventor
히로무 사카모토
무츠코 히고
고지 이치카와
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20180028038A publication Critical patent/KR20180028038A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102370244B1 publication Critical patent/KR102370244B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/01Sulfonic acids
    • C07C309/02Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C309/19Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton containing rings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

식 (I)로 나타내어지는 염.

Figure 112017086300234-pat00170

[식 (I) 중,
R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.
R3은, 산 불안정기를 나타낸다.
X1은, 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다.
A-는, 유기 아니온을 나타낸다.]A salt represented by formula (I).
Figure 112017086300234-pat00170

[In formula (I),
R 1 and R 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent.
R 3 represents an acid labile group.
X 1 represents a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group constituting the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group.
A - represents an organic anion.]

Description

염, 산 발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법{SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN}Salt, acid generator, resist composition, and method for producing a resist pattern {SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN}

본 발명은, 염, 산 발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a salt, an acid generator, a resist composition, and a method for producing a resist pattern.

일본 공개특허 특개2010-44347호 공보에는, 하기식으로 나타내어지는 염을 산 발생제로서 함유하는 레지스트 조성물이 기재되어 있다.Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2010-44347 describes a resist composition containing a salt represented by the following formula as an acid generator.

Figure 112017086300234-pat00001
Figure 112017086300234-pat00001

일본 공개특허 특개2013-47209호 공보에는, 하기식으로 나타내어지는 염을 각각 산 발생제로서 함유하는 레지스트 조성물이 기재되어 있다.Japanese Patent Laid-Open No. 2013-47209 discloses a resist composition each containing a salt represented by the following formula as an acid generator.

Figure 112017086300234-pat00002
Figure 112017086300234-pat00002

본 발명은, 이하의 발명을 포함한다.The present invention includes the following inventions.

[1] 식 (I)로 나타내어지는 염.[1] A salt represented by formula (I).

Figure 112017086300234-pat00003
Figure 112017086300234-pat00003

[식 (I) 중,[In formula (I),

R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.R 1 and R 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent.

R3은, 산 불안정기를 갖는 기를 나타낸다.R 3 represents a group having an acid labile group.

X1은, 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다. A-는, 유기 아니온을 나타낸다.]X 1 represents a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group constituting the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group. A - represents an organic anion.]

[2] 상기 식 (I)의 X1은, -X12-O-X22-*(X12는 탄소수 1∼10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 지방족 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다. X22는, 탄소수 1∼10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다. 단, X12 및 X22의 합계 탄소수는 11이다. *는 R3과의 결합손을 나타낸다.)로 나타내어지는 기인 [1]에 기재된 염.[2] X 1 in the formula (I) is -X 12 -OX 22 -* (X 12 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the methylene group constituting the divalent aliphatic hydrocarbon group is an oxygen atom or may be substituted with a carbonyl group. X 22 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. However, the total number of carbon atoms in X 12 and X 22 is 11. * represents a bond with R 3 .) The salt according to [1], wherein the group represented by

[3] 상기 식 (I)의 R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기인 [1] 또는 [2]에 기재된 염.[3] The salt according to [1] or [2], wherein R 1 and R 2 in the formula (I) are each independently a phenyl group which may have a substituent.

[4] 상기 식 (I)의 R3은, 산과 접촉하면 탈리기가 탈리되어, 히드록시기 또는 카르복시기를 형성하는 기인 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 염.[4] The salt according to any one of [1] to [3], wherein R 3 in the formula (I) is a group that forms a hydroxy group or a carboxy group by releasing a leaving group when contacted with an acid.

[5] 상기 식 (I)의 R3은, 식 (1)로 나타내어지는 기인 [1]∼[4] 중 어느 것에 기재된 염.[5] The salt according to any one of [1] to [4], wherein R 3 of the formula (I) is a group represented by the formula (1).

Figure 112017086300234-pat00004
Figure 112017086300234-pat00004

[식 (1) 중, Ra1∼Ra3은, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼8의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3∼20의 지환식 탄화수소기를 나타내거나, Ra1 및 Ra2는 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3∼20의 비방향족 탄화수소환을 형성한다.[In formula (1), R a1 to R a3 each independently represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or R a1 and R a2 is bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.

ma 및 na는, 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타내고, ma 및 na 중 적어도 일방은 1이다.ma and na each independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na is 1.

*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]

[6] 상기 식 (1)의 ma는 0이고, na는 1인 [5]에 기재된 염.[6] The salt according to [5], wherein ma of the formula (1) is 0 and na is 1.

[7] [1]∼[6] 중 어느 것에 기재된 염을 함유하는 산 발생제.[7] An acid generator containing the salt according to any one of [1] to [6].

[8] 산 발생제와 산 불안정기를 갖는 구조 단위를 포함하는 수지를 함유하고, 상기 산 발생제로서, [1]∼[6] 중 어느 한 항에 기재된 염을 함유하는 레지스트 조성물.[8] A resist composition comprising an acid generator and a resin comprising a structural unit having an acid labile group, and comprising the salt according to any one of [1] to [6] as the acid generator.

[9] 추가로, 상기 산 발생제로부터 발생하는 산보다 산성도가 낮은 산을 발생하는 염을 함유하는 [8]에 기재된 레지스트 조성물.[9] The resist composition according to [8], further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator.

[10] (1) [8] 또는 [9] 기재의 레지스트 조성물을 기판 상에 도포하는 공정,[10] (1) a step of applying the resist composition according to [8] or [9] on a substrate;

(2) 도포 후의 조성물을 건조시켜 조성물층을 형성하는 공정,(2) drying the composition after application to form a composition layer;

(3) 조성물층을 노광하는 공정,(3) exposing the composition layer;

(4) 노광 후의 조성물층을 가열하는 공정, 및(4) heating the composition layer after exposure, and

(5) 가열 후의 조성물층을 현상하는 공정,(5) a step of developing the composition layer after heating;

을 포함하는 레지스트 패턴의 제조 방법.A method of manufacturing a resist pattern comprising a.

본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴계 모노머」란, 「CH2=CH-CO-」 또는 「CH2=C(CH3)-CO-」의 구조를 갖는 모노머의 적어도 1종을 의미한다. 마찬가지로 「(메타)아크릴레이트」 및 「(메타)아크릴산」이란, 각각 「아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 적어도 1종」 및 「아크릴산 및 메타크릴산의 적어도 1종」을 의미한다.In this specification, a "(meth)acrylic-type monomer" means at least 1 sort(s) of the monomer which has a structure of "CH2=CH - CO-" or "CH2 = C (CH3)-CO-". Similarly, "(meth)acrylate" and "(meth)acrylic acid" mean "at least 1 type of acrylate and methacrylate" and "at least 1 type of acrylic acid and methacrylic acid", respectively.

본 명세서에 있어서, 「레지스트 조성물의 고형분」이란, 레지스트 조성물의 총량으로부터, 후술하는 용제(E)를 제외한 성분의 합계를 의미한다.In the present specification, "the solid content of the resist composition" means the total amount of components excluding the solvent (E), which will be described later, from the total amount of the resist composition.

본 발명의 레지스트 조성물은, 산 불안정기를 갖는 수지(A)와, 식 (I)로 나타내어지는 염(이하, 경우에 따라, 「염(I)」라고 한다)을 함유하는 것이다. 당해 레지스트 조성물에 있어서, 염(I)은 산 발생제로서 포함된다. The resist composition of the present invention contains a resin (A) having an acid labile group and a salt represented by the formula (I) (hereinafter referred to as “salt (I)” in some cases). In the resist composition, salt (I) is contained as an acid generator.

본 발명의 산 발생제는, 염(I)를 함유하고, 염(I) 이외의 산 발생제(B)를 함유해도 된다. 본 발명의 레지스트 조성물은, 필요에 따라, 수지(A) 이외의 수지(X), 용제(E), ??처(C), 염(I) 및 산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 낮은 산을 발생하는 염, 및 그 밖의 성분(F)를 함유한다. 이하, 이들에 대해서 설명한다.The acid generator of this invention contains salt (I), and may contain acid generators (B) other than salt (I). The resist composition of the present invention may, if necessary, be higher than the acid generated from the resin (X) other than the resin (A), the solvent (E), the solvent (C), the salt (I) and the acid generator (B). It contains a salt which generates an acid with low acidity, and other component (F). Hereinafter, these are demonstrated.

<식 (I)로 나타내어지는 염><Salt Represented by Formula (I)>

본 발명의 염은, 식 (I)로 나타내어지는 염(염(I))이다.The salt of the present invention is a salt (salt (I)) represented by formula (I).

Figure 112017086300234-pat00005
Figure 112017086300234-pat00005

[식 (I) 중,[In formula (I),

R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.R 1 and R 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent.

R3은, 산 불안정기를 나타낸다.R 3 represents an acid labile group.

X1은, 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다. X 1 represents a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and the methylene group constituting the divalent saturated aliphatic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group.

A-는, 유기 아니온을 나타낸다.]A - represents an organic anion.]

식 (I)에 있어서, 지방족 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 당해 지방족 포화 탄화수소기의 탄소수로 한다.In the formula (I), when -CH 2 - contained in the aliphatic saturated hydrocarbon group is substituted with -O- or -C(=O)-, the number of carbon atoms before substitution is the number of carbon atoms in the aliphatic saturated hydrocarbon group.

<식 (I)을 구성하는 카티온><Cathion constituting formula (I)>

R1 및 R2로 나타내어지는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐기, 페난트릴기, 플루오레닐기 등의 아릴기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기 및 안트릴기가 바람직하고, 페닐기 및 나프틸기가 보다 바람직하며, 페닐기가 더욱 바람직하다.Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include aryl groups such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, a phenanthryl group and a fluorenyl group, a phenyl group, a naphthyl group, and An anthryl group is preferable, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable, and a phenyl group is still more preferable.

R1 및 R2의 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 히드록시기, 카르복실기, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 3∼12의 지환식 탄화수소기 및 이들을 조합한 기를 들 수 있다.Examples of the substituent which the aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms for R 1 and R 2 may have include a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and The group which combined these is mentioned.

탄소수 1∼12의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, and a dodecyl group.

탄소수 1∼12의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 노닐옥시기, 데실옥시기, 운데실옥시기, 도데실옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, and an unde. A siloxy group, a dodecyloxy group, etc. are mentioned.

탄소수 3∼12의 지환식 탄화수소기로는, 하기에 나타내는 기를 들 수 있다. *는 환과의 결합손이다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include groups shown below. * is a bond with a ring.

Figure 112017086300234-pat00006
Figure 112017086300234-pat00006

이들 치환기 중, 히드록시기, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 탄소수 1∼12의 알콕시기인 것이 바람직하고, 히드록시기 또는 탄소수 1∼12의 알킬기인 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1∼12의 알킬기인 것이 더욱 바람직하며, 탄소수 1∼6의 알킬기가 보다 더 바람직하다.Among these substituents, it is preferably a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, still more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, A C1-C6 alkyl group is still more preferable.

R1 및 R2로 나타내어지는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기는, 페닐기가 바람직하다.The aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is preferably a phenyl group.

<산 불안정기><Acid unstable phase>

R3은, 산 불안정기를 나타낸다. 「산 불안정기」란, 탈리기를 갖고, 산과 접촉하면 탈리기가 탈리되어, 친수성기(예를 들면, 히드록시기, 카르복시기 또는 아미노기)를 형성하는 기를 의미한다.R 3 represents an acid labile group. The "acid labile group" means a group that has a leaving group and forms a hydrophilic group (eg, a hydroxy group, a carboxy group, or an amino group) when the leaving group is released when contacted with an acid.

R3에서 나타나는 산 불안정기에 있어서, X1과 결합하는 원자는, 통상, 산소 원자 또는 카르보닐기를 구성하는 탄소 원자이다. In the acid labile group represented by R 3 , the atom bonded to X 1 is usually an oxygen atom or a carbon atom constituting the carbonyl group.

산 불안정기로는, 예를 들면, 식 (1)로 나타내어지는 기(이하, 경우에 따라 「산 불안정기(1)」이라고 한다), 식 (2)로 나타내어지는 기(이하, 경우에 따라 「산 불안정기(2)」라고 한다) 등을 들 수 있다.Examples of the acid-labile group include a group represented by the formula (1) (hereinafter referred to as “acid-labile group (1)” in some cases), a group represented by the formula (2) (hereinafter sometimes referred to as “ acid labile group (2)"), and the like.

Figure 112017086300234-pat00007
Figure 112017086300234-pat00007

[식 (1) 중, Ra1∼Ra3은, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼8의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3∼20의 지환식 탄화수소기를 나타내거나, Ra1 및 Ra2는 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3∼20의 비방향족 탄화수소환을 형성한다.[In formula (1), R a1 to R a3 each independently represent an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or R a1 and R a2 combine with each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.

ma 및 na는, 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타내고, ma 및 na 중 적어도 일방은 1이다.ma and na each independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na is 1.

*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]

Figure 112017086300234-pat00008
Figure 112017086300234-pat00008

[식 (2) 중, Ra1 ' 및 Ra2 '는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타내고, Ra3 '는, 탄소수 1∼20의 탄화수소기를 나타내거나, Ra2 ' 및 Ra3'는 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자 및 X와 함께 탄소수 3∼20의 복소환을 형성하고, 당해 비방향족 탄화수소환 및 당해 복소환에 포함되는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 유황 원자로 치환되어도 된다.[In formula (2), R a1 ' and R a2 ' each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a3 ' represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R a2 ' and R a3' combine with each other to form a heterocycle having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom and X to which they are bonded, and the non-aromatic hydrocarbon ring and the methylene group contained in the heterocycle may be substituted with an oxygen atom or a sulfur atom do.

X는, 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.X represents an oxygen atom or a sulfur atom.

na'는, 0 또는 1을 나타낸다.na' represents 0 or 1.

*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]

Ra1∼Ra3으로 나타내어지는 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group represented by R a1 to R a3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group and n-octyl group.

Ra1∼Ra3으로 나타내어지는 지환식 탄화수소기는, 단환식 및 다환식의 어느 것이라도 된다. 단환식의 지환식 탄화수소기로는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로는, 예를 들면, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노르보르닐기 및 하기의 기(*는 결합손을 나타낸다) 등을 들 수 있다. Ra1∼Ra3의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3∼16이다.The alicyclic hydrocarbon group represented by R a1 to R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a bond). The carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of R a1 to R a3 is preferably 3 to 16.

Figure 112017086300234-pat00009
Figure 112017086300234-pat00009

치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼8의 알킬기의 치환기로는, 탄소수 3∼20의 지환식 탄화수소기를 들 수 있다. 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3∼20의 지환식 탄화수소기의 치환기로는, 탄소수 1∼8의 알킬기를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 메틸노르보르닐기, 시클로헥실메틸기, 아다만틸메틸기, 노르보르닐에틸기 등을 들 수 있다.As a substituent of the C1-C8 alkyl group which may have a substituent, a C3-C20 alicyclic hydrocarbon group is mentioned. As a substituent of the C3-C20 alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a C1-C8 alkyl group is mentioned. More specifically, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a methylnorbornyl group, a cyclohexylmethyl group, an adamantylmethyl group, norbornylethyl group etc. are mentioned.

바람직하게는, ma는 0이고, na는 1이다.Preferably, ma is 0 and na is 1.

Ra1 및 Ra2가 서로 결합하여 비방향족 탄화수소환을 형성하는 경우의 -C(Ra1)(Ra2)(Ra3)으로는, 단환식의 비방향족 탄화수소환 및 다환식의 비방향족 탄화수소환을 들 수 있고, 구체적으로는, 하기의 환을 들 수 있다. 비방향족 탄화수소환은, 바람직하게는 탄소수 3∼12이다. *는 -O-와의 결합손을 나타낸다.-C(R a1 )(R a2 )(R a3 ) when R a1 and R a2 combine with each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring, a monocyclic non-aromatic hydrocarbon ring and a polycyclic non-aromatic hydrocarbon ring , and specifically, the following ring is mentioned. The non-aromatic hydrocarbon ring preferably has 3 to 12 carbon atoms. * represents a bond with -O-.

Figure 112017086300234-pat00010
Figure 112017086300234-pat00010

식 (1)로 나타내어지는 기로는, 식 (1)에 있어서 Ra1∼Ra3이 알킬기인 기(바람직하게는 tert-부톡시카르보닐기), 식 (1)에 있어서 Ra1 및 Ra2가 서로 결합하여, 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 아다만탄환을 형성하고, Ra3이 알킬기인 기, 및 식 (1)에 있어서 Ra1 및 Ra2가 알킬기이고, Ra3이 아다만틸기인 기 등을 들 수 있다.As the group represented by formula (1), in formula (1), R a1 to R a3 are an alkyl group (preferably a tert-butoxycarbonyl group), and in formula (1), R a1 and R a2 are bonded to each other to form an adamantane ring together with the carbon atom to which they are bonded, a group in which R a3 is an alkyl group, a group in which R a1 and R a2 in the formula (1) are an alkyl group, and a group in which R a3 is an adamantyl group; can

Ra1 '∼Ra3 '의 탄화수소기로는, 알킬기, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기 등을 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon group for R a1 to R a3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.

알킬기 및 지환식 탄화수소기는, 상기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group are the same as those described above.

방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, p-아다만틸페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, 비페닐기, 페난트릴기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등의 아릴기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a p-methylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, a p-adamantylphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, a biphenyl group, and a phenane group. Aryl groups, such as a toryl group, a 2, 6- diethylphenyl group, and 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc. are mentioned.

Ra2 ' 및 Ra3 '가 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자 및 X와 함께 형성하는 복소환으로서는, 하기의 환을 들 수 있다. *는, 결합손을 나타낸다.Examples of the heterocycle formed by bonding R a2 and R a3 together with the carbon atom and X to which they are bonded include the following rings. * represents a bond.

Figure 112017086300234-pat00011
Figure 112017086300234-pat00011

Ra1 ' 및 Ra2 ' 중, 적어도 1개는 수소 원자인 것이 바람직하다.It is preferable that at least one of R a1 ' and R a2 ' is a hydrogen atom.

산 불안정기(1)의 구체예로는, 이하의 기를 들 수 있다. *는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the acid labile group (1) include the following groups. * indicates a bond.

Figure 112017086300234-pat00012
Figure 112017086300234-pat00012

산 불안정기(2)의 구체예로는, 이하의 기를 들 수 있다. *는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the acid labile group (2) include the following groups. * indicates a bond.

Figure 112017086300234-pat00013
Figure 112017086300234-pat00013

R3으로 나타내어지는 산 불안정기로는, 산 불안정기(1)을 갖는 기인 것이 바람직하고, Ra1 및 Ra2가 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3∼20의 비방향족 탄화수소환을 형성하는 것이 보다 바람직하고, Ra1 및 Ra2가 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자와 함께 다환식의 비방향족 탄화수소환을 형성하는 것이 보다 더 바람직하고, Ra1 및 Ra2가 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자와 함께 아다만탄환을 형성하는 것이 한층 바람직하다.The acid-labile group represented by R 3 is preferably a group having an acid-labile group (1), and R a1 and R a2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded. more preferably, R a1 and R a2 are bonded to each other to form a polycyclic non-aromatic hydrocarbon ring together with the carbon atom to which they are bonded, and R a1 and R a2 are bonded to each other to form a It is more preferable to form an adamantane ring together with a carbon atom.

X1로 나타내어지는 2가의 지방족 포화 탄화수소기로는, 알칸디일기, 단환식 또는 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 이들 기 중 2종 이상을 조합한 것이어도 된다.Examples of the divalent aliphatic saturated hydrocarbon group represented by X 1 include an alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and a combination of two or more of these groups may be used.

구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기, 도데칸-1,12-디일기 등의 직쇄형 알칸디일기;Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1, 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group straight-chain alkanediyl groups such as diaries;

에탄-1,1-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-2,2-디일기, 펜탄-2,4-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기형 알칸디일기;Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group;

시클로부탄-1,3-디일기, 시클로펜탄-1,3-디일기, 시클로헥산-1,4-디일기, 시클로옥탄-1,5-디일기 등의 시클로알칸디일기인 단환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기;Monocyclic 2 that is a cycloalkanediyl group such as a cyclobutane-1,3-diyl group, a cyclopentane-1,3-diyl group, a cyclohexane-1,4-diyl group, and a cyclooctane-1,5-diyl group a valent alicyclic saturated hydrocarbon group;

노르보르난-1,4-디일기, 노르보르난-2,5-디일기, 아다만탄-1,5-디일기, 아다만탄-2,6-디일기 등의 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기 등을 들 수 있다.polycyclic divalent groups such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group An alicyclic saturated hydrocarbon group etc. are mentioned.

X1의 지방족 포화 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 되고, 예를 들면, 에테르 결합, 에스테르 결합(-CO-O- 또는 -O-CO-) 및 -O-CO-O 등에 의해 치환된 지방족 포화 탄화수소기라도 된다.The methylene group constituting the aliphatic saturated hydrocarbon group of X 1 may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group, for example, an ether bond, an ester bond (-CO-O- or -O-CO-) and -O-CO- It may be an aliphatic saturated hydrocarbon group substituted with O or the like.

X1로 나타나는 기에 있어서, 통상 메틸렌기가 R3과 결합한다.Group represented by X 1 WHEREIN: A methylene group couple|bonds with R 3 normally.

구체적으로는, X1은, -X12-O-X22-*(X12는 탄소수 1∼10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 지방족 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다. X22는, 탄소수 1∼10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다. 단, X12 및 X22의 합계 탄소수는 11이다. *는 R3과의 결합손을 나타낸다.)로 나타내어지는 기인 것이 바람직하다.Specifically, X 1 is -X 12 -OX 22 -* (X 12 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the methylene group constituting the divalent aliphatic hydrocarbon group is substituted with an oxygen atom or a carbonyl group, X 22 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, with the proviso that the total number of carbon atoms of X 12 and X 22 is 11. * represents a bond with R 3 ). desirable.

X12 및 X22로 나타내어지는 2가의 지방족 탄화수소기는, 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 1∼6의 알칸디일기가 보다 바람직하다.The divalent aliphatic hydrocarbon group represented by X 12 and X 22 is preferably an alkanediyl group, and more preferably an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.

염(I)을 구성하는 유기 카티온의 구체예로는, 이하의 식 (I-c-1)∼식 (I-c-24)로 나타내어지는 유기 카티온을 들 수 있다.Specific examples of the organic cation constituting the salt (I) include organic cations represented by the following formulas (I-c-1) to (I-c-24).

Figure 112017086300234-pat00014
Figure 112017086300234-pat00014

Figure 112017086300234-pat00015
Figure 112017086300234-pat00015

카티온(I)은, 식 (I-c-1)∼식 (I-c-20)으로 나타내어지는 카티온이 바람직하고, 식 (I-c-1)∼식 (I-c-14)로 나타내어지는 카티온이 보다 바람직하며, 식 (I-c-1), 식 (I-c-2), 식 (I-c-7)로 나타내어지는 카티온이 더욱 바람직하다.The cation (I) is preferably a cation represented by a formula (Ic-1) to a formula (Ic-20), and more preferably a cation represented by a formula (Ic-1) to a formula (Ic-14). and a cation represented by a formula (Ic-1), a formula (Ic-2), or a formula (Ic-7) is more preferable.

<염(I)를 구성하는 유기 아니온><Organic anions constituting salt (I)>

염(I)를 구성하는 유기 아니온(A-)로는, 술폰산 아니온, 술포닐이미드 아니온, 술포닐메티드 아니온 및 카르복실산 아니온을 들 수 있다. 이들 중에서도, 술폰산 아니온이 바람직하고, 식 (I-A)로 나타내어지는 술폰산 아니온이 보다 바람직하다.Examples of the organic anion (A - ) constituting the salt (I) include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion and a carboxylic acid anion. Among these, a sulfonic acid anion is preferable, and the sulfonic acid anion represented by Formula (IA) is more preferable.

Figure 112017086300234-pat00016
Figure 112017086300234-pat00016

[식 (I-A) 중,[In formula (I-A),

Q1 및 Q2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1∼6의 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

Lb1은, 탄소수 1∼24의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is fluorine It may be substituted with an atom or a hydroxyl group.

Y는, 치환기를 갖고 있어도 되는 메틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 당해 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.]Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or -CO - may be substituted.]

식 (I-A)에 있어서, 포화 탄화수소기, 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O-, -C(=O)- 또는 -SO2-로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 각각 당해 포화 탄화수소기, 당해 지환식 탄화수소기의 탄소수로 한다.In Formula (IA), when -CH 2 - contained in a saturated hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group is substituted with -O-, -C(=O)- or -SO 2 -, the number of carbon atoms before substitution is each Let it be the carbon number of the said saturated hydrocarbon group and the said alicyclic hydrocarbon group.

Q1 및 Q2의 퍼플루오로알킬기로는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로 sec-부틸기, 퍼플루오로 tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the perfluoroalkyl group for Q 1 and Q 2 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, A perfluoro tert-butyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, etc. are mentioned.

Q1 및 Q2는, 서로 독립적으로, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하고, 모두 불소 원자인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that Q< 1 > and Q< 2 > are mutually independently a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and it is more preferable that both are a fluorine atom.

Lb1의 2가의 포화 탄화수소기로는, 직쇄형 또는 분기형 알칸디일기, 단환식 또는 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 이들 기 중 2종 이상을 조합함으로써 형성되는 기라도 된다.Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L b1 include a straight-chain or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and may be a group formed by combining two or more of these groups. .

구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기, 도데칸-1,12-디일기, 트리데칸-1,13-디일기, 테트라데칸-1,14-디일기, 펜타데칸-1,15-디일기, 헥사데칸-1,16-디일기 및 헵타데칸-1,17-디일기 등의 직쇄형 알칸디일기;Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1, 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group Diyl, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group straight-chain alkanediyl groups such as diaries;

에탄-1,1-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-2,2-디일기, 펜탄-2,4-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기형 알칸디일기;Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group;

시클로부탄-1,3-디일기, 시클로펜탄-1,3-디일기, 시클로헥산-1,4-디일기, 시클로옥탄-1,5-디일기 등의 시클로알칸디일기인 단환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기;Monocyclic 2 that is a cycloalkanediyl group such as a cyclobutane-1,3-diyl group, a cyclopentane-1,3-diyl group, a cyclohexane-1,4-diyl group, and a cyclooctane-1,5-diyl group a valent alicyclic saturated hydrocarbon group;

노르보르난-1,4-디일기, 노르보르난-2,5-디일기, 아다만탄-1,5-디일기, 아다만탄-2,6-디일기 등의 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기 등을 들 수 있다.polycyclic divalent groups such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group An alicyclic saturated hydrocarbon group etc. are mentioned.

Lb1의 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로는, 예를 들면, 식 (b1-1)∼식 (b1-3) 중 어느 것으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 한편, 식 (b1-1)∼식 (b1-3) 및 하기의 구체예에 있어서, *는 -Y와의 결합손을 나타낸다.As a group in which -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 is substituted with -O- or -CO-, for example, a group represented by any of formulas (b1-1) to (b1-3) can be lifted On the other hand, in formulas (b1-1) to (b1-3) and the following specific examples, * represents a bond with -Y.

Figure 112017086300234-pat00017
Figure 112017086300234-pat00017

[식 (b1-1) 중,[In formula (b1-1),

Lb2는, 단결합 또는 탄소수 1∼22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.

Lb3은, 단결합 또는 탄소수 1∼22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.

단, Lb2와 Lb3의 합계 탄소수는, 22 이하이다.However, the total number of carbon atoms of L b2 and L b3 is 22 or less.

식 (b1-2) 중,In formula (b1-2),

Lb4는, 단결합 또는 탄소수 1∼22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.

Lb5는, 단결합 또는 탄소수 1∼22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.

단, Lb4와 Lb5의 합계 탄소수는, 22 이하이다.However, the total carbon number of L b4 and L b5 is 22 or less.

식 (b1-3) 중,In formula (b1-3),

Lb6은, 단결합 또는 탄소수 1∼23의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

Lb7은, 단결합 또는 탄소수 1∼23의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.

단, Lb6과 Lb7의 합계 탄소수는, 23 이하이다.]However, the total carbon number of L b6 and L b7 is 23 or less.]

식 (b1-1)∼식 (b1-3)에 있어서, 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 당해 포화 탄화수소기의 탄소수로 한다.In the formulas (b1-1) to (b1-3), when -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with -O- or -CO-, the number of carbon atoms before substitution is the number of carbon atoms in the saturated hydrocarbon group. do it with

2가의 포화 탄화수소기 및 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-나 수소 원자가 상기와 같이 치환되어 있어도 되는 기로는, Lb1의 2가의 포화 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the divalent saturated hydrocarbon group and the group in which -CH 2 - or hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted as described above include the same groups as the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 .

Lb2는, 바람직하게는 단결합이다.L b2 is preferably a single bond.

Lb3은, 바람직하게는 탄소수 1∼4의 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼4의 알칸디일기이다.L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Lb4는, 바람직하게는 탄소수 1∼8의 2가의 포화 탄화수소기이고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼4의 알칸디일기이다.L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, more preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms .

Lb5는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 단결합이다.L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond.

Lb6은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼4의 2가의 포화 탄화수소기이고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.

Lb7은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼18의 2가의 포화 탄화수소기이고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and contained in the divalent saturated hydrocarbon group - CH 2 - may be substituted with -O- or -CO-.

Lb1의 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로는, 식 (b1-1) 또는 식 (b1-2)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (b1-1)에 있어서, Lb2가 단결합이고, Lb3이 탄소수 1∼4의 알칸디일기이고, 및 식 (b1-2)에 있어서, Lb4가 탄소수 1∼4의 알칸디일기이고 Lb5가 단결합인 기가 보다 바람직하다.The group in which -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group of L b1 is substituted with -O- or -CO- is preferably a group represented by formula (b1-1) or (b1-2), In b1-1), L b2 is a single bond, L b3 is an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, and in formula (b1-2), L b4 is an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, and L The group in which b5 is a single bond is more preferable.

식 (b1-1)로서는, 식 (b1-4)∼식 (b1-8) 중 어느 것으로 나타내어지는 기를 들 수 있다.Examples of the formula (b1-1) include groups represented by any of the formulas (b1-4) to (b1-8).

Figure 112017086300234-pat00018
Figure 112017086300234-pat00018

[식 (b1-4) 중,[In formula (b1-4),

Lb8은, 단결합 또는 탄소수 1∼22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

식 (b1-5) 중,In formula (b1-5),

Lb9는, 탄소수 1∼20의 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

Lb10은, 단결합 또는 탄소수 1∼19의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

단, Lb9 및 Lb10의 합계 탄소수는 20 이하이다.However, the total carbon number of L b9 and L b10 is 20 or less.

식 (b1-6) 중,In formula (b1-6),

Lb11은, 탄소수 1∼21의 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.

Lb12는, 단결합 또는 탄소수 1∼20의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

단, Lb11 및 Lb12의 합계 탄소수는 21 이하이다.However, the total carbon number of L b11 and L b12 is 21 or less.

식 (b1-7) 중,In formula (b1-7),

Lb13은, 탄소수 1∼19의 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.

Lb14는, 단결합 또는 탄소수 1∼18의 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.

Lb15는, 단결합 또는 탄소수 1∼18의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

단, Lb13∼Lb15의 합계 탄소수는 19 이하이다.However, the total carbon number of L b13 to L b15 is 19 or less.

식 (b1-8) 중,In formula (b1-8),

Lb16은, 탄소수 1∼18의 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.

Lb17은, 탄소수 1∼18의 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.

Lb18은, 단결합 또는 탄소수 1∼17의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

단, Lb16∼Lb18의 합계 탄소수는 19 이하이다.]However, the total number of carbon atoms in L b16 to L b18 is 19 or less.]

Lb8은, 바람직하게는 탄소수 1∼4의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

Lb9는, 바람직하게는 탄소수 1∼8의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lb10은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼19의 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lb11은, 바람직하게는 탄소수 1∼8의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lb12는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lb13은, 바람직하게는 탄소수 1∼12의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.

Lb14는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼6의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.

Lb15는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼18의 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lb16은, 바람직하게는 탄소수 1∼12의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.

Lb17은, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.

Lb18은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼17의 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1∼4의 2가의 포화 탄화수소기이다.L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

식 (b1-3)으로는, 식 (b1-9)∼식 (b1-11) 중 어느 것으로 나타내어지는 기를 들 수 있다.As formula (b1-3), group represented by any of formulas (b1-9) - formula (b1-11) is mentioned.

Figure 112017086300234-pat00019
Figure 112017086300234-pat00019

[식 (b1-9) 중,[In formula (b1-9),

Lb19는, 단결합 또는 탄소수 1∼23의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.

Lb20은, 단결합 또는 탄소수 1∼23의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.

단, Lb19 및 Lb20의 합계 탄소수는 23 이하이다.However, the total carbon number of L b19 and L b20 is 23 or less.

식 (b1-10) 중,In formula (b1-10),

Lb21은, 단결합 또는 탄소수 1∼21의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.

Lb22는, 단결합 또는 탄소수 1∼21의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.

Lb23은, 단결합 또는 탄소수 1∼21의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.

단, Lb21∼Lb23의 합계 탄소수는 21 이하이다.However, the total number of carbon atoms of L b21 to L b23 is 21 or less.

식 (b1-11) 중,In formula (b1-11),

Lb24는, 단결합 또는 탄소수 1∼20의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.

Lb25는, 탄소수 1∼21의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.

Lb26은, 단결합 또는 탄소수 1∼20의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.

단, Lb24∼Lb26의 합계 탄소수는 21 이하이다.]However, the total number of carbon atoms in L b24 to L b26 is 21 or less.]

식 (b1-9)∼식 (b1-11)에 있어서, 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자가 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있는 경우, 알킬카르보닐옥시기의 탄소수, 에스테르 결합 중의 CO 및 O의 수도 포함하여, 당해 2가의 포화 탄화수소기의 탄소수로 한다.In formulas (b1-9) to (b1-11), when a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group is substituted with an alkylcarbonyloxy group, the number of carbon atoms in the alkylcarbonyloxy group, CO and O in the ester bond Let it be the number of carbon atoms of the said divalent saturated hydrocarbon group including the number.

알킬카르보닐옥시기로는, 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기, 부티릴옥시기, 시클로헥실카르보닐옥시기, 아다만틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, and an adamantylcarbonyloxy group.

식 (b1-4)로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.The following groups are mentioned as group represented by Formula (b1-4).

Figure 112017086300234-pat00020
Figure 112017086300234-pat00020

식 (b1-5)로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-5) include the following.

Figure 112017086300234-pat00021
Figure 112017086300234-pat00021

식 (b1-6)으로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-6) include the following.

Figure 112017086300234-pat00022
Figure 112017086300234-pat00022

식 (b1-7)로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-7) include the following.

Figure 112017086300234-pat00023
Figure 112017086300234-pat00023

식 (b1-8)로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.

Figure 112017086300234-pat00024
Figure 112017086300234-pat00024

식 (b1-2)로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.

Figure 112017086300234-pat00025
Figure 112017086300234-pat00025

식 (b1-9)로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-9) include the following.

Figure 112017086300234-pat00026
Figure 112017086300234-pat00026

식 (b1-10)으로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-10) include the following.

Figure 112017086300234-pat00027
Figure 112017086300234-pat00027

식 (b1-11)로 나타내어지는 기로는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-11) include the following.

Figure 112017086300234-pat00028
Figure 112017086300234-pat00028

식 (I-A) 중의 Y로 나타내어지는 1가의 지환식 탄화수소기로는, 식 (Y1)∼식 (Y11), 식 (Y36)∼식 (Y38)로 나타내어지는 기를 들 수 있다.Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group represented by Y in formula (I-A) include groups represented by formulas (Y1) to (Y11) and (Y36) to (Y38).

Y로 나타내어지는 1가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되는 경우, 그 수는 1개라도 되고, 2 이상의 복수라도 된다. 그러한 기로는, 식 (Y12)∼식 (Y35)로 나타내어지는 기를 들 수 있다.When -CH 2 - contained in the monovalent alicyclic hydrocarbon group represented by Y is substituted with -O-, -SO 2 - or -CO-, the number may be one, or two or more may be sufficient. Examples of such groups include groups represented by formulas (Y12) to (Y35).

Figure 112017086300234-pat00029
Figure 112017086300234-pat00029

그 중에서도, 바람직하게는 식 (Y1)∼식 (Y20), 식 (Y30), 식 (Y31) 중 어느 것으로 나타내어지는 기이고, 보다 바람직하게는 식 (Y11), 식 (Y15), 식 (Y16), 식 (Y20), 식 (Y30) 또는 식 (Y31)로 나타내어지는 기이며, 더욱 바람직하게는 식 (Y11), 식 (Y15) 또는 식 (Y30)으로 나타내어지는 기이다.Among them, it is preferably a group represented by any of formulas (Y1) to (Y20), (Y30) and (Y31), and more preferably a group represented by any of formulas (Y11), (Y15), and (Y16). ), a group represented by a formula (Y20), a formula (Y30), or a formula (Y31), and more preferably a group represented by a formula (Y11), a formula (Y15) or a formula (Y30).

Y가 식 (Y28)∼식 (Y33) 등의 스피로환을 구성하는 경우에는, 2개의 산소 사이의 알칸디일기는, 1 이상의 불소 원자를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 케탈 구조에 포함되는 알칸디일기 중, 산소 원자에 인접하는 메틸렌기에는, 불소 원자가 치환되어 있지 않은 것이 바람직하다.When Y constitutes a spiro ring of formulas (Y28) to (Y33), it is preferable that the alkanediyl group between two oxygens has one or more fluorine atoms. Moreover, it is preferable that the fluorine atom is not substituted by the methylene group adjacent to an oxygen atom among the alkanediyl groups contained in a ketal structure.

식 (I-A) 중의 Y로 나타내어지는 메틸기의 치환기로는, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 3∼16의 지환식 탄화수소기, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기, 글리시딜옥시기 또는 -(CH2)ja-O-CO-Rb1기(식 중, Rb1은, 탄소수 1∼16의 알킬기, 탄소수 3∼16의 1가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 1가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. ja는, 0∼4 중 어느 것의 정수를 나타낸다) 등을 들 수 있다.Examples of the substituent for the methyl group represented by Y in the formula (IA) include a halogen atom, a hydroxyl group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group, or -(CH 2 ) ja -O-CO-R b1 group (wherein, R b1 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. ja is, represents the integer of any one of 0-4) etc. are mentioned.

식 (I-A) 중의 Y로 나타내어지는 1가의 지환식 탄화수소기의 치환기로는, 할로겐 원자, 히드록시기, 히드록시기로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 3∼16의 지환식 탄화수소기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 7∼21의 아랄킬기, 탄소수 2∼4의 아실기, 글리시딜옥시기 또는 -(CH2)ja-O-CO-Rb1기(식 중, Rb1은, 탄소수 1∼16의 알킬기, 탄소수 3∼16의 1가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 1가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. ja는, 0∼4 중 어느 것의 정수를 나타낸다) 등을 들 수 있다.Examples of the substituent of the monovalent alicyclic hydrocarbon group represented by Y in the formula (IA) include a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, and 1 carbon atom. -12 alkoxy group, C6-C18 aromatic hydrocarbon group, C7-C21 aralkyl group, C2-4 acyl group, glycidyloxy group, or -(CH2) ja -O - CO- Rb1 group (Wherein, R b1 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. ja is an integer from 0 to 4 shown) and the like.

할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

지환식 탄화수소기로는, 예를 들면, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 노르보르닐기, 아다만틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group.

방향족 탄화수소기로는, 예를 들면, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, p-아다만틸페닐기; 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, 비페닐기, 페난트릴기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등의 아릴기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a p-methylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, and a p-adamantylphenyl group; and aryl groups such as tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, biphenyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group and 2-methyl-6-ethylphenyl group.

알킬기로는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, heptyl group, 2 -Ethylhexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, etc. are mentioned.

히드록시기로 치환되어 있어도 되는 알킬기로는, 히드록시메틸기, 히드록시에틸기 등의 히드록시알킬기를 들 수 있다.As an alkyl group which may be substituted with the hydroxyl group, hydroxyalkyl groups, such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group, are mentioned.

알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 데실옥시기 및 도데실옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group, and a dodecyloxy group.

아랄킬기로는, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸메틸기 및 나프틸에틸기 등을 들 수 있다.Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.

아실기로는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.As an acyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, etc. are mentioned.

식 (I-A) 중의 Y로 나타내어지는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼18의 지환식 탄화수소기로는, 이하의 기를 들 수 있다.The following groups are mentioned as a C1-C18 alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent represented by Y in Formula (I-A).

Figure 112017086300234-pat00030
Figure 112017086300234-pat00030

Figure 112017086300234-pat00031
Figure 112017086300234-pat00031

Y는, 바람직하게는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 치환기를 갖고 있어도 되는 아다만틸기이며, 당해 지환식 탄화수소기 또는 아다만틸기를 구성하는 -CH2-는 -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다. Y는, 더욱 바람직하게는 아다만틸기, 히드록시아다만틸기, 옥소아다만틸기 또는 하기에서 나타내어지는 기이다.Y is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, more preferably an adamantyl group which may have a substituent, and -CH constituting the alicyclic hydrocarbon group or adamantyl group 2 - may be substituted with -O-, -SO 2 -, or -CO-. Y is more preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group, or a group shown below.

Figure 112017086300234-pat00032
Figure 112017086300234-pat00032

식 (I-A)로 나타내어지는 술폰산 아니온으로는, 식 (B1-A-1)∼식 (B1-A-54)로 나타내어지는 아니온[이하, 식 번호에 따라 「아니온(B1-A-1)」 등이라고 하는 경우가 있다]이 바람직하고, 식 (B1-A-1)∼식 (B1-A-4), 식 (B1-A-9), 식 (B1-A-10), 식 (B1-A-24)∼식 (B1-A-33), 식 (B1-A-36)∼식 (B1-A-40), 식 (B1-A-47)∼식 (B1-A-54) 중 어느 것으로 나타내어지는 아니온이 보다 바람직하다.As the sulfonic acid anion represented by the formula (IA), the anion represented by the formulas (B1-A-1) to (B1-A-54) [hereinafter, according to the formula number, “anion (B1-A- 1)", etc.] preferably, formulas (B1-A-1) to (B1-A-4), (B1-A-9), (B1-A-10), Formula (B1-A-24) to Formula (B1-A-33), Formula (B1-A-36) to Formula (B1-A-40), Formula (B1-A-47) to Formula (B1-A) -54), the anion represented by any one is more preferable.

Figure 112017086300234-pat00033
Figure 112017086300234-pat00033

Figure 112017086300234-pat00034
Figure 112017086300234-pat00034

Figure 112017086300234-pat00035
Figure 112017086300234-pat00035

Figure 112017086300234-pat00036
Figure 112017086300234-pat00036

Figure 112017086300234-pat00037
Figure 112017086300234-pat00037

Figure 112017086300234-pat00038
Figure 112017086300234-pat00038

Figure 112017086300234-pat00039
Figure 112017086300234-pat00039

Figure 112017086300234-pat00040
Figure 112017086300234-pat00040

Figure 112017086300234-pat00041
Figure 112017086300234-pat00041

[식 (B1-A-1)∼식 (B1-A-54) 중,[Formula (B1-A-1) to formula (B1-A-54),

Ri2∼Ri7은, 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타내고, 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다.R i2 to R i7 represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group.

Ri8은, 탄소수 1∼12의 지방족 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 1∼4의 알킬기, 탄소수 5∼12의 1가의 지환식 탄화수소기 또는 이들을 조합함으로써 형성되는 기이고, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기 또는 아다만틸기이다.R i8 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a group formed by combining these, more preferably a methyl group; an ethyl group, a cyclohexyl group, or an adamantyl group.

LA41은, 단결합 또는 탄소수 1∼4의 알칸디일기이다.L A41 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Q1 및 Q2는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]Q 1 and Q 2 have the same meaning as above.]

식 (I-A)로 나타내어지는 술폰산 아니온으로는, 식 (B1a-1)∼식 (B1a-30)으로 나타내어지는 아니온을 들 수 있다.Examples of the sulfonic acid anion represented by formula (I-A) include anions represented by formulas (B1a-1) to (B1a-30).

Figure 112017086300234-pat00042
Figure 112017086300234-pat00042

Figure 112017086300234-pat00043
Figure 112017086300234-pat00043

Figure 112017086300234-pat00044
Figure 112017086300234-pat00044

그 중에서도, 술폰산 아니온은, 식 (B1a-1)∼식 (B1a-3) 및 식 (B1a-7)∼식 (B1a-19), 식 (B1a-22) 중 어느 것으로 나타내어지는 아니온이 바람직하다.Among them, the sulfonic acid anion is an anion represented by any of the formulas (B1a-1) to (B1a-3) and (B1a-7) to (B1a-19) and (B1a-22). desirable.

식 (I)로 나타내어지는 염의 구체예로서, 상기한 카티온과 아니온을 임의로 조합한 염을 들 수 있다. 식 (I)로 나타내어지는 염의 구체예를 표 1∼표 14에 나타낸다.As a specific example of the salt represented by Formula (I), the salt which combined said cation and anion arbitrarily is mentioned. Specific examples of the salt represented by the formula (I) are shown in Tables 1 to 14.

각 표에 있어서, 각 부호는, 전술의 아니온이나 카티온을 나타내는 구조를 붙인 부호를 나타낸다. 예를 들면, 염(I-1)은, 식 (BIa-1)로 나타내어지는 아니온과 식 (I-c-1)로 나타내어지는 카티온으로 이루어지는 염이고, 이하에 나타내는 염이다.In each table|surface, each code|symbol shows the code|symbol which attached the structure which shows the above-mentioned anion and a cation. For example, salt (I-1) is a salt which consists of an anion represented by Formula (BIa-1) and a cation represented by Formula (I-c-1), and is a salt shown below.

Figure 112017086300234-pat00045
Figure 112017086300234-pat00045

Figure 112017086300234-pat00046
Figure 112017086300234-pat00046

Figure 112017086300234-pat00047
Figure 112017086300234-pat00047

Figure 112017086300234-pat00048
Figure 112017086300234-pat00048

Figure 112017086300234-pat00049
Figure 112017086300234-pat00049

Figure 112017086300234-pat00050
Figure 112017086300234-pat00050

Figure 112017086300234-pat00051
Figure 112017086300234-pat00051

Figure 112017086300234-pat00052
Figure 112017086300234-pat00052

Figure 112017086300234-pat00053
Figure 112017086300234-pat00053

Figure 112017086300234-pat00054
Figure 112017086300234-pat00054

Figure 112017086300234-pat00055
Figure 112017086300234-pat00055

Figure 112017086300234-pat00056
Figure 112017086300234-pat00056

Figure 112017086300234-pat00057
Figure 112017086300234-pat00057

Figure 112017086300234-pat00058
Figure 112017086300234-pat00058

Figure 112017086300234-pat00059
Figure 112017086300234-pat00059

염(I)를 후술하는 산 발생제(I0)으로서 이용하는 경우에는, 염(I-1), 염(I-2), 염(I-3), 염(I-16), 염(I-17), 염(I-18), 염(I-19), 염(I-22), 염(I-23), 염(I-24), 염(I-25), 염(I-38), 염(I-39), 염(I-40), 염(I-41), 염(I-44), 염(I-45), 염(I-46), 염(I-47), 염(I-60), 염(I-61), 염(I-62), 염(I-63), 염(I-66), 염(I-133), 염(I-134), 염(I-135), 염(I-148), 염(I-149), 염(I-150), 염(I-151) 및 염(I-154)를 이용하는 것이 바람직하다.When salt (I) is used as an acid generator (I0) described later, salt (I-1), salt (I-2), salt (I-3), salt (I-16), salt (I-) 17), salt (I-18), salt (I-19), salt (I-22), salt (I-23), salt (I-24), salt (I-25), salt (I-38) ), salt (I-39), salt (I-40), salt (I-41), salt (I-44), salt (I-45), salt (I-46), salt (I-47) , salt (I-60), salt (I-61), salt (I-62), salt (I-63), salt (I-66), salt (I-133), salt (I-134), Preference is given to using salts (I-135), salts (I-148), salts (I-149), salts (I-150), salts (I-151) and salts (I-154).

<식 (I)로 나타내어지는 염의 제조 방법><Method for producing salt represented by formula (I)>

식 (I)에 있어서, X1 및 R3이 이하의 기인 경우의 염(I)[하기 식 (I1)로 나타내어지는 염(I)(염(I1))]는, 식 (I1-a)로 나타내어지는 화합물과, 식 (I1-b)로 나타내어지는 염을, 염기 촉매의 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.In formula (I), when X 1 and R 3 are the following groups, salt (I) [salt (I) represented by the following formula (I1) (salt (I1))] is represented by formula (I1-a) It can be produced by reacting a compound represented by , and a salt represented by formula (I1-b) in a solvent in the presence of a base catalyst.

X1은, -X12-O-X22-*(X12 및 탄소수 1∼10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다. X22는, 탄소수 1∼10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다. 단, X12 및 X22의 합계 탄소수는 11이다. *는 R3과의 결합손을 나타낸다.)로 나타내어지는 기이다.X 1 represents -X 12 -OX 22 -*(X 12 and a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the methylene group constituting the divalent aliphatic saturated hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group. X 22 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, with the proviso that the total number of carbon atoms of X 12 and X 22 is 11. * represents a bond with R 3 ).

R3은, 식 (1)로 나타내어지는 기(*-CO-O-CRa1Ra2Ra3(*는 결합손을 나타낸다.))에 있어서 ma=0, na=1인 경우이다.R 3 is a case of ma=0 and na=1 in the group represented by formula (1) (*-CO-O-CR a1 R a2 R a3 (* represents a bond)).

Figure 112017086300234-pat00060
Figure 112017086300234-pat00060

[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]

용제로는, 아세토니트릴 등을 들 수 있다.Acetonitrile etc. are mentioned as a solvent.

염기 촉매로는, 트리에틸아민 등을 들 수 있다.As a base catalyst, triethylamine etc. are mentioned.

반응은 통상, 온도 15∼90℃의 범위에서, 0.5∼24시간 행해진다.The reaction is usually carried out at a temperature of 15 to 90°C for 0.5 to 24 hours.

식 (I1-a)로 나타내어지는 화합물은, 이하에서 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (I1-a) include the compounds shown below and can be easily obtained from the market.

Figure 112017086300234-pat00061
Figure 112017086300234-pat00061

식 (I1-b)로 나타내어지는 염은, 식 (I1-c)로 나타내어지는 염과, 식 (I1-d)로 나타내어지는 화합물을, 촉매의 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.The salt represented by the formula (I1-b) can be produced by reacting the salt represented by the formula (I1-c) with the compound represented by the formula (I1-d) in the presence of a catalyst in a solvent.

Figure 112017086300234-pat00062
Figure 112017086300234-pat00062

[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]

촉매로는, 벤조산 구리(II) 등을 들 수 있고, 용제로는, 모노클로로벤젠 등을 들 수 있다.Copper(II) benzoate etc. are mentioned as a catalyst, monochlorobenzene etc. are mentioned as a solvent.

반응은 통상, 온도 20∼120℃의 범위에서, 0.5∼24시간 행해진다.The reaction is usually carried out at a temperature of 20 to 120°C for 0.5 to 24 hours.

식 (I1-c)로 나타내어지는 염으로는, 이하에서 나타내어지는 염을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.As a salt represented by Formula (I1-c), the salt represented below is mentioned, It can obtain easily from a market.

Figure 112017086300234-pat00063
Figure 112017086300234-pat00063

식 (I1-d)로 나타내어지는 화합물은, 이하에서 나타내어지는 화합물을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (I1-d) include the compounds shown below, and can be easily obtained from the market.

Figure 112017086300234-pat00064
Figure 112017086300234-pat00064

식 (I)에 있어서, R3이, 식 (1)로 나타내어지는 기(*-CO-O-CRa1Ra2Ra3(*는 결합손을 나타낸다.)), 또한, ma=0, na=1인 경우의 염(I)[하기식 (I2)로 나타내어지는 염(I)(염(I2))]은, 식 (I2-b)로 나타내어지는 염과 카르보닐디이미다졸을 용제 중에서 반응시킨 후, 추가로, 식 (I2-a)로 나타내어지는 화합물을 반응시킴으로서 제조할 수 있다.In formula (I), R 3 is a group represented by formula (1) (*-CO-O-CR a1 R a2 R a3 (* represents a bond)), and further, ma=0, na In the case of =1, salt (I) [salt (I) (salt (I2)) represented by the following formula (I2)] is prepared by dissolving the salt represented by formula (I2-b) and carbonyldiimidazole in a solvent. After the reaction, it can be produced by further reacting the compound represented by the formula (I2-a).

Figure 112017086300234-pat00065
Figure 112017086300234-pat00065

[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]

용제로서는, 아세토니트릴, 클로로포름 등을 들 수 있다.As a solvent, acetonitrile, chloroform, etc. are mentioned.

반응은 통상, 온도 15∼80℃의 범위에서, 0.5∼24시간 행해진다.The reaction is usually carried out at a temperature of 15 to 80°C for 0.5 to 24 hours.

식 (I2-a)로 나타내어지는 화합물은, 이하에서 나타내지는 화합물 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (I2-a) include the compounds shown below and can be easily obtained from the market.

Figure 112017086300234-pat00066
Figure 112017086300234-pat00066

식 (I2-b)로 나타내어지는 화합물은, 이하로 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (I2-b) include the compounds represented below and can be easily obtained from the market.

Figure 112017086300234-pat00067
Figure 112017086300234-pat00067

식 (I)에 있어서, R3이 식 (1)로 나타내어지는 기(*-O-CRa1Ra2Ra3(*는 결합손을 나타낸다.)), 또한, ma=1, na=0인 경우의 염(I)[하기식 (I3)으로 나타내어지는 염(I)(염(I3))]은, 식 (I2-a)로 나타내어지는 화합물과, 식 (I1-b)로 나타내어지는 염을, 염기 촉매의 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로서 제조할 수 있다.In formula (I), R 3 is a group represented by formula (1) (*-O-CR a1 R a2 R a3 (* represents a bond)), and further, ma=1, na=0 Salt (I) in the case of [salt (I) (salt (I3)) represented by the following formula (I3)] is a compound represented by formula (I2-a) and a salt represented by formula (I1-b) can be prepared by reacting in a solvent in the presence of a base catalyst.

Figure 112017086300234-pat00068
Figure 112017086300234-pat00068

[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]

용제로서는, 아세토니트릴 등을 들 수 있다.Acetonitrile etc. are mentioned as a solvent.

염기 촉매로서는, 수산화 칼륨 등을 들 수 있다.Potassium hydroxide etc. are mentioned as a base catalyst.

반응은 통상, 온도 5∼80℃의 범위에서, 0.5∼24시간 행해진다. The reaction is usually carried out at a temperature of 5 to 80°C for 0.5 to 24 hours.

식 (I)에 있어서, R3이 식 (1)로 나타내어지는 기(*-O-CO-O-CRa1Ra2Ra3(*는 결합손을 나타낸다.)), 또한, ma=1, na=1인 경우의 염(I)[하기식 (I4)로 나타내어지는 염(I)(염(I4))]은, 식 (I4-a)로 나타내어지는 화합물과, 식 (I1-b)로 나타내어지는 염을, 염기 촉매의 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로서 제조할 수 있다.In formula (I), R 3 is a group represented by formula (1) (*-O-CO-O-CR a1 R a2 R a3 (* represents a bond)), and further, ma=1, Salt (I) [salt (I) represented by the following formula (I4) (salt (I4))] in the case of na = 1 is a compound represented by formula (I4-a) and formula (I1-b) The salt represented by can be prepared by reacting in a solvent in the presence of a base catalyst.

Figure 112017086300234-pat00069
Figure 112017086300234-pat00069

[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]

용제로서는, 아세토니트릴 등을 들 수 있다.Acetonitrile etc. are mentioned as a solvent.

염기 촉매로서는, 트리에틸아민, 디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다.Examples of the base catalyst include triethylamine and dimethylaminopyridine.

반응은 통상, 온도 5∼80℃의 범위에서, 0.5∼24시간 행해진다.The reaction is usually carried out at a temperature of 5 to 80°C for 0.5 to 24 hours.

식 (I4-a)로 나타내어지는 화합물은, 이하에서 나타내어지는 화합물을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (I4-a) include the compounds shown below, and can be easily obtained from the market.

Figure 112017086300234-pat00070
Figure 112017086300234-pat00070

식 (I)에 있어서, R3이 식 (2)로 나타내어지는 기(*-CO-O-CRa1'Ra2 '-X-Ra3'(*는 결합손을 나타낸다.)), 또한, na'=1인 경우의 염(I)[하기식 (I5)로 나타내어지는 염(I)(염(I5))]은, 식 (I5-a)로 나타내어지는 화합물과, 식 (I2-b)로 나타내어지는 염을, 염기 촉매의 존재하, 용매 중에서 반응시킴으로서 제조할 수 있다.In formula (I), R 3 is a group represented by formula (2) (*-CO-O-CR a1' R a2 ' -XR a3' (* represents a bond)), and further, na' Salt (I) [salt (I) (salt (I5)) represented by the following formula (I5)] in the case of =1 is a compound represented by formula (I5-a) and a formula (I2-b) The represented salt can be produced by reacting in a solvent in the presence of a base catalyst.

Figure 112017086300234-pat00071
Figure 112017086300234-pat00071

[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]

용제로서는, 아세토니트릴 등을 들 수 있다.Acetonitrile etc. are mentioned as a solvent.

염기 촉매로서는, 트리에틸아민, 디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다.Examples of the base catalyst include triethylamine and dimethylaminopyridine.

반응은 통상, 온도 5∼80℃의 범위에서, 0.5∼24시간 행해진다.The reaction is usually carried out at a temperature of 5 to 80°C for 0.5 to 24 hours.

식 (I5-a)로 나타내어지는 화합물은, 이하에서 나타내어지는 화합물을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.As for the compound represented by Formula (I5-a), the compound represented below is mentioned, It can obtain easily from a market.

Figure 112017086300234-pat00072
Figure 112017086300234-pat00072

식 (I)에 있어서, R3이 식 (2)로 나타내어지는 기(*-O-CRa1'Ra2 '-X-Ra3'(*는 결합손을 나타낸다.)), 또한, na'=0인 경우의 염(I)[하기식 (I6)으로 나타내어지는 염(I)(염(I6))]은, 식 (I6-a)로 나타내어지는 화합물과, 식 (I1-b)로 나타내어지는 염을, 염기 촉매의 존재하, 용매 중에서 반응시킴으로서 제조할 수 있다.In formula (I), R 3 is a group represented by formula (2) (*-O-CR a1' R a2 ' -XR a3' (* represents a bond.)), and further, na'=0 Salt (I) in the case of [salt (I) (salt (I6)) represented by the following formula (I6)] is a compound represented by formula (I6-a) and a compound represented by formula (I1-b) The salt can be prepared by reacting in a solvent in the presence of a base catalyst.

Figure 112017086300234-pat00073
Figure 112017086300234-pat00073

[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다. Ra2 ''는, Ra2 '로부터 수소 원자를 제외한 기이다.][In the formula, all the symbols have the same meaning as described above, respectively. R a2 '' is a group obtained by removing a hydrogen atom from R a2 ' .]

용제로서는, 아세토니트릴 등을 들 수 있다.Acetonitrile etc. are mentioned as a solvent.

염기 촉매로서는, p-톨루엔술폰산 등을 들 수 있다.Examples of the base catalyst include p-toluenesulfonic acid.

반응은 통상, 온도 5∼80℃의 범위에서, 0.5∼24시간 행해진다.The reaction is usually carried out at a temperature of 5 to 80°C for 0.5 to 24 hours.

식 (I6-a)로 나타내어지는 화합물은, 이하에서 나타내어지는 화합물을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (I6-a) include the compounds shown below, and can be easily obtained from the market.

Figure 112017086300234-pat00074
Figure 112017086300234-pat00074

<레지스트 조성물><Resist composition>

본 발명의 레지스트 조성물은, 산 발생제와, 산 불안정기를 가지는 수지(이하 「수지(A)」라고 하는 경우가 있다)를 함유한다. 당해 레지스트 조성물은, 산 발생제로서 염(I)을 포함한다. 여기에서 「산 불안정기」는, 탈리기를 가지고, 산과의 접촉에 의해 탈리기가 탈리하여, 구성 단위가 친수성기(예를 들면, 히드록시기 또는 카르복시기)를 가지는 구성 단위로 변환하는 기를 의미한다.The resist composition of the present invention contains an acid generator and a resin having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as "resin (A)"). The resist composition contains salt (I) as an acid generator. Here, the "acid labile group" means a group having a leaving group, and the leaving group is released by contact with an acid, and the structural unit is converted into a structural unit having a hydrophilic group (eg, a hydroxy group or a carboxy group).

본 발명의 레지스트 조성물은, 산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생하는 염 등의 ??처(이하 「??처(C)」라고 하는 경우가 있다)를 함유하는 것이 바람직하고, 용제(이하 「용제(E)」라고 하는 경우가 있다)를 함유하는 것이 바람직하다.The resist composition of the present invention preferably contains a salt or the like that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (hereinafter sometimes referred to as "the agent (C)"). , it is preferable to contain a solvent (hereinafter, sometimes referred to as "solvent (E)").

<산 발생제><Acid generator>

본 발명의 산 발생제는, 염(I)를 함유한다. 본 발명의 산 발생제는, 염(I) 중 1종 또는 2종류 이상을 함유하고, 2종 함유하는 것이 바람직하다. 이하, 산 발생제로서의 염(I)를 특히 「산 발생제(I0)」이라고 하는 경우가 있다.The acid generator of the present invention contains salt (I). The acid generator of this invention contains 1 type(s) or 2 or more types in salt (I), and it is preferable to contain 2 types. Hereinafter, especially the salt (I) as an acid generator may be called "acid generator (I0)".

본 발명의 산 발생제는, 산 발생제(I0) 이외의 레지스트 분야에서 공지의 그 밖의 산 발생제(이하, 「산 발생제(B)」라고 하는 경우가 있다)를 함유하고 있어도 된다.The acid generator of the present invention may contain other acid generators known in the resist field other than the acid generator (I0) (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B)”).

산 발생제로서, 산 발생제(I0) 및 산 발생제(B)를 함유하는 경우, 산 발생제(I0) 및 산 발생제(B)의 함유량은, 질량비로, 산 발생제(I0):산 발생제(B)가, 통상 1:99∼99:1이고, 바람직하게는 2:98∼98:2이며, 보다 바람직하게는 5:95∼95:5, 더욱 바람직하게는 25:75∼75:25이다.When the acid generator (I0) and the acid generator (B) are contained as the acid generator, the content of the acid generator (I0) and the acid generator (B) is, in mass ratio, the acid generator (I0): The acid generator (B) is usually 1:99 to 99:1, preferably 2:98 to 98:2, more preferably 5:95 to 95:5, still more preferably 25:75 to It is 75:25.

레지스트 조성물에 있어서, 산 발생제(I0)의 함유량은, 수지(A) 100중량부에 대하여, 바람직하게는 1.5∼40중량부이고, 보다 바람직하게는 3∼35중량부이다.In the resist composition, the content of the acid generator (I0) is preferably 1.5 to 40 parts by weight, more preferably 3 to 35 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin (A).

<산 발생제(B)><Acid generator (B)>

산 발생제(B)로는, 공지의 산 발생제를 이용할 수 있으며, 이온계 산 발생제라도, 비이온계 산 발생제라도 된다. 비이온계 산 발생제에는, 유기 할로겐화물, 술포네이트에스테르류(예를 들면 2-니트로벤질에스테르, 방향족 술포네이트, 옥심술포네이트, N-술포닐옥시이미드, 술포닐옥시케톤, 디아조나프토퀴논 4-술포네이트), 술폰류(예를 들면 디술폰, 케토술폰, 술포닐디아조메탄) 등이 포함된다. 이온계 산 발생제는, 공지의 카티온과 공지의 아니온의 조합으로 이루어지는 이온계 산 발생제를 들 수 있고, 오늄 카티온을 포함하는 오늄염(예를 들면 디아조늄염, 포스포늄염, 술포늄염, 요오드늄염)이 대표적이다. 오늄염의 아니온으로는, 술폰산 아니온, 술포닐이미드 아니온, 술포닐메티드 아니온 등이 있다.As the acid generator (B), a known acid generator can be used, and an ionic acid generator or a nonionic acid generator may be used. Examples of nonionic acid generators include organic halides, sulfonate esters (eg, 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphtho). quinone 4-sulfonate), sulfones (eg, disulfone, ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like. Examples of the ionic acid generator include an ionic acid generator composed of a combination of a known cation and a known anion, and an onium salt containing an onium cation (eg, a diazonium salt, a phosphonium salt, sulfonium salts and iodonium salts) are representative. Examples of the anion of the onium salt include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.

산 발생제(B)로는, 일본 공개특허 특개소63-26653호 공보, 일본 공개특허 특개소55-164824호 공보, 일본 공개특허 특개소62-69263호 공보, 일본 공개특허 특개소63-146038호 공보, 일본 공개특허 특개소63-163452호 공보, 일본 공개특허 특개소62-153853호 공보, 일본 공개특허 특개소63-146029호 공보, 미국 특허 제3,779,778호, 미국 특허 제3,849,137호, 독일 특허 제3914407호, 유럽 특허 제126,712호 등에 기재된 방사선에 의해 산을 발생하는 화합물, 일본 공개특허 특개2013-68914호 공보, 일본 공개특허 특개2013-3155호 공보, 일본 공개특허 특개2013-11905호 공보 기재의 산 발생제 등을 사용할 수 있다. 또한, 공지의 방법으로 제조한 화합물을 사용해도 된다.As the acid generator (B), JP-A-63-26653, JP-A-55-164824, JP-A 62-69263, JP-A 63-146038 Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-163452, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-153853, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-146029, U.S. Patent No. 3,779,778, U.S. Patent No. 3,849,137, German Patent No. Compounds that generate acids by radiation described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3914407, European Patent No. 126,712, etc. An acid generator or the like can be used. Moreover, you may use the compound manufactured by a well-known method.

산 발생제(B)로는, 유기 술폰산염 등을 들 수 있고, 바람직하게는 불소 함유 산 발생제를 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 식 (B1)로 나타내어지는 산 발생제(이하 「산 발생제(B1)」이라고 하는 경우가 있다)를 들 수 있다.Examples of the acid generator (B) include organic sulfonic acid salts, preferably a fluorine-containing acid generator, and more preferably an acid generator represented by formula (B1) (hereinafter referred to as “acid generator”). (B1)") is mentioned.

Figure 112017086300234-pat00075
Figure 112017086300234-pat00075

[식 (B1) 중,[In formula (B1),

Q11 및 Q12는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1∼6의 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.Q 11 and Q 12 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

LB1은, 탄소수 1∼24의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L B1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, and contained in the divalent saturated hydrocarbon group The hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.

YB1은, 치환기를 갖고 있어도 되는 메틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 당해 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.Y B1 represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or - It may be substituted with CO-.

Z+는, 유기 카티온을 나타낸다.]Z + represents an organic cation.]

Q11 및 Q12의 퍼플루오로알킬기로는, Q1 및 Q2로 나타내어지는 퍼플루오로알킬기에서 든 것과 동일한 기를 들 수 있다.Examples of the perfluoroalkyl group for Q 11 and Q 12 include the same groups as those mentioned for the perfluoroalkyl group represented by Q 1 and Q 2 .

Q11 및 Q12는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기가 바람직하고, 불소 원자가 보다 바람직하다. Q11 및 Q12가, 모두 불소 원자인 것이 더욱 바람직하다.Q 11 and Q 12 are each independently preferably a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and more preferably a fluorine atom. It is more preferable that both Q 11 and Q 12 are fluorine atoms.

LB1로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기로는, Lb1로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by L B1 include the same divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 .

LB1로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로는, Lb1로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기와 동일한 것을 들 수 있다. 구체적으로는, 상술한 식 (b1-1)∼식 (b1-3)으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 한편, LB1이 식 (b1-1)∼식 (b1-3)으로 나타내어지는 기인 경우, 식 (b1-1)∼식 (b1-3)으로 나타내어지는 기에 있어서의 *는 YB1과의 결합손을 나타낸다.As a group in which -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L B1 is substituted with -O- or -CO-, -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is -O- or the same group substituted with -CO-. Specific examples thereof include groups represented by formulas (b1-1) to (b1-3) described above. On the other hand, when LB1 is a group represented by formulas (b1-1) to (b1-3), * in the group represented by formulas (b1-1) to (b1-3) is a bond with Y B1 Show your hand.

LB1은, 식 (b1-1)∼식 (b1-3)으로 나타내어지는 기 중 어느 것인 것이 바람직하고, *2-CO-O-(CH2)t1-, *2-(CH2)t2-O-CO-(t1은 0∼6 중 어느 정수를 나타낸다. t2는 1∼6 중 어느 정수를 나타낸다. *2는, -C(Q11)(Q12)-와의 결합손을 나타낸다.)인 것이 보다 바람직하다.L B1 is preferably any of groups represented by formulas (b1-1) to (b1-3), *2-CO-O-(CH 2 ) t1- , *2-(CH 2 ) t2 -O-CO- (t1 represents any integer from 0 to 6. t2 represents any integer from 1 to 6. *2 represents a bond with -C(Q 11 )(Q 12 )-. ) is more preferable.

YB1로 나타내어지는 1가의 지환식 탄화수소기로는, 단환이어도 되고, 다환이어도 되며, 스피로환이라도 된다. 구체적으로는, YB1로 나타내어지는 1가의 지환식 탄화수소기(전술의 식 (Y1)∼식 (Y38)로 나타내어지는 기 등)를 들 수 있다. YB1로 나타내어지는 기 중, 바람직한 기는, Y로 나타내어지는 기의 바람직한 범위와 동일하다.The monovalent alicyclic hydrocarbon group represented by Y B1 may be monocyclic, polycyclic, or spiro-cyclic. Specifically, a monovalent alicyclic hydrocarbon group represented by Y B1 (such as a group represented by the above formulas (Y1) to (Y38)) is exemplified. Among the groups represented by Y B1 , a preferable group is the same as the preferable range of the group represented by Y .

식 (B1)로 나타내어지는 염의 아니온으로는, 식 (B1-A-1)∼식 (B1-A-55)를 들 수 있다. 식 (B1-A-1)∼식 (B1-A-55)로 나타내어지는 아니온[이하, 식 번호에 따라 「아니온(B1-A-1)」 등이라고 하는 경우가 있다]이 바람직하고, 식 (B1-A-1)∼식 (B1-A-4), 식 (B1-A-9), 식 (B1-A-10), 식 (B1-A-24)∼식 (B1-A-33), 식 (B1-A-36)∼식 (B1-A-40), 식 (B1-A-47)∼식 (B1-A-55) 중 어느 것으로 나타내어지는 아니온이 보다 바람직하다.Examples of the anion of the salt represented by the formula (B1) include formulas (B1-A-1) to (B1-A-55). An anion represented by the formulas (B1-A-1) to (B1-A-55) [hereinafter sometimes referred to as “anion (B1-A-1)” etc. depending on the formula number] is preferable; , Formula (B1-A-1) to Formula (B1-A-4), Formula (B1-A-9), Formula (B1-A-10), Formula (B1-A-24) to Formula (B1- A-33), an anion represented by any of the formulas (B1-A-36) to (B1-A-40), (B1-A-47) to (B1-A-55) is more preferable. Do.

Figure 112017086300234-pat00076
Figure 112017086300234-pat00076

Figure 112017086300234-pat00077
Figure 112017086300234-pat00077

Figure 112017086300234-pat00078
Figure 112017086300234-pat00078

Figure 112017086300234-pat00079
Figure 112017086300234-pat00079

Figure 112017086300234-pat00080
Figure 112017086300234-pat00080

Figure 112017086300234-pat00081
Figure 112017086300234-pat00081

Figure 112017086300234-pat00082
Figure 112017086300234-pat00082

Figure 112017086300234-pat00083
Figure 112017086300234-pat00083

Figure 112017086300234-pat00084
Figure 112017086300234-pat00084

여기서 Ri2∼Ri7은, 예를 들면, 탄소수 1∼4의 알킬기, 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다.Here, R i2 to R i7 are, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group.

Ri8은, 예를 들면, 탄소수 1∼12의 지방족 탄화수소기이고, 바람직하게는 탄소수 1∼4의 알킬기, 탄소수 5∼12의 지환식 탄화수소기 또는 이들을 조합함으로써 형성되는 기이며, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기 또는 아다만틸기이다.R i8 is, for example, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a group formed by combining these, more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group, or an adamantyl group.

L44는, 단결합 또는 탄소수 1∼4의 알칸디일기이다.L 44 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Q11 및 Q12는, 상기와 동일하다.Q 11 and Q 12 are the same as above.

식 (B1)로 나타내어지는 염에 있어서의 아니온으로는, 식 (B1a-1)∼식 (B1a-34)로 각각 나타내어지는 아니온을 들 수 있다.Examples of the anion in the salt represented by the formula (B1) include an anion represented by the formulas (B1a-1) to (B1a-34).

Figure 112017086300234-pat00085
Figure 112017086300234-pat00085

Figure 112017086300234-pat00086
Figure 112017086300234-pat00086

Figure 112017086300234-pat00087
Figure 112017086300234-pat00087

Figure 112017086300234-pat00088
Figure 112017086300234-pat00088

그 중에서도, 식 (B1a-1)∼식 (B1a-3) 및 식 (B1a-7)∼식 (B1a-16), 식 (B1a-18), 식 (B1a-19), 식 (B1a-22)∼식 (B1a-34) 중 어느 것으로 나타내어지는 아니온이 바람직하다.Among them, formulas (B1a-1) to (B1a-3) and (B1a-7) to (B1a-16), (B1a-18), (B1a-19), and (B1a-22) ) to an anion represented by any of the formulas (B1a-34) is preferred.

산 발생제(B1)에 있어서의 카티온 Z+로서는, 유기 오늄 카티온인 것이 바람직하다. 유기 오늄 카티온으로는, 유기 술포늄 카티온, 유기 요오드늄 카티온, 유기 암모늄 카티온, 벤조티아졸륨 카티온, 유기 포스포늄 카티온 등을 들 수 있고, 바람직하게는 유기 술포늄 카티온 또는 유기 요오드늄 카티온이며, 보다 바람직하게는 아릴술포늄 카티온이다.As cation Z + in the acid generator (B1), it is preferable that it is an organic onium cation. Examples of the organic onium cation include organic sulfonium cation, organic iodonium cation, organic ammonium cation, benzothiazolium cation, and organic phosphonium cation, preferably organic sulfonium cation or It is an organic iodonium cation, More preferably, it is an arylsulfonium cation.

그 중에서도, 식 (b2-1)∼식 (b2-4) 중 어느 것으로 나타내어지는 카티온(이하, 식 번호에 따라 「카티온(b2-1)」 등이라고 하는 경우가 있다)이 바람직하다.Among them, a cation represented by any of formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, may be referred to as "cation (b2-1)" etc. depending on formula numbers) is preferable.

Figure 112017086300234-pat00089
Figure 112017086300234-pat00089

[식 (b2-1)∼식 (b2-4)에 있어서,[Formula (b2-1) to formula (b2-4),

Rb4∼Rb6은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼30의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3∼36의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼36의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 당해 지방족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 3∼12의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 당해 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1∼18의 지방족 탄화수소기, 탄소수 2∼4의 알킬카르보닐기 또는 글리시딜옥시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 히드록시기 또는 탄소수 1∼12의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.R b4 to R b6 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the aliphatic hydrocarbon group is, It may be substituted with a hydroxyl group, a C1-C12 alkoxy group, a C3-C12 alicyclic hydrocarbon group, or a C6-C18 aromatic hydrocarbon group, and the hydrogen atom contained in the said alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, a C1-C12 It may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group of 18, an alkylcarbonyl group of 2 to 4 carbon atoms, or a glycidyloxy group, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. .

Rb4와 Rb5는, 하나가 되어 그들이 결합하는 유황 원자를 포함하는 환을 형성해도 되고, 당해 환에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S(=O)- 또는 -C(=O)-로 치환되어있어도 된다.R b4 and R b5 may become one to form a ring containing a sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the ring is -O-, -S(=O)- or -C( =O)- may be substituted.

Rb7 및 Rb8은, 각각 독립적으로, 히드록시기, 탄소수 1∼12의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 1∼12의 알콕시기를 나타낸다.R b7 and R b8 each independently represent a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.

m2 및 n2는, 각각 독립적으로, 0∼5 중 어느 정수를 나타낸다.m2 and n2 each independently represent any integer of 0-5.

m2가 2 이상일 때, 복수의 Rb7은 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 되며, n2가 2 이상일 때, 복수의 Rb8은 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 된다.When m2 is 2 or more, a plurality of R b7 may be the same or different from each other, and when n2 is 2 or more, a plurality of R b8 may be the same or different from each other.

Rb9 및 Rb10은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼36의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 3∼36의 지환식 탄화수소기를 나타낸다.R b9 and R b10 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.

Rb9와 Rb10은, 하나가 되어 그들이 결합하는 유황 원자를 포함하는 환을 형성해도 되고, 당해 환에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S(=O)- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있어도 된다.R b9 and R b10 may become one to form a ring containing a sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the ring is -O-, -S(=O)- or -C( =O)- may be substituted.

Rb11은, 수소 원자, 탄소수 1∼36의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3∼36의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.R b11 represents a hydrogen atom, a C1-C36 aliphatic hydrocarbon group, a C3-C36 alicyclic hydrocarbon group, or a C6-C18 aromatic hydrocarbon group.

Rb12는, 탄소수 1∼12의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 당해 지방족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 당해 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1∼12의 알콕시기 또는 탄소수 1∼12의 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다.R b12 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the aliphatic hydrocarbon group is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. The group may be substituted, and the hydrogen atom contained in the said aromatic hydrocarbon group may be substituted by the C1-C12 alkoxy group or the C1-C12 alkylcarbonyloxy group.

Rb11과 Rb12는, 하나가 되어 그들이 결합하는 -CH-C(=O)-를 포함하는 환을 형성하고 있어도 되고, 당해 환에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S(=O)- 또는 -C(=O)-로 치환되어도 된다.R b11 and R b12 may form a ring containing -CH-C(=O)- to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the ring is -O-, -S( It may be substituted with =O)- or -C(=O)-.

Rb13∼Rb18은, 각각 독립적으로, 히드록시기, 탄소수 1∼12의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 1∼12의 알콕시기를 나타낸다.R b13 to R b18 each independently represent a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.

Lb31은, -S- 또는 -O-를 나타낸다.L b31 represents -S- or -O-.

o2, p2, s2, 및 t2는, 각각 독립적으로, 0∼5 중 어느 정수를 나타낸다.o2, p2, s2, and t2 each independently represent any integer of 0-5.

q2 및 r2는, 각각 독립적으로, 0∼4 중 어느 정수를 나타낸다.q2 and r2 each independently represent any integer of 0-4.

u2는 0 또는 1을 나타낸다.u2 represents 0 or 1.

o2가 2 이상일 때, 복수의 Rb13은 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 되며, p2가 2 이상일 때, 복수의 Rb14는 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 되며, q2가 2 이상일 때, 복수의 Rb15는 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 되며, r2가 2 이상일 때, 복수의 Rb16은 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 되며, s2가 2 이상일 때, 복수의 Rb17은 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 되며, t2가 2 이상일 때, 복수의 Rb18은 동일해도 되고 서로 상이하게 되어 있어도 된다.]When o2 is 2 or more, a plurality of R b13 may be the same or different from each other, when p2 is 2 or more, a plurality of R b14 may be the same or different from each other, and when q2 is 2 or more, a plurality of R b14 R b15 may be the same or different from each other, when r2 is 2 or more, a plurality of R b16 may be the same or different from each other, and when s2 is 2 or more, a plurality of R b17 may be the same or different from each other may be formed, and when t2 is 2 or more, a plurality of R b18 may be the same or different from each other.]

지방족 탄화수소기는, 사슬식 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기를 나타낸다.The aliphatic hydrocarbon group represents a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.

사슬식 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 피로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기 및 2-에틸헥실기의 알킬기를 들 수 있다.Examples of the chain hydrocarbon group include an alkyl group of a methyl group, an ethyl group, a pyroyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a 2-ethylhexyl group. .

특히, Rb9∼Rb12의 사슬식 탄화수소기는, 바람직하게는 탄소수 1∼12이다.In particular, the chain hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 1 to 12 carbon atoms.

지환식 탄화수소기로서는, 단환식 또는 다환식 중 어느 것이라도 되고, 단환식의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로데실기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식 탄화수소기로서는, 데카히드로나프틸기, 아만틸기, 노르보르닐기 및 하기의 기 등을 들 수 있다.The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, Cycloalkyl groups, such as a cyclodecyl group, are mentioned. Examples of the polycyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an amantyl group, a norbornyl group, and the following groups.

Figure 112017086300234-pat00090
Figure 112017086300234-pat00090

특히, Rb9∼Rb12의 지환식 탄화수소기는, 바람직하게는 탄소수 3∼18, 보다 바람직하게는 탄소수 4∼12이다.In particular, the alicyclic hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms.

수소 원자가 지방족 탄화수소기로 치환된 지환식 탄화수소기로서는, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 2-메틸아다만탄-2-일기, 2-에틸아다만탄-2-일기, 2-이소프로필아다만탄-2-일기, 메틸노르보르닐기, 이소보르닐기 등을 들 수 있다. 수소 원자가 지방족 탄화수소기로 치환된 지환식 탄화수소기에 있어서는, 지환식 탄화수소기와 지방족 탄화수소기의 합계 탄소수가 바람직하게는 20 이하이다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a 2-methyladamantan-2-yl group, a 2-ethyladamantan-2-yl group, and a 2-isopropyla group. A dantan-2-yl group, a methyl norbornyl group, an isobornyl group, etc. are mentioned. In the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total carbon number of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.

방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, p-에틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 페난톨릴기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등의 아릴기를 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, a p-ethylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, a p-cyclohexylphenyl group, a p-adamantylphenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group. and aryl groups such as phenantholyl group, 2,6-diethylphenyl group, and 2-methyl-6-ethylphenyl group.

또한, 방향족 탄화수소기에, 사슬식 탄화수소기 또는 지환식 탄화수소기가 포함되는 경우는, 탄소수 1∼18의 사슬식 탄화수소기 및 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기가 바람직하다.Moreover, when a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group is contained in the aromatic hydrocarbon group, a C1-C18 chain hydrocarbon group and a C3-C18 alicyclic hydrocarbon group are preferable.

수소 원자가 알콕시기로 치환된 방향족 탄화수소기로서는, p-메톡시페닐기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group.

수소 원자가 방향족 탄화수소기로 치환된 사슬식 탄화수소기로서는, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 트리틸기, 나프틸메틸기, 나프틸에틸기 등의 아랄킬기를 들 수 있다. Examples of the chain hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include aralkyl groups such as a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a trityl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.

알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 데실옥시기 및 도데실옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group, and a dodecyloxy group.

알킬카르보닐기로는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.

할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

알킬카르보닐옥시기로는, 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, 프로필카르보닐옥시기, 이소프로필카르보닐옥시기, 부틸카르보닐옥시기, sec-부틸카르보닐옥시기, tert-부틸카르보닐옥시기, 펜틸카르보닐옥시기, 헥실카르보닐옥시기, 옥틸카르보닐옥시기 및 2-에틸헥실카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylcarbonyloxy group include a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group, a sec-butylcarbonyloxy group, and a tert-butylcarbonyl group. A bornyloxy group, a pentylcarbonyloxy group, a hexylcarbonyloxy group, an octylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group, etc. are mentioned.

Rb4와 Rb5가 서로 결합하여 그들이 결합하는 유황 원자와 함께 형성하는 환은, 단환식, 다환식, 방향족성, 비방향족성, 포화 및 불포화 중 어느 환이라도 된다. 이 환은, 탄소수 3∼18의 환을 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 4∼18의 환이다. 또한, 유황 원자를 포함하는 환은, 3원환∼12원환을 들 수 있고, 바람직하게는 3원환∼7원환이며, 예를 들면 하기의 환을 들 수 있다.The ring formed by combining R b4 and R b5 with the sulfur atom to which they are bonded may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. As for this ring, a C3-C18 ring is mentioned, Preferably it is a C4-C18 ring. Moreover, as for the ring containing a sulfur atom, a 3-membered ring - a 12-membered ring is mentioned, Preferably they are a 3-membered ring - a 7-membered ring, For example, the following ring is mentioned.

Figure 112017086300234-pat00091
Figure 112017086300234-pat00091

Rb9와 Rb10이 함께 형성하는 환은, 단환식, 다환식, 방향족성, 비방향족성, 포화 및 불포화 중 어느 환이라도 된다. 이 환은, 3원환∼12원환을 들 수 있고, 바람직하게는 3원환∼7원환이다. 예를 들면, 티올란-1-이움환(테트라히드로티오페늄환), 티안-1-이움환, 1,4-옥사티안-4-이움환 등을 들 수 있다.The ring formed together by R b9 and R b10 may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. Examples of the ring include a 3- to 12-membered ring, and preferably a 3- to 7-membered ring. For example, a thiolan-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), a thiane-1-ium ring, a 1, 4- oxathian-4-ium ring, etc. are mentioned.

Rb11과 Rb12가 함께 형성하는 환은, 단환식, 다환식, 방향족성, 비방향족성, 포화 및 불포화 중 어느 환이라도 된다. 이 환은, 3원환∼12원환을 들 수 있고, 바람직하게는 3원환∼7원환이다. 옥소시클로헵탄환, 옥소시클로헥산환, 옥소노르보르난환, 옥소아다만탄환 등을 들 수 있다.The ring formed by R b11 and R b12 together may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. Examples of the ring include a 3- to 12-membered ring, and preferably a 3- to 7-membered ring. An oxocycloheptane ring, an oxocyclohexane ring, an oxonorbornane ring, an oxoadamantane ring, etc. are mentioned.

카티온(b2-1)∼카티온(b2-4) 중에서도, 바람직하게는, 카티온(b2-1)이다.Among cation (b2-1) - cation (b2-4), Preferably, it is cation (b2-1).

카티온(b2-1)로는, 이하의 카티온을 들 수 있다.As a cation (b2-1), the following cations are mentioned.

Figure 112017086300234-pat00092
Figure 112017086300234-pat00092

Figure 112017086300234-pat00093
Figure 112017086300234-pat00093

카티온(b2-2)로는, 이하의 카티온을 들 수 있다.As a cation (b2-2), the following cations are mentioned.

Figure 112017086300234-pat00094
Figure 112017086300234-pat00094

카티온(b2-3)으로는, 이하의 카티온을 들 수 있다.As a cation (b2-3), the following cations are mentioned.

Figure 112017086300234-pat00095
Figure 112017086300234-pat00095

카티온(b2-4)로는, 이하의 카티온을 들 수 있다.As a cation (b2-4), the following cations are mentioned.

Figure 112017086300234-pat00096
Figure 112017086300234-pat00096

그 중에서도, 식 (b2-c-1), (b2-c-10), (b2-c-12), (b2-c-14), (b2-c-27), (b2-c-30) 및 (b2-c-31)로 나타내어지는 카티온이 바람직하다.Among them, formulas (b2-c-1), (b2-c-10), (b2-c-12), (b2-c-14), (b2-c-27), (b2-c-30 ) and cations represented by (b2-c-31) are preferred.

산 발생제(B)로는, 유기 술폰산, 유기 술포늄염 등을 들 수 있고, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2013-68914호 공보, 일본 공개특허 특개2013-3155호 공보, 일본 공개특허 특개2013-11905호 공보 기재의 산 발생제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 식 (B1-1)∼식 (B1-48) 중 어느 것으로 나타내어지는 것을 들 수 있다. 그 중에서도 아릴술포늄 카티온을 포함하는 것이 바람직하고, 식 (B1-1)∼식 (B1-3), 식 (B1-5)∼식 (B1-7), 식 (B1-11)∼식 (B1-14), 식 (B1-17), 식 (B1-20)∼식 (B1-26), 식 (B1-29), 식 (B1-31)∼식 (B1-48) 중 어느 것으로 나타내어지는 염이 보다 바람직하다.Examples of the acid generator (B) include organic sulfonic acids and organic sulfonium salts. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2013-68914, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-3155, and Japanese Patent Laid-Open No. 2013- The acid generator described in Publication No. 11905, etc. are mentioned. Specific examples thereof include those represented by any of formulas (B1-1) to (B1-48). Among these, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and formulas (B1-1) to (B1-3), (B1-5) to (B1-7), and (B1-11) to formulas (B1-14), formula (B1-17), formula (B1-20) - formula (B1-26), formula (B1-29), formula (B1-31) - formula (B1-48) in any of The salt shown is more preferable.

Figure 112017086300234-pat00097
Figure 112017086300234-pat00097

Figure 112017086300234-pat00098
Figure 112017086300234-pat00098

Figure 112017086300234-pat00099
Figure 112017086300234-pat00099

Figure 112017086300234-pat00100
Figure 112017086300234-pat00100

Figure 112017086300234-pat00101
Figure 112017086300234-pat00101

Figure 112017086300234-pat00102
Figure 112017086300234-pat00102

<수지(A)의 구조 단위><Structural unit of resin (A)>

수지(A)는, 산 불안정기를 갖는 구조 단위(이하 「구조 단위(a1)」이라고 하는 경우가 있다)를 갖는다. 수지(A)는, 구조 단위(a1) 이외의 구조 단위를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 구조 단위(a1) 이외의 구조 단위로는, 산 불안정기를 갖지 않는 구조 단위(이하 「구조 단위(s)」라고 하는 경우가 있다), 그 밖의 구조 단위(이하 「구조 단위(t)」라고 하는 경우가 있다)를 들 수 있다.Resin (A) has a structural unit (hereinafter, sometimes referred to as "structural unit (a1)") having an acid-labile group. It is preferable that resin (A) contains structural units other than structural unit (a1). Structural units other than the structural unit (a1) include a structural unit having no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (s)”) and other structural units (hereinafter referred to as “structural unit (t)”). there are cases).

<산 불안정기를 갖는 구조 단위(a1)><Structural unit having an acid labile group (a1)>

구조 단위(a1)은, 산 불안정기를 갖는 모노머(이하 「모노머(a1)」이라고 하는 경우가 있다)로부터 유도된다. 여기서, 「산 불안정기」란, 탈리기를 갖고, 산과의 접촉에 의해 탈리기가 탈리되어, 친수성기(예를 들면, 히드록시기 또는 카르복시기)를 형성하는 기를 의미한다.The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (a1)”). Here, the "acid-labile group" means a group having a leaving group and forming a hydrophilic group (eg, a hydroxy group or a carboxy group) by releasing the leaving group by contact with an acid.

<산 불안정기><Acid unstable phase>

수지(A)에 있어서, 구조 단위(a1)에 포함되는 산 불안정기는, 상기식 (1)로 나타내어지는 기, 식 (2)로 나타내어지는 기 등을 들 수 있다.Examples of the acid-labile group contained in the structural unit (a1) in the resin (A) include a group represented by the formula (1), a group represented by the formula (2), and the like.

모노머(a1)은, 바람직하게는, 산 불안정기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 모노머, 보다 바람직하게는 산 불안정기를 갖는 (메타)아크릴계 모노머이다.The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid labile group and an ethylenically unsaturated bond, more preferably a (meth)acrylic monomer having an acid labile group.

산 불안정기를 갖는 (메타)아크릴계 모노머 중, 바람직하게는, 탄소수 5∼20의 지환식 탄화수소기를 갖는 것을 들 수 있다. 지환식 탄화수소기와 같은 부피가 큰 구조를 갖는 모노머(a1)에서 유래하는 구조 단위를 갖는 수지(A)를 레지스트 조성물에 사용하면, 레지스트 패턴의 해상도를 향상시킬 수 있다.Among the (meth)acrylic monomers having an acid-labile group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferably mentioned. When the resin (A) having a structural unit derived from the monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.

<구조 단위(a1)의 구체예><Specific example of structural unit (a1)>

식 (1)로 나타내어지는 기를 갖는 (메타)아크릴계 모노머에서 유래하는 구조 단위로서, 바람직하게는, 식 (a1-0)으로 나타내어지는 구조 단위(이하, 구조 단위(a1-0)이라고 하는 경우가 있다), 식 (a1-1)로 나타내어지는 구조 단위(이하, 구조 단위(a1-1)이라고 하는 경우가 있다) 또는 식 (a1-2)로 나타내어지는 구조 단위(이하, 구조 단위(a1-2)라고 하는 경우가 있다)를 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.A structural unit derived from a (meth)acrylic monomer having a group represented by formula (1), preferably a structural unit represented by formula (a1-0) (hereinafter referred to as structural unit (a1-0) ), a structural unit represented by formula (a1-1) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-1)) or a structural unit represented by formula (a1-2) (hereinafter, structural unit (a1-) 2) may be mentioned. These may be used independently and may use 2 or more types together.

Figure 112017086300234-pat00103
Figure 112017086300234-pat00103

[식 (a1-0) 중,[In formula (a1-0),

La01은, 산소 원자 또는 *-O-(CH2)k01-CO-O-를 나타내고, k01은 1∼7 중 어느 정수를 나타내고, *는 카르보닐기와의 결합손을 나타낸다.L a01 represents an oxygen atom or * -O-(CH 2 ) k01 -CO-O-, k01 represents any integer from 1 to 7, and * represents a bond with a carbonyl group.

Ra01은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a01 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Ra02, Ra03 및 Ra04는, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기 또는 이들을 조합한 기를 나타낸다.]R a02 , R a03 and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group combining them.]

La01은, 바람직하게는, 산소 원자 또는 *-O-(CH2)k01-CO-O-이고, 보다 바람직하게는 산소 원자이다. k01은, 바람직하게는 1∼4 중 어느 정수이고, 보다 바람직하게는 1이다.L a01 is preferably an oxygen atom or * -O-(CH 2 ) k01 -CO-O-, and more preferably an oxygen atom. k01 is preferably any integer from 1 to 4, more preferably 1.

Ra02, Ra03 및 Ra04의 알킬기, 지환식 탄화수소기 및 이들을 조합한 기로는, 식 (1)의 Ra1∼Ra3에서 거론한 기와 동일한 기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group, alicyclic hydrocarbon group, and combinations thereof for R a02 , R a03 and R a04 include the same groups as those mentioned for R a1 to R a3 in Formula (1).

Ra02, Ra03 및 Ra04의 알킬기는, 바람직하게는 탄소수 6 이하이다.The alkyl group of R a02 , R a03 and R a04 preferably has 6 or less carbon atoms.

Ra02, Ra03 및 Ra04의 지환식 탄화수소기는, 바람직하게는 탄소수 3∼8이고, 보다 바람직하게는 3∼6이다.The alicyclic hydrocarbon group of R a02 , R a03 and R a04 preferably has 3 to 8 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms.

알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기는, 이들 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 합계 탄소수가, 18 이하인 것이 바람직하다. 이러한 기로는, 예를 들면, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 메틸노르보르닐기 등을 들 수 있다.As for the group which combined an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group, it is preferable that the total carbon number which combined these alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group is 18 or less. Examples of such groups include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, and a methylnorbornyl group.

Ra02 및 Ra03은, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다.R a02 and R a03 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group.

Ra04는, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 5∼12의 지환식 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기 또는 아다만틸기이다.R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.

Figure 112017086300234-pat00104
Figure 112017086300234-pat00104

[식 (a1-1) 및 식 (a1-2) 중,[In formulas (a1-1) and (a1-2),

La1 및 La2는, 각각 독립적으로, -O- 또는 *-O-(CH2)k1-CO-O-를 나타내고, k1은 1∼7 중 어느 정수를 나타내고, *는 -CO-와의 결합손을 나타낸다.L a1 and L a2 each independently represent -O- or * -O-(CH 2 ) k1 -CO-O-, k1 represents any integer from 1 to 7, and * is a bond with -CO- Show your hand.

Ra4 및 Ra5는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

Ra6 및 Ra7은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기 또는 이들을 조합함으로써 형성되는 기를 나타낸다.R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining them.

m1은, 0∼14 중 어느 정수를 나타낸다.m1 represents any integer from 0 to 14.

n1은, 0∼10 중 어느 정수를 나타낸다.n1 represents any integer from 0 to 10.

n1'는, 0∼3 중 어느 정수를 나타낸다.]n1' represents any integer from 0 to 3.]

La1 및 La2는, 바람직하게는, -O- 또는 *-O-(CH2)k1'-CO-O-이고, 보다 바람직하게는 -O-이다. k1'는, 1∼4 중 어느 정수이고, 바람직하게는 1이다.L a1 and L a2 are preferably -O- or * -O-(CH 2 ) k1' -CO-O-, and more preferably -O-. k1' is any integer from 1-4, Preferably it is 1.

Ra4 및 Ra5는, 바람직하게는 메틸기이다.R a4 and R a5 are preferably a methyl group.

Ra6 및 Ra7의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, 2-에틸헥실기, n-옥틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group for R a6 and R a7 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n- A heptyl group, 2-ethylhexyl group, n-octyl group, etc. are mentioned.

Ra6 및 Ra7의 지환식 탄화수소기는, 단환식 또는 다환식의 어느 것이라도 되고, 단환식의 지환식 탄화수소기로는, 예를 들면, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로데실기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로는, 예를 들면, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 2-알킬아다만탄-2-일기, 1-(아다만탄-1-일)알킬기, 노르보르닐기, 메틸노르보르닐기 및 이소보르닐기 등을 들 수 있다.The alicyclic hydrocarbon group of R a6 and R a7 may be either monocyclic or polycyclic, and examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. and cycloalkyl groups such as a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and a cyclodecyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a 2-alkyladamantan-2-yl group, a 1-(adamantan-1-yl)alkyl group, a norbornyl group; A methyl norbornyl group, an isobornyl group, etc. are mentioned.

Ra6 및 Ra7의 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합함으로써 형성된 기로는, 아랄킬기를 들 수 있고, 벤질기, 페네틸기 등을 들 수 있다.Examples of the group formed by combining the alkyl group of R a6 and R a7 and the alicyclic hydrocarbon group include an aralkyl group, and a benzyl group and a phenethyl group.

Ra6 및 Ra7의 알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 6 이하이다.The number of carbon atoms in the alkyl group of R a6 and R a7 is preferably 6 or less.

Ra6 및 Ra7의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3∼8, 보다 바람직하게는 3∼6이다.The carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of R a6 and R a7 is preferably 3 to 8, more preferably 3 to 6.

m1은, 바람직하게는 0∼3 중 어느 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.m1 is preferably any integer from 0 to 3, more preferably 0 or 1.

n1은, 바람직하게는 0∼3 중 어느 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.n1 is preferably any integer from 0 to 3, more preferably 0 or 1.

n1'는 바람직하게는 0 또는 1이다.n1' is preferably 0 or 1.

구조 단위(a1-0)으로는, 예를 들면, 식 (a1-0-1)∼식 (a1-0-12) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하고, 식 (a1-0-1)∼식 (a1-0-10) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하다.As the structural unit (a1-0), for example, a structural unit represented by any of formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) is preferable, and formula (a1-0-1) The structural unit represented by any one of - formula (a1-0-10) is more preferable.

Figure 112017086300234-pat00105
Figure 112017086300234-pat00105

상기 식 (a1-0-1)∼식 (a1-0-12)에 있어서, Ra01에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위도, 구조 단위(a1-0)의 구체예로서 들 수 있다.Specific examples of the structural unit (a1-0) also include structural units in which the methyl group corresponding to R a01 is substituted with a hydrogen atom in the formulas (a1-0-1) to (a1-0-12). .

구조 단위(a1-1)로는, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2010-204646호 공보에 기재된 모노머로부터 유도되는 구조 단위를 들 수 있다. 바람직하게는, 식 (a1-1-1)∼식 (a1-1-8) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위이다.As a structural unit (a1-1), the structural unit derived from the monomer of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204646 is mentioned, for example. Preferably, it is a structural unit represented by any one of formula (a1-1-1) - formula (a1-1-8).

Figure 112017086300234-pat00106
Figure 112017086300234-pat00106

구조 단위(a1-2)는, 바람직하게는, 식 (a1-2-1)∼식 (a1-2-12) 중 어느 것으로 나타내어지는 모노머이고, 보다 바람직하게는, 식 (a1-2-3), 식 (a1-2-4), 식 (a1-2-9) 또는 식 (a1-2-10)으로 나타내어지는 모노머이다.The structural unit (a1-2) is preferably a monomer represented by any of the formulas (a1-2-1) to (a1-2-12), more preferably the formula (a1-2-3). ), a monomer represented by the formula (a1-2-4), the formula (a1-2-9), or the formula (a1-2-10).

Figure 112017086300234-pat00107
Figure 112017086300234-pat00107

수지(A)가 구조 단위(a1-0) 및/또는 구조 단위(a1-1) 및/또는 구조 단위(a1-2)를 포함하는 경우, 이들의 합계 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위의 합계에 대하여, 통상 10∼95몰%이고, 바람직하게는 15∼90몰%이며, 보다 바람직하게는 20∼85몰%이다.When the resin (A) contains the structural unit (a1-0) and/or the structural unit (a1-1) and/or the structural unit (a1-2), the total content thereof is the total structure of the resin (A). It is usually 10-95 mol% with respect to the total of units, Preferably it is 15-90 mol%, More preferably, it is 20-85 mol%.

산 불안정기를 갖는 구조 단위(a1)로는, 식 (a1-5)로 나타내어지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a1-5)」라고 하는 경우가 있다)를 이용할 수도 있다.As the structural unit (a1) having an acid-labile group, a structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1-5)”) can also be used.

Figure 112017086300234-pat00108
Figure 112017086300234-pat00108

[식 (a1-5) 중,[In formula (a1-5),

Ra8은, 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1∼6의 알킬기, 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타낸다.R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom, or a halogen atom.

Za1은, 단결합 또는 *-(CH2)h3-CO-L54-를 나타내고, h3은 1∼4 중 어느 정수를 나타내고, *는, L51과의 결합손을 나타낸다.Z a1 represents a single bond or *-(CH 2 ) h3 -CO-L 54 -, h3 represents any integer from 1 to 4, and * represents a bond with L 51 .

L51, L52, L53 및 L54는, 각각 독립적으로, -O- 또는 -S-를 나타낸다.L 51 , L 52 , L 53 and L 54 each independently represent -O- or -S-.

s1은, 1∼3 중 어느 정수를 나타낸다.s1 represents any integer from 1 to 3.

s1'는, 0∼3 중 어느 정수를 나타낸다.]s1' represents any integer from 0 to 3.]

식 (a1-5)에 있어서는, Ra8은, 수소 원자, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하다.In formula (a1-5), it is preferable that R a8 is a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group.

L51은, -O-가 바람직하다.L 51 is preferably -O-.

L52 및 L53은, 일방이 -O-, 타방이 -S-인 것이 바람직하다.As for L 52 and L 53 , it is preferable that one is -O- and the other is -S-.

s1로는, 1이 바람직하다.As s1, 1 is preferable.

s1'로는, 0∼2 중 어느 정수가 바람직하다.As s1', any integer from 0 to 2 is preferable.

Za1로는, 단결합 또는 *-CH2-CO-O-가 바람직하다.As Z a1 , a single bond or *-CH 2 -CO-O- is preferable.

구조 단위(a1-5)를 유도하는 모노머로는, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2010-61117호 공보에 기재된 모노머를 들 수 있다. 그 중에서도, 식 (a1-5-1)∼식 (a1-5-4) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하고, 식 (a1-5-1) 또는 식 (a1-5-2)로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하다.As a monomer which induces a structural unit (a1-5), the monomer of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-61117 is mentioned, for example. Among them, the structural unit represented by any of the formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) is preferable, and is preferably represented by the formula (a1-5-1) or (a1-5-2). A structural unit that loses is more preferable.

Figure 112017086300234-pat00109
Figure 112017086300234-pat00109

수지(A)가, 구조 단위(a1-5)를 갖는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위의 합계에 대하여, 1∼50몰%인 것이 바람직하고, 3∼45몰%인 것이 보다 바람직하며, 5∼40몰%인 것이 더욱 바람직하다.When resin (A) has a structural unit (a1-5), it is preferable that the content rate is 1-50 mol% with respect to the sum total of all the structural units of resin (A), and it is 3-45 mol% It is more preferable, and it is still more preferable that it is 5-40 mol%.

또한, 구조 단위(a1)로는, 이하의 구조 단위도 들 수 있다.Moreover, as a structural unit (a1), the following structural units are also mentioned.

Figure 112017086300234-pat00110
Figure 112017086300234-pat00110

Figure 112017086300234-pat00111
Figure 112017086300234-pat00111

수지(A)가 상기 구조 단위를 포함하는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대하여, 10∼95몰%가 바람직하고, 15∼90몰%가 보다 바람직하며, 20∼85몰%가 더욱 바람직하다.When resin (A) contains the said structural unit, 10-95 mol% is preferable with respect to the total structural unit of resin (A), as for the content rate, 15-90 mol% is more preferable, 20-85 mol% is more preferable.

수지(A) 중의 산 불안정기를 갖는 구조 단위(a1)로는, 구조 단위(a1-0), 구조 단위(a1-1), 구조 단위(a1-2) 및 구조 단위(a1-5)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상이 바람직하고, 적어도 2종 이상이 보다 바람직하고, 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)의 조합, 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-5)의 조합, 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-0)의 조합, 구조 단위(a1-2) 및 구조 단위(a1-0)의 조합, 구조 단위(a1-5) 및 구조 단위(a1-0)의 조합, 구조 단위(a1-0), 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)의 조합, 구조 단위(a1-0), 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-5)의 조합이 더욱 바람직하며, 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)의 조합, 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-5)의 조합이 특히 바람직하다.As the structural unit (a1) having an acid-labile group in the resin (A), the group consisting of a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-1), a structural unit (a1-2), and a structural unit (a1-5) At least one or more selected from the group consisting of preferably at least two or more, a combination of a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-2), a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1) a combination of -5), a combination of a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-0), a combination of a structural unit (a1-2) and a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-5) and Combination of structural unit (a1-0), structural unit (a1-0), combination of structural unit (a1-1) and structural unit (a1-2), structural unit (a1-0), structural unit (a1-1) ) and the structural unit (a1-5) are more preferable, the combination of the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2), the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-5) Combinations are particularly preferred.

<산 불안정기를 갖지 않는 구조 단위(s)><Structural unit without acid labile group (s)>

구조 단위(s)는, 산 불안정기를 갖지 않는 모노머(이하 「모노머(s)」라고 하는 경우가 있다)로부터 유도된다. 구조 단위(s)를 유도하는 모노머(s)는, 레지스트 분야에서 공지의 산 불안정기를 갖지 않는 모노머를 사용할 수 있다.The structural unit (s) is derived from a monomer having no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (s)”). As the monomer (s) from which the structural unit (s) is derived, a monomer having no acid labile group known in the field of resists can be used.

구조 단위(s)로는, 히드록시기 또는 락톤환을 갖고, 또한 산 불안정기를 갖지 않는 구조 단위가 바람직하다. 히드록시기를 갖고, 또한 산 불안정기를 갖지 않는 구조 단위(이하 「구조 단위(a2)」라고 하는 경우가 있다) 및/또는 락톤환을 갖고, 또한 산 불안정기를 갖지 않는 구조 단위(이하 「구조 단위(a3)」이라고 하는 경우가 있다)를 갖는 수지를 본 발명의 레지스트 조성물에 사용하면, 레지스트 패턴의 해상도 및 기판과의 밀착성을 향상시킬 수 있다.As the structural unit (s), a structural unit having a hydroxyl group or a lactone ring and not having an acid labile group is preferable. A structural unit having a hydroxyl group and not having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2)") and/or a structural unit having a lactone ring and not having an acid labile group (hereinafter referred to as "structural unit (a3)") )") is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and adhesion to the substrate can be improved.

<구조 단위(a2)><Structural unit (a2)>

구조 단위(a2)가 갖는 히드록시기는, 페놀성 히드록시기라도 되고, 알코올성 히드록시기라도 된다.A phenolic hydroxyl group may be sufficient as the hydroxyl group which structural unit (a2) has, and an alcoholic hydroxyl group may be sufficient as it.

본 발명의 레지스트 조성물로부터 레지스트 패턴을 제조할 때, 노광 광원으로서 KrF 엑시머 레이저(248㎚), 전자선 또는 EUV(초자외광) 등의 고에너지선을 이용하는 경우에는, 구조 단위(a2)로서, 페놀성 히드록시기를 갖는 구조 단위(a2)를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, ArF 엑시머 레이저(193㎚) 등을 이용하는 경우에는, 구조 단위(a2)로서, 알코올성 히드록시기를 갖는 구조 단위(a2)를 포함하는 것이 바람직하고, 후술하는 식 (a2-1)로 나타내어지는 구조 단위를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 구조 단위(a2)로는, 1종을 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종 이상을 포함하고 있어도 된다.When producing a resist pattern from the resist composition of the present invention, when high energy rays such as KrF excimer laser (248 nm), electron beam, or EUV (ultra-ultraviolet light) are used as the exposure light source, as the structural unit (a2), phenolic It is preferable to include the structural unit (a2) which has a hydroxyl group. In the case of using an ArF excimer laser (193 nm) or the like, the structural unit (a2) preferably includes a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group, and a structure represented by formula (a2-1) to be described later. It is more preferable to include a unit. As a structural unit (a2), 1 type may be included individually, and 2 or more types may be included.

페놀성 히드록시기를 갖는 구조 단위(a2)로는, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2010-204634호 공보에 기재되어 있는 모노머로부터 유도되는 구조 단위를 들 수 있다.As a structural unit (a2) which has a phenolic hydroxyl group, the structural unit derived from the monomer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204634 is mentioned, for example.

수지(A)가, 페놀성 히드록시기를 갖는 구조 단위(a2-0)을 갖는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대하여, 5∼95몰%가 바람직하고, 10∼80몰%가 보다 바람직하며, 15∼80몰%가 더욱 바람직하다.When resin (A) has a structural unit (a2-0) which has a phenolic hydroxyl group, 5-95 mol% is preferable with respect to the total structural unit of resin (A), and the content rate is 10-80 mol. % is more preferable, and 15 to 80 mol% is still more preferable.

알코올성 히드록시기를 갖는 구조 단위(a2)로는, 식 (a2-1)로 나타내어지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a2-1)」이라고 하는 경우가 있다)를 들 수 있다.Examples of the structural unit (a2) having an alcoholic hydroxyl group include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-1)”).

Figure 112017086300234-pat00112
Figure 112017086300234-pat00112

[식 (a2-1) 중,[In formula (a2-1),

La3은, -O- 또는 *-O-(CH2)k2-CO-O-를 나타내고,L a3 represents -O- or *-O-(CH 2 ) k2 -CO-O-,

k2는, 1∼7 중 어느 정수를 나타낸다. *는 -CO-와의 결합손을 나타낸다.k2 represents any integer from 1 to 7. * represents a bond with -CO-.

Ra14는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Ra15 및 Ra16은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기 또는 히드록시기를 나타낸다.R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, or a hydroxy group.

o1은, 0∼10 중 어느 정수를 나타낸다.]o1 represents any integer from 0 to 10.]

식 (a2-1)에서는, La3은, 바람직하게는, -O-, -O-(CH2)f1-CO-O-이고(상기 f1은, 1∼4 중 어느 정수이다), 보다 바람직하게는 -O-이다.In formula (a2-1), L a3 is preferably -O-, -O-(CH 2 ) f1 -CO-O- (the above f1 is any integer from 1 to 4), more preferably It is usually -O-.

Ra14는, 바람직하게는 메틸기이다.R a14 is preferably a methyl group.

Ra15는, 바람직하게는 수소 원자이다.R a15 is preferably a hydrogen atom.

Ra16은, 바람직하게는 수소 원자 또는 히드록시기이다.R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.

o1은, 바람직하게는 0∼3 중 어느 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.o1 is preferably any integer from 0 to 3, and more preferably 0 or 1.

구조 단위(a2-1)은, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2010-204646호 공보에 기재된 것을 들 수 있고, 식 (a2-1-1)∼식 (a2-1-6) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하고, 식 (a2-1-1)∼식 (a2-1-4) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하며, 식 (a2-1-1) 또는 식 (a2-1-3)으로 나타내어지는 구조 단위가 더욱 바람직하다.Structural unit (a2-1) is, for example, the thing of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204646 is mentioned, It is represented by any one of Formula (a2-1-1) - Formula (a2-1-6), Structural units are preferable, and structural units represented by any of formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) are more preferable, and formula (a2-1-1) or (a2-1) The structural unit represented by -3) is more preferable.

Figure 112017086300234-pat00113
Figure 112017086300234-pat00113

알코올성 히드록시기를 갖는 구조 단위(a2)를 유도하는 모노머로는, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2010-204646호 공보에 기재된 모노머를 들 수 있다.As a monomer which guide|induced the structural unit (a2) which has an alcoholic hydroxyl group, the monomer of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204646 is mentioned, for example.

수지(A)가 알코올성 히드록시기를 갖는 구조 단위(a2)를 포함하는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대하여, 통상 1∼45몰%이고, 바람직하게는 1∼40몰%이고, 보다 바람직하게는 1∼35몰%이며, 더욱 바람직하게는 2∼20몰%이다.When the resin (A) contains the structural unit (a2) having an alcoholic hydroxyl group, the content thereof is usually 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol%, based on all the structural units of the resin (A). More preferably, it is 1-35 mol%, More preferably, it is 2-20 mol%.

<구조 단위(a3)><Structural unit (a3)>

구조 단위(a3)이 갖는 락톤환은, β-프로피오락톤환, γ-부티로락톤환, δ-발레로락톤환과 같은 단환이라도 되고, 단환식의 락톤환과 다른 환의 축합환이라도 되며, 당해 락톤환으로서, 바람직하게는, γ-부티로락톤환, 아다만탄락톤환 또는 γ-부티로락톤환 구조를 포함하는 다리 걸린 환을 들 수 있다.The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as a β-propiolactone ring, a γ-butyrolactone ring or a δ-valerolactone ring, or may be a condensed ring of a monocyclic lactone ring and another ring. , preferably a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring, an adamantane lactone ring or a γ-butyrolactone ring structure.

구조 단위(a3)은, 바람직하게는, 식 (a3-1)∼식 (a3-4) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위이다. 수지(A)는, 이들의 1종을 단독으로 함유해도 되고, 2종 이상을 함유해도 된다.The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by any one of formulas (a3-1) to (a3-4). Resin (A) may contain these 1 type individually, and may contain 2 or more types.

Figure 112017086300234-pat00114
Figure 112017086300234-pat00114

[식 (a3-1) 중,[In formula (a3-1),

La4는, -O- 또는 *-O-(CH2)k3-CO-O-(k3은 1∼7 중 어느 정수를 나타낸다)로 나타내어지는 기를 나타낸다. *는 카르보닐기와의 결합손을 나타낸다.L a4 represents a group represented by -O- or *-O-(CH 2 ) k3 -CO-O- (k3 represents any integer from 1 to 7). * represents a bond with a carbonyl group.

Ra18은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a18 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Ra21은, 탄소수 1∼4의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.R a21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

p1은, 0∼5 중 어느 정수를 나타낸다. p1이 2 이상일 때, 복수의 Ra21은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.p1 represents any integer from 0 to 5; When p1 is 2 or more, a plurality of R a21 may be the same as or different from each other.

식 (a3-2) 중,In formula (a3-2),

La5는, -O- 또는 *-O-(CH2)k3-CO-O-(k3은 1∼7 중 어느 정수를 나타낸다)로 나타내어지는 기를 나타낸다. *는 카르보닐기와의 결합손을 나타낸다.L a5 represents a group represented by -O- or *-O-(CH 2 ) k3 -CO-O- (k3 represents any integer from 1 to 7). * represents a bond with a carbonyl group.

Ra19는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a19 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Ra22는, 카르복시기, 시아노기 또는 탄소수 1∼4의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.R a22 represents a carboxy group, a cyano group, or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

q1은, 0∼3 중 어느 정수를 나타낸다. q1이 2 이상일 때, 복수의 Ra22는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.q1 represents any integer from 0 to 3. When q1 is 2 or more, a plurality of R a22 may be the same as or different from each other.

