KR102288728B1 - Touch screen panel and display device comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부를 구비하는 터치 스크린 패널에 관한 것으로서, 상기 위치 검출 라인은 하부 금속 산화막, 금속 배선 및 상부 금속 산화막이 순차적으로 적층되어 형성되고, 상기 감지 전극 패턴은 상기 하부 금속 산화막과 접속됨으로써, 금속 배선의 손상 및 변형을 방지할 수 있는 터치 스크린 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a touch screen panel having a connection portion for connecting a sensing electrode pattern and a position detection line, wherein the position detection line is formed by sequentially stacking a lower metal oxide film, a metal wire, and an upper metal oxide film, and the sensing electrode The pattern relates to a touch screen panel capable of preventing damage and deformation of metal wiring by being connected to the lower metal oxide layer.

Description

터치 스크린 패널 및 이를 구비한 화상 표시 장치{TOUCH SCREEN PANEL AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME}TOUCH SCREEN PANEL AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME

본 발명은 터치 스크린 패널 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch screen panel and an image display device.

터치 스크린 장치는 디스플레이 화면을 손가락이나 펜 등으로 접촉시키는 경우, 그 접촉된 지점의 좌표값을 인식하여 해당 전자 기기의 제어를 수행하는 장치를 말한다. The touch screen device refers to a device for controlling a corresponding electronic device by recognizing a coordinate value of a touched point when a display screen is brought into contact with a finger or a pen.

도 1은 일반적인 터치 스크린 패널의 전극 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a diagram schematically illustrating an electrode structure of a general touch screen panel.

도 1을 참조하면, 터치 스크린 패널(10)은 표시 영역(A) 및 비표시 영역(B)을 포함한다. 표시 영역(A) 및 비표시 영역(B)은 투명 기판(20) 상에 형성될 수 있다. 표시 영역(A)은 터치 스크린 패널(10) 중 안쪽(터치 감지 영역)에 형성되고, 비표시 영역(B)은 터치 스크린 패널(10) 중 바깥쪽(즉, 테두리 부분)에 형성된다.Referring to FIG. 1 , the touch screen panel 10 includes a display area (A) and a non-display area (B). The display area A and the non-display area B may be formed on the transparent substrate 20 . The display area A is formed on the inside (touch sensing area) of the touch screen panel 10 , and the non-display area B is formed on the outside (ie, the edge part) of the touch screen panel 10 .

표시 영역(A)에는 사용자의 터치에 의한 전기적 또는 물리적 변화를 감지하기 위한 감지 전극 패턴(30)들이 형성된다. 여기서, 감지 전극 패턴(30)은 제1 감지 전극 패턴(30-1) 및 제2 감지 전극 패턴(30-2)을 포함한다. 제1 감지 전극 패턴(30-1) 및 제2 감지 전극 패턴(30-2)이 투명 기판 상에 마름모 형상으로 상호 밀집하여 규칙적으로 형성되게 된다. 제1 감지 패턴(30-1)은 투명 기판(20) 상에 복수 개의 행을 이루며 형성되고, 제2 감지 패턴(30-2)은 투명 기판(20) 상에 복수 개의 열을 이루며 형성될 수 있다. In the display area A, sensing electrode patterns 30 for sensing an electrical or physical change by a user's touch are formed. Here, the sensing electrode pattern 30 includes a first sensing electrode pattern 30 - 1 and a second sensing electrode pattern 30 - 2 . The first sensing electrode pattern 30 - 1 and the second sensing electrode pattern 30 - 2 are regularly formed in a rhombus shape on the transparent substrate by densely overlapping each other. The first sensing pattern 30 - 1 may be formed in a plurality of rows on the transparent substrate 20 , and the second sensing pattern 30 - 2 may be formed in a plurality of columns on the transparent substrate 20 . there is.

이와 관련하여, 제1 감지 패턴(30-1) 및 제2 감지 패턴(30-2)은 동일한 기판 상에 형성되며, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는 각 패턴들은 전기적으로 연결되어야 한다. 그런데, 제2 감지 패턴(30-2)은 서로 연결된 형태이지만 제1 감지 패턴(30-1)은 섬(island) 형태로 분리된 구조로 되어 있으므로 제1 감지 패턴(30-1)을 전기적으로 연결하기 위해서는 별도의 연결 전극(브릿지 전극)(35)이 필요하다. 다만, 상기 브릿지 전극(35)은 제2 감지 패턴(30-2)과 전기적으로 연결되어서는 안되므로, 제2 감지 패턴(30-2)과는 다른 층에 형성되어야 한다. In this regard, the first sensing pattern 30 - 1 and the second sensing pattern 30 - 2 are formed on the same substrate, and each of the patterns must be electrically connected to detect a touched point. By the way, although the second sensing patterns 30-2 are connected to each other, the first sensing patterns 30-1 are separated in an island form, so that the first sensing patterns 30-1 are electrically connected to each other. In order to connect, a separate connecting electrode (bridge electrode) 35 is required. However, since the bridge electrode 35 should not be electrically connected to the second sensing pattern 30 - 2 , it must be formed on a layer different from the second sensing pattern 30 - 2 .

따라서, 제1 감지 패턴(30-1)과 제2 감지 패턴(30-2)은 그 위에 형성된 절연막(40)으로 서로 전기적으로 절연되어 있는 상태이다. 그리고, 전술한 바와 같이 제1 감지 패턴(30-1)은 전기적으로 연결될 필요가 있으므로, 브릿지 전극(50)을 사용하여 전기적으로 연결된다.Accordingly, the first sensing pattern 30 - 1 and the second sensing pattern 30 - 2 are electrically insulated from each other by the insulating film 40 formed thereon. And, as described above, since the first sensing pattern 30 - 1 needs to be electrically connected, it is electrically connected using the bridge electrode 50 .

