KR102254503B1 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display Download PDF

Info

Publication number
KR102254503B1
KR102254503B1 KR1020140161568A KR20140161568A KR102254503B1 KR 102254503 B1 KR102254503 B1 KR 102254503B1 KR 1020140161568 A KR1020140161568 A KR 1020140161568A KR 20140161568 A KR20140161568 A KR 20140161568A KR 102254503 B1 KR102254503 B1 KR 102254503B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
pattern
branches
wiring
common wiring
Prior art date
Application number
KR1020140161568A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160060204A (en
Inventor
신창엽
서정무
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020140161568A priority Critical patent/KR102254503B1/en
Publication of KR20160060204A publication Critical patent/KR20160060204A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102254503B1 publication Critical patent/KR102254503B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/786Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/40Arrangements for improving the aperture ratio

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은, 기판, 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선, 게이트 배선과 이웃한 공통 배선, 게이트 배선과 데이터 배선의 교차부에 배치된 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 하나의 전극 과 전기적으로 연결된 제1전극, 공통 배선과 연결된 제2전극 및 공통 배선과 전기적으로 연결되며 제1전극과 일부 또는 전부가 오버랩되는 제1패턴을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.The present invention provides a substrate, a gate wiring and a data wiring crossing each other on the substrate to define a pixel region, a common wiring adjacent to the gate wiring, a thin film transistor disposed at the intersection of the gate wiring and the data wiring, A liquid crystal display device including a first electrode electrically connected to an electrode, a second electrode connected to a common wire, and a first pattern electrically connected to the common wire and partially or entirely overlapped with the first electrode.

Description

액정표시장치{LIQUID CRYSTAL DISPLAY}Liquid crystal display {LIQUID CRYSTAL DISPLAY}

본 발명은 영상을 표시하는 액정표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a liquid crystal display device that displays an image.

액정표시장치 기술은, 지속적인 발전을 거듭하여, 기존의 CRT(Cathode-Ray Tube)을 이용한 고착형 디스플레이 시장을 대체하고 있으며, 노트북용 표시소자, 컴퓨터 모니터, TV 등 점점 대형화하여 DID(Digital Information Display) 또는 PID(Public Information Display)시장으로도 확대되고 있다.Liquid crystal display technology continues to develop and is replacing the existing fixed-type display market using CRT (Cathode-Ray Tube), and the display device for laptops, computer monitors, TVs, etc. are gradually becoming larger and DID (Digital Information Display). ) Or PID (Public Information Display) market.

액정표시장치는 점점 해상도가 높아짐에 따라 개구율이 낮아지는 문제점이 있었다.
The liquid crystal display device has a problem in that the aperture ratio decreases as the resolution gradually increases.

본 발명의 목적은 표시장치의 발광영역의 면적을 넓게 구성할 수 있으므로 개구율을 향상시키는 액정표시장치를 제공하는 것이다.
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that improves the aperture ratio since the area of the light emitting area of the display device can be wide.

전술한 목적을 달성하기 위하여, 일 측면에서, 본 발명은, 기판 상에 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선, 게이트 배선과 이웃한 공통 배선, 게이트 배선과 데이터 배선의 교차부에 배치된 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터의 하나의 전극과 전기적으로 연결된제1전극, 공통 배선과 연결된 제2전극 및 공통 배선으로부터 연장되어 제1전극과 일부 또는 전부가 오버랩되는 제1패턴을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.
In order to achieve the above object, in one aspect, the present invention provides a gate wiring and a data wiring crossing each other on a substrate to define a pixel region, a common wiring adjacent to the gate wiring, and the intersection of the gate wiring and the data wiring. A liquid crystal display including an arranged thin film transistor, a first electrode electrically connected to one electrode of the thin film transistor, a second electrode connected to a common wire, and a first pattern extending from the common wire and partially or entirely overlapping the first electrode Provide the device.

본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 발광영역의 면적을 넓게 구성할 수 있으므로 개구율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention has an effect of improving the aperture ratio since the area of the light emitting area can be wide.

도 1은 실시예들이 적용되는 액정표시장치에 관한 시스템 구성도이다.
도 2는 일실시예에 따른 액정표시장치의 각 화소영역(P)의 평면도이다.
도 3은 도 2의 부분 확대도이다.
도 4는 도 3의 A-A’선의 단면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 일실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 순서대로 나타낸 공정 평면도들이다.
도 6은 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 각 화소영역(P)의 평면도이다.
도 7은 도 6의 부분 확대도이다.
도 8은 도 7의 B-B’선의 단면도이다.
도 9는 일실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역과 다른 실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역의 개구율을 대비한 도면이다.
도 10은 일실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역과 다른 실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역의 인치별 개구율 상승분(%)을 대비한 그래프이다.
1 is a system configuration diagram of a liquid crystal display to which embodiments are applied.
2 is a plan view of each pixel area P of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment.
3 is a partially enlarged view of FIG. 2.
4 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 3.
5A to 5C are process plan views sequentially illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment.
6 is a plan view of each pixel area P of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment.
7 is a partially enlarged view of FIG. 6.
8 is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 7.
9 is a diagram comparing the aperture ratios of each pixel area of a display device according to an exemplary embodiment and each pixel area of a display device according to another exemplary embodiment.
10 is a graph comparing an increase in the aperture ratio (%) of each pixel area of a display device according to an exemplary embodiment and each pixel area of a display device according to another exemplary embodiment.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시예들을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail through exemplary drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, it should be noted that the same elements are assigned the same numerals as possible, even if they are indicated on different drawings. In addition, in describing the embodiments of the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the subject matter of the present invention, a detailed description thereof will be omitted.

또한, 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 같은 맥락에서, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소의 "상"에 또는 "아래"에 형성된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접 또는 또 다른 구성 요소를 개재하여 간접적으로 형성되는 것을 모두 포함하는 것으로 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the constituent elements of the invention, terms such as first, second, A, B, (a) and (b) may be used. These terms are for distinguishing the constituent element from other constituent elements, and the nature, order, or order of the constituent element is not limited by the term. When a component is described as being "connected", "coupled" or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to that other component, but another component between each component It will be understood that elements may be “connected”, “coupled” or “connected”. In the same context, when it is described that a component is formed "above" or "below" another component, the component is all formed directly on the other component or indirectly through another component. It should be understood as including.

도 1은 실시예들이 적용되는 액정표시장치에 관한 시스템 구성도이다.1 is a system configuration diagram of a liquid crystal display device to which embodiments are applied.

도 1을 참조하면, 액정표시장치(100)는 액정표시패널(140), 데이터 구동부(120), 게이트 구동부(130), 타이밍 콘트롤러(110) 등을 포함한다. Referring to FIG. 1, a liquid crystal display device 100 includes a liquid crystal display panel 140, a data driver 120, a gate driver 130, a timing controller 110, and the like.