식 (a3-3) 중,In formula (a3-3),

La6은, -O- 또는 *-O-(CH2)k3-CO-O-(k3은 1∼7 중 어느 정수를 나타낸다)로 나타내어지는 기를 나타낸다. *는 카르보닐기와의 결합손을 나타낸다.L a6 represents a group represented by -O- or *-O-(CH 2 ) k3 -CO-O- (k3 represents any integer from 1 to 7). * represents a bond with a carbonyl group.

Ra20은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a20 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Ra23은, 카르복시기, 시아노기 또는 탄소수 1∼4의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.R a23 represents a carboxy group, a cyano group, or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

r1은, 0∼3 중 어느 정수를 나타낸다. r1이 2 이상일 때, 복수의 Ra23은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.r1 represents any integer from 0 to 3. When r1 is 2 or more, a plurality of R a23 may be the same as or different from each other.

식 (a3-4) 중,In formula (a3-4),

Ra24는, 할로겐 원자를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼6의 알킬기, 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타낸다.R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom, or a halogen atom.

La7은, *-O-, *-O-La8-O-, *-O-La8-CO-O-, *-O-La8-CO-O-La9-CO-O- 또는 *-O-La8-O-CO-La9-O-를 나타낸다.L a7 is *-O-, *-OL a8 -O-, *-OL a8 -CO-O-, *-OL a8 -CO-OL a9 -CO-O- or *-OL a8 -O-CO -L a9 -O-.

*는 카르보닐기와의 결합손을 나타낸다.* represents a bond with a carbonyl group.

Ra25는, 카르복시기, 시아노기 또는 탄소수 1∼4의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.R a25 represents a carboxy group, a cyano group, or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

w는, 0∼8 중 어느 것의 정수를 나타낸다.w represents the integer of any one of 0-8.

La8 및 La9는, 서로 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타낸다.]L a8 and L a9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.]

Ra21, Ra22, Ra23 및 Ra25의 지방족 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기 및 tert-부틸기 등의 알킬기를 들 수 있다.Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R a21 , R a22 , R a23 and R a25 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group. there is.

Ra24의 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.Examples of the halogen atom for R a24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

Ra24의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기 및 n-헥실기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1∼4의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다.Examples of the alkyl group for R a24 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group, Preferably it is a C1-C4 alkyl group, More preferably, it is a methyl group or an ethyl group.

Ra24의 할로겐 원자를 갖는 알킬기로는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로 sec-부틸기, 퍼플루오로 tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기, 트리클로로메틸기, 트리브로모메틸기, 트리요오드메틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having a halogen atom for R a24 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluoro and a rhotert-butyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, and a triiodomethyl group.

La8 및 La9의 알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기 및 2-메틸부탄-1,4-디일기 등을 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group for L a8 and L a9 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5 group. -diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, 4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, etc. are mentioned.

식 (a3-1)∼식 (a3-3)에 있어서, La4∼La6은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 -O- 또는 k3이 1∼4 중 어느 정수인 *-O-(CH2)k3-CO-O-로 나타내어지는 기이고, 보다 바람직하게는 -O- 및 *-O-CH2-CO-O-이며, 더욱 바람직하게는 -O-이다.In formulas (a3-1) to (a3-3), L a4 to L a6 are each independently *-O-(CH 2 ), preferably -O- or k3 is any integer from 1 to 4 k3 is a group represented by -CO-O-, more preferably -O- and *-O-CH 2 -CO-O-, still more preferably -O-.

Ra18∼Ra21은, 바람직하게는 메틸기이다.R a18 to R a21 are preferably a methyl group.

Ra22 및 Ra23은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 카르복시기, 시아노기 또는 메틸기이다.R a22 and R a23 each independently represent a carboxy group, a cyano group or a methyl group.

p1, q1, r1 및 w는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 0∼2 중 어느 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.p1, q1, r1, and w each independently represent any integer from 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

식 (a3-4)에 있어서, Ra24는, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기이며, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이다.In formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

La7은, 바람직하게는 *-O- 또는 *-O-La8-CO-O-이고, 보다 바람직하게는 *-O-, *-O-, *-O-CH2-CO-O- 또는 *-O-C2H4-CO-O-이다.L a7 is preferably *-O- or *-OL a8 -CO-O-, more preferably *-O-, *-O-, *-O-CH 2 -CO-O- or * -OC 2 H 4 -CO-O-.

식 (a3-4)는, 식 (a3-4)'가 특히 바람직하다.The formula (a3-4) is particularly preferably a formula (a3-4)'.

Figure 112017086300234-pat00115
Figure 112017086300234-pat00115

(식 중, Ra24, La7은, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(In the formula, R a24 and L a7 have the same meanings as above.)

구조 단위(a3)을 유도하는 모노머로는, 일본 공개특허 특개2010-204646호 공보에 기재된 모노머, 일본 공개특허 특개2000-122294호 공보에 기재된 모노머, 일본 공개특허 특개2012-41274호 공보에 기재된 모노머를 들 수 있다. 구조 단위(a3)으로는, 식 (a3-1-1)∼식 (a3-1-4), 식 (a3-2-1)∼식 (a3-2-4), 식 (a3-3-1)∼식 (a3-3-4) 및 식 (a3-4-1)∼식 (a3-4-12) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하고, 식 (a3-1-1), 식 (a3-1-2), 식 (a3-2-3)∼식 (a3-2-4) 및 식 (a3-4-1)∼식 (a3-4-12) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하고, 식 (a3-4-1)∼식 (a3-4-12) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 더욱 바람직하며, 식 (a3-4-1)∼식 (a3-4-6) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조 단위가 보다 더 바람직하다.As a monomer for inducing the structural unit (a3), the monomer described in JP-A-2010-204646, the monomer described in JP-A-2000-122294, and the monomer described in JP-A 2012-41274 can be heard As the structural unit (a3), formula (a3-1-1) to formula (a3-1-4), formula (a3-2-1) to formula (a3-2-4), formula (a3-3- Structural units represented by any of 1) to formulas (a3-3-4) and (a3-4-1) to (a3-4-12) are preferable, and formulas (a3-1-1), formulas (a3-1-1), (a3-1-2), a structural unit represented by any of the formulas (a3-2-3) to (a3-2-4) and (a3-4-1) to (a3-4-12) is more preferably, a structural unit represented by any of formulas (a3-4-1) to (a3-4-12) is still more preferable, and formulas (a3-4-1) to (a3-4-6) ) is more preferably a structural unit represented by any one of.

구조 단위(a3)은 1종을 단독으로 함유해도 되고, 2종 이상을 함유해도 된다. 구조 단위(a3)으로는, 이하의 구조 단위를 들 수 있다.A structural unit (a3) may contain individually by 1 type, and may contain 2 or more types. Examples of the structural unit (a3) include the following structural units.

Figure 112017086300234-pat00116
Figure 112017086300234-pat00116

Figure 112017086300234-pat00117
Figure 112017086300234-pat00117

Figure 112017086300234-pat00118
Figure 112017086300234-pat00118

상기 식 (a3-4-1)∼식 (a3-4-12)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서는, Ra24에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 화합물도, 구조 단위(a3-4)의 구체예로서 들 수 있다.In the structural unit represented by the formulas (a3-4-1) to (a3-4-12), the compound in which the methyl group corresponding to R a24 is substituted with a hydrogen atom is also a specific example of the structural unit (a3-4). can be heard as

수지(A)가 구조 단위(a3)을 포함하는 경우, 그 합계 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대하여, 통상 5∼70몰%이고, 바람직하게는 10∼65몰%이며, 보다 바람직하게는 10∼60몰%이다.When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content is usually 5-70 mol%, preferably 10-65 mol%, with respect to all the structural units of the resin (A), more Preferably it is 10-60 mol%.

식 (a3-1), 식 (a3-2), 식 (a3-3) 및 식 (a3-4)로 나타내어지는 구조 단위의 각 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대하여, 통상 5∼60몰%이고, 바람직하게는 5∼50몰%이며, 보다 바람직하게는 10∼50몰%이다.Each content rate of the structural unit represented by Formula (a3-1), Formula (a3-2), Formula (a3-3), and Formula (a3-4) is 5 normally with respect to all the structural units of resin (A). It is -60 mol%, Preferably it is 5-50 mol%, More preferably, it is 10-50 mol%.

<그 밖의 구조 단위(t)><Other structural units (t)>

수지(A)는, 추가로, 그 밖의 구조 단위(t)를 포함하고 있어도 된다. 구조 단위(t)로는, 구조 단위(a2) 및 구조 단위(a3) 이외의 구조 단위로서, 할로겐 원자를 갖는 구조 단위(이하, 경우에 따라 「구조 단위(a4)」라고 한다) 및 비탈리 탄화수소기를 갖는 구조 단위(이하 「구조 단위(a5)」라고 하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.The resin (A) may further contain another structural unit (t). As the structural unit (t), a structural unit other than the structural unit (a2) and the structural unit (a3) having a halogen atom (hereinafter, sometimes referred to as “structural unit (a4)”) and a non-departing hydrocarbon group Structural units (hereinafter, sometimes referred to as "structural unit (a5)") etc. are mentioned.

<구조 단위(a4)><Structural unit (a4)>

구조 단위(a4)에 있어서의 할로겐 원자로는, 불소 원자가 바람직하다. 구조 단위(a4)로는, 식 (a4-0)으로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.The halogen atom in the structural unit (a4) is preferably a fluorine atom. As a structural unit (a4), the structural unit represented by Formula (a4-0) is mentioned.

Figure 112017086300234-pat00119
Figure 112017086300234-pat00119

[식 (a4-0) 중,[in formula (a4-0),

R5는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.

L5는, 단결합 또는 탄소수 1∼4의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L 5 represents a single bond or an aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.

L3은, 탄소수 1∼8의 퍼플루오로알칸디일기 또는 탄소수 5∼12의 퍼플루오로시클로알칸디일기를 나타낸다.L 3 represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 5 to 12 carbon atoms.

R6은, 수소 원자 또는 불소 원자를 나타낸다.]R 6 represents a hydrogen atom or a fluorine atom.]

L5의 지방족 포화 탄화수소기로는, 탄소수 1∼4의 알칸디일기를 들 수 있고, 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기 등의 직쇄형 알칸디일기, 직쇄형 알칸디일기에, 알킬기(그 중에서도, 메틸기, 에틸기 등)의 측쇄를 갖는 것, 에탄-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기 및 2-메틸프로판-1,2-디일기 등의 분기형 알칸디일기를 들 수 있다.Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group for L 5 include an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, etc. of a straight-chain alkanediyl group, a straight-chain alkanediyl group that has a side chain of an alkyl group (especially, a methyl group, an ethyl group, etc.), an ethane-1,1-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane- and branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group.

L3의 퍼플루오로알칸디일기로는, 디플루오로메틸렌기, 퍼플루오로에틸렌기, 퍼플루오로에틸플루오로메틸렌기, 퍼플루오로프로판-1,3-디일기, 퍼플루오로프로판-1,2-디일기, 퍼플루오로프로판-2,2-디일기, 퍼플루오로부탄-1,4-디일기, 퍼플루오로부탄-2,2-디일기, 퍼플루오로부탄-1,2-디일기, 퍼플루오로펜탄-1,5-디일기, 퍼플루오로펜탄-2,2-디일기, 퍼플루오로펜탄-3,3-디일기, 퍼플루오로헥산-1,6-디일기, 퍼플루오로헥산-2,2-디일기, 퍼플루오로헥산-3,3-디일기, 퍼플루오로헵탄-1,7-디일기, 퍼플루오로헵탄-2,2-디일기, 퍼플루오로헵탄-3,4-디일기, 퍼플루오로헵탄-4,4-디일기, 퍼플루오로옥탄-1,8-디일기, 퍼플루오로옥탄-2,2-디일기, 퍼플루오로옥탄-3,3-디일기, 퍼플루오로옥탄-4,4-디일기 등을 들 수 있다.Examples of the perfluoroalkanediyl group for L 3 include a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoroethylfluoromethylene group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, and a perfluoropropane-1 group. ,2-diyl group, perfluoropropane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2 -diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane-2,2-diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-di Diyl, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane-1,7-diyl group, perfluoroheptane-2,2-diyl group, Perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2-diyl group, perfluoro A rooctane-3,3-diyl group, a perfluorooctane-4,4-diyl group, etc. are mentioned.

L3의 퍼플루오로시클로알칸디일기로는, 퍼플루오로시클로헥산디일기, 퍼플루오로시클로펜탄디일기, 퍼플루오로시클로헵탄디일기, 퍼플루오로아다만탄디일기 등을 들 수 있다.Examples of the perfluorocycloalkanediyl group for L 3 include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, and a perfluoroadamantanediyl group.

L5는, 바람직하게는 단결합, 메틸렌기 또는 에틸렌기이고, 보다 바람직하게는, 단결합 또는 메틸렌기이다.L 5 is preferably a single bond, a methylene group, or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.

L3은, 바람직하게는 탄소수 1∼6의 퍼플루오로알칸디일기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼3의 퍼플루오로알칸디일기이다.L 3 is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

구조 단위(a4-0)으로는, 예를 들면, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the structural unit (a4-0) include the following.

Figure 112017086300234-pat00120
Figure 112017086300234-pat00120

Figure 112017086300234-pat00121
Figure 112017086300234-pat00121

상기의 구조 단위에 있어서, R5에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위도, 구조 단위(a4-0)의 구체예로서 들 수 있다.In the structural unit described above, a structural unit in which a methyl group corresponding to R 5 is substituted with a hydrogen atom is also mentioned as a specific example of the structural unit (a4-0).

구조 단위(a4)로는, 식 (a4-1)로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.As a structural unit (a4), the structural unit represented by Formula (a4-1) is mentioned.

Figure 112017086300234-pat00122
Figure 112017086300234-pat00122

[식 (a4-1) 중,[In formula (a4-1),

Ra41은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Ra42는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼20의 탄화수소기를 나타내고, 당해 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.R a42 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.

Aa41은, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼6의 알칸디일기 또는 식 (a-g1)로 나타내어지는 기를 나타낸다. 단, Aa41 및 Ra42 중 적어도 1개는, 치환기로서 할로겐 원자(바람직하게는 불소 원자)를 갖는다.A a41 represents a C1-C6 alkanediyl group which may have a substituent, or the group represented by a formula (a-g1). However, at least one of A a41 and R a42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.

Figure 112017086300234-pat00123
Figure 112017086300234-pat00123

[식 (a-g1) 중,[In formula (a-g1),

s는 0 또는 1을 나타낸다.s represents 0 or 1.

Aa42 및 Aa44는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼5의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A a42 and A a44 each independently represent a C1-C5 divalent aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent.

Aa43은, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼5의 2가의 지방족 탄화수소기 또는 단결합을 나타낸다.A a43 represents a C1-C5 divalent aliphatic hydrocarbon group or a single bond which may have a substituent.

Xa41 및 Xa42는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-, -CO-O- 또는 -O-CO-를 나타낸다.X a41 and X a42 each independently represent -O-, -CO-, -CO-O- or -O-CO-.

단, Aa42, Aa43, Aa44, Xa41 및 Xa42의 탄소수의 합계는 6 이하이다.However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41 and X a42 is 6 or less.

*, **는 결합손이고, *가 -O-CO-Ra42와의 결합손이다.]*, ** is a bond, and * is a bond with -O-CO-R a42 .]

단, Aa41 및 Ra42 중 적어도 일방은, 치환기로서 할로겐 원자를 갖는 기이다.]However, at least one of A a41 and R a42 is a group having a halogen atom as a substituent.]

s는 0이 바람직하다.s is preferably 0.

Ra42의 탄화수소기로는, 사슬식 및 환식의 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 및 이들을 조합시킴으로써 형성되는 기를 들 수 있다. 사슬식의 지방족 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 헥사데실기, 펜타데실기, 헥실데실기, 헵타데실기 및 옥타데실기 등의 알킬기를 들 수 있다. 환식의 지방족 탄화수소기로는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기; 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노르보르닐기 및 하기의 기(*는 결합손을 나타낸다) 등의 다환식의 지환식 탄화수소기를 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon group for R a42 include chain and cyclic aliphatic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups formed by combining them. Examples of the chain aliphatic hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a hexadecyl group, a pentadecyl group, a hexyldecyl group, and a heptadecyl group. Alkyl groups, such as a real group and an octadecyl group, are mentioned. Examples of the cyclic aliphatic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; Polycyclic alicyclic hydrocarbon groups, such as a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a bond), are mentioned.

Figure 112017086300234-pat00124
Figure 112017086300234-pat00124

방향족 탄화수소기로는, 예를 들면, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐릴기, 페난트릴기 및 플루오레닐기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenylyl group, a phenanthryl group, and a fluorenyl group.

Ra42의 탄화수소기로는, 사슬식 및 환식의 지방족 탄화수소기 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기가 바람직하다. 이들 기는, 탄소-탄소 불포화 결합을 갖고 있어도 되지만, 사슬식 및 환식의 지방족 포화 탄화수소기 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기가 보다 바람직하다.The hydrocarbon group for R a42 is preferably a chain or cyclic aliphatic hydrocarbon group or a group formed by combining them. Although these groups may have a carbon-carbon unsaturated bond, linear and cyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups and groups formed by combining these groups are more preferable.

Ra42의 치환기로는, 할로겐 원자, 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 불소 원자를 들 수 있다.Examples of the substituent for R a42 include a halogen atom and a group represented by the formula (a-g3). As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, Preferably a fluorine atom is mentioned.

Figure 112017086300234-pat00125
Figure 112017086300234-pat00125

[식 (a-g3) 중,[In formula (a-g3),

Xa43은, 산소 원자, 카르보닐기, 카르보닐옥시기 또는 옥시카르보닐기를 나타낸다.X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.

Aa45는, 적어도 1개의 할로겐 원자를 갖는 탄소수 1∼17의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms and having at least one halogen atom.

*는 Ra42의 탄화수소기와의 결합손을 나타낸다.]* represents a bond with the hydrocarbon group of R a42 .]

Aa45의 지방족 탄화수소기로는, Ra42에서 예시한 지방족 탄화수소기와 동일한 기를 들 수 있다.Examples of the aliphatic hydrocarbon group for A a45 include the same groups as the aliphatic hydrocarbon groups exemplified for R a42 .

Ra42는, 할로겐 원자를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 할로겐 원자를 갖는 알킬기 및/또는 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 갖는 지방족 탄화수소기가 보다 바람직하다.R a42 is preferably an aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom, more preferably an alkyl group having a halogen atom and/or an aliphatic hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3).

Ra42가 할로겐 원자를 갖는 지방족 탄화수소기인 경우, 바람직하게는 불소 원자를 갖는 지방족 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 퍼플루오로알킬기 또는 퍼플루오로시클로알킬기이고, 더욱 바람직하게는 탄소수가 1∼6인 퍼플루오로알킬기이며, 특히 바람직하게는 탄소수 1∼3의 퍼플루오로알킬기이다. 퍼플루오로알킬기로는, 퍼플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로헵틸기 및 퍼플루오로옥틸기 등을 들 수 있다. 퍼플루오로시클로알킬기로는, 퍼플루오로시클로헥실기 등을 들 수 있다.When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, still more preferably having 1 to 6 carbon atoms. It is a perfluoroalkyl group, Especially preferably, it is a C1-C3 perfluoroalkyl group. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group, and a perfluoro An octyl group etc. are mentioned. As a perfluorocycloalkyl group, a perfluorocyclohexyl group etc. are mentioned.

Ra42가, 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 갖는 지방족 탄화수소기인 경우, 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기에 포함되는 탄소수를 포함시켜, 지방족 탄화수소기의 총 탄소수는, 15 이하가 바람직하고, 12 이하가 보다 바람직하다. 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 치환기로서 갖는 경우, 그 수는 1개가 바람직하다.When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), the total number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group including the number of carbon atoms contained in the group represented by the formula (a-g3) is preferably 15 or less, , 12 or less are more preferable. When it has the group represented by a formula (a-g3) as a substituent, the number is preferably one.

식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 갖는 지방족 탄화수소기는, 더욱 바람직하게는 식 (a-g2)로 나타내어지는 기이다.The aliphatic hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3) is more preferably a group represented by the formula (a-g2).

Figure 112017086300234-pat00126
Figure 112017086300234-pat00126

[식 (a-g2) 중,[In formula (a-g2),

Aa46은, 할로겐 원자를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼17의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A a46 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.

Xa44는, 카르보닐옥시기 또는 옥시카르보닐기를 나타낸다.X a44 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.

Aa47은, 할로겐 원자를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼17의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A a47 represents a C1-C17 aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom.

단, Aa46, Aa47 및 Xa44의 탄소수의 합계는 18 이하이고, Aa46 및 Aa47 중, 적어도 일방은, 적어도 1개의 할로겐 원자를 갖는다.However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.

*는 카르보닐기와의 결합손을 나타낸다.]* indicates a bond with a carbonyl group.]

Aa46의 지방족 탄화수소기의 탄소수는 1∼6이 바람직하고, 1∼3이 보다 바람직하다.1-6 are preferable and, as for carbon number of the aliphatic hydrocarbon group of A a46 , 1-3 are more preferable.

Aa47의 지방족 탄화수소기의 탄소수는 4∼15가 바람직하고, 5∼12가 보다 바람직하며, 시클로헥실기 또는 아다만틸기가 더욱 바람직하다.4-15 are preferable, as for carbon number of the aliphatic hydrocarbon group of A a47 , 5-12 are more preferable, and a cyclohexyl group or an adamantyl group is still more preferable.

식 (a-g2)로 나타내어지는 기로는, 이하의 기를 들 수 있다.The following groups are mentioned as group represented by a formula (a-g2).

Figure 112017086300234-pat00127
Figure 112017086300234-pat00127

Aa41의 알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등의 직쇄형 알칸디일기; 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 1-메틸부탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기형 알칸디일기를 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group for A a41 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-1,6-diyl group. straight-chain alkanediyl groups such as; Propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4 - A branched alkanediyl group, such as a diyl group, is mentioned.

Aa41의 알칸디일기에 있어서의 치환기로는, 히드록시기 및 탄소수 1∼6의 알콕시기 등을 들 수 있다.As a substituent in the alkanediyl group of A a41 , a hydroxyl group, a C1-C6 alkoxy group, etc. are mentioned.

Aa41은, 바람직하게는 탄소수 1∼4의 알칸디일기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 2∼4의 알칸디일기이며, 더욱 바람직하게는 에틸렌기이다.A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and still more preferably an ethylene group.

식 (a-g1)로 나타내어지는 기(이하, 경우에 따라 「기(a-g1)」이라고 한다)에 있어서의 Aa42, Aa43 및 Aa44의 지방족 탄화수소기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 1-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기 등을 들 수 있다. 이들의 치환기로는, 히드록시기 및 탄소수 1∼6의 알콕시기 등을 들 수 있다.Examples of the aliphatic hydrocarbon group of A a42 , A a43 and A a44 in the group represented by the formula (a-g1) (hereinafter referred to as “group (a-g1)” in some cases) include a methylene group, an ethylene group, Propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, 1-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group , a 2-methylpropane-1,2-diyl group, and the like. As these substituents, a hydroxyl group, a C1-C6 alkoxy group, etc. are mentioned.

Xa42가 산소 원자인 기(a-g1)로는, 이하의 기 등을 들 수 있다. 이하의 예시에 있어서, * 및 **는 각각 결합손을 나타내고, **이 -O-CO-Ra42와의 결합손이다.Examples of the group (a-g1) in which X a42 is an oxygen atom include the following groups. In the following examples, * and ** each represent a bond, and ** denote a bond with -O-CO-R a42 .

Figure 112017086300234-pat00128
Figure 112017086300234-pat00128

Xa42가 카르보닐기인 기(a-g1)로는, 이하의 기 등을 들 수 있다.Examples of the group (a-g1) in which X a42 is a carbonyl group include the following groups.

Figure 112017086300234-pat00129
Figure 112017086300234-pat00129

Xa42가 카르보닐옥시기인 기(a-g1)로는, 이하의 기 등을 들 수 있다.Examples of the group (a-g1) in which X a42 is a carbonyloxy group include the following groups.

Figure 112017086300234-pat00130
Figure 112017086300234-pat00130

Xa42가 옥시카르보닐기인 기(a-g1)로는, 이하의 기 등을 들 수 있다.Examples of the group (a-g1) in which X a42 is an oxycarbonyl group include the following groups.

Figure 112017086300234-pat00131
Figure 112017086300234-pat00131

식 (a4-1)로 나타내어지는 구조 단위로는, 식 (a4-2) 및 식 (a4-3)으로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하다.As a structural unit represented by a formula (a4-1), the structural unit represented by a formula (a4-2) and a formula (a4-3) is preferable.

Figure 112017086300234-pat00132
Figure 112017086300234-pat00132

[식 (a4-2) 중,[In formula (a4-2),

Rf1은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R f1 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Af1은, 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타낸다.A f1 represents a C1-C6 alkanediyl group.

Rf2는, 불소 원자를 갖는 탄소수 1∼10의 탄화수소기를 나타낸다.]R f2 represents a C1-C10 hydrocarbon group having a fluorine atom.]

Af1의 알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등의 직쇄형 알칸디일기; 1-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 1-메틸부탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기형 알칸디일기를 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group for A f1 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5-diyl group. , straight-chain alkanediyl groups such as hexane-1,6-diyl groups; 1-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, 2- and branched alkanediyl groups such as methylbutane-1,4-diyl groups.

Rf2의 탄화수소기는, 지방족 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기를 포함하고, 지방족 탄화수소기는, 사슬식, 환식 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기를 포함한다. 지방족 탄화수소기로는, 알킬기, 지환식 탄화수소기가 바람직하다.The hydrocarbon group of R f2 includes an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group, and the aliphatic hydrocarbon group includes a chain type, a cyclic group, and a group formed by combining these groups. As an aliphatic hydrocarbon group, an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are preferable.

알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-옥틸기 및 2-에틸헥실기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group and 2-ethyl group. A hexyl group is mentioned.

지환식 탄화수소기로는, 단환식 또는 다환식의 어느 것이라도 되고, 단환식의 지환식 탄화수소기로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 및 시클로데실기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로는, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 2-알킬아다만탄-2-일기, 1-(아다만탄-1-일)알칸-1-일기, 노르보르닐기, 메틸노르보르닐기 및 이소보르닐기를 들 수 있다.The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, and a dimethylcyclohexyl group. Cycloalkyl groups, such as a sil group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and a cyclodecyl group, are mentioned. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a 2-alkyladamantan-2-yl group, a 1-(adamantan-1-yl)alkan-1-yl group, a norbornyl group; A methyl norbornyl group and an isobornyl group are mentioned.

Rf2의 불소 원자를 갖는 탄화수소기로는, 불소 원자를 갖는 알킬기, 불소 원자를 갖는 지환식 탄화수소기 등을 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon group having a fluorine atom for R f2 include an alkyl group having a fluorine atom, an alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom, and the like.

구체적으로는, 불소 원자를 갖는 알킬기로는, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1-디플루오로에틸기, 2,2-디플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 퍼플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로프로필기, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로프로필기, 퍼플루오로에틸메틸기, 1-(트리플루오로메틸)-1,2,2,2-테트라플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 1,1,2,2-테트라플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 퍼플루오로부틸기, 1,1-비스(트리플루오로)메틸-2,2,2-트리플루오로에틸기, 2-(퍼플루오로프로필)에틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로펜틸기, 퍼플루오로펜틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-데카플루오로펜틸기, 1,1-비스(트리플루오로메틸)-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필기, 퍼플루오로펜틸기, 2-(퍼플루오로부틸)에틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-데카플루오로헥실기, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-도데카플루오로헥실기, 퍼플루오로펜틸메틸기 및 퍼플루오로헥실기 등의 불화 알킬기를 들 수 있다.Specifically, examples of the alkyl group having a fluorine atom include a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 1,1-difluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group. , perfluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropyl group, perfluoroethylmethyl group, 1- (trifluoro methyl)-1,2,2,2-tetrafluoroethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,2,2-tetrafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluoro Robutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, perfluorobutyl group, 1,1-bis(trifluoro)methyl-2,2,2- Trifluoroethyl group, 2- (perfluoropropyl) ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentyl group, perfluoropentyl group, 1,1,2,2 ,3,3,4,4,5,5-decafluoropentyl group, 1,1-bis(trifluoromethyl)-2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, perfluoro Pentyl group, 2- (perfluorobutyl) ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-decafluorohexyl group, 1,1,2,2,3,3 and fluorinated alkyl groups such as ,4,4,5,5,6,6-dodecafluorohexyl group, perfluoropentylmethyl group and perfluorohexyl group.

불소 원자를 갖는 지환식 탄화수소기로는, 퍼플루오로시클로헥실기, 퍼플루오로아다만틸기 등의 불화 시클로알킬기를 들 수 있다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a fluorine atom include a fluorinated cycloalkyl group such as a perfluorocyclohexyl group and a perfluoroadamantyl group.

식 (a4-2)에 있어서는, Af1은, 탄소수 2∼4의 알칸디일기가 바람직하고, 에틸렌기가 보다 바람직하다.In the formula (a4-2), A f1 is preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group.

Rf2로는, 탄소수 1∼6의 불화알킬기가 바람직하다. As R f2 , a C1-C6 fluorinated alkyl group is preferable.

Figure 112017086300234-pat00133
Figure 112017086300234-pat00133

[식 (a4-3) 중,[In formula (a4-3),

Rf11은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R f11 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Af11은, 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타낸다.A f11 represents a C1-C6 alkanediyl group.

Af13은, 불소 원자를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼18의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A f13 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a fluorine atom.

Xf12는, 카르보닐옥시기 또는 옥시카르보닐기를 나타낸다.X f12 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.

Af14는, 불소 원자를 갖고 있어도 되는 탄소수 1∼17의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A f14 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a fluorine atom.

단, Af13 및 Af14의 적어도 1개는, 불소 원자를 갖는 지방족 탄화수소기를 나타낸다.]However, at least one of A f13 and A f14 represents an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom.]

Af11의 알칸디일기로는, Af1의 알칸디일기와 동일한 기를 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group for A f11 include the same groups as the alkanediyl group for A f1 .

Af13의 지방족 탄화수소기는, 사슬식 및 환식의 어느 것, 및, 이들이 조합됨으로써 형성되는 2가의 지방족 탄화수소기가 포함된다. 이 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 불포화 결합을 갖고 있어도 되지만, 바람직하게는 포화의 지방족 탄화수소기이다.The aliphatic hydrocarbon group of A f13 includes either a chain or a cyclic group, and a divalent aliphatic hydrocarbon group formed by combining them. Although this aliphatic hydrocarbon group may have a carbon-carbon unsaturated bond, Preferably it is a saturated aliphatic hydrocarbon group.

Af13의 불소 원자를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화수소기로는, 바람직하게는 불소 원자를 갖고 있어도 되는 지방족 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 퍼플루오로알칸디일기이다.The aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom as A f13 is preferably an aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom, and more preferably a perfluoroalkanediyl group.

불소 원자를 갖고 있어도 되는 2가의 사슬식의 지방족 탄화수소기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판디일기, 부탄디일기 및 펜탄디일기 등의 알칸디일기; 디플루오로메틸렌기, 퍼플루오로에틸렌기, 퍼플루오로프로판디일기, 퍼플루오로부탄디일기 및 퍼플루오로펜탄디일기 등의 퍼플루오로알칸디일기 등을 들 수 있다.Examples of the divalent chain aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom include alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group and pentanediyl group; and perfluoroalkanediyl groups such as difluoromethylene group, perfluoroethylene group, perfluoropropanediyl group, perfluorobutanediyl group and perfluoropentanediyl group.

불소 원자를 갖고 있어도 되는 2가의 환식의 지방족 탄화수소기는, 단환식 및 다환식의 어느 것이라도 된다. 단환식의 지방족 탄화수소기로는, 시클로헥산디일기 및 퍼플루오로시클로헥산디일기 등을 들 수 있다. 다환식의 2가의 지방족 탄화수소기로는, 아다만탄디일기, 노르보르난디일기, 퍼플루오로아다만탄디일기 등을 들 수 있다.The divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic aliphatic hydrocarbon group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent aliphatic hydrocarbon group include an adamantanediyl group, a norbornanediyl group, and a perfluoroadamantanediyl group.

Af14의 지방족 탄화수소기로는, 사슬식 및 환식의 어느 것, 및, 이들이 조합됨으로써 형성되는 지방족 탄화수소기가 포함된다. 이 지방족 탄화수소기는, 탄소-탄소 불포화 결합을 갖고 있어도 되지만, 바람직하게는 포화의 지방족 탄화수소기이다.Examples of the aliphatic hydrocarbon group for A f14 include either chain or cyclic, and an aliphatic hydrocarbon group formed by combining them. Although this aliphatic hydrocarbon group may have a carbon-carbon unsaturated bond, Preferably it is a saturated aliphatic hydrocarbon group.

Af14의 불소 원자를 갖고 있어도 되는 지방족 탄화수소기로는, 바람직하게는 불소 원자를 갖고 있어도 되는 지방족 포화 탄화수소기이다.The aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom as A f14 is preferably an aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.

불소 원자를 갖고 있어도 되는 사슬식의 지방족 탄화수소기로는, 트리플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 메틸기, 퍼플루오로에틸기, 1,1,1-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 에틸기, 퍼플루오로프로필기, 1,1,1,2,2-펜타플루오로프로필기, 프로필기, 퍼플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-노나플루오로펜틸기, 펜틸기, 헥실기, 퍼플루오로헥실기, 헵틸기, 퍼플루오로헵틸기, 옥틸기 및 퍼플루오로옥틸기 등을 들 수 있다.Examples of the chain aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, 1,1,1-trifluoroethyl group, and 1,1,2,2- Tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3, 4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, purple A luorohexyl group, a heptyl group, a perfluoroheptyl group, an octyl group, a perfluorooctyl group, etc. are mentioned.

불소 원자를 갖고 있어도 되는 환식의 지방족 탄화수소기는, 단환식 및 다환식의 어느 것이라도 된다. 단환식의 지방족 탄화수소기를 포함하는 기로는, 시클로프로필메틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸메틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 퍼플루오로시클로헥실기를 들 수 있다. 다환식의 지방족 탄화수소기를 포함하는 기로는, 아다만틸기, 아다만틸메틸기, 노르보르닐기, 노르보르닐메틸기, 퍼플루오로아다만틸기, 퍼플루오로아다만틸메틸기 등을 들 수 있다.The cyclic aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the group containing a monocyclic aliphatic hydrocarbon group include a cyclopropylmethyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a perfluorocyclohexyl group. Examples of the group containing a polycyclic aliphatic hydrocarbon group include an adamantyl group, an adamantylmethyl group, a norbornyl group, a norbornylmethyl group, a perfluoroadamantyl group, and a perfluoroadamantylmethyl group.

식 (a4-3)에 있어서는, Af11로는, 에틸렌기가 바람직하다.In formula (a4-3), as A f11 , an ethylene group is preferable.

Af13의 지방족 탄화수소기는, 탄소수 1∼6이 바람직하고, 2∼3이 더욱 바람직하다.The aliphatic hydrocarbon group of A f13 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 2 to 3 carbon atoms.

Af14의 지방족 탄화수소기는, 탄소수 3∼12가 바람직하고, 3∼10이 더욱 바람직하다. 그 중에서도, Af14는, 바람직하게는 탄소수 3∼12의 지환식 탄화수소기를 포함하는 기이고, 보다 바람직하게는, 시클로프로필메틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 노르보르닐기 및 아다만틸기이다.The aliphatic hydrocarbon group of A f14 preferably has 3 to 12 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group and an adamantyl group.

식 (a4-2)로 나타내어지는 구조 단위로는, 예를 들면, 이하에 나타내는 구조 단위 및 하기 구조 단위 중의 Rf1에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위를 들 수 있다.Examples of the structural unit represented by the formula (a4-2) include the structural units shown below and the structural units in which the methyl group corresponding to R f1 in the following structural units is substituted with a hydrogen atom.

Figure 112017086300234-pat00134
Figure 112017086300234-pat00134

식 (a4-3)으로 나타내어지는 구조 단위로는, 예를 들면, 이하에 나타내는 구조 단위 및 하기 구조 단위 중의 Rf11에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위를 들 수 있다.Examples of the structural unit represented by the formula (a4-3) include the structural units shown below and the structural units in which the methyl group corresponding to R f11 in the structural units is substituted with a hydrogen atom.

Figure 112017086300234-pat00135
Figure 112017086300234-pat00135

구조 단위(a4)로는, 예를 들면, 이하의 구조 단위 및 주쇄와 결합하고 있는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위도 들 수 있다.Examples of the structural unit (a4) include the following structural units and structural units in which a methyl group bonded to the main chain is substituted with a hydrogen atom.

Figure 112017086300234-pat00136
Figure 112017086300234-pat00136

수지(A)가, 구조 단위(a4)를 갖는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대하여, 1∼20몰%가 바람직하고, 2∼15몰%가 보다 바람직하며, 3∼10몰%가 더욱 바람직하다.When the resin (A) has the structural unit (a4), the content is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, with respect to all the structural units of the resin (A), 3 -10 mol% is more preferable.

<구조 단위(a5)><Structural unit (a5)>

구조 단위(a5)가 갖는 비탈리 탄화수소기로는, 직쇄, 분기 또는 환형의 탄화수소기를 들 수 있고, 바람직하게는, 지환식 탄화수소기를 들 수 있다. 구조 단위(a5)로는, 예를 들면, 식 (a5-1)로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.Examples of the non-departing hydrocarbon group in the structural unit (a5) include a straight-chain, branched or cyclic hydrocarbon group, and preferably an alicyclic hydrocarbon group. As a structural unit (a5), the structural unit represented by Formula (a5-1) is mentioned, for example.

Figure 112017086300234-pat00137
Figure 112017086300234-pat00137

[식 (a5-1) 중,[In formula (a5-1),

R51은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.

R52는, 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 당해 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 탄소수 1∼8의 지방족 탄화수소기로 치환되어 있어도 된다. 단, L55와의 결합 위치에 있는 탄소 원자에 결합하는 수소 원자는, 탄소수 1∼8의 지방족 탄화수소기로 치환되지 않는다.R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. However, the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the bonding position with L 55 is not substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

L55는, 단결합 또는 탄소수 1∼18의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다.]L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group.]

R52의 지환식 탄화수소기로는, 단환식 및 다환식의 어느 것이라도 된다. 단환식의 지환식 탄화수소기로는, 예를 들면, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기 및 시클로헥실기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로는, 예를 들면, 아다만틸기 및 노르보르닐기 등을 들 수 있다.The alicyclic hydrocarbon group for R 52 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.

탄소수 1∼8의 지방족 탄화수소기로는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기 및 2-에틸헥실기 등의 알킬기를 들 수 있다.Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and alkyl groups such as 2-ethylhexyl group.

치환기를 가진 지환식 탄화수소기로는, 3-메틸아다만틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group having a substituent include a 3-methyladamantyl group and the like.

R52는, 바람직하게는, 무치환의 탄소수 3∼18의 지환식 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는, 아다만틸기, 노르보르닐기 또는 시클로헥실기이다.R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.

L55의 2가의 포화 탄화수소기로는, 2가의 지방족 포화 탄화수소기 및 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 바람직하게는 2가의 지방족 포화 탄화수소기이다.Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L 55 include a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group.

2가의 지방족 포화 탄화수소기로는, 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판디일기, 부탄디일기 및 펜탄디일기 등의 알칸디일기를 들 수 있다.Examples of the divalent aliphatic saturated hydrocarbon group include alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group and pentanediyl group.

2가의 지환식 포화 탄화수소기는, 단환식 및 다환식의 어느 것이라도 된다. 단환식의 지환식 포화 탄화수소기로는, 시클로펜탄디일기 및 시클로헥산디일기 등의 시클로알칸디일기를 들 수 있다. 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기로는, 아다만탄디일기 및 노르보르난디일기 등을 들 수 있다.The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include cycloalkanediyl groups such as a cyclopentanediyl group and a cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantanediyl group and a norbornanediyl group.

포화 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기가, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환된 기로는, 예를 들면, 식 (L1-1)∼식 (L1-4)로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 하기 식 중, *는 산소 원자와의 결합손을 나타낸다.Examples of the group in which the methylene group contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with an oxygen atom or a carbonyl group include groups represented by formulas (L1-1) to (L1-4). In the following formula, * represents a bond with an oxygen atom.

Figure 112017086300234-pat00138
Figure 112017086300234-pat00138

[식 (L1-1) 중,[In formula (L1-1),

Xx1은, 카르보닐옥시기 또는 옥시카르보닐기를 나타낸다.X x1 represents a carbonyloxy group or an oxycarbonyl group.

Lx1은, 탄소수 1∼16의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.

Lx2는, 단결합 또는 탄소수 1∼15의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.

단, Lx1 및 Lx2의 합계 탄소수는, 16 이하이다.However, the total carbon number of L x1 and L x2 is 16 or less.

식 (L1-2) 중,In formula (L1-2),

Lx3은, 탄소수 1∼17의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.

Lx4는, 단결합 또는 탄소수 1∼16의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.

단, Lx3 및 Lx4의 합계 탄소수는, 17 이하이다.However, the total carbon number of L x3 and L x4 is 17 or less.

식 (L1-3) 중,In formula (L1-3),

Lx5는, 탄소수 1∼15의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.

Lx6 및 Lx7은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 탄소수 1∼14의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.

단, Lx5, Lx6 및 Lx7의 합계 탄소수는, 15 이하이다.However, the total number of carbon atoms of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.

식 (L1-4) 중,In formula (L1-4),

Lx8 및 Lx9는, 서로 독립적으로, 단결합 또는 탄소수 1∼12의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x8 and L x9 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.

Wx1은, 탄소수 3∼15의 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 나타낸다.W x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.

단, Lx8, Lx9 및 Wx1의 합계 탄소수는, 15 이하이다.]However, the total number of carbon atoms of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less.]

Lx1은, 바람직하게는, 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 메틸렌기 또는 에틸렌기이다.L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.

Lx2는, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 단결합이다.L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond.

Lx3은, 바람직하게는, 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기이다.L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lx4는, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기이다.L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lx5는, 바람직하게는, 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 메틸렌기 또는 에틸렌기이다.L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.

Lx6은, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 메틸렌기 또는 에틸렌기이다.L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.

Lx7은, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기이다.L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

Lx8은, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 단결합 또는 메틸렌기이다.L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.

Lx9는, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1∼8의 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 단결합 또는 메틸렌기이다.L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.

Wx1은, 바람직하게는, 탄소수 3∼10의 2가의 지환식 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 시클로헥산디일기 또는 아다만탄디일기이다.W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

식 (L1-1)로 나타내어지는 기로는, 예를 들면, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.As group represented by Formula (L1-1), the divalent group shown below is mentioned, for example.

Figure 112017086300234-pat00139
Figure 112017086300234-pat00139

식 (L1-2)로 나타내어지는 기로는, 예를 들면, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.As group represented by Formula (L1-2), the divalent group shown below is mentioned, for example.

Figure 112017086300234-pat00140
Figure 112017086300234-pat00140

식 (L1-3)으로 나타내어지는 기로는, 예를 들면, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.As group represented by Formula (L1-3), the divalent group shown below is mentioned, for example.

Figure 112017086300234-pat00141
Figure 112017086300234-pat00141

식 (L1-4)로 나타내어지는 기로는, 예를 들면, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.As group represented by Formula (L1-4), the divalent group shown below is mentioned, for example.

Figure 112017086300234-pat00142
Figure 112017086300234-pat00142

L55는, 바람직하게는, 단결합, 메틸렌기, 에틸렌기 또는 식 (L1-1)로 나타내어지는 기이고, 보다 바람직하게는, 단결합 또는 식 (L1-1)로 나타내어지는 기이다.L 55 is preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, or a group represented by the formula (L1-1), and more preferably a single bond or a group represented by the formula (L1-1).

구조 단위(a5-1)로는, 예를 들면, 이하에 나타내는 구조 단위 및 하기 구조 단위 중의 R51에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위를 들 수 있다.Examples of the structural unit (a5-1) include the structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R 51 in the structural units is substituted with a hydrogen atom.

Figure 112017086300234-pat00143
Figure 112017086300234-pat00143

수지(A)가, 구조 단위(a5)를 갖는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대하여, 1∼30몰%가 바람직하고, 2∼20몰%가 보다 바람직하며, 3∼15몰%가 더욱 바람직하다.When resin (A) has a structural unit (a5), 1-30 mol% is preferable with respect to all the structural units of resin (A), and, as for the content rate, 2-20 mol% is more preferable, 3 -15 mol% is more preferable.

수지(A)는, 상술한 구조 단위 이외의 구조 단위를 갖고 있어도 되고, 이러한 구조 단위로는, 당해 기술 분야에서 주지의 구조 단위를 들 수 있다.Resin (A) may have structural units other than the structural unit mentioned above, As such structural unit, a structural unit well-known in the said technical field is mentioned.

<수지(A)><Resin (A)>

수지(A)는, 바람직하게는, 구조 단위(a1)과 구조 단위(s)로 이루어지는 수지, 즉, 모노머(a1)과 모노머(s)의 공중합체이다.The resin (A) is preferably a resin composed of the structural unit (a1) and the structural unit (s), that is, a copolymer of the monomer (a1) and the monomer (s).

구조 단위(a1)은, 바람직하게는 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)(바람직하게는 시클로헥실기, 시클로펜틸기를 갖는 당해 구조 단위)로부터 선택되는 적어도 1종, 보다 바람직하게는 구조 단위(a1-1) 또는 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)(바람직하게는 시클로헥실기, 시클로펜틸기를 갖는 당해 구조 단위)로부터 선택되는 적어도 2종이다.The structural unit (a1) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural unit (a1-1) and the structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group or a cyclopentyl group), more preferably Preferably, it is at least 2 types selected from structural unit (a1-1) or structural unit (a1-1) and structural unit (a1-2) (preferably the said structural unit which has a cyclohexyl group and a cyclopentyl group).

구조 단위(s)는, 바람직하게는 구조 단위(a2) 및 구조 단위(a3)의 적어도 1종이다. 구조 단위(a2)는, 바람직하게는 식 (a2-1)로 나타내어지는 구조 단위이다. 구조 단위(a3)은, 바람직하게는 식 (a3-1-1)∼식 (a3-1-4)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a3-2-1)∼식 (a3-2-4) 및 식 (a3-4-1)∼식 (a3-4-2)로 나타내어지는 구조 단위로부터 선택되는 적어도 1종이다.The structural unit (s) is preferably at least one of a structural unit (a2) and a structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by formula (a2-1). The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by formulas (a3-1-1) to (a3-1-4), and formulas (a3-2-1) to (a3-2-4) and at least one selected from structural units represented by formulas (a3-4-1) to (a3-4-2).

수지(A)를 구성하는 각 구조 단위는, 1종만 또는 2종 이상을 조합하여 이용해도 되고, 이들 구조 단위를 유도하는 모노머를 이용하여, 공지의 중합법(예를 들면 라디칼 중합법)에 의해 제조할 수 있다. 수지(A)가 갖는 각 구조 단위의 함유율은, 중합에 이용하는 모노머의 사용량으로 조정할 수 있다.Each structural unit constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, using a monomer that induces these structural units, by a known polymerization method (for example, radical polymerization method) can be manufactured. The content rate of each structural unit which resin (A) has can be adjusted by the usage-amount of the monomer used for superposition|polymerization.

수지(A)의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는, 2,000 이상(보다 바람직하게는 2,500 이상, 더욱 바람직하게는 3,000 이상), 50,000 이하(보다 바람직하게는 30,000 이하, 더욱 바람직하게는 15,000 이하)이다. 본 명세서에서는, 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피로 실시예에 기재된 조건에 따라 구한 값이다.The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, still more preferably 3,000 or more), and 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, still more preferably 15,000 or less). . In this specification, a weight average molecular weight is the value calculated|required according to the conditions described in the Example by gel permeation chromatography.

<수지(A) 이외의 수지(X)><Resin (X) other than Resin (A)>

본 발명의 레지스트 조성물은, 수지(A) 이외의, 산 불안정기를 갖는 구조 단위(a1)을 포함하지 않는 수지(X)를 포함해도 된다. 이러한 수지(X)로는, 예를 들면, 구조 단위(t)를 포함하는 수지를 들 수 있다.The resist composition of the present invention may contain a resin (X) that does not contain the structural unit (a1) having an acid-labile group other than the resin (A). As such resin (X), resin containing a structural unit (t) is mentioned, for example.

수지(X)로는, 구조 단위(t)로서 예시한 구조 단위(a4)를 포함하는 수지가 바람직하다. 수지(X)에 있어서, 구조 단위(a4)의 함유율은, 수지(X)의 전체 구조 단위에 대하여, 40몰% 이상이 바람직하고, 45몰% 이상이 보다 바람직하며, 50몰% 이상이 더욱 바람직하다.As resin (X), resin containing the structural unit (a4) illustrated as structural unit (t) is preferable. In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 40 mol% or more, more preferably 45 mol% or more, and furthermore 50 mol% or more, based on all the structural units of the resin (X). desirable.

수지(X)가 추가로 갖고 있어도 되는 구조 단위로는, 산 불안정기를 갖지 않는 구조 단위(a2), 구조 단위(a3) 및 그 밖의 공지의 모노머에서 유래하는 구조 단위를 들 수 있다.Examples of the structural unit which the resin (X) may further include include a structural unit (a2) having no acid-labile group, a structural unit (a3), and a structural unit derived from other known monomers.

수지(X)의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는, 8,000 이상(보다 바람직하게는 10,000 이상), 80,000 이하(보다 바람직하게는 60,000 이하)이다. 이러한 수지(X)의 중량 평균 분자량의 측정 수단은, 수지(A)의 경우와 동일하다.The weight average molecular weight of the resin (X) is preferably 8,000 or more (more preferably 10,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The measuring means of such a weight average molecular weight of resin (X) is the same as that in the case of resin (A).

레지스트 조성물이 수지(X)를 포함하는 경우, 그 함유량은, 수지(A) 100질량부에 대하여, 바람직하게는 1∼60질량부이고, 보다 바람직하게는 1∼50질량부이고, 더욱 바람직하게는 1∼40질량부이며, 보다 더 바람직하게는 1∼20질량부이며, 특히 바람직하게는 1.5∼10질량부이다.When the resist composition contains the resin (X), the content thereof is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, further preferably 1 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A). is 1-40 mass parts, More preferably, it is 1-20 mass parts, Especially preferably, it is 1.5-10 mass parts.

수지(A)와 수지(X)의 합계 함유율은, 레지스트 조성물의 고형분에 대하여, 80질량% 이상 99질량% 이하가 바람직하다. 레지스트 조성물의 고형분 및 이에 대한 수지의 함유율은, 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지의 분석 수단으로 측정할 수 있다.The total content of the resin (A) and the resin (X) is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less with respect to the solid content of the resist composition. The solid content of the resist composition and the resin content thereof can be measured by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

<용제(E)><Solvent (E)>

용제(E)의 함유율은, 레지스트 조성물 중, 통상 90질량% 이상이고, 바람직하게는 92질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 94질량% 이상이며, 99.9질량% 이하이고, 바람직하게는 99질량% 이하이다. 용제(E)의 함유율은, 예를 들면 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지의 분석 수단으로 측정할 수 있다.The content of the solvent (E) in the resist composition is usually 90% by mass or more, preferably 92% by mass or more, more preferably 94% by mass or more, 99.9% by mass or less, preferably 99% by mass or more. is below. The content rate of a solvent (E) can be measured by well-known analytical means, such as liquid chromatography or gas chromatography, for example.

용제(E)로는, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르에스테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 락트산 에틸, 아세트산 부틸, 아세트산 아밀 및 피루브산 에틸 등의 에스테르류; 아세톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논 및 시클로헥사논 등의 케톤류; γ-부티로락톤 등의 환형 에스테르류; 등을 들 수 있다. 용제(E)의 1종을 단독으로 함유해도 되고, 2종 이상을 함유해도 된다.Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; esters such as ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; and the like. One type of solvent (E) may be contained individually, and 2 or more types may be contained.

<??처(C)><??wife (C)>

??처(C)는, 염기성의 함질소 유기 화합물 또는 산 발생제로부터 발생하는 산보다 산성도가 낮은 산을 발생하는 염을 들 수 있다. ??처(C)의 함유량은, 레지스트 조성물의 고형분량을 기준으로, 0.01∼5질량% 정도인 것이 바람직하다.A salt which generates an acid with lower acidity than the acid which generate|occur|produces from a basic nitrogen-containing organic compound or an acid generator is mentioned as for (C). It is preferable that the content of the material (C) is about 0.01 to 5 mass% based on the solid content of the resist composition.

<염기성의 함질소 유기 화합물><Basic nitrogen-containing organic compound>

염기성의 함질소 유기 화합물로는, 아민 및 암모늄염을 들 수 있다. 아민으로는, 지방족 아민 및 방향족 아민을 들 수 있다. 지방족 아민으로는, 제 1 급 아민, 제 2 급 아민 및 제 3 급 아민을 들 수 있다.An amine and an ammonium salt are mentioned as a basic nitrogen-containing organic compound. Examples of the amine include aliphatic amines and aromatic amines. As an aliphatic amine, a primary amine, a secondary amine, and a tertiary amine are mentioned.

아민으로는, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, 아닐린, 디이소프로필아닐린, 2-, 3- 또는 4-메틸아닐린, 4-니트로아닐린, N-메틸아닐린, N,N-디메틸아닐린, 디페닐아민, 헥실아민, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 디부틸아민, 디펜틸아민, 디헥실아민, 디헵틸아민, 디옥틸아민, 디노닐아민, 디데실아민, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리펜틸아민, 트리헥실아민, 트리헵틸아민, 트리옥틸아민, 트리노닐아민, 트리데실아민, 메틸디부틸아민, 메틸디펜틸아민, 메틸디헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 메틸디헵틸아민, 메틸디옥틸아민, 메틸디노닐아민, 메틸디데실아민, 에틸디부틸아민, 에틸디펜틸아민, 에틸디헥실아민, 에틸디헵틸아민, 에틸디옥틸아민, 에틸디노닐아민, 에틸디데실아민, 디시클로헥실메틸아민, 트리스[2-(2-메톡시에톡시)에틸]아민, 트리이소프로판올아민, 에틸렌디아민, 테트라메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디메틸디페닐메탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디에틸디페닐메탄, 2,2'-메틸렌비스아닐린, 이미다졸, 4-메틸이미다졸, 피리딘, 4-메틸피리딘, 1,2-디(2-피리딜)에탄, 1,2-디(4-피리딜)에탄, 1,2-디(2-피리딜)에텐, 1,2-디(4-피리딜)에텐, 1,3-디(4-피리딜)프로판, 1,2-디(4-피리딜옥시)에탄, 디(2-피리딜)케톤, 4,4'-디피리딜술파이드, 4,4'-디피리딜디술파이드, 2,2'-디피리딜아민, 2,2'-디피콜릴아민, 비피리딘 등을 들 수 있고, 바람직하게는 디이소프로필아닐린을 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 2,6-디이소프로필아닐린을 들 수 있다.Examples of the amine include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-, 3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N,N-dimethylaniline , diphenylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethyl Amine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, triheptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexyl Amine, methyldicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldi Octylamine, ethyldinonylamine, ethyl didecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]amine, triisopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldi Phenylmethane, 2,2'-methylenebisaniline, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di(2-pyridyl)ethane, 1,2-di(4- Pyridyl) ethane, 1,2-di(2-pyridyl)ethene, 1,2-di(4-pyridyl)ethene, 1,3-di(4-pyridyl)propane, 1,2-di( 4-pyridyloxy) ethane, di (2-pyridyl) ketone, 4,4'-dipyridyl sulfide, 4,4'-dipyridyl disulfide, 2,2'-dipyridylamine, 2, 2'-dipicolylamine, bipyridine, etc. are mentioned, Preferably diisopropylaniline is mentioned, More preferably, 2,6-diisopropylaniline is mentioned.

암모늄염으로는, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라이소프로필암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드, 테트라헥실암모늄히드록시드, 테트라옥틸암모늄히드록시드, 페닐트리메틸암모늄히드록시드, 3-(트리플루오로메틸)페닐트리메틸암모늄히드록시드, 테트라-n-부틸암모늄살리실레이트 및 콜린 등을 들 수 있다.Examples of the ammonium salt include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, 3-( trifluoromethyl)phenyltrimethylammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, and choline.

<산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 낮은 산을 발생하는 염><A salt that generates an acid having a lower acidity than that generated from an acid generator>

산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생하는 염은, 산 발생제로서 염(I)만을 함유하는 경우에 있어서는, 염(I)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생하는 염을 의미하고, 산 발생제로서 염(I) 및 이것 이외의 산 발생제인 산 발생제(B)를 함유하는 경우에 있어서는, 염(I) 및 산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생하는 염을 의미한다.A salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator, when containing only salt (I) as the acid generator, generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the salt (I) means, and in the case of containing the salt (I) as the acid generator and the acid generator (B) which is an acid generator other than this, the acidity is higher than that of the acid generated from the salt (I) and the acid generator (B). A salt that generates a weak acid.

산 발생제로부터 발생하는 산보다 산성도가 낮은 산을 발생하는 염에 있어서의 산성도는, 산해리 정수(pKa)로 나타내어진다. 산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 낮은 산을 발생하는 염은, 당해 염으로부터 발생하는 산의 산해리 정수가, 통상 -3<pKa인 염이고, 바람직하게는 -1<pKa<7인 염이며, 보다 바람직하게는 0<pKa<5인 염이다.The acidity in the salt which generate|occur|produces the acid lower in acidity than the acid which generate|occur|produces from the acid generator is represented by the acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a lower acidity than the acid generated from the acid generator is a salt in which the acid dissociation constant of the acid generated from the salt is usually -3<pKa, preferably -1<pKa<7. , more preferably 0<pKa<5.

산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 낮은 산을 발생하는 염으로는, 하기 식으로 나타내어지는 염, 그리고 일본 공개특허 특개2012-229206호 공보, 일본 공개특허 특개2012-6908호 공보, 일본 공개특허 특개2012-72109호 공보, 일본 공개특허 특개2011-39502호 공보 및 일본 공개특허 특개2011-191745호 공보 기재의 염을 들 수 있다.As a salt which generate|occur|produces the acid lower in acidity than the acid which generate|occur|produces from the acid generator, the salt represented by the following formula, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-229206, Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-6908, Unexamined-Japanese-Patent No. The salts of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-72109, Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-39502, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-191745 are mentioned.

Figure 112017086300234-pat00144
Figure 112017086300234-pat00144

Figure 112017086300234-pat00145
Figure 112017086300234-pat00145

Figure 112017086300234-pat00146
Figure 112017086300234-pat00146

Figure 112017086300234-pat00147
Figure 112017086300234-pat00147

<그 밖의 성분(F)><Other components (F)>

본 발명의 레지스트 조성물은, 필요에 따라, 상술한 성분 이외의 성분(이하 「그 밖의 성분(F)」라고 하는 경우가 있다)을 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 성분(F)에 특별히 한정은 없으며, 레지스트 분야에서 공지의 첨가제, 예를 들면, 증감제, 용해 억제제, 계면 활성제, 안정제, 염료 등을 이용할 수 있다.The resist composition of the present invention may contain components other than the above-mentioned components (hereinafter sometimes referred to as "other components (F)") as needed. The other component (F) is not particularly limited, and additives known in the resist field, for example, a sensitizer, a dissolution inhibitor, a surfactant, a stabilizer, a dye, and the like can be used.

<레지스트 조성물의 조제><Preparation of resist composition>

본 발명의 레지스트 조성물은, 수지(A) 및 본 발명의 염(I), 및, 필요에 따라 수지(X), 산 발생제(B), 용제(E), ??처(C), 및 그 밖의 성분(F)를 혼합함으로써 조제할 수 있다. 혼합 순서는 임의이며, 특별히 한정되는 것은 아니다. 혼합할 때의 온도는, 10∼40℃에서, 수지 등의 종류나 수지 등의 용제(E)에 대한 용해도 등에 따라 적절한 온도를 선택할 수 있다. 혼합 시간은, 혼합 온도에 따라, 0.5∼24시간 중에서 적절한 시간을 선택할 수 있다. 한편, 혼합 수단도 특별히 제한은 없으며, 교반 혼합 등을 이용할 수 있다.The resist composition of the present invention comprises a resin (A) and a salt (I) of the present invention, and, if necessary, a resin (X), an acid generator (B), a solvent (E), a dissolving agent (C), and It can prepare by mixing another component (F). The mixing order is arbitrary and is not specifically limited. The temperature at the time of mixing is 10-40 degreeC, and an appropriate temperature can be selected according to the kind of resin, etc., solubility with respect to the solvent (E), etc. of resin. As for the mixing time, an appropriate time can be selected from 0.5 to 24 hours according to the mixing temperature. On the other hand, there is no restriction|limiting in particular also in a mixing means, A stirring mixing etc. can be used.

각 성분을 혼합한 후에는, 공경 0.003∼0.2㎛ 정도의 필터를 이용하여 여과하는 것이 바람직하다.After mixing each component, it is preferable to filter using a filter with a pore diameter of about 0.003-0.2 micrometer.

<레지스트 패턴의 제조 방법><Method for producing resist pattern>

본 발명의 레지스트 패턴의 제조 방법은,The method for producing a resist pattern of the present invention comprises:

(1) 본 발명의 레지스트 조성물을 기판 상에 도포하는 공정,(1) a step of applying the resist composition of the present invention on a substrate;

(2) 도포 후의 조성물을 건조시켜 조성물층을 형성하는 공정,(2) drying the composition after application to form a composition layer;

(3) 조성물층을 노광하는 공정,(3) exposing the composition layer;

(4) 노광 후의 조성물층을 가열하는 공정, 및(4) heating the composition layer after exposure, and

(5) 가열 후의 조성물층을 현상하는 공정을 포함한다.(5) The process of developing the composition layer after heating is included.

레지스트 조성물을 기판 상에 도포하기 위해서는, 스핀 코터 등, 통상, 이용되는 장치에 의해 행할 수 있다. 기판으로는, 실리콘 웨이퍼 등의 무기 기판을 들 수 있다. 레지스트 조성물을 도포하기 전에, 기판을 세정해도 되고, 기판 상에 반사 방지막 등이 형성되어 있어도 된다.In order to apply|coat a resist composition on a board|substrate, it can carry out with a normally used apparatus, such as a spin coater. Inorganic substrates, such as a silicon wafer, are mentioned as a board|substrate. Before apply|coating a resist composition, a board|substrate may be wash|cleaned, and the antireflection film etc. may be formed on the board|substrate.

도포 후의 조성물을 건조함으로써, 용제를 제거하고, 조성물층을 형성한다. 건조는, 예를 들면, 핫 플레이트 등의 가열 장치를 이용하여 용제를 증발시키는 것(소위 프리베이크)에 의해 행하거나, 또는 감압 장치를 이용하여 행한다. 가열 온도는, 50∼200℃인 것이 바람직하고, 가열 시간은, 10∼180초간인 것이 바람직하다. 또한, 감압 건조할 때의 압력은, 1∼1.0×105Pa 정도인 것이 바람직하다.By drying the composition after application|coating, a solvent is removed and a composition layer is formed. Drying is performed, for example by evaporating a solvent using heating apparatuses, such as a hotplate (so-called prebaking), or performing using a pressure reduction apparatus. It is preferable that heating temperature is 50-200 degreeC, and, as for heating time, it is preferable that it is 10-180 second. Moreover, it is preferable that the pressure at the time of drying under reduced pressure is about 1-1.0x10 5 Pa.

얻어진 조성물층에, 통상, 노광기를 이용하여 노광한다. 노광기는, 액침 노광기라도 된다. 노광 광원으로는, KrF 엑시머 레이저(파장 248㎚), ArF 엑시머 레이저(파장 193㎚), F2 엑시머 레이저(파장 157㎚)와 같은 자외역의 레이저광을 방사하는 것, 고체 레이저 광원(YAG 또는 반도체 레이저 등)으로부터의 레이저광을 파장 변환하여 원자외역 또는 진공 자외역의 고조파 레이저광을 방사하는 것, 전자선이나, 초자외광(EUV)을 조사하는 것 등, 다양한 것을 이용할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 이들 방사선을 조사하는 것을 총칭하여 「노광」이라고 하는 경우가 있다. 노광시, 통상, 요구되는 패턴에 상당하는 마스크를 개재하여 노광이 행하여진다. 노광 광원이 전자선인 경우에는, 마스크를 이용하지 않고 직접 묘화에 의해 노광해도 된다.The obtained composition layer is exposed using an exposure machine normally. The exposure machine may be an immersion exposure machine. Examples of the exposure light source include: KrF excimer laser (wavelength: 248 nm), ArF excimer laser (wavelength: 193 nm), F 2 excimer laser (wavelength: 157 nm); A variety of methods can be used, such as wavelength conversion of laser light from a semiconductor laser, etc. to emit harmonic laser light in the deep ultraviolet region or vacuum ultraviolet region, or irradiation with electron beams or ultra-ultraviolet light (EUV). In addition, in this specification, irradiating these radiations may be generically called "exposure". At the time of exposure, exposure is normally performed through the mask corresponded to the requested|required pattern. When an exposure light source is an electron beam, you may expose by drawing directly, without using a mask.

노광 후의 조성물층을, 산 불안정기에 있어서의 탈보호 반응을 촉진하기 위해 가열 처리(소위 포스트 익스포저 베이크)를 행한다. 가열 온도는, 통상 50∼200℃ 정도, 바람직하게는 70∼150℃ 정도이다.The composition layer after exposure is heat-treated (so-called post-exposure bake) in order to accelerate the deprotection reaction in the acid labile group. Heating temperature is about 50-200 degreeC normally, Preferably it is about 70-150 degreeC.

가열 후의 조성물층을, 통상, 현상 장치를 이용하고, 현상액을 이용하여 현상한다. 현상 방법으로는, 딥법, 패들법, 스프레이법, 다이나믹 디스펜스법 등을 들 수 있다. 현상 온도는, 예를 들면, 5∼60℃인 것이 바람직하고, 현상 시간은, 예를 들면, 5∼300초간인 것이 바람직하다. 현상액의 종류를 이하와 같이 선택함으로써, 포지티브형 레지스트 패턴 또는 네거티브형 레지스트 패턴을 제조할 수 있다.The composition layer after heating is usually developed using a developing device and a developing solution. As a developing method, the dip method, the paddle method, the spray method, the dynamic dispensing method, etc. are mentioned. It is preferable that image development temperature is 5-60 degreeC, for example, and it is preferable that image development time is 5-300 second, for example. A positive type resist pattern or a negative type resist pattern can be manufactured by selecting the kind of developing solution as follows.

본 발명의 레지스트 조성물로부터 포지티브형 레지스트 패턴을 제조하는 경우에는, 현상액으로서 알칼리 현상액을 이용한다. 알칼리 현상액은, 이 분야에서 이용되는 각종 알칼리성 수용액이면 된다. 예를 들면, 테트라메틸암모늄히드록시드나 (2-히드록시에틸)트리메틸암모늄히드록시드(통칭 콜린)의 수용액 등을 들 수 있다. 알칼리 현상액에는, 계면 활성제가 포함되어 있어도 된다.When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer may be various alkaline aqueous solutions used in this field. For example, the aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide and (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (common name choline), etc. are mentioned. The alkali developer may contain surfactant.

현상 후 레지스트 패턴을 초순수로 세정하고, 이어서, 기판 및 패턴 상에 남은 물을 제거하는 것이 바람직하다.It is preferable to wash the resist pattern after development with ultrapure water, and then to remove the water remaining on the substrate and the pattern.

본 발명의 레지스트 조성물로부터 네거티브형 레지스트 패턴을 제조하는 경우에는, 현상액으로서 유기 용제를 포함하는 현상액(이하 「유기계 현상액」이라고 하는 경우가 있다)을 이용한다.When producing a negative resist pattern from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter, sometimes referred to as an "organic developer") is used as the developer.

유기계 현상액에 포함되는 유기 용제로는, 2-헥사논, 2-헵타논 등의 케톤 용제; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르에스테르 용제; 아세트산 부틸 등의 에스테르 용제; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르 용제; N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드 용제; 아니솔 등의 방향족 탄화수소 용제 등을 들 수 있다.Examples of the organic solvent contained in the organic developer include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycol ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether; amide solvents such as N,N-dimethylacetamide; Aromatic hydrocarbon solvents, such as anisole, etc. are mentioned.

유기계 현상액 중, 유기 용제의 함유율은, 90질량% 이상 100질량% 이하가 바람직하고, 95질량% 이상 100질량% 이하가 보다 바람직하며, 실질적으로 유기 용제만인 것이 더욱 바람직하다.In organic developing solution, 90 mass % or more and 100 mass % or less are preferable, as for the content rate of an organic solvent, 95 mass % or more and 100 mass % or less are more preferable, It is still more preferable that it is substantially only an organic solvent.

그 중에서도, 유기계 현상액으로는, 아세트산 부틸 및/또는 2-헵타논을 포함하는 현상액이 바람직하다. 유기계 현상액 중, 아세트산 부틸 및 2-헵타논의 합계 함유율은, 50질량% 이상 100질량% 이하가 바람직하고, 90질량% 이상 100질량% 이하가 보다 바람직하며, 실질적으로 아세트산 부틸 및/또는 2-헵타논만인 것이 더욱 바람직하다.Especially, as an organic developing solution, the developing solution containing butyl acetate and/or 2-heptanone is preferable. In the organic developer, the total content of butyl acetate and 2-heptanone is preferably 50 mass % or more and 100 mass % or less, more preferably 90 mass % or more and 100 mass % or less, and substantially butyl acetate and/or 2-heptanone. It is more preferable that it is only Thanon.

유기계 현상액에는, 계면 활성제가 포함되어 있어도 된다. 또한, 유기계 현상액에는, 미량의 수분이 포함되어 있어도 된다.The organic developer may contain a surfactant. In addition, a trace amount of water may be contained in the organic developer.

현상시, 유기계 현상액과는 다른 종류의 용제로 치환함으로써, 현상을 정지시켜도 된다.At the time of development, you may stop development by substituting with the solvent of a different kind from an organic-type developing solution.

현상 후의 레지스트 패턴을 린스액으로 세정하는 것이 바람직하다. 린스액으로는, 레지스트 패턴을 용해시키지 않는 것이면 특별히 제한은 없으며, 일반적인 유기 용제를 포함하는 용액을 사용할 수 있고, 바람직하게는 알코올 용제 또는 에스테르 용제이다.It is preferable to wash the resist pattern after development with a rinse solution. The rinse liquid is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and an alcohol solvent or an ester solvent is preferable.

세정 후에는, 기판 및 패턴 상에 남은 린스액을 제거하는 것이 바람직하다.After cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.

<용도><Use>

본 발명의 레지스트 조성물은, KrF 엑시머 레이저 노광용의 레지스트 조성물, ArF 엑시머 레이저 노광용의 레지스트 조성물, 전자선(EB) 노광용의 레지스트 조성물 또는 EUV 노광용의 레지스트 조성물로서 적합하고, ArF 엑시머 레이저 노광용의 레지스트 조성물로서 보다 적합하며, 반도체의 미세 가공에 유용하다.The resist composition of the present invention is suitable as a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure, and is more suitable as a resist composition for ArF excimer laser exposure. It is suitable and useful for microfabrication of semiconductors.

[실시예][Example]

실시예를 들면, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 예 중, 함유량 내지 사용량을 나타내는 「%」 및 「부」는, 특기하지 않는 한 질량 기준이다.By way of Examples, the present invention will be more specifically described. In the examples, "%" and "part" indicating the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.

중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피에 의해 구한 값이다. 또한, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피의 분석 조건은 하기와 같다.A weight average molecular weight is the value calculated|required by gel permeation chromatography. In addition, the analysis conditions of the gel permeation chromatography are as follows.

칼럼: TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn(토소사 제조)Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn (manufactured by Tosoh Corporation)

용리액: 테트라히드로푸란Eluent: tetrahydrofuran

유량: 1.0mL/minFlow rate: 1.0 mL/min

검출기: RI 검출기Detector: RI Detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

주입량: 100μLInjection volume: 100 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌(토소사 제조)Molecular weight standard: standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)

화합물의 구조는, 질량 분석(LC는 Agilent 제조 1100형(型), MASS는 Agilent 제조 LC/MSD형)을 이용하여, 분자 이온 피크를 측정함으로써 확인하였다. 이하의 실시예에서는 이 분자 이온 피크의 값을 「MASS」로 나타낸다.The structure of the compound was confirmed by measuring molecular ion peaks using mass spectrometry (LC: Model 1100 manufactured by Agilent, MASS was LC/MSD type manufactured by Agilent). In the following examples, the value of this molecular ion peak is expressed as "MASS".

[실시예 1] 식 (I-2)로 나타내어지는 염의 합성[Example 1] Synthesis of salt represented by formula (I-2)

Figure 112017086300234-pat00148
Figure 112017086300234-pat00148

식 (I-2-a)로 나타내어지는 염 2.98부, 식 (I-2-b)로 나타내어지는 화합물 0.63부 및 모노클로로벤젠 24부를 반응기에 넣고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 식 (I-2-c)로 나타내어지는 벤조산 구리 0.03부를 첨가하고, 100℃ 정도까지 승온한 후, 동(同) 온도에서 1시간 교반하였다. 얻어진 반응물을 농축한 후, 얻어진 농축물에, 클로로포름 45부 및 이온 교환수 15부를 가하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 가하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 회수된 유기층을 여과한 후, 얻어진 여과액을 농축하였다. 얻어진 농축물에, tert-부틸메틸에테르 20부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-2-d)로 나타내어지는 염 1.59부를 얻었다.2.98 parts of the salt represented by the formula (I-2-a), 0.63 parts of the compound represented by the formula (I-2-b), and 24 parts of monochlorobenzene were put into a reactor, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. Then, after adding 0.03 parts of copper benzoate represented by Formula (I-2-c) and heating up to about 100 degreeC, it stirred at the same temperature for 1 hour. After concentrating the obtained reaction product, 45 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added to the obtained concentrate, followed by stirring at 23°C for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. 15 parts of ion-exchange water was added to the obtained organic layer, and it stirred at 23 degreeC for 30 minute(s). Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the obtained filtrate was concentrated. To the obtained concentrate, 20 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. After dissolving the obtained concentrate in acetonitrile, 1.59 parts of salts represented by Formula (I-2-d) were obtained by concentrating.

Figure 112017086300234-pat00149
Figure 112017086300234-pat00149

식 (I-2-d)로 나타내어지는 염 0.63부, 식 (I-2-e)로 나타내어지는 화합물 0.26부 및 아세토니트릴 15부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 트리에틸아민 0.12부를 넣고, 75℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 23℃까지 냉각하고, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 20부를 가하여, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물을 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 추가로 5회 반복하였다. 회수된 유기층에 활성탄 0.5부를 가하여 교반하고, 여과하였다. 얻어진 여과액을 농축하고, 아세트산 에틸 10부를 가하여 교반하고, 상청액을 제거하였다. 얻어진 잔사에 tert-부틸메틸에테르 10부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-2)로 나타내어지는 염 0.33부를 얻었다.0.63 parts of the salt represented by the formula (I-2-d), 0.26 parts of the compound represented by the formula (I-2-e), and 15 parts of acetonitrile were mixed, followed by stirring at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.12 parts of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 75°C for 3 hours. The obtained mixture was cooled to 23 degreeC, 30 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchange water were added, and it stirred at 23 degreeC for 30 minutes. The obtained mixture was left still and liquid-separated, and the organic layer was obtained. This washing operation was further repeated 5 times. 0.5 parts of activated carbon was added to the recovered organic layer, stirred, and filtered. The obtained filtrate was concentrated, and 10 parts of ethyl acetate was added and stirred, and the supernatant was removed. To the obtained residue, 10 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. After dissolving the obtained concentrate in acetonitrile, 0.33 parts of salts represented by Formula (I-2) were obtained by concentrating.

MASS(ESI(+)Spectrum): M+ 507.3MASS(ESI(+)Spectrum): M + 507.3

MASS(ESI(-)Spectrum): M- 339.1MASS(ESI(-)Spectrum): M - 339.1

[실시예 2] 식 (I-3)으로 나타내어지는 염의 합성[Example 2] Synthesis of salt represented by formula (I-3)

Figure 112017086300234-pat00150
Figure 112017086300234-pat00150

식 (I-3-a)로 나타내어지는 염 2.91부, 식 (I-2-b)로 나타내어지는 화합물 0.63부 및 모노클로로벤젠 24부를 반응기에 넣고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-2-c)로 나타내어지는 벤조산 구리 0.03부를 가하고, 100℃ 정도까지 승온한 후, 동 온도에서 1시간 교반하였다. 얻어진 반응물을 농축하였다. 얻어진 농축물에, 클로로포름 45부 및 이온 교환수 15부를 가하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 가하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 회수된 유기층을 여과한 후, 얻어진 여과액을 농축하였다. 얻어진 농축물에, tert-부틸메틸에테르 20부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-3-d)로 나타내어지는 염 1.72부를 얻었다.2.91 parts of the salt represented by the formula (I-3-a), 0.63 parts of the compound represented by the formula (I-2-b) and 24 parts of monochlorobenzene were placed in a reactor, and stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 0.03 parts of copper benzoate represented by Formula (I-2-c) to the obtained mixture and heating up to about 100 degreeC, it stirred at the same temperature for 1 hour. The resulting reaction was concentrated. 45 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added to the obtained concentrate, and it stirred at 23 degreeC for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. 15 parts of ion-exchange water was added to the obtained organic layer, and it stirred at 23 degreeC for 30 minute(s). Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the obtained filtrate was concentrated. To the obtained concentrate, 20 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. After dissolving the obtained concentrate in acetonitrile, 1.72 parts of salts represented by Formula (I-3-d) were obtained by concentrating.

Figure 112017086300234-pat00151
Figure 112017086300234-pat00151

식 (I-3-d)로 나타내어지는 염 0.61부, 식 (I-2-e)로 나타내어지는 화합물 0.26부 및 아세토니트릴 15부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 트리에틸아민 0.12부를 넣고, 75℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 23℃까지 냉각하고, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 20부를 가하여, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물을 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 추가로 5회 반복하였다. 회수된 유기층에 활성탄 0.5부를 가하여 교반하고, 여과하였다. 얻어진 여과액을 농축하고, 아세트산 에틸 10부를 가하여 교반하고, 상청액을 제거하였다. 얻어진 잔사에 tert-부틸메틸에테르 10부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-3)으로 나타내어지는 염 0.42부를 얻었다.0.61 parts of the salt represented by the formula (I-3-d), 0.26 parts of the compound represented by the formula (I-2-e), and 15 parts of acetonitrile were mixed, followed by stirring at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.12 parts of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 75°C for 3 hours. The obtained mixture was cooled to 23 degreeC, 30 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchange water were added, and it stirred at 23 degreeC for 30 minutes. The obtained mixture was left still and liquid-separated, and the organic layer was obtained. This washing operation was further repeated 5 times. 0.5 parts of activated carbon was added to the recovered organic layer, stirred, and filtered. The obtained filtrate was concentrated, and 10 parts of ethyl acetate was added and stirred, and the supernatant was removed. To the obtained residue, 10 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. After the obtained concentrate was dissolved in acetonitrile, 0.42 parts of a salt represented by the formula (I-3) was obtained by concentration.

MASS(ESI(+)Spectrum): M+ 507.3MASS(ESI(+)Spectrum): M + 507.3

MASS(ESI(-)Spectrum): M- 323.0MASS(ESI(-)Spectrum): M - 323.0

[실시예 3] 식 (I-18)로 나타내어지는 염의 합성[Example 3] Synthesis of salt represented by formula (I-18)

Figure 112017086300234-pat00152
Figure 112017086300234-pat00152

식 (I-18-a)로 나타내어지는 염 2.98부, 식 (I-2-b)로 나타내어지는 화합물 0.63부 및 모노클로로벤젠 24부를 반응기에 넣고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-2-c)로 나타내어지는 벤조산 구리 0.03부를 첨가하고, 100℃ 정도까지 승온한 후, 동 온도에서 1시간 교반하였다. 얻어진 반응물을 농축하였다. 얻어진 농축물에, 클로로포름 45부 및 이온 교환수 15부를 가하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 가하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 회수된 유기층을 여과한 후, 얻어진 여과액을 농축하였다. 얻어진 농축물에, tert-부틸메틸에테르 20부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-18-d)로 나타내어지는 염 1.62부를 얻었다.2.98 parts of the salt represented by the formula (I-18-a), 0.63 parts of the compound represented by the formula (I-2-b), and 24 parts of monochlorobenzene were put into a reactor, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 0.03 parts of copper benzoate represented by Formula (I-2-c) to the obtained mixture and heating up to about 100 degreeC, it stirred at the same temperature for 1 hour. The resulting reaction was concentrated. 45 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added to the obtained concentrate, and it stirred at 23 degreeC for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. 15 parts of ion-exchange water was added to the obtained organic layer, and it stirred at 23 degreeC for 30 minute(s). Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the obtained filtrate was concentrated. To the obtained concentrate, 20 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. The obtained concentrate was dissolved in acetonitrile and then concentrated to obtain 1.62 parts of a salt represented by the formula (I-18-d).

Figure 112017086300234-pat00153
Figure 112017086300234-pat00153

식 (I-18-d)로 나타내어지는 염 0.63부, 식 (I-2-e)로 나타내어지는 화합물 0.26부 및 아세토니트릴 15부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 트리에틸아민 0.12부를 넣고, 75℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 23℃까지 냉각하고, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 20부를 가하여, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물을 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 추가로 5회 반복하였다. 회수된 유기층에 활성탄 0.5부를 가하여 교반하고, 여과하였다. 얻어진 여과액을 농축하고, 아세트산 에틸 10부를 가하여 교반하고, 상청액을 제거하였다. 얻어진 잔사에 tert-부틸메틸에테르 10부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-18)로 나타내어지는 염 0.39부를 얻었다.0.63 parts of the salt represented by the formula (I-18-d), 0.26 parts of the compound represented by the formula (I-2-e), and 15 parts of acetonitrile were mixed, and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.12 parts of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 75°C for 3 hours. The obtained mixture was cooled to 23 degreeC, 30 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchange water were added, and it stirred at 23 degreeC for 30 minutes. The obtained mixture was left still and liquid-separated, and the organic layer was obtained. This washing operation was further repeated 5 times. 0.5 parts of activated carbon was added to the recovered organic layer, stirred, and filtered. The obtained filtrate was concentrated, and 10 parts of ethyl acetate was added and stirred, and the supernatant was removed. To the obtained residue, 10 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. After dissolving the obtained concentrate in acetonitrile, 0.39 parts of salts represented by Formula (I-18) were obtained by concentrating.

MASS(ESI(+)Spectrum): M+ 507.3MASS(ESI(+)Spectrum): M + 507.3

MASS(ESI(-)Spectrum): M- 339.1MASS(ESI(-)Spectrum): M - 339.1

[실시예 4] 식 (I-19)로 나타내어지는 염의 합성[Example 4] Synthesis of salt represented by formula (I-19)

Figure 112017086300234-pat00154
Figure 112017086300234-pat00154

식 (I-19-a)로 나타내어지는 염 2.97부, 식 (I-2-b)로 나타내어지는 화합물 0.63부 및 모노클로로벤젠 24부를 반응기에 넣고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-2-c)로 나타내어지는 벤조산 구리 0.03부를 첨가하고, 100℃ 정도까지 승온한 후, 동 온도에서 1시간 교반하였다. 얻어진 반응물을 농축하였다. 얻어진 농축물에, 클로로포름 45부 및 이온 교환수 15부를 가하여, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 가하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 회수된 유기층을 여과한 후, 얻어진 여과액을 농축하였다. 얻어진 농축물에, tert-부틸메틸에테르 20부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-19-d)로 나타내어지는 염 1.82부를 얻었다.2.97 parts of the salt represented by the formula (I-19-a), 0.63 parts of the compound represented by the formula (I-2-b), and 24 parts of monochlorobenzene were placed in a reactor, and stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 0.03 parts of copper benzoate represented by Formula (I-2-c) to the obtained mixture and heating up to about 100 degreeC, it stirred at the same temperature for 1 hour. The resulting reaction was concentrated. 45 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added to the obtained concentrate, and it stirred at 23 degreeC for 30 minutes. Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. 15 parts of ion-exchange water was added to the obtained organic layer, and it stirred at 23 degreeC for 30 minute(s). Then, it left still and liquid-separated, and obtained the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. After filtering the recovered organic layer, the obtained filtrate was concentrated. To the obtained concentrate, 20 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. The obtained concentrate was dissolved in acetonitrile and then concentrated to obtain 1.82 parts of a salt represented by the formula (I-19-d).

Figure 112017086300234-pat00155
Figure 112017086300234-pat00155

식 (I-19-d)로 나타내어지는 염 0.62부, 식 (I-2-e)로 나타내어지는 화합물 0.26부 및 아세토니트릴 15부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 트리에틸아민 0.12부를 넣고, 75℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 23℃까지 냉각하고, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 20부를 가하여, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물을 정치하고, 분액하여 유기층을 얻었다. 이 수세 조작을 추가로 5회 반복하였다. 회수된 유기층에 활성탄 0.5부를 가하여 교반하고, 여과하였다. 얻어진 여과액을 농축하고, 아세트산 에틸 10부를 가하여 교반하고, 상청액을 제거하였다. 얻어진 잔사에 tert-부틸메틸에테르 10부를 가하여 교반하였다. 얻어진 상청액을 제거하고, 상청액 제거 후의 잔사를 추가로 농축하였다. 얻어진 농축물을 아세토니트릴에 용해시킨 후, 농축함으로써, 식 (I-19)로 나타내어지는 염 0.44부를 얻었다.0.62 parts of the salt represented by the formula (I-19-d), 0.26 parts of the compound represented by the formula (I-2-e), and 15 parts of acetonitrile were mixed, and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.12 parts of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 75°C for 3 hours. The obtained mixture was cooled to 23 degreeC, 30 parts of chloroform and 20 parts of ion-exchange water were added, and it stirred at 23 degreeC for 30 minutes. The obtained mixture was left still and liquid-separated, and the organic layer was obtained. This washing operation was further repeated 5 times. 0.5 parts of activated carbon was added to the recovered organic layer, stirred, and filtered. The obtained filtrate was concentrated, and 10 parts of ethyl acetate was added and stirred, and the supernatant was removed. To the obtained residue, 10 parts of tert-butylmethyl ether was added and stirred. The obtained supernatant was removed, and the residue after removal of the supernatant was further concentrated. The obtained concentrate was dissolved in acetonitrile and then concentrated to obtain 0.44 parts of a salt represented by the formula (I-19).

MASS(ESI(+)Spectrum): M+ 507.3MASS(ESI(+)Spectrum): M + 507.3

MASS(ESI(-)Spectrum): M- 337.1MASS(ESI(-)Spectrum): M - 337.1

<수지(A) 및 수지(X)의 합성><Synthesis of Resin (A) and Resin (X)>

수지(A)인 수지(A1) 및 수지(A2), 수지(X)인 수지(X1) 및 수지(X2)의 합성에 사용한 화합물(모노머)을 하기에 나타낸다. 이하, 이들 화합물을 그 식 번호에 따라, 「모노머(a1-1-3)」 등이라고 한다.The compounds (monomers) used for the synthesis of Resin (A1) and Resin (A2) which are Resin (A), and Resin (X1) and Resin (X2) which are Resin (X) are shown below. Hereinafter, these compounds are called "monomer (a1-1-3)" etc. according to the formula number.