섬 형태로 분리된 제1 감지 패턴(30-1)을 제2 감지 패턴(30-2)과는 전기적으로 차단되면서도 브릿지 전극(35)으로 연결하기 위해서는, 절연막(40) 상에 콘택홀(500)을 형성한 후에, 별도의 브릿지 전극(35)을 형성하는 단계를 거칠 필요가 있다. In order to connect the first sensing pattern 30 - 1 separated in the form of an island with the bridge electrode 35 while being electrically blocked from the second sensing pattern 30 - 2 , a contact hole 500 is formed on the insulating film 40 . ), it is necessary to go through a step of forming a separate bridge electrode 35 .

비표시 영역(B)에는 위치 검출 라인 및 패드부가 형성된다. 위치 검출 라인의 일단은 복수 개의 행을 이루는 제1 감지 전극 패턴(30-1) 및 복수 개의 열을 이루는 제2 감지 전극 패턴(30-2) 각각에 연결되고, 위치 검출 라인의 타단은 패드부에 연결된다. 그리고, 패드부는 외부의 구동 회로와 연결될 수 있다. A position detection line and a pad part are formed in the non-display area B. As shown in FIG. One end of the position detection line is connected to each of the first sensing electrode patterns 30-1 forming a plurality of rows and the second sensing electrode patterns 30-2 forming a plurality of columns, and the other end of the position detection line is a pad part. is connected to In addition, the pad part may be connected to an external driving circuit.

도 2는 일반적인 터치 스크린 패널에서 표시 영역(A)과 비표시 영역(B)의 경계 부분을 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a boundary between a display area A and a non-display area B in a general touch screen panel.

도 2를 참조하여 일반적인 터치 스크린 패널(10)의 제조 방법을 살펴보면, 먼저 투명 기판(20)의 비표시 영역(B)에 차광층(60)을 형성한다. 다음으로, 투명 기판(20)의 표시 영역(A)에 감지 전극 패턴(30)을 형성한다. 이때, 위치 검출 라인(40)과의 전기적 접속을 위해 감지 전극 패턴(30)은 비표시 영역(B)의 차광층(60) 상부까지 연장되어 형성된다. 다음으로, 비표시 영역(B)에서 차광층(60) 상부에 위치 검출 라인(40)을 형성한다. 이때, 위치 검출 라인(40)은 차광층(60)의 상부까지 연장된 감지 전극 패턴(30)을 감싸며 형성되게 된다. Referring to the general method of manufacturing the touch screen panel 10 with reference to FIG. 2 , first, the light blocking layer 60 is formed in the non-display area B of the transparent substrate 20 . Next, the sensing electrode pattern 30 is formed in the display area A of the transparent substrate 20 . In this case, the sensing electrode pattern 30 is formed to extend to the upper portion of the light blocking layer 60 of the non-display area B for electrical connection with the position detection line 40 . Next, the position detection line 40 is formed on the light blocking layer 60 in the non-display area B . In this case, the position detection line 40 is formed to surround the sensing electrode pattern 30 extending to the upper portion of the light blocking layer 60 .

위치 검출 라인(40)은 초기에는 ITO와 같은 금속 산화물로 형성되었으나, 전기 전도도가 낮은 문제가 있어, 최근에는 금속을 사용한 금속 배선이 고려되고 있다.The position detection line 40 was initially formed of a metal oxide such as ITO, but has a problem of low electrical conductivity, and recently a metal wiring using a metal is being considered.

하지만, 금속 배선은 하부에 형성된 절연층의 후-소성(post-baking) 공정 시에 발생하는 가스(out-gas)에 의해 손상을 입을 수 있으며, 발생되는 열에 의해 팽창 문제가 발생할 수 있다.
However, the metal wiring may be damaged by out-gas generated during a post-baking process of the insulating layer formed thereunder, and an expansion problem may occur due to the generated heat.

본 발명은 금속 배선을 포함하면서도 out-gas나 열에 의해 손상이나 변형되지 않는 구조를 구비한 위치 검출 라인을 구비한 터치 스크린 패널을 제공한다.The present invention provides a touch screen panel having a position detection line having a structure that is not damaged or deformed by out-gas or heat while including metal wiring.

또한, 본 발명은 다층 구조의 터치 감지 패턴과 위치 검출 라인의 다층 구조 접속부를 구비하면서도 간단한 제조 공정으로 제조할 수 있는 터치 스크린 패널의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method of manufacturing a touch screen panel that can be manufactured by a simple manufacturing process while having a multi-layered connection part of a multi-layered touch sensing pattern and a position detection line.

또한, 본 발명은 전술한 터치 스크린 패널을 구비한 화상 표시 장치를 제공한다.
In addition, the present invention provides an image display device having the above-described touch screen panel.

1. 감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부를 구비하는 터치 스크린 패널로서, 상기 위치 검출 라인은 하부 금속 산화막, 금속 배선 및 상부 금속 산화막이 순차적으로 적층되어 형성되고, 상기 감지 전극 패턴은 상기 하부 금속 산화막과 접속되는, 터치 스크린 패널.1. A touch screen panel having a connection part for connecting a sensing electrode pattern and a position detection line, wherein the position detection line is formed by sequentially stacking a lower metal oxide film, a metal wire, and an upper metal oxide film, and the sensing electrode pattern includes the A touch screen panel connected to the lower metal oxide film.

2. 위 1에 있어서, 상기 감지 전극 패턴과 상기 하부 금속 산화막 사이에는 절연층이 개재되고, 상기 감지 전극 패턴과 상기 하부 금속 산화막은 상기 절연막 중에 형성된 콘택홀로 접속되는, 터치 스크린 패널.2. The touch screen panel according to the above 1, wherein an insulating layer is interposed between the sensing electrode pattern and the lower metal oxide layer, and the sensing electrode pattern and the lower metal oxide layer are connected through a contact hole formed in the insulating layer.

3. 위 1에 있어서, 상기 금속 배선의 폭은 상기 하부 금속 산화막의 폭보다 좁게 형성되는, 터치 스크린 패널.3. The touch screen panel according to the above 1, wherein the width of the metal wiring is narrower than the width of the lower metal oxide layer.

4. 위 3에 있어서, 상기 하부 금속 산화막의 폭은 상기 금속 배선의 폭에 비해 1 내지 5㎛ 넓은, 터치 스크린 패널.4. The touch screen panel according to the above 3, wherein the width of the lower metal oxide layer is 1 to 5 μm wider than the width of the metal wiring.

5. 위 1에 있어서, 상기 상부 금속 산화막은 상기 금속 배선의 상부 표면 전체를 덮도록 형성되는, 터치 스크린 패널.5. The touch screen panel according to the above 1, wherein the upper metal oxide film is formed to cover the entire upper surface of the metal wiring.

6. 위 1에 있어서, 상기 금속 배선은 은(Ag), 구리, 알루미늄, 몰리브덴, 팔라듐, 및 이들 중 적어도 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는, 터치 스크린 패널.6. The touch screen panel according to the above 1, wherein the metal wiring includes any one selected from the group consisting of silver (Ag), copper, aluminum, molybdenum, palladium, and alloys of at least two or more thereof.

7. 위 1에 있어서, 상기 상부 금속 산화막 및 하부 금속 산화막은 서로 독립적으로 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는, 터치 스크린 패널.7. In the above 1, the upper metal oxide film and the lower metal oxide film are each independently of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO) comprising any one selected from the group consisting of, a touch screen panel.

8. 위 1에 있어서, 상기 접속부의 감지 전극 패턴의 하부에는 차광층을 더 포함하는, 터치 스크린 패널.8. The touch screen panel according to the above 1, further comprising a light blocking layer under the sensing electrode pattern of the connection part.

9. 제1 감지 전극 패턴, 제2 감지 전극 패턴 및 브릿지 전극을 구비하는 터치 감지 전극과 상기 감지 전극 패턴 중 어느 하나와 접속하는 위치 검출 라인을 포함하는 터치 스크린 패널의 제조방법에 있어서,9. A method of manufacturing a touch screen panel comprising a touch sensing electrode having a first sensing electrode pattern, a second sensing electrode pattern, and a bridge electrode, and a position detection line connected to any one of the sensing electrode patterns,

상기 제1 감지 전극 패턴 및 제2 감지 전극 패턴을 형성하는 단계;forming the first sensing electrode pattern and the second sensing electrode pattern;

비표시 영역에 상기 감지 전극 패턴들 중 연장된 패턴의 상부에 위치 검출 라인의 하부 금속 산화막을 형성하는 단계; 및forming a lower metal oxide layer of a position detection line on an extended pattern among the sensing electrode patterns in a non-display area; and

상기 하부 금속 산화막의 상부에 금속 배선을 형성하고, 상기 금속 배선 상부에 상부 금속 산화막을 형성하는 단계;forming a metal wiring on the lower metal oxide layer and forming an upper metal oxide layer on the metal wiring;

를 포함하는, 터치 스크린 패널의 제조 방법.A method of manufacturing a touch screen panel comprising a.

10. 위 9에 있어서, 상기 하부 금속 산화막은 표시 영역의 제2 감지 전극 패턴들 중 어느 하나를 연결하는 브릿지 전극을 형성함과 동시에 형성되는, 터치 스크린 패널의 제조 방법.10. The method of manufacturing a touch screen panel according to 9 above, wherein the lower metal oxide layer is formed at the same time as forming a bridge electrode connecting any one of the second sensing electrode patterns of the display area.

11. 위 9에 있어서, 감지 전극 패턴들 상부에 절연층을 형성하고, 상기 절연층 중에 상기 감지 전극 패턴과 상기 브릿지 전극 및 상기 감지 전극 패턴과 상기 하부 금속 산화막을 각각 접속하는 콘택홀을 형성하는 단계를 더 포함하는, 터치 스크린 패널의 제조 방법.11. The method of 9 above, wherein an insulating layer is formed on the sensing electrode patterns, and a contact hole for connecting the sensing electrode pattern and the bridge electrode, and the sensing electrode pattern and the lower metal oxide layer, respectively, is formed in the insulating layer. The method of manufacturing a touch screen panel further comprising the step.

12. 위 1 내지 8 중 어느 한 항의 터치 스크린 패널을 포함하는 화상 표시 장치.
12. An image display device comprising the touch screen panel of any one of 1 to 8 above.

본 발명의 터치 스크린 패널은 감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부가 하부 금속 산화막 위에 금속 배선을 구비함으로써, 하부 금속 산화막 하부에 절연층이 구비되더라도 절연층에서 발생하는 out-gas에 의해 금속 배선이 손상을 입는 것을 방지할 수 있다.In the touch screen panel of the present invention, since the connection part connecting the sensing electrode pattern and the position detection line has a metal wire on the lower metal oxide film, even if the insulating layer is provided under the lower metal oxide film, metal is formed by out-gas generated from the insulating layer. It can prevent the wiring from being damaged.

또한, 본 발명의 터치 스크린 패널은 상기 접속부가 금속 배선 위에 상부 산화막을 구비함으로써 추후 제조 공정시 발생하는 열 또는 터치 스크린 패널 사용시 발생하는 내부 열에 의해 금속 배선이 변형되는 것을 방지할 수 있다.In addition, in the touch screen panel of the present invention, since the connection part has an upper oxide film on the metal wiring, it is possible to prevent the metal wiring from being deformed by heat generated during a subsequent manufacturing process or internal heat generated when the touch screen panel is used.

또한, 본 발명의 터치 스크린 패널은 금속 배선을 하부 금속 산화막의 폭보다 좁은 폭으로 형성하게 되면 금속 배선의 배열 공정이 보다 용이해지고 다소간의 배열 오차가 발생해도 그로 인한 작동 오류를 방지할 수 있다.In addition, in the touch screen panel of the present invention, when the metal wiring is formed to have a width narrower than the width of the lower metal oxide layer, the arrangement process of the metal wiring becomes easier, and even if a slight alignment error occurs, an operation error due to it can be prevented.

또한, 본 발명의 터치 스크린 패널은 상부 금속 산화막을 구비함으로써, 외부 열에 의한 금속 배선의 손상 및 변형을 방지할 뿐만 아니라 별도의 패시베이션층을 형성하지 않을 수도 있다. In addition, since the touch screen panel of the present invention includes an upper metal oxide film, damage and deformation of the metal wiring due to external heat can be prevented and a separate passivation layer may not be formed.

또한, 본 발명의 터치 스크린 패널의 제조 방법은 브릿지 전극과 하부 금속 산화막을 동시에 형성하게 되는 경우 다층 구조의 접속부를 구비하더라도 그 제조 공정이 복잡하지 않다. 더욱이, 하부에 절연층을 구비하는 경우에도 감지 전극 패턴에 구비되는 절연층과 동시에 형성할 수 있으므로, 추가되는 공정은 없게 된다.
In addition, in the method of manufacturing the touch screen panel of the present invention, when the bridge electrode and the lower metal oxide film are formed at the same time, the manufacturing process is not complicated even if the multi-layered connection part is provided. Moreover, even when the insulating layer is provided on the lower side, since the insulating layer provided in the sensing electrode pattern can be formed at the same time, there is no additional process.

도 1은 일반적인 터치 스크린 패널의 전극 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 일반적인 터치 스크린 패널에서 표시 영역(A)과 비표시 영역(B)의 경계 부분을 나타낸 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부의 개략적인 평면도와 단면도이다.1 is a diagram schematically illustrating an electrode structure of a general touch screen panel.
2 is a schematic cross-sectional view illustrating a boundary portion between a display area A and a non-display area B in a general touch screen panel.
3 is a schematic plan view and a cross-sectional view of a connection part to which a sensing electrode pattern of a touch screen panel and a position detection line are connected according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부를 구비하는 터치 스크린 패널에 관한 것으로서, 상기 위치 검출 라인은 하부 금속 산화막, 금속 배선 및 상부 금속 산화막이 순차적으로 적층되어 형성되고, 상기 감지 전극 패턴은 상기 하부 금속 산화막과 접속됨으로써, 금속 배선의 손상 및 변형을 방지할 수 있는 터치 스크린 패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch screen panel having a connection part for connecting a sensing electrode pattern and a position detection line, wherein the position detection line is formed by sequentially stacking a lower metal oxide film, a metal wire, and an upper metal oxide film, and the sensing electrode The pattern relates to a touch screen panel capable of preventing damage and deformation of metal wiring by being connected to the lower metal oxide layer.

이하에서는, 도면을 참고하여 본 발명의 터치 스크린 패널을 보다 상세하게 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, the touch screen panel of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical spirit of the present invention together with the above-described content of the present invention, so the present invention is described in such drawings It should not be construed as being limited only to the matters.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부의 개략적인 평면도와 단면도(A-A')이다.3 is a schematic plan view and cross-sectional view (A-A') of a connection part to which a sensing electrode pattern of a touch screen panel and a position detection line are connected according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 터치 스크린 패널은 감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부를 구비한다. 감지 전극 패턴(30)은 터치 스크린 패널의 표시 영역에서 사용자의 터치를 감지하는 전극으로서, 제1 감지 전극 패턴(30-1) 및 제2 감지 전극 패턴(30-2)을 포함하며, 제1 감지 전극 패턴(30-1) 및 제2 감지 전극 패턴(30-2) 중 어느 하나가 비표시 영역으로 연장되어 위치 검출 라인과 전기적으로 접속한다.The touch screen panel according to the present invention includes a connection portion for connecting the sensing electrode pattern and the position detection line. The sensing electrode pattern 30 is an electrode for sensing a user's touch in the display area of the touch screen panel, and includes a first sensing electrode pattern 30-1 and a second sensing electrode pattern 30-2, Any one of the sensing electrode pattern 30 - 1 and the second sensing electrode pattern 30 - 2 extends to the non-display area and is electrically connected to the position detection line.

본 발명에 따른 위치 검출 라인은 터치 스크린 패널의 표시 영역에 배치되며, 하부 금속 산화막(100), 금속 배선(200) 및 상부 금속 산화막(300)을 포함한다.The position detection line according to the present invention is disposed in the display area of the touch screen panel and includes a lower metal oxide film 100 , a metal wiring 200 , and an upper metal oxide film 300 .

하부 금속 산화막(100)은 비표시 영역으로 연장된 감지 전극 패턴(30)과 접속한다. 하부 금속 산화막(100)은 감지 전극 패턴(30)에서 수신한 전기 신호를 상부의 금속 배선(200)으로 전달한다. 또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 하부 금속 산화막(100) 하부에 절연층(40)이 구비되는 경우, 하부 금속 산화막(100)은 제조 공정 중에 발생하는 열에 의해 절연층(40)에서 생성되는 out-gas가 상부의 금속 배선(200)에 가하는 손상 및 변형을 최소한으로 줄일 수 있다.The lower metal oxide layer 100 is connected to the sensing electrode pattern 30 extending to the non-display area. The lower metal oxide layer 100 transmits the electrical signal received from the sensing electrode pattern 30 to the upper metal wiring 200 . In addition, as shown in FIG. 3 , when the insulating layer 40 is provided under the lower metal oxide film 100 , the lower metal oxide film 100 is generated in the insulating layer 40 by heat generated during the manufacturing process. Damage and deformation applied by the out-gas to the upper metal wiring 200 may be reduced to a minimum.

하부 금속 산화막(100)은 전기 전도성을 가진 금속 산화물로 형성될 수 있으며, 그러한 소재로서 알려진 것이라면 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO) 등을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 인듐주석산화물(ITO) 또는 인듐아연산화물(IZO)을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 다른 측면에서, 하부 금속 산화막(100)은 감지 전극 패턴(30)과 동일한 소재가 적용될 수 있다.The lower metal oxide layer 100 may be formed of a metal oxide having electrical conductivity, and any known material may be used without any particular limitation. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), etc. may be used, preferably indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) may be used, but is not limited thereto. In another aspect of the present invention, the same material as the sensing electrode pattern 30 may be applied to the lower metal oxide layer 100 .

금속 배선(200)은 하부 금속 산화막(100)으로부터 수신된 전기 신호를 외부 구동 회로 및 IC에 전달한다. 금속 배선(200)에 접속되어 있는 하부 금속 산화막(100)이나 상부 금속 산화막(300)도 전기 전도성을 가지고 있으나 금속 배선(200) 보다는 전기 저항이 높으므로, 전기 신호는 실질적으로 금속 배선(200)을 통해 전달된다.The metal wiring 200 transmits an electrical signal received from the lower metal oxide layer 100 to an external driving circuit and an IC. The lower metal oxide film 100 or the upper metal oxide film 300 connected to the metal wiring 200 also has electrical conductivity, but has higher electrical resistance than the metal wiring 200, so that the electrical signal is substantially transmitted to the metal wiring 200. is transmitted through

금속 배선(200)에 사용되는 금속은 전기 배선에 사용될 수 있는 것이라면 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 은(Ag), 구리, 알루미늄, 몰리브덴, 팔라듐, 또는 이들 중 적어도 2종 이상의 합금을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 은-팔라듐-구리 합금을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The metal used for the metal wiring 200 may be used without any particular limitation as long as it can be used for the electrical wiring. For example, silver (Ag), copper, aluminum, molybdenum, palladium, or an alloy of at least two or more thereof may be used, and preferably a silver-palladium-copper alloy may be used, but is not limited thereto.

금속 배선(200)은 전기 전도성이 우수하므로 전기 신호의 전달에 유리하다. 다만, 금속 산화물에 비해 열에 약하여 제조 공정 중 또는 사용 중에 발생하는 열에 의해 손상을 받거나 변형될 우려가 있다. Since the metal wiring 200 has excellent electrical conductivity, it is advantageous for transmission of electrical signals. However, compared to metal oxide, it is weak to heat, and there is a risk of being damaged or deformed by heat generated during the manufacturing process or during use.

이에 본 발명은 금속 배선(200)의 하부와 상부에 금속 산화막(100, 300)을 구비하여 그러한 문제점을 해결한다.Accordingly, the present invention solves such a problem by providing the metal oxide films 100 and 300 on the lower and upper portions of the metal wiring 200 .

본 발명의 다른 측면에 있어서, 금속 배선(200)은 그 폭이 하부 금속 산화막(100)의 폭보다 좁게 형성되는 것이 바람직할 수 있다. 금속 배선(200)의 형성 시에 여러 가지 원인으로 형성 위치에 오차가 발생할 수 있다. 이러한 경우 하부 금속 산화막(100) 영역을 넘어서 금속 배선(200)이 형성될 경우에는 단선 또는 단락(short) 등의 문제가 발생할 수 있다. 따라서, 금속 배선(200)의 폭을 하부 금속 산화막(100)의 폭보다 좁게 형성함으로써 금속 배선(200) 형성 시에 위치에 다소 오차가 발생하여도 하부 금속 산화막(100)을 벗어나지 않도록 하여 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있다. 이러한 측면에서, 구체적인 예를 들면, 하부 금속 산화막(100)의 폭은 상기 금속 배선(200)의 폭에 비해 1 내지 5㎛ 넓게 형성될 수 있다.In another aspect of the present invention, it may be preferable that the metal wiring 200 has a width that is narrower than that of the lower metal oxide layer 100 . When the metal wiring 200 is formed, an error may occur in the formation position due to various causes. In this case, when the metal wiring 200 is formed beyond the region of the lower metal oxide layer 100 , problems such as disconnection or short circuit may occur. Therefore, by forming the width of the metal wiring 200 to be narrower than the width of the lower metal oxide film 100, even if there is a slight error in the position when the metal wiring 200 is formed, the lower metal oxide film 100 is not deviated from the above. can solve the same problem. In this aspect, as a specific example, the width of the lower metal oxide layer 100 may be formed to be 1 to 5 μm wider than the width of the metal wiring 200 .

상부 금속 산화막(300)은 금속 배선(300)의 상부에 형성되어, 금속 배선(200)이 이후 제조 공정 중 또는 사용 중에 발생하는 열로부터 금속 배선(200)의 손상 및 변형을 최소화한다. 이러한 측면에서, 상부 금속 산화막(300)은 상기 금속 배선(200)의 상부 표면 전체를 덮도록 형성되는 것이 바람직할 수 있다.The upper metal oxide layer 300 is formed on the metal wiring 300 to minimize damage and deformation of the metal wiring 200 from heat generated during a manufacturing process or use of the metal wiring 200 thereafter. In this aspect, the upper metal oxide layer 300 may be formed to cover the entire upper surface of the metal wiring 200 .

또한, 상부 금속 산화막(300)을 형성함으로써 종래 금속 배선 형성 상부에 형성되던 패시베이션층(passivation layer)을 형성하지 않을 수도 있다. 이로 인해 제조 공정의 증가를 방지할 수 있다.In addition, by forming the upper metal oxide layer 300 , a passivation layer, which is conventionally formed on the metal wiring formation, may not be formed. This can prevent an increase in the manufacturing process.

상부 금속 산화막(300)은 전술한 하부 금속 산화막(100) 재료와 동일한 범주의 재료로 형성될 수 있으며, 하부 금속 산화막(100)과 동일한 재료 또는 서로 다른 재료로 형성될 수 있다.The upper metal oxide film 300 may be formed of a material of the same category as the material of the lower metal oxide film 100 , and may be formed of the same material as the lower metal oxide film 100 or a different material.

본 발명에 따른 접속부는 감지 전극 패턴(30)과 하부 금속 산화막(100) 사이에 절연층(40)을 더 구비할 수 있다. 절연층(40)은 감지 전극 패턴(30)과 하부 금속 산화막(100)이 서로 대응하는 배선과만 접속될 수 있도록 하며, 다른 부분과의 전기적 접속을 방지한다.The connection part according to the present invention may further include an insulating layer 40 between the sensing electrode pattern 30 and the lower metal oxide layer 100 . The insulating layer 40 allows the sensing electrode pattern 30 and the lower metal oxide layer 100 to be connected only to wires corresponding to each other, and to prevent electrical connection with other parts.

그 사이에 절연층(40)이 개재된 감지 전극 패턴(30)과 하부 금속 산화막(100)은 콘택홀(500)로 접속될 수 있다. 콘택홀(500)은 절연층(40) 중에 감지 전극 패턴(30)과 하부 금속 산화막(100)이 접속될 부분에 형성되어, 불필요한 전기적 접속 없이 요구되는 감지 전극 패턴(30)과 하부 금속 산화막(100)만 접속하도록 한다.The sensing electrode pattern 30 with the insulating layer 40 interposed therebetween and the lower metal oxide layer 100 may be connected through a contact hole 500 . The contact hole 500 is formed in a portion of the insulating layer 40 where the sensing electrode pattern 30 and the lower metal oxide film 100 are to be connected, so that the sensing electrode pattern 30 and the lower metal oxide film 100 are required without unnecessary electrical connection. 100) only.

본 발명에 따른 접속부는 터치 스크린 패널의 비표시 영역에 형성된다. 통상적으로, 비표시 영역에는 투명 기판(20) 상에 차광층(60)이 형성된다. 차광층(60)은 비표시 영역에 형성되는 위치 검출 라인 등의 전기 배선을 은폐한다. 따라서, 본 발명에 따른 접속부는 차광층(60) 상에 형성될 수 있으며, 보다 구체적으로는 감지 전극 패턴(30)이 비표시 영역의 차광층(60) 위로 연장될 수 있다.
The connection part according to the present invention is formed in the non-display area of the touch screen panel. Typically, the light blocking layer 60 is formed on the transparent substrate 20 in the non-display area. The light blocking layer 60 conceals electrical wiring such as a position detection line formed in the non-display area. Accordingly, the connection part according to the present invention may be formed on the light blocking layer 60 , and more specifically, the sensing electrode pattern 30 may extend over the light blocking layer 60 in the non-display area.

이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 제조방법에 대해서 보다 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법은 감지 전극 패턴(제1 감지 전극 패턴 및 제2 감지 전극 패턴을 포함) 및 브릿지 전극을 포함하는 터치 감지 전극과 상기 감지 전극 패턴과 접속하는 위치 검출 라인을 포함하는 터치 스크린 패널 제조 방법에 관한 것이다.A touch screen panel manufacturing method according to the present invention includes a touch sensing electrode including a sensing electrode pattern (including a first sensing electrode pattern and a second sensing electrode pattern) and a bridge electrode, and a position detection line connected to the sensing electrode pattern It relates to a method for manufacturing a touch screen panel.

먼저, 제1 감지 전극 패턴 및 제2 감지 전극 패턴을 형성한다. First, a first sensing electrode pattern and a second sensing electrode pattern are formed.

제1 감지 전극 패턴 및 제2 감지 전극 패턴은 터치 스크린 패널의 표시 영역에 대응하는 크기로 투명 기판(20) 상에 형성되며, 그 중 하나는 비표시 영역으로 일부 연장된다.The first sensing electrode pattern and the second sensing electrode pattern are formed on the transparent substrate 20 in a size corresponding to the display area of the touch screen panel, and one of them partially extends into the non-display area.

이 때, 투명 기판(20) 상의 비표시 영역에는 차광층(60)이 미리 형성되어 있을 수 있다. 이 경우 비표시 영역으로 연장된 감지 전극 패턴(30)은 차광층(60) 상부에 형성된다.In this case, the light blocking layer 60 may be previously formed in the non-display area on the transparent substrate 20 . In this case, the sensing electrode pattern 30 extending to the non-display area is formed on the light blocking layer 60 .

감지 전극 패턴(30)은 그 형상이 특별히 제한되지 않는다. 또한 형성 방법 역시 당분야에 알려진 방법으로 형성될 수 있으며, 예를 들면, 스크린 인쇄, 스퍼터링, 증착, 포토리소그래피 등을 사용할 수 있다. The shape of the sensing electrode pattern 30 is not particularly limited. In addition, the forming method may also be formed by a method known in the art, for example, screen printing, sputtering, vapor deposition, photolithography, etc. may be used.

다음으로, 비표시 영역에 상기 감지 전극 패턴(30)들 중 연장된 패턴의 상부에 위치 검출 라인의 하부 금속 산화막(100)을 형성한다.Next, the lower metal oxide layer 100 of the position detection line is formed on the extended pattern among the sensing electrode patterns 30 in the non-display area.

하부 금속 산화막(100)은 전술한 소재를 사용하여 감지 전극 패턴(30)과 마찬가지의 방법으로 형성할 수 있다. The lower metal oxide layer 100 may be formed using the above-described material in the same manner as the sensing electrode pattern 30 .

바람직하게는, 하부 금속 산화막(100)은 표시 영역의 감지 전극 패턴들 중 어느 하나를 연결하는 브릿지 전극을 형성함과 동시에 형성될 수 있다.Preferably, the lower metal oxide layer 100 may be formed at the same time as forming a bridge electrode connecting any one of the sensing electrode patterns of the display area.

전술한 바와 같이, 제1 감지 전극 패턴과 제2 감지 전극 패턴이 동일한 평면 상에 형성되면 그 중 하나(도 1의 경우 제1 감지 전극 패턴)는 섬 형태의 격리된 패턴 구조를 가지게 되므로, 이를 연결하는 브릿지 전극을 형성할 필요가 있다. As described above, when the first sensing electrode pattern and the second sensing electrode pattern are formed on the same plane, one of them (the first sensing electrode pattern in FIG. 1 ) has an island-shaped isolated pattern structure. It is necessary to form a connecting bridge electrode.

브릿지 전극은 도전성 금속 또는 금속 산화물로 형성될 수 있으며, 하부 금속 산화막(100)과 동시에 형성되는 경우에는 하부 금속 산화막(100)과 동일한 소재로 형성된다.The bridge electrode may be formed of a conductive metal or metal oxide, and when formed simultaneously with the lower metal oxide film 100 , it is formed of the same material as the lower metal oxide film 100 .

또한, 바람직하게는, 감지 전극 패턴(30)들 상부에 절연층(40)을 형성하고, 상기 절연층(40) 중에 상기 감지 전극 패턴과 상기 브릿지 전극 및 상기 감지 전극 패턴과 상기 하부 금속 산화막을 각각 접속하는 콘택홀(500)을 형성할 수 있다.Also, preferably, an insulating layer 40 is formed on the sensing electrode patterns 30 , and the sensing electrode pattern, the bridge electrode, the sensing electrode pattern, and the lower metal oxide film are formed in the insulating layer 40 . Contact holes 500 to be respectively connected may be formed.

표시 영역에서 브릿지 전극이 제1 또는 제2 감지 전극 패턴과만 연결되기 위해서는 절연층(40) 및 콘택홀(500)이 필요하다. 본 발명에 있어서, 이러한 절연층(40)을 비표시 영역까지 확장하고, 감지 전극 패턴(30)과 하부 금속 산화막(100)의 안전하고 안정적인 전기적 접속을 보장하기 위해 콘택홀(500)을 더 구비하도록 할 수 있다.In order for the bridge electrode to be connected only to the first or second sensing electrode pattern in the display area, the insulating layer 40 and the contact hole 500 are required. In the present invention, the insulating layer 40 is extended to the non-display area, and a contact hole 500 is further provided to ensure a safe and stable electrical connection between the sensing electrode pattern 30 and the lower metal oxide layer 100 . can make it

다음으로, 상기 하부 금속 산화막(100)의 상부에 금속 배선(200)을 형성하고, 상기 금속 배선(200) 상부에 상부 금속 산화막(300)을 형성한다.Next, the metal wiring 200 is formed on the lower metal oxide film 100 , and the upper metal oxide film 300 is formed on the metal wiring 200 .

금속 배선(200)은 하부 금속 산화막(100) 보다 좁은 폭을 갖도록 형성하는 것이 바람직하며, 상부 금속 산화막(300)은 금속 배선(200)의 상부 표면 전체를 덮도록 형성되는 것이 바람직하다.The metal wiring 200 is preferably formed to have a narrower width than the lower metal oxide layer 100 , and the upper metal oxide layer 300 is preferably formed to cover the entire upper surface of the metal wiring 200 .

금속 배선(200)과 상부 금속 산화막(300)의 형성은 각각 당분야에 알려진 방법으로 형성될 수 있으며, 예를 들면, 스크린 인쇄, 스퍼터링, 증착, 포토리소그래피 등을 사용할 수 있다.
The metal wiring 200 and the upper metal oxide layer 300 may be respectively formed by methods known in the art, for example, screen printing, sputtering, deposition, photolithography, or the like may be used.

본 발명의 터치 스크린 패널은 당분야에 공지된 추가 공정을 통해 필요한 전자 소자와 결합될 수 있다. 또한, 본 발명의 터치 스크린 패널은 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 이 경우 적용될 수 있는 화상 표시 장치로는 액정 디스플레이, OLED, 플렉서블 디스플레이 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
The touch screen panel of the present invention may be combined with necessary electronic devices through additional processes known in the art. In addition, the touch screen panel of the present invention can be applied to an image display device. In this case, the applicable image display device may include a liquid crystal display, an OLED, a flexible display, and the like, but is not limited thereto.

20: 투명 기판
30: 감지 전극 패턴(30-1: 제1 감지 전극 패턴, 30-2: 제2 감지 전극 패턴)
35: 브릿지 전극 40: 절연층
60: 차광층
100: 하부 금속 산화막 200: 금속 배선
300: 상부 금속 산화막 500: 콘택홀20: transparent substrate
30: sensing electrode pattern (30-1: first sensing electrode pattern, 30-2: second sensing electrode pattern)
35: bridge electrode 40: insulating layer
60: light blocking layer
100: lower metal oxide film 200: metal wiring
300: upper metal oxide layer 500: contact hole

Claims (12)

감지 전극 패턴과 위치 검출 라인이 접속하는 접속부를 구비하는 터치 스크린 패널로서,
상기 위치 검출 라인은 상기 감지 전극 패턴의 상면으로부터 순차적으로 적층된 하부 금속 산화막, 금속 배선 및 상부 금속 산화막을 포함하고,
상기 감지 전극 패턴은 상기 하부 금속 산화막과 접속되고,
상기 접속부의 상기 감지 전극 패턴 아래에 차광층이 형성되고, 상기 위치 검출 라인은 상기 차광층 상에 형성되어 상기 접속부에서 상기 감지 전극 패턴을 덮고,
상기 금속 배선의 폭은 상기 하부 금속 산화막의 폭보다 좁게 형성되는, 터치 스크린 패널.
A touch screen panel having a connection portion for connecting a sensing electrode pattern and a position detection line, the touch screen panel comprising:
The position detection line includes a lower metal oxide film, a metal wire, and an upper metal oxide film sequentially stacked from the upper surface of the sensing electrode pattern,
The sensing electrode pattern is connected to the lower metal oxide layer,
A light blocking layer is formed under the sensing electrode pattern of the connection part, and the position detection line is formed on the light blocking layer to cover the sensing electrode pattern in the connection part,
The width of the metal wiring is formed to be narrower than the width of the lower metal oxide layer, the touch screen panel.
 청구항 1에 있어서, 상기 감지 전극 패턴과 상기 하부 금속 산화막 사이에는 절연층이 개재되고, 상기 감지 전극 패턴과 상기 하부 금속 산화막은 상기 절연층 중에 형성된 콘택홀로 접속되는, 터치 스크린 패널.
The touch screen panel of claim 1 , wherein an insulating layer is interposed between the sensing electrode pattern and the lower metal oxide layer, and the sensing electrode pattern and the lower metal oxide layer are connected through a contact hole formed in the insulating layer.
 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 하부 금속 산화막의 폭은 상기 금속 배선의 폭에 비해 1 내지 5㎛ 넓은, 터치 스크린 패널.
The touch screen panel of claim 1 , wherein a width of the lower metal oxide layer is 1 to 5 μm wider than a width of the metal wiring.
 청구항 1에 있어서, 상기 상부 금속 산화막은 상기 금속 배선의 상부 표면 전체를 덮도록 형성되는, 터치 스크린 패널.
The touch screen panel of claim 1 , wherein the upper metal oxide layer is formed to cover the entire upper surface of the metal wiring.
 청구항 1에 있어서, 상기 금속 배선은 은(Ag), 구리, 알루미늄, 몰리브덴, 팔라듐, 및 이들 중 적어도 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는, 터치 스크린 패널.
The touch screen panel of claim 1 , wherein the metal wiring includes any one selected from the group consisting of silver (Ag), copper, aluminum, molybdenum, palladium, and an alloy of at least two or more thereof.
 청구항 1에 있어서, 상기 상부 금속 산화막 및 하부 금속 산화막은 서로 독립적으로 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는, 터치 스크린 패널.
The method according to claim 1, wherein the upper metal oxide film and the lower metal oxide film independently of each other indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO) ), including any one selected from the group consisting of, a touch screen panel.
 삭제delete 제1 감지 전극 패턴, 제2 감지 전극 패턴 및 브릿지 전극을 구비하는 터치 감지 전극과 상기 감지 전극 패턴 중 어느 하나와 접속하는 위치 검출 라인을 포함하는 터치 스크린 패널의 제조방법에 있어서,
상기 제1 감지 전극 패턴 및 제2 감지 전극 패턴을 형성하는 단계;
비표시 영역에 차광층을 형성하는 단계;
상기 감지 전극 패턴들 중 상기 비표시 영역에 형성된 상기 차광층 위로 연장된 상기 감지 전극 패턴의 상면에 위치 검출 라인의 하부 금속 산화막을 형성하는 단계; 및
상기 하부 금속 산화막의 상면에 금속 배선을 형성하고, 상기 금속 배선 상면에 상부 금속 산화막을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 금속 배선의 폭은 상기 하부 금속 산화막의 폭보다 좁게 형성되는, 터치 스크린 패널의 제조 방법.
A method of manufacturing a touch screen panel comprising a touch sensing electrode having a first sensing electrode pattern, a second sensing electrode pattern, and a bridge electrode, and a position detection line connected to any one of the sensing electrode patterns,
forming the first sensing electrode pattern and the second sensing electrode pattern;
forming a light blocking layer in the non-display area;
forming a lower metal oxide layer of a position detection line on an upper surface of the sensing electrode pattern extending over the light blocking layer formed in the non-display area among the sensing electrode patterns; and
forming a metal wiring on an upper surface of the lower metal oxide film, and forming an upper metal oxide film on an upper surface of the metal wiring;
The width of the metal wiring is formed to be narrower than the width of the lower metal oxide layer, the method of manufacturing a touch screen panel.
 청구항 9에 있어서, 상기 하부 금속 산화막은 표시 영역의 제2 감지 전극 패턴들 중 어느 하나를 연결하는 브릿지 전극을 형성함과 동시에 형성되는, 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 9 , wherein the lower metal oxide layer is formed at the same time as forming a bridge electrode connecting any one of the second sensing electrode patterns of the display area.
 청구항 9에 있어서, 감지 전극 패턴들 상부에 절연층을 형성하고, 상기 절연층 중에 상기 감지 전극 패턴과 상기 브릿지 전극 및 상기 감지 전극 패턴과 상기 하부 금속 산화막을 각각 접속하는 콘택홀을 형성하는 단계를 더 포함하는, 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 9 , further comprising: forming an insulating layer on the sensing electrode patterns, and forming contact holes for connecting the sensing electrode pattern and the bridge electrode, and the sensing electrode pattern and the lower metal oxide layer, respectively, in the insulating layer; Further comprising, a method of manufacturing a touch screen panel.
 청구항 1 내지 2 및 4 내지 7 중 어느 한 항의 터치 스크린 패널을 포함하는 화상 표시 장치.An image display device comprising the touch screen panel of any one of claims 1 to 2 and 4 to 7 .
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