우선, 타이밍 컨트롤러(110)는 호스트 시스템으로부터 입력되는 수직/수평 동기신호(Vsync, Hsync)와 영상데이터(data), 클럭신호(CLK) 등의 외부 타이밍 신호에 기초하여 데이터 구동부(120)를 제어하기 위한 데이터 제어신호(DCS)와 게이트 구동부(130)를 제어하기 위한 게이트 제어신호(GCS)를 출력한다. 또한, 타이밍 컨트롤러(110)는 호스트 시스템로부터 입력되는 영상데이터(data)를 데이터 구동부(120)에서 사용하는 데이터 신호 형식으로 변환하고 변환된 영상데이터(data')를 데이터 구동부(120)로 공급할 수 있다.First, the timing controller 110 controls the data driver 120 based on external timing signals such as vertical/horizontal synchronization signals (Vsync, Hsync) input from the host system, image data, and clock signals CLK. A data control signal DCS for controlling the gate driver 130 and a gate control signal GCS for controlling the gate driver 130 are output. In addition, the timing controller 110 converts image data input from the host system into a data signal format used by the data driver 120 and supplies the converted image data data' to the data driver 120. have.

데이터 구동부(120)는 타이밍 컨트롤러(110)로부터 입력되는 데이터 제어신호(DCS) 및 변환된 영상데이터(data')에 응답하여, 영상데이터(data')를 계조 값에 대응하는 전압 값인 데이터 신호(아날로그 화소신호 혹은 데이터 전압)로 변환하여 데이터 라인에 공급한다.In response to the data control signal DCS input from the timing controller 110 and the converted image data data', the data driver 120 converts the image data data' into a data signal that is a voltage value corresponding to the grayscale value. It is converted into an analog pixel signal or data voltage) and supplied to the data line.

게이트 구동부(130)는 타이밍 컨트롤러(110)로부터 입력되는 게이트 제어신호(GCS)에 응답하여 게이트 라인에 스캔신호(게이트 펄스 또는 스캔펄스, 게이트 온신호)를 순차적으로 공급한다.The gate driver 130 sequentially supplies a scan signal (a gate pulse or a scan pulse, a gate on signal) to the gate line in response to the gate control signal GCS input from the timing controller 110.

한편 액정표시패널(140)은, 두 장의 기판들과 그 사이에 위치하는 액정층, 배향막 등으로 이루어진 표시패널일 수 있다. Meanwhile, the liquid crystal display panel 140 may be a display panel including two substrates, a liquid crystal layer, an alignment layer, and the like positioned between the two substrates.

또한 액정표시패널(140)의 제 1 기판(하부 기판)에는 다수의 데이터라인들(D1~Dm, m은 자연수), 데이터라인들(D1~Dm)과 교차되는 다수의 게이트라인들(또는 스캔라인들)(G1~Gn, n은자연수), 데이터라인들(D1~Dm)과 게이트라인들(G1~Gn)의 교차부들에 다수의 화소영역들(P)이 배치될 수 있다.In addition, the first substrate (lower substrate) of the liquid crystal display panel 140 includes a plurality of data lines (D1 to Dm, m is a natural number), and a plurality of gate lines (or scans) intersecting the data lines D1 to Dm. Lines) (G1 to Gn, n is a natural number), a plurality of pixel regions P may be disposed at intersections between the data lines D1 to Dm and the gate lines G1 to Gn.

한편, 액정표시패널(140)의 화소영역들(P)은 데이터라인들(D1~Dm)과 게이트라인들(G1~Gn)에 의해 정의된 화소영역에 형성되어 매트릭스 형태로 배치된다. 화소영역들 각각의 액정셀은 트랜지스터, 데이터전압을 충전시키기 위한 화소전극, 화소전극과 전계를 형성하는 공통전극, 화소전극에 접속되어 액정셀의 전압을 유지시키기 위한 스토리지 캐패시터(Storage Capacitor) 등을 포함할 수 있다. 화소영역들 각각의 액정셀은 화소전극에 인가되는 데이터전압과 공통전극에 인가되는 공통전압의 전압차에 따라 인가되는 전계에 의해 구동되어 입사광의 투과량을 조절한다. Meanwhile, the pixel regions P of the liquid crystal display panel 140 are formed in the pixel regions defined by the data lines D1 to Dm and the gate lines G1 to Gn and are arranged in a matrix form. The liquid crystal cells of each of the pixel regions include a transistor, a pixel electrode for charging a data voltage, a common electrode for forming an electric field with the pixel electrode, a storage capacitor connected to the pixel electrode to maintain the voltage of the liquid crystal cell, etc. Can include. The liquid crystal cells of each of the pixel regions are driven by an electric field applied according to a voltage difference between the data voltage applied to the pixel electrode and the common voltage applied to the common electrode to control the transmission amount of incident light.

한편 액정표시패널(140)의 제 2 기판(상부 기판)에는 광차단층(예를 들면, 블랙 매트릭스(black matrix)), 컬러필터 등을 포함될 수 있다. 액정표시패널(140)의 제 1 기판은 COT(Color filter On TFT) 구조로 구현될 수 있다. 이 경우에 광차단층과 컬러필터는 제 1 기판에 형성될 수 있다.Meanwhile, the second substrate (upper substrate) of the liquid crystal display panel 140 may include a light blocking layer (eg, a black matrix), a color filter, and the like. The first substrate of the liquid crystal display panel 140 may be implemented in a color filter on TFT (COT) structure. In this case, the light blocking layer and the color filter may be formed on the first substrate.

도 2는 일실시예에 따른 액정표시장치의 각 화소영역(P)의 평면도이다. 도 3은 도 2의 부분 확대도이다. 도 4는 도 3의 A-A’선의 단면도이다.2 is a plan view of each pixel area P of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2. 4 is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 3.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 액정표시장치(100)의 하나의 화소영역(P1)은 기판(210) 상에는 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선(212) 및 데이터 배선(214)과, 화소 영역을 지나며 게이트 배선(212)과 이웃한 공통 배선(213)과, 게이트 배선(212)과 데이터 배선(214)의 교차부에 게이트 전극(216a), 소스 전극(216b) 및 드레인 전극(216c)으로 이루어진 박막 트랜지스터(Tr)를 포함한다.Referring to FIGS. 2 to 4, one pixel region P1 of the liquid crystal display 100 crosses each other on a substrate 210 to define a pixel region, a gate wire 212 and a data wire 214, The gate electrode 216a, the source electrode 216b, and the drain electrode 216c are at the intersection of the common wiring 213 and the gate wiring 212 and the data wiring 214 passing through the pixel region and adjacent to the gate wiring 212. ) And a thin film transistor Tr.

게이트 배선(212)은 제1방향으로 연장되어 게이트 패드(212a)와 연결되어 있다. 데이터 배선(214)은 꺾임 구조일 수 있다. 데이터 배선(214)은 제2방향으로 연장되어 데이터 패드(214a)와 연결되어 있다. The gate wiring 212 extends in the first direction and is connected to the gate pad 212a. The data line 214 may have a bent structure. The data line 214 extends in the second direction and is connected to the data pad 214a.

이때, 공통 배선(213)은 게이트 배선(212)의 상측이나 하측에 인접하여 형성될 수 있으며, 게이트 배선(212)에 대해 실질적으로 평행할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In this case, the common wiring 213 may be formed adjacent to the upper or lower side of the gate wiring 212, and may be substantially parallel to the gate wiring 212, but is not limited thereto.

박막 트랜지스터(Tr)는 게이트 배선(212)에서 돌출된 게이트 전극(216a), 데이터 배선(214)에서 돌출되며 게이트 전극(216a) 상에 예를 들어 "U"자형으로 형성된 소스 전극(216b) 및 소스 전극(216b)과 소정 간격 이격되어 소스 전극(216b)의 "U"자형 패턴 내로 일부 들어오는 드레인 전극(216c)을 포함한다. 이때 게이트 전극(216a)의 층과 소스/드레인 전극(216b, 216c)의 층 사이에는 채널이 정의된 반도체층(미도시)이 개재된다. 이때 박막 트래지스터(Tr)에서 소스 전극(216b)과 드레인 전극(216c)은 박막 트래지스터(Tr)의 반도체층이 P타입이냐 N타입이냐에 따라서 전극의 역할이 뒤바뀔 수 있다. The thin film transistor Tr includes a gate electrode 216a protruding from the gate wiring 212, a source electrode 216b protruding from the data wiring 214 and formed in a "U" shape on the gate electrode 216a, and And a drain electrode 216c that is spaced apart from the source electrode 216b and partially enters the “U”-shaped pattern of the source electrode 216b. At this time, a semiconductor layer (not shown) in which a channel is defined is interposed between the layer of the gate electrode 216a and the layer of the source/drain electrodes 216b and 216c. At this time, the roles of the source electrode 216b and the drain electrode 216c in the thin film transistor Tr may be reversed depending on whether the semiconductor layer of the thin film transistor Tr is a P-type or an N-type.

소스 전극(216b)은 데이터 배선(214)과 소스 연결패턴(217)에 의해 연결되어 있다. 소스 연결패턴(217)은 게이트 배선(212)과 겹치지 않도록 게이트 배선(212)의 양측에 위치하는 두개의 패턴들(217a, 217b)을 포함할 수 있다. The source electrode 216b is connected to the data line 214 by the source connection pattern 217. The source connection pattern 217 may include two patterns 217a and 217b positioned on both sides of the gate wiring 212 so as not to overlap with the gate wiring 212.

액정표시장치(100)의 하나의 화소영역(P1)은 화소영역 내에 드레인 전극(216c)과 전기적으로 연결된 제1전극(218)과 화소영역 내에 공통 배선(213)에서 분기되어 제1전극(218)과 교번되어 형성된 제2전극(220)을 포함한다. One pixel region P1 of the liquid crystal display 100 is branched from the first electrode 218 electrically connected to the drain electrode 216c in the pixel region and the common wiring 213 in the pixel region to form the first electrode 218. ) And a second electrode 220 formed by alternating with each other.

제1전극(218)은 데이터 배선(212)을 통해 데이터 전압이 공급된다. 제2전극(220)은 공통 배선(214)을 통해 액정 구동을 위한 기준 전압, 즉 공통 전압이 공급된다. 이에 따라, 데이터 전압(화소 전압 신호)이 공급된 제1전극(218)과 공통 전압이 공급된 제2전극(220) 사이에는 전계를 형성한다. 그리고, 액정 분자들의 회전 정도에 따라 화소 영역(P1)을 투과하는 광투과율이 달라지게 됨으로써 화상을 구현하게 된다.The data voltage is supplied to the first electrode 218 through the data line 212. The second electrode 220 is supplied with a reference voltage for driving the liquid crystal, that is, a common voltage through the common wiring 214. Accordingly, an electric field is formed between the first electrode 218 supplied with the data voltage (pixel voltage signal) and the second electrode 220 supplied with the common voltage. In addition, the light transmittance that transmits through the pixel region P1 varies according to the degree of rotation of the liquid crystal molecules, thereby implementing an image.

이때 제1전극(218)은 화소전극이고 제2전극(220)은 공통전극일 수 있다. 제1전극(218)은 둘 이상의 가지들(218a, 218b)이 꺾임 구조를 가지고 2전극(220)은 둘 이상의 가지들(220a, 220b)이 꺾임 구조를 가지고 있어 액정분자가 2방향으로 배열되어 2-도메인(domain)을 형성함으로써 모노-도메인에 비해 시야각이 더욱 향상된다. 다만, 제1전극(218)과 제2전극(220)은 2-도메인 구조에 한정되는 것은 아니며 2-도메인 이상의 멀티-도메인(multi-domain) 구조를 가질 수 있고 꺾임 구조를 가지지 않을 수도 있다. 제1전극(218)과 제2전극(220)은 동일 평면 상에 위치할 수 있다. In this case, the first electrode 218 may be a pixel electrode and the second electrode 220 may be a common electrode. The first electrode 218 has a structure in which two or more branches 218a and 218b are bent, and the second electrode 220 has a structure in which two or more branches 220a and 220b are bent, so that liquid crystal molecules are arranged in two directions. By forming a 2-domain (domain) the viewing angle is further improved compared to the mono-domain. However, the first electrode 218 and the second electrode 220 are not limited to a 2-domain structure, and may have a multi-domain structure of a 2-domain or more, and may not have a bent structure. The first electrode 218 and the second electrode 220 may be positioned on the same plane.

제1전극(218)은 드레인 전극(216c)로부터 연장된 제2패턴(221)과 컨텍홀(미도시)을 통해 전기적으로 연결되어 있다. 제2패턴(221)은 공통 배선(213)과 전부 또는 일부가 오버랩된다. 따라서 제2패턴(221)과 공통 배선(213)은 데이터 배선(212)을 통해 공급된 데이터 전압을 다음 프레임까지 유지하는 제1스토리지 캐패시터로 기능한다.The first electrode 218 is electrically connected to the second pattern 221 extending from the drain electrode 216c through a contact hole (not shown). The second pattern 221 overlaps with the common wiring 213 in whole or in part. Accordingly, the second pattern 221 and the common line 213 function as a first storage capacitor that maintains the data voltage supplied through the data line 212 until the next frame.

공통 배선(213)으로부터 연장된 제1패턴(222)이 형성되어 있다. 제1패턴(222)은 공통 배선(213) 및 게이트 배선(214)과 동일한 평면에 형성되어 있다. 제1패턴(222)은 제1전극(213)과 다른 평면, 상부 평면 또는 하부 평면에 형성되어 있다. 도 4에 도시한 바와 같이 제1패턴(222)은 제1전극(218)의 하부에 위치할 수 있다. 제1패턴(222)과 제1전극(218) 사이에는 절연층(223) 또는 유전체가 위치한다.A first pattern 222 extending from the common wiring 213 is formed. The first pattern 222 is formed on the same plane as the common wiring 213 and the gate wiring 214. The first pattern 222 is formed on a plane different from the first electrode 213, an upper plane, or a lower plane. As shown in FIG. 4, the first pattern 222 may be positioned under the first electrode 218. An insulating layer 223 or a dielectric is positioned between the first pattern 222 and the first electrode 218.

제1패턴(222)은 둘 이상의 가지들(222a, 222b, 222c)을 가지고 있다. 한편, 제1패턴(222)의 하나의 가지(222c)는 제2전극(220)의 제2전극 연결패턴(224)과 컨텍홀(미도시)을 통해 전기적으로 연결되어 있다. The first pattern 222 has two or more branches 222a, 222b, and 222c. Meanwhile, one branch 222c of the first pattern 222 is electrically connected to the second electrode connection pattern 224 of the second electrode 220 through a contact hole (not shown).

제1패턴(222)의 가지들(222a, 222b, 222c)들 중 적어도 하나는 각각 제2전극(220)의 가지들(220a, 220b) 사이에 위치한다. 이때 제1패턴(222)의 가지들(222a, 222b)는 각각 제1전극(218)의 가지들(218a, 218b) 중 하나와 일부 또는 전부가 오버랩될 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 제1패턴(222)의 가지들(222a, 222b)과 제1전극(218)의 가지들(218a, 218b)의 개수가 동일하고 양자의 가지들이 일대일로 일부 또는 전부 오버랩될 수도 있다. At least one of the branches 222a, 222b, and 222c of the first pattern 222 is positioned between the branches 220a and 220b of the second electrode 220, respectively. At this time, the branches 222a and 222b of the first pattern 222 may overlap with one of the branches 218a and 218b of the first electrode 218, respectively, but are not limited thereto. The number of the branches 222a and 222b of the first pattern 222 and the branches 218a and 218b of the first electrode 218 may be the same, and both branches may partially or all overlap one-to-one.

한편, 제1패턴(222)의 가지들(222a, 222b)는 각각 제1전극(218)의 가지들(218a, 218b) 중 하나와 오버랩되지 않을 수 있다. 예를 들어 제1패턴(222)의 가지들(222a, 222b)는 각각 제1전극(218)의 가지들(218a, 218b) 중 하나와 오버랩되지 않더라도 제1전극(218)의 가지들(218a, 218b)과 이격 거리가 짧거나 제1패턴(222)과 제1전극(218)의 유전체의 유전율이 크거나 제1패턴과 제1전극의 넓이가 넓어 스토리지 캐패시터로 기능할 수 있으면 충분하다.Meanwhile, the branches 222a and 222b of the first pattern 222 may not overlap one of the branches 218a and 218b of the first electrode 218, respectively. For example, even though the branches 222a and 222b of the first pattern 222 do not overlap one of the branches 218a and 218b of the first electrode 218, respectively, the branches 218a of the first electrode 218 , 218b) is short, the dielectric constant of the first pattern 222 and the first electrode 218 is large, or the width of the first pattern and the first electrode is wide so that it can function as a storage capacitor.

따라서, 제1패턴(222)과 제1전극(218)은 데이터 배선(214)을 통해 공급된 데이터 전압을 다음 프레임까지 유지하는 제2스토리지 캐패시터로 기능한다.Accordingly, the first pattern 222 and the first electrode 218 function as a second storage capacitor that maintains the data voltage supplied through the data line 214 until the next frame.

따라서, 제2패턴(221)과 공통 배선(213)이 제1스토리지 캐패시터로 기능하고 제1패턴(222)과 제1전극(218)이 제2스토리지 캐패시터로 기능하여 데이터 배선(214)을 통해 공급된 데이터 전압을 다음 프레임까지 유지할 수 있다. 전술한 예에서 드레인 전극(216c)으로부터 연장되고 공통 배선(213)과 전부 또는 일부 오버랩된 제2패턴(221)이 공통 배선(213)과 제1스토리지 캐패시터로 기능하는 것으로 설명하였으나 제2패턴(221)이 실질적으로 존재하지 않고 제1패턴(222)과 제1전극(213)만으로 스토리지 캐패시터를 구성할 수도 있다. Therefore, the second pattern 221 and the common wiring 213 function as a first storage capacitor, and the first pattern 222 and the first electrode 218 function as a second storage capacitor, The supplied data voltage can be maintained until the next frame. In the above example, it has been described that the second pattern 221 extending from the drain electrode 216c and overlapping all or part of the common wiring 213 functions as the common wiring 213 and the first storage capacitor. The storage capacitor 221 may not be substantially present and only the first pattern 222 and the first electrode 213 may be formed.

여기서, 각 화소 영역(P1)마다 게이트 전극(216a)을 구비한 게이트 배선(212), 게이트 배선(212)에서 연장된 일측에 형성된 게이트 패드(212a), 공통 배선(213), 공통 배선(213)으로부터 연장된 제1패턴(222)는 모두 동일 평면 또는 동일층에 형성되어 있으나 이에 제한되지 않는다. Here, the gate wiring 212 including the gate electrode 216a for each pixel region P1, the gate pad 212a formed on one side extending from the gate wiring 212, the common wiring 213, and the common wiring 213 The first patterns 222 extending from) are all formed on the same plane or on the same layer, but are not limited thereto.

그리고, 데이터 배선(214)과, 소스/드레인 전극(216b, 216c), 드레인 전극(216c)에서 연장된 제2패턴(221), 데이터 배선(214)에서 연장된 일측에 형성된 데이터 패드(214a)은 모두 동일 평면 또는 동일층에 형성되어 있으나 이에 제한되지 않는다. In addition, the data line 214, the source/drain electrodes 216b and 216c, the second pattern 221 extending from the drain electrode 216c, and the data pad 214a formed on one side extending from the data line 214 All are formed on the same plane or on the same layer, but are not limited thereto.

또한, 제1전극(218), 제1전극(218)과 교번하여 형성된 제2전극(220)은 모두 동일 평면 또는 동일층에 형성되어 있으나 이에 제한되지 않는다.In addition, the first electrode 218 and the second electrode 220 formed by alternating with the first electrode 218 are all formed on the same plane or on the same layer, but are not limited thereto.

전술한 바와 같이 제1패턴(222)이 게이트 배선(212) 및 공통 배선(213)과 동일 평면 또는 동일층에 형성되는 것으로 설명하였으나 제1패턴(222)은 데이터 배선(214) 및 데이터 패드(214a) 등과 동일 평면 또는 동일층에 형성될 수 있다. 이때 제1패턴(222)과 공통 배선(213)이 다른 층에 위치하므로 콘텍홀을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. As described above, it has been described that the first pattern 222 is formed on the same plane or on the same layer as the gate wiring 212 and the common wiring 213, but the first pattern 222 includes the data wiring 214 and the data pad. 214a) and the like may be formed on the same plane or on the same layer. At this time, since the first pattern 222 and the common wiring 213 are located on different layers, they may be electrically connected through a contact hole.

도 1 내지 도 4에 도시하지 않았으나 서로 다른 평면 또는 다른 층에 위치하면서 서로 연결된 구성요소들은 컨텍홀을 통해 서로 전기적으로 연결된다. 한편 서로 다른 층들 사이에는 도 4에 도시한 절연층(223)과 같이 절연기능을 하는 하나 또는 둘 이상의 층이 위치할 수 있다. Although not shown in FIGS. 1 to 4, components located on different planes or on different layers and connected to each other are electrically connected to each other through a contact hole. Meanwhile, one or two or more layers having an insulating function, such as the insulating layer 223 illustrated in FIG. 4, may be positioned between different layers.

이하, 도 5a 내지 도 5c를 참조하여 일실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법에 대해 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment will be described with reference to FIGS. 5A to 5C.

도 5a 내지 도 5c는 일실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법을 순서대로 나타낸 공정 평면도들이다. 5A to 5C are process plan views sequentially illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment.

일실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법으로, 먼저 도 5a와 같이, 기판 상에 제1금속을 증착하고, 제 1 마스크(미도시)를 이용하여 제1금속을 선택적으로 제거함으로써, 복수개의 게이트 전극(216a) 및 연장된 일측에 게이트 패드(212a)을 구비한 게이트 배선(212)과, 게이트 배선(212)과 인접한 공통 배선(213), 공통 배선(213)과 연장된 둘 이상의 가지들(222a, 222b, 222c)을 포함하는 제1패턴(222)을 형성한다. 이때 제1패턴(222)의 둘 이상의 가지들(222a, 222b, 222c)는 각각 서로 평행하면 꺾임 구조를 가지고 있다. In a method of manufacturing a liquid crystal display according to an embodiment, first, as shown in FIG. 5A, by depositing a first metal on a substrate and selectively removing the first metal using a first mask (not shown), a plurality of A gate wiring 212 having a gate electrode 216a and a gate pad 212a on one extended side, a common wiring 213 adjacent to the gate wiring 212, and two or more branches extending from the common wiring 213 A first pattern 222 including (222a, 222b, 222c) is formed. At this time, two or more branches 222a, 222b, and 222c of the first pattern 222 have a bent structure when they are parallel to each other.

이후 기판 전면에 게이트 절연막(미도시)을 형성한다.Thereafter, a gate insulating film (not shown) is formed on the entire surface of the substrate.

도 5b와 같이, 게이트 절연막 상에 제2금속을 증착하고, 제 2 마스크(미도시)를 이용하여 "U"자형의 소스 전극(216b)과 연장된 일측에 데이터 패드(214a)가 구비된 데이터 배선(214), 소스 전극(216b)과 소정 간격 이격된 드레인 전극(216c), 드레인 전극(216c)과 연결된 제2패턴(221), 소스 전극(216b)과 데이터 배선(214)을 연결하는 소스 연결패턴(217)을 형성한다.As shown in FIG. 5B, a second metal is deposited on the gate insulating layer, and data including a “U”-shaped source electrode 216b and a data pad 214a extending on one side thereof using a second mask (not shown) The wiring 214, the drain electrode 216c spaced apart from the source electrode 216b by a predetermined distance, the second pattern 221 connected to the drain electrode 216c, the source connecting the source electrode 216b and the data line 214 A connection pattern 217 is formed.

이와 같이, 제 2 마스크를 이용한 식각 공정시, 게이트 절연막 상에 형성된 반도체층을 형성하고 반도체층 상에 제2금속을 증착한 후 소스 전극(216b)과 드레인 전극(216c)을 형성할 때 채널이 정의된 반도체층(미도시)을 동시에 형성할 수 있다. As described above, in the etching process using the second mask, the channel is formed when the source electrode 216b and the drain electrode 216c are formed after forming the semiconductor layer formed on the gate insulating layer and depositing the second metal on the semiconductor layer. A defined semiconductor layer (not shown) can be formed at the same time.

또는 추가 마스크 공정을 이용하여 게이트 절연막 상에 게이트 전극과 대응되는 위치에 반도체층을 형성하고 상기 제 2 마스크를 이용한 식각 공정을 이용하여 소스 전극(216b)과 드레인 전극(216c)을 형성할 수 있다. Alternatively, a semiconductor layer may be formed on the gate insulating layer at a position corresponding to the gate electrode by using an additional mask process, and the source electrode 216b and the drain electrode 216c may be formed by using an etching process using the second mask. .

여기서, 데이터 배선(214)은 꺾임 구조를 가지고 있다. 소스 연결패턴(217)은 게이트 배선(212)과 겹치지 않도록 게이트 배선(212)의 양측에 위치하는 두개의 패턴들(217a, 217b)을 포함한다.Here, the data wiring 214 has a bent structure. The source connection pattern 217 includes two patterns 217a and 217b positioned on both sides of the gate wiring 212 so as not to overlap with the gate wiring 212.

도 5c와 같이, 기판 상에 투명 도전막(ITO)을 증착하고, 제 3 마스크(미도시)를 이용하여 서로 교번하는 둘 이상의 가지들(218a, 218b)을 포함하는 제1전극(218)과 둘 이상의 가지들(220a, 220b)을 포함하는 제2전극(220), 연결패턴(224)을 형성한다. 5C, a first electrode 218 including two or more branches 218a and 218b alternating with each other by depositing a transparent conductive film (ITO) on the substrate and using a third mask (not shown), and A second electrode 220 including two or more branches 220a and 220b and a connection pattern 224 are formed.

도시되지 않았지만, 기판에 대향되는 다른 기판 상에는 게이트 배선(212), 데이터 배선(214) 및 박막 트랜지스터(Tr) 형성 부위를 가리는 블랙 매트릭스층을 형성한다. 이때 각 화소에 대응하여 R, G, B 칼라 필터층을 다른 기판에 형성하거나 기판 상에 형성할 수 있다.Although not shown, a black matrix layer is formed on another substrate opposite to the substrate to cover portions of the gate wiring 212, the data wiring 214, and the thin film transistor Tr. In this case, R, G, and B color filter layers may be formed on or on another substrate corresponding to each pixel.

이어, 각각 TFT 어레이 공정과, 칼라 필터 어레이 공정이 완료된 기판과 다른 기판 상에는 배향막을 형성한 후, 이를 러빙 처리한다.Subsequently, an alignment layer is formed on a substrate different from the substrate on which the TFT array process and the color filter array process have been completed, and then rubbing the same.

이와 같이, 각각 형성 공정이 이루어진 두개의 기판들 중 어느 일 기판에 스페이서를 산포하고 외곽에 대응되는 부위에 씰재를 디스펜싱한 후, 두개의 기판들을 합착한 후, 이를 하나의 패널 단위로 컷팅한다. 이어, 액정을 각각의 패널에 주입하여 액정 패널을 형성한다. 이어, 액정 패널에 도 1에 도시한 데이터 구동부(120), 게이트 구동부(130), 타이밍 컨트롤러(110)와 백 라이트(미도시)를 연결시켜 액정표시장치(100)를 완성한다.In this way, after distributing a spacer on any one of the two substrates in which the respective formation process has been made, dispensing a sealing material on a portion corresponding to the outer side, bonding the two substrates, and then cutting the spacer into a single panel unit. . Then, liquid crystal is injected into each panel to form a liquid crystal panel. Next, the liquid crystal display device 100 is completed by connecting the data driver 120, the gate driver 130, the timing controller 110, and a backlight (not shown) shown in FIG. 1 to the liquid crystal panel.

도 6은 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 각 화소영역(P2)의 평면도이다. 도 7은 도 6의 부분 확대도이다. 도 8은 도 7의 B-B’선의 단면도이다.6 is a plan view of each pixel area P2 of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment. 7 is a partially enlarged view of FIG. 6. 8 is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 7.

도 6 내지 도 8을 참조하면, 액정표시장치(100)의 하나의 화소영역(P2)은 기판(610) 상에는 서로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선(612) 및 꺾임 구조의 데이터 배선(614)과, 화소 영역을 지나며 게이트 배선(612)과 이웃한 공통 배선(613)과, 게이트 배선(612)과 데이터 배선(614)의 교차부에 게이트 전극(616a), "U"자형의 소스 전극(616b) 및 소스 전극(616b)의 "U"자형 패턴 내로 일부 들어오는 드레인 전극(616c), 채널이 정의된 반도체층(미도시)으로 이루어진 박막 트랜지스터(Tr)를 포함한다.6 to 8, one pixel region P2 of the liquid crystal display 100 crosses each other on a substrate 610 to define a pixel region, and a gate wire 612 having a bent structure and a data wire 614 having a bent structure. ), a common wiring 613 adjacent to the gate wiring 612 passing through the pixel region, and a gate electrode 616a at the intersection of the gate wiring 612 and the data wiring 614, and a "U"-shaped source electrode 616b and a drain electrode 616c partially entering the "U"-shaped pattern of the source electrode 616b, and a thin film transistor Tr made of a semiconductor layer (not shown) in which a channel is defined.

게이트 배선(612)은 제1방향으로 연장되어 게이트 패드(612a)와 연결되어 있다. 데이터 배선(614)은 제2방향으로 연장되어 데이터 패드(614a)와 연결되어 있다. The gate wiring 612 extends in the first direction and is connected to the gate pad 612a. The data line 614 extends in the second direction and is connected to the data pad 614a.

소스 전극(616b)은 데이터 배선(614)과 소스 연결패턴(617)에 의해 연결되어 있다. 소스 연결패턴(617)은 게이트 배선(612)과 겹치지 않도록 게이트 배선(612)의 양측에 위치하는 두개의 패턴들(617a, 617b)을 포함한다. The source electrode 616b is connected to the data line 614 by a source connection pattern 617. The source connection pattern 617 includes two patterns 617a and 617b positioned on both sides of the gate line 612 so as not to overlap with the gate line 612.

액정표시장치(100)의 하나의 화소영역(P2)은 화소영역 내에 드레인 전극(616c)에서 연장되고 꺾임 구조의 둘 이상의 가지들(618a, 618b)을 포함하는 제1전극(618)과 화소영역 내에 공통 배선(613)에서 분기되고 꺾임 구조의 둘 이상의 가지들(620a, 620b)을 포함하는 제2전극(620)을 포함한다. One pixel region P2 of the liquid crystal display 100 extends from the drain electrode 616c in the pixel region and includes a first electrode 618 and a pixel region including two or more branches 618a and 618b having a bent structure. And a second electrode 620 having two or more branches 620a and 620b branched from the common wiring 613 and having a bent structure therein.

제1전극(618)은 드레인 전극(616c)로부터 연장된 제2패턴(621)과 컨텍홀(미도시)을 통해 전기적으로 연결되어 있다. 제2패턴(621)은 공통 배선(613)과 전부 또는 일부가 오버랩된다. 따라서 제2패턴(621)과 공통 배선(613)은 데이터 배선(612)을 통해 공급된 데이터 전압을 다음 프레임까지 유지하는 스토리지 캐패시터로 기능한다.The first electrode 618 is electrically connected to the second pattern 621 extending from the drain electrode 616c through a contact hole (not shown). The second pattern 621 overlaps with the common wiring 613 in whole or in part. Accordingly, the second pattern 621 and the common wiring 613 function as a storage capacitor that maintains the data voltage supplied through the data line 612 until the next frame.

도 2 내지 도 4를 참조하여 설명한 일실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P1)은 공통 배선(213)으로부터 연장된 제1패턴(222)을 포함하고, 도 4에 도시한 바와 같이 제1패턴(222)과 제1전극(218)이 스토리지 캐패시터로 기능하지만 도 6 내지 도 8을 참조하여 설명한 다른 실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P2)는 제1패턴을 포함하지 않는다. Each pixel area P1 of the display device according to the exemplary embodiment described with reference to FIGS. 2 to 4 includes a first pattern 222 extending from a common wiring 213, and as shown in FIG. Although the first pattern 222 and the first electrode 218 function as a storage capacitor, each pixel area P2 of the display device according to another exemplary embodiment described with reference to FIGS. 6 to 8 does not include the first pattern.

도 9는 일실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P1)와 다른 실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P2)의 개구율을 대비한 도면이다.9 is a diagram comparing the aperture ratios of each pixel area P1 of the display device according to an exemplary embodiment and each pixel area P2 of the display device according to another exemplary embodiment.

도 9을 참조하면, 다른 실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P2)의 공통 배선(613)의 폭(W2)이 일실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P1)의 공통 배선의 폭(W1)보다 크다. 또한, 다른 실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P2)의 제2패턴(621)의 폭(W4)도 일실시예에 따른 표시장치의 각 화소 영역(P1)의 제2패턴(221)의 폭(W3)보다 크다. 결과적으로 공통 배선(613)과 제2패턴(621)의 스토리지 캐패시터로써 캐패시턴스는 일실시예에 따른 제1패턴(222)과 제1전극(218)의 제1스토리지 캐패시터의 캐패시턴스 및 공통 배선(213)과 제2패턴(221)의 제2스토리지 캐패시터의 캐패시턴스과 실질적으로 동일할 정도로 공통 배선(613)의 폭(W2)과 제2패턴(621)의 폭(W4)을 갖는다.Referring to FIG. 9, a width W2 of a common wiring 613 of each pixel area P2 of a display device according to another exemplary embodiment is of a common wiring of each pixel area P1 of the display device according to an exemplary embodiment. It is larger than the width W1. Also, the width W4 of the second pattern 621 of each pixel area P2 of the display device according to another exemplary embodiment is also the second pattern 221 of each pixel area P1 of the display device according to the exemplary embodiment. Is greater than the width (W3). As a result, as a storage capacitor of the common wiring 613 and the second pattern 621, the capacitance is the capacitance of the first storage capacitor of the first pattern 222 and the first electrode 218 and the common wiring 213 according to an embodiment. ) And the width W2 of the common wiring 613 and the width W4 of the second pattern 621 are substantially equal to the capacitance of the second storage capacitor of the second pattern 221.

도 10은 일실시예에 따른 표시장치와 다른 실시예에 따른 표시장치의 인치별 개구율 상승분(%)을 대비한 그래프이다.10 is a graph comparing an increase in an aperture ratio per inch (%) between a display device according to an exemplary embodiment and a display device according to another exemplary embodiment.

일실시예에 따른 표시장치는 전술한 바와 같이 제1패턴(222)과 제1전극(218)으로 스토리지 캐패시터의 기능을 하므로 공통 배선(213)과 제2패턴(221)의 폭들을 작게 만들어도 다음 프레임까지 데이터 전압을 유지할 수 있다. 따라서, 공통 배선(213)의 폭(W1)과 제2패턴(221)의 폭(W3)을 공통 배선(613)의 폭(W2)과 제2패턴(621)의 폭(W4)보다 작다. 결과적으로 일실시예에 따른 표시장치는 공통 배선(213)의 폭(W1)과 제2패턴(221)의 폭(W3)을 작게 하여 비발광영역을 좁게 만들더라도 제1패턴(222)과 제1전극(218)으로 스토리지 캐패시터의 기능을 하므로 다음 프레임까지 데이터 전압을 충분히 유지할 수 있다. As described above, the display device according to an exemplary embodiment functions as a storage capacitor with the first pattern 222 and the first electrode 218, so even if the widths of the common wiring 213 and the second pattern 221 are made small, The data voltage can be maintained until the next frame. Accordingly, the width W1 of the common wiring 213 and the width W3 of the second pattern 221 are smaller than the width W2 of the common wiring 613 and the width W4 of the second pattern 621. As a result, the display device according to the exemplary embodiment reduces the width W1 of the common wiring 213 and the width W3 of the second pattern 221 to narrow the non-emission area, Since the one electrode 218 functions as a storage capacitor, the data voltage can be sufficiently maintained until the next frame.

따라서, 일실시예에 따른 표시장치는 다른 실시예에 따른 표시장치와 비교하여 발광영역의 면적을 넓게 구성할 수 있으므로 개구율을 향상시킬 수 있다. Accordingly, the display device according to the exemplary embodiment can have a wider area of the light emitting area compared to the display device according to the other exemplary embodiment, thereby improving the aperture ratio.

특히 일실시예에 따른 표시장치는 다른 실시예에 따른 표시장치와 비교하여 해상도가 큰 FHD뿐만 아니라 UHD일 때에도 인치별 개구율이 상승된다. In particular, in the display device according to an embodiment, the aperture ratio per inch is increased even when the resolution is not only FHD but also UHD, compared to the display device according to another embodiment.

이상 도면을 참조하여 실시예들을 설명하였으나 본 발명은 이에 제한되지 않는다.The embodiments have been described above with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.

이상에서 기재된 "포함하다", "구성하다" 또는 "가지다" 등의 용어는, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 해당 구성 요소가 내재될 수 있음을 의미하는 것이므로, 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함한 모든 용어들은, 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥 상의 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.The terms such as "include", "consist of" or "have" described above mean that the corresponding component may be embedded, unless otherwise specified, and thus other components are not excluded. It should be construed as being able to further include other components. All terms, including technical or scientific terms, unless otherwise defined, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms generally used, such as terms defined in the dictionary, should be interpreted as being consistent with the meaning in the context of the related technology, and are not interpreted as ideal or excessively formal meanings unless explicitly defined in the present invention.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100: 액정표시장치 110: 타이밍 컨트롤러
120: 데이터 구동부 130: 게이트 구동부
140: 액정표시패널 213: 공통 배선
216c: 드레인 전극 218: 제1전극
221: 제2패턴 222: 제1패턴
100: liquid crystal display 110: timing controller
120: data driver 130: gate driver
140: liquid crystal display panel 213: common wiring
216c: drain electrode 218: first electrode
221: second pattern 222: first pattern

Claims (6)

기판 상의 제1화소 영역에 배치되며, 행 방향으로 배치된 게이트 배선과 열 방향으로 배치된 데이터 배선의 교차부에 배치된 박막 트랜지스터;
상기 게이트 배선과 이웃한 공통 배선;
상기 제1화소 영역 내 발광영역에 배치되고, 상기 박막 트랜지스터의 하나의 전극과 전기적으로 연결된 제1전극;
상기 발광영역에 배치되고, 상기 공통 배선과 연결된 제2전극; 및
상기 공통 배선과 전기적으로 연결되며, 상기 게이트 배선과 이웃한 상기 공통 배선으로부터 상기 발광영역으로 연장되어 상기 제1전극과 일부 또는 전부가 상기 발광영역에서 오버랩되는 제1패턴을 포함하고,
상기 박막 트랜지스터의 상기 하나의 전극으로부터 연장되어 상기 제1전극과 전기적으로 연결된 제2패턴을 더 포함하고,
상기 제1전극은 상기 제2 패턴을 통해 상기 박막 트랜지스터의 상기 하나의 전극과 전기적으로 연결된 상기 제1화소 영역의 화소 전극이고,
상기 공통 배선, 상기 제2전극 및 상기 제1패턴은, 전기적으로 서로 연결되어 공통 전극을 구성하고, 상기 공통 전극을 구성하는 상기 공통 배선, 상기 제2전극 및 상기 제1패턴 중에서, 상기 제2전극은 상기 화소 전극인 상기 제1전극과 동일 층에 배치되고, 상기 공통 배선 및 상기 제1패턴은 상기 제1전극과 다른 층에 배치되고 상기 게이트 배선과 동일 층에 배치되고,
상기 제1패턴은 상기 발광영역에서 상기 제1전극과 오버랩 되고, 상기 제2패턴은 상기 제1화소 영역 내 상기 발광영역 이외의 비발광영역에서 상기 공통 배선과 오버랩 되고,
상기 공통 전극을 구성하는 상기 공통 배선, 상기 제2전극 및 상기 제1패턴은 상기 화소 전극인 상기 제1 전극과 상기 제1화소 영역의 스토리지 캐패시터를 형성하되,
상기 제1화소 영역의 스토리지 캐패시터는, 상기 발광영역에서 오버랩 되는 상기 제1패턴과 상기 제1전극에 의해 형성되는 제1스토리지 캐패시터와, 상기 비발광영역에서 오버랩 되는 상기 제2패턴과 상기 공통 배선에 의해 형성되는 제2스토리지 캐패시터를 포함하고,
상기 제1패턴은 상기 공통 배선에서 연장된 다수의 가지들을 포함하며, 상기 제1패턴에 포함된 다수의 가지들 중 양 측의 가지들은 상기 데이터 배선과 인접하고 평행하게 배치되되 상기 제1전극과는 오버랩 되지 않고, 상기 제1패턴에 포함된 다수의 가지들 중 양 측의 가지들을 제외한 나머지 가지들은 발광영역에서 상기 제1전극과 오버랩 되고,
상기 제2전극은 제2전극 연결패턴과 상기 제2전극 연결패턴에 연결된 다수의 가지들을 포함하고, 상기 제2전극 연결패턴의 일 부분은 상기 데이터 배선과 평행하게 배치되고 상기 데이터 배선과 열 방향으로 오버랩 되고,
상기 공통 배선은 상기 제1 화소 영역의 상기 박막 트랜지스터와 인접하게 배치되고, 상기 제2전극 연결패턴에서 상기 제2전극의 다수의 가지들이 연결되는 부분은 상기 제1화소 영역에서 상기 박막 트랜지스터가 위치하는 반대 편에 위치하는 액정표시장치.
A thin film transistor disposed in the first pixel region on the substrate and disposed at an intersection of a gate line disposed in a row direction and a data line disposed in a column direction;
A common wiring adjacent to the gate wiring;
A first electrode disposed in a light emitting area within the first pixel area and electrically connected to one electrode of the thin film transistor;
A second electrode disposed in the emission region and connected to the common wiring; And
A first pattern electrically connected to the common wiring, extending from the common wiring adjacent to the gate wiring to the emission region, and partially or entirely overlapping with the first electrode in the emission region,
Further comprising a second pattern extending from the one electrode of the thin film transistor and electrically connected to the first electrode,
The first electrode is a pixel electrode of the first pixel region electrically connected to the one electrode of the thin film transistor through the second pattern,
The common wiring, the second electrode, and the first pattern are electrically connected to each other to form a common electrode, and among the common wiring, the second electrode, and the first pattern constituting the common electrode, the second An electrode is disposed on the same layer as the first electrode, which is the pixel electrode, the common wiring and the first pattern are disposed on a different layer from the first electrode and disposed on the same layer as the gate wiring,
The first pattern overlaps with the first electrode in the emission region, and the second pattern overlaps with the common wiring in a non-emission region other than the emission region in the first pixel region,
The common wiring, the second electrode, and the first pattern constituting the common electrode form the first electrode, which is the pixel electrode, and a storage capacitor in the first pixel region,
The storage capacitor of the first pixel area includes a first storage capacitor formed by the first pattern and the first electrode overlapping in the emission area, and the second pattern and the common wiring overlapping in the non-emission area. Including a second storage capacitor formed by,
The first pattern includes a plurality of branches extending from the common wiring, and both branches of the plurality of branches included in the first pattern are disposed adjacent to and parallel to the data wiring, and the first electrode and Is not overlapped, and the remaining branches except for the branches on both sides of the plurality of branches included in the first pattern overlap the first electrode in the emission region,
The second electrode includes a second electrode connection pattern and a plurality of branches connected to the second electrode connection pattern, and a portion of the second electrode connection pattern is disposed parallel to the data line, and the data line and the column direction are Overlaps with,
The common wiring is disposed adjacent to the thin film transistor in the first pixel region, and the thin film transistor is positioned in the first pixel region in a portion where the plurality of branches of the second electrode are connected in the second electrode connection pattern. A liquid crystal display device located on the opposite side of the screen.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1전극은 상기 제2전극에 포함된 다수의 가지들과 교번하는 다수의 가지들을 포함하고, 상기 제1패턴에 포함된 다수의 가지들 중 적어도 하나는 상기 발광영역에서 상기 제1전극에 포함된 다수의 가지들 중 적어도 하나와 오버랩 되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The first electrode includes a plurality of branches alternating with a plurality of branches included in the second electrode, and at least one of the plurality of branches included in the first pattern is attached to the first electrode in the light emitting area. A liquid crystal display device overlapping at least one of a plurality of included branches.
제 4항에 있어서,
오버랩되는 상기 제1패턴의 가지들과 상기 제1전극의 가지들의 개수가 동일한 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
The method of claim 4,
The liquid crystal display device, wherein the number of the branches of the first pattern overlapping and the branches of the first electrode are the same.
삭제delete
KR1020140161568A 2014-11-19 2014-11-19 Liquid crystal display KR102254503B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140161568A KR102254503B1 (en) 2014-11-19 2014-11-19 Liquid crystal display

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140161568A KR102254503B1 (en) 2014-11-19 2014-11-19 Liquid crystal display

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160060204A KR20160060204A (en) 2016-05-30
KR102254503B1 true KR102254503B1 (en) 2021-05-21

Family

ID=57124455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140161568A KR102254503B1 (en) 2014-11-19 2014-11-19 Liquid crystal display

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102254503B1 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101274958B1 (en) * 2006-06-21 2013-06-13 엘지디스플레이 주식회사 In plane switching mode liquid crystal display device
KR101350669B1 (en) * 2007-01-31 2014-01-10 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device and method of fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160060204A (en) 2016-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109407436B (en) Array substrate
US9406264B2 (en) Display device
CN107134264B (en) Drive circuit and display device
US7511789B2 (en) Liquid crystal display
US20180335674A1 (en) Liquid crystal display device
US8643802B2 (en) Pixel array, polymer stablized alignment liquid crystal display panel, and pixel array driving method
US8493523B2 (en) Liquid crystal display with two sub-pixel regions and a storage capacitor
EP2618209B1 (en) Active matrix substrate and electronic device comprising the same
US9634040B2 (en) Array substrate and curved display device
CN105551416B (en) Display device
US10317749B2 (en) Liquid crystal display panel
US20160370897A1 (en) In cell touch panel and display device
US11194204B2 (en) Pixel array substrate
CN104503159B (en) liquid crystal panel and preparation method thereof
JP2011013618A (en) Liquid crystal display device
CN110058469B (en) Array substrate, display panel, display device and manufacturing method of array substrate
US9041895B2 (en) Display apparatus having spacers with different heights and different upper and lower surface areas
US10627680B2 (en) Display panel and display device
CN111708237B (en) Array substrate, display panel and display device
CN104977736A (en) Display panel of conductive layer with variable line widths
US10824260B1 (en) Touch display apparatus
US9425222B2 (en) Display device and method of manufacturing the same
US9164339B2 (en) Display apparatus
CN109752892B (en) Liquid crystal display panel and display device
US9425218B2 (en) Pixel structure and display panel

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant