KR102346345B1 - 유리 제조용 조성물, 유리 물품 및 이의 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유리 제조용 조성물, 유리 물품 및 이의 용도 및 상기 조성물로부터 제조된 유리 물품을 개시한다. 상기 유리 물품은 바람직하게는 하기 실험식(I)에 의해 산출된 약 1 내지 약 10의 M 값을 갖는 조성물로부터 제조된 유리 기판이다: [실험식 I] M = 0.13 × wt (B2O3) × wt (B2O3) + 0.42 × wt (CaO) + 0.55 × wt (MgO) + 0.75 × wt (SrO) - 0.05 × wt (Al2O3) × wt (Al2O3). 디스플레이 장치를 제조하기 위한 유리 물품(특히 유리 기판)의 용도가 본 명세서에 개시되고, 상기 유리 물품은 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량이 낮고, 두께 범위가 작고, 휨(warpage)이 작은 것과 같이 우수한 성질을 갖는다.

Description

유리 제조용 조성물, 유리 물품 및 이의 용도
본 발명은 일반적으로 유리 제조용 조성물, 유리 물품 및 이의 용도에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 유리 기판 물품, 특히 디스플레이 장치에 사용되는 유리 기판에 관한 것이다.
다수의 디스플레이 장치(예를 들어, 디스플레이 스크린, 텔레비젼, 터치 스크린, 편평한 패널 디스플레이와 같은 편평한 패널 디스플레이 장치, 휴대용 디스플레이 장치, 휴대폰과 같은 통신 장치 등)는 유리 기판을 포함한다.
유리 기판의 제조방법은 오버플로우 다운-드로우 방식(overflow down-draw method), 슬롯 다운-드로우 방식(slot down-draw method), 리드로잉 방식(redrawing method), 플로트 방식(float method) 등을 포함한다(US3,338,696, US3,682,609 등 참조). 이들 방법은 일반적으로 용융을 포함하는 공정에 의해 유리 원료를 투명한 유리 용융물로 제조하는 단계; 유리 용융물을 균질화하는 단계; 균질화된 유리 용융물을 유리 기판으로 성형하는 단계를 포함한다. 일반적으로, 소량의 고체 혼입물(예를 들어, SiO2 입자, 규산 결정(siliceous crystal), 규회석(wollastonite) 등)과 가스 혼입물(예를 들어, CO2, O2, N2, H2O, SO2, CO, 등)이 유리 기판에 존재할 수 있다. 또한, 유리 기판은 어느 정도의 두께 범위 및 휨(warpage)을 가질 수 있다. 유리 기판(특히 디스플레이 장치에 사용되는 유리 기판)의 경우, 고체 혼입물, 가스 혼입물, 두께 범위 및 휨이 모두 목적하지 않은 인자들이다.
이러한 목적하지 않은 인자들의 감소 또는 제거하기 위해서, 당업자들은 일반적으로 유리-성형 공정의 조건을 조절 및 제어하고 파라미터를 조작하는 단계를 포함하는 방법을 적용한다. 예를 들어, CN1878731A는 혼입물 및 스트라이프가 사실상 감소된 유리의 제조방법을 개시한다. JP2004-91307 및 JP H11-349335는 정화제(clarifying agent)를 첨가하고, 교반하고, 발포시키는 등의 단계에 의해 거품을 제거하는 방법을 개시한다. 또한, CN101437764A는 유리의 표면 상에 남아 있는 거품을 제거하는 방법을 개시한다. CN105217935A는 유리판이 랩핑되는 것을 억제하는 방법 및 장치를 개시한다. CN103359913A는 유리 기판의 변형 및 휨을 감소시키는 방법을 개시한다.
그러나, 상기 방법에 의해 제조되는 유리 기판은 여전히 불만족스럽다. 추가로, 다양한 디스플레이 장치는 유리 기판의 품질에 대해 점점 더 높은 요구 사항을 제시하고 있다.
따라서, 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량이 낮고, 두께 범위가 작고 및/ 또는 휨이 작은 것과 같이 개선된 특성을 갖는 유리 기판에 대한 요구가 여전히 존재한다.
본 발명자들은 유리 및/또는 유리를 제조하기 위한 조성물의 성분의 함량 및 유형이 특정 매칭 관계를 만족시키도록 제어함으로써, 수득된 유리 기판에서 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량을 현저히 낮출 수 있을 뿐만 아니라, 두께 범위 및 휨을 현저히 낮출 수 있다.
일부 측면에서, 본 발명은 유리 물품을 제조하기 위한, SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO 및 SrO를 포함하는 조성물에 관한 것이고,
SiO2 약 100 중량부에 대해서, Al2O3의 함량은 약 20 내지 약 35 중량부이고, B2O3의 함량은 약 10 내지 약 22 중량부이고, CaO의 함량은 약 4 내지 약 17 중량부이고, MgO의 함량은 약 0 내지 약 10 중량부이고, SrO의 함량은 약 0.8 내지 14 중량부이고,
상기 조성물은 하기 실험식(I)에 의해 산출된 약 1 내지 약 10의 M 값을 갖는다.
[실험식 I]
M = 0.13 × wt (B2O3) × wt (B2O3) + 0.42 × wt (CaO) + 0.55 × wt (MgO) + 0.75 × wt (SrO) - 0.05 × wt (Al2O3) × wt (Al2O3)
(상기 실험식 I에서,
wt (B2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 B2O3의 중량부를 나타내고,
wt (CaO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 CaO의 중량부를 나타내고,
wt (MgO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 MgO의 중량부를 나타내고,
wt (SrO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 SrO의 중량부를 나타내고,
wt (Al2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 Al2O3의 중량부를 나타낸다.)
일부 측면에서, 본 발명은 본 발명의 조성물로부터 제조되는 유리 물품, 바람직하게는 유리 기판을 제공한다.
다른 측면에서, 본 발명은 SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO 및 SrO를 포함하는 유리 물품에 관한 것이고,
SiO2 약 100 중량부에 대해서, Al2O3의 함량은 약 20 내지 약 35 중량부이고, B2O3의 함량은 약 10 내지 약 22 중량부이고, CaO의 함량은 약 4 내지 약 17 중량부이고, MgO의 함량은 약 0 내지 약 10 중량부이고, SrO의 함량은 약 0.8 내지 14 중량부이고,
상기 유리 물품은 하기 실험식(I)에 의해 산출된 약 1 내지 약 10의 M 값을 갖는다.