Figure 112017086300234-pat00156
Figure 112017086300234-pat00156

[합성예 1] 수지(A1)의 합성[Synthesis Example 1] Synthesis of Resin (A1)

모노머로서, 모노머(a1-1-3), 모노머(a1-2-9), 모노머(a2-1-1) 및 모노머(a3-4-2)를 이용하고, 그 몰비[모노머(a1-1-3):모노머(a1-2-9):모노머(a2-1-1):모노머(a3-4-2)]가 35:15:2.5:47.5가 되도록 혼합하고, 전체 모노머량의 1.5질량배의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 가하여 용액으로 하였다. 이 용액에, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 및 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 전체 모노머량에 대하여 각각, 1㏖% 및 3㏖% 첨가하고, 이들을 75℃에서 약 5시간 가열하였다. 얻어진 반응 혼합물을, 대량의 메탄올/물 혼합 용매에 부어 수지를 침전시키고, 이 수지를 여과하였다. 얻어진 수지를, 메탄올/물 혼합 용매에 첨가하고, 리펄프한 후, 여과한다는 정제 조작을 2회 행하여, 중량 평균 분자량 8.0×103의 수지(A1)을 수율 69%로 얻었다. 이 수지(A1)은, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.As a monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-9), a monomer (a2-1-1) and a monomer (a3-4-2) are used, and the molar ratio [monomer (a1-1) -3):monomer (a1-2-9):monomer (a2-1-1):monomer (a3-4-2)] is mixed so that 35:15:2.5:47.5 is obtained, and 1.5 mass of the total amount of monomers Pear propylene glycol monomethyl ether acetate was added to make a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added to this solution, respectively, based on the total amount of monomers, and these were added at 75°C for about 5 hours. heated. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of methanol/water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin was added to a methanol/water mixed solvent, repulped, and then purified twice by filtration to obtain a resin (A1) having a weight average molecular weight of 8.0×10 3 in a yield of 69%. This resin (A1) has the following structural units.

Figure 112017086300234-pat00157
Figure 112017086300234-pat00157

[합성예 2] 수지(A2)의 합성[Synthesis Example 2] Synthesis of Resin (A2)

모노머로서, 모노머(a1-1-3), 모노머(a1-2-11), 모노머(a2-1-1) 및 모노머(a3-4-2)를 이용하고, 그 몰비[모노머(a1-1-3):모노머(a1-2-11):모노머(a2-1-1):모노머(a3-4-2)]가 35:15:2.5:47.5가 되도록 혼합하고, 전체 모노머량의 1.5질량배의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 가하여 용액으로 하였다. 이 용액에, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 및 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 전체 모노머량에 대하여 각각, 1㏖% 및 3㏖% 첨가하고, 이들을 75℃에서 약 5시간 가열하였다. 얻어진 반응 혼합물을, 대량의 메탄올/물 혼합 용매에 부어 수지를 침전시키고, 이 수지를 여과하였다. 얻어진 수지를, 메탄올/물 혼합 용매에 첨가하고, 리펄프한 후, 여과한다는 정제 조작을 2회 행하여, 중량 평균 분자량 7.9×103의 수지(A2)를 수율 65%로 얻었다. 이 수지(A2)는, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.As a monomer, a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-11), a monomer (a2-1-1) and a monomer (a3-4-2) are used, and the molar ratio [monomer (a1-1) -3):monomer (a1-2-11):monomer (a2-1-1):monomer (a3-4-2)] is mixed so that 35:15:2.5:47.5] is 1.5 mass of the total amount of monomers Pear propylene glycol monomethyl ether acetate was added to make a solution. To this solution, 1 mol% and 3 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added to this solution, respectively, based on the total amount of monomers, and these were added at 75°C for about 5 hours. heated. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of methanol/water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered. The obtained resin was added to a methanol/water mixed solvent, repulped and filtered twice, to obtain a resin (A2) having a weight average molecular weight of 7.9×10 3 in a yield of 65%. This resin (A2) has the following structural units.

Figure 112017086300234-pat00158
Figure 112017086300234-pat00158

[합성예 3] 수지(X1)의 합성[Synthesis Example 3] Synthesis of Resin (X1)

모노머로서, 모노머(a4-1-7)을 이용하고, 전체 모노머량의 1.5질량배의 메틸이소부틸케톤을 가하여 용액으로 하였다. 당해 용액에, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 및 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 전체 모노머량에 대하여 각각, 0.7㏖% 및 2.1㏖% 첨가하고, 이들을 75℃에서 약 5시간 가열하였다. 얻어진 반응 혼합물을, 대량의 메탄올/물 혼합 용매에 부어 수지를 침전시키고, 이 수지를 여과하여, 중량 평균 분자량 1.8×104의 수지 X1을 수율 77%로 얻었다. 이 수지 X1은, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.As a monomer, the monomer (a4-1-7) was used, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone of the total amount of monomers was added, and it was set as the solution. To the solution, azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added 0.7 mol% and 2.1 mol%, respectively, based on the total amount of monomers, and these were added at 75° C. for about 5 hours. heated. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of methanol/water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered to obtain Resin X1 having a weight average molecular weight of 1.8×10 4 in a yield of 77%. This resin X1 has the following structural units.

Figure 112017086300234-pat00159
Figure 112017086300234-pat00159

[합성예 4] 수지(X2)의 합성[Synthesis Example 4] Synthesis of Resin (X2)

모노머로서, 모노머(a5-1-1) 및 모노머(a4-0-12)를 이용하고, 그 몰비[모노머(a5-1-1):모노머(a4-0-12)]가 50:50이 되도록 혼합하고, 전체 모노머량의 1.2질량배의 메틸이소부틸케톤을 가하여 용액으로 하였다. 이 용액에, 개시제로서 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 전체 모노머량에 대하여 3㏖% 첨가하고, 70℃에서 약 5시간 가열하였다. 얻어진 반응 혼합물을, 대량의 메탄올/물 혼합 용매에 부어 수지를 침전시키고, 이 수지를 여과하여, 중량 평균 분자량 1.0×104의 수지 X2(공중합체)를 수율 91%로 얻었다. 이 수지 X2는, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.As a monomer, a monomer (a5-1-1) and a monomer (a4-0-12) are used, and the molar ratio [monomer (a5-1-1):monomer (a4-0-12)] is 50:50. The mixture was mixed as much as possible, and 1.2 times by mass of methyl isobutyl ketone of the total amount of monomers was added to obtain a solution. To this solution, 3 mol% of azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as an initiator was added with respect to the total amount of monomers, and the mixture was heated at 70°C for about 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into a large amount of methanol/water mixed solvent to precipitate a resin, and the resin was filtered to obtain Resin X2 (copolymer) having a weight average molecular weight of 1.0×10 4 in a yield of 91%. This resin X2 has the following structural units.

Figure 112017086300234-pat00160
Figure 112017086300234-pat00160

<레지스트 조성물의 조제><Preparation of resist composition>

표 15에 나타내는 각 성분 및 용제를 혼합하고, 얻어진 혼합물을 공경 0.2㎛의 불소 수지제 필터로 여과함으로써, 각 레지스트 조성물을 조제하였다.Each of the components and solvents shown in Table 15 were mixed, and the resulting mixture was filtered through a fluororesin filter having a pore diameter of 0.2 µm to prepare resist compositions.

Figure 112017086300234-pat00161
Figure 112017086300234-pat00161

<수지><Resin>

A1, A2, X1, X2: 수지(A1), 수지(A2), 수지(X1), 수지(X2)A1, A2, X1, X2: Resin (A1), Resin (A2), Resin (X1), Resin (X2)

<산 발생제(B)><Acid generator (B)>

B1-21: 식 (B1-21)로 나타내어지는 염(일본 공개특허 특개2012-224611호 공보의 실시예에 따라 합성)B1-21: a salt represented by the formula (B1-21) (synthesized according to the examples of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-224611)

B1-22: 식 (B1-22)로 나타내어지는 염(일본 공개특허 특개2012-224611호 공보의 실시예에 따라 합성)B1-22: a salt represented by the formula (B1-22) (synthesized according to the examples of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-224611)

Figure 112017086300234-pat00162
Figure 112017086300234-pat00162

<비교 조성물을 이용한 염><Salt using comparative composition>

IX-1: (일본 공개특허 특개2010-44347호 공보의 실시예에 따라 합성)IX-1: (Synthesis according to the examples of Japanese Patent Laid-Open No. 2010-44347)

Figure 112017086300234-pat00163
Figure 112017086300234-pat00163

IX-2: (일본 공개특허 특개2013-47209호 공보의 실시예에 따라 합성)IX-2: (Synthesis according to an example of Japanese Patent Laid-Open No. 2013-47209)

Figure 112017086300234-pat00164
Figure 112017086300234-pat00164

IX-3: (일본 공개특허 특개2013-47209호 공보의 실시예에 따라 합성)IX-3: (Synthesis according to an example of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-47209)

Figure 112017086300234-pat00165
Figure 112017086300234-pat00165

<??처(C)><??wife (C)>

D1: (도쿄화성공업(주) 제조)D1: (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)

Figure 112017086300234-pat00166
Figure 112017086300234-pat00166

<용제><solvent>

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 265부265 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate

프로필렌글리콜모노메틸에테르 20부Propylene glycol monomethyl ether 20 parts

2-헵타논 20부2-heptanone 20 parts

γ-부티로락톤 3.5부γ-butyrolactone 3.5 parts

[실시예 5∼13, 비교예 1∼3] 레지스트 패턴의 제조 및 그 평가[Examples 5 to 13, Comparative Examples 1 to 3] Preparation of resist patterns and evaluation thereof

실리콘 웨이퍼에, 유기 반사 방지막용 조성물(ARC-29; 닛산 화학(주) 제조)을 도포하고, 205℃, 60초의 조건으로 베이크함으로써, 웨이퍼 상에 막두께 78㎚의 유기 반사 방지막을 형성하였다. 이어서, 이 유기 반사 방지막 상에, 상기의 레지스트 조성물을 건조 후의 막두께가 85㎚가 되도록 도포(스핀 코트)하였다. 도포 후, 실리콘 웨이퍼를 다이렉트 핫 플레이트 상에서, 표 15의 「PB/PEB」칸에 기재된 PB의 온도에서 60초간 프리베이크하여, 조성물층을 형성하였다. 조성물층이 형성된 실리콘 웨이퍼에, 액침 노광용 ArF 엑시머 스테퍼(XT: 1900Gi; ASML사 제조, NA=1.35, 3/4Annular X-Y 편광)로, 컨택트 홀 패턴(홀 피치 90㎚/홀 직경 55㎚)을 형성하기 위한 마스크를 이용하여, 노광량을 단계적으로 변화시켜 노광하였다. 또한, 액침 매체로는 초순수를 사용하였다.A composition for an organic antireflection film (ARC-29; manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was applied to a silicon wafer and baked at 205°C for 60 seconds to form an organic antireflection film having a thickness of 78 nm on the wafer. Next, on the organic antireflection film, the resist composition was applied (spin coat) to a film thickness of 85 nm after drying. After application, the silicon wafer was prebaked on a direct hot plate at the temperature of PB described in the "PB/PEB" column of Table 15 for 60 seconds to form a composition layer. A contact hole pattern (hole pitch 90 nm/hole diameter 55 nm) was formed on a silicon wafer on which the composition layer was formed with an ArF excimer stepper for immersion exposure (XT: 1900 Gi; manufactured by ASML, NA = 1.35, 3/4 annular XY polarization). The exposure was performed by changing the exposure amount stepwise using a mask for the following. In addition, ultrapure water was used as an immersion medium.

노광 후, 핫 플레이트 상에서, 표 15의 「PB/PEB」칸에 기재된 PEB의 온도에서 60초간 포스트 익스포저 베이크를 행하였다. 이어서, 이 실리콘 웨이퍼 상의 조성물층을, 현상액으로서 아세트산 부틸(도쿄화성공업(주) 제조)을 이용하여, 23℃에서 20초간 다이나믹 디스펜스법에 의해 현상을 행함으로써, 네거티브형 레지스트 패턴을 제조하였다.After exposure, on a hot plate, post-exposure baking was performed for 60 seconds at the temperature of PEB described in the "PB/PEB" column of Table 15. Next, the composition layer on the silicon wafer was developed by the dynamic dispensing method at 23° C. for 20 seconds using butyl acetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a developer, thereby producing a negative resist pattern.

현상 후에 얻어진 레지스트 패턴에 있어서, 상기 마스크를 이용하여 형성한 홀 직경이 45㎚가 되는 노광량을 실효 감도로 하였다.The resist pattern obtained after development WHEREIN: The exposure amount at which the hole diameter formed using the said mask became 45 nm was made into effective sensitivity.

<CD 균일성(CDU) 평가><CD Uniformity (CDU) Evaluation>

실효 감도에 있어서, 홀 직경 55㎚의 마스크로 형성한 패턴의 홀 직경을, 하나의 홀에 대하여 24회 측정하고, 그 평균값을 하나의 홀의 평균 홀 직경으로 하였다. 동일 웨이퍼 내의, 홀 직경 55㎚의 마스크로 형성한 패턴의 평균 홀 직경을 400지점 측정한 것을 모(母)집단으로 하여 표준 편차를 구하였다.In the effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed by a mask having a hole diameter of 55 nm was measured 24 times for one hole, and the average value was taken as the average hole diameter of one hole. The standard deviation was calculated|required using what was measured 400 points|pieces of the average hole diameter of the pattern formed by the mask with a hole diameter of 55 nm in the same wafer as a parent group.

표준 편차가 1.80㎚ 이하인 경우를, CDU가 양호하다고 하여 A라고 평가하였다.A case where the standard deviation was 1.80 nm or less was evaluated as A as the CDU was good.

표준 편차가 1.80㎚보다 큰 경우를, CDU가 양호하지 않다고 하여 B라고 평가하였다.A case where the standard deviation was larger than 1.80 nm was evaluated as B because the CDU was not good.

그 결과를 표 16에 나타낸다. 괄호 안의 수치는 표준 편차(㎚)를 나타낸다.The results are shown in Table 16. Numerical values in parentheses indicate standard deviation (nm).

<마스크 에러 팩터(MEF) 평가><Evaluation of Mask Error Factor (MEF)>

실효 감도에 있어서, 마스크 홀 직경(마스크가 갖는 투광부의 홀 직경)이 각각 57㎚, 56㎚, 55㎚, 54㎚, 53㎚(홀 피치는 모두 90㎚)인 마스크를 이용하여, 레지스트 패턴을 형성하였다. 마스크 홀 직경을 가로축에, 노광에 의해 기판에 형성(전사)된 레지스트 패턴의 홀 직경을 세로축에 플롯하였을 때의 회귀 직선의 기울기를 MEF값으로 하여 산출하였다.In the effective sensitivity, the resist pattern was formed using a mask having mask hole diameters (hole diameters of the light-transmitting portion of the mask) of 57 nm, 56 nm, 55 nm, 54 nm, and 53 nm (all of which have a hole pitch of 90 nm). formed. The slope of the regression line when the mask hole diameter is plotted on the horizontal axis and the hole diameter of the resist pattern formed (transferred) on the substrate by exposure is plotted on the vertical axis was calculated as the MEF value.

MEF값이 4.8 이하인 것을, MEF가 양호하다고 하여 A라고 평가하였다.A MEF value of 4.8 or less was evaluated as A as MEF was favorable.

MEF값이 4.8을 초과하는 것을, MEF가 양호하지 않다고 하여 B라고 평가하였다.MEF value exceeding 4.8 was evaluated as B as MEF was not favorable.

그 결과를 표 16에 나타낸다. 괄호 안의 수치는 MEF값을 나타낸다.The results are shown in Table 16. Numerical values in parentheses indicate MEF values.

Figure 112017086300234-pat00167
Figure 112017086300234-pat00167

본 발명의 염, 당해 염을 포함하는 레지스트 조성물은, 양호한 CD 균일성(CDU)을 갖는 레지스트 패턴을 얻을 수 있기 때문에, 반도체의 미세 가공에 적합하고, 산업상 매우 유용하다.The salt of the present invention and the resist composition containing the salt can obtain a resist pattern having good CD uniformity (CDU), so they are suitable for microfabrication of semiconductors and are very useful industrially.

Claims (10)

식 (I)로 나타내어지는 염.
Figure 112022002583770-pat00168

[식 (I) 중,
R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 치환기를 가져도 되는 탄소수 6~18의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 상기 치환기는, 히드록시기, 카르복실기, 탄소수 1~12의 알킬기, 탄소수 1~12의 알콕시기 또는 탄소수 3~12의 지환식 탄화수소기이다.
R3은, 식 (1)로 나타내어지는 기를 나타낸다.
Figure 112022002583770-pat00171

[식 (1) 중, Ra1~Ra3은, 각각 독립적으로, 탄소수 3~20의 지환식 탄화수소기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~8의 알킬기, 탄소수 1~8의 알킬기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~20의 지환식 탄화수소기를 나타내거나, Ra1 및 Ra2는 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3~20의 비방향족 탄화수소환을 형성한다.
ma는 0을 나타내고, na는 1을 나타낸다.
*는 결합손을 나타낸다.]
X1은, -X12-O-X22-*(X12는 탄소수 1~10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타내고, 당해 2가의 지방족 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 된다. X22는, 탄소수 1~10의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다. 단, X12 및 X22의 합계 탄소수는 11 이하이다. *는 R3과의 결합손을 나타낸다.)로 나타내어지는 기를 나타낸다.
A-는, 식 (I-A)로 나타내어지는 술폰산 아니온을 나타낸다.]
Figure 112022002583770-pat00172

[식 (I-A) 중,
Q1 및 Q2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1~6의 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
Lb1은, 탄소수 1~24의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.
Y는, 치환기를 갖고 있어도 되는 메틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~18의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 당해 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.
상기 Y로 나타내어지는 메틸기가 갖고 있어도 되는 치환기는, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 3~16의 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18의 방향족 탄화수소기, 글리시딜옥시기 또는 -(CH2)ja-O-CO-Rb1기이다.
상기 Y로 나타내어지는 지환식 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기는, 할로겐 원자, 히드록시기, 히드록시기로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 알킬기, 탄소수 3~16의 지환식 탄화수소기, 탄소수 1~12의 알콕시기, 탄소수 6~18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 7~21의 아랄킬기, 탄소수 2~4의 아실기, 글리시딜옥시기 또는 -(CH2)ja-O-CO-Rb1기이다.
상기 Rb1은, 탄소수 1~16의 알킬기, 탄소수 3~16의 1가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6~18의 1가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.
상기 ja는, 0~4 중 어느 것의 정수를 나타낸다.]
A salt represented by formula (I).
Figure 112022002583770-pat00168

[In formula (I),
R 1 and R 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and the substituents are a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a carbon number It is an alicyclic hydrocarbon group of 3-12.
R 3 represents group represented by Formula (1).
Figure 112022002583770-pat00171

[In formula (1), R a1 to R a3 are each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms Represents an alicyclic hydrocarbon group of 20, or R a1 and R a2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
ma represents 0, and na represents 1.
* indicates a bonding hand.]
X 1 is -X 12 -OX 22 -* (X 12 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the methylene group constituting the divalent aliphatic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group. X 22 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, with the proviso that the total number of carbon atoms of X 12 and X 22 is 11 or less. * represents a bond with R 3 ).
A - represents the sulfonic acid anion represented by Formula (IA).]
Figure 112022002583770-pat00172

[In formula (IA),
Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is fluorine It may be substituted with an atom or a hydroxyl group.
Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or -CO - may be substituted.
The substituent which the methyl group represented by Y may have is a halogen atom, a hydroxyl group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group, or -(CH 2 ) ja -O -CO-R b1 group.
The substituent which the alicyclic hydrocarbon group represented by Y may have is a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. , an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, a glycidyloxy group, or a -(CH 2 ) ja -O-CO-R b1 group.
R b1 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
Said ja represents an integer of any one of 0-4.]
제 1 항에 있어서,
상기 식 (I)의 X1에 있어서, X12는, 탄소수 1~6의 알칸디일기이고, 당해 알칸디일기를 구성하는 메틸렌기는, 산소 원자 또는 카르보닐기로 치환되어 있어도 되며, X22는, 메틸렌기인 염.
The method of claim 1,
In X 1 of the formula (I), X 12 is an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, the methylene group constituting the alkanediyl group may be substituted with an oxygen atom or a carbonyl group, and X 22 is methylene Gin salt.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 식 (I)의 R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기이고, 상기 치환기는, 히드록시기, 카르복실기, 탄소수 1~12의 알킬기, 탄소수 1~12의 알콕시기 또는 탄소수 3~12의 지환식 탄화수소기인 염.
3. The method of claim 1 or 2,
R 1 and R 2 in the formula (I) are each independently a phenyl group which may have a substituent, and the substituent is a hydroxy group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or 3 carbon atoms. A salt which is an alicyclic hydrocarbon group of ~12.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 식 (I)의 R3에 있어서, Ra1 및 Ra2는 서로 결합하여 그들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3~20의 비방향족 탄화수소환을 형성하고, Ra3은 탄소수 1~8의 알킬기인 염.
3. The method of claim 1 or 2,
In R 3 of Formula (I), R a1 and R a2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atoms to which they are bonded, and R a3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. salt.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 식 (I-A)의 Lb1은, 식 (b1-1)~식 (b1-3) 중 어느 것으로 나타내어지는 기인 염.
Figure 112022002583770-pat00173

[식 (b1-1) 중,
Lb2는, 단결합 또는 탄소수 1~22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
Lb3은, 단결합 또는 탄소수 1~22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.
단, Lb2와 Lb3의 합계 탄소수는, 22 이하이다.
식 (b1-2) 중,
Lb4는, 단결합 또는 탄소수 1~22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
Lb5는, 단결합 또는 탄소수 1~22의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.
단, Lb4와 Lb5의 합계 탄소수는, 22 이하이다.
식 (b1-3) 중,
Lb6은, 단결합 또는 탄소수 1~23의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.
Lb7은, 단결합 또는 탄소수 1~23의 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 당해 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.
단, Lb6과 Lb7의 합계 탄소수는, 23 이하이다.
*는, Y와의 결합손을 나타낸다.]
3. The method of claim 1 or 2,
A salt in which L b1 in the formula (IA) is a group represented by any of formulas (b1-1) to (b1-3).
Figure 112022002583770-pat00173

[In formula (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.
However, the total number of carbon atoms of L b2 and L b3 is 22 or less.
In formula (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.
However, the total carbon number of L b4 and L b5 is 22 or less.
In formula (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.
However, the total carbon number of L b6 and L b7 is 23 or less.
* indicates a bond with Y.]
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 식 (I-A)의 Y는, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~18의 지환식 탄화수소기이고, 당해 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 상기 Y로 나타내어지는 지환식 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기는, 할로겐 원자, 히드록시기, 히드록시기로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 알킬기, 탄소수 3~16의 지환식 탄화수소기, 탄소수 1~12의 알콕시기, 탄소수 6~18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 7~21의 아랄킬기, 탄소수 2~4의 아실기, 글리시딜옥시기 또는 -(CH2)ja-O-CO-Rb1기(식 중, Rb1은, 탄소수 1~16의 알킬기, 탄소수 3~16의 1가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6~18의 1가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. ja는, 0~4 중 어느 것의 정수를 나타낸다.)인 염.
3. The method of claim 1 or 2,
Y in the formula (IA) is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or -CO- The substituents which may be substituted with and which the alicyclic hydrocarbon group represented by Y may have include a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, and a carbon number An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, an acyl group having 2 to 4 carbon atoms, a glycidyloxy group, or -(CH 2 ) ja -O-CO-R b1 A group (wherein, R b1 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. ja is an integer from 0 to 4 is represented.) is a salt.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 염을 함유하는 산 발생제.An acid generator comprising the salt according to claim 1 or 2. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 염을 함유하는 산 발생제와 산 불안정기를 갖는 구조 단위를 포함하는 수지를 함유하는 레지스트 조성물.A resist composition comprising the acid generator containing the salt according to claim 1 or 2 and a resin comprising a structural unit having an acid labile group. 제 8 항에 있어서,
추가로 상기 산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 낮은 산을 발생하는 염을 함유하고, 당해 염으로부터 발생하는 산의 산해리 정수가 -3<pKa인 레지스트 조성물.
9. The method of claim 8,
A resist composition further comprising a salt that generates an acid having a lower acidity than an acid generated from the acid generator, wherein the acid dissociation constant of the acid generated from the salt is -3 < pKa.
(1) 제 8 항에 기재된 레지스트 조성물을 기판 상에 도포하는 공정,
(2) 도포 후의 조성물을 건조시켜 조성물층을 형성하는 공정,
(3) 조성물층을 노광하는 공정,
(4) 노광 후의 조성물층을 가열하는 공정, 및
(5) 가열 후의 조성물층을 현상하는 공정,
을 포함하는 레지스트 패턴의 제조 방법.
(1) a step of applying the resist composition according to claim 8 on a substrate;
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer;
(4) heating the composition layer after exposure, and
(5) a step of developing the composition layer after heating;
A method of manufacturing a resist pattern comprising a.
KR1020170113531A 2016-09-07 2017-09-05 Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern KR102370244B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2016-174871 2016-09-07
JP2016174871 2016-09-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180028038A KR20180028038A (en) 2018-03-15
KR102370244B1 true KR102370244B1 (en) 2022-03-04

Family

ID=61660001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170113531A KR102370244B1 (en) 2016-09-07 2017-09-05 Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6991785B2 (en)
KR (1) KR102370244B1 (en)
TW (1) TWI756260B (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6999330B2 (en) * 2016-09-07 2022-01-18 住友化学株式会社 Method for producing acid generator, resist composition and resist pattern
JP6991786B2 (en) * 2016-09-07 2022-02-03 住友化学株式会社 Method for producing salt, acid generator, resist composition and resist pattern

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013083971A (en) * 2011-09-30 2013-05-09 Fujifilm Corp Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using the same, and electronic device manufacturing method and electronic device
JP2013182023A (en) * 2012-02-29 2013-09-12 Fujifilm Corp Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using said composition, and electronic device manufacturing method and electronic device

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3721740A1 (en) * 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag SULFONIUM SALTS WITH ACID LABELING GROUPS
JPH11228534A (en) * 1998-02-12 1999-08-24 Sanwa Chemical:Kk New sulfonium salt compound having oxycarbonylmethyl group
JP4621525B2 (en) 2005-03-30 2011-01-26 富士フイルム株式会社 Positive resist composition for EUV exposure and pattern forming method using the same
US8338076B2 (en) 2008-11-28 2012-12-25 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
TWI471298B (en) 2009-05-28 2015-02-01 Sumitomo Chemical Co Salt and photoresist composition containing the same
JP2013178370A (en) 2012-02-28 2013-09-09 Fujifilm Corp Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using said composition, and electronic device manufacturing method and electronic device
JP6944311B2 (en) 2016-09-07 2021-10-06 住友化学株式会社 Method for producing salt, acid generator, resist composition and resist pattern
JP6991786B2 (en) 2016-09-07 2022-02-03 住友化学株式会社 Method for producing salt, acid generator, resist composition and resist pattern

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013083971A (en) * 2011-09-30 2013-05-09 Fujifilm Corp Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using the same, and electronic device manufacturing method and electronic device
JP2013182023A (en) * 2012-02-29 2013-09-12 Fujifilm Corp Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using said composition, and electronic device manufacturing method and electronic device

Also Published As

Publication number Publication date
TWI756260B (en) 2022-03-01
JP6991785B2 (en) 2022-01-13
KR20180028038A (en) 2018-03-15
JP2018043978A (en) 2018-03-22
TW201815755A (en) 2018-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6159618B2 (en) Salt, resist composition and method for producing resist pattern
JP2018043977A (en) Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern
JP2017095444A (en) Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern
JP2018043976A (en) Salt, acid generator, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
JP7304127B2 (en) RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN
KR102447397B1 (en) Salt, resin, resist composition and method for producing resist pattern
KR102453750B1 (en) Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern
JP7137911B2 (en) RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN
KR102658379B1 (en) Salt, acid generator, resin, resist composition and method for producing resist pattern
KR102370244B1 (en) Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern
KR102461271B1 (en) Compounds, resins, resist compositions, and methods for producing resist patterns
KR102507577B1 (en) Method for producing resin, resist composition and resist pattern
KR102461275B1 (en) Non-ionic compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern
JP2018043975A (en) Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern
JP6397769B2 (en) Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
JP2017222835A (en) Resin, resist composition and method for producing resist pattern
JP2017107186A (en) Resist composition and method for producing resist pattern
JP2016130309A (en) Resin, resist composition and method for producing resist pattern
JP6787068B2 (en) Method for manufacturing resist composition and resist pattern
KR102447898B1 (en) Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern
KR102447420B1 (en) Resin, resist composition and method for producing resist pattern
KR102424267B1 (en) Resin, resist composition and method for producing resist pattern
JP2018115316A (en) Polymerizable monomer, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
JP2018012689A (en) Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern
JP2018024847A (en) Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant