KR102345117B1 - Multilayered capacitor - Google Patents

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KR102345117B1
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Abstract

서로 대향하는 제1 및 제2 면과 상기 제1 및 제2 면과 연결되고 서로 대향하는 제3 및 제4 면을 포함하고, 유전체층과 상기 유전체층을 사이에 두고 번갈아 배치되고 상기 제3 및 제4 면을 통해 노출되고 상기 제1 및 제2 면을 통해 각각 노출되는 제1 및 제2 내부 전극을 포함하는 커패시터 바디; 및 상기 커패시터 바디의 제3 및 제4 면 중 적어도 일부에 상기 제1 및 제2 내부 전극의 노출된 부분을 커버하도록 형성되는 비정질 유전체 박막;을 포함하는 적층형 커패시터가 개시된다.It includes first and second surfaces facing each other and third and fourth surfaces connected to the first and second surfaces and facing each other, wherein the third and fourth surfaces are alternately disposed with a dielectric layer and the dielectric layer interposed therebetween. a capacitor body exposed through a surface and including first and second internal electrodes exposed through the first and second surfaces, respectively; and an amorphous dielectric thin film formed on at least a portion of the third and fourth surfaces of the capacitor body to cover the exposed portions of the first and second internal electrodes.

Description

적층형 커패시터{MULTILAYERED CAPACITOR}Multilayer Capacitor {MULTILAYERED CAPACITOR}

본 발명은 적층형 커패시터에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer capacitor.

적층형 커패시터는 소형이면서도 고용량이 보장되고 실장이 용이하다는 장점으로 인하여 컴퓨터, PDA, 휴대폰 등의 이동 통신장치의 부품으로서 널리 사용되고 있다.Multilayer capacitors are widely used as parts of mobile communication devices such as computers, PDAs, and mobile phones because of their small size, high capacity, and easy mounting.

최근 전자제품이 소형화 및 다기능화됨에 따라 적층형 커패시터 분야에서는 전체 부피 대비 용량에 기여하는 부피의 비율을 의미하는 유효 부피율을 증가시키는 것이 주요한 이슈가 되고 있다. Recently, as electronic products are miniaturized and multifunctional, increasing the effective volume ratio, which means the ratio of the volume contributing to the capacity to the total volume, has become a major issue in the field of multilayer capacitors.

유효 부피율을 증가시키기 위한 종래 기술로써, 유전체층의 적층에 의해 형성된 커패시터 바디의 측면 부분을 컷오프하여 내부 전극을 절단면으로 노출시킨 후, 이 절단면에 유전체 시트를 전사하고 소성하는 기술이 개발되어 있다. As a conventional technique for increasing the effective volume ratio, a technique has been developed in which a side portion of a capacitor body formed by lamination of dielectric layers is cut off to expose internal electrodes as a cut surface, and then a dielectric sheet is transferred to the cut surface and fired.

그런데, 이러한 시트 전사 방식의 경우 제조 과정에서 커패시터 바디에 많은 압력이 가해질 뿐만 아니라, 바디의 양 측면에 유전체 시트를 각각 형성하기 위해 많은 공정이 추가되기 때문에 공정 중 작업 불량이 많아져 양산성이 낮으며, 품질 산포 방지에 많은 어려움이 있다. 뿐만 아니라, 시트 전사 방식의 경우, 시트 전사 후 소성 공정이 진행되는 점에서 유전체층과 유전체 시트는 필연적으로 동일한 유전체로 이뤄져야만 하며, 이에 따라, 커패시터 용량 개선과 내습신뢰성 확보를 동시에 달성하기 어려운 문제가 있었다.However, in the case of this sheet transfer method, not only a lot of pressure is applied to the capacitor body during the manufacturing process, but also a lot of processes are added to form dielectric sheets on both sides of the body, so the number of defects in the process increases and mass production is low. and there are many difficulties in preventing quality dispersion. In addition, in the case of the sheet transfer method, since the firing process is performed after the sheet transfer, the dielectric layer and the dielectric sheet must inevitably be made of the same dielectric. there was.

본 발명의 여러 목적 중 하나는, 내습신뢰성이 우수한 고용량 적층형 커패시터를 제공하는 것이다.One of several objects of the present invention is to provide a high-capacity multilayer capacitor having excellent moisture resistance.

본 발명의 일 측면은, 서로 대향하는 제1 및 제2 면과 상기 제1 및 제2 면과 연결되고 서로 대향하는 제3 및 제4 면을 포함하고, 유전체층과 상기 유전체층을 사이에 두고 번갈아 배치되고 상기 제3 및 제4 면을 통해 노출되고 상기 제1 및 제2 면을 통해 각각 노출되는 제1 및 제2 내부 전극을 포함하는 커패시터 바디, 및 상기 커패시터 바디의 제3 및 제4 면에 상기 제1 및 제2 내부 전극의 노출된 부분을 커버하도록 형성되는 비정질 유전체 박막을 포함하는 적층형 커패시터를 제공한다.One aspect of the present invention includes first and second surfaces facing each other and third and fourth surfaces connected to the first and second surfaces and facing each other, and arranged alternately with a dielectric layer and the dielectric layer interposed therebetween. a capacitor body comprising first and second internal electrodes exposed through the third and fourth surfaces and exposed through the first and second surfaces, respectively, and the third and fourth surfaces of the capacitor body; Provided is a multilayer capacitor including an amorphous dielectric thin film formed to cover exposed portions of first and second internal electrodes.

본 발명의 다른 측면은, 복수 개의 스트라이프형 제1 내부 전극 패턴이 소정의 간격을 두고 형성된 제1 세라믹 그린시트 및 복수 개의 스트라이프형 제2 내부 전극 패턴이 소정의 간격을 두고 형성된 제2 세라믹 그린시트를 마련하는 단계, 상기 스트라이프형 제1 내부 전극 패턴과 상기 스트라이프형 제2 내부 전극 패턴이 교차되도록 상기 제1 세라믹 그린시트와 상기 제2 세라믹 그린시트를 적층하여 세라믹 그린시트 적층체를 형성하는 단계, 상기 세라믹 그린시트 적층체를 상기 제1 및 제2 내부 전극 패턴의 형성 방향과 수직한 방향으로 절단하여, 일정 폭을 갖는 복수의 제1 및 제2 내부 전극을 포함하고, 상기 복수의 제1 및 제2 내부 전극이 상기 폭 방향으로 노출된 제3 및 제4 면을 가지는 막대형 적층체를 얻는 단계, 상기 막대형 적층체를 상기 제1 및 제2 내부 전극 패턴의 형성 방향과 평행한 방향으로 절단하여, 상기 복수의 제1 및 제2 내부 전극의 일단이 각각 노출된 제1 및 제2 면을 가지는 적층체를 얻는 단계, 상기 적층체를 소성하여 커패시터 바디를 얻는 단계, 및 상기 커패시터 바디의 표면에 비정질 유전체 박막을 형성하는 단계를 포함하는 적층형 커패시터의 제조방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, a first ceramic green sheet in which a plurality of stripe-type first internal electrode patterns are formed at predetermined intervals and a second ceramic green sheet in which a plurality of stripe-type second internal electrode patterns are formed at predetermined intervals are provided. forming a ceramic green sheet laminate by stacking the first ceramic green sheet and the second ceramic green sheet so that the stripe-shaped first internal electrode pattern and the stripe-shaped second internal electrode pattern intersect. , the ceramic green sheet laminate is cut in a direction perpendicular to the formation direction of the first and second internal electrode patterns to include a plurality of first and second internal electrodes having a predetermined width, and the plurality of first internal electrodes and obtaining a rod-shaped laminate having third and fourth surfaces exposed in the width direction of the second internal electrode, wherein the rod-shaped laminate is arranged in a direction parallel to the formation direction of the first and second internal electrode patterns. cutting to obtain a laminate having first and second surfaces in which one ends of the plurality of first and second internal electrodes are exposed, respectively, sintering the laminate to obtain a capacitor body, and the capacitor body It provides a method of manufacturing a multilayer capacitor comprising the step of forming an amorphous dielectric thin film on the surface of the.

본 발명의 일 실시 예에 따른 적층형 커패시터는 유효 부비율이 높아 커패시터 용량이 큰 장점이 있다.The multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention has an advantage in that the effective negative ratio is high and thus the capacitor capacity is large.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 따른 적층형 커패시터는 내습 신뢰성이 우수한 장점이 있다.In addition, the multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention has the advantage of excellent moisture resistance reliability.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 적층형 커패시터를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1에서 제1 및 제2 외부 전극과 유전체 박막이 제외된 커패시터 바디를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 1의 A-A'선에 따른 단면도이고, 도 4는 도 1의 B-B'선에 따른 단면도이다.
도 5 내지 도 13는 본 발명의 일 실시 예에 따른 적층형 커패시터의 개략적인 제조 공정의 일 예를 나타낸다.
1 is a perspective view schematically illustrating a multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view schematically illustrating a capacitor body in FIG. 1 in which first and second external electrodes and a dielectric thin film are excluded.
3 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 1 , and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 1 .
5 to 13 show an example of a schematic manufacturing process of a multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시 예를 상세히 설명한다. 본 실시 예들은 다른 형태로 변형되거나 여러 실시 예가 서로 조합될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 예로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시 예들은 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 예를 들어, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present embodiments may be modified in other forms or various embodiments may be combined with each other, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. In addition, the present embodiments are provided to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. For example, shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer description.

한편, 본 명세서에서 사용되는 "일 실시 예(one example)"라는 표현은 서로 동일한 실시 예를 의미하지 않으며, 각각 서로 다른 고유한 특징을 강조하여 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 그러나, 아래 설명에서 제시된 실시 예들은 다른 실시 예의 특징과 결합되어 구현되는 것을 배제하지 않는다. 예를 들어, 특정한 실시 예에서 설명된 사항이 다른 실시 예에서 설명되어 있지 않더라도, 다른 실시 예에서 그 사항과 반대되거나 모순되는 설명이 없는 한, 다른 실시 예에 관련된 설명으로 이해될 수 있다.Meanwhile, the expression “one example” used in this specification does not mean the same embodiment as each other, and is provided to emphasize and explain different unique features. However, the embodiments presented in the description below are not excluded from being implemented in combination with features of other embodiments. For example, even if a matter described in a particular embodiment is not described in another embodiment, it may be understood as a description related to another embodiment unless a description contradicts or contradicts the matter in another embodiment.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 적층형 커패시터를 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1에서 제1 및 제2 외부 전극과 유전체 박막이 제외된 커패시터 바디를 개략적으로 나타낸 사시도이며, 도 3은 도 1의 A-A'선에 따른 단면도이고, 도 4는 도 1의 B-B'선에 따른 단면도이다.1 is a perspective view schematically showing a multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view schematically showing a capacitor body in FIG. 1 , in which first and second external electrodes and a dielectric thin film are excluded, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 1 , and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 1 .

도 1에 나타난 바를 기준으로 하면, 하기의 설명에서 '길이' 방향은 도 1의 'L' 방향, '폭' 방향은 'W' 방향, '두께' 방향은 'T' 방향으로 정의될 수 있다. 여기서, '두께 방향'은 유전체층을 쌓아 올리는 방향 즉 '적층 방향'과 동일한 개념으로 사용할 수 있다.1, in the following description, the 'length' direction may be defined as the 'L' direction of FIG. 1, the 'width' direction may be defined as the 'W' direction, and the 'thickness' direction may be defined as the 'T' direction. . Here, the 'thickness direction' may be used as the same concept as the direction in which the dielectric layers are stacked, that is, the 'stacking direction'.

이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 일 측면인 적층형 커패시터에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a multilayer capacitor, which is an aspect of the present invention, will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 4 .

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 적층형 커패시터는 커패시터 바디(110); 비정질 유전체 박막(113) 및 제1 및 제2 외부 전극(131, 132)을 포함하여 구성될 수 있다.1 to 4 , a multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention includes a capacitor body 110 ; It may be configured to include an amorphous dielectric thin film 113 and first and second external electrodes 131 and 132 .

커패시터 바디(110)의 형상에는 특별히 제한은 없으나, 도 2에 도시된 바와 같이, 커패시터 바디(110)는 육면체 형상으로 이루어질 수 있다. 칩 소성시 유전체 분말의 소성 수축으로 인하여, 상기 커패시터 바디(110)는 완전한 육면체 형상은 아니지만 실질적으로 육면체 형상을 가질 수 있다. 이 경우, 커패시터 바디(110)는 길이 방향으로 서로 대향하는 제1 및 제2 면(S1 및 S2), 제1 및 제2면과 연결되고, 폭 방향으로 서로 대향하는 제3 및 제4 면(S3 및 S4), 제1 및 제2면과 연결되고, 높이 방향으로 서로 대향하는 제5 및 제6 면(S5 및 S6)을 가질 수 있다.The shape of the capacitor body 110 is not particularly limited, but as shown in FIG. 2 , the capacitor body 110 may have a hexahedral shape. Due to the firing shrinkage of the dielectric powder during chip firing, the capacitor body 110 may not have a perfect hexahedral shape, but may have a substantially hexahedral shape. In this case, the capacitor body 110 is connected to the first and second surfaces S1 and S2 opposite to each other in the longitudinal direction, the first and second surfaces, and third and fourth surfaces opposite to each other in the width direction ( S3 and S4), and may have fifth and sixth surfaces S5 and S6 connected to the first and second surfaces and facing each other in the height direction.

커패시터 바디(110)는 유전체층(112)과 상기 유전체층(112)을 사이에 두고 번갈아 배치되고 상기 제1 및 제2면(S1 및 S2)을 통해 각각 노출되는 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)을 포함한다. 커패시터 바디(110)를 구성하는 복수의 유전체층(112)은 소결된 상태로서, 인접하는 유전체층 간의 경계는 주사전자현미경(SEM: Scanning Electron Microscope)를 이용하지 않고 확인할 수 없을 정도로 일체화되어 있을 수 있다.The capacitor body 110 includes first and second internal electrodes 121, which are alternately disposed with a dielectric layer 112 and the dielectric layer 112 interposed therebetween and exposed through the first and second surfaces S1 and S2, respectively. 122). The plurality of dielectric layers 112 constituting the capacitor body 110 are in a sintered state, and the boundary between adjacent dielectric layers may be integrated to the extent that it cannot be confirmed without using a scanning electron microscope (SEM).

유전체층(112)은 고유전율을 갖는 결정질 세라믹 파우더, 예를 들어 티탄산바륨(BaTiO3)계, 납 복합 페로브스카이트계 또는 티탄산스트론튬(SrTiO3)계 파우더 등을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 티탄산바륨(BaTiO3)계 파우더가 사용될 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 한편, 유전체층(112)에는 상기 결정질 세라믹 분말과 함께 필요에 따라 세라믹 첨가제, 유기용제, 가소제, 결합제 및 분산제 중 적어도 하나 이상이 더 첨가될 수 있다.The dielectric layer 112 may include a crystalline ceramic powder having a high dielectric constant, for example, barium titanate (BaTiO 3 )-based, lead composite perovskite-based, or strontium titanate (SrTiO 3 )-based powder, and the like, preferably titanic acid. A barium (BaTiO 3 )-based powder may be used, but the present invention is not necessarily limited thereto. Meanwhile, at least one of a ceramic additive, an organic solvent, a plasticizer, a binder, and a dispersant may be further added to the dielectric layer 112 together with the crystalline ceramic powder as needed.

커패시터 바디(110)의 제5 및 제6 면(S5 및 S6) 중 적어도 일면에는 내부 전극 패턴이 미형성된 커버 영역이 구비되어 있을 수 있다. 이러한 커버 영역은 전극 패턴이 형성되지 않은 1개 또는 2개 이상의 유전체층을 커패시터 바디의 최상부 및/또는 최하부에 적층하여 마련할 수 있으며, 기본적으로 물리적 또는 화학적 스트레스에 의한 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)의 손상을 방지하는 역할을 수행할 수 있다.At least one of the fifth and sixth surfaces S5 and S6 of the capacitor body 110 may include a cover region in which an internal electrode pattern is not formed. Such a cover region may be provided by laminating one or two or more dielectric layers on which an electrode pattern is not formed on the top and/or bottom of the capacitor body. Basically, the first and second internal electrodes ( 121, 122) may serve to prevent damage.

제1 및 제2 내부 전극(121, 122)은 서로 다른 극성을 갖는 전극으로, 커패시터 바디(110) 내 유전체층(112)을 사이에 두고 두께 방향으로 번갈아 배치되고, 커패시터 바디(110)의 제1 및 제2면(S1 및 S2)을 통해 각각 노출된다.The first and second internal electrodes 121 and 122 are electrodes having different polarities, and are alternately disposed in the thickness direction with the dielectric layer 112 in the capacitor body 110 interposed therebetween. and through the second surfaces S1 and S2, respectively.

제1 및 제2 내부 전극(121, 122)은 유전체층(112) 상에 소정의 두께로 도전성 금속을 포함하는 도전성 페이스트를 인쇄하여 형성될 수 있으며, 그 사이에 배치된 유전체층(112)에 의해 서로 전기적으로 절연될 수 있다.The first and second internal electrodes 121 and 122 may be formed by printing a conductive paste including a conductive metal to a predetermined thickness on the dielectric layer 112 , and may be formed from each other by the dielectric layer 112 disposed therebetween. may be electrically insulated.

상기 도전성 페이스트에 포함되는 금속은, 예컨대, 니켈(Ni), 구리(Cu), 팔라듐(Pd) 또는 이들의 합금일 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The metal included in the conductive paste may be, for example, nickel (Ni), copper (Cu), palladium (Pd), or an alloy thereof, but the present invention is not limited thereto.

또한, 상기 도전성 페이스트의 인쇄는 스크린 인쇄법, 그라비아 인쇄법 등에 의할 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, the conductive paste may be printed by a screen printing method, a gravure printing method, or the like, but the present invention is not necessarily limited thereto.

제1 및 제2 내부 전극(121, 122)의 두께 방향으로 서로 오버랩되는 면적은 커패시터의 용량 형성과 연관이 있으며, 그 면적이 증가할수록 커패시터의 용량이 증가하게 된다. 도 2를 통해 알 수 있듯이, 본 발명에 따른 적층형 커패시터의 경우, 제1 및 제2 내부 전극(121, 122) 각각이 유전체층(112)의 폭방향에 대하여 전체적으로 형성되기 때문에 내부 전극의 중첩 면적을 극대화할 수 있으며, 이에 따라, 적층형 커패시터의 체적 대비 커패시터의 용량이 큰 장점이 있다.An area overlapping each other in the thickness direction of the first and second internal electrodes 121 and 122 is related to the formation of capacitance of the capacitor, and as the area increases, the capacitance of the capacitor increases. As can be seen from FIG. 2 , in the case of the multilayer capacitor according to the present invention, since each of the first and second internal electrodes 121 and 122 is formed entirely in the width direction of the dielectric layer 112 , the overlapping area of the internal electrodes is increased. This can be maximized, and accordingly, there is an advantage in that the capacity of the capacitor compared to the volume of the multilayer capacitor is large.

비정질 유전체 박막(113)은 커패시터 바디의 적어도 제3 및 제4면에 형성되어, 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)의 외부 노출을 막아 전기 절연을 구현하며, 커패시터 바디(110)의 내부로 수분이 침투하는 것을 방지하여 적층형 커패시터의 내습 신뢰성 개선에 기여한다. The amorphous dielectric thin film 113 is formed on at least the third and fourth surfaces of the capacitor body to prevent external exposure of the first and second internal electrodes 121 and 122 to implement electrical insulation, and It prevents moisture from penetrating into the interior and contributes to the improvement of the moisture resistance reliability of the multilayer capacitor.

일반적으로 적층형 커패시터를 구성하는 유전체로는 고유전율 확보를 위해 결정질 유전체가 이용되는데, 이러한 결정질 유전체의 경우 내전압 특성이 취약하여 전기 절연성이 낮은 단점이 있다. 이에, 본 발명에서는 비정질 유전체 박막에 의해 제1 및 제2 내부 전극의 전기 절연을 구현코자 하며, 이에 따라, 매우 얇은 두께로도 제1 및 제2 내부 전극의 전기 절연을 달성할 수 있는 장점이 있다. In general, as a dielectric constituting a multilayer capacitor, a crystalline dielectric is used to secure a high dielectric constant, but the crystalline dielectric has a disadvantage in that electrical insulation is low due to weak withstand voltage characteristics. Accordingly, in the present invention, the electrical insulation of the first and second internal electrodes is implemented by an amorphous dielectric thin film, and accordingly, the advantage of achieving electrical insulation of the first and second internal electrodes even with a very thin thickness have.

비정질 유전체 박막(113)은 커패시터 바디(110)에서 제1 및 제2 외부 전극(131, 132)이 형성되지 않은 영역에 전반에 걸쳐 형성되어 있을 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. The amorphous dielectric thin film 113 may be formed over an area of the capacitor body 110 in which the first and second external electrodes 131 and 132 are not formed, but is not limited thereto.

비정질 유전체 박막(113)을 이루는 유전체 물질로는 내습성이 우수한 물질을 선택함이 바람직하며, 내습성이 우수한 유전체 물질의 일 예로는, Al2O3, Si3N4, SiO2 및 페릴렌(parylene)을 들 수 있다. 이는 만약 내습성이 열위할 경우, 신뢰성 확보를 위해 비정질 유전체 박막을 일정 수준 이상으로 두껍게 형성하여야만 하며, 이 경우, 내부 전극 중첩 면적을 극대화하고자 하는 목적 달성이 곤란하기 때문이다. As the dielectric material forming the amorphous dielectric thin film 113 , a material having excellent moisture resistance is preferably selected, and examples of the dielectric material having excellent moisture resistance include Al 2 O 3 , Si 3 N 4 , SiO 2 , and perylene. (parylene). This is because, if moisture resistance is poor, the amorphous dielectric thin film must be formed to be thicker than a certain level in order to secure reliability, and in this case, it is difficult to achieve the purpose of maximizing the overlapping area of the internal electrodes.

그런데, 전술한 바와 같이, 종래의 시트 전사 방식의 경우 유전체 시트 전사 후 소성 공정이 진행되는 점에서 유전체층과 유전체 시트는 필연적으로 동일한 유전체로 이뤄져야만 하며, 이에 따라, 커패시터 용량 향상과 내습신뢰성 확보를 동시에 달성하기 어려운 문제가 있었다.However, as described above, in the case of the conventional sheet transfer method, the dielectric layer and the dielectric sheet must inevitably be made of the same dielectric in that the firing process is performed after the dielectric sheet is transferred. At the same time, there were problems that were difficult to achieve.

그러나, 이와 달리, 본 발명의 경우, 후술할 바와 같이, 비정질 유전체 박막(113)을 증착에 의해 형성하기 때문에 비정질 유전체 박막(113)에 포함되는 유전체의 종류에 제한이 없을 뿐 아니라, 비정질 유전체 박막(113)의 극박화가 가능하기 때문에 커패시터 용량 향상과 내습신뢰성 확보를 동시에 달성할 수 있는 장점이 있다.However, in the case of the present invention, as will be described later, since the amorphous dielectric thin film 113 is formed by deposition, there is no limitation to the type of dielectric included in the amorphous dielectric thin film 113 and the amorphous dielectric thin film 113 is not limited. Since ultrathin (113) is possible, there is an advantage in that capacitor capacity improvement and moisture resistance reliability can be achieved at the same time.

제한되지 않는 일 예에 따르면, 비정질 유전체 박막(113)의 최대 두께(d)는 5μm 이하(0μm 제외)일 수 있고, 보다 바람직하게는, 5μm 이하(0μm 제외)일 수 있다. 만약, 비정질 유전체 박막(113)의 최대 두께(d)가 5μm를 초과할 경우, 유전체 박막의 내부 스트레스(stress)로 인해 유전체 박막이 불안정해지는 문제가 야기될 수 있다.According to a non-limiting example, the maximum thickness d of the amorphous dielectric thin film 113 may be 5 μm or less (excluding 0 μm), and more preferably, 5 μm or less (excluding 0 μm). If the maximum thickness d of the amorphous dielectric thin film 113 exceeds 5 μm, the dielectric thin film may become unstable due to internal stress of the dielectric thin film.

제1 및 제2 외부 전극(131, 132)은 커패시터 바디(110)의 제1 및 제2 면(S1 및 S2)에 각각 형성되고, 제1 및 제2면을 통해 노출되는 제1 및 제2 내부 전극(121, 122)과 각각 접속된다. The first and second external electrodes 131 and 132 are respectively formed on the first and second surfaces S1 and S2 of the capacitor body 110 , and first and second exposed through the first and second surfaces. They are respectively connected to the internal electrodes 121 and 122 .

이러한 제1 및 제2 외부 전극(131, 132)은 도전성 금속을 포함하는 도전성 페이스트에 의해 형성될 수 있다. The first and second external electrodes 131 and 132 may be formed of a conductive paste including a conductive metal.

또한, 상기 도전성 금속은 예컨대 니켈(Ni), 구리(Cu), 팔라듐(Pd), 금(Au) 또는 이들의 합금일 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, the conductive metal may be, for example, nickel (Ni), copper (Cu), palladium (Pd), gold (Au), or an alloy thereof, but the present invention is not limited thereto.

이하, 본 발명의 다른 측면인 적층형 커패시터의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method for manufacturing a multilayer capacitor, which is another aspect of the present invention, will be described in detail.

도 5 내지 도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 적층형 커패시터의 개략적인 제조 공정의 일 예를 나타낸다.5 to 13 show an example of a schematic manufacturing process of a multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 5에 도시된 바와 같이, 세라믹 그린시트(212a) 위에 소정의 간격(d1)을 두고 복수 개의 스트라이프형 제1 내부 전극 패턴(221a)을 형성한다. 이 경우, 복수 개의 스트라이프형 제1 내부 전극 패턴(221a)은 서로 평행하게 형성될 수 있다. 이때, 소정의 간격(d1)은 내부 전극이 서로 다른 극성을 갖는 외부 전극과 절연되기 위한 거리의 두 배에 해당한다.First, as shown in FIG. 5 , a plurality of stripe-shaped first internal electrode patterns 221a are formed on the ceramic green sheet 212a with a predetermined interval d1 . In this case, the plurality of stripe-shaped first internal electrode patterns 221a may be formed parallel to each other. In this case, the predetermined distance d1 corresponds to twice the distance for the inner electrode to be insulated from the outer electrode having different polarities.

세라믹 그린시트(212a)는 결정질 세라믹 파우더, 유기 용제 및 유기 바인더를 포함하는 세라믹 페이스트로 형성될 수 있다. 결정질 세라믹 파우더는 높은 유전율을 갖는 물질로서, 티탄산바륨(BaTiO3)계, 납 복합 페로브스카이트계 또는 티탄산스트론튬(SrTiO3)계 파우더 등을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 티탄산바륨(BaTiO3)계 파우더가 사용될 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 세라믹 그린시트(212a)가 소성되면 커패시터 바디를 구성하는 유전체층이 된다. The ceramic green sheet 212a may be formed of a ceramic paste including crystalline ceramic powder, an organic solvent, and an organic binder. The crystalline ceramic powder is a material having a high dielectric constant, and barium titanate (BaTiO 3 )-based, lead composite perovskite-based, or strontium titanate (SrTiO 3 )-based powder may be used, and preferably barium titanate (BaTiO3)-based powder. may be used, but is not necessarily limited thereto. When the ceramic green sheet 212a is fired, it becomes a dielectric layer constituting the capacitor body.

스트라이프형 제1 내부전극 패턴(221a)은 도전성 금속을 포함하는 내부전극 페이스트에 의하여 형성될 수 있다. 상기 도전성 금속은 이에 제한되는 것은 아니나, 니켈(Ni), 구리(Cu), 팔라듐(Pd) 또는 이들의 합금일 수 있다.The stripe-shaped first internal electrode pattern 221a may be formed of an internal electrode paste including a conductive metal. The conductive metal is not limited thereto, but may be nickel (Ni), copper (Cu), palladium (Pd), or an alloy thereof.

세라믹 그린시트(212a) 상에 스트라이프형 제1 내부전극 패턴(221a)을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들면 스크린 인쇄법 또는 그라비아 인쇄법과 같은 인쇄법을 통해 형성될 수 있다.A method of forming the stripe-type first internal electrode pattern 221a on the ceramic green sheet 212a is not particularly limited, but may be formed by, for example, a printing method such as a screen printing method or a gravure printing method.

또한, 도시되지 않았으나, 또 다른 세라믹 그린시트(212a) 위에 소정의 간격을 두고 복수 개의 스트라이프형 제2 내부전극 패턴(222a)을 형성할 수 있다. Also, although not shown, a plurality of stripe-type second internal electrode patterns 222a may be formed on another ceramic green sheet 212a at predetermined intervals.

이하, 제1 내부전극 패턴(221a)이 형성된 세라믹 그린시트는 제1 세라믹 그린시트로 지칭될 수 있고, 제2 내부전극 패턴(222a)이 형성된 세라믹 그린시트는 제2 세라믹 그린시트로 지칭될 수 있다.Hereinafter, the ceramic green sheet on which the first internal electrode pattern 221a is formed may be referred to as a first ceramic green sheet, and the ceramic green sheet on which the second internal electrode pattern 222a is formed may be referred to as a second ceramic green sheet. have.

다음으로, 도 6에 도시된 바와 같이, 스트라이프형 제1 내부전극 패턴(221a)과 스트라이프형 제2 내부전극 패턴(222a)이 교차 적층되도록 제1 및 제2 세라믹 그린시트를 번갈아가며 적층하여 세라믹 그린시트 적층체(211a)를 형성할 수 있다. 상기 스트라이프형 제1 내부전극 패턴(221a)은 제1 내부전극(121)을 형성할 수 있고, 스트라이프형 제2 내부전극 패턴(222a)은 제2 내부전극(122)을 형성할 수 있다.Next, as shown in FIG. 6 , the first and second ceramic green sheets are alternately stacked so that the stripe-shaped first internal electrode pattern 221a and the stripe-shaped second internal electrode pattern 222a are cross-stacked to form a ceramic material. A green sheet laminate 211a may be formed. The stripe-shaped first internal electrode pattern 221a may form a first internal electrode 121 , and the stripe-shaped second internal electrode pattern 222a may form a second internal electrode 122 .

이 경우, 도시되지 않았으나, 세라믹 그린시트 적층체(211a)의 상면 및 하면 중 적어도 일면에는 내부 전극 패턴이 미형성된 세라믹 그린시트가 복수 개 적층된 커버 영역이 구비되어 있을 수 있다.In this case, although not shown, a cover area in which a plurality of ceramic green sheets on which internal electrode patterns are not formed are stacked may be provided on at least one of the upper and lower surfaces of the ceramic green sheet laminate 211a.

도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따라 제1 및 제2 세라믹 그린 시트가 적층된 세라믹 그린시트 적층체(211a)를 도시하는 단면도이고, 도 8은 제1 및 제2 세라믹 그린 시트가 적층된 세라믹 그린시트 적층체(211a)를 도시하는 사시도이다. 7 is a cross-sectional view illustrating a ceramic green sheet laminate 211a in which first and second ceramic green sheets are laminated according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view in which the first and second ceramic green sheets are laminated. It is a perspective view which shows the ceramic green sheet laminated body 211a.

도 7 및 도 8을 참조하면, 복수 개의 평행한 스트라이프형 제1 내부전극 패턴(221a)이 인쇄된 제1 세라믹 그린시트와 복수 개의 평행한 스트라이프형 제2 내부전극 패턴(222a)이 인쇄된 제2 세라믹 그린시트는 서로 번갈아가며 적층되어 있다.7 and 8 , a first ceramic green sheet on which a plurality of parallel stripe-type first internal electrode patterns 221a are printed and a second ceramic green sheet on which a plurality of parallel stripe-type second internal electrode patterns 222a are printed 2 Ceramic green sheets are alternately stacked on each other.

이 경우, 제1 세라믹 그린시트에 인쇄된 스트라이프형 제1 내부 전극 패턴(221a) 각각의 폭방향 중심과 제2 세라믹 그린시트에 인쇄된 복수 개의 스트라이프형 제2 내부전극 패턴(222a) 사이의 소정의 간격의 폭 방향 중심이 중첩되도록 적층될 수 있다.In this case, a predetermined distance between the center of each of the stripe-shaped first internal electrode patterns 221a printed on the first ceramic green sheet and the plurality of stripe-shaped second internal electrode patterns 222a printed on the second ceramic green sheet is used. may be stacked so that the width direction centers of the intervals of .

다음으로, 도 8에 도시된 바와 같이, 세라믹 그린시트 적층체(211a)를 제1 및 제2 내부 전극 패턴(221a, 222a)의 형성 방향과 수직한 방향으로 절단할 수 있다. 즉, 상기 세라믹 그린시트 적층체(211a)는 C1-C1 절단선을 따라 막대형 적층체(211b)로 절단될 수 있다.Next, as shown in FIG. 8 , the ceramic green sheet laminate 211a may be cut in a direction perpendicular to the formation direction of the first and second internal electrode patterns 221a and 222a. That is, the ceramic green sheet laminate 211a may be cut into the bar-type laminate 211b along the C1-C1 cutting line.

보다 구체적으로, 스트라이프형 제1 내부전극 패턴(221a) 및 스트라이프형 제2 내부전극 패턴(222a)은 길이 방향으로 절단되어 일정한 폭을 갖는 복수 개의 내부전극으로 분할될 수 있다. 이때, 적층된 세라믹 그린시트도 내부전극 패턴과 함께 절단된다. 이에 따라 유전체층은 내부전극의 폭과 동일한 폭을 갖도록 형성될 수 있다.More specifically, the stripe-shaped first internal electrode pattern 221a and the stripe-shaped second internal electrode pattern 222a may be cut in the longitudinal direction to be divided into a plurality of internal electrodes having a constant width. At this time, the laminated ceramic green sheet is also cut together with the internal electrode pattern. Accordingly, the dielectric layer may be formed to have the same width as that of the internal electrode.

이 경우, 막대형 적층체(211b)의 절단면으로 제1 및 제2 내부전극이 노출되게 되며, 막대형 적층체의 절단면은 각각 막대형 적층체의 제3 및 제4 면으로 지칭될 수 있다.In this case, the first and second internal electrodes are exposed through the cut surfaces of the rod-shaped laminate 211b, and the cut surfaces of the rod-shaped stacked body may be referred to as third and fourth surfaces of the rod-shaped laminate, respectively.

다음으로, 도 9에 도시된 바와 같이, 막대형 적층체(211b)를 제1 및 제2 내부 전극의 형성 방향과 평행한 방향으로 절단할 수 있다. 즉, 상기 막대형 적층체(211b)는 C2-C2 절단선을 따라 개별적인 칩 사이즈에 맞게 절단되어 개별 적층체(211c)가 얻어진다.Next, as shown in FIG. 9 , the rod-shaped laminate 211b may be cut in a direction parallel to the formation direction of the first and second internal electrodes. That is, the rod-shaped laminate 211b is cut to fit individual chip sizes along the C2-C2 cutting line to obtain an individual laminate 211c.

보다 구체적으로, C2-C2 절단선은 제1 세라믹 그린시트에 인쇄된 스트라이프형 제1 내부 전극 패턴(221a) 각각의 폭방향 중심과 제2 세라믹 그린시트에 인쇄된 복수 개의 스트라이프형 제2 내부전극 패턴(222a) 사이의 소정의 간격의 폭 방향 중심을 관통하며, 이에 따라, 개별 적층체(221c)는 제1 및 제2 내부 전극의 일단이 각각 노출된 제1 및 제2 면을 갖게 된다.More specifically, the C2-C2 cut line is the center of each of the stripe-shaped first internal electrode patterns 221a printed on the first ceramic green sheet in the width direction and the plurality of stripe-shaped second internal electrodes printed on the second ceramic green sheet. Penetrating through the center of the width direction with a predetermined interval between the patterns 222a, and accordingly, the individual stacked body 221c has first and second surfaces in which one ends of the first and second internal electrodes are exposed, respectively.

다음으로, 도 10에 도시된 바와 같이, 개별 적층체(221c)를 소성하여 커패시터 바디(221)를 얻는다. 상기 소성은 1100℃ 내지 1300℃의 N2-H2 분위기에서 수행될 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.Next, as shown in FIG. 10 , the individual laminates 221c are fired to obtain a capacitor body 221 . The firing may be performed in an N 2 -H 2 atmosphere of 1100° C. to 1300° C., but is not necessarily limited thereto.

다음으로, 도 11에 도시된 바와 같이, 커패시터 바디(221)의 표면에 비정질 유전체 박막(213)을 형성한다. 비정질 유전체 박막(213)은 증착에 의해 형성될 수 있으며, 이 경우, 전술한 바와 같이, 비정질 유전체 박막(213)에 포함되는 유전체의 종류에 제한이 없을 뿐 아니라, 비정질 유전체 박막(213)의 극박화가 가능하기 때문에 커패시터 용량 개선과 내습신뢰성 확보를 동시에 달성할 수 있는 장점이 있다.Next, as shown in FIG. 11 , an amorphous dielectric thin film 213 is formed on the surface of the capacitor body 221 . The amorphous dielectric thin film 213 may be formed by deposition, and in this case, as described above, there is no limitation on the type of dielectric included in the amorphous dielectric thin film 213 , and the polarity of the amorphous dielectric thin film 213 is not limited. Since it can be thinned, there is an advantage in that it is possible to improve capacitor capacity and secure moisture resistance at the same time.

비정질 유전체 박막(213)은 Al2O3, Si3N4, SiO2 및 페릴렌(parylene)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 유전체를 포함할 수 있으며, 이에 따라, 커패시터 용량 개선과 내습신뢰성 확보의 목적을 동시에 달성할 수 있다.The amorphous dielectric thin film 213 may include at least one dielectric selected from the group consisting of Al 2 O 3 , Si 3 N 4 , SiO 2 and parylene, and thus, improving capacitor capacity and securing moisture resistance. objectives can be achieved at the same time.

다음으로, 도 12에 도시된 바와 같이, 커패시터 바디(221)의 제1 및 제2 면에 형성된 비정질 유전체 박막(213)을 제거한다. 이는, 후술할 바와 같이, 제1 및 제2 외부 전극을 형성하기 위함이다. 비정질 유전체 박막(213)을 제거하는 구체적인 방법에 대해서는 특별히 제한되지 않으나, 제한되지 않는 일 예에 따르면, 습식 에칭(wet etching) 혹은 샌드 블라스트(sand blast) 처리에 의할 수 있다.Next, as shown in FIG. 12 , the amorphous dielectric thin film 213 formed on the first and second surfaces of the capacitor body 221 is removed. This is to form the first and second external electrodes, as will be described later. A specific method of removing the amorphous dielectric thin film 213 is not particularly limited, but according to one non-limiting example, wet etching or sand blasting may be used.

다음으로, 도 13에 도시된 바와 같이, 커패시터 바디(221)의 제1 및 제2 면 각각에 제1 및 제2 외부 전극(231, 232)을 형성한다. 제1 및 제2 외부 전극(231, 232)은 제1 및 제2 내부 전극과 각각 접속된다.Next, as shown in FIG. 13 , first and second external electrodes 231 and 232 are formed on the first and second surfaces of the capacitor body 221 , respectively. The first and second external electrodes 231 and 232 are respectively connected to the first and second internal electrodes.

제1 및 제2 외부 전극(231, 232)은 도전성 금속을 포함하는 도전성 페이스트에 의해 형성될 수 있다. 상기 도전성 금속은 예컨대 니켈(Ni), 구리(Cu), 팔라듐(Pd), 금(Au) 또는 이들의 합금일 수 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The first and second external electrodes 231 and 232 may be formed of a conductive paste including a conductive metal. The conductive metal may be, for example, nickel (Ni), copper (Cu), palladium (Pd), gold (Au), or an alloy thereof, but the present invention is not limited thereto.

본 발명은 상술한 실시 형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.The present invention is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, but is intended to be limited by the appended claims. Therefore, various types of substitution, modification and change will be possible by those skilled in the art within the scope not departing from the technical spirit of the present invention described in the claims, and it is also said that it falls within the scope of the present invention. something to do.

110: 커패시터 바디
112: 유전체층
113: 비정질 유전체 박막
121, 122: 제1 및 제2 내부 전극
131, 132: 제1 및 제2 외부 전극
211: 커패시터 바디
211a: 세라믹 그린시트 적층체
211b: 막대형 적층체
211c: 개별 적층체
212a: 제1 및 제2 세라믹 그린시트
213: 비정질 유전체 박막
221a: 스트라이프형 제1 내부 전극 패턴
222a: 스트라이프형 제2 내부 전극 패턴
231, 232: 제1 및 제2 외부 전극
110: capacitor body
112: dielectric layer
113: amorphous dielectric thin film
121, 122: first and second internal electrodes
131, 132: first and second external electrodes
211: capacitor body
211a: ceramic green sheet laminate
211b: rod-shaped laminate
211c: Individual Laminate
212a: first and second ceramic green sheets
213: amorphous dielectric thin film
221a: stripe-type first internal electrode pattern
222a: stripe-type second internal electrode pattern
231, 232: first and second external electrodes

Claims (7)

서로 대향하는 제1 및 제2 면과 상기 제1 및 제2 면과 연결되고 서로 대향하는 제3 및 제4 면을 포함하고, 유전체층과 상기 유전체층을 사이에 두고 번갈아 배치되고 상기 제3 및 제4 면을 통해 노출되고 상기 제1 및 제2 면을 통해 각각 노출되는 제1 및 제2 내부 전극을 포함하는 커패시터 바디;
상기 커패시터 바디의 제1 및 제2 면에 각각 형성되고, 상기 제1 및 제2 면을 통해 노출되는 제1 및 제2 내부 전극과 각각 접속되는 제1 및 제2 외부 전극; 및
상기 커패시터 바디의 제3 및 제4 면에서 상기 제1 및 제2 외부 전극이 형성되지 않은 영역에 상기 제1 및 제2 내부 전극의 노출된 부분을 커버하여 상기 제1 및 제2 내부 전극과 직접 접하도록 형성되는 비정질 유전체 막; 을 포함하고,
상기 유전체층은 결정질 세라믹을 포함하고, 상기 비정질 유전체 막은 Al2O3, Si3N4, SiO2 및 페릴렌(parylene)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하고,
상기 비정질 유전체 막의 최대 두께는 5μm 이하(0μm 제외)인, 적층형 커패시터.
It includes first and second surfaces facing each other and third and fourth surfaces connected to the first and second surfaces and facing each other, the third and fourth surfaces being alternately disposed with a dielectric layer and the dielectric layer interposed therebetween. a capacitor body exposed through a surface and including first and second internal electrodes exposed through the first and second surfaces, respectively;
first and second external electrodes respectively formed on first and second surfaces of the capacitor body and respectively connected to first and second internal electrodes exposed through the first and second surfaces; and
Exposed portions of the first and second internal electrodes are covered in regions where the first and second external electrodes are not formed on the third and fourth surfaces of the capacitor body to directly communicate with the first and second internal electrodes an amorphous dielectric film formed to be in contact; including,
The dielectric layer includes a crystalline ceramic, and the amorphous dielectric layer includes at least one selected from the group consisting of Al 2 O 3 , Si 3 N 4 , SiO 2 and parylene,
The maximum thickness of the amorphous dielectric film is 5 μm or less (excluding 0 μm), the multilayer capacitor.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 비정질 유전체 막은 증착에 의해 형성되는 적층형 커패시터.
According to claim 1,
wherein the amorphous dielectric film is formed by vapor deposition.
제3항에 있어서,
상기 증착은, CVD(Chemical Vapor Deposition), ALD(Atomic Layer Deposition) 및 MVD(Molecular Vapor Deposition) 중 어느 하나인 적층형 커패시터.
4. The method of claim 3,
The deposition is a multilayer capacitor in any one of Chemical Vapor Deposition (CVD), Atomic Layer Deposition (ALD), and Molecular Vapor Deposition (MVD).
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 커패시터 바디의 적층 방향을 따라 상하 면에는 유전체층으로 이루어진 커버 영역이 더 배치되는 적층형 커패시터.
According to claim 1,
A multilayer capacitor further comprising a cover region formed of a dielectric layer on upper and lower surfaces of the capacitor body in a stacking direction.
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