[실험식 I]
M = 0.13 × wt (B2O3) × wt (B2O3) + 0.42 × wt (CaO) + 0.55 × wt (MgO) + 0.75 × wt (SrO) - 0.05 × wt (Al2O3) × wt (Al2O3)
(상기 실험식 I에서,
wt (B2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 B2O3의 중량부를 나타내고,
wt (CaO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 CaO의 중량부를 나타내고,
wt (MgO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 MgO의 중량부를 나타내고,
wt (SrO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 SrO의 중량부를 나타내고,
wt (Al2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 Al2O3의 중량부를 나타낸다.)
일부 바람직한 측면에서, 본 발명의 유리 기판은 하기 실험식(II) 의해 산출된 약 7.0 이하의 K 값을 갖는 것인, 유리 물품.
[실험식 II]
K = 1.5 × (X/Y) - 1.8 × D + 0.22 × H + 1.8 × N
(상기 실험식 II에서,
X/Y는 1.02 내지 1.24의 값을 갖는 유리 기판의 길이-폭 비율을 나타내고,
D는 유리 기판의 두께의 수치 값을 밀리미터(mm)로 나타내고,
H는 유리 기판의 두께 범위의 수치 값을 마이크로미터(㎛)로 나타내고,
N은 유리 기판의 킬로그램(Kg)당 갯수로 나타내는 가스 혼입물(gas inclusion) 및 고체 혼입물(solid inclusions)의 총 갯수를 나타내는 값이다.)
본 기술 분야에서, 유리 기판의 두께(D)는 보통 0.2-0.7 mm이다. 유리 기판의 두께 범위(H)는 바람직하게는 ≤ 22 ㎛이고, 더욱 바람직하게는 ≤ 20 ㎛이고, 더욱 바람직하게는 ≤ 18 ㎛이다. 유리 기판 내의 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 총 갯수는 바람직하게는 ≤ 0.5/Kg이고, 더욱 바람직하게는 ≤ 0.4/Kg이고, 더욱 바람직하게는 ≤ 0.3/Kg이다.
또 다른 측면에서, 본 발명의 유리 물품은 하기 단계를 포함하는 방법에 의해 제조된다:
1) 용융을 포함하는 공정에 의해 원료 형태의 성분을 투명한 유리 용융물로 제조하는 단계;
2) 상기 투명한 유리 용융물을 균질화(homogenizing)하는 단계; 및
3) 균질화한 상기 투명한 유리 용융물을 냉각 및 성형하는 단계이되,
상기 단계 1) 및 단계 2) 중 하나 또는 모두는 초음파 처리를 포함하고, 임의로, 상기 초음파 처리 동안 하나 이상의 로드가 유리 용융물로 삽입되는 것인 단계.
또 다른 측면에서, 본 발명은 본 명세서에 기재되는 바와 같이 유리 물품(특히 유리 기판)을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
본 발명은 디스플레이 장치를 제조하기 위한 유리 물품(특히 유리 기판)의 용도를 더 제공한다.
동일한 제조 공정 하에서, 본 발명에 기재되는 실험식(I)에 의해 산출되는 M 값이 약 1 내지 약 10, 바람직하게는 약 3 내지 약 8, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 약 7인 유리 물품(특히 유리 기판) 및 조성물은 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량이 낮고, 두께 범위가 작고 및/또는 휨이 작다. 초음파 처리, 바람직하게는 공정 동안 하나 이상의 로드를 유리 용융물로 삽입하는 초음파 처리를 통해, 수득된 유리 기판에서 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량을 현저히 낮출 수 있을 뿐만 아니라, 두께 범위 및 휨을 현저히 낮출 수 있다. 본 발명에 기재되는 실험식(II)에 의해 산출되는 K 값이 약 7.0 이하, 바람직하게는 약 6.5 이하, 더욱 바람직하게는 약 6.0 이하, 가장 바람직하게는 약 5.5 이하인 유리 물품(특히, 유리 기판)은 우수한 특성, 예를 들어 낮아진 코팅 결점, 개선된 디스플레잉 효과 및 증가된 파괴 인성(fracture toughness)을 갖는다. 따라서, 본 발명의 유리 물품(특히 유리 기판)을 포함하는 디스플레이 장치는 우수한 특성, 예를 들어 우수한 수율을 갖는다.
본 발명자들은 유리 물품의 유형 및 함량이 유리 기판의 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량, 두께 범위 및 휨에 영향을 미칠 수 있다는 것을 발견했다.
구체적으로, 동일한 제조 공정 하에서, 본 발명에 기재되는 실험식(I)에 의해 산출되는 약 1 내지 약 10, 바람직하게는 약 3 내지 약 8, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 약 7의 M 값을 갖는 유리 물품은 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량을 낮추고, 두께 범위 및 휨을 감소시키는 것을 발견했다. M 값은 유리 제조 공정에서 다양한 공정 파라미터 및/또는 다른 선택적인 성분의 존재에 의해 영향 받지 않을 것이다. 제조 공정이 다양한 공정 파라미터 및/또는 다른 임의의 성분을 사용하는 유리 제조 공정에서 동일하다는 것을 보증한다는 전제하에, M 값을 갖는 유리 제품은 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량을 낮추고, 두께 범위 및 휨이 감소한다.
바람직하게는, 본 발명의 유리 물품은 유리 기판이다.
또한, 본 발명에 기재되는 실험식(II)에 의해 산출되는 약 7.0 이하의 K 값을 갖는 유리 물품(특히, 유리 기판)은 우수한 특성, 예를 들어 낮아진 코팅 결함, 개선된 디스플레이 효과 및 증가된 파괴 인성을 갖는다.
또 다른 양태에서, 단계 1): 투명한 유리 용융물을 형성하는 단계 및/또는 단계 2): 제조 방법의 상기 투명한 유리 용융물을 균질화 하는 단계로 초음파 처리를 도입함으로써, 수득되는 유리 용융물의 성분은 더욱 균일하게 분산되어, 성형된 유리 기판에서 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수는 더 낮아지고, 두께 범위 및 휨이 더 작아진다. 초음파 처리는 한 번 이상 수행될 수 있다. 복수의 초음파 처리가 수행되면, 각 초음파 처리 사이에는 거품의 부양(floatation)과 흡착(adsorption)을 허용하는 시간 간격이 있어야 한다.
또 다른 양태에서, 하나 이상의 로드는 초음파 처리 동안 유리 용융물로 삽입된다. 로드가 없는 것과 비교하여, 초음파 처리 동안 유리 용융물로 로드를 삽입하면, 유리 용융물-홀딩 용기 내에 미세 순환 공간의 형성을 더욱 용이하게 하여, 고체 혼입물 및/또는 가스 혼입물의 각각의 충돌 확률(collision probability)을 증가시킨다. 초음파 처리 동안 유리 용융물로 로드의 삽입은 유리 용융물에 고체 혼입물 및/또는 가스 혼입물의 크기의 감소를 용이하게 하고, 유리 용융물의 외측에 고체 혼입물 및/또는 가스 혼입물의 위쪽으로의 부유에 유리하다. 따라서, 초음파 처리 동안 유리 용융물로 로드의 삽입은 유리 물품에 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수의 감소를 용이하게 한다.
일부 측면에서, 본 발명은 유리 물품을 제조하기 위한, SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO 및 SrO를 포함하는 조성물에 관한 것이고,
SiO2 약 100 중량부에 대해서, Al2O3의 함량은 약 20 내지 약 35 중량부이고, B2O3의 함량은 약 10 내지 약 22 중량부이고, CaO의 함량은 약 4 내지 약 17 중량부이고, MgO의 함량은 약 0 내지 약 10 중량부이고, SrO의 함량은 약 0.8 내지 14 중량부이고,
상기 조성물은 하기 실험식(I)에 의해 산출된 약 1 내지 약 10의 M 값을 갖는 것인, 조성물.
[실험식 I]
M = 0.13 × wt (B2O3) × wt (B2O3) + 0.42 × wt (CaO) + 0.55 × wt (MgO) + 0.75 × wt (SrO) - 0.05 × wt (Al2O3) × wt (Al2O3)
(상기 실험식 I에서,
wt (B2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 B2O3의 중량부를 나타내고,
wt (CaO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 CaO의 중량부를 나타내고,
wt (MgO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 MgO의 중량부를 나타내고,
wt (SrO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 SrO의 중량부를 나타내고,
wt (Al2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 Al2O3의 중량부를 나타낸다.)
일부 측면에서, 본 발명은 본 발명의 조성물로부터 제조되는 유리 물품, 바람직하게는 유리 기판을 제공한다.
다른 측면에서, 본 발명은 SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO 및 SrO를 포함하는 유리 물품에 관한 것이고,
SiO2 약 100 중량부에 대해서, Al2O3의 함량은 약 20 내지 약 35 중량부이고, B2O3의 함량은 약 10 내지 약 22 중량부이고, CaO의 함량은 약 4 내지 약 17 중량부이고, MgO의 함량은 약 0 내지 약 10 중량부이고, SrO의 함량은 약 0.8 내지 14 중량부이고,
상기 조성물은 하기 실험식(I)에 의해 산출된 약 1 내지 약 10의 M 값을 갖는 것인, 조성물.
[실험식 I]
M = 0.13 × wt (B2O3) × wt (B2O3) + 0.42 × wt (CaO) + 0.55 × wt (MgO) + 0.75 × wt (SrO) - 0.05 × wt (Al2O3) × wt (Al2O3)
(상기 실험식 I에서,
wt (B2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 B2O3의 중량부를 나타내고,
wt (CaO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 CaO의 중량부를 나타내고,
wt (MgO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 MgO의 중량부를 나타내고,
wt (SrO)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 SrO의 중량부를 나타내고,
wt (Al2O3)는 SiO2 약 100 중량부에 대한 Al2O3의 중량부를 나타낸다.)
일부 바람직한 측면에서, 본 발명의 유리 기판은 하기 실험식(II) 의해 산출된 약 7.0 이하의 K 값을 갖는 것인, 유리 물품.
[실험식 II]
K = 1.5 × (X/Y) - 1.8 × D + 0.22 × H + 1.8 × N
(상기 실험식 II에서,
X/Y는 1.02 내지 1.24의 값을 갖는 유리 기판의 길이-폭 비율을 나타내고,
D는 유리 기판의 두께의 수치 값을 밀리미터(mm)로 나타내고,
H는 유리 기판의 두께 범위의 수치 값을 마이크로미터(㎛)로 나타내고,
N은 유리 기판의 킬로그램(Kg)당 갯수로 나타내는 가스 혼입물(gas inclusion) 및 고체 혼입물(solid inclusions)의 총 갯수를 나타내는 값이다.)
본 기술 분야에서, 유리 기판의 두께(D)는 보통 0.2-0.7 mm이다. 유리 기판의 두께 범위(H)는 바람직하게는 ≤ 22 ㎛, 더욱 바람직하게는 ≤ 20 ㎛, 보다 바람직하게는 ≤ 18 ㎛이다. 유리 기판에서 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 총 갯수는 바람직하게는 ≤ 0.5/Kg, 더욱 바람직하게는 ≤ 0.4/Kg, 보다 바람직하게는 ≤ 0.3/Kg이다.
또 다른 측면에서, 본 발명의 유리 물품은 하기 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되고:
1) 용융을 포함하는 공정에 의해 원료 형태의 성분을 투명한 유리 용융물로 제조하는 단계;
2) 상기 투명한 유리 용융물을 균질화(homogenizing)하는 단계; 및
3) 균질화된 상기 투명한 유리 용융물을 냉각 및 성형하는 단계이되,
상기 단계 1) 및 단계 2) 중 하나 또는 모두는 초음파 처리를 포함하고, 임의로, 상기 초음파 처리 동안 하나 이상의 로드가 유리 용융물로 삽입되는 것인 단계.
일부 양태에서, Al2O3의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 25 내지 약 30 중량부이다. 일부 양태에서, B2O3의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 15 내지 약 18 중량부이다. 일부 양태에서, CaO의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 10 내지 약 14 중량부이다. 일부 양태에서, MgO의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 1 내지 약 5 중량부이고, 바람직하게는 약 1.8 내지 약 3 중량부이다. 일부 양태에서, SrO의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 1.1 내지 약 1.5 중량부이다.
일부 양태에서, 본 발명에 따른 유리 물품을 제조하기 위한 조성물 및/또는 유리 물품은 SnO2를 더 포함한다. 추가 양태에서, SnO2의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 0.1 내지 약 0.8 중량부이다. 다른 바람직한 양태에서, SnO2의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 0.2 내지 약 0.7 중량부이다.
일부 양태에서, 본 발명에 따른 유리 물품을 제조하기 위한 조성물 및/또는 유리 물품은 BaO를 더 포함한다. 추가 양태에서, BaO의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 0 내지 약 4 중량부이다. 더욱 바람직한 양태에서, BaO의 함량은 SiO2 약 100 중량부에 대해서 약 0.5 내지 약 3 중량부이다.
일부 양태에서, 본 발명에 기재되는 M 값은 바람직하게는 약 3 내지 약 8이고, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 약 7이다.
일부 양태에서, 본 발명에 기재되는 K 값은 바람직하게는 약 6.5 이하이고, 바람직하게는 약 6.0 이하이고, 가장 바람직하게는 약 5.5 이하이다.
일부 양태에서, 초음파 처리는 약 50 내지 약 60 W/L의 평균 음향 에너지 밀도를 갖는 초음파를 사용하여 수행된다. 일부 양태에서, 상기 초음파 처리는 약 25 내지 약 40 kHz의 초음파 주파수를 갖는 초음파를 사용하여 수행된다.
일부 양태에서, 초음파 처리는 약 1000 내지 약 1500 ℃, 바람직하게는 약 1100 내지 약 1400 ℃, 더욱 바람직하게는 약 1200 내지 약 1300 ℃의 온도에서 수행된다.
일부 양태에서, 상기 초음파 처리의 기간은 독립적으로 약 3 내지 약 60분, 바람직하게는 약 5 내지 약 50분, 더욱 바람직하게는 약 10 내지 약 40분, 가장 바람직하게는 약 15 내지 약 30분이다.
복수의 초음파 처리가 사용되면, 각각의 초음파 처리들 사이의 시간 간격은 독립적으로 1 내지 20분, 바람직하게는 2 내지 15분, 더욱 바람직하게는 5 내지 10분이다.
일부 양태에서, 로드는 실린더 및/또는 프리즘(예를 들어, 삼각 프리즘, 사각 프리즘, 오각 프리즘, 육각 프리즘, 및/또는 팔각 프리즘)이다. 일부 양태에서, 상기 로드의 직경 또는 공칭 직경(nominal diameter)은 약 10 내지 약 30 밀리미터이다. 추가 양태에서, 실린더의 직경 또는 공칭 직경 또는 상기 프리즘의 외접원의 직경 또는 공칭 직경은 약 10 내지 약 30 밀리미터이다.
일부 양태에서, 상기 로드는 유리 용융물로 불순물을 부여하지 않는 불활성 물질로부터 제조된다. 추가 양태에서, 상기 로드는 Pt 및/또는 Rh를 포함하는 물질로부터 제조된다.
복수의 로드들이 사용되면, 각각의 로드들 사이의 간격은 특별히 한정되지 않는다. 각각의 로드들 사이의 간격은 동일하거나 동일하지 않을 수 있다. 예를 들어, 각각의 로드들 사이의 간격은 독립적으로 약 10 내지 약 50 mm이다. 일부 양태에서, 복수의 로드는 어레이로 배열된다.
본 명세서에 기재되는 고체 혼입물은 특정 고체를 함유한다. 본 명세서에 기재되는 가스 혼입물은 공기 방울을 포함한다.
본 명세서에 기재되는 용어 "두께 범위(thickness range)"는 특정 원래의 시트 크기(예를 들어, 1100 × 1250 mm)에서 마이크로미터(㎛)로 최대 두께 값과 최소 두께 값 사이의 차이를 말한다. 본 기술 분야에서, 유리 기판의 두께는 일반적으로 0.2 내지 0.7 mm이다.
본 명세서에 기재되는 용어 "휨(warpage)"은 하기 휨 시험 절차에 따라 측정되는 휨 정도를 말한다:
1) 가상의 기준 수평면(imaginary reference horizontal plane)이 있는 대리석 수평 플랫폼(marble horizontal platform)을 구비하는 휨 측정 장치를 제공하는 단계;
2) 상기 대리석 수평 플랫폼 상에 복수의 고정된 위치를 선택하고, 상기 고정된 위치에서 대리석 수평 플랫폼으로부터 가상의 기준 수평면의 높이를 측정하여 H1로 기록하는 단계;
3) 상기 대리석 수평 플랫폼 상에 유리 기판의 전체 시트를 놓고, 상기 가상 기준 기준 평면으로부터 상기 고정 위치에서 상기 유리 기판의 상부 표면의 높이를 측정하여 H2로 기록하는 단계;
4) 고정된 위치에서 실제 높이를 얻도록 H2에 H1을 가산하는 단계; 및
5) 밀리미터(mm)로 휨을 얻기 위해 고정된 위치(즉, 범위)에서 실제 높이의 최대 값에서 최소값을 감산하는 단계,
상기 가상의 기준 수평면은 대리석 수평 플랫폼을 보정하도록 제공되고, H2는 H1보다 커야한다.
일부 양태에서, 수득된 유리 기판의 휨은 본 발명에서 정의되는 바와 같이 유리 성분을 이용함으로써 약 0.05 mm 이하일 수 있다. 일부 양태에서, 수득된 유리 기판의 휨은 초음파 처리를 포함하는 제조 방법을 이용함으로써 약 0.04 mm 이하일 수 있다. 일부 양태에서, 수득된 유리 기판의 휨은 초음파 처리 및 로드의 삽입을 포함하는 제조 방법을 이용함으로써 약 0.03 mm 이하, 바람직하게는 0.02 mm일 수 있다.
용어 "유리 기판" 및 "유리판"은 본 명세서에서 상호 교환 가능하게 사용된다.
일부 양태에서, 본 발명의 방법은 임의로 입자 크기를 조절하고, 입자 형태를 조절하고, 내화성 불순물(refractory impurities)의 함량을 감소시키거나/시키고, 박층 충전(thin layer charging)을 위해 본 기술 분야에 알려진 수단을 추가로 적용한다.
일부 양태에서, 본 발명의 유리 물품의 제조 방법은 오버플로우 다운-드로우 방식, 슬롯 다운-드로우 방식, 리드로잉 방식 또는 단계 1)-3)을 포함하는 플로트 방식이다.
일부 양태에서, 본 발명의 유리 기판에서 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 총 갯수는 유리의 약 0.25/Kg 이하이고, 바람직하게는 유리의 약 0.22/Kg 이하이고, 더욱 바람직하게는 유리의 약 0.18/Kg 이하이다.
일부 양태에서, 본 발명의 유리 기판에서 가스 혼입물의 총 갯수는 유리의 약 0.23/Kg 이하, 바람직하게는 유리의 약 0.21/Kg 이하, 더욱 바람직하게는 유리의 약 0.20/Kg 이하, 보다 바람직하게는 유리의 약 0.18/Kg 이하, 보다 더욱 바람직하게는 유리의 약 0.16/Kg 이하이다.
일부 양태에서, 본 발명의 유리 기판에서 고체 혼입물의 총 갯수는 유리의 약 0.02/Kg 이하이고, 바람직하게는 유리의 약 0.01/Kg 이하이다.
수치 값과 관련하여 본 명세서에서 사용되는 용어 "약(about)"은 수치 값의 플러스 또는 마이너스 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하, 더욱 바람직하게는 2% 이하, 보다 바람직하게는 1% 이하이고, 가장 바람직하게는 수치 값 그 자체를 말한다. 예를 들어, SiO2 약 100 중량부는 SiO2의 100±10 중량부, 바람직하게는 100±5 중량부, 더욱 바람직하게는 100±2 중량부, 보다 바람직하게는 100±1 중량부, 가장 바람직하게는 100 중량부를 말한다.
본 발명에서 X/Y로 나타내는 유리 기판의 길이-폭 비율은 유리 기판의 폭에 대한 길이의 비율을 말한다. 본 발명에 기재된 길이-폭 비율 값을 가지지 않는 유리 기판에 대해서는, 본 명세서에 기재된 바와 같이 길이-폭 비율 값을 갖는 유리 기판으로 커팅한 후, K 값이 산출될 수 있다.
유리 기판의 길이, 폭, 두께, 및 두께 범위, 유리의 Kg당 고체 혼입물 및 버블의 수, 및 유리 기판의 휨은 본 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 측정 방법에 의해 측정된다. 예를 들어, 길이 및 폭은 마이크로미터 및/또는 캘리퍼(caliper)에 의해 측정되고; 두께는 마이크로미터 및/또는 이미지 측정 장치에 의해 측정되고; 고체 혼입물 및/또는 가스 혼입물의 수는 메뉴얼 샘플링(manual sampling)과 같은 방법에 의해 또는 표면 검사기(surface inspection machine)에 의해 측정되고; 휨은 필러 게이지 또는 휨 측정 장치(예를 들어, 레이저 거리 측정법(laser ranging)에 의해)에 의해 측정된다.
또한, 본 발명은 본 명세서에 기재되는 유리 물품(특히, 유리 기판)을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 바람직하게는, 디스플레이 장치는 디스플레이 스크린, 텔레비전, 터치 스크린, 편평한 패널 디스플레이와 같은 편평한 패널 디스플레이 장치, 휴대용 디스플레이 장치, 및 휴대폰과 같은 통신 장치이다.
또한, 본 발명은 디스플레이 장치를 제조하기 위한 유리 물품(특히, 유리 기판)의 용도를 제공한다.
동일한 제조 공정 하에서, 본 발명에 기재된 실험식(I)에 의해 산출된 약 1 내지 약 10, 바람직하게는 약 3 내지 약 8, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 7의 M 값을 갖는 조성물 및 유리 물품(특히, 유리 기판)은 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 함량이 낮고, 두께 범위 및 휨이 작다. 본 발명에 기재된 실험식(II)에 의해 산출된 약 7.0 이하, 바람직하게는 약 6.5 이하, 더욱 바람직하게는 약 6.0 이하, 가장 바람직하게는 약 5.5 이하의 K 값을 갖는 유리 물품(특히, 유리 기판)은 우수한 특성, 예를 들어 낮아진 코팅 결점, 개선된 디스플레잉 효과 및 증가된 파괴 인성(facture toughness)을 갖는다. 따라서, 본 발명의 유리 물품(특히 유리 기판)을 포함하는 디스플레이 장치는 우수한 특성, 예를 들어 우수한 수율을 갖는다.
실시예
본 발명의 유리한 효과는 하기 실시예에 의해 입증될 것이다. 당업자는 이러한 실시예는 단지 설명적이며 제한하지 않는 것임을 인지할 것이다. 이러한 실시예는 임의의 방식으로 본 발명의 범위를 한정하려는 것이 아니다. 하기 실시예에 기재된 실험 방법은 달리 언급되지 않는 한 종래의 방법이고; 시약 및 재료는 달리 언급되지 않는 한 시판되는 것이다.
유리 물품의 일반적인 제조방법
1) 원료의 형태로 소정량의 성분을 혼합하여 혼합물을 제공했다. 혼합물을 약 1400 내지 약 1600 ℃의 온도로 가열하여 투명한 유리 용융물을 제공했다. 그 후, (필요에 따라) 초음파 처리를 수행하고, (필요에 따라) 어레이에 배열된 로드를 초음파 처리 동안 유리 용융물로 삽입했다. 유리 용융물을 20분 동안 가만히 두었다.
2) 투명한 유리 용융물을 교반에 의해 균질화했다. 그 후, (필요에 따라) 초음파 처리를 수행하고, (필요에 따라) 어레이에 배열된 로드를 초음파 처리 동안 유리 용융물로 삽입했다. 유리 용융물을 20분 동안 가만히 두었다.
3) 균질화된 투명한 유리 용융물을 오버플로우 다운-드로우 방식에 의해 유리 기판으로 제조했다. 그 후, 유리 기판을 어닐링하고, 목적하는 크기로 커팅했다.
수득된 유리 기판의 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수, 두께 범위, 및 휨을 측정했다.
실시예에 기재된 SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO, SrO, SnO2 및 BaO 성분은 모두 시판되는 것이다. 실시예에 기재된 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수는 Schenck 표면 검사기로 측정했다. 실시예에 기재된 두께 범위는 SWT 측정 장치로 측정했다. 실시예에 기재된 휨은 EXCEL 휨 측정 장치로 측정했다.
실시예 1-7 및 비교예 1-5: 관련 특성에 대한 유리 내의 다양한 성분 및 함량의 효과
[표 1]
Figure 112019077442884-pct00001
실시예 1-7 및 비교예 1-5에 다양한 용융 온도 및 성분의 중량부를 사용했다. 본 발명에 정의되는 중량부의 범위 내에 속하는 양으로 성분 SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO, 및 SrO를 포함하는 실시예 1-7의 유리 기판은 각각 5.49, 2.56, 6.17, 7.68, 6.10, 6.10 및 5.34의 M 값을 가지며, 실시예 1 및 7은 SnO2 및 BaO를 포함하지 않고, 실시예 2-5는 SnO2를 더 포함하고, 실시예 6은 SnO2 및 BaO를 더 포함한다. 그러나, 본 발명에 정의되는 중량부의 범위 내에 속하지 않는 양으로 성분 SiO2, Al2O3, B2O3,CaO, MgO 및 SrO를 포함하는 비교예 1-5의 유리 기판은 각각 -35.3, 75.23, 7.42, 8.58, 및 5.80의 M 값을 가지며, 비교예 3-5의 M 값은 본 발명에 정의되는 범위 내에 속하지만, CaO, MgO 및 SrO의 함량은 본 발명에 정의된 범위 내에 속하지 않는다. 비교예 1-5의 유리 기판은 고체 혼입물 및 가스 혼입물을 더욱 가지며, 더 큰 두께 범위 및 휨을 갖는다. 실시예 1-7의 유리 기판은 비교예 1-5보다 고체 혼입물 및 가스 혼입물을 덜 가지며, 더 작은 두께 범위 및 휨을 갖는다.
실시예 1-7의 유리 기판에 있어서, 본 발명에 정의되는 범위 내에 속하는 1.18, 1.2, 1.24, 1.16, 1.13, 1.24 및 1.24의 길이-폭 비율은 K 값을 산출하기 위해 개별적으로 선택된다(원래 시트의 길이-폭 비율이 본 발명에 정의되는 1.02 내지 1.24의 범위 내가 아니면, 시트는 이 범위 내의 값으로 커팅되어야 한다). 결과를 표 2에 나타냈다. 표 2에서 실시예 1-7의 M 값, 유리 기판의 두께 D (mm), 유리 기판의 두께 범위 H (㎛), 및 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수 N (유리의 Kg 당)은 표 1의 대응하는 데이터로부터 나왔다.
[표 2]
Figure 112019077442884-pct00002
표 2에서 볼 수 있듯이, 실시예 1-7의 유리 기판의 M 값 모두는 본 발명에 정의되는 범위 내에 속한다. 실시예 1-5의 유리 기판의 K 값은 모두 7 미만(각각 4.53, 4.61, 4.23, 4.84, 및 5.11)이고, 모두 본 발명에 정의된 범위 내에 속한다. 실시예 6 및 7의 유리 기판의 K 값은 둘다 7 초과(각각 7.01 및 7.10)이고, 본 발명에 정의된 범위 내에 속하지 않는다. 즉, 실시예 1-5의 유리 기판의 M 값 및 K 값 모두는 본 발명에 정의된 범위 내에 속하고; 실시예 6 및 7의 유리 기판의 M 값은 본 발명에 정의된 범위 내에 속하지만, K 값은 본 발명에 정의된 범위 내에 속하지 않는다.
실시예 8-11: 초음파 처리 및 로드 존재의 효과
실시예 1 및 비교예 1에서와 동일한 조성, 함량, 및 용융 온도를 사용하여 유리 기판의 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수, 두께 범위, 및 휨에 대한 초음파 처리 및 로드의 효과를 조사했다.
실시예 8 및 9에서 성분, 함량 및 용융 온도는 실시예 1의 것과 동일하고; 실시예 10 및 11의 성분, 함량 및 용융 온도는 비교예 1과 동일했다.
[표 3]
Figure 112019077442884-pct00003
*실시예 8-11은 단계 1) 및 2) 모두에서 1200 ℃의 온도에서 초음파 처리했다. 실시예 9 및 11은 단계 1) 및 2) 모두에서 초음파 처리 동안 로드를 삽입했다. 초음파 처리 동안 삽입된 로드는 직경이 15 mm이고, Pt로 제조되고, 서로 10 mm의 간격으로 어레이로 배열된 16개의 실린더이다. 표 1의 데이터를 표 3에서 실시예 1 및 비교예 1에 사용했다.
표 3에서 볼 수 있듯이, 본 발명에 정의되는 범위 내에 속하는 M 값을 갖는(M 값이 5.49) 실시예 1의 유리 기판과 비교하여, 실시예 8에서 초음파 처리 조작 후 얻어진 유리 기판은 고체 혼입물 및 가스 혼입물, 두께 범위 및 휨의 관점에서 우수한 성능을 갖는다. 실시예 9의 어레이로 배열된 로드를 삽입하는 조작 후에, 수득된 유리 기판의 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수, 두께 범위, 및 휨은 더 개선되었다.
마찬가지로, 본 발명의 정의되는 범위 내에 속하지 않는 M 값을 갖는(M 값이 -35.3) 비교예 1의 유리 기판과 비교하여, 실시예 10에서 초음파 처리 조작 후 얻어진 유리 기판은 고체 혼입물 및 가스 혼입물, 두께 범위 및 휨의 관점에서 우수한 성능을 갖는다. 실시예 11의 어레이로 배열된 로드를 삽입하는 조작 후에, 수득된 유리 기판의 고체 혼입물 및 가스 혼입물의 수, 두께 범위, 및 휨은 더 개선되었다.
파괴 인성 시험
실시예 1-7의 유리 기판의 파괴 인성(KIC) 값은 만능 시험기(universal tester) 및 비커스 경도 시험 장치를 사용하여 ASTM E-1820에 따라 MPa·m1/2로 측정했다. 그 결과를 표 4에 나타냈다. 표 2의 데이터를 표 4에서 M 값 및 K 값에 사용했다.
[표 4]
Figure 112019077442884-pct00004
표 4로부터 볼 수 있듯이, 실시예 1-5의 유리 기판의 파괴 인성 값은 상대적으로 높았다(각각 0.97, 0.98, 0.96, 0.91 및 0.88). 그러나, 실시예 6-7의 유리 기판의 파괴 인성 값은 상대적으로 낮았다(각각 0.62 및 0.65). 즉, 실시예 1-5의 유리 기판은 실시예 6-7의 유리 기판보다 우수한 파괴 인성을 갖는 제품이다.
상기 기재된 바와 같이, 실시예 1-5의 유리 기판의 M 값 및 K 값은 본 발명에 정의된 범위 내에 속하고; 실시예 6 및 7의 유리 기판의 M 값은 본 발명에 정의된 범위 내에 속하지만, K 값은 본 발명에 정의된 범위 내에 속하지 않는다.
따라서, M 값 및 K 값 모두가 본 발명에 정의되는 범위 내에 속하는 유리 기판은 본 발명에 기재되는 우수한 성능을 갖는 제품이고; M 값이 본 발명에 정의되는 범위 내에 속하지만, K 값이 본 발명에 정의된 범위 내에 속하지 않는 유리 기판은 본 발명에 기재되는 바와 같이 상대적으로 우수하지 못한 제품이다.
등가물
앞선 실시예는 본 발명을 단지 설명하는 것이고, 본 발명의 범위를 제한하려는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 발명의 원리를 벗어나지 않으면서, 본 발명의 상기 상세한 설명 및 실시예들에 기재된 내용들에 대해 많은 변경 및 변형이 이루어질 수 있음이 명백하다. 이러한 모든 변경 및 변형은 본 출원에 포함된다.

Claims (32)

  1. 유리 물품을 제조하기 위한, SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO, SrO, SnO2 및 임의로 BaO로 이루어지는 조성물로서,
    SiO2 100 중량부에 대해서, Al2O3의 함량은 20 내지 35 중량부이고, B2O3의 함량은 10 내지 22 중량부이고, CaO의 함량은 4 내지 17 중량부이고, MgO의 함량은 0 내지 10 중량부이고, SrO의 함량은 0.8 내지 1.5 중량부이고, SnO2의 함량은 0.1 내지 0.8 중량부이고, BaO의 함량은 0 내지 4 중량부이고,
    상기 조성물은 하기 실험식 I에 의해 산출시 1 내지 3의 M 값을 갖는 것인, 조성물:
    [실험식 I]
    M = 0.13 × wt (B2O3) × wt (B2O3) + 0.42 × wt (CaO) + 0.55 × wt (MgO) + 0.75 × wt (SrO) - 0.05 × wt (Al2O3) × wt (Al2O3)
    (상기 실험식 I에서,
    wt (B2O3)는 SiO2 100 중량부에 대한 B2O3의 중량부를 나타내고,
    wt (CaO)는 SiO2 100 중량부에 대한 CaO의 중량부를 나타내고,
    wt (MgO)는 SiO2 100 중량부에 대한 MgO의 중량부를 나타내고,
    wt (SrO)는 SiO2 100 중량부에 대한 SrO의 중량부를 나타내고,
    wt (Al2O3)는 SiO2 100 중량부에 대한 Al2O3의 중량부를 나타낸다).
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 Al2O3의 함량, B2O3의 함량, CaO의 함량, MgO의 함량, 및 SrO의 함량 중 하나 이상은 임의로 독립적으로 하기와 같이 정의되는 것인, 조성물:
    Al2O3의 함량은 25 내지 30 중량부임;
    B2O3의 함량은 15 내지 18 중량부임;
    CaO의 함량은 10 내지 14 중량부임;
    MgO의 함량은 1 내지 5 중량부, 또는 1.8 내지 3 중량부임; 또는
    SrO의 함량은 1.1 내지 1.5 중량부임.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 SnO2의 함량 및 BaO의 함량 중 하나 이상은 임의로 독립적으로 하기와 같이 정의되는 것인, 조성물:
    상기 SnO2의 함량은 0.2 내지 0.7 중량부임; 또는
    상기 BaO의 함량은 0.5 내지 3 중량부임.
  5. 제1항에 기재된 조성물로부터 제조되는 유리 물품.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 유리 물품은 유리 기판이고,
    상기 유리 기판은 하기 실험식 II에 의해 산출시 7.0 이하의 K 값을 갖는 것인, 유리 물품:
    [실험식 II]
    K = 1.5 × (X/Y) - 1.8 × D + 0.22 × H + 1.8 × N
    (상기 실험식 II에서,
    X/Y는 1.02 내지 1.24의 값을 갖는 유리 기판의 길이-폭 비율을 나타내고,
    D는 유리 기판의 두께의 수치 값을 밀리미터(mm)로 나타내고,
    H는 유리 기판의 두께 범위의 수치 값을 마이크로미터(㎛)로 나타내고,
    N은 유리 기판의 킬로그램(Kg)당 갯수로 나타내는 가스 혼입물(gas inclusion) 및 고체 혼입물(solid inclusions)의 총 갯수를 나타내는 값이다).
  7. 제6항에 있어서,
    상기 K 값은 6.5 이하, 또는 6.0 이하, 또는 5.5 이하인 것인, 유리 물품.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 유리 물품은
    1) 용융을 포함하는 공정에 의해 원료 형태의 성분을 투명한 유리 용융물로 제조하는 단계;
    2) 상기 투명한 유리 용융물을 균질화(homogenizing)하는 단계; 및
    3) 균질화된 투명한 유리 용융물을 냉각 및 성형하는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되며,
    이때 상기 단계 1) 및 단계 2) 중 하나 또는 모두는 초음파 처리를 포함하고, 임의로, 상기 초음파 처리 동안 하나 이상의 로드가 유리 용융물로 삽입되는 것인, 유리 물품.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 초음파 처리는 50 내지 60 W/L의 평균 음향 에너지 밀도를 갖는 초음파를 사용하여 수행되거나/되고, 상기 초음파 처리는 25 내지 40 kHz의 초음파 주파수를 갖는 초음파를 사용하여 수행되는 것인, 유리 물품.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 초음파 처리는 1000 내지 1500 ℃, 1100 내지 1400 ℃, 또는 1200 내지 1300 ℃의 온도에서 수행되는 것인, 유리 물품.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 초음파 처리의 기간은 독립적으로 3 내지 60분, 5 내지 50분, 10 내지 40분, 또는 15 내지 30분인 것인, 유리 물품.
  12. 제8항에 있어서,
    복수의 초음파 처리가 사용되면, 각각의 초음파 처리들 사이의 시간 간격은 독립적으로 1 내지 20분, 2 내지 15분, 또는 5 내지 10분인 것인, 유리 물품.
  13. 제8항에 있어서,
    상기 로드는 삼각 프리즘, 사각 프리즘, 오각 프리즘, 육각 프리즘, 및 팔각 프리즘을 포함하는 프리즘 또는 실린더이고; 상기 실린더의 직경 또는 공칭 직경(nominal diameter) 또는 상기 프리즘의 외접원의 직경 또는 공칭 직경은 10 내지 30 밀리미터인 것인, 유리 물품.
  14. 제8항에 있어서,
    상기 로드는 유리 용융물에 불순물을 부여하지 않는 불활성 물질로부터 제조되고, 상기 로드는 Pt 및 Rh 중 하나 이상을 포함하는 물질로부터 제조되는 것인, 유리 물품.
  15. 제8항에 있어서,
    복수의 로드들 사이의 간격은 독립적으로 10 내지 50 mm이고, 복수의 로드는 어레이로 배열되는 것인, 유리 물품.
  16. SiO2, Al2O3, B2O3, CaO, MgO, SrO, SnO2 및 임의로 BaO로 이루어지는 유리 물품으로서,
    SiO2 100 중량부에 대해서, Al2O3의 함량은 20 내지 35 중량부이고, B2O3의 함량은 10 내지 22 중량부이고, CaO의 함량은 4 내지 17 중량부이고, MgO의 함량은 0 내지 10 중량부이고, SrO의 함량은 0.8 내지 1.5 중량부이고, SnO2의 함량은 0.1 내지 0.8 중량부이고, BaO의 함량은 0 내지 4 중량부이고,
    상기 유리 물품은 하기 실험식 I에 의해 산출시 1 내지 3의 M 값을 갖는 것인, 유리 물품:
    [실험식 I]
    M = 0.13 × wt (B2O3) × wt (B2O3) + 0.42 × wt (CaO) + 0.55 × wt (MgO) + 0.75 × wt (SrO) - 0.05 × wt (Al2O3) × wt (Al2O3)
    (상기 실험식 I에서,
    wt (B2O3)는 SiO2 100 중량부에 대한 B2O3의 중량부를 나타내고,
    wt (CaO)는 SiO2 100 중량부에 대한 CaO의 중량부를 나타내고,
    wt (MgO)는 SiO2 100 중량부에 대한 MgO의 중량부를 나타내고,
    wt (SrO)는 SiO2 100 중량부에 대한 SrO의 중량부를 나타내고,
    wt (Al2O3)는 SiO2 100 중량부에 대한 Al2O3의 중량부를 나타낸다).
  17. 삭제
  18. 제16항에 있어서,
    상기 Al2O3의 함량, B2O3의 함량, CaO의 함량, MgO의 함량, 및 SrO의 함량 중 하나 이상은 임의로 독립적으로 하기와 같이 정의되는 것인, 유리 물품:
    Al2O3의 함량은 25 내지 30 중량부임;
    B2O3의 함량은 15 내지 18 중량부임;
    CaO의 함량은 10 내지 14 중량부임;
    MgO의 함량은 1 내지 5 중량부, 또는 1.8 내지 3 중량부임; 또는
    SrO의 함량은 1.1 내지 1.5 중량부임.
  19. 제16항에 있어서,
    상기 SnO2의 함량 및 BaO의 함량 중 하나 이상은 임의로 독립적으로 하기와 같이 정의되는 것인, 유리 물품:
    상기 SnO2의 함량은 0.2 내지 0.7 중량부임; 또는
    상기 BaO의 함량은 0.5 내지 3 중량부임.
  20. 제16항에 있어서,
    상기 유리 물품은 유리 기판이고,
    상기 유리 기판은 하기 실험식 II에 의해 산출시 7.0 이하의 K 값을 갖는 것인, 유리 물품:
    [실험식 II]
    K = 1.5 × (X/Y) - 1.8 × D + 0.22 × H + 1.8 × N
    (상기 실험식 II에서,
    X/Y는 1.02 내지 1.24의 값을 갖는 유리 기판의 길이-폭 비율을 나타내고,
    D는 유리 기판의 두께의 수치 값을 밀리미터(mm)로 나타내고,
    H는 유리 기판의 두께 범위의 수치 값을 마이크로미터(㎛)로 나타내고,
    N은 유리 기판의 킬로그램(Kg)당 갯수로 나타내는 가스 혼입물(gas inclusion) 및 고체 혼입물(solid inclusions)의 총 갯수를 나타내는 값이다).
  21. 제20항에 있어서,
    상기 K 값은 6.5 이하, 6.0 이하, 또는 5.5 이하인 것인, 유리 물품.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 유리 물품은
    1) 용융을 포함하는 공정에 의해 원료 형태의 성분을 투명한 유리 용융물로 제조하는 단계;
    2) 상기 투명한 유리 용융물을 균질화(homogenizing)하는 단계; 및
    3) 균질화된 투명한 유리 용융물을 냉각 및 성형하는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되며,
    이때 상기 단계 1) 및 단계 2) 중 하나 또는 모두는 초음파 처리를 포함하고, 임의로, 상기 초음파 처리 동안 하나 이상의 로드가 유리 용융물로 삽입되는 것인, 유리 물품.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 초음파 처리는 50 내지 60 W/L의 평균 음향 에너지 밀도를 갖는 초음파를 사용하여 수행되거나/되고, 상기 초음파 처리는 25 내지 40 kHz의 초음파 주파수를 갖는 초음파를 사용하여 수행되는 것인, 유리 물품.
  24. 제22항에 있어서,
    상기 초음파 처리는 1000 내지 1500 ℃, 1100 내지 1400 ℃, 또는 1200 내지 1300 ℃의 온도에서 수행되는 것인, 유리 물품.
  25. 제22항에 있어서,
    상기 초음파 처리의 기간은 독립적으로 3 내지 60분, 5 내지 50분, 10 내지 40분, 또는 15 내지 30분인 것인, 유리 물품.
  26. 제22항에 있어서,
    복수의 초음파 처리가 사용되면, 각각의 초음파 처리들 사이의 시간 간격은 독립적으로 1 내지 20분, 2 내지 15분, 또는 5 내지 10분인 것인, 유리 물품.
  27. 제22항에 있어서,
    상기 로드는 삼각 프리즘, 사각 프리즘, 오각 프리즘, 육각 프리즘, 및 팔각 프리즘을 포함하는 프리즘 또는 실린더이고; 상기 실린더의 직경 또는 공칭 직경(nominal diameter) 또는 상기 프리즘의 외접원의 직경 또는 공칭 직경은 10 내지 30 밀리미터인 것인, 유리 물품.
  28. 제22항에 있어서,
    상기 로드는 유리 용융물에 불순물을 부여하지 않는 불활성 물질로부터 제조되고, 상기 로드는 Pt 및 Rh 중 하나 이상을 포함하는 물질로부터 제조되는 것인, 유리 물품.
  29. 제22항에 있어서,
    복수의 로드들 사이의 간격은 독립적으로 10 내지 50 mm이고, 복수의 로드는 어레이로 배열되는 것인, 유리 물품.
  30. 제5항 내지 제16항 및 제18항 내지 제29항 중 어느 한 항에 기재된 유리 물품을 포함하는 디스플레이 장치.
  31. 제30항에 있어서,
    상기 디스플레이 장치는 디스플레이 스크린, 텔레비전, 터치 스크린, 편평한 패널 디스플레이, 또는 편평한 패널 디스플레이 장치, 휴대용 디스플레이 장치, 및 휴대폰 또는 통신 장치인 것인, 디스플레이 장치.
  32. 제5항 내지 제16항 및 제18항 내지 제29항 중 어느 한 항의 유리 물품을 사용하는 디스플레이 장치의 제조방법.
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