KR102190057B1 - Copolymer and resin composition - Google Patents

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Abstract

디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 폴리머 쇄(A)와, (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위와 주쇄에 환 구조를 가지는 단위를 가지는 폴리머 쇄(B)를 가지는 공중합체로써, 상기 폴리머 쇄(B) 중, 상기 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율이 45질량% 이상 98질량% 이하인 것을 특징으로 하는 공중합체.A copolymer having a polymer chain (A) having a unit derived from diene and/or olefin, and a polymer chain (B) having a unit derived from a (meth)acrylic monomer and a unit having a cyclic structure in the main chain, wherein the polymer chain ( In B), the (meth)acrylic acid ester-derived unit content ratio is 45% by mass or more and 98% by mass or less.

Description

공중합체 및 수지 조성물Copolymer and resin composition

본 발명은 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위와 주쇄에 환 구조를 가지는 단위를 가지는 폴리머 쇄를 가지는 공중합체, 상기 공중합체를 포함하는 수지 조성물, 이들로부터 형성된 광학필름, 편광판, 화상표시장치, 및 상기 공중합체의 제조방법에 관한 것이다.The present invention is a copolymer having a polymer chain having a unit derived from diene and/or olefin, a unit derived from a (meth)acrylic monomer and a polymer chain having a unit having a cyclic structure in the main chain, a resin composition comprising the copolymer , To an optical film formed therefrom, a polarizing plate, an image display device, and a method of manufacturing the copolymer.

투명수지는 광학 렌즈, 프리즘, 미러, 광디스크, 광섬유, 액정디스플레이용 시트, 필름, 도광판 등의 광학재료에 폭넓게 사용되고 있다. 이러한 투명수지로서는 종래, (메트)아크릴계 수지가 널리 사용되고 있지만, (메트)아크릴계 수지는 내열성과 기계적 강도의 양립이 어려운 경우가 있었다. 예를 들면, (메트)아크릴계 수지는 주쇄에 환 구조를 도입함으로써 투명성을 유지한 상태에서 내열성을 높일 수 있지만(특허문헌 1 등), 주쇄에 환 구조를 도입하는 것에 의해, 수지 자체가 딱딱하고 물러져서 깨어지기 쉬워지거나, 필름 가공 시에 내절강 등의 기계적 강도가 저하되는 경향을 나타낸다. 그래서, (메트)아크릴계 수지와의 강도를 높이는 방법으로서, 특허문헌 2에는 2축 연신하는 것에 의해서 강도를 부여하는 방법이 개시되고, 특허문헌 3에는 유리전이온도가 낮은 유연성 수지를 배합하는 방법이 개시되어 있다. 그러나 2축 연신으로 강도를 부여하는 경우, 연신배율 등의 의해 강도의 이방성이 발생하는 문제가 있었다. 또, 유연성 수지를 배합하는 경우, 투명성과의 양립이 곤란해서, 개선의 여지가 있었다. 특허문헌 4에는 폴리올레핀에 (메트)아크릴계 중합체를 그래프트한 공중합체가 개시되어 있지만, 이러한 그래프트 중합체는 유리전이온도가 낮고, 내열성이 불충분하기 때문에 개선의 여지가 있었다. 또, 투명 수지를 광학재료에 적용하는 경우에는 수지 중에 겔화물이 포함되어 있으면, 이물이나 외관불량의 원인이 되는 동시에 제조효율의 저하에 연결되기 때문에, 그러한 겔화물이 포함되지 않는 것이 바람직하다.Transparent resins are widely used in optical materials such as optical lenses, prisms, mirrors, optical disks, optical fibers, sheets for liquid crystal displays, films, and light guide plates. Conventionally, (meth)acrylic resins have been widely used as such transparent resins, but (meth)acrylic resins are sometimes difficult to achieve both heat resistance and mechanical strength. For example, (meth)acrylic resins can improve heat resistance while maintaining transparency by introducing a ring structure into the main chain (Patent Document 1, etc.), but by introducing a ring structure into the main chain, the resin itself is hard and It tends to become brittle and fragile, or to lower mechanical strength such as cutting-resistant steel during film processing. So, as a method of increasing the strength with a (meth)acrylic resin, Patent Document 2 discloses a method of imparting strength by biaxial stretching, and Patent Document 3 discloses a method of blending a flexible resin having a low glass transition temperature. It is disclosed. However, when the strength is imparted by biaxial stretching, there is a problem that anisotropy of the strength occurs due to the stretching ratio or the like. Moreover, when blending a flexible resin, compatibility with transparency was difficult, and there was room for improvement. Patent Document 4 discloses a copolymer in which a (meth)acrylic polymer is grafted onto a polyolefin, but since such a graft polymer has a low glass transition temperature and insufficient heat resistance, there is room for improvement. In addition, in the case of applying a transparent resin to an optical material, if the resin contains a gelled product, it is preferable that such a gelled product is not included because it causes foreign matter or poor appearance and leads to a decrease in manufacturing efficiency.

일본 공개특허공보 2006-171464호Japanese Patent Application Publication No. 2006-171464 일본 공개특허공보 2005-162835호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-162835 일본 공개특허공보 2007-100044호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-100044 일본 공개특허공보 H05-295183호Japanese Laid-Open Patent Publication H05-295183

본 발명은 상기 사정을 고려하여 이루어진 것으로, 그 목적은 투명성, 기계적 강도, 내열성이 뛰어나고, 이것들을 균형 있게 구비하는 동시에, 겔화물의 발생이 적은 공중합체와, 이것을 포함하는 수지 조성물, 및 이러한 공중합체를 제조하는 방법을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and the object thereof is a copolymer having excellent transparency, mechanical strength, and heat resistance, and having a balance of these, and having less gelation, and a resin composition containing the same, and It is to provide a method of manufacturing the coalescence.

본 발명은 이하의 발명을 포함한다.The present invention includes the following inventions.

[1] 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 폴리머 쇄(A)와, (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위와 주쇄에 환 구조를 가지는 단위를 가지는 폴리머 쇄(B)를 가지는 공중합체로서,[1] A copolymer having a polymer chain (A) having a unit derived from a diene and/or olefin, and a polymer chain (B) having a unit derived from a (meth)acrylic monomer and a unit having a cyclic structure in the main chain,

상기 폴리머 쇄(B) 중, 상기 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율이 45질량% 이상 98질량% 이하인 것을 특징으로 하는 공중합체.The copolymer characterized in that the content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic acid ester in the polymer chain (B) is 45% by mass or more and 98% by mass or less.

[2] 상기 [1]에서, 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)에 그래프트한 것인 공중합체.[2] The copolymer according to [1], wherein the polymer chain (B) is grafted onto the polymer chain (A).

[3] 상기 [1] 또는 [2]에서, 상기 환 구조가 락톤환 구조 및/또는 말레이미드 구조인 공중합체.[3] The copolymer according to [1] or [2], wherein the ring structure is a lactone ring structure and/or a maleimide structure.

[4] 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에서, 상기 폴리머 쇄(B) 중, 상기 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위와 상기 주쇄에 환 구조를 가지는 단위의 합계 함유 비율이 90질량%인 공중합체.[4] In any one of the above [1] to [3], in the polymer chain (B), the total content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic monomer and the unit having a cyclic structure in the main chain is 90% by mass. Phosphorus copolymer.

[5] [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 공중합체와 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.[5] A resin composition comprising the copolymer according to any one of [1] to [4] and a (meth)acrylic polymer.

[6] 상기 [5]에서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 상기 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 가지는 수지 조성물.[6] The resin composition according to [5], wherein the (meth)acrylic polymer has a unit derived from the (meth)acrylic monomer.

[7] 상기 [5] 또는 [6]에서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 상기 주쇄에 환 구조를 가지는 단위를 가지는 수지 조성물.[7] The resin composition according to [5] or [6], wherein the (meth)acrylic polymer has a unit having a ring structure in the main chain.

[8] 상기 [5] 내지 [7] 중 어느 하나에서, 100℃ 이상 및 100℃ 미만에 각각 유리전이온도를 가지는 수지 조성물.[8] The resin composition according to any one of [5] to [7], having a glass transition temperature of 100°C or more and less than 100°C, respectively.

[9] 상기 [5] 내지 [8] 중 어느 하나에서, 클로로폼에 대한 불용분이 10질량% 이하인 수지 조성물.[9] The resin composition according to any one of [5] to [8], wherein the insoluble content in chloroform is 10% by mass or less.

[10] 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 공중합체 또는 상기 [5] 내지 [9] 중 어느 하나에 기재된 수지 조성물을 포함하는 광학필름.[10] An optical film comprising the copolymer according to any one of [1] to [4] or the resin composition according to any one of [5] to [9].

[11] 상기 [10]에 기재된 광학필름을 포함하는 편광판.[11] A polarizing plate comprising the optical film according to [10].

[12] 상기 [10]에 기재된 광학필름을 포함하는 화상표시장치.[12] An image display device comprising the optical film according to [10].

[13] 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 공중합체의 제조방법으로써,[13] A method for producing a copolymer according to any one of [1] to [4],

디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체(P1)의 존재 하, (메트)아크릴계 단량체와 환 구조 내에 중합성 이중결합을 가지는 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 공중합체의 제조방법.A copolymer characterized by having a process of polymerizing a monomer component including a (meth)acrylic monomer and a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure in the presence of a polymer (P1) having a unit derived from diene and/or olefin Method of manufacturing coalescence.

[14] 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 공중합체의 제조방법으로써,[14] A method for producing a copolymer according to any one of [1] to [4],

디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체(P1)의 존재 하, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합하는 공정과,A step of polymerizing a monomer component containing a (meth)acrylic monomer in the presence of a polymer (P1) having a unit derived from diene and/or olefin, and

상기 중합공정에서 형성된 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 가지는 폴리머 쇄의 주쇄에 환 구조를 형성하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 공중합체의 제조방법.A method for producing a copolymer, comprising a step of forming a ring structure in a main chain of a polymer chain having units derived from a (meth)acrylic monomer formed in the polymerization step.

[15] 상기 [13]에서, 상기 중합공정으로 수득된 수지 용액을 여과하는 공정을 추가로 가지는 공중합체의 제조방법.[15] The method for producing a copolymer according to [13], further comprising a step of filtering the resin solution obtained by the polymerization step.

[16] 상기 [14]에서, 상기 환 구조 형성공정으로 수득된 수지 용액을 여과하는 공정을 추가로 가지는 공중합체의 제조방법.[16] The method for producing a copolymer according to [14], further comprising a step of filtering the resin solution obtained by the step of forming a ring structure.

본 발명의 공중합체 및 이것을 포함하는 수지 조성물은 투명성, 기계적 강도, 내열성이 뛰어나고, 이것들을 균형 있게 구비하는 동시에, 겔화물의 발생이 적은 것이 된다. 또, 본 발명의 제조방법에 의하면, 겔화물의 발생이 적고, 투명성, 기계적 강도, 내열성이 뛰어나고, 이것들을 균형 있게 구비한 공중합체를 얻을 수 있다.The copolymer of the present invention and the resin composition containing the same are excellent in transparency, mechanical strength, and heat resistance, have these in a balanced manner, and produce less gelatinous products. Further, according to the production method of the present invention, there is little generation of gelatinous products, excellent transparency, mechanical strength, and heat resistance, and a copolymer having these in a balanced manner can be obtained.

1. 공중합체〕1. Copolymer]

본 발명의 공중합체는 디엔 또는 올레핀계 폴리머 쇄(A)와, 환 구조를 가지는 (메트)아크릴 폴리머 쇄(B)를 가지는 것이다. 본 발명의 공중합체는 투명성, 기계적 강도(예를 들면, 충격강도 등), 내열성이 뛰어나고, 이것들을 균형 있게 구비하는 동시에, 제조 시에 겔화물의 발생이 적은 것이 된다. 이하, 본 발명의 공중합체를 「공중합체(P)」라고 한다.The copolymer of the present invention has a diene or olefin polymer chain (A) and a (meth)acrylic polymer chain (B) having a ring structure. The copolymer of the present invention is excellent in transparency, mechanical strength (for example, impact strength, etc.), and heat resistance, and at the same time having these in a balanced manner, there is little generation of gelatinous products during production. Hereinafter, the copolymer of the present invention is referred to as "copolymer (P)".

공중합체(P)는 디엔 또는 올레핀계 폴리머 쇄(A)와 환 구조를 가지는 (메트)아크릴 폴리머 쇄(B)가 공중합한 구조를 갖는다. 공중합의 형식은 한정되지 않지만, 디엔 또는 올레핀계 폴리머 쇄(A)에, 환 구조를 가지는 (메트)아크릴폴리머 쇄(B)가 그래프트한 그래프트 중합체인 것이 바람직하다. 이하, 디엔 또는 올레핀계 폴리머 쇄(A)를 단순하게 「폴리머 쇄(A)」라고 부르고, 환 구조를 가지는 (메트)아크릴 폴리머 쇄(B)를 단순하게 「폴리머 쇄(B)」라고 부르는 경우가 있다.The copolymer (P) has a structure in which a diene or olefin polymer chain (A) and a (meth)acrylic polymer chain (B) having a ring structure are copolymerized. Although the form of the copolymerization is not limited, it is preferably a graft polymer in which a (meth)acrylic polymer chain (B) having a ring structure is grafted to a diene or olefin polymer chain (A). Hereinafter, when the diene or olefin polymer chain (A) is simply referred to as ``polymer chain (A)'', and the (meth)acrylic polymer chain (B) having a ring structure is simply referred to as ``polymer chain (B)'' There is.

환 구조를 가지는 (메트)아크릴 폴리머 쇄(B)는 통상, 딱딱하고 무른 수지를 제공하지만, 이것을 디엔 또는 올레핀계 폴리머 쇄(A)와 공중합시키고, 폴리머 쇄(B)의 조성을 적절하게 제어함으로써, 내열성과 기계적 강도를 겸비한 공중합체(P)를 얻을 수 있다. 또, 제조 시에, 겔화물의 발생이 적은 것으로 할 수 있다. 이렇게 해서 수득된 공중합체(P)는 디엔 또는 올레핀 성분을 가지고 있음에도 불구하고, 높은 투명성을 가지는 것이 된다. 또, 공중합체(P)는 (메트)아크릴계 중합체에 배합해도 이것들의 특성을 손상시키는 경우가 없고, 분산성이 뛰어나기 때문에 투명성을 손상시키는 경우도 없다.The (meth)acrylic polymer chain (B) having a ring structure usually provides a hard and soft resin, but by copolymerizing this with a diene or olefin-based polymer chain (A), and appropriately controlling the composition of the polymer chain (B), A copolymer (P) having both heat resistance and mechanical strength can be obtained. In addition, during production, it is possible to reduce the occurrence of gelatinous products. Although the copolymer (P) thus obtained has a diene or olefin component, it has high transparency. Further, even if the copolymer (P) is blended with a (meth)acrylic polymer, these properties are not impaired, and since it is excellent in dispersibility, transparency is not impaired.

공중합체(P)로부터 필름을 형성할 때는, 연신 처리 등의 배향 처리를 실시하지 않아도, 고강도이며 또 고내열성의 필름을 얻을 수 있다. 그 때문에 소망하는 광학특성을 가지는 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 예를 들면, 고강도, 고내열성, 고투명성을 구비하고 있기 때문에, 등방성 필름이나 저위상차 필름을 효율적으로 형성할 수 있다. 한편, 환 구조에 기인해서, 용이하게 이방성을 발현시킬 수 있기 때문에, 연신 처리 등의 배향 처리에 의해, 위상차 필름을 형성할 수도 있다. 또, 광학필름으로 했을 때에 이물이나 외관불량이 적은 것으로 할 수 있다.When forming a film from the copolymer (P), a film having high strength and high heat resistance can be obtained without performing orientation treatment such as stretching treatment. Therefore, a film having desired optical properties can be easily obtained. For example, since it has high strength, high heat resistance, and high transparency, an isotropic film or a low phase difference film can be formed efficiently. On the other hand, since anisotropy can be easily expressed due to the ring structure, a retardation film can also be formed by orientation treatment such as stretching treatment. Moreover, when it is set as an optical film, it can be made into that there are few foreign matters and appearance defects.

공중합체(P)에 포함되는 폴리머 쇄(A)에 대하여 설명한다. 폴리머 쇄(A)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 적어도 갖는다. 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위는 공중합체(P) 중에서 소프트 성분으로서 기능한다. 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위가 포함되는 것에 의해, 공중합체(P)의 투명성을 확보하면서, 공중합체의 기계적 강도(예를 들면 충격강도 등)을 높이고, 경취성(hard-brittleness)을 저감시킬 수 있다.The polymer chain (A) contained in the copolymer (P) will be described. The polymer chain (A) has at least a unit derived from diene and/or olefin. The unit derived from diene and/or olefin functions as a soft component in the copolymer (P). By including units derived from diene and/or olefin, while securing the transparency of the copolymer (P), the mechanical strength of the copolymer (for example, impact strength, etc.) is increased, and the hard-brittleness is reduced. I can make it.

디엔으로서는 1,3-부타디엔(별명: 부타디엔), 2-메틸-1,3-부타디엔(별명: 이소프렌), 1,3-펜타디엔, 1,4-펜타디엔, 1,5-헥사디엔, 2,5-디메틸-1,5-헥사디엔(별명: 디이소부텐) 등의 알카디엔이 바람직하게 사용되고, 그 중에서도 1,3-부타디엔, 2-메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔 등의 공액 디엔이 더 바람직하다. 올레핀으로서는 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐, 이소부틸렌, 2-메틸-1-부텐, 3-메틸-1-부텐, 1-테트라데센, 1-옥타데센 등의 모노올레핀이 바람직하게 사용되고, 그 중에서도 탄소-탄소 이중결합이 α위치에 있는 알켄인 α-올레핀이 더 바람직하다. 이것들 디엔 및 올레핀의 탄소 수는 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 더 바람직하고, 또 20 이하가 바람직하고, 10 이하가 더 바람직하고, 6 이하가 더욱 바람직하다. 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위는 이것들 디엔 및/또는 올레핀이 중합하는 것에 의해 형성되는 단위로서 규정된다. 올레핀 유래의 단위는 올레핀의 (공)중합에 의해 실제로 형성되는 것에 한정되지 않고, 디엔 유래의 단위가 수소화되는 것에 의해서 형성될 수도 있다.As diene, 1,3-butadiene (alias: butadiene), 2-methyl-1,3-butadiene (alias: isoprene), 1,3-pentadiene, 1,4-pentadiene, 1,5-hexadiene, 2 Alkadiene, such as ,5-dimethyl-1,5-hexadiene (alias: diisobutene) is preferably used, and among them, 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, and 1,3-penta Conjugated dienes such as dienes are more preferred. As the olefin, monoolefins such as ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-tetradecene, and 1-octadecene are preferably used, and among them More preferred are α-olefins, which are alkenes in which the carbon-carbon double bond is at the α-position. The number of carbon atoms of these dienes and olefins is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, more preferably 20 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 6 or less. Units derived from diene and/or olefin are defined as units formed by polymerization of these dienes and/or olefins. The olefin-derived unit is not limited to what is actually formed by (co) polymerization of the olefin, and may be formed by hydrogenation of the diene-derived unit.

폴리머 쇄(A)는 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-부텐 공중합체 등의 올레핀 (공)중합체; 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 이소프렌-부타디엔 공중합체 등의 디엔 (공)중합체; 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체, 이소부틸렌-이소프렌 공중합체 등의 올레핀과 디엔의 공중합체를 주쇄의 구조 중에 포함한다. 올레핀 (공)중합체로서는 α-올레핀 (공)중합체가 바람직하고, 디엔 (공)중합체로서는 공액 디엔 (공)중합체가 바람직하고, 올레핀과 디엔의 공중합체로서는 α-올레핀과 공액 디엔의 공중합체가 바람직하다. 이들 중에서도 폴리이소프렌, 이소부틸렌-이소프렌 공중합체 등의 α-올레핀과 공액 디엔의 공중합체나, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌이 더 바람직하다.The polymer chain (A) is, for example, an olefin (co)polymer such as polyethylene, polypropylene, polybutene-1, ethylene-propylene copolymer, and ethylene-butene copolymer; Diene (co)polymers such as polyisoprene, polybutadiene, and isoprene-butadiene copolymer; A copolymer of olefin and diene, such as an ethylene-propylene-diene copolymer and an isobutylene-isoprene copolymer, is contained in the structure of the main chain. The olefin (co)polymer is preferably an α-olefin (co)polymer, the diene (co)polymer is preferably a conjugated diene (co)polymer, and the olefin-diene copolymer is a copolymer of α-olefin and conjugated diene. desirable. Among these, copolymers of α-olefin and conjugated diene, such as polyisoprene and isobutylene-isoprene copolymer, and polyethylene and polypropylene are more preferable.

폴리머 쇄(A)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 부가해서, 추가로 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지고 있을 수도 있다. 다른 불포화 단량체는 중합성 이중결합을 가지는 화합물이라면 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르; (메트)아크릴산, 무수 말레산, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸 등의 불포화 카복실산 및 그 에스테르; 스티렌, 비닐톨루엔, 메톡시스티렌, α-메틸스티렌, 2-비닐피리딘 등의 방향족 비닐 화합물; 비닐트리메톡시실란, γ-(메트)아크릴로일옥시프로필메톡시실란 등의 비닐실란 등을 들 수 있다. 폴리머 쇄(A)는 이것들 다른 불포화 단량체와 디엔 및/또는 올레핀과의 공중합체일 수도 있다. 폴리머 쇄(A) 중의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 함유 비율은 예를 들면, 30질량% 이상인 것이 바람직하고, 40질량% 이상이 더 바람직하고, 50질량% 이상이 더욱 바람직하고, 55질량% 이상이 더욱 더 바람직하고, 또 90질량% 이하가 바람직하고, 86질량% 이하가 더 바람직하고, 83질량% 이하가 더욱 바람직하다.The polymer chain (A) may further have units derived from other unsaturated monomers in addition to units derived from diene and/or olefin. The other unsaturated monomer is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable double bond, and examples thereof include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Unsaturated carboxylic acids such as (meth)acrylic acid, maleic anhydride, methyl (meth)acrylate, and ethyl (meth)acrylate, and esters thereof; Aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, methoxystyrene, α-methylstyrene, and 2-vinylpyridine; And vinyl silanes such as vinyl trimethoxysilane and γ-(meth)acryloyloxypropylmethoxysilane. The polymer chain (A) may be a copolymer of these other unsaturated monomers and diene and/or olefin. The content ratio of units derived from diene and/or olefin in the polymer chain (A) is, for example, preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, and 55% by mass The above is still more preferable, 90 mass% or less is preferable, 86 mass% or less is more preferable, and 83 mass% or less is still more preferable.

폴리머 쇄(A)가 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지는 경우, 폴리머 쇄(A)는 디엔 및/또는 올레핀과 다른 불포화 단량체와의 랜덤 공중합체일 수도 있고, 블록 공중합체일 수도 있고, 그래프트 중합체일 수도 있다. 이것들 중에서도, 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 소프트 성분으로서의 기능이 호적하게 발현하는 점에서 블록 공중합체인 것이 바람직하다. 이 경우, 폴리머 쇄(A)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a1)과 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a2)을 가지는 것이 된다.When the polymer chain (A) has units derived from other unsaturated monomers, the polymer chain (A) may be a random copolymer of diene and/or olefin with other unsaturated monomers, may be a block copolymer, or may be a graft polymer. May be. Among these, it is preferable that it is a block copolymer from the point that the function as a unit soft component derived from a diene and/or olefin is suitably expressed. In this case, the polymer chain (A) has a polymer block (a1) having units derived from diene and/or olefin and a polymer block (a2) having units derived from other unsaturated monomers.

폴리머 쇄(A)가 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a2)을 가지는 것인 경우, 공중합체(P)의 기계적 강도를 확보하면서 투명성을 높이는 것이 용이하다는 점에서, 중합체 블럭(a2)은 방향족 비닐 단량체 유래의 단위로 구성되는 것이 바람직하다. 이 경우, 폴리머 쇄(A)에 있어서, 중합체 블럭(a1)이 소프트 성분으로서 기능하고, 중합체 블럭(a2)이 하드 성분으로서 기능하는 것이 된다.When the polymer chain (A) has a polymer block (a2) having units derived from other unsaturated monomers, since it is easy to increase transparency while securing the mechanical strength of the copolymer (P), the polymer block (a2) Silver is preferably composed of units derived from aromatic vinyl monomers. In this case, in the polymer chain (A), the polymer block (a1) functions as a soft component, and the polymer block (a2) functions as a hard component.

중합체 블럭(a2)을 제공하는 방향족 비닐 단량체는 방향환에 비닐기가 결합한 화합물이라면 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면, 스티렌, 비닐톨루엔, 메톡시스티렌, α-메틸스티렌, α-하이드록시메틸스티렌, α-하이드록시에틸스티렌 등의 스티렌계 단량체; 2-비닐나프탈렌 등의 다환 방향족 탄화수소환 비닐 단량체; N-비닐카바졸, 2-비닐피리딘, 비닐이미다졸, 비닐티오펜 등의 방향족 복소환 비닐 단량체 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 스티렌계 단량체가 바람직하다. 스티렌계 단량체에는 스티렌뿐만 아니라, 스티렌의 중합성 이중결합 탄소 또는 벤젠환에 임의의 치환기가 결합한 스티렌 유도체도 포함되고, 당해 치환기로서는 알킬기, 알콕시기, 하이드록실기, 할로겐기, 아미노기, 니트로기, 설포기 등을 들 수 있다. 스티렌에 결합한 알킬기와 알콕시기는 탄소 수 1∼4가 바람직하고, 탄소 수 1∼2가 더 바람직하고, 스티렌에 결합한 알킬기와 알콕시기는 수소원자의 적어도 일부가 하이드록실기 또는 할로겐기로 치환될 수도 있다.The aromatic vinyl monomer providing the polymer block (a2) is not particularly limited as long as it is a compound in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and for example, styrene, vinyltoluene, methoxystyrene, α-methylstyrene, α-hydroxymethylstyrene and styrene-based monomers such as α-hydroxyethyl styrene; Polycyclic aromatic hydrocarbon-cyclic vinyl monomers such as 2-vinylnaphthalene; And aromatic heterocyclic vinyl monomers such as N-vinylcarbazole, 2-vinylpyridine, vinylimidazole, and vinylthiophene. Among these, a styrenic monomer is preferable. The styrene-based monomer includes not only styrene, but also a styrene derivative in which an arbitrary substituent is bonded to a polymerizable double-bonded carbon of styrene or a benzene ring, and examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, a halogen group, an amino group, a nitro group, Sulfo group, etc. are mentioned. The alkyl group and alkoxy group bonded to styrene preferably have 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and the alkyl group and alkoxy group bonded to styrene may be substituted with a hydroxyl group or a halogen group at least a part of the hydrogen atoms.

디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a1)과, 방향족 비닐 단량체 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a2)을 가지는 폴리머 쇄(A)로서는 예를 들면, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체, 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물(예를 들면, 스티렌-에틸렌/부틸렌-스티렌 블록 공중합체, 스티렌-부타디엔/부틸렌-스티렌 블록 공중합체), 스티렌-이소프렌 블록 공중합체, 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체, 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물(예를 들면, 스티렌-에틸렌/프로필렌-스티렌 블록 공중합체) 등을 들 수 있다.Examples of the polymer chain (A) having a polymer block (a1) having a unit derived from diene and/or olefin and a polymer block (a2) having a unit derived from an aromatic vinyl monomer include styrene-butadiene block copolymer, styrene -Butadiene-styrene block copolymer, hydrogenated product of styrene-butadiene-styrene block copolymer (e.g., styrene-ethylene/butylene-styrene block copolymer, styrene-butadiene/butylene-styrene block copolymer), styrene -Isoprene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, hydrogenated products of styrene-isoprene-styrene block copolymer (for example, styrene-ethylene/propylene-styrene block copolymer), and the like.

폴리머 쇄(A)가 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a1)과, 방향족 비닐 단량체 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a2)을 가지는 경우, 폴리머 쇄(A)는 중합체 블럭(a1)의 양측에 중합체 블럭(a2)이 결합하고 있는 것이 바람직하다. 이렇게 폴리머 쇄(A)를 구성하는 것에 의해, 폴리머 쇄(A)가 엘라스토머로서 기능하고, 공중합체의 기계적 강도를 의해 높일 수 있다. 이 경우, 폴리머 쇄(A)는 트리블록 공중합체일 수도 있고, 멀티블록 공중합체일 수도 있고, 래이디얼 블록 공중합체 일 수도 있지만, 폴리머 쇄(A)의 특성제어가 용이하고, 또 공중합체(P) 중으로의 폴리머 쇄(B)의 도입이 용이하다는 점에서 트리블록 공중합체인 것이 바람직하다.When the polymer chain (A) has a polymer block (a1) having units derived from diene and/or olefin, and a polymer block (a2) having units derived from an aromatic vinyl monomer, the polymer chain (A) has a polymer block (a1) It is preferable that the polymer block (a2) is bonded to both sides of ). By constituting the polymer chain (A) in this way, the polymer chain (A) functions as an elastomer, and the mechanical strength of the copolymer can be increased. In this case, the polymer chain (A) may be a triblock copolymer, a multiblock copolymer, or a radial block copolymer, but it is easy to control the properties of the polymer chain (A), and the copolymer ( It is preferably a triblock copolymer from the viewpoint of easy introduction of the polymer chain (B) into P).

폴리머 쇄(A)가 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a1)과, 방향족 비닐 단량체 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a2)을 가지는 경우, 중합체 블럭(a1)은 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 부가해서, 추가로 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지고 있을 수도 있다. 이 경우의 다른 불포화 단량체로서는 예를 들면, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르; (메트)아크릴산, 무수 말레산, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸 등의 불포화 카복실산 및 그 에스테르; 스티렌, 비닐톨루엔, 메톡시스티렌, α-메틸스티렌, 2-비닐피리딘 등의 방향족 비닐 화합물; 비닐트리메톡시실란, γ-(메트)아크릴로일옥시프로필메톡시실란 등의 비닐실란 등을 들 수 있다. 중합체 블럭(a1)은 이것들 다른 불포화 단량체와 디엔 및/또는 올레핀과의 공중합체일 수도 있다. 또, 중합체 블럭(a1)은 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 주성분으로 포함하는 것이 바람직하고, 중합체 블럭(a1) 100질량% 중, 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 함유 비율이 50질량% 이상인 것이 바람직하고, 60질량% 이상이 더 바람직하고, 70질량% 이상이 더욱 바람직하다. 중합체 블럭(a1)은 실질적으로 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위만으로 구성될 수도 있고, 예를 들면 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위가 99질량% 이상일 수도 있다. When the polymer chain (A) has a polymer block (a1) having units derived from diene and/or olefin and a polymer block (a2) having units derived from aromatic vinyl monomers, the polymer block (a1) is diene and/or In addition to the units derived from olefins, you may further have units derived from other unsaturated monomers. Examples of other unsaturated monomers in this case include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Unsaturated carboxylic acids such as (meth)acrylic acid, maleic anhydride, methyl (meth)acrylate, and ethyl (meth)acrylate, and esters thereof; Aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, methoxystyrene, α-methylstyrene, and 2-vinylpyridine; And vinyl silanes such as vinyl trimethoxysilane and γ-(meth)acryloyloxypropylmethoxysilane. The polymer block (a1) may be a copolymer of these other unsaturated monomers and diene and/or olefin. In addition, the polymer block (a1) preferably contains a unit derived from diene and/or olefin as a main component, and the content ratio of the unit derived from diene and/or olefin in 100% by mass of the polymer block (a1) is 50% by mass or more. It is preferable, 60 mass% or more is more preferable, and 70 mass% or more is still more preferable. The polymer block (a1) may consist of substantially only units derived from diene and/or olefin, and for example, units derived from diene and/or olefin may be 99% by mass or more.

폴리머 쇄(A)가 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a1)과, 방향족 비닐 단량체 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a2)을 가지는 경우, 중합체 블럭(a2)은 방향족 비닐 단량체 유래의 단위에 부가해서, 추가로 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지고 있을 수도 있다. 이 경우의 다른 불포화 단량체로서는 예를 들면, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르; (메트)아크릴산, 무수 말레산, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸 등의 불포화 카복실산 및 그 에스테르; 스티렌, 비닐톨루엔, 메톡시스티렌, α-메틸스티렌, 2-비닐피리딘 등의 방향족 비닐 화합물; 비닐트리메톡시실란, γ-(메트)아크릴로일옥시프로필메톡시실란 등의 비닐실란 등을 들 수 있다. 중합체 블럭(a2)은 이것들 다른 불포화 단량체와 방향족 비닐 단량체와의 공중합체일 수도 있다. 또, 중합체 블럭(a2)은 방향족 비닐 단량체 유래의 단위를 주성분으로 포함하는 것이 바람직하고, 중합체 블럭(a2) 100질량% 중, 방향족 비닐 단량체 유래의 단위 함유 비율이 70질량% 이상인 것이 바람직하고, 80질량% 이상이 더 바람직하고, 90질량% 이상이 더욱 바람직하다. 중합체 블럭(a2)은 실질적으로 방향족 비닐 단량체 유래의 단위만으로 구성되어 있을 수도 있고, 예를 들면 방향족 비닐 단량체 유래의 단위가 99질량% 이상일 수도 있다.When the polymer chain (A) has a polymer block (a1) having units derived from diene and/or olefin and a polymer block (a2) having units derived from an aromatic vinyl monomer, the polymer block (a2) is derived from an aromatic vinyl monomer In addition to the unit of, it may further have a unit derived from another unsaturated monomer. Examples of other unsaturated monomers in this case include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Unsaturated carboxylic acids such as (meth)acrylic acid, maleic anhydride, methyl (meth)acrylate, and ethyl (meth)acrylate, and esters thereof; Aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, methoxystyrene, α-methylstyrene, and 2-vinylpyridine; And vinyl silanes such as vinyl trimethoxysilane and γ-(meth)acryloyloxypropylmethoxysilane. The polymer block (a2) may be a copolymer of these other unsaturated monomers and aromatic vinyl monomers. In addition, it is preferable that the polymer block (a2) contains as a main component a unit derived from an aromatic vinyl monomer, and in 100% by mass of the polymer block (a2), the content ratio of the unit derived from the aromatic vinyl monomer is preferably 70% by mass or more, 80 mass% or more is more preferable, and 90 mass% or more is still more preferable. The polymer block (a2) may consist of substantially only units derived from an aromatic vinyl monomer, and for example, the unit derived from an aromatic vinyl monomer may be 99% by mass or more.

폴리머 쇄(A) 중, 중합체 블럭(a2)의 함유 비율은 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 14질량% 이상이 더 바람직하고, 17질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 55질량% 이하가 바람직하고, 50질량% 이하가 더 바람직하고, 45질량% 이하가 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 폴리머 쇄(A)가 소프트 성분과 하드 성분을 균형 있게 가지는 것이 되고, 공중합체(P)의 기계적 강도를 확보하면서, 투명성을 높이는 것이 용이해진다. 동일한 관점으로부터, 폴리머 쇄(A) 중, 중합체 블럭(a1)의 함유 비율은 45질량% 이상인 것이 바람직하고, 50질량% 이상이 더 바람직하고, 55질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 90질량% 이하가 바람직하고, 86질량% 이하가 더 바람직하고, 83질량% 이하가 더욱 바람직하다.In the polymer chain (A), the content ratio of the polymer block (a2) is preferably 10% by mass or more, more preferably 14% by mass or more, even more preferably 17% by mass or more, and further preferably 55% by mass or less, , 50 mass% or less is more preferable, and 45 mass% or less is still more preferable. Thereby, the polymer chain (A) has a soft component and a hard component in balance, and it becomes easy to improve transparency while securing the mechanical strength of the copolymer (P). From the same viewpoint, in the polymer chain (A), the content ratio of the polymer block (a1) is preferably 45% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, further preferably 55% by mass or more, and further 90% by mass The following are preferable, 86 mass% or less are more preferable, and 83 mass% or less are still more preferable.

폴리머 쇄(A)의 중량 평균 분자량은 0.1만 이상이 바람직하고, 0.5만 이상이 더 바람직하고, 1만 이상이 더욱 바람직하고, 3만 이상이 더욱 더 바람직하고, 또 50만 이하가 바람직하고, 30만 이하가 더 바람직하고, 20만 이하가 더욱 바람직하고, 10만 이하가 더욱 더 바람직하다. 폴리머 쇄(A)의 중량 평균 분자량을 이러한 범위로 함으로써, 공중합체(P)의 강도와 투명성을 확보하기 쉬워진다.The weight average molecular weight of the polymer chain (A) is preferably 0.1 million or more, more preferably 0.5 million or more, more preferably 10,000 or more, even more preferably 30,000 or more, and 500,000 or less is preferable, 300,000 or less are more preferable, 200,000 or less are still more preferable, and 100,000 or less are still more preferable. By setting the weight average molecular weight of the polymer chain (A) into such a range, it becomes easy to secure the strength and transparency of the copolymer (P).

공중합체(P)에 포함되는 폴리머 쇄(B)에 대하여 설명한다. 폴리머 쇄(B)는 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 적어도 가지고, 환 구조를 가지는 것이다. 폴리머 쇄(B)는 폴리머 쇄(A)에 그래프트하고 있는 것이 바람직하고, 따라서 공중합체(P)는 그래프트 중합체이고, 당해 그래프트 중합체의 그래프트쇄로서 폴리머 쇄(B)를 가지는 것이 바람직하다. 폴리머 쇄(B)에 의해, 공중합체(P)의 투명성을 높일 수 있다.The polymer chain (B) contained in the copolymer (P) will be described. The polymer chain (B) has at least a unit derived from a (meth)acrylic monomer and has a ring structure. It is preferable that the polymer chain (B) is grafted onto the polymer chain (A), and therefore, the copolymer (P) is a graft polymer, and it is preferable that the polymer chain (B) has a polymer chain (B) as the graft chain of the graft polymer. The transparency of the copolymer (P) can be improved by the polymer chain (B).

폴리머 쇄(B)의 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위(이하, 「(메트)아크릴 단위」라고 부르는 경우가 있다)는 (메트)아크릴계 단량체를 중합하는 것에 의해 폴리머 쇄(B)에 도입할 수 있다. (메트)아크릴계 단량체에는 (메트)아크릴산 및 그 유도체가 포함되고, (메트)아크릴계 단량체의 α위치 또는 β위치에는 알킬기(바람직하게는, 탄소 수 1∼4의 알킬기)가 결합해 있을 수도 있고, 당해 알킬기는 수소원자의 적어도 일부가 하이드록실기 또는 할로겐기로 치환될 수 있다. (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위에 포함되는 카복실산의 형태는 특별하게 한정되지 않고, 유리산, 에스테르, 염, 산아미드 등의 형태를 들 수 있다.The unit derived from the (meth)acrylic monomer of the polymer chain (B) (hereinafter sometimes referred to as ``(meth)acrylic unit'') can be introduced into the polymer chain (B) by polymerizing the (meth)acrylic monomer. have. The (meth)acrylic monomer includes (meth)acrylic acid and its derivatives, and an alkyl group (preferably, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) may be bonded to the α-position or the β-position of the (meth)acrylic monomer, At least a part of the hydrogen atom in the alkyl group may be substituted with a hydroxyl group or a halogen group. The form of the carboxylic acid contained in the unit derived from the (meth)acrylic monomer is not particularly limited, and forms such as free acid, ester, salt, and acid amide may be mentioned.

폴리머 쇄(B)는 (메트)아크릴 단위로서 적어도 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위를 가지고 있다. (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위를 제공하는 (메트)아크릴산 에스테르로서는 (메트)아크릴산의 에스테르결 합 산소원자에 직쇄상, 분지상 또는 환상의 지방족 탄화수소기나 방향족 탄화수소기가 결합한 (메트)아크릴산 에스테르를 들 수 있다.The polymer chain (B) has at least a unit derived from a (meth)acrylic acid ester as a (meth)acrylic unit. Examples of (meth)acrylic acid esters that provide units derived from (meth)acrylic acid esters include (meth)acrylic acid esters in which a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group is bonded to the ester-linked oxygen atom of (meth)acrylic acid. I can.

직쇄상 또는 분지상의 지방족 탄화수소기를 가지는 (메트)아크릴산 에스테르로서는 (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 이소프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 이소부틸, (메트)아크릴산 sec-부틸, (메트)아크릴산 tert-부틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 아밀, (메트)아크릴산 이소아밀, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 도데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 헥사데실, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실 등의 (메트)아크릴산 알킬을 들 수 있다. (메트)아크릴산 알킬의 알킬기는 C1-18 알킬기가 바람직하고, C1-12 알킬기가 더 바람직하다. 또 본 명세서에 있어서, 「C1-18」이나 「C1-12」라는 기재는 각각 「탄소 수 1∼18」, 「탄소 수 1∼12」의 의미한다.Examples of (meth)acrylic acid esters having a linear or branched aliphatic hydrocarbon group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, and n-butyl (meth)acrylate. , Isobutyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, amyl (meth)acrylate, isoamyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate , 2-ethylhexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, ( Alkyl (meth)acrylates, such as heptadecyl meth)acrylate and octadecyl (meth)acrylate, are mentioned. The alkyl group of the alkyl (meth)acrylate is preferably a C1-18 alkyl group, and more preferably a C1-12 alkyl group. In addition, in this specification, description of "C1-18" and "C1-12" means "carbon number 1 to 18" and "carbon number 1 to 12", respectively.

환상의 지방족 탄화수소기를 가지는 (메트)아크릴산 에스테르로서는 (메트)아크릴산 사이클로프로필, (메트)아크릴산 사이클로부틸, (메트)아크릴산 사이클로펜틸, (메트)아크릴산 사이클로헥실 등의 (메트)아크릴산 사이클로알킬; (메트)아크릴산 이소보닐 등의 가교 환식 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. (메트)아크릴산 사이클로알킬의 사이클로알킬기는 C3-20사이클로알킬기가 바람직하고, C3-12사이클로알킬기가 더 바람직하다.Examples of the (meth)acrylic acid ester having a cyclic aliphatic hydrocarbon group include (meth)acrylic acid cycloalkyl such as cyclopropyl (meth)acrylate, cyclobutyl (meth)acrylate, cyclopentyl (meth)acrylate, and cyclohexyl (meth)acrylate; Crosslinked cyclic (meth)acrylates, such as isobornyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. The cycloalkyl group of cycloalkyl (meth)acrylate is preferably a C3-20 cycloalkyl group, and more preferably a C3-12 cycloalkyl group.

방향족 탄화수소기를 가지는 (메트)아크릴산 에스테르로서는 (메트)아크릴산 페닐, (메트)아크릴산 톨릴, (메트)아크릴산 크실릴, (메트)아크릴산 나프틸, (메트)아크릴산 비나프틸, (메트)아크릴산 안트릴 등의 (메트)아크릴산 아릴; (메트)아크릴산 벤질 등의 (메트)아크릴산 아르알킬; (메트)아크릴산 페녹시에틸 등의 (메트)아크릴산 아릴옥시알킬 등을 들 수 있다. (메트)아크릴산 아릴의 아릴기는 C6-20아릴기가 바람직하고, C6-14아릴기가 더 바람직하다. (메트)아크릴산 아르알킬의 아르알킬기는 C6-10아릴C1-4알킬기가 바람직하다. (메트)아크릴산 아릴옥시알킬의 아릴옥시 알킬기는 C6-10아릴옥시C1-4알킬기가 바람직하고, 페녹시C1-4알킬기가 더 바람직하다.Examples of (meth)acrylic acid esters having an aromatic hydrocarbon group include phenyl (meth)acrylate, tolyl (meth)acrylate, xylyl (meth)acrylate, naphthyl (meth)acrylate, binaphthyl (meth)acrylate, and anthryl (meth)acrylate. Aryl (meth)acrylates such as; Aralkyl (meth)acrylates, such as benzyl (meth)acrylate; Aryloxyalkyl (meth)acrylates, such as phenoxyethyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. The aryl group of the aryl (meth)acrylate is preferably a C6-20 aryl group, and more preferably a C6-14 aryl group. The aralkyl group of the aralkyl (meth)acrylate is preferably a C6-10 aryl C1-4 alkyl group. The aryloxy alkyl group of the aryloxyalkyl (meth)acrylate is preferably a C6-10 aryloxy C1-4 alkyl group, and more preferably a phenoxy C1-4 alkyl group.

(메트)아크릴산 에스테르는 하이드록실기, 할로겐기, 알콕시기, 에폭시기 등의 치환기를 가지고 있을 수도 있다. 이러한 (메트)아크릴산 에스테르로서는 (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸 등의 (메트)아크릴산 하이드록시알킬; (메트)아크릴산 클로로메틸, (메트)아크릴산 2-클로로에틸 등의 (메트)아크릴산 할로겐화 알킬; (메트)아크릴산 2-메톡시에틸 등의 (메트)아크릴산 알콕시알코올; (메트)아크릴산 글리시딜 등의 (메트)아크릴산 에폭시알킬 등을 들 수 있다. (메트)아크릴산 하이드록시알킬과 (메트)아크릴산 에폭시알킬의 알킬기는 C1-12알킬기가 바람직하다. (메트)아크릴산 알콕시알코올의 알콕시알킬기는 C1-12알콕시C1-12알킬기가 바람직하다.The (meth)acrylic acid ester may have a substituent such as a hydroxyl group, a halogen group, an alkoxy group, or an epoxy group. Examples of such (meth)acrylic acid esters include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate; Halogenated alkyl (meth)acrylates such as chloromethyl (meth)acrylate and 2-chloroethyl (meth)acrylate; (Meth)acrylate alkoxy alcohols such as 2-methoxyethyl (meth)acrylate; Epoxyalkyl (meth)acrylates, such as glycidyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. The alkyl group of hydroxyalkyl (meth)acrylate and epoxyalkyl (meth)acrylate is preferably a C1-12 alkyl group. The alkoxyalkyl group of the (meth)acrylic acid alkoxy alcohol is preferably a C1-12 alkoxy C1-12 alkyl group.

폴리머 쇄(B)는 (메트)아크릴 단위에 부가해서, 주쇄에 환 구조를 가지는 단위(이하, 「환 구조 단위」라고 부르는 경우가 있다)을 가지고 있다. 폴리머 쇄(B)가 주쇄에 환 구조를 가짐으로써, 공중합체(P)의 내열성을 높일 수 있다. 또, 내용제성, 표면경도, 접착성, 산소나 수증기의 배리어성, 각종 광학특성의 향상도 기대할 수 있다. 또, 공중합체(P)나 이것을 포함하는 수지 조성물을 필름이나 시트로 했을 경우에, 고온 고습도 조건하에서의 치수 안정성이나 형상 안정성을 높일 수 있다. 이렇게 형성한 필름은 연신하는 것에 의해서, 폴리머 쇄(B)의 환 구조에 유래해서 큰 위상차를 발현시킬 수 있고, 위상차 필름으로서의 적용이 가능하게 된다. 이 특징은 공중합체(P)나 이것을 포함하는 수지 조성물을 위상차 필름 또는 위상차 필름의 기능을 가지는 편광자보호 필름 등의 광학필름으로의 적용을 가능하게 한다.In addition to the (meth)acrylic unit, the polymer chain (B) has a unit having a ring structure in the main chain (hereinafter, sometimes referred to as a "ring structural unit"). When the polymer chain (B) has a ring structure in the main chain, the heat resistance of the copolymer (P) can be improved. In addition, improvement in solvent resistance, surface hardness, adhesiveness, oxygen and water vapor barrier properties, and various optical properties can be expected. Moreover, when the copolymer (P) or the resin composition containing this is used as a film or a sheet, dimensional stability and shape stability under high temperature and high humidity conditions can be improved. By stretching the film thus formed, a large retardation can be expressed derived from the ring structure of the polymer chain (B), and application as a retardation film becomes possible. This feature makes it possible to apply the copolymer (P) or a resin composition containing the same to an optical film such as a retardation film or a polarizer protective film having a function of a retardation film.

폴리머 쇄(B)의 주쇄의 환 구조는 (메트)아크릴계 단량체의 일부 또는 전부를 환 구조 내에 포함하고 있을 수도 있고, (메트)아크릴계 단량체와는 별도로 도입된 환 구조일 수도 있다. (메트)아크릴계 단량체의 일부 또는 전부를 환 구조 내에 포함시키는 경우에는, 예를 들면, 인접하는 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위 2개의 카복실산기를 산무수물화, 이미드화 등의 의해 연결할 수 있다. 또 인접하는 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위 중 한쪽이 하이드록실기나 아미노기 등의 프로톤성 수소원자 함유기를 가지는 경우에는, 이 한쪽의 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위 프로톤성 수소원자 함유기와 다른 쪽의 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위 카복실산기가 축합하는 것에 의해서도, 환 구조를 형성할 수 있다. 환 구조를 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위와는 별도로 도입하는 경우에는 예를 들면, (메트)아크릴계 단량체와, 환 구조 내에 중합성 이중결합을 가지는 단량체를 공중합할 수 있다. The ring structure of the main chain of the polymer chain (B) may contain part or all of the (meth)acrylic monomer in the ring structure, or may be a ring structure introduced separately from the (meth)acrylic monomer. When some or all of the (meth)acrylic monomers are included in the ring structure, for example, two carboxylic acid groups derived from adjacent (meth)acrylic monomers can be connected by acid anhydration, imidation, or the like. In addition, when one of the units derived from the adjacent (meth)acrylic monomer has a protic hydrogen atom-containing group such as a hydroxyl group or an amino group, the unit protonic hydrogen atom-containing group derived from the (meth)acrylic monomer and the other A ring structure can also be formed by condensation of the unit carboxylic acid group derived from the (meth)acrylic monomer. When the ring structure is introduced separately from the unit derived from the (meth)acrylic monomer, for example, a (meth)acrylic monomer and a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure can be copolymerized.

환 구조는 4원환 구조, 5원환 구조, 6원환 구조, 7원환 구조, 8원환 구조 등의 어느 것일 수도 있고, 바람직하게는 5원환 구조 또는 6원환 구조이다.The ring structure may be any of a 4-membered ring structure, a 5-membered ring structure, a 6-membered ring structure, a 7-membered ring structure, an 8-membered ring structure, and the like, preferably a 5-membered ring structure or a 6-membered ring structure.

환 구조로서는 공중합체(P)의 내열성의 관점에서 락톤환 구조, 환상 이미드 구조(예를 들면, 말레이미드 구조, 글루탈이미드 구조 등), 환상 무수물 구조(예를 들면, 무수 말레산 구조, 무수 글루타르산 구조 등)등이 바람직하게 들 수 있다. 이것들의 환 구조는 폴리머 쇄(B)의 주쇄에 1종만 포함할 수도 있고, 2종 이상 포함할 수도 있다. 이것들 중에서도, 락톤환 구조, 말레이미드 구조, 무수 말레산 구조, 글루탈이미드 구조, 및 무수 글루타르산 구조로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하다.As a ring structure, from the viewpoint of heat resistance of the copolymer (P), a lactone ring structure, a cyclic imide structure (for example, a maleimide structure, a glutalimide structure, etc.), a cyclic anhydride structure (for example, a maleic anhydride structure) , Glutaric anhydride structure, etc.) etc. are mentioned preferably. These ring structures may contain only one type in the main chain of the polymer chain (B), or may contain two or more types. Among these, at least one selected from a lactone ring structure, a maleimide structure, a maleic anhydride structure, a glutalimide structure, and a glutaric anhydride structure is preferable.

폴리머 쇄(B)가 주쇄의 환 구조로서 락톤환 구조를 가지는 경우, 락톤환 구조의 환원 수는 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면 4원환으로부터 8원환의 어느 하나일 수 있다. 또, 환 구조의 안정성이 뛰어나는 점에서 락톤환 구조는 5원환 또는 6원환인 것이 바람직하고, 6원환인 것이 더 바람직하다.When the polymer chain (B) has a lactone ring structure as a ring structure of the main chain, the number of reductions of the lactone ring structure is not particularly limited, and may be, for example, any one of a 4-membered ring to an 8-membered ring. Further, from the viewpoint of excellent stability of the ring structure, the lactone ring structure is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and more preferably a 6-membered ring.

락톤환 구조로서는 예를 들면 일본 공개특허공보 2004-168882호에 개시되는 구조 등을 들 수 있지만, 락톤환 구조의 도입이 용이한 점, 구체적으로는, 전구체(락톤환화 전의 중합체)의 중합수율이 높은 것, 전구체의 환화 축합반응에 있어서의 락톤환 함유율을 높일 수 있는 점, (메트)아크릴레이트 유래의 단위를 가지는 중합체를 전구체로 할 수 있는 점 등의 이유로부터, 하기 식(1)의 구조가 바람직하게 제시된다. 하기 식(1)에 있어서, R1, R2 및 R3은 각각 독립해서 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.Examples of the lactone ring structure include structures disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-168882, for example, but the easy introduction of the lactone ring structure, specifically, the polymerization yield of the precursor (polymer before lactone cyclization) is The structure of the following formula (1) from reasons such as high, the lactone ring content in the cyclization condensation reaction of the precursor, and the fact that a polymer having a unit derived from (meth)acrylate can be used as a precursor. Is preferably presented. In the following formula (1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.

Figure 112019044812407-pct00001
Figure 112019044812407-pct00001

식(1)의 R1, R2 및 R3의 치환기로서는 탄화수소기등의 유기잔기를 들 수 있고, 예를 들면, 산소원자를 포함할 수 있는 C1-20의 탄화수소기 등을 들 수 있다. 당해 탄화수소기로서는 포화 또는 불포화의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 지방족 탄화수소기나 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 지방족 탄화수소기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기 등의 C1-20알킬기; 에테닐기, 프로페닐기 등의 C2-20알케닐기; 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기 등의 C3-20사이클로알킬기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기로서는 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴 기, 나프틸기, 비페닐기 등의 C6-20아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 C7-20아르알킬기 등을 들 수 있다. 이것들의 탄화수소기는 산소원자를 포함하고 있을 수도 있고, 구체적으로는 탄화수소기가 가지는 수소원자에 하나 이상이, 하이드록실기, 카복실기, 에테르기 및 에스테르기로부터 선택되는 적어도 1종류의 기에 의해 치환될 수도 있다.Examples of the substituents for R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1) include organic residues such as hydrocarbon groups, and examples thereof include a C1-20 hydrocarbon group that may contain an oxygen atom. Examples of the hydrocarbon group include saturated or unsaturated linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include C1-20 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group and isopropyl group; C2-20 alkenyl groups such as ethenyl group and propenyl group; C3-20 cycloalkyl groups, such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, etc. are mentioned. Examples of the aromatic hydrocarbon group include C6-20 aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenyl group; C7-20 aralkyl groups, such as a benzyl group and a phenylethyl group, etc. are mentioned. These hydrocarbon groups may contain oxygen atoms, and specifically, one or more hydrogen atoms of the hydrocarbon group may be substituted by at least one group selected from hydroxyl group, carboxyl group, ether group and ester group. have.

락톤환 구조는 예를 들면, 인접하는 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 에스테르기와, 하이드록실기나 아미노기 등의 프로톤성 수소원자 함유기를 가지는 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위 프로톤성 수소원자 함유기를 환화 축합하는 것에 의해, 폴리머 쇄(B)에 도입할 수 있다.The lactone ring structure cyclizes, for example, a unit ester group derived from an adjacent (meth)acrylic acid ester, and a unit protonic hydrogen atom-containing group derived from a (meth)acrylic monomer having a protic hydrogen atom-containing group such as a hydroxyl group or an amino group. By condensing, it can be introduced into the polymer chain (B).

식(1)의 락톤환 구조에 있어서, 내열성이 뛰어나고, 복굴절율이 작은 공중합체(P)를 얻는 것이 용이하다는 점에서, R1 및 R2는 각각 독립해서 수소원자 또는 C1-20알킬기이고, R3은 수소원자 또는 메틸기인 것이 바람직하고, R1 및 R2는 각각 독립해서 수소원자 또는 메틸기이고, R3은 수소원자 또는 메틸기인 것이 더 바람직하다.In the lactone ring structure of formula (1), since it is easy to obtain a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a C 1-20 alkyl group, R 3 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 is more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

락톤환 구조는 예를 들면, 하이드록시기를 가지는 (메트)아크릴계 단량체(A)와, (메트)아크릴계 단량체(B)를 중합 (바람직하게는 공중합)해서 분자쇄에 하이드록시기와 에스테르기 또는 카복실기를 도입한 후, 이것들 하이드록시기와 에스테르기 또는 카복실기와의 사이에서 탈알코올 또는 탈수 환화축합을 발생시키는 것에 의해 형성할 수 있다. 중합성분으로서 하이드록시기를 가지는 (메트)아크릴계 단량체(A)는 필수이고, (메트)아크릴계 단량체(B)는 상기 단량체(A)를 포함한다. 단량체(B)는 단량체(A)와 일치할 수 있고, 일치하지 않을 수도 있다. 단량체(B)가 단량체(A)와 일치할 때에는 단량체(A)의 단독 중합이 된다.The lactone ring structure is, for example, polymerized (preferably copolymerized) with a (meth)acrylic monomer (A) having a hydroxy group and a (meth)acrylic monomer (B) to form a hydroxyl group, an ester group, or a carboxyl group in the molecular chain. After introduction, it can be formed by causing dealcoholization or dehydration cyclization condensation between these hydroxy groups and ester groups or carboxyl groups. The (meth)acrylic monomer (A) having a hydroxy group as a polymerization component is essential, and the (meth)acrylic monomer (B) contains the above monomer (A). The monomer (B) may or may not coincide with the monomer (A). When the monomer (B) matches the monomer (A), the monomer (A) is homopolymerized.

하이드록시기를 가지는 (메트)아크릴계 단량체(A)로서는 2-(하이드록시메틸)아크릴산, 2-(하이드록시에틸)아크릴산, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 알킬(예를 들면, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 메틸, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 에틸, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 이소프로필, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 n-부틸, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 t-부틸), 2-(하이드록시에틸)아크릴산 알킬(예를 들면, 2-(하이드록시에틸)아크릴산 메틸, 2-(하이드록시에틸)아크릴산 에틸) 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 하이드록시 알릴 부위를 가지는 단량체인 2-(하이드록시메틸)아크릴산이나 2-(하이드록시메틸)아크릴산 알킬을 들 수 있다. 특히 바람직하게는 2-(하이드록시메틸)아크릴산 메틸, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 에틸이 나타난다.Examples of the (meth)acrylic monomer (A) having a hydroxyl group include 2-(hydroxymethyl)acrylic acid, 2-(hydroxyethyl)acrylic acid, and 2-(hydroxymethyl)acrylate alkyl (e.g., 2-(hydroxy Methyl) methyl acrylate, 2-(hydroxymethyl) ethyl acrylate, 2-(hydroxymethyl) isopropyl acrylate, 2-(hydroxymethyl) n-butyl acrylate, 2-(hydroxymethyl) t-butyl acrylate) , 2-(hydroxyethyl) alkyl acrylate (e.g., 2-(hydroxyethyl) methyl acrylate, 2-(hydroxyethyl) ethyl acrylate), and the like, preferably, a hydroxy allyl moiety The branching monomers include 2-(hydroxymethyl)acrylic acid and alkyl 2-(hydroxymethyl)acrylate. Particularly preferably, 2-(hydroxymethyl) methyl acrylate and 2-(hydroxymethyl) ethyl acrylate are shown.

(메트)아크릴계 단량체(B)로서는 비닐기와 에스테르기 또는 카복실기를 가지는 단량체가 바람직하고, 예를 들면, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 알킬(예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 이소부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 사이클로헥실 등), (메트)아크릴산 아릴(예를 들면, (메트)아크릴산 페닐, (메트)아크릴산 벤질 등), 2-(하이드록시알킬)아크릴산 알킬(예를 들면, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 메틸, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 에틸 등의 2-(하이드록시메틸)아크릴산 알킬, 2-(하이드록시에틸)아크릴산 메틸 등의 2-(하이드록시에틸)아크릴산 알킬) 등을 들 수 있다.As the (meth)acrylic monomer (B), a monomer having a vinyl group, an ester group or a carboxyl group is preferable. For example, (meth)acrylic acid, alkyl (meth)acrylate (e.g., methyl (meth)acrylate, (meth) Ethyl acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, etc.), aryl (meth)acrylate (e.g., phenyl (meth)acrylate , Benzyl (meth)acrylate), 2-(hydroxyalkyl) alkyl acrylate (eg, 2-(hydroxymethyl) methyl acrylate, 2-(hydroxymethyl) such as ethyl 2-(hydroxymethyl) acrylate ) Alkyl acrylate, 2-(hydroxyethyl) alkyl acrylate, such as 2-(hydroxyethyl) methyl acrylate), etc. are mentioned.

폴리머 쇄(B)는 식(1)의 락톤환 구조를 1종만 가지고 있을 수도 있고, 2종 이상 가지고 있을 수도 있다. The polymer chain (B) may have only one lactone ring structure of formula (1), or may have two or more.

폴리머 쇄(B)가 주쇄의 환 구조로서 무수 말레산 구조 또는 말레이미드 구조를 가지는 경우, 무수 말레산 구조 또는 말레이미드 구조로서는 하기 식(2)의 구조가 바람직하게 나타난다. 하기식 (2)에 있어서, R4 및 R5는 각각 독립해서 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R6은 수소원자 또는 치환기를 나타내고, X1은 산소원자 또는 질소원자를 나타내고, X1이 산소원자일 때 n1=0이고, X1이 질소원자일 때 n1=1이다.When the polymer chain (B) has a maleic anhydride structure or a maleimide structure as the ring structure of the main chain, the structure of the following formula (2) is preferably shown as the maleic anhydride structure or maleimide structure. In the following formula (2), R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, X 1 represents an oxygen atom or a nitrogen atom, and X 1 represents an oxygen atom. When n1 = 0, when X 1 is a nitrogen atom, n1 = 1.

Figure 112019044812407-pct00002
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식(2)의 R6의 치환기로서는 탄화수소기 등을 들 수 있고, 예를 들면 할로겐 등의 치환기를 가질 수 있는 C1-20의 탄화수소기를 들 수 있다. 당해 탄화수소기로서는 포화 또는 불포화의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 지방족 탄화수소기나 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 지방족 탄화수소기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기 등의 C1-6알킬기; 에테닐기, 프로페닐기 등의 C2-6알케닐기; 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기 등의 C3-20사이클로알킬기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기로서는 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등의 C6-20아릴기; 벤질기, 페닐 에틸기 등의 C7-20아르알킬기 등을 들 수 있다. 이것들의 탄화수소기는 할로겐 등의 치환기를 가지고 있을 수도 있다.Examples of the substituent for R 6 in formula (2) include a hydrocarbon group and the like, and examples thereof include a C1-20 hydrocarbon group which may have a substituent such as halogen. Examples of the hydrocarbon group include saturated or unsaturated linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. Examples of the aliphatic hydrocarbon group include C1-6 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group and isopropyl group; C2-6 alkenyl groups such as ethenyl group and propenyl group; C3-20 cycloalkyl groups, such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, etc. are mentioned. Examples of the aromatic hydrocarbon group include C6-20 aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenyl group; C7-20 aralkyl groups, such as a benzyl group and a phenyl ethyl group, etc. are mentioned. These hydrocarbon groups may have a substituent such as halogen.

X1이 산소원자일 때, 식(2)의 환 구조는 무수 말레산 구조가 된다. 무수 말레산 구조는 예를 들면, 무수 말레산과 (메트)아크릴계 단량체(예를 들면, (메트)아크릴산 에스테르 등)를 공중합하는 것에 의해서, 폴리머 쇄(B)에 도입할 수 있다.When X 1 is an oxygen atom, the ring structure of formula (2) becomes a maleic anhydride structure. The maleic anhydride structure can be introduced into the polymer chain (B), for example, by copolymerizing maleic anhydride and a (meth)acrylic monomer (eg, (meth)acrylic acid ester).

X1이 질소원자일 때, 식(2)의 환 구조는 말레이미드 구조가 된다. 말레이미드 구조는 예를 들면, 말레이미드와 (메트)아크릴계 단량체(예를 들면, (메트)아크릴산 에스테르)를 공중합하는 것에 의해서, 폴리머 쇄(B)에 도입할 수 있다. 말레이미드 구조로서는 예를 들면, N 위치가 무치환의 말레이미드 구조, N-메틸말레이미드 구조, N-에틸말레이미드 구조, N-사이클로헥실말레이미드 구조, N-페닐말레이미드 구조, N-나프틸말레이미드 구조, N-벤질말레이미드 구조 등을 들 수 있다. 또, 말레이미드 구조를 제공하는 말레이미드로서는 N 위치가 무치환의 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-나프틸말레이미드, N-벤질말레이미드 등을 사용할 수 있다.When X 1 is a nitrogen atom, the ring structure of formula (2) becomes a maleimide structure. The maleimide structure can be introduced into the polymer chain (B), for example, by copolymerizing maleimide and a (meth)acrylic monomer (eg, (meth)acrylic acid ester). As the maleimide structure, for example, the N-position is unsubstituted maleimide structure, N-methylmaleimide structure, N-ethylmaleimide structure, N-cyclohexylmaleimide structure, N-phenylmaleimide structure, N-naph A tylmaleimide structure, an N-benzylmaleimide structure, and the like. In addition, as maleimide providing a maleimide structure, the N-position is unsubstituted maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-naphthylmaleimide. Mid, N-benzyl maleimide, etc. can be used.

폴리머 쇄(B)가 X1이 질소원자인 말레이미드 구조를 가지는 경우, 내열성이 뛰어나고, 복굴절율이 작은 공중합체(P)를 얻는 것이 용이한 점에서 R4 및 R5는 수소원자이고, R6은 C3-20사이클로알킬기 또는 C6-20방향족기(아릴기, 아르알킬기 등)인 것이 바람직하고, R4 및 R5는 수소원자이고, R6은 사이클로헥실기 또는 페닐기인 것이 더 바람직하다.When the polymer chain (B) has a maleimide structure in which X 1 is a nitrogen atom, since it is easy to obtain a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence, R 4 and R 5 are hydrogen atoms, and R 6 Is preferably a C3-20 cycloalkyl group or a C6-20 aromatic group (aryl group, aralkyl group, etc.), R 4 and R 5 are hydrogen atoms, and R 6 is more preferably a cyclohexyl group or a phenyl group.

폴리머 쇄(B)는 식(2)의 환 구조를 1종만 가지고 있을 수도 있고, 2종 이상 가지고 있을 수도 있다The polymer chain (B) may have only one ring structure of formula (2), or may have two or more types.

폴리머 쇄(B)가 주쇄의 환 구조로서 글루탈이미드 구조 또는 무수 글루타르산 구조를 가지는 경우, 글루탈이미드 구조 또는 무수 글루타르산 구조로서는 하기식 (3)의 구조가 바람직하게 나타난다. 하기식 (3)에 있어서, R7 및 R8은 각각 독립해서 수소원자 또는 알킬기를 나타내고, R9는 수소원자 또는 치환기를 나타내고, X2는 산소원자 또는 질소원자를 나타내고, X2가 산소원자일 때 n2=0이고, X2가 질소원자일 때 n2=1이다.When the polymer chain (B) has a glutalimide structure or a glutaric anhydride structure as the ring structure of the main chain, the structure of the following formula (3) is preferably shown as the glutalimide structure or glutaric anhydride structure. In the following formula (3), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 9 represents a hydrogen atom or a substituent, X 2 represents an oxygen atom or a nitrogen atom, and X 2 represents an oxygen atom. When n2 = 0, when X 2 is a nitrogen atom, n2 = 1.

Figure 112019044812407-pct00003
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식(3) 중, R7 및 R8의 알킬기로서는 직쇄상 또는 분지상의 알킬기가 바람직하게 들 수 있고, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, n-헵틸기, 이소헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기 등의 C1-8알킬기 등을 들 수 있다. 또, 내열성이 뛰어나고, 복굴절율이 작은 공중합체(P)를 얻는 것이 용이하다는 점에서 R7 및 R8은 각각 독립해서 수소원자 또는 C1-4알킬기가 바람직하고, 수소원자 또는 메틸기가 더 바람직하다.In formula (3), as the alkyl group of R 7 and R 8 , a linear or branched alkyl group is preferably exemplified. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, C1- such as isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, isoheptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc. 8 alkyl groups, etc. are mentioned. In addition, since it is excellent in heat resistance and it is easy to obtain a copolymer (P) having a small birefringence, R 7 and R 8 are each independently preferably a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. .

식(3)의 R9의 치환기로서는 탄화수소기 등을 들 수 있고, 예를 들면 할로겐 등의 치환기를 가질 수 있는 C1-20의 탄화수소기를 들 수 있다. 당해 탄화수소기로서는 포화 또는 불포화의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 지방족 탄화수소기나 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 지방족 탄화수소기로서는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 이소헥실이기, n-헵틸기, 이소헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실 등의 C1-10알킬기; 에테닐기, 프로페닐기 등의 C2-10알케닐기; 사이클로프로필기, 사이클로부틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기 등의 C3-12사이클로알킬기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기로서는 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기, 비나프틸기, 안트릴기 등의 C6-20아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 C7-20아르알킬기 등을 들 수 있다. 이것들의 탄화수소기는 할로겐 등의 치환기를 가지고 있을 수도 있다. 이것들 중에서도, 내열성이 뛰어나고, 복굴절율이 작은 공중합체(P)를 얻는 것이 용이하다는 점에서 R9는 C1-4알킬기, C3-7사이클로알킬기, C6-20아릴기, 또는 C7-20아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 사이클로헥실기, 페닐기, 또는 톨릴기가 더 바람직하다.Examples of the substituent for R 9 in formula (3) include a hydrocarbon group and the like, and examples thereof include a C1-20 hydrocarbon group which may have a substituent such as halogen. Examples of the hydrocarbon group include saturated or unsaturated linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. As an aliphatic hydrocarbon group, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, n-hexyl group, iso C1-10 alkyl groups such as hexyl group, n-heptyl group, isoheptyl group, n-octyl group, and 2-ethylhexyl group; C2-10 alkenyl groups such as ethenyl group and propenyl group; C3-12 cycloalkyl groups, such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group, etc. are mentioned. Examples of the aromatic hydrocarbon group include C6-20 aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, biphenyl group, binaphthyl group, and anthryl group; C7-20 aralkyl groups, such as a benzyl group and a phenylethyl group, etc. are mentioned. These hydrocarbon groups may have a substituent such as halogen. Among these, R 9 is a C1-4 alkyl group, a C3-7 cycloalkyl group, a C6-20 aryl group, or a C7-20 aralkyl group in that it is easy to obtain a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence. It is preferably a methyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, or a tolyl group.

X2가 산소원자일 때, 식(3)의 환 구조는 무수 글루타르산구조가 된다. 무수 글루타르산 구조는 예를 들면, 인접하는 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위 2개의 카복실산기를 산무수물화하는 것에 의해, 폴리머 쇄(B)에 도입할 수 있다.When X 2 is an oxygen atom, the ring structure of formula (3) becomes a glutaric anhydride structure. The glutaric anhydride structure can be introduced into the polymer chain (B), for example, by acid anhydrating the carboxylic acid groups of two units derived from adjacent (meth)acrylic monomers.

X2가 질소원자일 때, 식(3)의 환 구조는 글루탈이미드 구조가 된다. 글루탈이미드 구조는 예를 들면, 인접하는 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위 2개의 카복실산기를 이미드화하거나, 인접하는 (메트)아크릴산 아미드 유래의 단위 아미드기와 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 에스테르기를 환화 축합하는 것에 의해, 폴리머 쇄(B)에 도입할 수 있다.When X 2 is a nitrogen atom, the ring structure of formula (3) becomes a glutalimide structure. The glutalimide structure is, for example, imidized with carboxylic acid groups of two units derived from adjacent (meth)acrylic monomers, or unit amide groups derived from adjacent (meth)acrylic acid amides and unit ester groups derived from (meth)acrylic acid esters. It can be introduced into the polymer chain (B) by cyclization condensation.

식(3)의 환 구조에 있어서, 내열성이 뛰어나고, 복굴절율이 작은 공중합체(P)를 얻는 것이 용이하다는 점에서 R7 및 R8은 각각 독립해서 수소원자 또는 메틸기이고, R9는 C1-10알킬기, C3-12사이클로알킬기, 또는 C6-20방향족기인 것이 바람직하고, R7 및 R8은 각각 독립해서 수소원자 또는 메틸기이고, R9는 C1-4알킬기, C3-7사이클로알킬기, C6-20아릴기, 또는 C7-20아르알킬기인 것이 더 바람직하고, R7 및 R8은 각각 독립해서 수소원자 또는 메틸기이고, R9는 메틸기, 사이클로헥실기, 페닐기, 또는 톨릴기인 것이 더욱 바람직하고, R7 및 R8은 각각 독립해서 수소원자 또는 메틸기이고, R9는 사이클로헥실기 또는 페닐기인 것이 특히 바람직하다.In the ring structure of formula (3), since it is easy to obtain a copolymer (P) having excellent heat resistance and a small birefringence, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 9 is C1- It is preferably a 10 alkyl group, a C3-12 cycloalkyl group, or a C6-20 aromatic group, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 9 is a C1-4 alkyl group, a C3-7 cycloalkyl group, a C6- It is more preferable that it is a 20 aryl group or a C7-20 aralkyl group, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 9 is more preferably a methyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, or a tolyl group, It is particularly preferable that R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and R 9 is a cyclohexyl group or a phenyl group.

폴리머 쇄(B)는 식(3)의 환 구조를 1종만 가지고 있을 수도 있고, 2종이상 가지고 있을 수도 있다The polymer chain (B) may have only one ring structure of formula (3), or may have two or more types.

상기에 설명한 환 구조 중, 공중합체(P)가 이것을 포함하는 수지 조성물을 광학필름에 적용했을 때에, 양호한 표면경도, 내용제성, 접착성, 배리어 특성, 광학특성이 부여되는 관점에서 폴리머 쇄(B)의 환 구조 단위는 락톤환 구조 및/또는 말레이미드 구조를 포함하는 것이 바람직하다. 광학필름이 위상차 필름인 경우에는 양의 위상차를 부여할 수 있고, 위상차 특성의 안정성이 뛰어나는 관점에서 폴리머 쇄(B)의 환 구조 단위는 락톤환 구조를 포함하는 것이 더 바람직하다.Among the cyclic structures described above, when a resin composition containing the copolymer (P) is applied to an optical film, from the viewpoint of imparting good surface hardness, solvent resistance, adhesion, barrier properties, and optical properties, the polymer chain (B It is preferable that the ring structural unit of) contains a lactone ring structure and/or a maleimide structure. When the optical film is a retardation film, a positive retardation can be provided, and from the viewpoint of excellent stability of the retardation characteristic, it is more preferable that the ring structural unit of the polymer chain (B) includes a lactone ring structure.

폴리머 쇄(B)는 추가로 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지고 있을 수도 있다. 다른 불포화 단량체는 중합성 이중결합을 가지는 화합물이라면 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르; 스티렌, 비닐톨루엔, 메톡시스티렌, α-메틸스티렌, 2-비닐피리딘 등의 방향족 비닐 화합물; 비닐트리메톡시실란, γ-(메트)아크릴로일옥시프로필메톡시실란 등의 비닐실란 등을 들 수 있다. 예를 들면, 폴리머 쇄(B)가 방향족 비닐 단량체 유래의 단위를 가지고 있으면, 공중합체(P)의 굴절율이나 위상차 특성을 조정하는 것이 용이해진다. 방향족 비닐 단량체의 상세는 중합체 블럭(a2)의 방향족 비닐 단량체의 설명이 참조된다. 또, 폴리머 쇄(B)가 2종 이상의 단량체 성분으로 형성되는 것인 경우, 폴리머 쇄(B)는 랜덤 공중합체인 것이 바람직하다.The polymer chain (B) may further have units derived from other unsaturated monomers. The other unsaturated monomer is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable double bond, and examples thereof include vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, methoxystyrene, α-methylstyrene, and 2-vinylpyridine; And vinyl silanes such as vinyl trimethoxysilane and γ-(meth)acryloyloxypropylmethoxysilane. For example, when the polymer chain (B) has a unit derived from an aromatic vinyl monomer, it becomes easy to adjust the refractive index and retardation characteristics of the copolymer (P). For details of the aromatic vinyl monomer, reference is made to the description of the aromatic vinyl monomer of the polymer block (a2). In addition, when the polymer chain (B) is formed from two or more types of monomer components, it is preferable that the polymer chain (B) is a random copolymer.

공중합체(P)는 폴리머 쇄(B) 중, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율이 45질량% 이상 98질량% 이하이다. 폴리머 쇄(B) 중의 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율이 45질량% 이상이라면, 폴리머 쇄(B)를 중합 형성할 때에 겔화물의 발생을 억제할 수 있고, 공중합체(P)를 광학용도에 호적하게 사용하기 쉬워진다. 또, 공중합체(P)의 기계적 강도도 높이기 쉬워진다. 폴리머 쇄(B) 중의 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율이 98질량% 이하라면, 내열성이 우수한 공중합체(P)를 얻을 수 있다. 폴리머 쇄(B) 중의 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 50질량% 이상이 바람직하고, 55질량% 이상이 더 바람직하고, 60질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 97질량% 이하가 바람직하다.The copolymer (P) has a unit content ratio of 45% by mass or more and 98% by mass or less in the polymer chain (B). If the content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic acid ester in the polymer chain (B) is 45% by mass or more, the generation of gelatinous products can be suppressed when the polymer chain (B) is polymerized and formed, and the copolymer (P) is optically It becomes easy to use suitably for a purpose. Moreover, the mechanical strength of the copolymer (P) also becomes easy to increase. When the content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic acid ester in the polymer chain (B) is 98% by mass or less, the copolymer (P) excellent in heat resistance can be obtained. The content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic acid ester in the polymer chain (B) is preferably 50% by mass or more, more preferably 55% by mass or more, further preferably 60% by mass or more, and 97% by mass or less. Do.

폴리머 쇄(B) 중의 환 구조 단위의 함유 비율은 2질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 더 바람직하고, 5질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 50질량% 이하가 바람직하고, 45질량% 이하가 더 바람직하고, 40질량% 이하가 더욱 바람직하다. 이렇게 환 구조 단위의 함유 비율을 조정하는 것에 의해, 공중합체(P)의 내열성과 기계적 강도의 양쪽을 균형 있게 높이는 것이 용이해진다. 또, 여기에서 설명한 환 구조 단위의 함유 비율은 폴리머 쇄(B)의 주쇄에 포함되는 환 구조를 가지는 단위의 함유율을 의미하고, 예를 들면, 상기 식(1)∼(3)의 구조의 함유 비율을 의미한다.The content ratio of the cyclic structural unit in the polymer chain (B) is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and preferably 50% by mass or less, and 45% by mass % Or less is more preferable, and 40 mass% or less is still more preferable. By adjusting the content ratio of the cyclic structural unit in this way, it becomes easy to balance both the heat resistance and mechanical strength of the copolymer (P). In addition, the content ratio of the cyclic structural unit described herein refers to the content of the unit having a cyclic structure contained in the main chain of the polymer chain (B), for example, the content of the structures of formulas (1) to (3) above. Means the ratio.

폴리머 쇄(B)는 (메트)아크릴 단위와 환 구조 단위의 합계 함유 비율이 90질량% 이상이 바람직하고, 93질량% 이상이 더 바람직하고, 95질량% 이상이 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 공중합체(P)의 투명성이나 내열성을 높이는 것이 용이해진다. 또, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위와 환 구조 단위의 합계 함유 비율이 이러한 범위에 있는 것이 바람직하다.As for the polymer chain (B), 90 mass% or more is preferable, 93 mass% or more is more preferable, and 95 mass% or more is still more preferable in the total content ratio of a (meth)acrylic unit and a cyclic structural unit. Thereby, it becomes easy to improve the transparency and heat resistance of the copolymer (P). Further, it is preferable that the total content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic acid ester and the cyclic structural unit is in such a range.

폴리머 쇄(B)는 폴리머 쇄(A)에 그래프트하고 있는 것이 바람직하다. 폴리머 쇄(B)는 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 결합하고 있을 수도 있고, 또 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외의 단위에 결합하고 있을 수도 있다. 전자의 경우, 폴리머 쇄(B)는 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 직접 결합하고 있을 수도 있고, 연결기를 통해서 결합하고 있을 수도 있다.It is preferable that the polymer chain (B) is grafted to the polymer chain (A). The polymer chain (B) may be bonded to a unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A), or may be bonded to a unit other than the unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A). have. In the former case, the polymer chain (B) may be directly bonded to a unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A), or may be bonded through a linking group.

폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 직접 결합하는 경우, 폴리머 쇄(B)는 (메트)아크릴 단위 또는 환 구조 단위가 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 직접 결합하고 있는 것이 바람직하다. 폴리머 쇄(B)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 주쇄 탄소원자에 결합하고 있을 수도 있고, 당해 주쇄에 치환기(측쇄)로서 결합한 탄화수소기의 탄소원자에 결합하고 있을 수도 있다. 이렇게 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)에 결합하고 있으면, 겔화물이 적은 공중합체(P)를 얻기 쉬워진다.When the polymer chain (B) is directly bonded to a unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A), the polymer chain (B) is a (meth)acrylic unit or a cyclic structural unit that is a diene of the polymer chain (A) and / Or it is preferable to bond directly to the unit derived from an olefin. The polymer chain (B) may be bonded to a unit main chain carbon atom derived from diene and/or olefin, or may be bonded to a carbon atom of a hydrocarbon group bonded to the main chain as a substituent (side chain). When the polymer chain (B) is bonded to the polymer chain (A) in this way, it becomes easier to obtain a copolymer (P) with little gelatinization.

폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 연결기를 통해서 결합하는 경우에는, 연결기는 에스테르 결합(-CO-O-), 우레탄 결합(-NH-CO-O-), 및 에테르 결합(-O-)으로부터 선택되는 적어도 1종을 가지는 것이 바람직하고, 당해 연결기는 추가로 메틸렌기나 하이드록시메틸렌기 등의 2가의 유기기를 가지고 있을 수도 있다.When the polymer chain (B) is bonded to a unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A) through a linking group, the linking group is an ester bond (-CO-O-), a urethane bond (-NH-CO-O It is preferable to have at least one selected from -) and an ether bond (-O-), and the linking group may further have a divalent organic group such as a methylene group or a hydroxymethylene group.

폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외의 단위에 결합하는 경우에는 예를 들면, 폴리머 쇄(A)가 중합성 작용기(중합성 이중결합)을 가지는 단위를 가지고, 당해 단위의 중합성 작용기에 폴리머 쇄(B)가 결합하거나, 폴리머 쇄(A)가 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외에, 에스테르 결합(-CO-O-), 우레탄 결합(-NH-CO-O-)에테르 결합(-O-) 등의 연결기를 통해서 폴리머 쇄(B)가 결합하고 있을 수도 있다. 당해 연결기는 추가로 메틸렌기나 하이드록시메틸렌기 등의 2가의 유기기를 가지고 있을 수도 있다.When the polymer chain (B) is bonded to a unit other than a unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A), for example, a unit in which the polymer chain (A) has a polymerizable functional group (polymerizable double bond) And, the polymer chain (B) is bonded to the polymerizable functional group of the unit, or the polymer chain (A) is an ester bond (-CO-O-), a urethane bond (-NH) in addition to a unit derived from a diene and/or olefin. The polymer chain (B) may be bonded through a linking group such as -CO-O-) ether bond (-O-). The linking group may further have a divalent organic group such as a methylene group or a hydroxymethylene group.

상기에 설명한 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)에 그래프트하는 각 형태에 대하여는, 하기의 공중합체(P)의 제조방법의 설명에서 상세하게 설명한다.Each form in which the polymer chain (B) described above is grafted onto the polymer chain (A) will be described in detail in the following description of the method for producing the copolymer (P).

공중합체(P) 중의 환 구조 단위의 함유 비율은 특별하게 한정되지 않지만, 공중합체(P) 중, 환 구조 단위의 함유 비율은 예를 들면, 1질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 더 바람직하고, 5질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 60질량% 이하가 바람직하고, 50질량% 이하가 더 바람직하고, 40질량% 이하가 더욱 바람직하다. 이렇게 공중합체(P) 중의 환 구조 단위의 함유 비율을 조정하는 것에 의해, 공중합체(P)의 내열성이나 투명성, 성형성, 기계적 강도 등을 균형 있게 높이는 것이 용이해진다.The content ratio of the cyclic structural unit in the copolymer (P) is not particularly limited, but the content ratio of the cyclic structural unit in the copolymer (P) is preferably 1% by mass or more, and 3% by mass or more. More preferably, 5 mass% or more is still more preferable, 60 mass% or less is preferable, 50 mass% or less is more preferable, and 40 mass% or less is still more preferable. By adjusting the content ratio of the cyclic structural unit in the copolymer (P) in this way, it becomes easy to balance the heat resistance, transparency, moldability, mechanical strength, and the like of the copolymer (P).

공중합체(P)가 폴리머 쇄(B)의 환 구조 단위로서 락톤환 구조를 가질 경우, 공중합체(P)의 내열성이나 투명성을 높이는 관점으로부터, 공중합체(P) 중의 락톤환 구조의 함유 비율은, 예를 들면 1질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 더 바람직하고, 5질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 60질량% 이하가 바람직하고, 50질량% 이하가 더 바람직하고, 40질량% 이하가 더욱 바람직하다. 같은 관점으로부터, 공중합체(P)가 폴리머 쇄(B)의 환 구조 단위로서 무수 말레산 구조 및/또는 말레이미드 구조를 가질 경우, 공중합체(P) 중의 이것들의 환 구조의 함유 비율은, 예를 들면 1질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 더 바람직하고, 5질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 60질량% 이하가 바람직하고, 50질량% 이하가 더 바람직하고, 40질량% 이하가 더욱 바람직하다. 공중합체(P)가 폴리머 쇄(B)의 환 구조 단위로서 글루탈이미드 구조 및/또는 무수 글루타르산구조를 가질 경우, 공중합체(P) 중의 이것들의 환 구조의 함유 비율은, 예를 들면 1질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 더 바람직하고, 5질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 60질량% 이하가 바람직하고, 50질량% 이하가 더 바람직하고, 40질량% 이하가 더욱 바람직하다.When the copolymer (P) has a lactone ring structure as the cyclic structural unit of the polymer chain (B), from the viewpoint of enhancing the heat resistance and transparency of the copolymer (P), the content ratio of the lactone ring structure in the copolymer (P) is , For example, 1 mass% or more is preferable, 3 mass% or more is more preferable, 5 mass% or more is more preferable, 60 mass% or less is preferable, 50 mass% or less is more preferable, 40 mass% % Or less is more preferable. From the same point of view, when the copolymer (P) has a maleic anhydride structure and/or a maleimide structure as the cyclic structural unit of the polymer chain (B), the content ratio of these cyclic structures in the copolymer (P) is For example, 1 mass% or more is preferable, 3 mass% or more is more preferable, 5 mass% or more is more preferable, 60 mass% or less is preferable, 50 mass% or less is more preferable, 40 mass% or less Is more preferred. When the copolymer (P) has a glutalimide structure and/or a glutaric anhydride structure as the cyclic structural unit of the polymer chain (B), the content ratio of these cyclic structures in the copolymer (P) is, for example, For example, 1 mass% or more is preferable, 3 mass% or more is more preferable, 5 mass% or more is more preferable, 60 mass% or less is preferable, 50 mass% or less is more preferable, 40 mass% or less is More preferable.

공중합체(P)의 중량 평균 분자량은 0.2만 이상이 바람직하고, 0.5만 이상이 더 바람직하고, 3만 이상이 더욱 바람직하고, 5만 이상이 더욱 더 바람직하고, 7만 이상이 특히 바람직하고, 또 100만 이하가 바람직하고, 50만 이하가 더 바람직하고, 30만 이하가 더욱 바람직하고, 20만 이하가 더욱 더 바람직하다. 공중합체(P)의 중량 평균 분자량을 이러한 범위로 함으로써, 공중합체(P)의 성형 가공성이 향상하는 동시에, 수득되는 성형품의 강도를 높이기 쉬워진다.The weight average molecular weight of the copolymer (P) is preferably 0.2 million or more, more preferably 0.5 million or more, more preferably 30,000 or more, even more preferably 50,000 or more, particularly preferably 70,000 or more, Moreover, 1 million or less are preferable, 500,000 or less are more preferable, 300,000 or less are still more preferable, and 200,000 or less are still more preferable. By setting the weight average molecular weight of the copolymer (P) in such a range, the molding processability of the copolymer (P) is improved, and the strength of the obtained molded article is easily increased.

공중합체(P)의 중량 평균 분자량은 폴리머 쇄(A)의 중량 평균 분자량에 1.1배 이상이 바람직하고, 1.2배 이상이 더 바람직하고, 1.3배 이상이 더 바람직하고, 또 20배 이하가 바람직하고, 12배 이하가 더 바람직하고, 10배 이하가 더욱 바람직하고, 7배 이하가 더욱 더 바람직하고, 5배 이하가 특히 바람직하다. 이것에 의해, 공중합체(P)에 투명성, 기계적 강도, 내열성의 각 특성을 균형 있게 부여하는 것이 용이해진다.The weight average molecular weight of the copolymer (P) is preferably 1.1 times or more, more preferably 1.2 times or more, more preferably 1.3 times or more, and 20 times or less to the weight average molecular weight of the polymer chain (A). , 12 times or less is more preferable, 10 times or less is still more preferable, 7 times or less is even more preferable, and 5 times or less is particularly preferable. Thereby, it becomes easy to provide the copolymer (P) with each characteristic of transparency, mechanical strength, and heat resistance in a balance.

공중합체(P)의 굴절율은 폴리머 쇄(A)의 굴절율과 가까운 값인 것이 바람직하고, 이것에 의해 공중합체(P)의 투명성을 확보하기 쉬워진다. 구체적으로는, 공중합체(P)의 굴절율과 폴리머 쇄(A)의 굴절율 차이가 0.1 미만인 것이 바람직하고, 0.05 이하가 더 바람직하고, 0.02 이하가 더욱 바람직하다. 동일한 관점에서 공중합체(P) 중의 폴리머 쇄(A)의 굴절율과 폴리머 쇄(B)의 굴절율은 가까운 값인 것이 바람직하고, 구체적으로는 폴리머 쇄(A)의 굴절율과 폴리머 쇄(B)의 굴절율 차이가 0.1 미만인 것이 바람직하고, 0.05 이하가 더 바람직하고, 0.02 이하가 더욱 바람직하다.The refractive index of the copolymer (P) is preferably a value close to the refractive index of the polymer chain (A), whereby it becomes easy to secure the transparency of the copolymer (P). Specifically, the difference between the refractive index of the copolymer (P) and the refractive index of the polymer chain (A) is preferably less than 0.1, more preferably 0.05 or less, and even more preferably 0.02 or less. From the same point of view, the refractive index of the polymer chain (A) and the refractive index of the polymer chain (B) in the copolymer (P) are preferably close to each other, and specifically, the difference between the refractive index of the polymer chain (A) and the polymer chain (B) Is preferably less than 0.1, more preferably 0.05 or less, and even more preferably 0.02 or less.

공중합체(P)는 100℃ 이상 및 100℃ 미만에 각각 유리전이온도를 가지는 것이 바람직하다. 또, 100℃ 이상의 유리전이온도를 「고온측의 유리전이온도」라고 부르고, 100℃ 미만의 유리전이온도를 「저온측의 유리전이온도」라고 부른다. 공중합체(P)는 고온측의 유리전이온도를 복수 가지는 것일 수도 있고, 저온측의 유리전이온도를 복수 가지는 것일 수도 있다. 공중합체(P)가 고온측의 유리전이온도를 가지는 것에 의해, 공중합체(P)의 내열성이 높아지고, 또 공중합체(P)를 필름 등으로 성형할 때에, 고온하에서도 연화되지 않고, 성형 가공성을 높일 수 있다. 공중합체(P)가 저온측의 유리전이온도를 가지는 것에 의해, 공중합체(P)의 내충격성을 높일 수 있다. 공중합체(P)의 고온측의 유리전이온도는 바람직하게는 113℃ 이상이고, 더 바람직하게는 116℃ 이상이고 더욱 바람직하게는 120℃ 이상이다. 공중합체(P)의 저온측의 유리전이온도는 바람직하게는 50℃ 미만이고, 더 바람직하게는 20℃ 미만이이고, 더욱 바람직하게는 0℃ 미만이고, 더욱 더 바람직하게는 -20℃ 미만이다.It is preferable that the copolymer (P) has a glass transition temperature of 100°C or more and less than 100°C, respectively. Further, a glass transition temperature of 100°C or higher is referred to as a "glass transition temperature on the high temperature side", and a glass transition temperature of less than 100°C is referred to as a "glass transition temperature on the low temperature side". The copolymer (P) may have a plurality of glass transition temperatures on the high-temperature side, or may have a plurality of glass transition temperatures on the low-temperature side. Because the copolymer (P) has a glass transition temperature on the high-temperature side, the heat resistance of the copolymer (P) increases, and when the copolymer (P) is formed into a film, it does not soften even under high temperature, and molding processability Can increase. Since the copolymer (P) has a glass transition temperature on the low-temperature side, the impact resistance of the copolymer (P) can be improved. The glass transition temperature on the high temperature side of the copolymer (P) is preferably 113°C or higher, more preferably 116°C or higher, and still more preferably 120°C or higher. The glass transition temperature on the low-temperature side of the copolymer (P) is preferably less than 50°C, more preferably less than 20°C, more preferably less than 0°C, and even more preferably less than -20°C. .

공중합체(P)는 폴리머 쇄(A)에, 폴리머 쇄(B)를 형성하는 단량체 성분을 부가 중합하는 것에 의해 제조할 수 있다. 따라서 공중합체(P)의 제조방법은 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체(이하, 「원료 중합체(P1)」라고 부른다)의 존재 하에서, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합하는 공정(중합공정)을 가지는 것이 바람직하고, 이것에 의해, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 원료 중합체(P1)에 부가 중합할 수 있다. 이 경우, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분은 예를 들면, (1) 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 직접 결합하는 방법, (2) 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위가 측쇄에 가지는 연결기의 중합성 작용기에 결합하는 방법, 혹은 (3) 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외의 단위가 측쇄에 가지는 중합성 작용기에 결합하는 방법, 중 어느 하나의 방법에 의해 원료 중합체(P1)에 부가 중합할 수 있다. 이 경우, 수득되는 공중합체는 그래프트 중합체가 된다. 또 본 명세서에 있어서, 「원료 중합체(P1)」를 단순하게 「중합체(P1)」라고 부르는 경우도 있다.The copolymer (P) can be produced by addition polymerization of a monomer component forming the polymer chain (B) on the polymer chain (A). Therefore, the method of preparing the copolymer (P) is to polymerize a monomer component including a (meth)acrylic monomer in the presence of a polymer having a unit derived from diene and/or olefin (hereinafter referred to as ``raw polymer (P1)''). It is preferable to have a step (polymerization step) to perform, and thereby, a monomer component containing a (meth)acrylic monomer can be subjected to addition polymerization to the raw material polymer (P1). In this case, the monomer component containing the (meth)acrylic monomer is, for example, (1) a method of directly bonding to a unit derived from a diene and/or olefin of the raw material polymer (P1), and (2) the raw material polymer (P1). A method in which a unit derived from diene and/or olefin is bonded to the polymerizable functional group of a linking group on the side chain, or (3) a polymerizable functional group in which a unit other than the unit derived from diene and/or olefin of the raw material polymer (P1) has on the side chain Addition polymerization can be performed on the raw material polymer (P1) by any one of the method of bonding to. In this case, the obtained copolymer becomes a graft polymer. In addition, in this specification, the "material polymer (P1)" may be simply referred to as "polymer (P1)".

원료 중합체(P1)는 적어도 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지고 있을 수 있고, 추가로 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지고 있을 수도 있다. 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위와 다른 불포화 단량체 유래의 단위에 대한 상세는 상기의 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위와 다른 불포화 단량체 유래의 단위 설명이 참조된다. 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위는 수소원자의 일부가 염소화 되어 있을 수 있다. 원료 중합체(P1)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a1)과 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지는 중합체 블럭(a2)을 가지는 블록 공중합체일 수도 있고, 중합체 블럭(a2)이 방향족 비닐 단량체 유래의 단위로 구성되어 있을 수 있다. 이것들의 상세도 상기의 폴리머 쇄(A)의 설명이 참조된다. 또 상기 (2)의 방법에서는 원료 중합체(P1)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 측쇄에 중합성 작용기를 가지는 연결기를 가지고 있고, 상기 (3)의 방법에서는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외의 단위의 측쇄에 중합성 작용기를 가지고 있다.The raw material polymer (P1) may have at least a unit derived from a diene and/or an olefin, and may further have a unit derived from another unsaturated monomer. For details on units derived from diene and/or olefin of the raw material polymer (P1) and units derived from other unsaturated monomers, the description of units derived from diene and/or olefin of the polymer chain (A) and units derived from other unsaturated monomers is provided. Is referenced. Units derived from diene and/or olefin may have some hydrogen atoms chlorinated. The raw material polymer (P1) may be a block copolymer having a polymer block (a1) having units derived from diene and/or olefin and a polymer block (a2) having units derived from other unsaturated monomers, or the polymer block (a2) It may be composed of units derived from aromatic vinyl monomers. These details also refer to the description of the polymer chain (A). Further, in the method (2), the raw material polymer (P1) has a linking group having a polymerizable functional group in the unit side chain derived from diene and/or olefin, and in the method (3), other than units derived from diene and/or olefin It has a polymerizable functional group in the side chain of the unit of.

원료 중합체(P1)는 중량 평균 분자량이 0.1만 이상인 것이 바람직하고, 0.5만 이상이 더 바람직하고, 1만 이상이 더욱 바람직하고, 3만 이상이 더욱 더 바람직하고, 또 50만 이하가 바람직하고, 30만 이하가 더 바람직하고, 20만 이하가 더욱 바람직하고, 10만 이하가 더욱 더 바람직하다. 원료 중합체(P1)의 중량 평균 분자량을 이러한 범위로 함으로써, 공중합체(P)의 성형성이 향상하고, 공중합체(P)의 강도와 투명성을 확보하기 쉬워진다. 또 (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분과의 중합반응 시에 가교체나 겔화물의 발생을 억제할 수 있다.The raw material polymer (P1) preferably has a weight average molecular weight of 0.1 million or more, more preferably 0.5 million or more, more preferably 10,000 or more, even more preferably 30,000 or more, and 500,000 or less is preferable, 300,000 or less are more preferable, 200,000 or less are still more preferable, and 100,000 or less are still more preferable. By setting the weight average molecular weight of the raw material polymer (P1) in such a range, the moldability of the copolymer (P) is improved, and the strength and transparency of the copolymer (P) are easily secured. Further, generation of a crosslinked product or a gelled product can be suppressed during a polymerization reaction with a monomer component containing a (meth)acrylic monomer.

중합공정에 있어서, 원료 중합체(P1)는 1종만을 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다. 후자의 경우, 수지 조성물로서의 평균분자량이나 이중 결합량을 조정하는 것이 용이하게 된다.In the polymerization step, the raw material polymer (P1) may be used alone or in combination of two or more. In the latter case, it becomes easy to adjust the average molecular weight or the double bond amount as the resin composition.

폴리머 쇄(B)의 형성에 사용되는 단량체 성분에는 (메트)아크릴계 단량체에 부가해서, 환 구조 단위를 제공하는 단량체로서 환 구조 내에 중합성 이중결합을 가지는 단량체 등을 사용할 수 있다. 예를 들면, 주쇄에 말레이미드 구조를 가지는 폴리머 쇄(B)를 형성하는 경우에는, 환 구조 내에 중합성 이중결합을 가지는 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 혹은, 중합 공정 후에, 환 구조 형성공정을 실시하는 경우에는, 당해 공정에서 환 구조를 형성 가능한 단량체를 단량체 성분으로 사용할 수 있다. 또, 그 이외의 다른 불포화 단량체를 사용할 수도 있다. 이것들의 단량체 성분의 상세는 상기의 폴리머 쇄(B)를 형성하는 (메트)아크릴계 단량체, 폴리머 쇄(B)의 환 구조를 제공하는 단량체, 폴리머 쇄(B)를 형성하는 다른 불포화 단량체의 설명이 참조된다.As the monomer component used for formation of the polymer chain (B), in addition to the (meth)acrylic monomer, as a monomer providing a cyclic structural unit, a monomer having a polymerizable double bond in the cyclic structure can be used. For example, when forming a polymer chain (B) having a maleimide structure in the main chain, it is preferable to use a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure. Alternatively, in the case of performing the ring structure forming step after the polymerization step, a monomer capable of forming a ring structure in the step can be used as a monomer component. Moreover, other unsaturated monomers other than that can also be used. For the details of these monomer components, the description of the (meth)acrylic monomer forming the polymer chain (B), the monomer providing the ring structure of the polymer chain (B), and other unsaturated monomer forming the polymer chain (B) Is referenced.

이하, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 원료 중합체(P1)에 부가 중합하는 방법에 대하여, 상기 (1)∼(3)의 방법을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the method of the above (1) to (3) will be described in detail with respect to the method of addition polymerization of the monomer component containing the (meth)acrylic monomer to the raw material polymer (P1).

상기 (1)의 (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 직접 결합하는 방법에서는, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 결합한다. 이 경우, 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위는 디엔에 유래하는 이중결합을 가지는 것이 바람직하다. (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분은 원료 중합체(P1)의 주쇄의 디엔 유래의 이중결합에 결합할 수도 있고, 당해 이중결합의 인접 탄소원자에 결합할 수도 있다. 혹은, 폴리머 쇄(B)는 원료 중합체(P1)의 주쇄에 치환기(측쇄)로서 결합한 디엔 유래의 이중결합에 결합하거나, 당해 이중결합의 인접 탄소원자에 결합하고 있을 수도 있다. 어느 쪽의 경우도, 수득되는 공중합체(P)는 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 직접 결합한 것이 된다. 당해 방법에서는 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위가 가지는 이중결합(올레핀성 이중결합)의 비닐 위치, 알릴 위치 등 활성이 높은 수소가 빠지도록 하는 것이 바람직하고, 이것에 의해 당해 부분에서 래디컬이 생성하고, 폴리머 쇄(B)를 형성하는 단량체 성분을 부가 중합시킬 수 있다.In the method of directly bonding the monomer component containing the (meth)acrylic monomer of (1) to the unit derived from the diene and/or olefin of the raw material polymer (P1), a monomer component containing a (meth)acrylic monomer is used as a raw material polymer. It binds to the unit derived from the diene and/or olefin of (P1). In this case, it is preferable that the unit derived from the diene and/or olefin of the raw material polymer (P1) has a double bond derived from the diene. The monomer component containing a (meth)acrylic monomer may be bonded to a double bond derived from diene of the main chain of the raw material polymer (P1), or bonded to an adjacent carbon atom of the double bond. Alternatively, the polymer chain (B) may be bonded to a diene-derived double bond bonded to the main chain of the raw material polymer (P1) as a substituent (side chain), or bonded to an adjacent carbon atom of the double bond. In either case, the obtained copolymer (P) is one in which the polymer chain (B) is directly bonded to the diene and/or olefin-derived unit of the polymer chain (A). In this method, it is preferable that hydrogen having high activity such as the vinyl position and allyl position of the double bond (olefinic double bond) of the diene and/or olefin-derived unit of the raw material polymer (P1) is eliminated, and thereby The monomer component that generates radicals in the portion and forms the polymer chain (B) can be subjected to addition polymerization.

상기(2)의 (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위가 측쇄에 가지는 연결기의 중합성 작용기에 결합하는 방법에서는 당해 연결기는 중합성 작용기(중합성 이중결합)을 가지고, 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 측쇄에 결합하는 것이 된다. 수득되는 공중합체(P)는 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위에 연결기를 통해서 결합한 것이 된다.In the method of bonding the monomer component containing the (meth)acrylic monomer of (2) to the polymerizable functional group of the linking group having the diene and/or olefin-derived unit of the raw material polymer (P1) in the side chain, the linking group is a polymerizable functional group. It has a (polymerizable double bond) and bonds to a unit side chain derived from a diene and/or an olefin. In the obtained copolymer (P), the polymer chain (B) is bonded to a unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A) through a linking group.

연결기는 중합성 작용기(중합성 이중결합)에 부가해서, 에스테르 결합, 우레탄 결합, 에테르 결합으로부터 선택되는 적어도 1종을 가지는 것이 바람직하고, 또 메틸렌기나 하이드록시메틸렌기 등의 2가의 유기기를 가지고 있을 수도 있다. 이러한 연결기를 가지는 원료 중합체(P1)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지고, 에스테르 결합, 우레탄 결합, 또는 에테르 결합을 제공하는 작용기를 가지는 중합체(이하, 「원료 중합체(P2)」라고 부른다)와, 당해 작용기와의 반응성을 가지는 작용기를 가지고, 중합성 작용기를 가지는 화합물(이하, 「래디컬 중합성 화합물」이라고 부른다)을 반응시키는 것에 의해 얻을 수 있다.In addition to the polymerizable functional group (polymerizable double bond), the linking group preferably has at least one selected from ester bonds, urethane bonds, and ether bonds, and also has a divalent organic group such as a methylene group or a hydroxymethylene group. May be. The raw material polymer (P1) having such a linking group has a unit derived from a diene and/or olefin, and a polymer having a functional group providing an ester bond, a urethane bond, or an ether bond (hereinafter referred to as ``raw polymer (P2)''). And a compound having a functional group having reactivity with the functional group and having a polymerizable functional group (hereinafter, referred to as a "radical polymerizable compound") can be obtained by reacting.

에스테르 결합, 우레탄 결합, 또는 에테르 결합을 제공하는 작용기는 래디컬 중합성 화합물과의 반응에 의해서 이들 중 어느 하나의 결합을 형성하는 작용기를 의미하고, 구체적으로는 카복실기 또는 그 무수물기, 에폭시기, 하이드록실기, 이소시아네이트기 등을 바람직하게 들 수 있다. 원료 중합체(P2)에 이것들의 작용기를 도입하기 위해서는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체(예를 들면, 상기(1)의 제조방법에서 사용되는 원료 중합체(P1))에 이것들의 작용기를 가지는 불포화 화합물을 반응시키면 좋고, 당해 반응은 통상 래디컬 개시제를 사용해서 실시된다.The functional group providing an ester bond, a urethane bond, or an ether bond refers to a functional group that forms any one of these bonds by reaction with a radical polymerizable compound, and specifically, a carboxyl group or an anhydride group thereof, an epoxy group, or a hydride A hydroxyl group, an isocyanate group, etc. are mentioned preferably. In order to introduce these functional groups into the raw material polymer (P2), these functional groups are added to the polymer having a unit derived from diene and/or olefin (for example, the raw material polymer (P1) used in the production method of (1)). What is necessary is just to react the unsaturated compound of the branch, and the said reaction is usually performed using a radical initiator.

카복실기 또는 그 무수물기를 가지는 불포화 화합물로서는 (메트)아크릴산, 푸마르산, 말레산 및 그 무수물, 이타콘산 및 그 무수물, 크로톤산 및 그 무수물, 시트라콘산 및 그 무수물 등의 불포화 카복실산 및 그 무수물 등을 들 수 있다.Unsaturated carboxylic acids such as (meth)acrylic acid, fumaric acid, maleic acid and anhydrides thereof, itaconic acid and anhydrides thereof, crotonic acid and anhydrides thereof, citraconic acid and anhydrides thereof, etc. Can be lifted.

에폭시기를 가지는 불포화 화합물로서는 글리시딜(메트)아크릴레이트, 말레산의 모노 및 디글리시딜에스테르, 이타콘산의 모노 및 디글리시딜에스테르, 알릴숙신산의 모노 및 디글리시딜에스테르, p-스티렌카복실산의 글리시딜에스테르 등의 불포화 카복실산 글리시딜에스테르; 알릴글리시딜에테르, 2-메틸알릴글리시딜에테르, 스티렌-p-글리시딜에테르 등의 글리시딜에테르; p-글리시딜스티렌; 3,4-에폭시-1-부텐, 3,4-에폭시-3-메틸-1-부텐 등의 에폭시 올레핀; 비닐사이클로헥센모노옥사이드 등을 들 수 있다.Unsaturated compounds having an epoxy group include glycidyl (meth)acrylate, mono and diglycidyl esters of maleic acid, mono and diglycidyl esters of itaconic acid, mono and diglycidyl esters of allylsuccinic acid, p- Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester such as glycidyl ester of styrene carboxylic acid; Glycidyl ethers such as allyl glycidyl ether, 2-methyl allyl glycidyl ether, and styrene-p-glycidyl ether; p-glycidylstyrene; Epoxy olefins such as 3,4-epoxy-1-butene and 3,4-epoxy-3-methyl-1-butene; Vinylcyclohexene monooxide, etc. are mentioned.

하이드록실기를 가지는 불포화 화합물로서는 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트; N-메틸올 (메트)아크릴아미드; 2-하이드록시아크릴산 에틸-6-헥사놀리드(hexanolide) 부가 중합물; 2-프로펜-1-올 등의 알케닐 알코올; 2-프로 핀-1-올 등의 알키닐알코올; 하이드록시비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of unsaturated compounds having a hydroxyl group include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth)acrylate. ; N-methylol (meth)acrylamide; 2-hydroxyacrylate ethyl-6-hexanolide addition polymerization product; Alkenyl alcohols such as 2-propen-1-ol; Alkynyl alcohols such as 2-propyn-1-ol; Hydroxyvinyl ether, etc. are mentioned.

이소시아네이트기를 가지는 불포화 화합물로서는 2-이소시아네이트에틸(메트)아크릴레이트, 메타크릴로일이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated compound having an isocyanate group include 2-isocyanate ethyl (meth)acrylate and methacryloyl isocyanate.

래디컬 중합성 화합물은 중합성 작용기(중합성 이중결합)를 가지는 동시에, 카복실기 또는 그 무수물기, 에폭시기, 하이드록실기, 또는 이소시아네이트기와의 반응성을 가지는 작용기를 갖는다. 반응성 작용기로서는 예를 들면, 하이드록실기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 카복실기를 들 수 있다.The radically polymerizable compound has a polymerizable functional group (polymerizable double bond) and a functional group having reactivity with a carboxyl group or its anhydride group, an epoxy group, a hydroxyl group, or an isocyanate group. As a reactive functional group, a hydroxyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a carboxyl group are mentioned, for example.

반응성 작용기로서 하이드록실기를 가지는 래디컬 중합성 화합물로서는 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬(메트)아크릴레이트; N-메틸올(메트)아크릴아미드; 2-하이드록시아크릴산 에틸-6-헥사놀리드(hexanolide) 부가 중합물; 2-프로펜-1-올 등의 알케닐알코올; 2-프로펜-1-올 등의 알키닐알코올; 하이드록시비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of radical polymerizable compounds having a hydroxyl group as a reactive functional group include hydroxyalkyl such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth)acrylate. (Meth)acrylate; N-methylol (meth)acrylamide; 2-hydroxyacrylate ethyl-6-hexanolide addition polymerization product; Alkenyl alcohols such as 2-propen-1-ol; Alkynyl alcohols such as 2-propen-1-ol; Hydroxyvinyl ether, etc. are mentioned.

반응성 작용기로서 에폭시기를 가지는 래디컬 중합성 화합물로서는 글리시딜(메트)아크릴레이트, 말레산의 모노 및 디글리시딜에스테르, 이타콘산의 모노 및 디글리시딜에스테르, 알릴숙신산의 모노 및 디글리시딜에스테르, p-스티렌카복실산의 글리시딜 에스테르 등의 불포화 카복실산 글리시딜에스테르; 알릴글리시딜에테르, 2-메틸알릴글리시딜에테르, 스티렌-p-글리시딜에테르 등의 글리시딜에테르; p-글리시딜스티렌; 3,4-에폭시-1-부텐, 3,4-에폭시-3-메틸-1-부텐 등의 에폭시올레핀; 비닐사이클로헥센모노옥사이드 등을 들 수 있다.Radical polymerizable compounds having an epoxy group as a reactive functional group include glycidyl (meth)acrylate, mono and diglycidyl esters of maleic acid, mono and diglycidyl esters of itaconic acid, mono and diglycidyls of allylsuccinic acid. Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as dylic ester and glycidyl ester of p-styrenecarboxylic acid; Glycidyl ethers such as allyl glycidyl ether, 2-methyl allyl glycidyl ether, and styrene-p-glycidyl ether; p-glycidylstyrene; Epoxy olefins such as 3,4-epoxy-1-butene and 3,4-epoxy-3-methyl-1-butene; Vinylcyclohexene monooxide, etc. are mentioned.

반응성 작용기로서 이소시아네이트기를 가지는 래디컬 중합성 화합물로서는 2-이소시아네이트에틸(메트)아크릴레이트, 메타크릴로일이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the radically polymerizable compound having an isocyanate group as a reactive functional group include 2-isocyanate ethyl (meth)acrylate and methacryloyl isocyanate.

반응성 작용기로서 카복실기를 가지는 래디컬 중합성 화합물로서는 (메트)아크릴산 등의 불포화산; 카복시에틸비닐에테르, 카복시프로필비닐에테르 등의 카복시알킬비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of the radical polymerizable compound having a carboxyl group as a reactive functional group include unsaturated acids such as (meth)acrylic acid; And carboxyalkyl vinyl ethers such as carboxyethyl vinyl ether and carboxypropyl vinyl ether.

원료 중합체(P2)가 가지는 작용기가 카복실기 또는 그 무수물인 경우, 래디컬 중합성 화합물의 반응성 작용기로서는 하이드록실기, 에폭시기, 및 이소시아네이트기가 바람직하게 나타난다. 이것들 중에서도, 하이드록실기를 가지는 래디컬 중합성 화합물이 특히 바람직하다. 이 경우, 원료 중합체(P2)와 래디컬 중합성 화합물과의 반응에 의해 수득되는 원료 중합체(P1)는 중합성 작용기와 에스테르 결합을 가지는 연결기를 측쇄에 가지는 것이 된다.When the functional group of the raw material polymer (P2) is a carboxyl group or an anhydride thereof, a hydroxyl group, an epoxy group, and an isocyanate group are preferably shown as the reactive functional groups of the radical polymerizable compound. Among these, a radically polymerizable compound having a hydroxyl group is particularly preferred. In this case, the raw material polymer (P1) obtained by reaction between the raw material polymer (P2) and the radically polymerizable compound has a polymerizable functional group and a linking group having an ester bond in the side chain.

원료 중합체(P2)가 가지는 작용기가 에폭시기인 경우, 래디컬 중합성 화합물의 반응성 작용기로서는 카복실기 및 하이드록실기가 바람직하게 나타난다. 이것들 중에서 카복실기를 가지는 래디컬 중합성 화합물이 특히 바람직하다. 이 경우, 원료 중합체(P2)와 래디컬 중합성 화합물 반응에 의해서 수득되는 원료 중합체(P1)는 중합성 작용기와 에스테르 결합(상세하게는, -CH(OH)-CH2-OCO-로 나타내는 2가의 유기기)을 가지는 연결기를 측쇄에 가지는 것이 된다.When the functional group of the raw material polymer (P2) is an epoxy group, a carboxyl group and a hydroxyl group preferably appear as the reactive functional group of the radical polymerizable compound. Among these, a radically polymerizable compound having a carboxyl group is particularly preferred. In this case, the raw material polymer (P1) obtained by reaction of the raw material polymer (P2) with the radical polymerizable compound is a divalent polymer represented by a polymerizable functional group and an ester bond (in detail, -CH(OH)-CH 2 -OCO-). Organic group) in the side chain.

원료 중합체(P2)가 가지는 작용기가 하이드록실기인 경우, 래디컬 중합성 화합물의 반응성 작용기로서 이소시아네이트기, 카복실기 및 에폭시기가 바람직하게 나타난다. 이것들 중에서 이소시아네이트기를 가지는 래디컬 중합성 단량체가 특히 바람직하다. 이 경우, 원료 중합체(P2)와 래디컬 중합성 화합물 반응에 의해서 수득되는 원료 중합체(P1)는 중합성 작용기와 우레탄 결합을 가지는 연결기를 측쇄에 가지는 것이 된다.When the functional group of the raw material polymer (P2) is a hydroxyl group, an isocyanate group, a carboxyl group, and an epoxy group are preferably shown as reactive functional groups of the radical polymerizable compound. Among these, a radically polymerizable monomer having an isocyanate group is particularly preferred. In this case, the raw material polymer (P1) obtained by reaction between the raw material polymer (P2) and the radically polymerizable compound has a linking group having a polymerizable functional group and a urethane bond in the side chain.

원료 중합체(P2)가 가지는 작용기가 이소시아네이트기인 경우, 래디컬 중합성 화합물의 반응성 작용기로서 하이드록실기 및 카복실기가 바람직하게 나타난다. 이것들 중에서 하이드록실기를 가지는 래디컬 중합성 단량체가 특히 바람직하다. 이 경우, 원료 중합체(P2)와 래디컬 중합성 화합물 반응에 의해서 수득되는 원료 중합체(P1)는 중합성 작용기와 우레탄 결합을 가지는 연결기를 측쇄에 가지는 것이 된다.When the functional group of the raw material polymer (P2) is an isocyanate group, a hydroxyl group and a carboxyl group preferably appear as reactive functional groups of the radically polymerizable compound. Among these, a radically polymerizable monomer having a hydroxyl group is particularly preferred. In this case, the raw material polymer (P1) obtained by reaction between the raw material polymer (P2) and the radically polymerizable compound has a linking group having a polymerizable functional group and a urethane bond in the side chain.

(2)의 제조방법에 사용가능하는 원료 중합체(P1)로서는 예를 들면, 측쇄에 메타크릴로일기와 에스테르 결합을 가지는 폴리이소프렌인 LIRUC-102M이나 UC-203(모두, KURARAY CO., LTD.) 등을 들 수 있다.As a raw material polymer (P1) usable in the production method of (2), for example, LIRUC-102M or UC-203 (both are KURARAY CO., LTD.), which are polyisoprene having an ester bond with a methacryloyl group in the side chain. ), etc.

공중합체(P)의 상기(3)의 제조방법에 대하여 설명한다. 상기(3)의 (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을, 원료 중합체(P1)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외의 단위가 측쇄에 가지는 중합성 작용기에 결합하는 방법에서는, 디엔 및/또는 올레핀과, 중합성 작용기(중합성 이중결합)를 가지는 불포화 단량체를 공중합하거나, 디엔 및/또는 올레핀과, 카복실기 또는 그 무수물기, 에폭시기, 하이드록실기, 또는 이소시아네이트기를 가지는 작용기를 가지는 불포화 단량체를 공중합하고, 추가로 상기에서 설명한 반응성 작용기를 가지는 래디컬 중합성 화합물과 반응시키는 것에 의해, 원료 중합체(P1)를 얻을 수 있다. 혹은, 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 (공)중합체를, 중합성 작용기(중합성 이중결합)를 가지는 불포화 단량체와 중합하거나, 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 (공)중합체를, 카복실기 또는 그 무수물기, 에폭시기, 하이드록실기, 또는 이소시아네이트기를 가지는 불포화 단량체와 중합하고, 추가로 상기에서 설명한 반응성 작용기를 가지는 래디컬 중합성 화합물과 반응시키는 것에 의해, 원료 중합체(P1)를 얻을 수 있다. 이렇게 해서 수득된 원료 중합체(P1)의 존재 하에서, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합시키는 것에 의해, 공중합체(P)가 수득된다. 수득되는 공중합체(P)는 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)의 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외의 단위에 결합한 것이 된다.A method for producing the copolymer (P) (3) will be described. In the method of bonding the monomer component containing the (meth)acrylic monomer of (3) to a polymerizable functional group having a unit other than the diene and/or olefin-derived unit of the raw material polymer (P1) on the side chain, diene and/ Or an olefin and an unsaturated monomer having a polymerizable functional group (polymerizable double bond), or a diene and/or an olefin and a carboxyl group or an anhydride group thereof, an epoxy group, a hydroxyl group, or an unsaturated monomer having a functional group having an isocyanate group The raw material polymer (P1) can be obtained by copolymerizing and further reacting with the radical polymerizable compound having a reactive functional group described above. Alternatively, a (co)polymer having units derived from diene and/or olefin is polymerized with an unsaturated monomer having a polymerizable functional group (polymerizable double bond), or a (co)polymer having units derived from diene and/or olefin is prepared. , By polymerizing with an unsaturated monomer having a carboxyl group or its anhydride group, an epoxy group, a hydroxyl group, or an isocyanate group, and reacting with a radically polymerizable compound having the reactive functional group described above to obtain a raw material polymer (P1). I can. In the presence of the thus obtained raw material polymer (P1), the copolymer (P) is obtained by polymerizing the monomer component containing the (meth)acrylic monomer. In the obtained copolymer (P), the polymer chain (B) is bonded to a unit other than the unit derived from the diene and/or olefin of the polymer chain (A).

디엔 및/또는 올레핀, 또는 이들에 유래하는 단위를 가지는 (공)중합체를 중합성 작용기를 가지는 불포화 단량체와 중합시키는 경우, 중합성 작용기를 가지는 불포화 단량체로서는 다관능 (메트)아크릴레이트, 비닐에테르기 함유 (메트)아크릴레이트, 알릴기 함유 (메트)아크릴레이트 등의 다관능 (메트)아크릴계 화합물, 다관능 비닐에테르, 다관능 알릴계 화합물, 다관능 방향족 비닐 등을 들 수 있다.When the (co)polymer having a diene and/or olefin, or a unit derived therefrom is polymerized with an unsaturated monomer having a polymerizable functional group, polyfunctional (meth)acrylate, vinyl ether group as the unsaturated monomer having a polymerizable functional group Polyfunctional (meth)acrylic compounds such as containing (meth)acrylate and allyl group containing (meth)acrylate, polyfunctional vinyl ether, polyfunctional allyl compounds, and polyfunctional aromatic vinyls.

다관능 (메트)아크릴레이트로서는 예를 들면, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 알킬렌옥사이드디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스아크릴산, 디알킬-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트 등을 들 수 있다.Examples of polyfunctional (meth)acrylates include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, and bisphenol. A alkylene oxide di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, 2,2'-[oxybis(methylene)]bisacrylic acid, dialkyl-2,2'-[oxybis(methylene) ]Bis-2-propenoate, etc. are mentioned.

비닐에테르기 함유 (메트)아크릴레이트로서는 예를 들면, (메트)아크릴산 2-비닐옥시에틸, (메트)아크릴산 4-비닐옥시부틸, (메트)아크릴산 2-(비닐옥시에톡시)에틸 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl ether group-containing (meth)acrylate include 2-vinyloxyethyl (meth)acrylate, 4-vinyloxybutyl (meth)acrylate, and 2-(vinyloxyethoxy)ethyl (meth)acrylate. I can.

알릴기 함유 (메트)아크릴레이트로서는 예를 들면, (메트)아크릴산 알릴, α-알릴옥시메틸아크릴산 메틸, α-알릴옥시메틸아크릴산 스테아릴, α-알릴옥시메틸아크릴산 2-데실테트라데실 등을 들 수 있다.Examples of the allyl group-containing (meth)acrylate include allyl (meth)acrylate, methyl α-allyloxymethylacrylate, stearyl α-allyloxymethylacrylate, 2-decyltetradecyl α-allyloxymethylacrylate, and the like. I can.

다관능 비닐에테르로서는 예를 들면, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 폴리에틸렌글리콜디비닐에테르, 헥산디올디비닐에테르, 비스페놀 A 알킬렌옥사이드디비닐에테르, 트리메틸올프로판트리비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of polyfunctional vinyl ethers include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, bisphenol A alkylene oxide divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, etc. Can be mentioned.

다관능 알릴계 화합물로서는 예를 들면, 에틸렌글리콜디알릴에테르, 디에틸렌글리콜디알릴에테르, 폴리에틸렌글리콜디알릴에테르, 헥산디올디알릴에테르, 비스페놀 A 알킬렌옥사이드디알릴에테르, 트리메틸올프로판트리알릴에테르, 디트리메틸올프로판테트라알릴에테르 등의 다관능 알릴에테르; 트리알릴이소시아누레이트 등의 다관능 알릴기 함유 이소시아누레이트; 프탈산디알릴, 디펜산디알릴 등의 다관능 알릴에스테르; 비스알릴나디이미드 화합물 등; 비스알릴나디이미드 화합물 등을 들 수 있다.Examples of polyfunctional allyl compounds include ethylene glycol diallyl ether, diethylene glycol diallyl ether, polyethylene glycol diallyl ether, hexanediol diallyl ether, bisphenol A alkylene oxide diallyl ether, trimethylolpropane triallyl ether. And polyfunctional allyl ethers such as ditrimethylolpropane tetraallyl ether; Polyfunctional allyl group-containing isocyanurate such as triallyl isocyanurate; Polyfunctional allyl esters such as diallyl phthalate and diallyl difenate; Bisallylnadiimide compounds and the like; Bisallylnadiimide compounds, etc. are mentioned.

다관능 방향족 비닐로서는 예를 들면, 디비닐벤젠 등을 들 수 있다.As polyfunctional aromatic vinyl, divinylbenzene etc. are mentioned, for example.

디엔 및/또는 올레핀, 또는 이들에 유래하는 단위를 가지는 (공)중합체를, 카복실기 또는 그 무수물기, 에폭시기, 하이드록실기, 또는 이소시아네이트기를 가지는 작용기를 가지는 불포화 단량체와 중합시키는 경우, 수득되는 중합체(이하, 「원료 중합체(P3)」라고 부른다)는 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 동시에, 디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위 이외의 단위를 가지고, 당해 다른 단위의 측쇄에 카복실기 또는 그 무수물기, 에폭시기, 하이드록실기, 또는 이소시아네이트기를 가지는 작용기가 결합한 것이 된다. 원료 중합체(P3)로서는 예를 들면, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체, 에틸렌-2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-글리시딜(메트)아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-폴리에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐-(메트)아크릴산 공중합체, 에틸렌-에틸(메트)아크릴레이트-(무수)말레산 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐-(무수)말레산 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐-2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐-글리시딜(메트)아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐-폴리에틸렌글리콜모노 (메트)아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체의 부분 비누화물 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체, 에틸렌-에틸(메트)아크릴레이트-(무수)말레산 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐-글리시딜(메트)아크릴레이트 공중합체가 바람직하다.A polymer obtained by polymerizing a (co)polymer having a diene and/or olefin, or a unit derived therefrom with an unsaturated monomer having a functional group having a carboxyl group or an anhydride group thereof, an epoxy group, a hydroxyl group, or an isocyanate group (Hereinafter referred to as ``raw material polymer (P3)'') has a unit derived from diene and/or olefin, and has units other than units derived from diene and/or olefin, and has a carboxyl group or its A functional group having an anhydride group, an epoxy group, a hydroxyl group, or an isocyanate group is bonded. As the raw material polymer (P3), for example, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-2-hydroxyethyl (meth)acrylate copolymer, ethylene-glycidyl (meth)acrylate copolymer, ethylene-polyethylene Glycol mono(meth)acrylate copolymer, ethylene-vinyl acetate-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl(meth)acrylate-(anhydrous) maleic acid copolymer, ethylene-vinyl acetate-(anhydrous) maleic acid copolymer Copolymer, ethylene-vinyl acetate-2-hydroxyethyl (meth)acrylate copolymer, ethylene-vinyl acetate-glycidyl (meth)acrylate copolymer, ethylene-vinyl acetate-polyethylene glycol mono (meth)acrylate copolymer Coalescence, partial saponification of ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Among these, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl(meth)acrylate-(anhydrous)maleic acid copolymer, ethylene-acetic acid Vinyl-glycidyl (meth)acrylate copolymers are preferred.

원료 중합체(P3)와 상기에서 설명한 반응성 작용기를 가지는 래디컬 중합성 화합물과 반응시키는 것에 의해, 원료 중합체(P1)가 수득된다. 원료 중합체(P3)가 가지는 작용기와 래디컬 중합성 화합물의 반응성 작용기의 상세는 상기의 (2)의 방법에서의 이것들의 설명이 참조된다.The raw material polymer (P1) is obtained by reacting the raw material polymer (P3) with the radically polymerizable compound having the reactive functional group described above. For details of the functional groups possessed by the raw material polymer (P3) and the reactive functional groups of the radically polymerizable compound, the description of these in the method (2) above is referred to.

상기(2)의 방법에서의 원료 중합체(P2)와 래디컬 중합성 화합물과의 반응, 혹은 상기(3)의 방법에서의 원료 중합체(P3)와 래디컬 중합성 화합물 반응에서는 원료 중합체(P2) 또는 원료 중합체(P3) 중의 상기 작용기 1당량에 대하여, 래디컬 중합성 화합물의 반응성 작용기를 0.1∼10당량이 되도록 배합하여 반응시키는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 최종적으로 수득되는 공중합체(P)의 수율을 높일 수 있다.In the reaction of the raw material polymer (P2) and the radical polymerizable compound in the method (2), or in the reaction of the raw material polymer (P3) and the radical polymerizable compound in the method (3), the raw material polymer (P2) or the raw material It is preferable to mix and react so that 0.1 to 10 equivalents of the reactive functional groups of the radically polymerizable compound per 1 equivalent of the functional groups in the polymer (P3). Thereby, the yield of the copolymer (P) finally obtained can be improved.

상기의 반응은 적당한 유기용매 중에서 실시하는 것이 바람직하고, 유기용매로서는 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 부틸아세테이트, 셀로솔브아세테이트 등을 들 수 있다. 반응온도는 통상 20℃∼150℃, 바람직하게는 50℃∼120℃이다.The above reaction is preferably carried out in a suitable organic solvent, and examples of the organic solvent include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl acetate, cellosolve acetate, and the like. The reaction temperature is usually 20°C to 150°C, preferably 50°C to 120°C.

원료 중합체(P2) 또는 원료 중합체(P3)와 래디컬 중합성 화합물 반응은 촉매 존재 하에서 실시하는 것이 바람직하다. 촉매로서는 에스테르화 반응에서는 산 혹은 염기성 화합물, 예를 들면 황산, 파라톨루엔 설폰산, 염화아연, 피리딘, 트리에틸아민, 디메틸벤질아미노 등을 사용할 수 있고, 우레탄화 반응에서는 예를 들면 디부틸 주석 라우레이트 등을 사용할 수 있다.It is preferable that the reaction of the raw material polymer (P2) or the raw material polymer (P3) with the radical polymerizable compound is carried out in the presence of a catalyst. As a catalyst, an acid or a basic compound such as sulfuric acid, paratoluene sulfonic acid, zinc chloride, pyridine, triethylamine, dimethylbenzylamino, etc. can be used in the esterification reaction, and in the urethanization reaction, for example, dibutyl tin laur Rate, etc. can be used.

반응 시에는 비닐 단량체의 호모폴리머 생성을 방지하기 위해서, 산소 또는 공기 분위기 하에서 반응시키고, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 페노티아진 등의 중합금지제를 적당량 반응계 중에 첨가하는 것도 바람직하다.During the reaction, in order to prevent the formation of a homopolymer of the vinyl monomer, it is preferable to react in an oxygen or air atmosphere, and to add an appropriate amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, etc. to the reaction system.

상기 (1)∼(3)의 방법에서는, 상기와 같이 해서 수득된 원료 중합체(P1)의 존재 하, (메트)아크릴계 단량체를 포함(필요에 따라서 환 구조 내에 중합성 이중결합을 가지는 단량체를 또한 포함한다)하는 단량체 성분을 중합하는 것에 의해, 공중합체(P)를 얻을 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 원료 중합체(P1)에 그라프트 중합하는 것에 의해, 공중합체(P)가 수득된다. (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 각 단량체 성분의 사용량은 최종적으로 수득되는 폴리머 쇄(B) 중의 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율이 소망하는 범위 내가 되도록 적당하게 조정한다. 중합공정에 있어서 겔화물의 생성을 억제하는 것이 용이한 점에서는, 상기(1)의 방법에 의해, 원료 중합체(P1)의 존재 하, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합하는 것이 바람직하다. 또, 상기 (2), (3)의 방법에서도, 중합반응 시간을 짧게 설정하는 등 중합반응을 제어하는 것에 의해, 겔화물의 발생을 억제할 수 있다.In the above methods (1) to (3), in the presence of the raw material polymer (P1) obtained as described above, a (meth)acrylic monomer is included (if necessary, a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure is further The copolymer (P) can be obtained by polymerizing the monomer component to be included). Preferably, a copolymer (P) is obtained by graft polymerization of a monomer component containing a (meth)acrylic monomer onto a raw material polymer (P1). The amount of each monomer component containing the (meth)acrylic monomer is appropriately adjusted so that the content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic acid ester in the finally obtained polymer chain (B) falls within a desired range. It is preferable to polymerize a monomer component containing a (meth)acrylic monomer in the presence of a raw material polymer (P1) by the method of (1) from the viewpoint of being easy to suppress the formation of a gelled product in the polymerization step. Do. Further, also in the methods (2) and (3) above, the generation of a gelled product can be suppressed by controlling the polymerization reaction such as shortening the polymerization reaction time.

단량체 성분의 중합은 벌크 중합법, 용액 중합법, 유화 중합법, 현탁 중합법 등의 공지 중합법을 사용해서 실시할 수 있지만, 용액 중합법을 사용하는 것이 바람직하다. 용액 중합법을 사용하면, 공중합체(P)로의 미소한 이물의 혼입을 억제할 수 있고, 공중합체(P)를 광학재료 용도 등에 호적하게 적용하기 쉬워진다.The polymerization of the monomer component can be carried out using a known polymerization method such as a bulk polymerization method, a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, and a suspension polymerization method, but it is preferable to use a solution polymerization method. When the solution polymerization method is used, it is possible to suppress the incorporation of minute foreign matter into the copolymer (P), and it becomes easy to apply the copolymer (P) suitably for optical material applications and the like.

중합형식으로서는 예를 들면, 배치중합법, 연속중합법의 어느 것이나(모두) 사용할 수 있다. 중합의 때, 단량체 성분은 일괄에서 투입해도 잘, 분할 첨가할 수 있다.As a polymerization mode, either (both) of a batch polymerization method and a continuous polymerization method can be used, for example. In the case of polymerization, the monomer components can be added in batches or can be added in portions.

중합용매는 단량체 성분의 조성에 따라서 적당하게 선택할 수 있고, 통상의 래디컬 중합 반응에서 사용되는 유기용매를 사용할 수 있다. 구체적으로는 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논 등의 케톤류; 테트라하이드로푸란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아니솔 등의 에테르류; 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트 등의 에스테르류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올 등의 알코올류; 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 부티로니트릴, 벤조니트릴 등의 니트릴류; 클로로폼; 디메틸설폭사이드 등을 들 수 있다. 이것들의 용매는, 1종만을 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.The polymerization solvent can be appropriately selected according to the composition of the monomer component, and an organic solvent used in a conventional radical polymerization reaction can be used. Specifically, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and ethylbenzene; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and anisole; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxybutyl acetate; Cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; Alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, and n-butanol; Nitriles such as acetonitrile, propionitrile, butyronitrile and benzonitrile; Chloroform; Dimethyl sulfoxide, etc. are mentioned. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

원료 중합체(P1)와 단량체 성분과의 중합반응은 중합촉매(중합개시제)의 존재 하에서 실시하는 것이 바람직하다. 중합촉매로서는 예를 들면, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노 프로판)ㆍ디하이드로클로라이드, 디메틸-2, 2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 4,4'-아조비스(4-시아노펜탄산) 등의 아조화합물; 과황산 칼륨 등의 과황산염류; 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠하이드로퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-아밀퍼옥시옥토에이트, t-아밀퍼옥시이소노나노에이트, t-아밀퍼옥시이소프로필카보네이트, t-아밀퍼옥시2-에틸헥실카보네이트 등의 유기 과산화물 등을 사용할 수 있다. 이것들은 1종만을 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다. 또, 상기(1)의 방법에서는 수소 인장력이 강한 중합촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 그러한 중합촉매로서 유기 과산화물을 사용하는 것이 바람직하다. 중합촉매의 사용량은 예를 들면, 단량체 성분 100질량부에 대하여 0.01∼1질량부로 하는 것이 바람직하다.The polymerization reaction between the raw material polymer (P1) and the monomer component is preferably carried out in the presence of a polymerization catalyst (polymerization initiator). As a polymerization catalyst, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane)·dihydrochloride, dimethyl-2,2'-azobis(2- Azo compounds such as methylpropionate) and 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid); Persulfates such as potassium persulfate; Cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-amylperoxy-2-ethylhexano Organic peroxides, such as 8, t-amyl peroxy octoate, t-amyl peroxy isononanoate, t-amyl peroxy isopropyl carbonate, and t-amyl peroxy 2-ethylhexyl carbonate, can be used. These may use only 1 type, and may use 2 or more types together. In the method of (1), it is preferable to use a polymerization catalyst having a strong hydrogen tensile force, and an organic peroxide is preferably used as such a polymerization catalyst. The amount of the polymerization catalyst to be used is preferably 0.01 to 1 part by mass based on 100 parts by mass of the monomer component.

원료 중합체(P1)와 단량체 성분의 각사용량에 대하여는, 원료 중합체(P1)는, 원료 중합체(P1)와 단량체 성분의 합계 100질량부에 대하여, 0.5질량부 이상이 바람직하고, 1질량부 이상이 더 바람직하고, 3질량부 이상이 더욱 바람직하고, 또 50질량부 이하가 바람직하고, 30질량부 이하가 더 바람직하고, 20질량부 이하가 더욱 바람직하다. 단량체 성분은 원료 중합체(P1)와 단량체 성분의 합계 100질량부 에 대하여, 50질량부 이상이 바람직하고, 70질량부 이상이 더 바람직하고, 80질량부 이상이 더욱 바람직하고, 또 99질량부 이하가 바람직하고, 98질량부 이하가 더 바람직하고, 97질량부 이하가 더욱 바람직하다.Regarding the respective usage amounts of the raw material polymer (P1) and the monomer component, the raw material polymer (P1) is preferably 0.5 parts by mass or more, and 1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the total of the raw material polymer (P1) and the monomer component. It is more preferable, 3 mass parts or more is still more preferable, 50 mass parts or less is preferable, 30 mass parts or less is more preferable, and 20 mass parts or less is still more preferable. The monomer component is preferably 50 parts by mass or more, more preferably 70 parts by mass or more, even more preferably 80 parts by mass or more, and 99 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total of the raw material polymer (P1) and the monomer component. Is preferable, 98 parts by mass or less are more preferable, and 97 parts by mass or less are still more preferable.

반응액 중의 원료 중합체(P1)의 농도는 1질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 더 바람직하고, 5질량% 이상이 더 바람직하고, 또 50질량% 이하가 바람직하고, 30질량% 이하가 더 바람직하고, 20질량% 이하가 더욱 바람직하다. 반응액 중의 단량체 성분의 농도는 5질량% 이상이 바람직하고, 10질량% 이상이 더 바람직하고, 또 80질량% 이하가 바람직하고, 70질량% 이하가 더 바람직하다. 반응액 중의 용매농도는, 10질량% 이상이 바람직하고, 20질량% 이상이 더 바람직하고, 또 97질량% 이하가 바람직하고, 95질량% 이하가 더 바람직하고, 90질량% 이하가 더욱 바람직하고, 80질량% 이하가 더욱 더 바람직하다. 중합반응 중에 원료 중합체(P1), 단량체 성분, 중합촉매, 반응용매 등을 적당하게 추가하는 것도 가능하다.The concentration of the raw material polymer (P1) in the reaction solution is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and preferably 50% by mass or less, and 30% by mass or less. Is more preferable, and 20 mass% or less is still more preferable. The concentration of the monomer component in the reaction solution is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and more preferably 80% by mass or less, and more preferably 70% by mass or less. The solvent concentration in the reaction solution is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and more preferably 97% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, even more preferably 90% by mass or less, and , 80% by mass or less is even more preferable. It is also possible to appropriately add a raw material polymer (P1), a monomer component, a polymerization catalyst, a reaction solvent, etc. during the polymerization reaction.

중합반응은 질소가스 등의 불활성 가스 분위기 또는 기류하에서 실시하는 것이 바람직하다. 잔존 단량체를 적게 하기 위해서, 중합개시제로서 아조비스계 화합물과 과산화물을 병용할 수도 있다. 반응온도는 50℃∼200℃가 바람직하다. 반응시간은 공중합반응의 진행 정도나, 겔화물의 생성의 정도를 보면서 적당하게 조정하면 되고, 예를 들면 1시간∼20시간 실시하는 것이 바람직하다.The polymerization reaction is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or an air stream. In order to reduce residual monomers, an azobis-based compound and a peroxide may be used together as a polymerization initiator. The reaction temperature is preferably 50°C to 200°C. The reaction time may be appropriately adjusted while looking at the degree of progress of the copolymerization reaction and the degree of formation of a gelled product, and is preferably carried out for, for example, 1 hour to 20 hours.

상기의 중합공정에 의해, (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 포함하는 폴리머 쇄가 폴리머 쇄(A)에 결합한 공중합체가 수득된다. 중합공정에 있어서, 단량체 성분으로서 (메트)아크릴계 단량체와 환 구조 내에 중합성 이중결합을 가지는 단량체(예를 들면, 무수 말레산이나 말레이미드)를 사용하는 경우에는, (메트)아크릴 단위와 환 구조 단위(무수 말레산 구조, 말레이미드 구조)을 가지는 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)에 결합한 공중합체(P)가 수득된다.By the above polymerization step, a copolymer in which a polymer chain containing a unit derived from a (meth)acrylic monomer is bonded to the polymer chain (A) is obtained. In the polymerization step, when a (meth)acrylic monomer and a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure (for example, maleic anhydride or maleimide) are used as the monomer component, the (meth)acrylic unit and the ring structure A copolymer (P) in which a polymer chain (B) having units (maleic anhydride structure, maleimide structure) is bonded to the polymer chain (A) is obtained.

한편, 폴리머 쇄(B)의 환 구조 단위로서, 락톤환 구조, 무수 글루타르산 구조, 또는 글루탈이미드 구조를 가지는 공중합체(P)를 얻는 경우에는, 중합공정에 계속해서 환 구조 형성공정을 실시하는 것이 바람직하다. 환 구조 형성에서는 중합공정에서 형성된 (메트)아크릴 단위를 가지는 폴리머 쇄의 주쇄에 환 구조를 형성한다. 구체적으로는, 중합공정에서 형성된 (메트)아크릴 단위를 가지는 폴리머 쇄의 인접 (메트)아크릴 단위의 치환기끼리를 축합반응 시켜서, 폴리머 쇄의 주쇄에 환 구조를 형성한다. 축합반응에는 에스테르화 반응, 산무수물화 반응, 아미드화 반응, 이미드화 반응 등이 포함된다. 예를 들면, 인접하는 (메트)아크릴 단위에 2개의 카복실산기를 산 무수물화하는 것에 의해서, 무수 글루타르산 구조를 형성할 수 있고, 이미드화하는 것에 의해서 글루탈이미드 구조를 형성할 수 있다. 또 인접하는 (메트)아크릴 단위 가운데 한쪽이 하이드록실기나 아미노기 등의 프로톤성 수소원자 함유기를 가지는 경우에는, 이 한쪽의 (메트)아크릴 단위의 프로톤성 수소원자 함유기와 다른 쪽의 (메트)아크릴 단위의 카복실산기를 축합하는 것에 의해서, 락톤환 구조를 형성할 수 있다.On the other hand, in the case of obtaining a copolymer (P) having a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, or a glutalimide structure as the ring structural unit of the polymer chain (B), a ring structure formation step following the polymerization step It is preferable to carry out. In ring structure formation, a ring structure is formed in the main chain of a polymer chain having (meth)acrylic units formed in the polymerization step. Specifically, a condensation reaction between the substituents of the adjacent (meth)acrylic units of the polymer chain having the (meth)acrylic units formed in the polymerization step is carried out to form a ring structure in the main chain of the polymer chain. Condensation reaction includes esterification reaction, acid anhydride reaction, amidation reaction, imidation reaction, and the like. For example, a glutaric anhydride structure can be formed by acid anhydride of two carboxylic acid groups in an adjacent (meth)acrylic unit, and a glutalimide structure can be formed by imidation. In addition, when one of the adjacent (meth)acrylic units has a protic hydrogen atom-containing group such as a hydroxyl group or an amino group, the protonic hydrogen atom-containing group of the one (meth)acrylic unit and the other (meth)acrylic By condensing the carboxylic acid group of the unit, a lactone ring structure can be formed.

환 구조 형성공정에 있어서, 인접하는 (메트)아크릴 단위의 축합반응은 촉매(환화 촉매)의 존재 하에서 실시하는 것이 바람직하다. 산, 염기 및 그것들의 염은 유기물일 수도, 무기물일 수도 있고, 특별하게 한정되지 않는다. 그 중에서도, 환화반응의 촉매로서는 유기 인 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 유기 인 화합물을 환화 촉매로서 사용하는 것에 의해, 축합반응을 효율적으로 실시할 수 있는 동시에, 수득되는 공중합체(P)의 착색을 저감시킬 수 있다.In the ring structure formation step, the condensation reaction of adjacent (meth)acrylic units is preferably carried out in the presence of a catalyst (cyclization catalyst). Acids, bases and salts thereof may be organic or inorganic, and are not particularly limited. Among them, it is preferable to use an organophosphorus compound as a catalyst for the cyclization reaction. By using an organophosphorus compound as a cyclization catalyst, the condensation reaction can be carried out efficiently, and coloration of the obtained copolymer (P) can be reduced.

환화 촉매로서 사용할 수 있는 유기 인 화합물로서는 예를 들면, 알킬(아릴)아포스폰산 및 이것들의 모노에스테르 또는 디에스테르; 디알킬(아릴)포스핀산 및 이것들의 에스테르; 알킬(아릴)포스폰산 및 이것들의 모노에스테르 또는 디에스테르; 알킬(아릴)아포스핀산 및 이것들의 에스테르; 아인산 모노에스테르, 디에스테르 또는 트리에스테르; 인산 메틸, 인산 에틸, 인산 2-에틸헥실, 인산 옥틸, 인산 이소데실, 인산 라우릴, 인산 스테아릴, 인산 이소스테아릴, 인산 페닐, 인산 디메틸, 인산 디에틸, 인산 디-2-에틸헥실, 인산 디이소데실, 인산 디라우릴, 인산 디스테아릴, 인산 디이소스테아릴, 인산 디페닐, 인산 트리메틸, 인산 트라이에틸, 인산 트리이소데실, 인산 트리라우릴, 인산 트리스테아릴, 인산 트리이소스테아릴, 트라이페 포스페이트 등의 인산 모노에스테르, 디에스테르 또는 트리에스테르;모노-, 디- 또는 트리-알킬(아릴)포스핀; 알킬(아릴)할로겐포스핀; 산화 모노-, 디- 또는 트리-알킬(아릴)포스핀; 할로겐화 테트라알킬(아릴)포스포늄 등을 들 수 있다. 이것들은 1종만을 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다. 이것들 중에서도, 촉매활성이 높고, 착색성이 낮은 점에서, 인산 모노에스테르 또는 디에스테르가 특히 바람직하다. 환화 촉매의 사용량은 예를 들면, 중합공정에서 수득된 공중합체 100질량부에 대하여 0.001∼1질량부로 하는 것이 바람직하다.Examples of organic phosphorus compounds that can be used as cyclization catalysts include alkyl (aryl) aphosphonic acids and monoesters or diesters thereof; Dialkyl(aryl)phosphinic acid and esters thereof; Alkyl (aryl) phosphonic acids and monoesters or diesters thereof; Alkyl(aryl)phosphinic acid and esters thereof; Phosphorous acid monoester, diester or tryster; Methyl phosphate, ethyl phosphate, 2-ethylhexyl phosphate, octyl phosphate, isodecyl phosphate, lauryl phosphate, stearyl phosphate, isostearyl phosphate, phenyl phosphate, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, di-2-ethylhexyl phosphate, Diisodecyl phosphate, dilauryl phosphate, distearyl phosphate, diisostearyl phosphate, diphenyl phosphate, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triisodecyl phosphate, trilauryl phosphate, tristearyl phosphate, triisoste phosphate Phosphoric acid monoesters, diesters or triesters such as aryl and tripe phosphate; mono-, di- or tri-alkyl (aryl) phosphine; Alkyl(aryl)halogenphosphine; Oxidized mono-, di- or tri-alkyl (aryl) phosphines; And halogenated tetraalkyl (aryl) phosphonium. These may use only 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, phosphoric acid monoester or diester is particularly preferred from the viewpoint of high catalytic activity and low colorability. The amount of the cyclization catalyst used is preferably 0.001 to 1 part by mass based on 100 parts by mass of the copolymer obtained in the polymerization step.

환 구조 형성공정에서의 반응온도는 50℃∼300℃가 바람직하다. 반응시간은 축합반응의 진행 정도를 보면서 적당하게 조정하면 되고, 예를 들면 5분∼6시간 실시하는 것이 바람직하다.The reaction temperature in the ring structure formation step is preferably 50°C to 300°C. The reaction time may be appropriately adjusted while watching the progress of the condensation reaction, and, for example, it is preferably carried out for 5 minutes to 6 hours.

상기한 바와 같이 중합공정, 혹은 중합공정과 환 구조 형성공정을 실시하는 것에 의해, 공중합체(P)를 함유하는 수지 용액이 수득된다. 이렇게 해서 수득된 수지 용액은 필터로 여과함으로써, 이물을 제거하는 것이 바람직하다. 따라서 공중합체(P)의 제조방법은 중합공정 또는 환 구조 형성공정에서 수득된 수지 용액을 여과하는 공정(여과공정)을 추가로 가지는 것이 바람직하다. 여과공정을 실시하는 것에 의해, 공중합체(P) 중의 이물량을 저감시킬 수 있다. 그 때문에 공중합체(P)를 광학필름의 원료로 사용하는 경우 등, 표면요철이나 결점이 적고, 투명성이 높은 광학필름을 얻기 쉬워진다. 또 본 발명에서는 공중합체(P)의 중합공정에서 겔화물의 발생량을 낮게 억제할 수 있기 때문에, 여과공정에 있어서 필터에 걸리는 부하를 억제할 수 있고, 장시간의 연속 여과가 가능하게 된다. 그 때문에 높은 생산성으로 이물량이 적은 공중합체(P)를 얻을 수 있다. 여과공정은 중합공정 또는 환 구조 형성공정에 이어서 연속적으로 실시할 수 있다.As described above, by performing the polymerization step or the polymerization step and the ring structure forming step, a resin solution containing the copolymer (P) is obtained. It is preferable to remove foreign matter by filtering the resin solution thus obtained with a filter. Therefore, it is preferable that the method for producing the copolymer (P) further includes a step (filtration step) of filtering the resin solution obtained in the polymerization step or the ring structure forming step. By performing the filtration step, the amount of foreign matter in the copolymer (P) can be reduced. Therefore, when the copolymer (P) is used as a raw material for an optical film, there are few surface irregularities and defects, and it becomes easy to obtain an optical film with high transparency. Further, in the present invention, since the generation amount of the gelled product in the polymerization step of the copolymer (P) can be suppressed low, the load applied to the filter in the filtration step can be suppressed, and continuous filtration for a long time is possible. Therefore, the copolymer (P) with a small amount of foreign matter can be obtained with high productivity. The filtration process can be carried out continuously following the polymerization process or the ring structure formation process.

여과에 사용하는 필터로서는 종래 공지의 필터를 사용할 수 있고, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 리프디스크 필터, 캔들 필터, 팩디스크 필터, 원통형 필터 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 유효 여과 면적이 큰 리프디스크 필터 또는 캔들 필터가 바람직하다.As a filter used for filtration, a conventionally known filter can be used, and although not particularly limited, for example, a leaf disk filter, a candle filter, a pack disk filter, a cylindrical filter, or the like can be used. Among them, leaf disc filters or candle filters having a large effective filtration area are preferred.

필터의 여과 정도(포어 직경)은 통상은, 예를 들면 15㎛ 이하일 수 있다. 또, 공중합체(P)를 광학필름 등의 광학재료에 사용하는 경우에는, 그 광학적 결점 저감의 점에서 여과 정도는 10㎛ 이하가 바람직하고, 5㎛ 이하가 더 바람직하다. 여과 정도의 하한은 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면 0.2㎛ 이상이다.The degree of filtration (pore diameter) of the filter may be, for example, 15 μm or less. Further, when the copolymer (P) is used for an optical material such as an optical film, the degree of filtration is preferably 10 µm or less and more preferably 5 µm or less from the viewpoint of reducing optical defects. The lower limit of the degree of filtration is not particularly limited, and is, for example, 0.2 µm or more.

여과공정에서는 중합공정 혹은 환 구조 형성공정에서 수득된 공중합체(P)를 함유하는 수지 용액을 그 자체의 형태로 여과할 수도 있고, 용매로 희석 또는 용매에 분산시켜서 여과할 수도 있다. 공중합체(P)가 고체라면, 용융해서 소결 필터 등으로 여과할 수도 있고, 용매에 용해 또는 분산해서 여과할 수도 있다. 여과는 가온해서 실시할 수도, 또 가압 하에서 실시할 수도 있다.In the filtration step, the resin solution containing the copolymer (P) obtained in the polymerization step or the ring structure forming step may be filtered in its own form, or may be diluted with a solvent or dispersed in a solvent and filtered. If the copolymer (P) is a solid, it may be melted and filtered with a sintered filter or the like, or dissolved or dispersed in a solvent and filtered. Filtration may be performed by heating, or may be performed under pressure.

수지 용액을 필터 여과에 제공할 때의 용액온도는 중합용매의 비점 등에 따라서 적당하게 설정할 수 있는데, 예를 들면, 중합용매의 비점 이하가 바람직하고, 중합용매의 비점 -10℃ 이하가 더 바람직하다. 한편, 필터 여과에 사용하는 수지 용액의 온도가 너무 낮으면, 수지 용액의 점도가 증대하고, 기어펌프 등의 장치로의 부하가 증가할 우려가 있으므로, 필터 여과에 사용하는 수지 용액의 온도는 50℃ 이상이 바람직하고, 80℃ 이상이 더 바람직하다.When the resin solution is provided for filter filtration, the solution temperature can be appropriately set depending on the boiling point of the polymerization solvent, for example, preferably below the boiling point of the polymerization solvent, and more preferably below the boiling point of the polymerization solvent -10°C. . On the other hand, if the temperature of the resin solution used for filter filtration is too low, the viscosity of the resin solution may increase and the load on devices such as gear pumps may increase, so the temperature of the resin solution used for filter filtration is 50 It is preferably at least 80°C, and more preferably at least 80°C.

필터 여과에 사용하는 수지 용액의 점도는, 85℃에 있어서, 100Pa·s 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 80Pa·s 이하이다. 필터 여과에 사용하는 수지 용액의 점도가 너무 높으면, 필터 여과 시의 압손이 증대하고, 필터유닛이 파손되거나, 점도상승에 의한 필터 여과의 처리능력이 저하되거나 할 우려가 있다. 필터 여과에서의 압력손실은 2.5MPa 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 0.5MPa∼2.0MPa의 범위, 더욱 바람직하게는 0.5MPa∼1.5MPa의 범위이다.The viscosity of the resin solution used for filter filtration is preferably 100 Pa·s or less, and more preferably 80 Pa·s or less at 85°C. If the viscosity of the resin solution used for filter filtration is too high, the pressure loss during filter filtration may increase, the filter unit may be damaged, or the filter filtration treatment capacity may decrease due to an increase in viscosity. The pressure loss in filter filtration is preferably 2.5 MPa or less, more preferably 0.5 MPa to 2.0 MPa, and still more preferably 0.5 MPa to 1.5 MPa.

〔2. 수지 조성물〕〔2. Resin composition]

본 발명은 상기에 설명한 폴리머 쇄(A)와 폴리머 쇄(B)를 가지는 공중합체(P)를 함유하는 수지 조성물도 제공한다. 본 발명의 수지 조성물은 투명성, 기계적 강도(예를 들면, 충격강도 등), 내열성이 뛰어나고, 이들을 군형 있게 구비하는 동시에, 제조 시에 겔화물의 발생이 적은 것이 된다. 이하, 본 발명의 수지 조성물을 「수지 조성물(Q)」이라고 부른다.The present invention also provides a resin composition containing a copolymer (P) having a polymer chain (A) and a polymer chain (B) described above. The resin composition of the present invention is excellent in transparency, mechanical strength (for example, impact strength, etc.), and heat resistance, and at the same time as having them in a group form, there is little generation of gelatinous products during manufacture. Hereinafter, the resin composition of this invention is called "resin composition (Q)".

수지 조성물(Q)은 공중합체(P)를 수지성분으로 포함하고 있을 수도 있고, 다른 중합체를 수지성분으로 포함하고 있을 수도 있다. 수지 조성물(Q)이 다른 중합체를 포함하는 경우, 다른 중합체로서는 (메트)아크릴계 중합체를 바람직하게 사용할 수 있고, 이것에 의해 수지 조성물(Q)의 균질성이 높아지고, 수지 조성물(Q)의 투명성이나 내열성을 높이는 것이 용이해진다.The resin composition (Q) may contain the copolymer (P) as a resin component, or may contain another polymer as a resin component. When the resin composition (Q) contains another polymer, a (meth)acrylic polymer can be preferably used as the other polymer, whereby the homogeneity of the resin composition (Q) increases, and the transparency and heat resistance of the resin composition (Q) It becomes easy to increase.

(메트)아크릴계 중합체는 상기의 폴리머 쇄(B)에서 설명한 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 가지는 것일 수 있고, 바람직하게는, 상기의 폴리머 쇄(B)에서 설명한 (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위를 갖는다. (메트)아크릴계 중합체는 상기의 폴리머 쇄(B)에서 설명한 다른 불포화 단량체 유래의 단위를 가지고 있을 수도 있다. (메트)아크릴계 중합체는 수지 조성물(Q) 중에서의 공중합체(P)와의 상용성을 높이는 관점에서 공중합체(P)의 폴리머 쇄(B)에 포함되는 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 가지는 것이 더 바람직하다.The (meth)acrylic polymer may have a unit derived from the (meth)acrylic monomer described in the polymer chain (B), and preferably, a unit derived from the (meth)acrylic acid ester described in the polymer chain (B). Has. The (meth)acrylic polymer may have units derived from other unsaturated monomers described in the polymer chain (B). The (meth)acrylic polymer has a unit derived from a (meth)acrylic monomer contained in the polymer chain (B) of the copolymer (P) from the viewpoint of enhancing compatibility with the copolymer (P) in the resin composition (Q). More preferable.

(메트)아크릴계 중합체는 환 구조를 가지는 것이 바람직하고, 주쇄에 환 구조를 가지는 것이 더 바람직하다. 수지 조성물(Q)이, 주쇄에 환 구조를 가지는 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 것에 의해, 수지 조성물(Q)의 내열성을 높일 수 있다. (메트)아크릴계 중합체의 주쇄 환 구조로서는 락톤환 구조, 환상 이미드 구조(예를 들면, 말레이미드 구조, 글루탈이미드 구조등), 환상 무수물 구조(예를 들면, 무수 말레산 구조, 무수 글루타르산구조등) 등이 바람직하게 들 수 있고, 이것들의 환 구조의 상세한 것은, 상기의 폴리머 쇄(B)의 환 구조에 관한 설명이 참조된다. 그 중에서도, (메트)아크릴계 중합체는, 공중합체(P)의 폴리머 쇄(B)가 가지는 환 구조와 같은 환 구조를 주쇄에 가지는 것이 바람직하다.It is preferable that the (meth)acrylic polymer has a ring structure, and it is more preferable that it has a ring structure in the main chain. Since the resin composition (Q) contains a (meth)acrylic polymer having a ring structure in the main chain, the heat resistance of the resin composition (Q) can be improved. The main chain ring structure of the (meth)acrylic polymer is a lactone ring structure, a cyclic imide structure (for example, a maleimide structure, a glutalimide structure, etc.), a cyclic anhydride structure (for example, a maleic anhydride structure, an anhydride glue). Tarric acid structure, etc.) are preferably mentioned, and the description of the ring structure of the polymer chain (B) is referred to for details of these ring structures. Among them, it is preferable that the (meth)acrylic polymer has a ring structure similar to that of the polymer chain (B) of the copolymer (P) in its main chain.

(메트)아크릴계 중합체는 공중합체(P)의 폴리머 쇄(B)가 가지는 (메트)아크릴 단위를 가지는 동시에, 폴리머 쇄(B)가 가지는 환 구조 단위를 가지는 것이 바람직하다. 수지 조성물(Q)이 이러한 (메트)아크릴계 중합체를 함유하고 있으면, 공중합체(P)와의 상용성이 높아지고, 수지 조성물(Q)의 투명성이나 내열성을 높이는 것이 용이하게 되고, 또 수지 조성물(Q)의 조제도 용이해진다.It is preferable that the (meth)acrylic polymer has a (meth)acrylic unit of the polymer chain (B) of the copolymer (P) and a cyclic structural unit of the polymer chain (B). When the resin composition (Q) contains such a (meth)acrylic polymer, the compatibility with the copolymer (P) increases, and it becomes easy to improve the transparency and heat resistance of the resin composition (Q), and the resin composition (Q) It is also easier to prepare.

수지 조성물(Q)의 고형분 100질량% 중, 공중합체(P)의 함유 비율은 1질량% 이상이 바람직하고, 2질량% 이상이 더 바람직하고, 3질량% 이상이 더욱 바람직하고, 5질량% 이상이 더욱 더 바람직하고, 이것에 의해 수지 조성물(Q)의 기계적 강도를 높이기 쉬워진다. 수지 조성물(Q) 중의 공중합체(P)의 함유 비율의 상한은 특별하게 한정되지 않고, 수지 조성물(Q)은 공중합체(P)만으로 구성되어 있을 수도 있고, 수지 조성물(Q) 중, 공중합체(P)의 함유 비율이 90질량% 이하일 수도 있고, 70질량% 이하, 50질량% 이하, 40질량% 이하, 또는 30질량% 이하일 수도 있다. 수지 조성물(Q)의 고형분량은 수지 조성물(Q)이 용매를 포함하는 경우에는 용매를 제외하는 수지 조성물(Q)의 양을 의미한다.In 100% by mass of the solid content of the resin composition (Q), the content ratio of the copolymer (P) is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, even more preferably 3% by mass or more, and 5% by mass The above is even more preferable, and it becomes easy to increase the mechanical strength of the resin composition (Q) by this. The upper limit of the content ratio of the copolymer (P) in the resin composition (Q) is not particularly limited, and the resin composition (Q) may be composed of only the copolymer (P), and in the resin composition (Q), a copolymer The content ratio of (P) may be 90 mass% or less, 70 mass% or less, 50 mass% or less, 40 mass% or less, or 30 mass% or less. The solid amount of the resin composition (Q) means the amount of the resin composition (Q) excluding the solvent when the resin composition (Q) contains a solvent.

수지 조성물(Q)의 고형분 100질량% 중, 공중합체(P)의 폴리머 쇄(A)의 함유 비율은 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 더 바람직하고, 3질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 50질량% 이하가 바람직하고, 30질량% 이하가 더 바람직하고, 20질량% 이하가 더욱 바람직하다. 수지 조성물(Q) 중의 폴리머 쇄(A)의 함유 비율이 0.5질량% 이상이라면, 수지 조성물(Q)의 기계적 강도를 높이기 쉬워진다. 수지 조성물(Q) 중의 폴리머 쇄(A)의 함유 비율이 50질량% 이하라면, 수지 조성물(Q)의 투명성이나 내열성을 높이기 쉬워진다. 폴리머 쇄(A)의 함유 비율은 예를 들면 1H-NMR로 산출할 수 있다. In 100% by mass of the solid content of the resin composition (Q), the content ratio of the polymer chain (A) of the copolymer (P) is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and further 3% by mass or more. It is preferable, and 50 mass% or less is preferable, 30 mass% or less is more preferable, and 20 mass% or less is still more preferable. When the content ratio of the polymer chain (A) in the resin composition (Q) is 0.5% by mass or more, it becomes easy to increase the mechanical strength of the resin composition (Q). When the content ratio of the polymer chain (A) in the resin composition (Q) is 50% by mass or less, it becomes easy to increase the transparency and heat resistance of the resin composition (Q). The content ratio of the polymer chain (A) can be calculated by, for example, 1 H-NMR.

수지 조성물(Q)이 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 경우, 수지 조성물(Q)의 고형분 100질량% 중, (메트)아크릴계 중합체의 함유량은 1질량% 이상이 바람직하고, 20질량% 이상이 더 바람직하고, 30질량% 이상이 더욱 바람직하고, 또 99질량% 이하가 바람직하고, 95질량% 이하가 더 바람직하고, 90질량% 이하가 더욱 바람직하다.When the resin composition (Q) contains a (meth)acrylic polymer, in 100% by mass of the solid content of the resin composition (Q), the content of the (meth)acrylic polymer is preferably 1% by mass or more, and further 20% by mass or more. It is preferable, and 30 mass% or more is more preferable, 99 mass% or less is preferable, 95 mass% or less is more preferable, 90 mass% or less is still more preferable.

수지 조성물(Q)의 고형분 100질량% 중, 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체의 합계 함유 비율은 50질량% 이상이 바람직하고, 70질량% 이상이 더 바람직하고, 80질량% 이상이 더욱 바람직하고, 90질량% 이상이 더욱 더 바람직하다. 수지 조성물(Q) 중의 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체의 함유 비율의 상한은 특별하게 한정되지 않고, 수지 조성물(Q)은 실질적으로 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체만으로 구성될 수도 있고, 예를 들면 수지 조성물(Q)의 고형분 100질량% 중, 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체의 합계 함유 비율이 99질량% 이상일 수도 있다.In 100% by mass of the solid content of the resin composition (Q), the total content ratio of the copolymer (P) and the (meth)acrylic polymer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and 80% by mass or more. It is more preferable, and 90 mass% or more is still more preferable. The upper limit of the content ratio of the copolymer (P) and the (meth)acrylic polymer in the resin composition (Q) is not particularly limited, and the resin composition (Q) is substantially composed of only the copolymer (P) and (meth)acrylic polymer. May be, for example, in 100% by mass of the solid content of the resin composition (Q), the total content ratio of the copolymer (P) and the (meth)acrylic polymer may be 99% by mass or more.

수지 조성물(Q)은 (메트)아크릴계 중합체 이외의 중합체를 함유할 수도 있고, 그러한 중합체로서는 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 중합체, 폴리(4-메틸-1-펜텐) 등의 올레핀계 중합체; 염화비닐, 염소화 비닐계 수지 등의 할로겐 함유계 중합체; 폴리스티렌, 스티렌-메틸메타크릴산 공중합체, 스티렌-아크릴로나이트릴 중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 중합체; 폴리머 리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르; 나일론6, 나일론66, 나일론610 등의 폴리아미드; 폴리아세탈; 폴리카보네이트; 폴리페닐렌옥시드; 폴리페닐렌술피드; 폴리에테르에테르케톤; 폴리설폰; 폴리에테르설폰; 폴리옥시벤질렌; 폴리아미드이미드; 폴리부타디엔계 고무, (메트)아크릴계 고무를 배합한 ABS 수지나 ASA 수지 등의 고무질 중합체; 등을 들 수 있다.The resin composition (Q) may contain a polymer other than the (meth)acrylic polymer, and examples of such polymers include olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene polymer, and poly(4-methyl-1-pentene). Polymer; Halogen-containing polymers such as vinyl chloride and chlorinated vinyl resin; Styrene polymers such as polystyrene, styrene-methylmethacrylic acid copolymer, styrene-acrylonitrile polymer, and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer; Polyesters such as polymer riethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Polyamides such as nylon 6, nylon 66, and nylon 610; Polyacetal; Polycarbonate; Polyphenylene oxide; Polyphenylene sulfide; Polyetheretherketone; Polysulfone; Polyethersulfone; Polyoxybenzylene; Polyamide imide; Rubber polymers such as ABS resin and ASA resin in which polybutadiene rubber and (meth)acrylic rubber are blended; And the like.

수지 조성물(Q)은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위라면, 여러 첨가제를 포함하고 있을 수 있다. 첨가제로서는 예를 들면, 힌더드 페놀계, 인계, 황계 등의 산화방지제; 내광안정제, 내후안정제, 열안정제 등의 안정제; 유리섬유, 탄소섬유 등의 보강재; 자외선 흡수제; 근적외선 흡수제; 트리스(디브로모프로필)포스페이트, 트리알릴포스페이트, 산화 안티몬 등의 난연제; 위상차 상승제, 위상차 저감제, 위상차 안정제 등의 위상차 조정제; 음이온계, 카티온계, 비이온계의 계면활성제를 포함하는 대전방지제; 무기안료, 유기안료, 염료 등의 착색제; 유기 필러나 무기 필러; 수지 개질제; 유기 충전제나 무기 충전제; 등을 들 수 있다. 수지 조성물(Q)에서의 각 첨가제의 함유 비율은 바람직하게는 0∼5질량%, 더 바람직하게는 0∼2질량%의 범위 내이다.The resin composition (Q) may contain various additives as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of the additive include antioxidants such as hindered phenol, phosphorus, and sulfur; Stabilizers such as light stabilizers, weather stabilizers, and heat stabilizers; Reinforcing materials such as glass fiber and carbon fiber; Ultraviolet absorbers; Near-infrared absorbers; Flame retardants such as tris(dibromopropyl)phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; Phase difference adjusters such as a phase difference increasing agent, a phase difference reducing agent, and a phase difference stabilizer; Antistatic agents including anionic, cationic, and nonionic surfactants; Coloring agents such as inorganic pigments, organic pigments, and dyes; Organic or inorganic fillers; Resin modifiers; Organic or inorganic fillers; And the like. The content ratio of each additive in the resin composition (Q) is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass.

자외선 흡수제로서는 벤조페논 계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조에이트계 화합물, 트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물 등을 들 수 있고, 공지의 자외선 흡수제를 사용할 수 있다. 벤조페논계 화합물로서는 2,4-디하이드록시벤조페논, 4-n-옥틸옥시-2-하이드록시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 등을 들 수 있다. 살리실레이트계 화합물로서는 p-t-부틸페닐살리실레이트 등을 들 수 있다. 벤조에이트계 화합물로서는 2,4-디-t-부틸페닐-3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤조에이트 등을 들 수 있다. 트리아졸계 화합물로서는 2,2'-메틸렌비스 [4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 2-(3,5-디-tert-부틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-벤조트리아졸-2-일-4,6-디-tert-부틸페놀, 2-[5-클로로(2H)-벤조트리아졸-2-일]-4-메틸-6-t-부틸페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4, 6-디-t-부틸페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀 등을 들 수 있다. 트리아진계 화합물로서는 2-모노(하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 화합물이나 2,4-비스(하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 화합물, 2,4,6-트리스(하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 화합물 등을 들 수 있다. 시판하고 있는 자외선 흡수제로서는 예를 들면, 트리아진계 자외선 흡수제인 「TINUVIN(등록상표) 1577」, 「TINUVIN(등록상표) 460」, 「TINUVIN(등록상표) 477」 (BASF Japan Ltd.), 「ADK STAB(등록상표) LA-F70」 (ADEKA CORPORATION), 트리아졸계 자외선 흡수제인 「ADK STAB(등록상표) LA-31」 (ADEKA CORPORATION) 등을 들 수 있다. 자외선 흡수제는 1종만을 사용할 수도 있고, 2종류 이상을 병용할 수도 있다.Examples of the ultraviolet absorber include a benzophenone compound, a salicylate compound, a benzoate compound, a triazole compound, and a triazine compound, and known ultraviolet absorbers can be used. Examples of benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 4-n-octyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, and the like. I can. As a salicylate compound, p-t-butylphenyl salicylate, etc. are mentioned. Examples of the benzoate-based compound include 2,4-di-t-butylphenyl-3',5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzoate. As the triazole-based compound, 2,2'-methylenebis [4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-(2H-benzotriazol-2-yl)phenol], 2-(3,5 -Di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-p-cresol, 2-(2H-benzotriazole-2- Yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol, 2-benzotriazol-2-yl-4,6-di-tert-butylphenol, 2-[5-chloro(2H) -Benzotriazol-2-yl]-4-methyl-6-t-butylphenol, 2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4, 6-di-t-butylphenol, 2-(2H -Benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol, etc. are mentioned. Examples of triazine compounds include 2-mono (hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compounds, 2,4-bis (hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compounds, 2,4,6- And tris(hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compounds. As commercially available ultraviolet absorbers, for example, triazine-based ultraviolet absorbers "TINUVIN (registered trademark) 1577", "TINUVIN (registered trademark) 460", "TINUVIN (registered trademark) 477" (BASF Japan Ltd.), and "ADK" STAB (registered trademark) LA-F70" (ADEKA CORPORATION), a triazole-based ultraviolet absorber "ADK STAB (registered trademark) LA-31" (ADEKA CORPORATION), and the like. Only one type of ultraviolet absorber may be used, and two or more types may be used in combination.

산화방지제로서는 래디컬 포착 기능 또는 과산화물 분해 기능을 가지는 화합물을 사용할 수 있고, 공지의 산화 방지제를 사용할 수 있다. 산화 방지제로서는 예를 들면, 힌더드 페놀계 산화 방지제, 힌더드 아민계 산화방지제, 인계 산화방지제, 황계 산화방지제, 벤조트리아졸계 산화방지제, 벤조페논계 산화방지제, 히이드록실아민계 산화방지제, 살리실산 에스테르계 산화방지제, 및 트리아진계 산화방지제 등을 들 수 있다. 이것들의 산화방지제 중에서도, 바람직한 것으로서, 힌더드 페놀 계 산화 방지제, 힌더드 아민계 산화방지제, 인계 산화방지제, 황계 산화방지제를 들 수 있다. 더 바람직하게는 힌더드 페놀계 산화 방지제, 힌더드 아민계 산화방지제, 인계 산화방지제를 들 수 있다. 산화방지제는 1종만을 사용할 수도 있고, 2종류 이상을 병용할 수도 있다.As the antioxidant, a compound having a radical trapping function or a peroxide decomposition function can be used, and a known antioxidant can be used. Examples of antioxidants include hindered phenolic antioxidants, hindered amine antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, benzotriazole antioxidants, benzophenone antioxidants, hydroxylamine antioxidants, salicylic acid. Ester-based antioxidants, and triazine-based antioxidants. Among these antioxidants, preferred examples include hindered phenolic antioxidants, hindered amine antioxidants, phosphorus antioxidants, and sulfur antioxidants. More preferably, a hindered phenol-based antioxidant, a hindered amine-based antioxidant, and a phosphorus antioxidant are used. Antioxidants may be used alone or in combination of two or more.

힌더드 페놀계 산화 방지제로서는 2,4-비스[(라우릴 티오)메틸]-o-크레졸, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질), 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-하이드록시-2, 6- 디메틸 벤질) 등을 들 수 있다.As hindered phenolic antioxidants, 2,4-bis[(laurylthio)methyl]-o-cresol, 1,3,5-tris(3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl), 1,3,5-tris(4-t-butyl-3-hydroxy-2, 6-dimethylbenzyl), etc. are mentioned.

힌더드 아민계 산화방지제로서는 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,6-헥사메틸렌디아민, 2-메틸-2-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)프로피온아미드, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) (1,2,3,4-부탄테트라카복실레이트, 폴리[(6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)이미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일) ((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)] 등을 사용할 수 있다.As hindered amine antioxidants, bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis(N-methyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperi) Diyl) sebacate, N,N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,6-hexamethylenediamine, 2-methyl-2-(2,2,6 ,6-tetramethyl-4-piperidyl)amino-N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)propionamide, tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl -4-piperidyl) (1,2,3,4-butanetetracarboxylate, poly[(6-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)imino-1,3,5-triazine -2,4-diyl) ((2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino)hexamethyl((2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Imino)], etc. can be used.

인계 산화방지제로서는 트리스(이소데실)포스파이트, 트리스(트리데실)포스파이트, 페닐이소옥틸포스파이트, 페닐이소데실포스파이트, 페닐디(트리데실)포스파이트, 디페닐이소옥틸포스파이트, 디페닐이소데실포스파이트, 디페닐트리데실포스파이트, 트리페닐포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 4,4'이소프로필리덴디페놀알킬포스파이트, 트리스노닐페닐포스파이트, 트리스디노닐페닐포스파이트, 기타 포스파이트 구조를 가지는 올리고머 타입 및 폴리머 타입의 화합물 등도 사용할 수 있다.Phosphorous antioxidants include tris(isodecyl)phosphite, tris(tridecyl)phosphite, phenylisooctylphosphite, phenylisodecylphosphite, phenyldi(tridecyl)phosphite, diphenylisooctylphosphite, diphenyl Isodecyl phosphite, diphenyltridecyl phosphite, triphenyl phosphite, tris(nonylphenyl)phosphite, 4,4' isopropylidenediphenol alkyl phosphite, trisnonylphenylphosphite, trisdinonylphenylphosphite Pite and other oligomeric and polymer-type compounds having a phosphite structure can also be used.

황계 산화방지제로서는 2,2-티오-디에틸렌비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 2,4-비스[(옥틸 티오)메틸]-o-크레졸, 2,4-비스[(라우릴티오)메틸]-o-크레졸 등을 들 수 있다. 기타 티오에테르 구조를 가지는 올리고머 타입이나 폴리머 타입의 화합물 등도 사용할 수 있다.As sulfur-based antioxidants, 2,2-thio-diethylenebis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 2,4-bis[(octylthio)methyl] -o-cresol, 2,4-bis[(laurylthio)methyl]-o-cresol, etc. are mentioned. Other oligomeric or polymeric compounds having a thioether structure can also be used.

수지 조성물(Q)의 중량 평균 분자량은 0.2만 이상이 바람직하고, 0.5만 이상이 더 바람직하고, 3만 이상이 더욱 바람직하고, 5만 이상이 더욱 더 바람직하고, 7만 이상이 특히 바람직하고, 또 100만 이하가 바람직하고, 50만 이하가 더 바람직하고, 30만 이하가 더욱 바람직하고, 20만 이하가 더욱 더 바람직하다. 수지 조성물(Q)의 중량 평균 분자량을 이러한 범위로 함으로써, 수지 조성물(Q)의 성형 가공성이 향상하는 동시에, 수득되는 성형품의 강도를 높이기 쉬워진다. 수지 조성물(Q)의 중량 평균 분자량은 수지 조성물(Q)을 겔투과크로마토그래피에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 값을 의미하고, 수지 조성물(Q)이 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 경우에는 수지 조성물(Q)의 중량 평균 분자량은 이것들 복수 종류의 중합체 전체 중량 평균 분자량이 된다.The weight average molecular weight of the resin composition (Q) is preferably 0.2 million or more, more preferably 0.5 million or more, still more preferably 30,000 or more, even more preferably 50,000 or more, and particularly preferably 70,000 or more, Moreover, 1 million or less are preferable, 500,000 or less are more preferable, 300,000 or less are still more preferable, and 200,000 or less are still more preferable. By setting the weight average molecular weight of the resin composition (Q) in such a range, the molding processability of the resin composition (Q) is improved, and the strength of the obtained molded article is easily increased. The weight average molecular weight of the resin composition (Q) refers to the value of the resin composition (Q) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography, and the resin composition (Q) contains a copolymer (P) and a (meth)acrylic polymer. In the case of containing, the weight average molecular weight of the resin composition (Q) becomes the total weight average molecular weight of these plural types of polymers.

수지 조성물(Q)의 중량 평균 분자량은 공중합체(P)의 폴리머 쇄(A)의 중량 평균 분자량에 1.1배 이상이 바람직하고, 1.2배 이상이 더 바람직하고, 1.3배 이상이 더욱 바람직하고, 또 20배 이하가 바람직하고, 12배 이하가 더 바람직하고, 10배 이하가 더욱 바람직하고, 7배 이하가 더욱 더 바람직하고, 5배 이하가 특히 바람직하다. 이것에 의해, 수지 조성물(Q)에 투명성, 기계적 강도, 내열성의 각 특성을 군형 있게 부여하는 것이 용이해진다.The weight average molecular weight of the resin composition (Q) is preferably 1.1 times or more, more preferably 1.2 times or more, still more preferably 1.3 times or more, to the weight average molecular weight of the polymer chain (A) of the copolymer (P). It is preferably 20 times or less, more preferably 12 times or less, more preferably 10 times or less, even more preferably 7 times or less, and particularly preferably 5 times or less. Thereby, it becomes easy to give the resin composition (Q) each characteristic of transparency, mechanical strength, and heat resistance in a group form.

수지 조성물(Q)의 굴절율은 공중합체(P)의 폴리머 쇄(A)의 굴절율과 가까운 값인 것이 바람직하고, 이것에 의해 수지 조성물(Q)의 투명성을 확보하기 쉬워진다. 구체적으로는 수지 조성물(Q)의 굴절율과 공중합체(P)의 폴리머 쇄(A)의 굴절율과의 차이가 0.1 미만인 것이 바람직하고, 0.05 이하가 더 바람직하고, 0.02 이하가 더욱 바람직하다. 동일한 관점에서 수지 조성물(Q)의 굴절율은 공중합체(P)의 굴절율과 가까운 값인 것이 바람직하고, 구체적으로는 수지 조성물(Q)의 굴절율과 공중합체(P)의 굴절율과의 차이가 0.1 미만인 것이 바람직하고, 0.05 이하가 더 바람직하고, 0.02 이하가 더욱 바람직하다.The refractive index of the resin composition (Q) is preferably a value close to the refractive index of the polymer chain (A) of the copolymer (P), whereby it becomes easy to secure the transparency of the resin composition (Q). Specifically, the difference between the refractive index of the resin composition (Q) and the refractive index of the polymer chain (A) of the copolymer (P) is preferably less than 0.1, more preferably 0.05 or less, and even more preferably 0.02 or less. From the same point of view, the refractive index of the resin composition (Q) is preferably a value close to the refractive index of the copolymer (P), and specifically, the difference between the refractive index of the resin composition (Q) and the refractive index of the copolymer (P) is less than 0.1 Preferably, 0.05 or less is more preferable, and 0.02 or less is still more preferable.

수지 조성물(Q)은 두께 160㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 전체 광선 투과율이 70% 이상인 것이 바람직하고, 80% 이상이 더 바람직하고, 90% 이상이 더욱 바람직하다. 또, 헤이즈가 5.0% 이하인 것이 바람직하고, 3.0% 이하가 더 바람직하고, 1.0% 이하가 더욱 바람직하다. 내부 헤이즈에 대하여는 미연신 필름으로 했을 때의 두께 100㎛당의 내부 헤이즈가 5.0% 이하인 것이 바람직하고, 3.0% 이하인 것이 더 바람직하고, 2.0% 이하가 더욱 바람직하고, 1.0% 이하가 더욱 더 바람직하다.The resin composition (Q) preferably has a total light transmittance of 70% or more, more preferably 80% or more, and still more preferably 90% or more when used as an unstretched film having a thickness of 160 μm. Moreover, it is preferable that the haze is 5.0% or less, 3.0% or less is more preferable, and 1.0% or less is still more preferable. Regarding the internal haze, the internal haze per 100 µm in thickness when used as an unstretched film is preferably 5.0% or less, more preferably 3.0% or less, further preferably 2.0% or less, and even more preferably 1.0% or less.

수지 조성물(Q)은 두께 160㎛의 미연신 필름으로 했을 때에 바다-섬 구조를 나타내고, 당해 구조 중의 섬 사이즈가 500nm 이하인 것이 바람직하고, 400nm 이하가 더 바람직하고, 350nm 이하가 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 수지 조성물(Q)부터 필름을 형성했을 때에, 투명성이 높은 필름을 얻기 쉬워진다. 바다-섬 구조의 바다 사이즈의 하한값은 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면 10nm 이상일 수도 있고, 50nm 이상일 수도 있다. 수지 조성물(Q)로부터 형성한 미연신 필름의 바다-섬 구조 관찰은 주사전자현미경(STEM)에 의해 실시하고, 구체적인 측정방법은 실시예에 기재된 방법이 참조된다.When the resin composition (Q) is used as an unstretched film having a thickness of 160 μm, it exhibits a sea-island structure, and the island size in the structure is preferably 500 nm or less, more preferably 400 nm or less, and further preferably 350 nm or less. Thereby, when a film is formed from the resin composition (Q), it becomes easy to obtain a film with high transparency. The lower limit of the sea size of the sea-island structure is not particularly limited, and may be, for example, 10 nm or more, or 50 nm or more. The sea-island structure observation of the unstretched film formed from the resin composition (Q) is performed by a scanning electron microscope (STEM), and the method described in the Examples is referred to for a specific measurement method.

수지 조성물(Q)은 100℃ 이상 및 100℃ 미만에 각각 유리전이온도를 가지는 것이 바람직하다. 또, 100℃ 이상의 유리전이온도를 「고온측의 유리전이온도」라고 부르고, 100℃ 미만의 유리전이온도를 「저온측의 유리전이온도」라고 부른다. 수지 조성물(Q)은 고온측의 유리전이온도를 복수 가질 수도 있고, 저온측의 유리전이온도를 복수 가질 수도 있다. 수지 조성물(Q)이 고온측의 유리전이온도를 가지는 것에 의해, 수지 조성물(Q)의 내열성이 높아지고, 또 수지 조성물(Q)을 필름 등으로 성형할 때에, 고온하에서도 연화되지 않고, 성형가공성을 높일 수 있다. 수지 조성물(Q)이 저온측의 유리전이온도를 가지는 것에 의해, 수지 조성물(Q)의 기계적 강도나 내충격성을 높일 수 있다. 수지 조성물(Q)의 고온측의 유리전이온도는 바람직하게는 113℃ 이상이고, 더 바람직하게는 116℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 120℃ 이상이고, 또 수지 조성물(Q)의 가공성을 높이는 점에서 300℃ 미만이 바람직하고, 200℃ 미만이 더 바람직하고, 180℃ 미만이 더욱 바람직하다. 수지 조성물(Q)의 저온측의 유리전이온도는 -100℃ 이상이 바람직하고, -90℃ 이상이 더 바람직하고, -80℃ 이상이 더욱 바람직하고, 또 50℃ 미만이 바람직하고, 30℃ 미만이 더 바람직하고, 10℃ 미만이 더욱 바람직하다.The resin composition (Q) preferably has a glass transition temperature of 100°C or more and less than 100°C, respectively. Further, a glass transition temperature of 100°C or higher is referred to as a "glass transition temperature on the high temperature side", and a glass transition temperature of less than 100°C is referred to as a "glass transition temperature on the low temperature side". The resin composition (Q) may have a plurality of glass transition temperatures on the high temperature side, and may have a plurality of glass transition temperatures on the low temperature side. Because the resin composition (Q) has a glass transition temperature on the high-temperature side, the heat resistance of the resin composition (Q) is increased, and when the resin composition (Q) is molded into a film, it does not soften even under high temperature, and molding processability Can increase. Since the resin composition (Q) has a glass transition temperature on the low-temperature side, the mechanical strength and impact resistance of the resin composition (Q) can be improved. The glass transition temperature on the high-temperature side of the resin composition (Q) is preferably 113° C. or higher, more preferably 116° C. or higher, further preferably 120° C. or higher, and enhancing the processability of the resin composition (Q) Is preferably less than 300°C, more preferably less than 200°C, and still more preferably less than 180°C. The glass transition temperature on the low temperature side of the resin composition (Q) is preferably -100°C or higher, more preferably -90°C or higher, more preferably -80°C or higher, and preferably less than 50°C, and lower than 30°C. Is more preferable, and less than 10 degreeC is more preferable.

수지 조성물(Q)은 클로로폼에 대한 불용분이 10질량% 이하인 것이 바람직하고, 8질량% 이하가 더 바람직하고, 5질량% 이하가 더욱 바람직하다. 수지 조성물(Q)에 포함되는 공중합체(P)는 가교 구조를 실질적으로 포함하지 않거나, 포함하고 있어도 소량으로 억제할 수 있기 때문에, 수지 조성물(Q)의 클로로폼에 대한 불용분의 비율을 적은 것으로 할 수 있다. 그 때문에 수지 조성물(Q)은 포함되는 이물의 양이 적은 것이 되고, 예를 들면 수지 조성물(Q)부터 광학필름을 형성했을 때에, 표면요철이나 결점이 적고, 투명성이 높은 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 또, 수지 조성물로부터 이물을 제거할 때, 이물 제거용 필터에 걸리는 부하가 저감되어, 제조 효율이 향상한다.The resin composition (Q) preferably has an insoluble content of 10% by mass or less with respect to chloroform, more preferably 8% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less. Since the copolymer (P) contained in the resin composition (Q) substantially does not contain a crosslinked structure or, even if it contains, can be suppressed in a small amount, the ratio of the insoluble matter to chloroform of the resin composition (Q) is reduced. It can be done. Therefore, the resin composition (Q) has a small amount of foreign matter contained. For example, when an optical film is formed from the resin composition (Q), there are few surface irregularities and defects, and a film with high transparency can be easily obtained. have. In addition, when removing foreign matter from the resin composition, the load applied to the filter for removing foreign matter is reduced, and manufacturing efficiency is improved.

이에 대하여 예를 들면, 일본 공개특허공보 2008-242421호에 개시되는 코어-쉘 구조를 가지는 탄성 유기 미립자 등에서는 당해 유기 미립자가 가교 구조를 가지는 그래프트 중합체이기 때문에, 클로로폼에 불용인 것이 된다. 그 때문에 이러한 가교 구조를 가지는 공중합체를 높은 품질이 요구되는 광학필름용 원료에 사용하면, 필름의 이물이나 결점의 원인이 되거나, 필름을 연신했을 때에 표면요철이 되고, 헤이즈 등의 외관불량이 발생하기 때문에 바람직하지 못하다. 또 유기 미립자는 필름 성형에 앞서 수지 조성물로부터 이물을 제거할 때에, 이물 제거용 필터에 높은 부하를 제공하고, 생산성의 저하를 초래할 우려가 있다.In contrast, for example, in the elastic organic fine particles having a core-shell structure disclosed in JP 2008-242421 A, since the organic fine particles are graft polymers having a crosslinked structure, they are insoluble in chloroform. Therefore, if a copolymer having such a crosslinked structure is used as a raw material for an optical film that requires high quality, it may cause foreign matter or defects in the film, or when the film is stretched, the surface becomes uneven, and appearance defects such as haze occur. Because it is not desirable. In addition, when removing foreign matter from the resin composition prior to film molding, the organic fine particles may provide a high load to the filter for removing foreign matter and cause a decrease in productivity.

수지 조성물의 클로로폼에 대한 불용분은 실시예에 기재된 방법에 의해 산출한다. 구체적으로는, 수지 조성물 1g를 클로로폼 20g에 첨가하고, 이것을 포어 직경 0.5㎛의 Teflon(등록상표)제 멤브레인 필터로 여과하고, 멤브레인 필터에 포집된 불용분의 양을 측정하는 것에 의해, 수지 조성물의 클로로폼에 대한 불용분의 비율을 산출한다.The insoluble content of the resin composition in chloroform is calculated by the method described in Examples. Specifically, by adding 1 g of the resin composition to 20 g of chloroform, filtering this through a membrane filter made by Teflon (registered trademark) having a pore diameter of 0.5 μm, and measuring the amount of insoluble matter collected in the membrane filter, the resin composition Calculate the ratio of insoluble matter to chloroform.

수지 조성물(Q)은 290℃에서 20분간 가열했을 때에 발생하는 발포량이 20개/g 이하인 것이 바람직하고, 10개/g 이하가 더 바람직하고, 5개/g 이하가 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 수지 조성물(Q)을 가열 성형했을 때의 성형체(예를 들면 필름 등)의 외관이 양호하게 된다. 발포량의 측정은 JIS K 7210에 규정되는 Melt Indexer를 사용해서 실시하고, 건조 처리한 수지 조성물을 Melt Indexer의 실린더 내에 충전하고, 290℃에서 20분간 유지한 후 스트랜드상으로 압출하고, 수득된 스트랜드의 상부 표선과 하부 표선 사이에 존재하는 거품의 발생 개수를 계수하고, 수지 조성물 1g 당의 거품 개수로 나타내는 것에 의해 실시한다.As for the resin composition (Q), when heated at 290 degreeC for 20 minutes, it is preferable that the foaming quantity which arises is 20 pieces/g or less, 10 pieces/g or less are more preferable, and 5 pieces/g or less are still more preferable. Thereby, the appearance of a molded article (for example, a film, etc.) when the resin composition (Q) is heat-molded is improved. The foaming amount was measured using a Melt Indexer specified in JIS K 7210, and the dried resin composition was filled into a cylinder of a Melt Indexer, held at 290°C for 20 minutes, and then extruded into a strand shape. It is carried out by counting the number of occurrences of bubbles existing between the upper mark and the lower mark, and expressing the number of bubbles per 1 g of the resin composition.

수지 조성물(Q)의 JIS K 7199(1999)에 의거해서 측정한 270℃, 100(/초)에서의 융해점도는 50Pa·s 이상이 바람직하고, 100Pa·s 이상이 더 바람직하고, 또 5000Pa·s 이하가 바람직하고, 1000Pa·s 이하가 더 바람직하다. 수지 조성물(Q)의 융해점도가 이러한 범위라면, 수지 조성물(Q)의 성형 가공성이 향상시키는 동시에, 성형체에 피시 아이나 다이라인(die line) 등이 발생하기 어려워져, 성형체의 외관이 양호하게 된다.The melting viscosity of the resin composition (Q) at 270°C and 100 (/s) measured according to JIS K 7199 (1999) is preferably 50 Pa·s or more, more preferably 100 Pa·s or more, and 5000 Pa·s. s or less is preferable, and 1000 Pa·s or less is more preferable. If the melting viscosity of the resin composition (Q) is within such a range, the molding processability of the resin composition (Q) is improved, and at the same time, it is difficult to generate fish eyes or die lines in the molded body, and the appearance of the molded body is improved. .

수지 조성물(Q)은 두께 160㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 파괴 에너지가 20mJ 이상인 것이 바람직하고, 24mJ 이상이 더 바람직하고, 28mJ 이상이 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 수지 조성물(Q)로부터 필름을 형성했을 때에, 기계적 강도가 높은 필름을 얻기 쉬워진다. 파괴 에너지는 실시예에 기재된 방법에 의해 산출한다.The resin composition (Q) preferably has a breakdown energy of 20 mJ or more, more preferably 24 mJ or more, and even more preferably 28 mJ or more, in the case of a 160 µm-thick unstretched film. Thereby, when a film is formed from the resin composition (Q), it becomes easy to obtain a film with high mechanical strength. Breaking energy is calculated by the method described in the examples.

수지 조성물(Q)은 두께 40㎛의 연신필름으로 했을 때의 Trouser 인열강도가 15mJ 이상인 것이 바람직하고, 18mJ 이상이 더 바람직하고, 22mJ 이상이 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 수지 조성물(Q)로부터 필름을 형성했을 때에, 인열강도가 높은 필름을 얻기 쉬워진다. Trouser 인열강도는 실시예에 기재된 방법에 의해 산출한다.The resin composition (Q) preferably has a trouser tear strength of 15 mJ or more, more preferably 18 mJ or more, and even more preferably 22 mJ or more, when a stretched film having a thickness of 40 µm is used. Thereby, when a film is formed from the resin composition (Q), it becomes easy to obtain a film with high tear strength. Trouser tear strength is calculated by the method described in the Examples.

수지 조성물(Q)은 두께 40㎛의 연신필름으로 했을 때의 MIT 내절도 시험에 의한 내절도 시험 회수가 1000회 이상이 되는 것이 바람직하고, 1200회 이상이 더 바람직하고, 1350회 이상이 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 수지 조성물(Q)부터 필름을 형성했을 때에, 파단되기 어려운 높은 필름을 얻기 쉬워진다. MIT 내절도 시험은 실시예에 기재된 방법에 의해 실시한다.Resin composition (Q) is preferably 1000 or more times, more preferably 1200 times or more, more preferably 1350 times or more, according to the MIT cut resistance test when a stretched film having a thickness of 40 μm is used. Do. Thereby, when a film is formed from the resin composition (Q), it becomes easy to obtain a high film which is hard to break. The MIT cut resistance test is carried out by the method described in Examples.

수지 조성물(Q)의 제조방법은 특별하게 한정되지 않지만, 공중합체(P)를 중합 생성할 때에, (메트)아크릴계 중합체도 함께 중합생성하는 것이 간편하다. 상기에 설명한 공중합체(P)의 제조방법에서는 공중합체(P)와 함께, 공중합체(P)의 폴리머 쇄(B)에 대응한 (메트)아크릴계 중합체도 동시에 생성되지만, 이때, 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체를 분리하지 않는 것에 의해, 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체를 포함하는 수지 조성물(Q)을 얻을 수 있다. 이 경우의 수지 조성물(Q)의 제조방법은 공중합체(P)의 제조방법에서 설명한 중합공정, 또는 중합공정과 환 구조 형성공정에 의해, 공중합체(P)와, 주쇄에 환 구조를 가지는 (메트)아크릴계 중합체가 수득되는 것이 된다.The production method of the resin composition (Q) is not particularly limited, but when polymerizing the copolymer (P), it is easy to polymerize and produce the (meth)acrylic polymer as well. In the method for preparing the copolymer (P) described above, in addition to the copolymer (P), a (meth)acrylic polymer corresponding to the polymer chain (B) of the copolymer (P) is simultaneously produced, but at this time, the copolymer (P ) By not separating the (meth)acrylic polymer, the resin composition (Q) containing the copolymer (P) and the (meth)acrylic polymer can be obtained. In this case, the production method of the resin composition (Q) is the polymerization process described in the production method of the copolymer (P), or by the polymerization process and the ring structure forming process, the copolymer (P) and the ( A meth)acrylic polymer is obtained.

수지 조성물(Q)의 제조방법은 상기의 방법에 한정되지 않고, 공중합체(P)를 단리하고, 별도의 중합체와 혼합해서 수지 조성물(Q)로 할 수 있다. 또, 상기의 공중합체(P)의 제조방법에 있어서, 공중합체(P1)로의 그라프트 공중합 반응 종료 후에, 추가로 별도의 단량체를 추가해서 중합반응을 실시해서 수지 조성물(Q)을 얻을 수 있다. 혹은, 상기의 공중합체(P)의 제조방법으로 수득된 공중합체(P)와 (메트)아크릴계 중합체의 혼합물에 대하여, 추가로 별도의 중합체(예를 들면, 별의 (메트)아크릴계 중합체)을 첨가해서 수지 조성물(Q)로 할 수도 있다. 다른 중합체를 첨가해서 혼합하는 경우에는 용융 혼련할 수도 있고, 이 경우, 예를 들면 니더(Kneader)나 다축 압출기 등의 일반적인 장치를 사용할 수 있다.The method for producing the resin composition (Q) is not limited to the above method, and the copolymer (P) can be isolated and mixed with another polymer to obtain a resin composition (Q). In addition, in the above-described method for producing the copolymer (P), after the graft copolymerization reaction to the copolymer (P1) is completed, additional monomers are added to perform polymerization to obtain a resin composition (Q). . Alternatively, with respect to the mixture of the copolymer (P) and the (meth)acrylic polymer obtained by the above-described method for preparing the copolymer (P), a separate polymer (for example, a separate (meth)acrylic polymer) It can also be added and made into resin composition (Q). When other polymers are added and mixed, melt-kneading may be performed, and in this case, for example, a general apparatus such as a kneader or a multi-screw extruder can be used.

수지 조성물(Q)의 제조방법에서는 중합공정 또는 환 구조 형성공정에 이어서 상기에 설명한 여과공정을 실시할 수도 있다. 여과공정을 실시하는 것에 의해, 수지 조성물(Q) 중의 이물량을 저감시킬 수 있고, 수지 조성물(Q)을, 고도의 품질이 요구되는 광학필름 등으로의 용도에 호적하게 적용할 수 있다. 여과공정의 상세한 내용은 상기의 공중합체(P)의 제조방법에서의 여과공정의 설명이 참조된다.In the method for producing the resin composition (Q), the filtration step described above may be performed following the polymerization step or the ring structure forming step. By performing the filtration step, the amount of foreign matter in the resin composition (Q) can be reduced, and the resin composition (Q) can be suitably applied to an optical film or the like that requires high quality. For details of the filtration step, reference is made to the description of the filtration step in the method for producing the copolymer (P).

〔3. 공중합체 및 수지 조성물의 성형가공〕[3. Molding and processing of copolymer and resin composition]

공중합체(P) 및 수지 조성물(Q)은 액상으로 해서 사용할 수도 있고, 경화물로서 사용할 수도 있다. 후자의 경우, 공중합체(P) 및 수지 조성물(Q)을 가열 용융하고, 임의의 형상으로 성형하는 것에 의해, 성형체로 할 수 있다. 성형체의 형상은 용도에 따라서 적당하게 설정할 수 있고, 예를 들면, 판상, 시트상, 입상, 분말상, 괴상, 입자응집체상, 구상, 타원구상, 렌즈상, 정육면체상, 기둥상, 봉상, 원추형상, 튜브상, 바늘상, 섬유상, 중공사상, 다공질상 등을 들 수 있다. 공중합체(P) 및 수지 조성물(Q)의 성형체는 사출성형, 압출성형, 진공성형, 압축성형, 블로우성형 등을 사용할 수 있고, 그 경우의 형상으로서는 예를 들면, 입자경이 1㎛∼1000㎛의 분체, 장경이 1mm∼10mm 정도의 원주상 또는 구상 등의 펠릿, 또는 그것들의 혼합물인 것이 바람직하다.The copolymer (P) and the resin composition (Q) may be used as a liquid or may be used as a cured product. In the latter case, the copolymer (P) and the resin composition (Q) are heated and melted and formed into an arbitrary shape, whereby a molded body can be obtained. The shape of the molded body can be appropriately set according to the application, and for example, plate shape, sheet shape, granular shape, powder shape, block shape, particle agglomerate shape, spherical shape, elliptical spherical shape, lens shape, regular cube shape, column shape, rod shape, conical shape , A tube shape, a needle shape, a fibrous shape, a hollow fiber shape, a porous shape, etc. are mentioned. Injection molding, extrusion molding, vacuum molding, compression molding, blow molding, etc. can be used for the molded article of the copolymer (P) and the resin composition (Q), and the shape in that case is, for example, having a particle diameter of 1 μm to 1000 μm. It is preferable that it is a powder, a cylindrical or spherical pellet having a long diameter of about 1 mm to 10 mm, or a mixture thereof.

공중합체(P) 및 수지 조성물(Q)은 필름으로 성형할 수도 있다. 필름 성형의 방법으로서는 용액 캐스팅법(용액 유연법), 용융 압출법, 캘린더법, 압축성형법 등, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 이것들 중에서도, 용액 캐스팅법, 용융 압출법이 바람직하다.The copolymer (P) and the resin composition (Q) can also be molded into a film. As a method of forming the film, known methods such as a solution casting method (solution casting method), a melt extrusion method, a calender method, and a compression molding method can be used. Among these, a solution casting method and a melt extrusion method are preferable.

용액 캐스팅법에 사용되는 용매로서는 예를 들면, 클로로폼, 디클로로메탄 등의 염소계지방족 탄화수소류; 톨루엔, 크실렌, 벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올, 2-부탄올 등의 알코올류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 디에틸 에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란 등의 에테르류; 아세톤, 사이클로헥사논 등의 케톤류: 에틸아세테이트, 프로필아세테이트, 부틸아세테이트 등의 에스테르류; 디메틸포름아미드; 디메틸설폭사이드 등을 들 수 있다. 이것들은 1종만 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.Examples of the solvent used in the solution casting method include chlorinated aliphatic hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and benzene; Alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, and 2-butanol; Cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; Ethers such as diethyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran; Ketones such as acetone and cyclohexanone: esters such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate; Dimethylformamide; Dimethyl sulfoxide, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

용액 캐스팅법을 실시하기 위한 장치로서는 예를 들면, 드럼식 캐스팅 머신, 밴드식 캐스팅 머신, 스핀 코터 등을 들 수 있다.As an apparatus for carrying out the solution casting method, a drum type casting machine, a band type casting machine, a spin coater, etc. are mentioned, for example.

용융 압출법으로서는 T다이법, 인플레이션법 등을 들 수 있다. 필름을 용융 압출성형할 때의 온도(성형온도)는 150℃ 이상이 바람직하고, 200℃ 이상이 더 바람직하고, 또 350℃ 이하가 바람직하고, 300℃ 이하가 더 바람직하다.Examples of the melt extrusion method include a T-die method and an inflation method. The temperature (molding temperature) at the time of melt extrusion molding the film is preferably 150°C or higher, more preferably 200°C or higher, further preferably 350°C or lower, and more preferably 300°C or lower.

T다이법에서는 선단부에 T다이를 장착한 압출기로부터 밀어낸 필름을 롤 위로 권취하는 것에 의해서, 롤에 감은 필름이 수득된다. 이때, 권취 온도 및 속도를 제어하는 것에 의해, 필름의 압출 방향에 연신(일축 연신)을 첨가할 수 있다.In the T-die method, a film rolled on a roll is obtained by winding a film extruded from an extruder equipped with a T-die at the tip portion onto a roll. At this time, by controlling the winding temperature and speed, stretching (uniaxial stretching) can be added to the extrusion direction of the film.

용융 압출성형에서는 압출기를 사용하는 것이 바람직하다. 압출기는 실린더와, 실린더 내에 설치된 스크류를 가지고, 가열수단을 구비하는 것이 바람직하다. 압출기는 스크류의 개수에 따라, 단축 압출기, 2축 압출기, 다축 압출기 등의 종류가 존재하고, 어느 쪽의 압출기를 사용할 수 있다. 압출기의 L/D값(L은 압출기의 실린더 길이, D는 실린더의 내경)은 수지 조성물을 충분하게 가소화해서 양호한 혼련 상태를 얻기 위해서, 10 이상이 바람직하고, 15 이상이 더 바람직하고, 20 이상이 더욱 바람직하고, 또 100 이하가 바람직하고, 80 이하가 더 바람직하고, 60 이하가 더욱 바람직하다. L/D값이 10 미만인 경우, 수지 조성물을 충분하게 가소화할 수 없고, 양호한 혼련 상태가 수득되지 않는 경우가 있다. L/D값이 100을 넘을 경우, 수지 조성물에 대하여 과도하게 전단 발열이 증가하는 것에 의해서, 수지 조성물에 포함되는 성분이 열분해하기 쉬워진다.In melt extrusion molding, it is preferable to use an extruder. It is preferable that the extruder has a cylinder, a screw installed in the cylinder, and a heating means. Depending on the number of screws, the extruder has a single-screw extruder, a twin-screw extruder, and a multi-screw extruder, and any extruder can be used. The L/D value of the extruder (L is the length of the cylinder of the extruder, and D is the inner diameter of the cylinder) is preferably 10 or more, more preferably 15 or more, and 20 in order to sufficiently plasticize the resin composition to obtain a good kneading state. More preferably more, 100 or less are more preferable, 80 or less are more preferable, and 60 or less are still more preferable. When the L/D value is less than 10, the resin composition cannot be sufficiently plasticized, and a good kneaded state may not be obtained. When the L/D value exceeds 100, the component contained in the resin composition tends to be thermally decomposed due to excessive increase in shear heat generation with respect to the resin composition.

압출기의 실린더 설정 온도(가열온도)는 200℃ 이상이 바람직하고, 250℃ 이상이 더 바람직하고, 또 350℃ 이하가 바람직하고, 320℃ 이하가 더 바람직하다. 설정 온도가 200℃ 미만인 경우, 수지 조성물의 융해점도가 과도하게 높아지고, 필름의 생산성이 저하될 우려가 있다. 설정 온도가 350℃를 넘을 경우, 수지 조성물에 포함되는 성분이 열분해되기 쉬워진다.The cylinder setting temperature (heating temperature) of the extruder is preferably 200°C or higher, more preferably 250°C or higher, further preferably 350°C or lower, and more preferably 320°C or lower. When the set temperature is less than 200°C, the melting viscosity of the resin composition becomes excessively high, and there is a fear that the productivity of the film may decrease. When the set temperature exceeds 350°C, the components contained in the resin composition tend to be thermally decomposed.

압출기는 1개 이상의 개방 벤트(vent)부를 가지는 것이 바람직하다. 이러한 압출기를 사용하는 것에 의해서, 개방 벤트부에서 분해가스를 흡인할 수 있고, 수득된 필름의 잔존 휘발 성분의 양을 저감시킬 수 있다. 개방 벤트부에서 분해가스를 흡인하기 위해서는, 예를 들면, 개방 벤트부를 감압 상태로 하면 되고, 이 때의 감압도는 개방 벤트부의 압력(절대압)로 해서, 바람직하게는 1.3hPa 이상, 더 바람직하게는 13.3hPa 이상이고, 또 931hPa 이하가 바람직하고, 798hPa 이하가 더 바람직하다. 개방 벤트부의 압력이 931hPa보다 높을 경우, 휘발 성분이나, 수지 조성물에 포함되는 중합체의 분해에 의해 발생하는 단량체 성분이 수득된 필름에 잔존되기 쉽다. 한편, 개방 벤트부의 압력을 1.3hPa보다 낮게 유지하는 것은 공업적으로 곤란하다.It is preferred that the extruder has at least one open vent. By using such an extruder, decomposition gas can be sucked in the open vent portion, and the amount of residual volatile components of the obtained film can be reduced. In order to suck the decomposed gas from the open vent part, for example, the open vent part may be in a reduced pressure state, and the degree of decompression at this time is the pressure (absolute pressure) of the open vent part, preferably 1.3 hPa or more, more preferably Is 13.3 hPa or more, 931 hPa or less is preferable, and 798 hPa or less is more preferable. When the pressure of the open vent portion is higher than 931 hPa, a volatile component or a monomer component generated by decomposition of a polymer contained in the resin composition tends to remain in the obtained film. On the other hand, it is industrially difficult to keep the pressure of the open vent portion lower than 1.3 hPa.

용융 압출성형 시에는 융해 상태에 있는 공중합체(P) 또는 수지 조성물(Q)을 폴리머 필터를 사용해서 여과하는 것이 바람직하고, 이것에 의해 공중합체(P)나 수지 조성물(Q) 중에 포함되는 이물을 제거할 수 있다. 이것에 의해, 공중합체(P)나 수지 조성물(Q)로부터 광학필름을 형성할 때 등, 최종적으로 수득된 광학필름에서의 광학결점이나 외관상의 결점의 양을 저감시킬 수 있다.In melt extrusion molding, it is preferable to filter the copolymer (P) or resin composition (Q) in the molten state using a polymer filter, and thereby foreign matter contained in the copolymer (P) or resin composition (Q). Can be removed. Thereby, when forming an optical film from the copolymer (P) or the resin composition (Q), the amount of optical defects and visual defects in the finally obtained optical film can be reduced.

용융 압출성형의 온도는 예를 들면 200℃ 이상이 바람직하고, 250℃ 이상이 더 바람직하고, 또 350℃ 이하가 바람직하고, 320℃ 이하가 더 바람직하다. 용융 압출성형의 온도가 200℃ 이상이라면, 공중합체(P)나 수지 조성물(Q)의 점도가 저하되고, 폴리머 필터에서의 체류시간을 짧게 할 수 있다. 용융 압출성형의 온도가 350℃ 이하라면, 예를 들면 필름의 연속 성형 시에, 필름에 구멍뚫림, 플로우패턴, 줄무늬와 결점이 형성되기 어려워져, 양호한 외관의 필름을 얻기 쉬워진다.The temperature of the melt extrusion molding is preferably 200°C or higher, more preferably 250°C or higher, and more preferably 350°C or lower, and more preferably 320°C or lower, for example. If the temperature of the melt extrusion molding is 200°C or higher, the viscosity of the copolymer (P) or the resin composition (Q) decreases, and the residence time in the polymer filter can be shortened. If the temperature of the melt extrusion molding is 350°C or less, for example, during continuous molding of the film, it becomes difficult to form perforations, flow patterns, stripes and defects in the film, so that a film having a good appearance becomes easy to be obtained.

폴리머 필터의 구성은 특별하게 한정되지 않는다. 예를 들면, 하우징 내에 여러 장의 리프디스크형 필터를 배치한 폴리머 필터가 호적하게 사용된다. 리프디스크형 필터의 여과재는 금속섬유 부직포를 소결한 여과재, 금속분말을 소결한 여과재, 철망을 몇 장 적층한 여과재, 이것들 를 조합시킨 하이브리드 타입의 여과재 등, 어떤 타입의 여과재를 사용할 수 있다. 그 중에서도, 금속섬유 부직포를 소결한 여과재가 바람직하게 사용된다.The configuration of the polymer filter is not particularly limited. For example, a polymer filter in which a plurality of leaf disk filters are arranged in a housing is suitably used. As the filter medium of the leaf disc filter, any type of filter medium can be used, such as a filter medium obtained by sintering metal fiber nonwoven fabric, a filter medium obtained by sintering metal powder, a filter medium by stacking several layers of wire mesh, and a hybrid type filter medium combining these. Among them, a filter medium obtained by sintering a nonwoven metal fiber fabric is preferably used.

폴리머 필터의 여과 정도(포어 직경)는 특별하게 한정되지 않는다. 여과 정도는 제거 대상이 되는 이물의 크기를 감안해서, 통상 15㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 이하, 더 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 여과 정도의 하한은 특별하게 한정되지 않지만, 폴리머 필터에서의 공중합체(P)나 수지 조성물(Q)의 체류시간이 길어지는 것에 의해, 공중합체(P)나 수지 조성물(Q)이 열 열화되거나, 또 필름의 생산성이 저하되는 것을 고려하면, 1㎛ 이상이 바람직하다.The degree of filtration (pore diameter) of the polymer filter is not particularly limited. The degree of filtration is usually 15 µm or less, preferably 10 µm or less, and more preferably 5 µm or less, in view of the size of the foreign matter to be removed. The lower limit of the degree of filtration is not particularly limited, but due to the longer residence time of the copolymer (P) or the resin composition (Q) in the polymer filter, the copolymer (P) or the resin composition (Q) may be thermally deteriorated. And, considering that the productivity of the film is lowered, 1 μm or more is preferable.

폴리머 필터의 형상은 특별하게 한정되지 않는다. 폴리머 필터의 타입으로서는 예를 들면, 복수의 수지 유통구를 가지고, 센터 폴 내에 수지의 유로를 가지는 내류형, 단면이 복수의 정점 혹은 면에 있어서 리프디스크 필터의 내측 둘레면에 접하고, 센터 폴의 외면에 수지의 유로가 있는 외류형 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 수지의 체류 부분이 적다는 점에서, 외류형의 폴리머 필터가 바람직하게 사용된다.The shape of the polymer filter is not particularly limited. As a type of polymer filter, for example, it has a plurality of resin flow ports, an inner flow type having a resin flow path in a center pole, and a cross section contacts the inner circumferential surface of the leaf disk filter at a plurality of vertices or surfaces, And an external type with a resin flow path on the outer surface thereof. Among them, an external type polymer filter is preferably used in view of the fact that the resin retains little.

폴리머 필터에서의 공중합체(P) 또는 수지 조성물(Q)의 체류시간은 바람직하게는 20분 이하이고, 더 바람직하게는 10분 이하이고, 더욱 바람직하게는 5분 이하이다. 용융 여과에서의 폴리머 필터의 입구압 및 당해 필터의 출구압은 예를 들면, 각각, 3MPa 이상 15MPa 이하 및 0.3MPa 이상 10MPa이다. 용융 여과에서의 압력손실(폴리머 필터의 입구압과 출구압과의 압력차)은 바람직하게는 1MPa 이상 15MPa 이하이다. 압력손실이 1MPa 이하인 경우, 공중합체(P)나 수지 조성물(Q)이 폴리머 필터를 통과하는 유로에 기울기가 발생하기 쉬워진다. 유로의 기울기는 수득된 필름의 품질이 떨어지는 원인이 된다. 압력손실이 15MPa를 넘을 경우, 폴리머 필터가 파손되기 쉬워진다.The residence time of the copolymer (P) or resin composition (Q) in the polymer filter is preferably 20 minutes or less, more preferably 10 minutes or less, and still more preferably 5 minutes or less. The inlet pressure of the polymer filter in melt filtration and the outlet pressure of the filter are, for example, 3 MPa or more and 15 MPa or less and 0.3 MPa or more and 10 MPa, respectively. The pressure loss in melt filtration (the pressure difference between the inlet pressure and the outlet pressure of the polymer filter) is preferably 1 MPa or more and 15 MPa or less. When the pressure loss is 1 MPa or less, the inclination tends to occur in the flow path through which the copolymer (P) or the resin composition (Q) passes through the polymer filter. The slope of the flow path causes the quality of the obtained film to deteriorate. When the pressure loss exceeds 15 MPa, the polymer filter is liable to be damaged.

공중합체(P) 또는 수지 조성물(Q)을 용융 여과할 때는, 압출기와 폴리머 필터 사이에 기어펌프를 설치하는 것에 의해, 폴리머 필터 내에서의 압력을 안정화시키는 것이 바람직하다. 폴리머 필터에 의한 용융 여과는 용융 압출 성형시 이외에도, 임의의 타이밍에서 실시할 수 있다.When melt filtering the copolymer (P) or the resin composition (Q), it is preferable to stabilize the pressure in the polymer filter by providing a gear pump between the extruder and the polymer filter. Melt filtration with a polymer filter can be performed at any timing other than during melt extrusion molding.

용융 압출법에 의해 필름을 성형하는 경우, 연신함으로써 연신필름으로 할 수 있다. 연신함으로써, 필름의 기계적 강도를 추가로 향상시킬 수 있다. 연신필름을 얻기 위한 연신방법으로서는 종래 공지의 연신방법을 적용할 수 있다. 예를 들면, 자유폭 1축 연신, 정폭 1축 연신 등의 1축 연신; 순차 2축연신, 동시 2축 연신 등의 2축 연신; 필름의 연신 시에 그 편면 또는 양면에 수축성 필름을 접착해서 적층체를 형성하고, 그 적층체를 가열 연신처리해서 필름에 연신 방향과 직교하는 방향의 수축력을 부여하는 것에 의해, 연신 방향과 두께 방향으로 각각 배향한 분자군이 혼재하는 복굴절성 필름을 얻는 연신 등을 들 수 있다. 필름의 내절성 등의 기계적 강도가 향상하는 관점에서 2축 연신이 바람직하게 사용된다. 또, 필름면 내가 임의의 직교하는 2방향에 대한 내절성 등의 기계적 강도가 향상한다는 관점에서 동시 2축연신이 바람직하게 사용된다. 면내가 임의의 직교하는 2방향으로서는 예를 들면, 필름면 내의 지상측(slow axis)과 평행 방향 및 필름면 내의 지상측과 수직방향을 들 수 있다. 또, 연신배율 연신 온도, 연신속도 등의 연신 조건은 소망하는 기계적 강도나 위상차값에 따라서 적당하게 설정할 수 있고, 특별하게 한정되지 않는다.In the case of forming a film by a melt extrusion method, it can be formed into a stretched film by stretching. By stretching, the mechanical strength of the film can be further improved. As a stretching method for obtaining a stretched film, a conventionally known stretching method can be applied. For example, uniaxial stretching such as free width uniaxial stretching and constant width uniaxial stretching; Biaxial stretching such as sequential biaxial stretching and simultaneous biaxial stretching; When the film is stretched, a shrinkable film is adhered to one or both sides thereof to form a laminate, and the laminate is heat-stretched to give the film a shrinking force in a direction orthogonal to the stretching direction. And stretching to obtain a birefringent film in which each oriented molecular group is mixed. Biaxial stretching is preferably used from the viewpoint of improving the mechanical strength such as the cutting resistance of the film. In addition, simultaneous biaxial stretching is preferably used from the viewpoint of improving mechanical strength such as cutting resistance in two directions that are perpendicular to the inside of the film surface. Examples of the two directions in which the inside of the plane is arbitrarily orthogonal include a direction parallel to the slow axis in the film plane and a direction perpendicular to the slow axis in the film plane. In addition, stretching conditions, such as a stretching ratio stretching temperature and a stretching speed, can be appropriately set according to a desired mechanical strength or a retardation value, and are not particularly limited.

연신 장치로서는 예를 들면, 롤 연신기, 텐터형 연신기, 소형의 실험용 연신 장치로서 인장 시험기, 1축 연신기, 순차 2축 연신기, 동시 2축 연신기 등을 들 수 있고, 이것들의 어느 쪽의 장치를 사용할 수 있다.Examples of the stretching device include a roll stretching machine, a tenter-type stretching machine, a tensile testing machine as a small experimental stretching device, a uniaxial stretching machine, a sequential biaxial stretching machine, and a simultaneous biaxial stretching machine. You can use your device.

연신 온도로서는 공중합체(P) 또는 수지 조성물(Q)의 가장 높은 유리전이온도 부근에서 실시하는 것이 바람직하다. 구체적으로는 가장 높은 유리전이온도 -30℃∼가장 높은 유리전이온도 +50℃의 범위 내에서 실시하는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 가장 높은 유리전이온도 -20℃∼가장 높은 유리전이온도 +45℃의 범위 내, 더욱 바람직하게는 가장 높은 유리전이온도 -10℃∼가장 높은 유리전이온도 +40℃의 범위 내이다. 가장 높은 유리전이온도 -30℃보다도 낮으면, 충분한 연신배율이 수득되지 않을 경우가 있다. 가장 높은 유리전이온도 +50℃보다도 높으면, 수지의 유동(플로우)이 발생해서 안정된 연신이 실시하기 어려워진다.The stretching temperature is preferably carried out near the highest glass transition temperature of the copolymer (P) or resin composition (Q). Specifically, it is preferable to carry out within the range of the highest glass transition temperature -30°C to the highest glass transition temperature +50°C, more preferably the highest glass transition temperature -20°C to the highest glass transition temperature +45 It is in the range of °C, more preferably in the range of the highest glass transition temperature -10 °C to the highest glass transition temperature +40 °C. If it is lower than the highest glass transition temperature -30°C, there are cases where a sufficient draw ratio cannot be obtained. If it is higher than the highest glass transition temperature of +50°C, flow (flow) of the resin occurs, making it difficult to perform stable stretching.

면적비로 정의한 연신배율은 바람직하게는 1.1∼30배의 범위 내, 더 바람직하게는 1.2∼20배의 범위 내, 더욱 바람직하게는 1.3∼10배의 범위 내이다. 한 방향으로 연신하는 경우, 그 일방향에 대한 연신배율은 바람직하게는 1.05∼10배의 범위 내, 더 바람직하게는 1.1∼7배의 범위 내, 더욱 바람직하게는 1.2∼5배의 범위 내이다. 연신배율을 이러한 범위 내로 설정함으로써, 연신에 따른 필름의 기계적 강도 향상 등의 효과가 호적하게 수득되기 쉬워진다.The draw ratio defined by the area ratio is preferably in the range of 1.1 to 30 times, more preferably in the range of 1.2 to 20 times, and still more preferably in the range of 1.3 to 10 times. In the case of stretching in one direction, the stretching ratio in one direction is preferably in the range of 1.05 to 10 times, more preferably in the range of 1.1 to 7 times, and still more preferably in the range of 1.2 to 5 times. By setting the draw ratio within this range, it becomes easy to obtain favorable effects such as improvement in mechanical strength of the film according to stretching.

연신속도(1방향)로서는 바람직하게는 10∼20, 000%/분의 범위 내, 더 바람직하게는 100∼10, 000%/분의 범위 내이다. 10%/분보다도 느리면, 충분한 연신배율을 얻기 위해서 시간이 걸리고, 제조 코스트가 높아지는 경향이 된다. 20, 000%/분보다도 빠르면, 연신필름의 파단 등이 발생할 우려가 있다.The stretching speed (one direction) is preferably in the range of 10 to 20, 000%/min, more preferably in the range of 100 to 10,000%/min. If it is slower than 10%/min, it takes time to obtain a sufficient draw ratio, and the manufacturing cost tends to increase. If it is faster than 20, 000%/min, there is a concern that rupture of the stretched film may occur.

연신필름을 광학필름에 적용하는 경우에는 광학필름의 광학특성 및 기계적 특성을 안정되게 하기 위해서, 연신 후, 필요에 따라서 열처리(어닐링)을 실시하는 것이 바람직하다.When the stretched film is applied to the optical film, it is preferable to perform heat treatment (annealing) as necessary after stretching in order to stabilize the optical and mechanical properties of the optical film.

〔4. 광학필름〕〔4. Optical film)

공중합체(P) 또는 수지 조성물(Q)로부터 형성된 필름은 투명성이 뛰어나기 때문에 광학필름으로서 호적하게 사용할 수 있다. 이렇게 해서 수득된 광학필름은 기계적 강도와 내열성이 우수한 것이 된다. 광학필름은 연신필름일 수도 있고, 미연신 필름일 수도 있다. 광학 필름으로서는 예를 들면, 광학용 보호 필름(구체적으로는, 각종 광 디스크(VD, CD, DVD, MD, LD 등)의 기판의 보호 필름), 액정디스플레이 등의 화상표시장치가 구비하는 편광판에 사용하는 편광자 보호 필름, 시야각 보상 필름, 광확산 필름, 반사 필름, 반사 방지 필름, 방현 필름, 휘도향상 필름, 터치패널용 도전 필름, 위상차 필름 등을 들 수 있다.Since the film formed from the copolymer (P) or the resin composition (Q) is excellent in transparency, it can be suitably used as an optical film. The optical film thus obtained is excellent in mechanical strength and heat resistance. The optical film may be a stretched film or an unstretched film. As an optical film, for example, a protective film for optics (specifically, a protective film on a substrate of various optical disks (VD, CD, DVD, MD, LD, etc.)), a polarizing plate provided in an image display device such as a liquid crystal display A polarizer protective film to be used, a viewing angle compensation film, a light diffusion film, a reflective film, an antireflection film, an anti-glare film, a luminance improving film, a conductive film for touch panels, a retardation film, and the like are mentioned.

광학필름의 두께는 광학필름의 강도를 높이는 점에서 5㎛ 이상이 바람직하고, 15㎛ 이상이 더 바람직하고, 20㎛ 이상이 더욱 바람직하다. 한편, 광학필름의 박형화 관점에서 광학필름의 두께는 350㎛ 이하가 바람직하고, 200㎛ 이하가 더 바람직하고, 150㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 광학필름의 두께는 예를 들면, Mitutyo사의 디지매틱 마이크로미터를 사용해서 측정할 수 있다.The thickness of the optical film is preferably 5 µm or more, more preferably 15 µm or more, and even more preferably 20 µm or more in terms of increasing the strength of the optical film. On the other hand, from the viewpoint of thinning the optical film, the thickness of the optical film is preferably 350 μm or less, more preferably 200 μm or less, and even more preferably 150 μm or less. The thickness of the optical film can be measured using, for example, Mitutyo's Digimatic Micrometer.

광학필름은 높은 광선투과율을 가지는 것이 바람직하고, 예를 들면 전체 광선 투과율이 70% 이상이 바람직하고, 80% 이상이 더 바람직하고, 90% 이상이 더욱 바람직하다.It is preferable that the optical film has a high light transmittance, for example, the total light transmittance is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more.

광학필름은 투명성을 높이는 점에서, 헤이즈가 5.0% 이하인 것이 바람직하고, 3.0% 이하가 더 바람직하고, 1.0% 이하가 더욱 바람직하다. 또 내부 헤이즈가 5.0% 이하인 것이 바람직하고, 3.0% 이하인 것이 더 바람직하고, 2.0% 이하가 더욱 바람직하고, 1.0% 이하가 더욱 더 바람직하다.The optical film preferably has a haze of 5.0% or less, more preferably 3.0% or less, and even more preferably 1.0% or less from the viewpoint of enhancing transparency. Further, the internal haze is preferably 5.0% or less, more preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, and even more preferably 1.0% or less.

광학필름은 파장 589nm의 광에 대한 면내 위상차Re가 0nm 이상 1000nm 이하, 상기 광에 대한 두께 방향의 위상차Rth가 -1000nm 이상 1000nm 이하인 것이 바람직하다. 더 바람직하게는 Re가 0nm 이상 100nm 이하, Rth가 -100nm 이상 100nm 이하이고, 더욱 바람직하게는 Re가 0nm 이상 50nm 이하, Rth가 -30nm 이상 30nm 이하이고, 특히 바람직하게는 Re가 0nm 이상 10nm 이하, Rth가 -10nm 이상 10nm 이하이다. 이러한 면내 위상차 Re 및 두께 방향의 위상차 Rth를 나타내는 광학필름은 양호한 시야각 특성이나 콘트라스트 특성을 가지는 것이 되고, 액정디스플레이를 비롯하는 화상표시장치에 호적하게 적용할 수 있는 것이 된다. 또, 면내 위상차Re는 Re = (nx-ny)×d로 정의되고, 두께 방향의 위상차Rth는 Rth = d×{(nx+ny)/2-nz}로 정의되고, nx는 필름면 내의 지상측(slow axis) 방향(필름면 내에서 굴절율이 최대가 되는 방향)의 굴절율, ny는 필름면 내에서 nx와 수직방향의 굴절율, nz는 필름 두께 방향의 굴절율, d는 필름의 두께(nm)을 나타낸다.The optical film preferably has an in-plane retardation Re of 0 nm or more and 1000 nm or less with respect to light having a wavelength of 589 nm, and a retardation Rth of -1000 nm or more and 1000 nm or less with respect to the light. More preferably, Re is 0 nm or more and 100 nm or less, Rth is -100 nm or more and 100 nm or less, More preferably Re is 0 nm or more and 50 nm or less, Rth is -30 nm or more and 30 nm or less, Particularly preferably Re is 0 nm or more and 10 nm or less , Rth is -10nm or more and 10nm or less. An optical film that exhibits such an in-plane retardation Re and a retardation Rth in the thickness direction has good viewing angle characteristics and contrast characteristics, and can be suitably applied to image display devices including liquid crystal displays. In addition, the in-plane retardation Re is defined as Re = (nx-ny)×d, the retardation Rth in the thickness direction is defined as Rth = d×{(nx+ny)/2-nz}, and nx is the ground in the film plane Refractive index in the slow axis direction (the direction in which the refractive index is the largest in the film plane), ny is the refractive index in the direction perpendicular to nx, nz is the refractive index in the film thickness direction, d is the thickness of the film (nm) Represents.

광학필름은 공중합체(P) 또는 수지 조성물(Q)로 형성된 필름만으로 구성되어 있을 수도 있고, 당해 필름에 다른 광학재료가 적층되어 구성되어 있을 수도 있다. 다른 광학재료가 적층되는 것에 의해, 광학필름에 추가로 광학특성을 부여할 수 있다. 다른 광학재료로서는 예를 들면, 편광판, 폴리카보네이트제 연신 배향 필름, 환상 폴리올레핀제 연신 배향 필름 등을 들 수 있다.The optical film may be composed of only a film formed of a copolymer (P) or a resin composition (Q), or may be composed by laminating other optical materials on the film. By laminating other optical materials, additional optical properties can be imparted to the optical film. As another optical material, a polarizing plate, a polycarbonate stretch oriented film, a cyclic polyolefin stretch oriented film, etc. are mentioned, for example.

광학필름의 표면에는 필요에 따라서, 각 종기능성 코팅층이 설치될 수 있다. 기능성 코팅층으로서는 예를 들면, 대전방지층, 점착/접착제층, 접착층, 이접착층, 방현(non-glare)층, 광촉매층 등의 방오층, 반사 방지층, 하드코팅층, 자외선 차폐층, 열선 차폐층, 전자파 차폐층, 가스 배리어층 등을 들 수 있다. 또, 광학필름의 표면에 입사하는 광선의 투과율 또는 반사율을 적당하게 조정하기 위한 광학조정층이 설치될 수도 있다. Each functional coating layer may be installed on the surface of the optical film as necessary. As a functional coating layer, for example, an antistatic layer, an adhesive/adhesive layer, an adhesive layer, an easily adhesive layer, a non-glare layer, an antifouling layer such as a photocatalyst layer, an antireflection layer, a hard coating layer, an ultraviolet ray shielding layer, a heat ray shielding layer, an electromagnetic wave A shielding layer, a gas barrier layer, etc. are mentioned. In addition, an optical adjustment layer for appropriately adjusting the transmittance or reflectance of light incident on the surface of the optical film may be provided.

본 발명의 광학필름은 특히 편광자보호 필름에 호적하게 사용할 수 있다. 편광자 보호 필름은 공중합체(P)를 포함하는 이외는 특별히 제한은 되지 않는다. 광학필름을 편광자 보호 필름에 적용하는 경우에는, 편광자의 편면 또는 양면에 광학필름(편광자 보호 필름)을 설치하고, 편광판을 구성할 수 있다. 광학필름(편광자 보호 필름)은 편광자에 직접 또는 다른 층을 통해서 간접적으로 접착제나 점착제에서 고정되는 것이 바람직하다.The optical film of the present invention can be particularly suitably used for a polarizer protective film. The polarizer protective film is not particularly limited except that the copolymer (P) is included. When the optical film is applied to the polarizer protective film, an optical film (polarizer protective film) may be provided on one or both sides of the polarizer to constitute a polarizing plate. The optical film (polarizer protective film) is preferably fixed with an adhesive or pressure-sensitive adhesive directly to the polarizer or indirectly through another layer.

편광자의 종류는 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면, 폴리비닐알코올 필름을 염색 및 연신한 편광자; 탈수처리한 폴리비닐알코올 또는 탈염산 처리한 폴리염화 비닐 등의 폴리엔 편광자; 다층적층체 혹은 콜레스테릭 액정을 사용한 반사형 편광자; 박막 결정 필름으로 이루어지는 편광자 등을 들 수 있다. 편광판의 구조 일례로서는 폴리비닐알코올을 요오드 또는 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의해 염색한 후에 1축 연신해서 편광자를 얻고, 이 편광자의 편면 또는 양면에 편광자 보호 필름(광학필름)을 설치한 구조를 들 수 있다.The kind of polarizer is not particularly limited, and examples thereof include a polarizer dyed and stretched with a polyvinyl alcohol film; Polyene polarizers such as dehydration-treated polyvinyl alcohol or dehydrochloric acid-treated polyvinyl chloride; A reflective polarizer using a multilayered body or a cholesteric liquid crystal; A polarizer made of a thin-film crystal film, etc. are mentioned. An example of the structure of a polarizing plate is a structure in which polyvinyl alcohol is dyed with a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye, and then uniaxially stretched to obtain a polarizer, and a polarizer protective film (optical film) is installed on one or both sides of the polarizer. Can be mentioned.

광학필름은 표면에 투명도전층을 형성하는 것에 의해, 투명도전 필름으로서 사용할 수도 있다. 투명도전층을 구성하는 재료로서는 종래, 당해 분야에서 도전성 재료로 해서 사용되고 있는 것은 모두 사용가능하다. 구체적으로는 유기 도전성 화합물; 유기 도전성 폴리머; 산화인듐, 산화 주석, 산화아연, 인듐-주석산화물(ITO), 안티몬-주석산화물(ATO), 아연-알루미늄 산화물, 인듐-아연산화물(IZO) 등의 금속산화물; 금, 은, 구리, 팔라듐, 알루미늄 등의 금속을 들 수 있다.The optical film can also be used as a transparent conductive film by forming a transparent conductive layer on the surface. As the material constituting the transparent conductive layer, any material that has been conventionally used as a conductive material in the art can be used. Specifically, an organic conductive compound; Organic conductive polymer; Metal oxides such as indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-tin oxide (ATO), zinc-aluminum oxide, and indium-zinc oxide (IZO); Metals, such as gold, silver, copper, palladium, and aluminum, are mentioned.

본 발명의 광학필름(예를 들면, 편광자 보호 필름, 투명도전 필름)은 화상표시장치에 호적하게 사용할 수 있다. 화상표시장치로서는 예를 들면, 액정표시장치 등을 들 수 있다. 예를 들면 액정표시장치의 경우, 화상표시부가 액정 셀, 편광판, 백라이트 등의 부재와 함께, 본 발명의 광학필름을 가지도록 구성할 수 있다. 액정표시장치 이외의 화상표시장치로서는 예를 들면, 일렉트로루미네선스(EL) 디스플레이 패널, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전계 방출 디스플레이(FED), QLED, 마이크로 LED 등을 들 수 있다.The optical film of the present invention (eg, a polarizer protective film, a transparent conductive film) can be suitably used for an image display device. As an image display device, a liquid crystal display device etc. are mentioned, for example. For example, in the case of a liquid crystal display device, the image display unit can be configured to have the optical film of the present invention together with members such as a liquid crystal cell, a polarizing plate, and a backlight. Examples of image display devices other than liquid crystal display devices include an electroluminescence (EL) display panel, a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), a QLED, a micro LED, and the like.

본원은 2017년 01월 13일에 출원된 일본국특허출원 제2017-004468호에 의거하는 우선권의 이익을 주장하는 것이다. 2017년 01월 13일에 출원된 일본국특허출원 제2017-004468호의 명세서의 전체 내용이 본원에 참고를 위해서 원용된다.This application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2017-004468 filed on January 13, 2017. The entire contents of the specification of Japanese Patent Application No. 2017-004468 filed on January 13, 2017 are incorporated herein by reference.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예 및 비교예를 나타내서 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것들에 의해서 한정되는 것은 아니다. 또, 이하의 설명에서는 특별히 언급하지 않는 한, 「부」는 「질량부」를, 「%」는 「질량%」를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, in the following description, "part" represents "mass part" and "%" represents "mass%" unless otherwise noted.

(1) 분석 방법(1) Analysis method

(1-1) 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)(1-1) Weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn)

중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은 겔투과크로마토그래피(GPC)를 사용하고, 폴리스티렌 환산에 의해 산출했다. 측정에 사용한 장치 및 측정 조건은 아래와 같다.The weight average molecular weight and number average molecular weight were calculated in terms of polystyrene using gel permeation chromatography (GPC). The apparatus and measurement conditions used for the measurement are as follows.

- 측정 시스템: TOSOH CORPORATION, GPC 시스템 HLC-8220-Measurement system: TOSOH CORPORATION, GPC system HLC-8220

- 측정측 칼럼 구성-Measurement column configuration

가드칼럼: TOSOH CORPORATION, TSKguardcolumn Super HZ-LGuard column: TOSOH CORPORATION, TSKguardcolumn Super HZ-L

분리칼럼: TOSOH CORPORATION, TSKgel SuperHZM-M 2개 직렬접속Separation column: TOSOH CORPORATION, TSKgel SuperHZM-M 2 serial connection

-레퍼런스측 칼럼 구성-Reference side column configuration

레퍼런스 칼럼: TOSOH CORPORATION, TSKgel SuperH-RCReference column: TOSOH CORPORATION, TSKgel SuperH-RC

-전개용매: 클로로폼(Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 특급)-Development solvent: Chloroform (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Limited)

-용매유량: 0.6mL/분-Solvent flow rate: 0.6mL/min

-표준시료: TSK표준 폴리스티렌(TOSOH CORPORATION, PS-올리고머 키트)-Standard sample: TSK standard polystyrene (TOSOH CORPORATION, PS-oligomer kit)

(1-2) 유리전이온도(Tg)(1-2) Glass transition temperature (Tg)

유리전이온도는 JIS K 7121(2012)에 준거해서 산출했다. 구체적으로는, 시차주사 열량계(Rigaku Corporation, Thermo plus EVO DSC-8230)를 사용하고, 질소가스 분위기 하, 약 10mg의 샘플을 상온에서 300℃까지 승온(승온속도20℃/분)해서 수득된 DSC곡선으로부터, 시점법에 의해 평가했다. 레퍼런스에는 α-알루미나를 사용했다. 40℃ 미만의 유리전이온도는 시차주사 열량계(Netch Co., Ltd., DSC-3500)을 사용하고, 질소가스 분위기 하, 샘플을 -100℃에서 60℃까지 승온(승온속도10℃/분)해서 수득된 DSC곡선으로부터, 시점법에 의해 평가했다. 레퍼런스에는 빈 용기를 사용했다.The glass transition temperature was calculated based on JIS K 7121 (2012). Specifically, DSC obtained by using a differential scanning calorimeter (Rigaku Corporation, Thermo plus EVO DSC-8230) and heating about 10 mg of a sample from room temperature to 300°C (heating rate 20°C/min) under a nitrogen gas atmosphere. From the curve, it evaluated by the viewpoint method. Α-alumina was used as a reference. For the glass transition temperature of less than 40℃, a differential scanning calorimeter (Netch Co., Ltd., DSC-3500) was used, and the sample was heated from -100℃ to 60℃ under a nitrogen gas atmosphere (heating rate 10℃/min). From the thus obtained DSC curve, it was evaluated by the viewpoint method. An empty container was used for the reference.

(1-3) 모노머 반응율(1-3) Monomer reaction rate

모노머 반응율(전환율)은 가스크로마토그래피(Shimadzu Corporation., GC-2014)를 사용해서, 중합반응액 중의 잔존 단량체량을 측정하는 것에 의해 산출했다.The monomer reaction rate (conversion rate) was calculated by measuring the amount of residual monomer in the polymerization reaction liquid using gas chromatography (Shimadzu Corporation., GC-2014).

(1-4) 겔화 평가(여과 시험)(1-4) Gelation evaluation (filtration test)

필터 여과 시험에 의해 수지 조성물의 겔화 평가를 실시했다. 선단에 필터(GL Sciences Inc., 크로마토 디스크 13N, 포어 직경 0.45㎛)을 장착한 플래스틱 시린지를 사용해서 수지 조성물에 0.1질량% 클로로폼 용액을 여과하고, 2mL 전량 여과할 수 있으면 ○로, 도중에 필터가 막히고, 용액이 2mL여과되지 않으면 ×로 평가했다.The gelation evaluation of the resin composition was performed by the filter filtration test. Using a plastic syringe equipped with a filter (GL Sciences Inc., chromatographic disk 13N, pore diameter 0.45 µm) at the tip of the resin composition, a 0.1% by mass chloroform solution is filtered through the resin composition. If clogged and the solution was not filtered by 2 mL, it was evaluated as x.

(1-5) 클로로폼 불용분(1-5) Chloroform insoluble

수지 조성물 1g를 클로로폼 20g에 첨가하고, 이것을 포어 직경 0.5㎛의 멤브레인 필터(ADVANTEC사, T050A 047A)로 여과하고, 여과 후의 멤브레인 필터를 건조시켰다. 여과 전의 멤브레인 필터의 질량 M0(g), 여과 후의 건조 후의 멤브레인 필터의 질량 M1(g )부터, 다음 식에 따라서 수지 조성물의 클로로폼 불용분을 요구했다: 클로로폼 불용분(질량%) = (M1-M0)/1×100.1 g of the resin composition was added to 20 g of chloroform, and this was filtered through a membrane filter (ADVANTEC, T050A 047A) having a pore diameter of 0.5 μm, and the filtered membrane filter was dried. From the mass M 0 (g) of the membrane filter before filtration and the mass M 1 (g) of the membrane filter after filtration after drying, the chloroform insoluble content of the resin composition was required according to the following equation: Chloroform insoluble content (% by mass) = (M 1 -M 0 )/1×100.

(1-6) 파괴에너지(낙구 시험)(1-6) Breaking energy (falling ball test)

파괴에너지는 다음과 같이 해서 산출했다. 처음에, 수지 조성물을 열프레스에 의해 막을 제조하고, 두께 160㎛의 필름(미연신 필름)으로 했다. 다음에, 이 필름 위에, 일정 높이로부터 질량 0.0054kg의 구를 떨어뜨리는 시험을 10회 실시하고, 필름이 파괴되었을 때의 높이(파괴 높이)의 평균값을 산출했다. 구체적으로는, 높이를 수 단계로 설정하고, 낮은 높이로부터 차례로 구를 떨어뜨려 갔을 때에, 필름이 깨어진 높이를 산출하고, 이것을 10회 반복해서 필름이 깨어진 높이를 10회분 계산하고, 이것을 평균한 값을 파괴 높이로서 산출했다. 필름이 파괴 여부는 필름으로의 낙구 후, 당해 필름에 변형이 있었는지의 여부를 육안으로 확인해서 판단했다. 변형이 인정된 경우, 필름이 파괴되었고 했다. 다음 식에 따라서 파괴에너지(E)를 산출했다: 파괴에너지E(mJ) = 구의 질량(kg) × 파괴 높이 평균값(mm) × 9.8(m/s2).The destruction energy was calculated as follows. First, a film was formed from the resin composition by hot pressing to obtain a 160 µm-thick film (unstretched film). Next, on this film, a test of dropping a sphere having a mass of 0.0054 kg from a constant height was performed 10 times, and the average value of the height (break height) when the film was destroyed was calculated. Specifically, when the height is set in several steps, the height at which the film is broken is calculated when the sphere is dropped from the lower height in order, and this is repeated 10 times to calculate the height at which the film is broken for 10 times, and the average value Was calculated as the breaking height. Whether or not the film was broken was judged by visually checking whether or not the film had any deformation after falling into the film. If deformation was observed, the film had been broken. Breakdown energy (E) was calculated according to the following equation: Breakdown energy E(mJ) = sphere mass (kg) x average break height (mm) x 9.8 (m/s 2 ).

(1-7) 전체 광선 투과율(1-7) total light transmittance

수지 조성물을 열프레스에 의해 막을 제조하고, 두께 160㎛의 필름(미연신 필름)을 얻고, 이것을 헤이즈미터(NIPPON DENSHOKU INDSUTRIES CO., LTD., NDH-5000)을 사용해서 전체 광선 투과율을 측정했다.The resin composition was heat-pressed to form a film, and a 160 µm-thick film (unstretched film) was obtained, and the total light transmittance was measured using a haze meter (NIPPON DENSHOKU INDSUTRIES CO., LTD., NDH-5000). .

(1-8) 내부 헤이즈(1-8) internal haze

수지 조성물을 250℃로 열프레스 성형하고, 두께 약 160㎛의 필름(미연신 필름)을 제작했다. 석영 셀에 1,2,3,4-테트라하이드로나프탈린(테트랄린)을 채우고, 그 안에 제작한 필름을 침지시키고, 헤이즈미터(NIPPON DENSHOKU INDSUTRIES CO., LTD., NDH-5000)을 사용해서 헤이즈를 측정하고, 다음 식에 따라서 두께 100㎛당의 내부 헤이즈를 산출했다: 두께 100㎛당의 내부 헤이즈(%) = 수득된 측정값(%) × (100㎛/필름의 두께(㎛)). 또, 측정은 3장의 필름을 사용해서 실시하고, 그 평균값으로부터 두께 100㎛당의 내부 헤이즈를 산출했다.The resin composition was hot-press molded at 250° C. to prepare a film (unstretched film) having a thickness of about 160 μm. A quartz cell was filled with 1,2,3,4-tetrahydronaphthalin (tetraline), the film produced therein was immersed, and a haze meter (NIPPON DENSHOKU INDSUTRIES CO., LTD., NDH-5000) was used. Thus, the haze was measured, and the internal haze per 100 µm in thickness was calculated according to the following equation: Internal haze per 100 µm in thickness (%) = obtained measured value (%) x (100 µm/thickness of film (µm)). Moreover, the measurement was performed using three films, and the internal haze per 100 micrometers of thickness was computed from the average value.

(1-9) 분산상태(STEM에 의한 바다-섬 구조 사이즈의 관찰)(1-9) Dispersion state (observation of sea-island structure size by STEM)

수지 조성물을 250℃로 열프레스 성형하는 것에 의해 제작한 두께 160㎛의 필름(미연신 필름)을, 주사전자현미경(Hitachi High-Technologies Corporation., FE-SEMS-4800)에 의해, 필름의 상분리에 의한 분산상태(바다-섬 구조)을 관찰했다. 측정 조건은 가속전압 20kV, 에미션 전류 5μA 또는 10μA, W.D.=8mm으로 실시했다. 섬 사이즈는 임의의 10점의 섬부의 최대 길이를 측정하고, 그 평균값으로 산출했다.A 160 µm-thick film (unstretched film) produced by subjecting the resin composition to heat press molding at 250° C. was subjected to phase separation of the film using a scanning electron microscope (Hitachi High-Technologies Corporation., FE-SEMS-4800). The dispersion state (sea-island structure) was observed. Measurement conditions were carried out with an acceleration voltage of 20 kV, an emission current of 5 µA or 10 µA, and W.D. = 8 mm. The island size measured the maximum length of an island portion of 10 arbitrary points, and calculated as the average value.

(1-10) MIT 내절도 시험(내절강도)(1-10) MIT cut resistance test (cut resistance strength)

수지 조성물을 250℃로 열프레스 성형하고, 두께 160㎛의 미연신 필름을 얻었다. 수득된 미연신 필름을 96mm×96mm의 크기로 잘라내고, 순차 2축 연신기(Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd., X-6S)를 사용하고, 수지 조성물의 Tg+24℃의 온도에서 240mm/분의 연신속도로 종 방향(MD 방향) 및 횡 방향(TD 방향)의 차례로 각각 연신배율이 2배가 되도록 순차 2축연신을 실시하고, 냉각하는 것에 의해, 두께 40㎛의 연신필름을 얻었다. 수득된 연신필름을 90mm×15mm의 크기에 잘라내서 시험편으로 하고, MIT 내절도 시험기(TESTER SANGYO CO.,LTD., BE-201)를 사용해서 온도 23℃, 상대습도 50%의 분위기 중에서 하중 200g를 가하고, JIS P 8115(2001)에 준거해서 MIT 내절도 시험 횟수를 측정했다.The resin composition was hot press molded at 250° C. to obtain an unstretched film having a thickness of 160 μm. The obtained unstretched film was cut out to a size of 96 mm x 96 mm, and a sequential biaxial stretching machine (Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd., X-6S) was used, and the resin composition was 240 mm / at a temperature of Tg + 24 °C. Biaxial stretching was sequentially performed so that the stretching ratio was doubled in the longitudinal direction (MD direction) and the transverse direction (TD direction) at a stretching speed of minutes, and cooling was performed to obtain a stretched film having a thickness of 40 µm. The obtained stretched film was cut into a size of 90 mm×15 mm to form a test piece, and a load of 200 g was applied in an atmosphere having a temperature of 23°C and a relative humidity of 50% using an MIT cut resistance tester (TESTER SANGYO CO., LTD., BE-201). Then, according to JIS P 8115 (2001), the number of MIT cutting resistance tests was measured.

(1-11) Trouser 인열강도(찢김 강도)(1-11) Trouser tear strength (tear strength)

JIS K 7128-1(1998)에 준거해서, Trouser 인열강도를 산출했다. 구체적으로는, 상기 (1-10)항의 기재를 따라서 수득된 연신필름을 120mm×30mm의 크기에 잘라내고, 온도 23℃, 상대습도 50%의 분위기 하에 1시간 이상 방치시키고 나서 시험편으로 하고, 오토그래프(Shimadzu Corporation., AGS-X)를 사용해서 200mm/분의 시험 속도로 시험을 실시하고, 인열 개시의 20mm와 인열 종료 전의 5mm를 제외한 35mm의 인열력의 평균값을 산출하고, 5장의 샘플의 평균값을 측정결과로 했다.According to JIS K 7128-1 (1998), Trouser tear strength was calculated. Specifically, the stretched film obtained according to the above (1-10) was cut into a size of 120 mm x 30 mm, left to stand in an atmosphere of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50% for at least 1 hour, and then used as a test piece. Using a graph (Shimadzu Corporation., AGS-X), the test was conducted at a test speed of 200 mm/min, and the average value of the tearing force of 35 mm excluding 20 mm at the start of tearing and 5 mm before the end of tearing was calculated, and the five samples were The average value was taken as the measurement result.

(1-12) 위상차(1-12) phase difference

상기 (1-10)항의 기재를 따라서 수득된 연신필름을, 전자동복굴절계(Oji Scientific Instruments., KOBRA-WR)를 사용해서 입사각 40°의 조건으로 파장 590nm의 광에 대한 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차 Rth를 측정했다. 필름의 면내에서의 지상측(slow axis) 방향의 굴절율을 nx, 필름의 면내에 있어서의 진상측(faxt axis) 방향의 굴절율을 ny, 필름의 두께 방향의 굴절율을 nz, 필름의 두께를 d로 해서, 하기 식으로부터 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth를 각각 산출했다.The stretched film obtained according to the description in (1-10) above was subjected to in-plane retardation Re and thickness direction for light having a wavelength of 590 nm under the condition of an incident angle of 40° using a fully automatic birefringence meter (Oji Scientific Instruments., KOBRA-WR). The phase difference Rth of was measured. The refractive index in the slow axis direction in the plane of the film is nx, the refractive index in the faxt axis direction in the plane of the film is ny, the refractive index in the thickness direction of the film is nz, and the thickness of the film is d. Then, the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction were respectively calculated from the following equation.

면내 위상차Re = (nx-ny)×dIn-plane retardation Re = (nx-ny)×d

두께 방향 위상차Rth = [(nx+ny)/2-nz]×dThickness direction retardation Rth = [(nx+ny)/2-nz]×d

(2) 수지 조성물의 제조(2) Preparation of resin composition

(2-1) (2-1) 실시예Example 1: 수지 조성물(A-1)의 조제 1: Preparation of resin composition (A-1)

교반장치, 온도센서, 냉각관, 질소도입관을 구비한 반응기에, 폴리이소프렌의 무수 말레산 부가물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물(KURARAY CO., LTD., UC-102M) 3부, 메틸메타크릴산(MMA) 26부, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 메틸(MHMA) 1부, 중합용매로서 톨루엔 50부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키며넛 105℃까지 승온시켰다. 그 후 개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX(등록상표) 570)을 0.09부 첨가하고, 105∼110℃에서 용액중합을 30분간 실시했다. 여기에 환화 촉매로서 인산 스테아릴을 0.01부 부가하고, 10분간 반응을 실시했다. 이것에 의해, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌 쇄에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물이 수득되었다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 16%, MHMA의 반응율은 10%이었다. 반응율로부터 계산한 폴리이소프렌 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)은 MMA:MHMA = 97.7:2.3이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 96.2질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 3.5질량%이었다. 반응액을 일부 꺼내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다.In a reactor equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, an esterified product of a maleic anhydride adduct of polyisoprene and 2-hydroxyethyl methacrylate (KURARAY CO., LTD., UC-102M). ) 3 parts, 26 parts of methyl methacrylic acid (MMA), 1 part of 2-(hydroxymethyl) methyl acrylate (MHMA), and 50 parts of toluene as a polymerization solvent were added, and the temperature was raised to 105°C while passing nitrogen. . Then, 0.09 parts of t-amyl peroxy isononanoate (ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX (registered trademark) 570) was added as an initiator, and solution polymerization was performed at 105 to 110°C for 30 minutes. 0.01 part of stearyl phosphate was added here as a cyclization catalyst, and reaction was performed for 10 minutes. Thereby, a resin composition containing a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer and a graft polymer in which the polymer chain was grafted onto a polyisoprene chain was obtained. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 16%, and the reaction rate of MHMA was 10%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain bound to the polyisoprene chain calculated from the reaction rate and the (meth)acrylic polymer is MMA:MHMA = 97.7:2.3, and the unit content ratio derived from (meth)acrylic acid ester Silver was 96.2 mass% and the content ratio of the ring structural unit was 3.5 mass%. When a part of the reaction liquid was taken out and a filtration test was performed, it was possible to perform filtration suitably.

다음에, 수득된 반응 용액에 메틸에틸케톤(MEK) 50부를 첨가해서 희석하고, 이것을 포어 직경 10㎛의 PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌)제 필터로 여과를 실시한 후, 대량의 메탄올 중에 교반하면서 천천히 첨가했다. 이때 침전한 백색의 고체를 뽑아내고, 2.6kPa, 80℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌 쇄에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물(A-1)을 얻었다. 수지 조성물(A-1)의 중량 평균 분자량은 13.8만, 수평균 분자량은 3.8만, 클로로폼 불용분은 2%이었다.Next, 50 parts of methyl ethyl ketone (MEK) were added to the obtained reaction solution, diluted, filtered through a filter made of PTFE (polytetrafluoroethylene) having a pore diameter of 10 μm, and then slowly stirred in a large amount of methanol. Added. At this time, the precipitated white solid was removed, dried at 2.6 kPa, 80°C for about 1 hour, and the solvent was removed to contain a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer and a graft polymer in which the polymer chain was grafted onto a polyisoprene chain. To obtain a resin composition (A-1). The weight average molecular weight of the resin composition (A-1) was 138,000, the number average molecular weight was 38,000, and the chloroform insoluble content was 2%.

(2-2) (2-2) 실시예Example 2: 수지 조성물(A-2)의 조제 2: Preparation of resin composition (A-2)

교반장치, 온도센서, 냉각관, 질소도입관을 구비한 반응기에, 폴리이소프렌의 무수 말레산 부가물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물(KURARAY CO., LTD.제, UC-102M) 3부, 메틸메타크릴산(MMA) 23부, 페닐말레이미드(PMI) 3부, 중합용매로서 톨루엔 50부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서 105℃까지 승온시켰다. 그 후 개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX(등록상표) 570)을 0.09부 첨가하고, 105∼110℃에서 용액중합을 30분간 실시했다. 이것에 의해, 말레이미드환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌 쇄에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물을 얻었다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 14%, PMI의 반응율은 21%이었다. 반응율로부터 계산한 폴리이소프렌 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)은 MMA:PMI=83.6:16.4이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 83.6질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 16.4질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다.In a reactor equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, an esterified product of a maleic anhydride adduct of polyisoprene and 2-hydroxyethyl methacrylate (manufactured by KURARAY CO., LTD., UC- 102M) 3 parts, methyl methacrylic acid (MMA) 23 parts, phenylmaleimide (PMI) 3 parts, and 50 parts of toluene as a polymerization solvent were added, and the temperature was raised to 105°C while passing nitrogen thereto. Then, 0.09 parts of t-amyl peroxy isononanoate (ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX (registered trademark) 570) was added as an initiator, and solution polymerization was performed at 105 to 110°C for 30 minutes. Thereby, a resin composition containing a maleimide ring-containing (meth)acrylic polymer and a graft polymer in which the polymer chain was grafted onto a polyisoprene chain was obtained. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 14%, and the reaction rate of PMI was 21%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the polyisoprene chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI=83.6:16.4, and the unit content ratio derived from (meth)acrylic acid ester Silver was 83.6 mass% and the content ratio of the ring structural unit was 16.4 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably.

다음에, 수득된 반응 용액에 메틸에틸케톤(MEK) 50부를 첨가해서 희석하고, 이것을 포어 직경 10㎛의 PTFE제 필터로 여과를 실시한 후, 대량의 메탄올 중에 교반하면서 천천히 첨가했다. 그 때 침전한 백색의 고체를 뽑아내고, 2.6kPa, 80℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 말레이미드환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌 쇄에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물(A-2)을 얻었다. 수지 조성물(A-2)의 중량 평균 분자량은 11.1만, 수평균 분자량은 3.1만, 클로로폼 불용분은 3%이었다.Next, 50 parts of methyl ethyl ketone (MEK) were added and diluted to the obtained reaction solution, and this was filtered through a PTFE filter with a pore diameter of 10 µm, and then slowly added while stirring in a large amount of methanol. At that time, the precipitated white solid was removed, dried at 2.6 kPa, 80°C for about 1 hour, and the solvent was removed to remove the maleimide ring-containing (meth)acrylic polymer and the graft polymer in which the polymer chain was grafted onto a polyisoprene chain. A resin composition (A-2) containing was obtained. The weight average molecular weight of the resin composition (A-2) was 11.10,000, the number average molecular weight was 31,000, and the chloroform insoluble content was 3%.

(2-3) (2-3) 비교예Comparative example 1: 수지 조성물(A-3)의 조제 1: Preparation of resin composition (A-3)

교반장치, 온도센서, 냉각관, 질소도입관을 구비한 반응기에, 폴리이소프렌의 무수 말레산 부가물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물(KURARAY CO., LTD., UC-102M) 3부, 메틸메타크릴산(MMA) 27부, 중합용매로서 톨루엔 50부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서 105℃까지 승온시켰다. 그 후 개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX(등록상표) 570)을 0.09부 첨가하고, 105∼110℃에서 용액중합을 30분간 실시했다. 이것에 의해, 메틸메타크릴산 폴리머(PMMA)와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌 쇄에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물을 얻었다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 16%이었다.In a reactor equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, an esterified product of a maleic anhydride adduct of polyisoprene and 2-hydroxyethyl methacrylate (KURARAY CO., LTD., UC-102M). ) 3 parts, 27 parts of methyl methacrylic acid (MMA), and 50 parts of toluene as a polymerization solvent were added, and the temperature was raised to 105°C while passing nitrogen. Then, 0.09 parts of t-amyl peroxy isononanoate (ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX (registered trademark) 570) was added as an initiator, and solution polymerization was performed at 105 to 110°C for 30 minutes. Thereby, a resin composition containing a methyl methacrylic acid polymer (PMMA) and a graft polymer in which the polymer chain was grafted onto a polyisoprene chain was obtained. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 16%.

다음에, 수득된 반응 용액에 메틸에틸케톤(MEK) 50부를 첨가해서 희석한 후, 대량의 메탄올 중에 교반하면서 천천히 첨가했다. 그 때 침전한 백색의 고체를 뽑아내고, 2.6kPa, 80℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 메틸메타크릴산 폴리머(PMMA)와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌 쇄에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물(A-3)을 얻었다. 수지 조성물(A-3)의 중량 평균 분자량은 12.4만, 수평균 분자량은 3.1만이었다.Next, 50 parts of methyl ethyl ketone (MEK) were added and diluted to the obtained reaction solution, and then slowly added while stirring in a large amount of methanol. At that time, the precipitated white solid was removed, dried at 2.6 kPa, 80°C for about 1 hour, and the solvent was removed to obtain a methylmethacrylic acid polymer (PMMA) and a graft polymer in which the polymer chain was grafted onto a polyisoprene chain. The resin composition (A-3) to contain was obtained. The weight average molecular weight of resin composition (A-3) was 124,000, and the number average molecular weight was 31,000.

(2-4) (2-4) 비교예Comparative example 2: 수지 조성물(B-1)의 합성 2: Synthesis of resin composition (B-1)

교반장치, 온도센서, 냉각관, 질소도입관을 구비한 반응기에, 메틸메타크릴산(MMA) 48부, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 메틸(MHMA) 2부, 중합용매로서 톨루엔 50부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서 105℃까지 승온시켰다. 그 후 개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX(등록상표) 570)을 0.2부 첨가하고, 105∼110℃에서 용액중합을 180분간 실시했다. 여기에 환화 촉매로서 인산 스테아릴을 0.01부 첨가하고, 1시간 반응을 실시한 후, 오토클레이브 중에서 240℃, 1시간 가열했다. 이것에 의해, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 수지 조성물을 얻었다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 82%, MHMA의 반응율은 88%이었다. 반응율로부터 계산한 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA=95.7:4.3이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 93.1질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 6.4질량%이었다.To a reactor equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, 48 parts of methyl methacrylic acid (MMA), 2 parts of 2-(hydroxymethyl) methyl acrylate (MHMA), and 50 parts of toluene as a polymerization solvent are added. And it heated up to 105 degreeC, passing nitrogen through this. Then, 0.2 parts of t-amyl peroxy isononanoate (ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX (registered trademark) 570) was added as an initiator, and solution polymerization was performed at 105 to 110°C for 180 minutes. 0.01 part of stearyl phosphate was added here as a cyclization catalyst, and after reacting for 1 hour, it heated in an autoclave at 240 degreeC for 1 hour. Thereby, a resin composition containing a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer was obtained. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 82%, and the reaction rate of MHMA was 88%. The composition ratio (mass basis) of the lactone ring-containing (meth)acrylic polymer calculated from the reaction rate is MMA:MHMA=95.7:4.3, the unit content ratio derived from (meth)acrylic acid ester is 93.1% by mass, and the content ratio of the ring structural unit is It was 6.4 mass%.

다음에, 수득된 반응 용액에 메틸에틸케톤(MEK) 50부를 첨가해서 희석한 후, 대량의 메탄올 중에 교반하면서 천천히 첨가했다. 그 때 침전한 백색의 고체를 뽑아내고, 2.6kPa, 200℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 수지 조성물(B-1)을 얻었다. 수지 조성물(B-1)의 중량 평균 분자량은 13.8만, 수평균 분자량은 5.7만이었다.Next, 50 parts of methyl ethyl ketone (MEK) were added and diluted to the obtained reaction solution, and then slowly added while stirring in a large amount of methanol. The white solid precipitated at that time was taken out, dried at 2.6 kPa and 200° C. for about 1 hour, and the solvent was removed to obtain a resin composition (B-1) containing a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer. The weight average molecular weight of resin composition (B-1) was 138,000, and the number average molecular weight was 57,000.

(2-5) (2-5) 비교예Comparative example 3: 수지 조성물(B-2)의 조제 3: Preparation of resin composition (B-2)

교반장치, 온도센서, 냉각관, 질소도입관을 구비한 반응기에, 메틸메타크릴산(MMA) 47부, PMI3부, 중합용매로서 톨루엔 50부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서 105℃까지 승온시켰다. 그 후 개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX(등록상표) 570)을 0.2부 첨가하고, 105∼110℃에서 용액중합을 180분간 실시했다. 이것에 의해, 말레이미드환 함유 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 수지 조성물을 얻었다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 85%, PMI의 반응율은 82%이었다. 반응율로부터 계산한 말레이미드환 함유 (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI=94.2:5.8이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 94.2질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 5.8질량%이었다.In a reactor equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, 47 parts of methyl methacrylic acid (MMA), 3 parts of PMI, and 50 parts of toluene as a polymerization solvent are added, and the temperature is raised to 105°C while passing nitrogen through the reactor. Made it. Then, 0.2 parts of t-amyl peroxy isononanoate (ARKEMA Yoshitomi, Ltd., LUPEROX (registered trademark) 570) was added as an initiator, and solution polymerization was performed at 105 to 110°C for 180 minutes. Thereby, a resin composition containing a maleimide ring-containing (meth)acrylic polymer was obtained. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 85%, and the reaction rate of PMI was 82%. The composition ratio (mass basis) of the maleimide ring-containing (meth)acrylic polymer calculated from the reaction rate is MMA:PMI=94.2:5.8, the unit content ratio derived from (meth)acrylic acid ester is 94.2% by mass, and the content ratio of the cyclic structural unit Was 5.8% by mass.

다음에, 수득된 반응 용액에 메틸에틸케톤(MEK) 50부를 첨가해서 희석한 후, 대량의 메탄올 중에 교반하면서 천천히 첨가했다. 그 때 침전한 백색의 고체를 뽑아내고, 2.6kPa, 200℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 말레이미드환 함유 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 수지 조성물(B-2)을 얻었다. 수지 조성물(B-2)의 중량 평균 분자량은 12.9만, 수평균 분자량은 5.9만이었다.Next, 50 parts of methyl ethyl ketone (MEK) were added and diluted to the obtained reaction solution, and then slowly added while stirring in a large amount of methanol. The white solid precipitated at that time was taken out, dried at 2.6 kPa and 200° C. for about 1 hour, and the solvent was removed to obtain a resin composition (B-2) containing a maleimide ring-containing (meth)acrylic polymer. The weight average molecular weight of resin composition (B-2) was 12.9 million, and the number average molecular weight was 59,000.

(2-6) (2-6) 실시예Example 3: 수지 조성물(C-1)의 조제 3: Preparation of resin composition (C-1)

실시예 1에서 얻은 수지 조성물(A-1) 1부와 비교예 2에서 얻은 수지 조성물(B-1) 9부를 MEK 40부에 용해해서 혼합한 후, 2.6kPa, 150℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 수지 조성물(C-1)을 얻었다. 수지 조성물(C-1)의 중량 평균 분자량은 13.0만, 수평균 분자량은 5.9만이었다.1 part of the resin composition (A-1) obtained in Example 1 and 9 parts of the resin composition (B-1) obtained in Comparative Example 2 were dissolved and mixed in 40 parts of MEK, followed by drying at 2.6 kPa and 150° C. for about 1 hour. By removing the solvent, a resin composition (C-1) was obtained. The weight average molecular weight of resin composition (C-1) was 131,000, and the number average molecular weight was 59,000.

(2-7) (2-7) 실시예Example 4: 수지 조성물(C-2)의 조제 4: Preparation of resin composition (C-2)

실시예 2에서 얻은 수지 조성물(A-2) 1부와, 비교예 3에서 얻은 수지 조성물(B-2) 9부와, 자외선 흡수제(ADEKA CORPORATION, LA-31) 0.01부와, 산화방지제(BASF사, Irganox(등록상표) 1010) 0.001부와, 산화방지제(ADEKA CORPORATION, PEP-36) 0.001부를, MEK 40부에 용해해서 혼합한 후, 2.6kPa, 150℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 수지 조성물(C-2)을 얻었다. 수지 조성물(C-2)의 중량 평균 분자량은 13.2만, 수평균 분자량은 5.1만이었다.1 part of the resin composition (A-2) obtained in Example 2, 9 parts of the resin composition (B-2) obtained in Comparative Example 3, 0.01 part of an ultraviolet absorber (ADEKA CORPORATION, LA-31), and an antioxidant (BASF Inc., Irganox (registered trademark) 1010) 0.001 parts and antioxidant (ADEKA CORPORATION, PEP-36) 0.001 parts, dissolved and mixed in 40 parts of MEK, dried at 2.6 kPa, 150°C for about 1 hour, and the solvent was removed. By doing it, a resin composition (C-2) was obtained. The weight average molecular weight of resin composition (C-2) was 132,000, and the number average molecular weight was 51,000.

(2-8) (2-8) 비교예Comparative example 4: 수지 조성물(A-4)의 조제 4: Preparation of resin composition (A-4)

실시예 1에 있어서, 폴리이소프렌의 무수 말레산 부가물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물을 3부, MMA를 26.7부, MMA를 0.3부 사용한 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 중합반응 및 환화반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 18%, MHMA의 반응율은 12%이었다. 반응율로부터 계산한 폴리이소프렌 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA=99.3:0.7이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 98.9질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 1.0질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 이어서, 실시예 1과 동일하게, 수득된 반응액을 여과, 재침전, 건조함으로써, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌 쇄에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물(A-4)을 얻었다. 수지 조성물(A-4)의 중량 평균 분자량은 12.2만, 수평균 분자량은 3.1만, 클로로폼 불용분은 2%이었다.In Example 1, in the same manner as in Example 1, except that 3 parts of an esterified product of maleic anhydride of polyisoprene and 2-hydroxyethyl methacrylate was used, 26.7 parts of MMA, and 0.3 parts of MMA were used. Then, polymerization reaction and cyclization reaction were carried out. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 18%, and the reaction rate of MHMA was 12%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain bound to the polyisoprene chain and the (meth)acrylic polymer calculated from the reaction rate is MMA:MHMA=99.3:0.7, and the unit content ratio derived from the (meth)acrylic acid ester. Silver was 98.9% by mass and the content ratio of the ring structural unit was 1.0% by mass. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. Subsequently, in the same manner as in Example 1, the obtained reaction solution was filtered, reprecipitated, and dried to contain a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer, and a graft polymer in which the polymer chain was grafted onto a polyisoprene chain ( A-4) was obtained. The weight average molecular weight of the resin composition (A-4) was 122,000, the number average molecular weight was 31,000, and the chloroform insoluble content was 2%.

(2-9) (2-9) 비교예Comparative example 5: 수지 조성물(B-3)의 조제 5: Preparation of resin composition (B-3)

비교예 2에 있어서, MMA를 49부, MHMA를 1부 사용한 이외는, 비교예 2와 동일하게 하여 중합반응 및 환화반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 81%, MHMA의 반응율은 89%이었다. 반응율로부터 계산한 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA=97.8:2.2이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 96.5질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 3.2질량%이었다. 이어서, 비교예 2과 동일하게, 수득된 반응액을 여과, 재침전, 건조함으로써, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 수지 조성물(B-3)을 얻었다. 수지 조성물(B-3)의 중량 평균 분자량은 14.5만, 수평균 분자량은 6.3만이었다.In Comparative Example 2, a polymerization reaction and a cyclization reaction were carried out in the same manner as in Comparative Example 2, except that 49 parts of MMA and 1 part of MHMA were used. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomer in the polymerization reaction solution was 81%, and the reaction rate of MHMA was 89%. The composition ratio (mass basis) of the lactone ring-containing (meth)acrylic polymer calculated from the reaction rate is MMA:MHMA=97.8:2.2, the unit content ratio derived from (meth)acrylic acid ester is 96.5% by mass, and the content ratio of the cyclic structural unit is It was 3.2 mass%. Then, in the same manner as in Comparative Example 2, the obtained reaction solution was filtered, reprecipitated, and dried to obtain a resin composition (B-3) containing a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer. The weight average molecular weight of resin composition (B-3) was 145,000, and the number average molecular weight was 630,000.

(2-10) (2-10) 비교예Comparative example 6: 수지 조성물(C-3)의 조제 6: Preparation of resin composition (C-3)

비교예 4에서 얻은 수지 조성물(A-4) 1부와 비교예 5에서 얻은 수지 조성물(B-3) 9부를 MEK 40부에 용해해서 혼합한 후, 2.6kPa, 150℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 수지 조성물(C-3)을 얻었다. 수지 조성물(C-3)의 중량 평균 분자량은 14.4만, 수평균 분자량은 6.0만이었다.1 part of the resin composition (A-4) obtained in Comparative Example 4 and 9 parts of the resin composition (B-3) obtained in Comparative Example 5 were dissolved and mixed in 40 parts of MEK, followed by drying at 2.6 kPa and 150° C. for about 1 hour. By removing the solvent, a resin composition (C-3) was obtained. The weight average molecular weight of resin composition (C-3) was 144,000, and the number average molecular weight was 60,000.

(2-11) (2-11) 비교예Comparative example 7: 수지 조성물(A-5)의 조제 7: Preparation of resin composition (A-5)

실시예 1에 있어서, 폴리이소프렌의 무수 말레산 부가물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트와의 에스테르화물을 3부, MMA를 13부, MHMA를 13부 사용하고, 환화 촉매로서 인산 스테아릴을 0.03부 사용한 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 중합반응 및 환화반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 19%, MHMA의 반응율은 13%이었다. 반응율로부터 계산한 폴리이소프렌에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA=59.4:40.6이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 27.4질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 67.1질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 필터의 승압이 생각되었다. 이어서, 실시예 1과 동일하게, 수득된 반응액을 여과, 재침전님, 건조함으로써, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 폴리이소프렌에 그래프트한 그래프트 중합체를 함유하는 수지 조성물(A-5)을 얻었다. 수지 조성물(A-5)의 중량 평균 분자량은 18.1만, 수평균 분자량은 3.2만, 클로로폼 불용분은 11%이었다.In Example 1, 3 parts of an esterified product of a maleic anhydride adduct of polyisoprene and 2-hydroxyethyl methacrylate was used, 13 parts of MMA and 13 parts of MHMA were used, and stearyl phosphate was used as a cyclization catalyst. A polymerization reaction and a cyclization reaction were performed in the same manner as in Example 1 except that 0.03 parts were used. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 19%, and the reaction rate of MHMA was 13%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain bound to the polyisoprene and the (meth)acrylic polymer calculated from the reaction rate is MMA:MHMA=59.4:40.6, and the unit content ratio derived from the (meth)acrylic acid ester is The content ratio of 27.4 mass% and the ring structural unit was 67.1 mass %. When a part of the reaction solution was taken out and a filtration test was performed, an increase in pressure of the filter was considered. Subsequently, in the same manner as in Example 1, the obtained reaction solution was filtered, reprecipitated, and dried to contain a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer and a graft polymer in which the polymer chain was grafted to polyisoprene ( A-5) was obtained. The weight average molecular weight of the resin composition (A-5) was 181,000, the number average molecular weight was 320,000, and the chloroform insoluble content was 11%.

(2-12) (2-12) 비교예Comparative example 8: 수지 조성물(B-4)의 조제 8: Preparation of resin composition (B-4)

비교예 2에 있어서, MMA를 25부, MHMA를 25부 사용한 이외는, 비교예 2와 동일하게 하여 중합반응 및 환화반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 87%, MHMA의 반응율은 85%이었다. 반응율로부터 계산한 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA=50.6:49.4이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 9.2질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 83.9질량%이었다. 이어서, 비교예 2과 동일하게, 수득된 반응액을 여과, 재침전, 건조함으로써, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머를 함유하는 수지 조성물(B-4)을 얻었다. 수지 조성물(B-4)의 중량 평균 분자량은 18.9만, 수평균 분자량은 5.2만이었다.In Comparative Example 2, a polymerization reaction and a cyclization reaction were performed in the same manner as in Comparative Example 2, except that 25 parts of MMA and 25 parts of MHMA were used. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 87%, and the reaction rate of MHMA was 85%. The composition ratio (by mass) of the lactone ring-containing (meth)acrylic polymer calculated from the reaction rate is MMA:MHMA=50.6:49.4, the unit content ratio derived from the (meth)acrylic acid ester is 9.2% by mass, and the content ratio of the cyclic structural unit is It was 83.9% by mass. Next, in the same manner as in Comparative Example 2, the obtained reaction liquid was filtered, reprecipitated, and dried to obtain a resin composition (B-4) containing a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer. The weight average molecular weight of resin composition (B-4) was 189,000, and the number average molecular weight was 520,000.

(2-13) (2-13) 비교예Comparative example 9: 수지 조성물(C-4)의 조제 9: Preparation of resin composition (C-4)

비교예 7에서 얻은 수지 조성물(A-5) 1부와 비교예 8에서 얻은 수지 조성물(B-4) 9부를 MEK 40부에 용해해서 혼합한 후, 2.6kPa, 150℃에서 약 1시간 건조하고 용매를 제거함으로써, 수지 조성물(C-4)을 얻었다. 수지 조성물(C-4)의 중량 평균 분자량은 17.8만, 수평균 분자량은 5.0만이었다.1 part of the resin composition (A-5) obtained in Comparative Example 7 and 9 parts of the resin composition (B-4) obtained in Comparative Example 8 were dissolved and mixed in 40 parts of MEK, followed by drying at 2.6 kPa and 150° C. for about 1 hour. By removing the solvent, a resin composition (C-4) was obtained. The weight average molecular weight of the resin composition (C-4) was 178,000, and the number average molecular weight was 55,000.

(2-14) (2-14) 실시예Example 5: 수지 조성물(D-1)의 조제 5: Preparation of resin composition (D-1)

교반장치, 온도센서, 냉각관, 질소도입관을 구비한 반응기에, SEBS 트리 블록 공중합체(Kraton사, A1536, 올레핀성 이중 결합량 0.10mmol/g, 스티렌 단위 함유량 39질량%, 굴절율 1.519) 5부, 메틸메타크릴산(MMA) 73부, 페닐말레이미드(PMI) 18부, n-도데실메르캅탄(nDM) 0.05부, 중합용매로서 톨루엔 100부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서 105℃까지 승온시켰다. 그 후 개시제로서 t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트(Kayaku Akzo Corporation., Kayakarubon(등록상표) Bic75)을 0.009부 첨가하는 동시에, 스티렌(St) 5부와, 1부의 톨루엔에 희석한 0.018부의 t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트를 3시간 걸쳐서 일정 속도로 적하하면서 105∼110℃에서 용액중합을 실시하고, 추가로 4시간 숙성을 실시했다. 이것에 의해, MMA와 PMI와 St로 중합 형성된 말레이미드환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합한 그래프트 중합체를 포함하는 수지 조성물이 수득되었다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 95%, PMI의 반응율은 98%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=75.9:18.9:5.2이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 75.9질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 18.9질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다.In a reactor equipped with a stirring device, temperature sensor, cooling tube, and nitrogen inlet tube, SEBS triblock copolymer (Kraton, A1536, olefinic double bond amount 0.10mmol/g, styrene unit content 39% by mass, refractive index 1.519) 5 Parts, methylmethacrylic acid (MMA) 73 parts, phenylmaleimide (PMI) 18 parts, n-dodecylmercaptan (nDM) 0.05 parts, and toluene 100 parts as a polymerization solvent were added, and nitrogen was passed through the mixture at 105°C. Heated to. After that, 0.009 parts of t-butylperoxyisopropyl carbonate (Kayaku Akzo Corporation., Kayakarubon (registered trademark) Bic75) was added as an initiator, and 0.018 parts of t- diluted in 5 parts of styrene (St) and 1 part of toluene. Solution polymerization was performed at 105 to 110°C while dropping butyl peroxyisopropyl carbonate at a constant rate over 3 hours, followed by further aging for 4 hours. Thereby, a resin composition comprising a maleimide ring-containing (meth)acrylic polymer formed by polymerization of MMA, PMI, and St, and a graft polymer in which the polymer chain is bonded to the SEBS triblock polymer chain was obtained. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 95%, the reaction rate of PMI was 98%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=75.9:18.9:5.2, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 75.9 mass%, and the ring structural unit content ratio was 18.9 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably.

다음에 수득된 중합 반응액을, 리어(rear) 벤트 수가 1개, 포어(fore) 벤트 수가 2개의 벤트 타입 스크류 2축 압출기(포어 직경: 15mm, L/D: 45) 내에 수지환산으로 600g/h의 처리 속도로 도입하고, 이 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 압출하는 것에 의해, 말레이미드환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합한 그래프트 중합체를 포함하는 수지 조성물(D-1)의 투명한 펠릿을 얻었다. 또, 2축 압출기의 조작 조건은 배럴 온도 260℃, 회전수 300rpm, 감압도 13.3∼400hPa(10∼300mmHg)이었다. 수지 조성물(D-1)의 중량 평균 분자량은 15.0만, 수평균 분자량은 6.0만, 고온측의 유리전이온도는 138℃, 저온측의 유리전이온도는 -68℃, 클로로폼 불용분은 0.3%, 굴절율은 1.517이었다. 수지 조성물(D-1)의 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차 Rth는 각각 0.9nm과 2.9nm이었다.Next, the obtained polymerization reaction solution was placed in a vent type screw twin-screw extruder (pore diameter: 15 mm, L/D: 45) with one rear vent number and two fore vents in terms of resin at 600 g/ Introduced at a processing rate of h, devolatilized in this extruder, and extruded, including a maleimide ring-containing (meth)acrylic polymer and a graft polymer in which the polymer chain is bonded to the SEBS triblock polymer chain. A transparent pellet of the resin composition (D-1) was obtained. Moreover, the operating conditions of the twin-screw extruder were barrel temperature 260 degreeC, rotation speed 300 rpm, and the pressure reduction degree 13.3-400 hPa (10-300 mmHg). The weight average molecular weight of the resin composition (D-1) is 15,000, the number average molecular weight is 60,000, the glass transition temperature on the high temperature side is 138°C, the glass transition temperature on the low temperature side is -68°C, and the chloroform insoluble content is 0.3%. , The refractive index was 1.517. The in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film of the resin composition (D-1) were 0.9 nm and 2.9 nm, respectively.

(2-15) (2-15) 실시예Example 6: 수지 조성물(D-2)의 조제 6: Preparation of resin composition (D-2)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Kraton사, A1536)를 10부, MMA를 69부, PMI를 17부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 96%, PMI의 반응율은 99%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS 트리 블록 공중합체쇄에 결합하고 있는 아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=75.2:19.1:5.7이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 75.2질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 19.1질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 6과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-2)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-2)의 중량 평균 분자량은 14.8만, 수평균 분자량은 5.9만, 고온측의 유리전이온도는 138℃, 저온측의 유리전이온도는 -68℃, 클로로폼 불용분은 0.3%, 굴절율은 1.517이었다. 수지 조성물(D-2)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 200nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.2nm과 3.5nm이었다.In Example 5, the same as in Example 5, except that 10 parts of SEBS triblock copolymer (Kraton, A1536), 69 parts of MMA, and 17 parts of PMI were used as the monomer component initially introduced into the reactor. Then, a polymerization reaction was carried out. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 96%, the reaction rate of PMI was 99%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (by mass) of the acrylic polymer chain bound to the SEBS triblock copolymer chain and the (meth)acrylic polymer calculated from the reaction rate was MMA:PMI:St=75.2:19.1:5.7, derived from (meth)acrylic acid ester. The unit content ratio of was 75.2 mass%, and the content ratio of the ring structural unit was 19.1 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 6 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-2). The weight average molecular weight of the resin composition (D-2) is 148,000, the number average molecular weight is 59,000, the glass transition temperature on the high temperature side is 138°C, the glass transition temperature on the low temperature side is -68°C, and the chloroform insoluble content is 0.3%. , The refractive index was 1.517. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-2) was 200 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.2 nm and 3.5 nm, respectively.

(2-16) (2-16) 실시예Example 7: 수지 조성물(D-3)의 조제 7: Preparation of resin composition (D-3)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Kraton사, A1536)를 15부, MMA를 65부, PMI를 16부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 4부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 96%, PMI의 반응율은 99%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS 트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=75.9:19.3:4.9이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 75.9질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 19.3질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-3)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-3)의 중량 평균 분자량은 14.0만, 수평균 분자량은 5.3만, 고온측의 유리전이온도는 137℃, 저온측의 유리전이온도는 -68℃, 클로로폼 불용분은 0.3%, 굴절율은 1.517이었다. 수지 조성물(D-3)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 200nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.8nm과 4.5nm이었다.In Example 5, as the monomer component initially introduced into the reactor, 15 parts of SEBS triblock copolymer (Kraton, A1536), 65 parts of MMA and 16 parts of PMI are used, and a monomer component added by dropping A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5 except that 4 parts of St were used as a. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 96%, the reaction rate of PMI was 99%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=75.9:19.3:4.9, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 75.9 mass%, and the ring structural unit content ratio was 19.3 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-3). The weight average molecular weight of the resin composition (D-3) is 144,000, the number average molecular weight is 530,000, the glass transition temperature on the high temperature side is 137°C, the glass transition temperature on the low temperature side is -68°C, and the chloroform insoluble content is 0.3%. , The refractive index was 1.517. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-3) was 200 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.8 nm and 4.5 nm, respectively.

(2-17) (2-17) 실시예Example 8: 수지 조성물(D-4)의 조제 8: Preparation of resin composition (D-4)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Kraton사, A1536)를 20부, MMA를 61부, PMI를 15부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 4부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 97%, PMI의 반응율은 99%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=76.1:18.8:5.1이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 76.1질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 18.8질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-4)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-4)의 중량 평균 분자량은 14.5만, 수평균 분자량은 6.0만, 고온측의 유리전이온도는 136℃, 저온측의 유리전이온도는 -68℃, 클로로폼 불용분은 0.4%, 굴절율은 1.517이었다. 수지 조성물(D-4)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 250nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.5nm과 6.2nm이었다.In Example 5, as a monomer component initially introduced into the reactor, 20 parts of SEBS triblock copolymer (Kraton, A1536), 61 parts of MMA, 15 parts of PMI are used, and a monomer component added by dropping A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5 except that 4 parts of St were used as a. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomer in the polymerization reaction solution was 97%, the reaction rate of PMI was 99%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=76.1:18.8:5.1, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 76.1 mass%, and the ring structural unit content ratio was 18.8 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-4). The weight average molecular weight of the resin composition (D-4) is 145,000, the number average molecular weight is 60,000, the glass transition temperature on the high temperature side is 136°C, the glass transition temperature on the low temperature side is -68°C, and the chloroform insoluble content is 0.4%. , The refractive index was 1.517. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-4) was 250 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.5 nm and 6.2 nm, respectively.

(2-18) (2-18) 실시예Example 9: 수지 조성물(D-5)의 조제 9: Preparation of resin composition (D-5)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Aldrich사, 제품번호 200557, 올레핀성 이중 결합량 0.10mmol/g, 스티렌 단위 함유량 26질량%, 굴절율 1.513)를 10부, MMA를 72부, PMI를 16부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 2부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 96%, PMI의 반응율은 99%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=79.4:18.3:2.3이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 79.4질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 18.3질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-5)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-5)의 중량 평균 분자량은 17.2만, 수평균 분자량은 7.1만, 유리전이온도는 138℃, 클로로폼 불용분은 0.4%, 굴절율은 1.515이었다. 수지 조성물(D-5)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 250nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.5nm과 4.9nm이었다.In Example 5, as a monomer component initially introduced into the reactor, a SEBS triblock copolymer (Aldrich, product number 200557, olefinic double bond amount 0.10 mmol/g, styrene unit content 26 mass%, refractive index 1.513) A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5 except that 10 parts, 72 parts of MMA, and 16 parts of PMI were used, and 2 parts of St was used as a monomer component added by dropping. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 96%, the reaction rate of PMI was 99%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=79.4:18.3:2.3, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 79.4 mass%, and the ring structural unit content ratio was 18.3 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-5). The weight average molecular weight of the resin composition (D-5) was 172,000, the number average molecular weight was 71,000, the glass transition temperature was 138°C, the chloroform insoluble content was 0.4%, and the refractive index was 1.515. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-5) was 250 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.5 nm and 4.9 nm, respectively.

(2-19) (2-19) 실시예Example 10: 수지 조성물(D-6)의 조제 10: Preparation of resin composition (D-6)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC(등록상표) H1041, 올레핀성 이중 결합량 0.44mmol/g, 스티렌 단위 함유량 30질량%, 굴절율 1.515)를 10부, MMA를 70부, PMI를 16부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 4부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 97%, PMI의 반응율은 99%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=77.4:18.1:4.6이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 77.4질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 18.1질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-6)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-6)의 중량 평균 분자량은 13.5만, 수평균 분자량은 5.6만, 유리전이온도는 138℃, 클로로폼 불용분은 0.5%, 굴절율은 1.516이었다. 수지 조성물(D-6)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 300nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.3nm과 2.3nm이었다.In Example 5, as a monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC (registered trademark) H1041, olefinic double bond amount 0.44 mmol/g, styrene unit content 30 A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that 10 parts of mass%, refractive index 1.515), 70 parts of MMA and 16 parts of PMI were used, and 4 parts of St was used as a monomer component added by dropping. . The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 97%, the reaction rate of PMI was 99%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=77.4:18.1:4.6, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 77.4 mass%, and the ring structural unit content ratio was 18.1 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-6). The weight average molecular weight of the resin composition (D-6) was 135,000, the number average molecular weight was 56,000, the glass transition temperature was 138°C, the chloroform insoluble content was 0.5%, and the refractive index was 1.516. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-6) was 300 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.3 nm and 2.3 nm, respectively.

(2-20) (2-20) 실시예Example 11: 수지 조성물(D-7)의 조제 11: Preparation of resin composition (D-7)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC(등록상표) P1083, 올레핀성 이중 결합량 2.40mmol/g, 스티렌 단위 함유량 20질량%, 굴절율 1.500)을 10부, MMA를 83부, PMI를 6부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 1부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 96%, PMI의 반응율은 99%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=92.6:6.3:1.1이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 92.6질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 6.3질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-7)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-7)의 중량 평균 분자량은 16.3만, 수평균 분자량은 6.2만, 유리전이온도는 123℃, 클로로폼 불용분은 0.9%, 굴절율은 1.500이었다. 수지 조성물(D-7)의 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.3nm과 4.5nm이었다.In Example 5, as a monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC (registered trademark) P1083, olefinic double bond amount 2.40 mmol/g, styrene unit content 20 A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that 10 parts of mass%, refractive index 1.500) were used, 83 parts of MMA, and 6 parts of PMI were used, and 1 part of St was used as a monomer component added by dropping. . The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 96%, the reaction rate of PMI was 99%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=92.6:6.3:1.1, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 92.6 mass%, and the ring structural unit content ratio was 6.3 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-7). The weight average molecular weight of the resin composition (D-7) was 1630,000, the number average molecular weight was 620,000, the glass transition temperature was 123°C, the chloroform insoluble content was 0.9%, and the refractive index was 1.500. The in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film of the resin composition (D-7) were 0.3 nm and 4.5 nm, respectively.

(2-21) (2-21) 실시예Example 12: 수지 조성물(D-8)의 조제 12: Preparation of resin composition (D-8)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC(등록상표) H1517, 올레핀성 이중 결합량 0.11mmol/g, 스티렌 단위 함유량 43질량%, 굴절율 1.525)를 10부, MMA를 63부, PMI를 24부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 3부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 95%, PMI의 반응율은 98%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=69.3:27.2:3.5이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 69.3질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 27.2질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-8)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-8)의 중량 평균 분자량은 16.6만, 수평균 분자량은 6.3만, 유리전이온도는 151℃, 클로로폼 불용분은 0.5%, 굴절율은 1.525이었다. 수지 조성물(D-8)의 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.5nm과 5.9nm이었다.In Example 5, as a monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC (registered trademark) H1517, olefinic double bond amount 0.11 mmol/g, styrene unit content 43 A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that 10 parts of mass% and refractive index 1.525) were used, 63 parts of MMA, and 24 parts of PMI were used, and 3 parts of St was used as a monomer component added by dropping. . The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 95%, the reaction rate of PMI was 98%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=69.3:27.2:3.5, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 69.3 mass%, and the ring structural unit content ratio was 27.2 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-8). The weight average molecular weight of the resin composition (D-8) was 166,000, the number average molecular weight was 630,000, the glass transition temperature was 151°C, the chloroform insoluble content was 0.5%, and the refractive index was 1.525. The in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film of the resin composition (D-8) were 0.5 nm and 5.9 nm, respectively.

(2-22) (2-22) 비교예Comparative example 10: 수지 조성물(D-9)의 조제 10: Preparation of resin composition (D-9)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(JSR사, Dynaron(등록상표) 9901P, 올레핀성 이중 결합량 0.06mmol/g, 스티렌 단위 함유량 50질량%, 굴절율 1.530)를 10부, MMA를 30부, PMI를 55부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 5부 사용한 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 98%, PMI의 반응율은 98%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI:St=33.3:61.0:5.7이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 33.3질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 61.0질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-9)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-9)의 중량 평균 분자량은 14.9만, 수평균 분자량은 5.9만, 유리전이온도는 201℃, 클로로폼 불용분은 2.1%, 굴절율은 1.560이었다. 또. 수지 조성물(D-9)의 미연신 필름의 연신을 시도했지만, 강도가 부족해서 연신할 수 없었다.In Example 5, as the monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (JSR, Dynaron (registered trademark) 9901P, olefinic double bond amount 0.06 mmol/g, styrene unit content 50% by mass, refractive index) A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5 except that 10 parts of 1.530), 30 parts of MMA, and 55 parts of PMI were used, and 5 parts of St was used as a monomer component added by dropping. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 98%, the reaction rate of PMI was 98%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI:St=33.3:61.0:5.7, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 33.3 mass%, and the ring structural unit content ratio was 61.0 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-9). The weight average molecular weight of the resin composition (D-9) was 149,000, the number average molecular weight was 59,000, the glass transition temperature was 201°C, the chloroform insoluble content was 2.1%, and the refractive index was 1.560. In addition. Stretching of the unstretched film of the resin composition (D-9) was attempted, but the stretching was not possible due to insufficient strength.

(2-23) (2-23) 비교예Comparative example 11: 수지 조성물(D-10)의 조제 11: Preparation of resin composition (D-10)

실시예 5에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Asahikasei Co., Ltd., H1052, 올레핀성 이중 결합량 0.27mmol/g, 스티렌 단위 함유량 20질량%, 굴절율 1.500) 10부, MMA를 88.5부, PMI를 1.5부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 사용하지 않은 이외는, 실시예 5과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 98%, PMI의 반응율은 98%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:PMI=98.3:1.7이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 98.3질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 1.7질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 5과 동일하게 하여 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-10)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-10)의 중량 평균 분자량은 14.5만, 수평균 분자량은 6.0만, 유리전이온도는 112℃, 클로로폼 불용분은 0.4%, 굴절율은 1.500이었다.In Example 5, as the monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (Asahikasei Co., Ltd., H1052, olefinic double bond amount 0.27 mmol/g, styrene unit content 20% by mass, refractive index 1.500 ) A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that 10 parts, 88.5 parts of MMA and 1.5 parts of PMI were used, and St was not used as a monomer component added by dropping. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 98%, and the reaction rate of PMI was 98%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:PMI=98.3:1.7, and the unit derived from the (meth)acrylic acid ester. The content ratio was 98.3% by mass, and the content rate of the ring structural unit was 1.7% by mass. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was subjected to devolatilization in an extruder in the same manner as in Example 5 to obtain pellets of a transparent resin composition (D-10). The weight average molecular weight of the resin composition (D-10) was 145,000, the number average molecular weight was 60,000, the glass transition temperature was 112°C, the chloroform insoluble content was 0.4%, and the refractive index was 1.500.

(2-24) (2-24) 실시예Example 13: 수지 조성물(D-11)의 조제 13: Preparation of resin composition (D-11)

교반장치, 온도센서, 냉각관, 질소도입관을 구비한 반응기에, SEBS 트리 블록 공중합체(Asahikasei Co., Ltd., H1052, 올레핀성 이중 결합량 0.27mmol/g, 스티렌 단위 함유량 20질량%, 굴절율 1.500) 10부, 메틸메타크릴산(MMA) 75부, 2-(하이드록시메틸)아크릴산 메틸(MHMA) 13.5부, n-도데실메르캅탄(nDM) 0.05부, 중합용매로서 톨루엔100부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서 105℃까지 승온시켰다. 그 후 개시제로서 t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트(가야쿠아쿠조사제, 비자나무 카본(등록상표)Bic75)을 0.009부 첨가하는 동시에, 스티렌(St) 2부와, 1부의 톨루엔에 희석한 0.015부의 t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트를 2시간 걸쳐서 일정 속도로 적하하면서 105∼110℃에서 용액중합을 실시하고, 추가로 4시간 숙성을 실시했다. 여기에 환화 촉매로서 인산 스테아릴 0.07부를 첨가하고, 90∼110℃의 환류 하에서 2시간 환화반응을 실시했다. 이것에 의해, MMA와 MHMA와 St로 중합 형성된 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합한 그래프트 중합체를 포함하는 수지 조성물이 수득되었다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 94%, MHMA의 반응율은 94%, St의 반응율은 99%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS 트리 블록 공중합체쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA:St=82.6:14.9:2.5이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 72.9질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 22.8질량%, 스티렌 유래의 단위 함유 비율은 2.4질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다.In a reactor equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, a SEBS triblock copolymer (Asahikasei Co., Ltd., H1052, olefinic double bond amount 0.27 mmol/g, styrene unit content 20% by mass, Refractive index 1.500) 10 parts, methyl methacrylic acid (MMA) 75 parts, 2-(hydroxymethyl) methyl acrylate (MHMA) 13.5 parts, n-dodecyl mercaptan (nDM) 0.05 parts, toluene 100 parts as a polymerization solvent And it heated up to 105 degreeC, passing nitrogen through this. After that, 0.009 parts of t-butylperoxyisopropyl carbonate (manufactured by Kayakuaku Co., Ltd., Bismuth Carbon (registered trademark) Bic75) was added as an initiator, and at the same time, 0.015 parts diluted in 2 parts of styrene (St) and 1 part of toluene. Solution polymerization was performed at 105 to 110°C while t-butylperoxyisopropyl carbonate was added dropwise at a constant rate over 2 hours, followed by further aging for 4 hours. To this, 0.07 parts of stearyl phosphate was added as a cyclization catalyst, and a cyclization reaction was carried out for 2 hours under reflux at 90 to 110°C. Thereby, a resin composition comprising a lactone ring-containing (meth)acrylic polymer formed by polymerization of MMA, MHMA and St, and a graft polymer in which the polymer chain is bonded to the SEBS triblock polymer chain was obtained. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 94%, the reaction rate of MHMA was 94%, and the reaction rate of St was 99%. The composition ratio (by mass) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock copolymer chain calculated from the reaction rate is MMA:MHMA:St=82.6:14.9:2.5, and (meth) The unit content ratio derived from acrylic acid ester was 72.9 mass%, the content ratio of the ring structural unit was 22.8 mass%, and the unit content ratio derived from styrene was 2.4 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably.

다음에 수득된 중합 반응액을, 오토클레이브에 넣고 240℃에서 1시간 가열처리를 실시한 후, 리어(rear) 벤트 수가 1개, 포어(fore) 벤트 수가 2개의 벤트타입 스크류 2축 압출기(포어 직경: 15mm, L/D: 45)내에 수지환산으로 600g/h의 처리 속도로 도입하고, 이 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 압출하는 것에 의해, 락톤환 함유 (메트)아크릴계 폴리머와, 당해 폴리머 쇄가 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합한 그래프트 중합체를 포함하는 수지 조성물(D-11)의 투명한 펠릿을 얻었다. 또, 2축 압출기의 조작 조건은 배럴 온도 260℃, 회전수 300rpm, 감압도 13.3∼400hPa (10∼300mmHg)이었다. 수지 조성물(D-11)의 중량 평균 분자량은 15.5만, 수평균 분자량은 5.9만, 고온측의 유리전이온도는 127℃, 저온측의 유리전이온도는 -54℃, 클로로폼 불용분은 0.4%, 굴절율은 1.500이었다. 수지 조성물(D-11)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 250nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.3nm과 4.9nm이었다.Next, the obtained polymerization reaction solution was put in an autoclave and subjected to heat treatment at 240°C for 1 hour, and then a vent-type screw twin-screw extruder (pore diameter) with one rear vent and two fore vents. : 15 mm, L/D: 45) in resin conversion at a processing rate of 600 g/h, devolatilization in this extruder, and extruding, the lactone ring-containing (meth)acrylic polymer and the polymer A transparent pellet of the resin composition (D-11) containing the graft polymer in which the chain was bonded to the SEBS triblock polymer chain was obtained. Moreover, the operating conditions of the twin-screw extruder were barrel temperature 260 degreeC, rotation speed 300rpm, and pressure reduction degree 13.3-400hPa (10-300mmHg). The weight average molecular weight of the resin composition (D-11) is 155,000, the number average molecular weight is 59,000, the glass transition temperature on the high temperature side is 127°C, the glass transition temperature on the low temperature side is -54°C, and the chloroform insoluble content is 0.4%. , The refractive index was 1.500. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-11) was 250 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.3 nm and 4.9 nm, respectively.

(2-25) (2-25) 실시예Example 14: 수지 조성물(D-12)의 조제 14: Preparation of resin composition (D-12)

실시예 13에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(KURARAY CO., LTD., HYBRA(등록상표) 7125, 올레핀성 이중 결합량 0.44mmol/g, 스티렌 단위 함유량 20질량%)를 10부, MMA를 75부, MHMA를 13.5부 사용한 이외는, 실시예 13과 동일하게 하여 중합반응 및 환화반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 94%, MHMA의 반응율은 94%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA:St=82.7:14.8:2.5이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 73.0질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 22.7질량%, 스티렌 유래의 단위 함유 비율은 2.4질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 13과 동일하게 하여, 오토클레이브 처리 후, 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-12)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-12)의 중량 평균 분자량은 16.2만, 수평균 분자량은 6.1만, 유리전이온도는 127℃, 클로로폼 불용분은 0.4%, 굴절율은 1.500이었다. 수지 조성물(D-12)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 250nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.2nm과 4.5nm이었다.In Example 13, as a monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (KURARAY CO., LTD., HYBRA (registered trademark) 7125, olefinic double bond amount 0.44 mmol/g, styrene unit content 20) Mass %) was used in 10 parts, MMA in 75 parts, and MHMA in 13.5 parts in the same manner as in Example 13, and polymerization and cyclization were carried out. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 94%, the reaction rate of MHMA was 94%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:MHMA:St=82.7:14.8:2.5, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 73.0 mass%, the cyclic structural unit content ratio was 22.7 mass%, and the styrene-derived unit content ratio was 2.4 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was carried out in the same manner as in Example 13, and after autoclave treatment, devolatilization was performed in an extruder to obtain pellets of a transparent resin composition (D-12). The weight average molecular weight of the resin composition (D-12) was 162,000, the number average molecular weight was 61,000, the glass transition temperature was 127°C, the chloroform insoluble content was 0.4%, and the refractive index was 1.500. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-12) was 250 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.2 nm and 4.5 nm, respectively.

(2-26) (2-26) 실시예Example 15: 수지 조성물(D-13)의 조제 15: Preparation of resin composition (D-13)

실시예 13에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC(등록상표) P1083, 올레핀성 이중 결합량 2.01mmol/g, 스티렌 단위 함유량 20질량%)를 6부, SEBS 트리 블록 공중합체 2(Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC(등록상표) H1052, 올레핀성 이중 결합량 0.27mmol/g, 스티렌 단위 함유량 20질량%, 굴절율 1.500)를 4부, MMA를 75부, MHMA를 13.5부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 4부 사용한 이외는, 실시예 13과 동일하게 하여 중합반응 및 환화반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 94%, MHMA의 반응율은 94%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA:St=82.6:14.9:2.5이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 72.6질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 23.0질량%, 스티렌 유래의 단위 함유 비율은 2.4질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 호적하게 여과를 실시할 수 있었다. 수득된 중합반응 액을 실시예 13과 동일하게 하여, 오토클레이브 처리 후, 압출기 내에서 탈휘발을 실시하고, 투명한 수지 조성물(D-13)의 펠릿을 얻었다. 수지 조성물(D-13)의 중량 평균 분자량은 15.1만, 수평균 분자량은 5.7만, 고온측의 유리전이온도는 127℃, 저온측의 유리전이온도는 -61℃, 클로로폼 불용분은 0.4%, 굴절율은 1.500이었다. 수지 조성물(D-13)의 미연신 필름의 바다-섬 구조의 섬 사이즈는 150nm, 연신필름의 면내 위상차Re와 두께 방향의 위상차Rth는 각각 0.3nm과 3.5nm이었다.In Example 13, as a monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC (registered trademark) P1083, olefinic double bond amount 2.01 mmol/g, styrene unit content 20 Mass%) of 6 parts, SEBS triblock copolymer 2 (Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC (registered trademark) H1052, olefinic double bond amount 0.27 mmol/g, styrene unit content 20 mass%, refractive index 1.500) to 4 Polymerization and cyclization were carried out in the same manner as in Example 13, except that 75 parts of MMA and 13.5 parts of MHMA were used, and 4 parts of St was used as the monomer component added by dropping. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 94%, the reaction rate of MHMA was 94%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:MHMA:St=82.6:14.9:2.5, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content rate was 72.6 mass%, the cyclic structural unit content rate was 23.0 mass%, and the styrene-derived unit content rate was 2.4 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and subjected to a filtration test, it was possible to perform filtration suitably. The obtained polymerization reaction liquid was carried out in the same manner as in Example 13, and after autoclave treatment, devolatilization was performed in an extruder to obtain pellets of a transparent resin composition (D-13). The weight average molecular weight of the resin composition (D-13) is 151,000, the number average molecular weight is 57,000, the glass transition temperature on the high temperature side is 127°C, the glass transition temperature on the low temperature side is -61°C, and the chloroform insoluble content is 0.4%. , The refractive index was 1.500. The island size of the sea-island structure of the unstretched film of the resin composition (D-13) was 150 nm, and the in-plane retardation Re and the retardation Rth in the thickness direction of the stretched film were 0.3 nm and 3.5 nm, respectively.

(2-27) (2-27) 비교예Comparative example 12: 수지 조성물(D-14)의 조제 12: Preparation of resin composition (D-14)

실시예 13에 있어서, 최초에 반응기에 투입하는 단량체 성분으로서, SEBS 트리 블록 공중합체(Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC(등록상표) H1041, 올레핀성 이중 결합량 0.45mmol/g, 스티렌 단위 함유량 30질량%)를 10부, MMA를 40부, MHMA를 45부 사용하고, 적하에 의해 첨가하는 단량체 성분으로서 St를 5부 사용한 이외는, 실시예 13과 동일하게 하여 중합반응을 실시했다. 중합반응액 중의 잔존 단량체량에서 산출한 MMA의 반응율은 94%, MHMA의 반응율은 90%, St의 반응율은 100%이었다. 반응율로부터 계산한 SEBS트리 블록 폴리머 쇄에 결합하고 있는 (메트)아크릴계 폴리머 쇄와, (메트)아크릴계 폴리머의 조성비(질량기준)는 MMA:MHMA:St=45.2:48.7:6.0이고, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율은 3.7질량%, 환 구조 단위의 함유 비율은 82.6질량%, 스티렌 유래의 단위 함유 비율은 6.9질량%이었다. 반응액을 일부 뽑아내서 여과 시험을 실시한 바, 필터 승압이 생각되었다. 수득된 수지 조성물(D-14)의 유리전이온도는 158℃, 클로로폼 불용분은 10.4%이었다.In Example 13, as a monomer component initially introduced into the reactor, SEBS triblock copolymer (Asahikasei Co., Ltd., TAFTEC (registered trademark) H1041, olefinic double bond amount 0.45 mmol/g, styrene unit content 30 A polymerization reaction was carried out in the same manner as in Example 13, except that 10 parts of mass %), 40 parts of MMA, and 45 parts of MHMA were used, and 5 parts of St was used as a monomer component added by dropping. The reaction rate of MMA calculated from the amount of residual monomers in the polymerization reaction solution was 94%, the reaction rate of MHMA was 90%, and the reaction rate of St was 100%. The composition ratio (mass basis) of the (meth)acrylic polymer chain and the (meth)acrylic polymer bound to the SEBS triblock polymer chain calculated from the reaction rate is MMA:MHMA:St=45.2:48.7:6.0, and (meth)acrylic acid The ester-derived unit content ratio was 3.7 mass%, the cyclic structural unit content ratio was 82.6 mass%, and the styrene-derived unit content ratio was 6.9 mass%. When a part of the reaction solution was taken out and a filtration test was carried out, the increase in filter pressure was considered. The glass transition temperature of the obtained resin composition (D-14) was 158°C, and the chloroform insoluble content was 10.4%.

Figure 112019044812407-pct00004
Figure 112019044812407-pct00004

Figure 112019044812407-pct00005
Figure 112019044812407-pct00005

Figure 112019044812407-pct00006
Figure 112019044812407-pct00006

표 1∼표 3에, 각 실시예, 비교예의 결과를 정리했다. 그래프트쇄에 환 구조를 도입하지 않은 비교예 1의 수지 조성물 A-3은 유리전이온도가 낮고, 내열성이 낮은 것이 되었다. 또, 환 구조가 도입되고 있어도, 그래프트 중합체를 포함하지 않는 비교예 2의 수지 조성물 B-1, 비교예 3의 수지 조성물B-2, 비교예 5의 수지 조성물 B-3, 비교예 8의 수지 조성물 B-4는 충격강도(파괴에너지)가 낮고, 기계적 강도가 떨어지는 것이 되었다. 비교예 4의 수지 조성물 A-4, 비교예 6의 수지 조성물 C-3, 비교예 7의 수지 조성물 A-5, 비교예 9의 수지 조성물 C-4, 비교예 10의 수지 조성물 D-9, 비교예 11의 수지 조성물 D-10, 비교예 12의 수지 조성물 D-14는 그래프트쇄가 환 구조 단위를 가지지만, 그래프트쇄 중의 (메트)아크릴산 에스테르 단위의 함유 비율이 45질량% 미만 내지 98질량% 초과이었기 때문, 유리전이온도가 낮고, 내열성이 떨어지거나, 충격강도(파괴에너지)가 낮고, 기계적 강도가 떨어지거나, 혹은 제조시에 겔화물이 발생하고, 이물을 많이 포함하는 것이 되었다. 한편, 실시예 1∼15의 각 수지 조성물은 투명성, 기계적 강도, 내열성이 뛰어나고, 이들을 군형 있게 구비하는 동시에, 겔화물의 발생이 적은 것이 되었다.In Tables 1 to 3, the results of each Example and Comparative Example were put together. Resin composition A-3 of Comparative Example 1 in which no ring structure was introduced into the graft chain had a low glass transition temperature and low heat resistance. In addition, even if the ring structure is introduced, the resin composition B-1 of Comparative Example 2, the resin composition B-2 of Comparative Example 3, the resin composition B-3 of Comparative Example 5, and the resin of Comparative Example 8 that do not contain a graft polymer Composition B-4 had low impact strength (breaking energy) and low mechanical strength. Resin composition A-4 of Comparative Example 4, resin composition C-3 of Comparative Example 6, resin composition A-5 of Comparative Example 7, resin composition C-4 of Comparative Example 9, resin composition D-9 of Comparative Example 10, In the resin composition D-10 of Comparative Example 11 and the resin composition D-14 of Comparative Example 12, the graft chain has a cyclic structural unit, but the content ratio of the (meth)acrylic acid ester unit in the graft chain is less than 45% by mass to 98% by mass. Since it was more than %, the glass transition temperature was low, the heat resistance was low, the impact strength (breaking energy) was low, the mechanical strength was low, or a gelled product occurred during manufacture, and a large amount of foreign matter was included. On the other hand, each resin composition of Examples 1 to 15 was excellent in transparency, mechanical strength, and heat resistance, and at the same time as having them in a cluster form, there was little generation of gelatinous products.

(산업상의 이용가능성)(Industrial availability)

본 발명에 의하면, 투명성, 기계적 강도, 내열성이 우수한 공중합체 및 수지 조성물을 얻을 수 있기 때문에, 이것들을 광학필름 등에 적용함으로써, 뛰어난 편광자보호 필름, 편광판, 화상표시장치 등을 제조할 수 있다.According to the present invention, since a copolymer and resin composition excellent in transparency, mechanical strength and heat resistance can be obtained, by applying these to an optical film or the like, an excellent polarizer protective film, a polarizing plate, an image display device, and the like can be manufactured.

Claims (19)

디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 폴리머 쇄(A)와, (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위와 주쇄에 환 구조를 가지는 단위를 가지는 폴리머 쇄(B)를 가지는 공중합체로써,
상기 폴리머 쇄(B) 중, (메트)아크릴산 에스테르 유래의 단위 함유 비율이 45질량% 이상 98질량% 이하이고,
100℃ 이상 및 100℃ 미만에 각각 유리전이온도를 가지는 것을 특징으로 하는 공중합체.
A copolymer having a polymer chain (A) having a unit derived from diene and/or olefin, and a polymer chain (B) having a unit derived from a (meth)acrylic monomer and a unit having a cyclic structure in the main chain,
In the polymer chain (B), the content ratio of the unit derived from the (meth)acrylic acid ester is 45% by mass or more and 98% by mass or less,
Copolymer, characterized in that it has a glass transition temperature above 100 ℃ and less than 100 ℃, respectively.
제1 항에 있어서, 폴리머 쇄(B)가 폴리머 쇄(A)에 그래프트한 것인 공중합체.The copolymer according to claim 1, wherein the polymer chain (B) is grafted onto the polymer chain (A). 제1항에 있어서, 상기 환 구조가 락톤환 구조 및/또는 말레이미드 구조인 공중합체.The copolymer according to claim 1, wherein the ring structure is a lactone ring structure and/or a maleimide structure. 제1 항에 있어서, 상기 폴리머 쇄(B) 중, 상기 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위와 상기 주쇄에 환 구조를 가지는 단위의 합계 함유 비율이 90질량% 이상인 공중합체.The copolymer according to claim 1, wherein in the polymer chain (B), a total content ratio of a unit derived from the (meth)acrylic monomer and a unit having a ring structure in the main chain is 90% by mass or more. 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 기재된 공중합체와 (메트)아크릴계 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.A resin composition comprising the copolymer according to any one of claims 1 to 4 and a (meth)acrylic polymer. 제5 항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 상기 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 가지는 수지 조성물.The resin composition according to claim 5, wherein the (meth)acrylic polymer has a unit derived from the (meth)acrylic monomer. 제5 항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 중합체가 상기 주쇄에 환 구조를 가지는 단위를 가지는 수지 조성물.The resin composition according to claim 5, wherein the (meth)acrylic polymer has a unit having a ring structure in the main chain. 제5 항에 있어서, 100℃ 이상 및 100℃ 미만에 각각 유리전이온도를 가지는 수지 조성물.The resin composition according to claim 5, wherein the resin composition has a glass transition temperature of 100°C or more and less than 100°C, respectively. 제5 항에 있어서, 클로로폼에 대한 불용분이 10질량% 이하인 수지 조성물.The resin composition according to claim 5, wherein the insoluble content in chloroform is 10% by mass or less. 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 기재된 공중합체를 포함하는 광학필름.An optical film comprising the copolymer according to any one of claims 1 to 4. 제5 항에 기재된 수지 조성물을 포함하는 광학필름.An optical film comprising the resin composition according to claim 5. 제10 항에 기재된 광학필름을 포함하는 편광판.A polarizing plate comprising the optical film according to claim 10. 제11 항에 기재된 광학필름을 포함하는 편광판.A polarizing plate comprising the optical film according to claim 11. 제10 항에 기재된 광학필름을 포함하는 화상표시장치.An image display device comprising the optical film according to claim 10. 제11 항에 기재된 광학필름을 포함하는 화상표시장치.An image display device comprising the optical film according to claim 11. 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 기재된 공중합체의 제조방법으로써,
디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체(P1)의 존재 하, (메트)아크릴계 단량체와 환 구조 내에 중합성 이중결합을 가지는 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 공중합체의 제조방법.
As a method for producing the copolymer according to any one of claims 1 to 4,
A copolymer characterized by having a process of polymerizing a monomer component including a (meth)acrylic monomer and a monomer having a polymerizable double bond in the ring structure in the presence of a polymer (P1) having a unit derived from diene and/or olefin Method of manufacturing coalescence.
제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 기재된 공중합체의 제조방법으로써,
디엔 및/또는 올레핀 유래의 단위를 가지는 중합체(P1)의 존재 하, (메트)아크릴계 단량체를 포함하는 단량체 성분을 중합하는 공정과,
상기 중합공정에서 형성된 (메트)아크릴계 단량체 유래의 단위를 가지는 폴리머 쇄의 주쇄에 환 구조를 형성하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 공중합체의 제조방법.
As a method for producing the copolymer according to any one of claims 1 to 4,
A step of polymerizing a monomer component containing a (meth)acrylic monomer in the presence of a polymer (P1) having a unit derived from diene and/or olefin, and
A method for producing a copolymer, comprising a step of forming a ring structure in a main chain of a polymer chain having units derived from a (meth)acrylic monomer formed in the polymerization step.
제16 항에 있어서, 상기 중합공정에서 수득된 수지 용액을 여과하는 공정을 추가로 가지는 공중합체의 제조방법.The method for producing a copolymer according to claim 16, further comprising a step of filtering the resin solution obtained in the polymerization step. 제17 항에 있어서, 상기 환 구조 형성공정에서 수득된 수지 용액을 여과하는 공정을 추가로 가지는 공중합체의 제조방법.The method for producing a copolymer according to claim 17, further comprising a step of filtering the resin solution obtained in the ring structure forming step.
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