KR102062720B1 - 강판 - Google Patents

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KR102062720B1
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고헤이 우에다
히로유키 가와타
다카유키 기타자와
다케시 야스이
히로유키 반
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닛폰세이테츠 가부시키가이샤
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Abstract

강판은 소정의 화학 조성을 갖고, 표면이, 고감도 반사법에 의한 푸리에 변환형 적외 분광 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 50％ 이상 85％ 이하의 흡수 피크를 나타내며, 또한, 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타내지 않거나, 또는 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 85％ 이상의 흡수 피크를 나타내고, 상기 표면에 3㎎/㎡ 내지 100㎎/㎡의 Ni가 부착되어 있다.

Description

강판
본 발명은 우수한 화성 처리성이 얻어지는 강판에 관한 것이다.
근년, 저연비화나 CO2의 배출량 삭감을 목적으로 한 차체의 경량화 및 충돌 안전성의 향상을 목적으로서, 자동차 분야에서는, 차체나 부품에 고강도 냉연 강판을 사용하는 요구가 높아지고 있다.
고강도 냉연 강판은, 연강판과 마찬가지로 프레스 가공에 의해 대량으로 또한 저렴하게 성형되고, 각종 부재로서 제공된다. 이 때문에, 고강도 냉연 강판에는, 높은 연성 및 양호한 가공성도 요구된다. 또한, 일반적으로, 고강도 냉연 강판에는, 내식성이나 도막 밀착성의 향상을 목적으로, 인산 아연 처리 등의 화성 처리가 실시된다. 화성 처리에서는, 예를 들어 2g/㎡ 내지 3g/㎡ 정도의 인산 아연 피막이 형성된다. 화성 처리에서 Zr계의 피막이 형성되는 경우도 있다. 또한, 이들 피막(화성 처리층) 상에 양이온 전착 도장이 실시되는 경우가 많다. 양이온 전착 도장이 실시되는 경우, 화성 처리층의 표면은 강알칼리성에 노출된다. 이 때문에, 화성 처리층은 내알칼리성을 갖는 것이 요망된다. 이 내알칼리성을 나타내는 지표로서 P비라고 불리는 파라미터가 이용된다. 화성 처리층에 포함되는 인산염으로서는, Zn-P-O를 포함하는 호프아이트 및 Zn-Fe-P-O를 포함하는 포스포필라이트를 들 수 있다. 포스포필라이트는 강판 중의 Fe와 인산 아연의 반응 생성물이다. P비는 X선 회절 장치의 피크 강도로부터 구해진다. 호프아이트의 피크 강도는 회절각 2θ=14.55°로 나타나고, 포스포필라이트의 피크 강도는 회절각 2θ=14.88°로 나타난다. 14.55°에서의 X선 피크 강도를 H, 14.88°에서의 X선 피크 강도를 P로 했을 때, P비는 「P/(P+H)」로 표현된다. 포스포필라이트는 호프아이트보다도 우수한 내알칼리성을 나타낸다. 이 때문에, P비가 높을수록 높은 내알칼성이 얻어진다.
일반적으로, Si 및 Mn의 함유량이 높을수록, 높은 연성 및 양호한 가공성을 얻기 쉽다. 그러나, 강에 포함되는 Si 및 Mn은 산화하기 쉽다. 이 때문에, Si 및 Mn을 많이 포함하는 강을 사용하여 고강도 냉연 강판을 제조하고자 하면, 그 과정의 어닐링 중에 Si 및 Mn이 산화하여, 고강도 냉연 강판의 표면에 산화물이 형성된다. 표면에 형성된 산화물은 화성 처리성 및 내식성을 저하시킨다.
따라서, 높은 연성 및 양호한 가공성을 얻고자 Si 및 Mn의 함유량을 높이면, 양호한 화성 처리성 및 내식성을 얻기가 곤란하다. 예를 들어, 인산 아연 피막은 인산 아연의 결정화에 의해 형성되지만, 화성 처리성이 낮은 경우에는, 인산 아연이 강판의 표면에 부착되기 어렵고, 화성 처리층이 형성되지 않는 부분이 발생하는 경우가 있다. 또한, 산화물에 의해 강판 중의 Fe와 인산 아연의 반응이 저해되어 포스포필라이트가 생성하기 어려워지고, 충분한 내알칼리성을 얻지 못하는 경우도 있다. 이들 결과, 화성 처리 후에 양이온 전착 도장을 적절하게 행할 수 없고, 양호한 내식성을 얻을 수 없게 된다.
종래, 화성 처리성 또는 내식성 또는 이들 양쪽의 향상을 목적으로 한 다양한 제안이 되고 있다(특허문헌 1 내지 9). 그러나, 종래의 기술에서는, 충분히 화성 처리성을 향상시키기가 곤란하거나, 화성 처리성이 향상되어도, 거기에 부수되어, 내식성이 저하되거나, 인장 강도나 피로 강도가 저하되거나 한다.
일본 특허 공개 제2004-323969호 공보 일본 특허 공개 제2009-221586호 공보 일본 특허 공개 제2010-47808호 공보 일본 특허 공개 제2010-53371호 공보 일본 특허 공개 제2012-122086호 공보 일본 특허 공개 제2008-121045호 공보 일본 특허 공개 제2005-307283호 공보 일본 특허 공개 제2010-90441호 공보 일본 특허 공개 평4-247849호 공보
본 발명은 내식성의 저하 및 강도의 저하를 회피하면서, 우수한 화성 처리성을 얻을 수 있는 강판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행하였다. 이 결과, 이하의 사항이 판명되었다.
(a) Si 및 Mn을 많이 포함하는 강판의 표면에 존재하는 산화물은 실리카 및 망간실리케이트이다.
(b) 망간실리케이트는 강판에 공식(孔食)이 발생되지 않을 정도의 산으로 용이하게 제거할 수 있지만, 실리카는 강판에 공식이 발생되지 않을 정도의 산으로는 제거할 수 없다.
(c) 산세 후에 잔존하는 실리카는 치밀한 것과 다공성인 것으로 대별할 수 있다.
(d) 치밀한 실리카는 망간실리케이트 및 다공성인 실리카보다도 우수한 화성 처리성을 갖는다.
(e) 다공성인 실리카가 잔존하고 있어도, Ni의 전해 도금을 행함으로써 다공성인 실리카가 Ni로 덮여서 화성 처리성이 향상된다.
본원 발명자는, 이러한 지견에 기초하여 더욱 예의 검토를 거듭한 결과, 이하에 나타내는 발명의 제형태에 상도하였다.
(1)
질량％로,
C: 0.050％ 내지 0.400％,
Si: 0.10％ 내지 2.50％,
Mn: 1.20％ 내지 3.50％,
P: 0.100％ 이하,
Al: 1.200％ 이하,
N: 0.0100％ 이하,
Cr, Mo, Ni 및 Cu: 합계 0.00％ 내지 1.20％,
Nb, Ti 및 V: 합계 0.000％ 내지 0.200％,
B: 0.0000％ 내지 0.0075％,
Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 REM: 합계 0.0000％ 내지 0.1000％, 및
잔부: Fe 및 불순물,
로 나타내는 화학 조성을 갖고,
표면이,
고감도 반사법에 의한 푸리에 변환형 적외 분광 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 50％ 이상 85％ 이하의 흡수 피크를 나타내며, 또한,
1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타내지 않거나, 또는 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 85％ 이상의 흡수 피크를 나타내고,
상기 표면에 3㎎/㎡ 내지 100㎎/㎡의 Ni가 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 강판.
(2)
상기 표면이, 고감도 반사법에 의한 푸리에 변환형 적외 분광 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 60％ 이상 85％ 이하의 흡수 피크를 나타내는 것을 특징으로 하는 (1)에 기재된 강판.
본 발명에 따르면, 내식성의 저하 및 강도의 저하가 발생되는 처리를 행하지 않더라도 우수한 화성 처리성을 얻을 수 있다.
도 1은 인산 아연의 결정의 부착 정도가 특히 양호한 시료를 나타내는 도면이다.
도 2는 인산 아연의 결정의 부착 정도가 양호한 시료를 나타내는 도면이다.
도 3은 인산 아연의 결정의 부착 정도가 불량인 시료를 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다.
먼저, 본 발명의 실시 형태에 따른 강판 및 그의 제조에 사용되는 강의 화학 조성에 대해 설명한다. 자세한 것은 후술하겠지만, 본 발명의 실시 형태에 따른 강판은, 강의 열간 압연, 열연 후 산세, 냉간 압연, 어닐링, 어닐링 후 산세 및 도금 등을 거쳐 제조된다. 따라서, 강판 및 강의 화학 조성은, 강판의 특성뿐만 아니라, 이들 처리를 고려한 것이다. 이하의 설명에 있어서, 강판에 포함되는 각 원소의 함유량 단위인 「％」는, 특별히 단서가 없는 한 「질량％」를 의미한다. 본 실시 형태에 따른 강판은, C: 0.050％ 내지 0.400％, Si: 0.10％ 내지 2.50％, Mn: 1.20％ 내지 3.50％, P: 0.100％ 이하, Al: 1.200％ 이하, N: 0.0100％ 이하, Cr, Mo, Ni 및 Cu: 합계 0.00％ 내지 1.20％, Nb, Ti 및 V: 합계 0.000％ 내지 0.200％, B: 0.0000％ 내지 0.0075％, Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 희토류 금속(rare earth metal: REM): 합계 0.0000％ 내지 0.1000％, 잔부: Fe 및 불순물로 나타내는 화학 조성을 갖고 있다. 불순물로서는, 광석이나 스크랩 등의 원재료에 포함되는 것, 제조 공정에 있어서 포함되는 것이 예시된다.
(C: 0.050％ 내지 0.400％)
C는, 마르텐사이트, 템퍼링 마르텐사이트, 베이나이트 및 잔류 오스테나이트 등의 경질 조직을 형성하고, 강판의 강도를 향상시키는 원소이다. C 함유량이 0.050％ 미만이면, 이 작용에 의한 효과가 충분히 얻어지지 않는다. 따라서, C 함유량은 0.050％ 이상이다. 더 높은 강도를 얻기 위하여, C 함유량은 바람직하게는 0.075％ 이상이다. 한편, C 함유량이 0.400％ 초과이면, 충분한 용접성이 얻어지지 않는다. 따라서, C 함유량은 0.400％ 이하이다.
(Si: 0.10％ 내지 2.50％)
Si는, 양호한 가공성을 확보하면서 강도를 향상시키는 원소이다. Si 함유량이 0.10％ 미만이면, 이 작용에 의한 효과가 충분히 얻어지지 않는다. 따라서, Si 함유량은 0.10％ 이상이다. 양호한 가공성을 확보하면서 보다 높은 강도를 얻기 위하여, Si 함유량은 바람직하게는 0.45％ 이상이며, 보다 바람직하게는 0.86％ 이상이다. 한편, Si 함유량이 2.50％ 초과이면, 인성이 저하되고, 도리어 가공성이 열화된다. 따라서, Si 함유량은 2.50％ 이하이다.
(Mn: 1.20％ 내지 3.50％)
Mn은, Si와 마찬가지로, 양호한 가공성을 확보하면서 강도를 향상시키는 원소이다. Mn 함유량이 1.20％ 미만이면, 이 작용에 의한 효과가 충분히 얻어지지 않는다. 따라서, Mn 함유량은 1.20％ 이상이다. 양호한 가공성을 확보하면서 보다 높은 강도를 얻기 위하여, Mn 함유량은 바람직하게는 1.50％ 이상이다. 한편, Mn 함유량이 3.50％ 초과이면, 충분한 용접성을 얻을 수 없다. 따라서, Mn 함유량은 3.50％ 이하이다.
(P: 0.100％ 이하)
P는, 필수 원소가 아니며, 예를 들어 강 중에 불순물로서 함유된다. 가공성, 용접성 및 피로 특성의 관점에서, P 함유량은 낮으면 낮을수록 좋다. 특히 P 함유량이 0.100％ 초과하면, 가공성, 용접성 및 피로 특성의 저하가 현저하다. 따라서, P 함유량은 0.100％ 이하로 한다.
(Al: 1.200％ 이하)
Al은, 필수 원소가 아니고, 예를 들어 강 중에 불순물로서 함유된다. 가공성의 관점에서, Al 함유량은 낮으면 낮을수록 좋다. 특히 Al 함유량이 1.200％ 초과로, 가공성의 저하가 현저하다. 따라서, Al 함유량은 1.200％ 이하로 한다.
(N: 0.0100％ 이하)
N은, 필수 원소가 아니며, 예를 들어 강 중에 불순물로서 함유된다. 가공성의 관점에서, N 함유량은 낮으면 낮을수록 좋다. 특히 N 함유량이 0.0100％ 초과에서, 가공성의 저하가 현저하다. 따라서, N 함유량은 0.0100％ 이하로 한다.
(Cr, Mo, Ni 및 Cu: 합계 0.00％ 내지 1.20％)
Cr, Mo, Ni 및 Cu는, 강판의 강도의 한층 더 높은 향상에 기여한다. 따라서, Cr, Mo, Ni 또는 Cu 또는 이들 임의의 조합이 함유되어 있어도 된다. 단, Cr, Mo, Ni 및 Cu의 함유량이 합계 1.20％ 초과이면, 이 효과가 포화하여 공연히 비용이 높아진다. 또한, Cr, Mo, Ni 및 Cu의 함유량이 합계 1.20％ 초과이면, 주조 시에 주조편 균열이 발생하고, 강판으로 제조할 수 없는 경우가 있다. 따라서, Cr, Mo, Ni 및 Cu의 함유량은 합계 1.20％ 이하이다.
(Nb, Ti 및 V: 합계 0.000％ 내지 0.200％)
Nb, Ti 및 V는, 강판의 강도의 한층 더 높은 향상에 기여한다. 따라서, Nb, Ti 또는 V 또는 이들 임의의 조합이 함유되어 있어도 된다. 단, Nb, Ti 및 V의 함유량이 합계 0.200％ 초과이면, 이 효과가 포화하여 공연히 비용이 높아진다. 또한, Nb, Ti 및 V의 함유량이 합계 0.200％ 초과이면, 충분한 용접성을 얻을 수 없는 경우가 있다. 따라서, Nb, Ti 및 V의 함유량은 합계 0.200％ 이하이다.
(B: 0.0000％ 내지 0.0075％)
B는, 강판의 강도의 한층 더 높은 향상에 기여한다. 따라서, B가 함유되어 있어도 된다. 단, B 함유량이 0.0075％ 초과이면, 이 효과가 포화하여 공연히 비용이 높아진다. 또한, B 함유량이 0.0075％ 초과이면, 주조 시에 주조편 균열이 발생하고, 강판으로 제조할 수 없는 경우가 있다. 따라서, B 함유량은 0.0075％ 이하이다.
(Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 REM: 합계 0.0000％ 내지 0.1000％)
Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 REM은, 강판의 성형성의 향상에 기여한다. 따라서, Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 또는 REM 또는 이들의 임의의 조합이 함유되어 있어도 된다. 단, Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 REM의 함유량이 합계 0.1000％ 초과이면, 이 효과가 포화하여 공연히 비용이 높아진다. 또한, Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 REM의 함유량이 합계 0.1000％ 초과이면, 주조 시에 주조편 균열이 발생하고, 강판으로 제조할 수 없는 경우가 있다. 따라서, Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 REM의 함유량은 합계 0.1000％ 이하이다.
REM은 Sc, Y 및 란타노이드의 합계 17종류의 원소를 가리키며, REM의 함유량은 이들 17종류의 원소의 합계의 함유량을 의미한다. 란타노이드는, 공업적으로는, 예를 들어 미쉬 메탈로서 첨가된다.
이어서, 본 발명의 실시 형태에 따른 강판의 표면에 대해 설명한다. 본 실시 형태에 따른 강판의 표면은, 고감도 반사법에 의한 푸리에 변환형 적외 분광 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 50％ 이상 85％ 이하, 바람직하게는 60％ 이상 85％ 이하의 흡수 피크를 나타낸다. 또한, 본 실시 형태에 따른 강판의 표면은, 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타내지 않거나, 또는 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 85％ 이상의 흡수 피크를 나타낸다. 또한, 본 실시 형태에 따른 강판의 표면에는 3㎎/㎡ 내지 100㎎/㎡의 Ni가 부착되어 있다.
상기한 바와 같이 본 실시 형태에 따른 강판은, 강의 열간 압연, 열연 후 산세, 냉간 압연, 어닐링, 어닐링 후 산세 및 Ni의 전해 도금 등을 거쳐 제조된다. 어닐링 시에, 냉간 압연에서 얻어진 냉연 강판의 표면에 산화물이 생성되고, 어닐링에서 얻어진 어닐링 강판의 표면에는 산화물이 존재한다. 이것은, Si 및 Mn이 산화되기 쉬운 물질이기 때문에, 냉연 강판의 표면 부근에서 Si 및 Mn이 선택적으로 산화되기 때문이다. 이 산화물은 실리카 및 망간실리케이트이다. 망간실리케이트는 산에 용이하게 용해되기 때문에, 공식이 발생되지 않을 정도의 산으로 용이하게 제거할 수 있지만, 실리카는 냉연 강판에 공식이 발생되지 않을 정도의 산으로는 제거할 수 없다. 따라서, 이러한 산을 사용한 어닐링 후 산세를 행하면, 망간실리케이트의 일부 또는 전부가 제거되어, 실리카가 잔존한다. 어닐링 후 산세의 후에 존재하는 실리카는 치밀한 것과 다공성인 것으로 대별할 수 있다. 치밀한 실리카 및 다공성인 실리카가 존재하는 상태에서 전해 도금에 의해 Ni를 어닐링 강판에 부착시키면, 다공성인 실리카가 Ni로 덮인다. Ni는 어닐링 강판의 실리카가 존재하지 않는 부분, 즉 모재의 표면에도 부착된다. 따라서, 본 실시 형태에 따른 강판의 표면에는 실리카가 존재하고, 실리카 및 모재의 표면에 Ni가 부착되어 있다.
망간실리케이트는, 화성 처리성을 저해하고 또한 산성 분위기에서 용해하기 쉽다. 또한, 망간실리케이트의 부식 인자에 대한 배리어성은 낮다. 이 때문에, 망간실리케이트가 강판의 표면에 많이 존재하면, 양호한 화성 처리성이 얻어지지 않고, 또한, 화성 처리층을 적절하게 형성할 수 없기 때문에, 양호한 내식성을 얻을 수 없다. 실리카는 치밀한 것과 다공성인 것으로 대별할 수 있고, 치밀한 실리카는 양호한 화성 처리성을 갖고, 부식 인자에 대한 우수한 배리어성도 갖는다. 다공성인 실리카의 부식 인자에 대한 배리어성은 치밀한 실리카의 그것보다도 낮으나, 전해 도금에 의해 다공성인 실리카에 Ni가 부착함으로써, 양호한 화성 처리성이 얻어진다.
고감도 반사(reflection absorption spectrometry: RAS)법에 의한 푸리에 변환형 적외 분광(Fourier transform-infrared spectroscopy: FT-IR) 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 범위 내에 나타나는 흡수 피크는 실리카의 존재를 나타낸다. 상기한 바와 같이 본 실시 형태에 따른 강판을 제조할 때에는, 어닐링에 있어서 실리카 및 망간실리케이트가 생성되고, 어닐링 후 산세에 의해 망간실리케이트의 일부 또는 전부를 제거하는데, 공식의 발생을 억제하기 위하여 실리카는 잔존시킨다. 이 때문에, 본 실시 형태에서는, 강판의 표면에 실리카가 존재하고, 표면이 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타낸다. 이 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율은 실리카가 어느 정도 존재하는지를 나타내고, 이 반사율이 낮을수록, 적외선의 흡수율이 높고, 실리카가 많이 존재하는 것을 나타낸다. 그리고, 이 반사율이 50％ 미만이면, 실리카가 과잉으로 존재하고, 다공성인 실리카가 Ni에 의해 충분히 덮이지 않고, 양호한 화성 처리성을 얻을 수 없다. 한편, 이 반사율을 85％ 초과로 하기 위해서는, 어닐링에 있어서의 실리카의 생성량을 적게 하거나, 어닐링 후 산세에 있어서 실리카의 제거량을 많게 할 필요가 있다. 어닐링에 있어서의 실리카의 생성량을 적게 하기 위해서는, 어닐링 시의 로 내의 노점을 높게 할 필요가 있어, 현저한 탈탄이 발생하여 인장 강도 및 피로 강도가 저하되어 버린다. 실리카의 제거량을 많게 하기 위해서는, 강산세를 행할 필요가 있어, 현저한 공식이 발생하여 굽힘 가공성이 저하되어 버린다. 즉, 이 반사율이 85％ 초과이면, 원하는 기계적 특성이 얻어지지 않는다. 따라서, 강판의 표면은, RAS법에 의한 FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 50％ 이상 85％ 이하, 바람직하게는 60％ 이상 85％ 이하의 흡수 피크를 나타내는 것으로 한다. 이하, 「RAS법에 의한 FT-IR 분석」을, 단순히 「FT-IR 분석」이라는 경우가 있다.
FT-IR 분석으로 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 나타나는 흡수 피크는 망간실리케이트의 존재를 나타낸다. 망간실리케이트는 화성 처리성을 저하시키기 때문에, 적으면 적을수록 좋다. 따라서, 강판의 표면은, FT-IR 분석으로 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타내지 않는 것이 바람직하다. 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타낸다고 해도, 이 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 85％ 이상이면 망간실리케이트의 양을 적게 허용할 수 있다. 한편, 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 드러나는 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 85％ 미만이면, 망간실리케이트가 과잉으로 존재하고, 양호한 화성 처리성이 얻어지지 않고, 또한, 화성 처리층을 적절하게 형성할 수 없기 때문에, 양호한 내식성이 얻어지지 않는다. 따라서, 강판의 표면은, FT-IR 분석으로 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타내지 않거나, 또는 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 85％ 이상의 흡수 피크를 나타내는 것으로 한다.
본 실시 형태에 따른 강판의 표면에 부착된 Ni는, 다공성인 실리카를 덮어서 화성 처리성을 향상시킨다. Ni의 부착량이 3㎎/㎡ 미만이면, 충분한 화성 처리성이 얻어지지 않는다. 따라서, Ni의 부착량은 3㎎/㎡ 이상이다. 보다 우수한 화성 처리성을 얻기 위하여, Ni의 부착량은 바람직하게는 10㎎/㎡ 이상이며, 보다 바람직하게는 40㎎/㎡ 이상이다. 한편, Ni의 부착량이 100㎎/㎡ 초과이면, 강판의 주성분인 Fe보다도 귀인 Ni가 과잉이고, 충분한 내식성이 얻어지지 않는다. 따라서, Ni의 부착량은 100㎎/㎡ 이하이다. 보다 우수한 내식성을 얻기 위하여, Ni의 부착량은 바람직하게는 50㎎/㎡ 이하이다. Ni가 다공성인 실리카의 전체를 덮고 있을 필요는 없고, 모재의 실리카로부터 노출되어 있는 부분의 전체를 덮고 있을 필요도 없다.
Ni의 부착량은, 형광 X선 분석 장치를 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들어, 미리, Ni의 부착량이 기지인 샘플을 이용하여 X선 강도를 측정하고, Ni의 부착량과 X선 강도의 관계를 나타내는 검량선을 작성해 두고, 이 검량선을 이용하여, 측정 대상의 강판에 있어서의 X선 강도에서 Ni의 부착량을 특정할 수 있다.
이어서, 본 발명의 실시 형태에 따른 강판을 제조하는 방법에 대해 설명한다. 이 방법에서는, 상기의 화학 조성을 갖는 강의 열간 압연, 열연 후 산세, 냉간 압연, 어닐링, 어닐링 후 산세 및 Ni의 전해 도금을 행한다.
열간 압연, 열연 후 산세 및 냉간 압연은 일반적인 조건에서 행할 수 있다.
냉간 압연 후의 어닐링은, 냉간 압연에서 얻어진 냉연 강판의 표면에 실리카 및 망간실리케이트가 생성하고, 내부 산화가 발생하기 어려운 조건에서 행한다. 어닐링으로서, 연속 어닐링을 행하는 것이 바람직하다. 어닐링에서 생성하는 실리카의 양을 조정함으로써, 본 실시 형태에 따른 강판의 표면의 FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 나타나는 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율을 제어할 수 있다. 어닐링에서 생성하는 실리카의 양은, 예를 들어 어닐링의 온도 및 분위기를 조정함으로써 제어할 수 있다. 어닐링의 온도가 높을수록, 실리카가 많이 생성된다. 어닐링의 분위기는, 산소 원자(O)을 포함하는 N2 분위기에 있어서의 산소 포텐셜을 조정함으로써 제어하는 것이 바람직하다. 산소 포텐셜이 높을수록, 실리카가 많이 생성하고, 적외선의 흡수율이 높아져서 반사율이 낮아진다. 실리카의 양 및 반사율을 조정하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 강판을 제조할 때에는, 원하는 양의 실리카가 생성하는 조건, 요컨대 FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 나타나는 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 50％ 이상 85％ 이하, 바람직하게는 60％ 이상 85％ 이하로되는 조건을 미리 조사해 두고, 이 조건을 채용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, O2 농도가 50ppm 이하의 N2 분위기에 있어서, H2 농도가 3％이고, 노점이 -35℃ 미만 또는 -20℃ 초과이면, 반사율이 낮아지기 쉽다.
산소 포텐셜이 너무 높으면, 실리카가 냉연 강판의 표면에 형성되기 어렵고, 내부 산화가 진행되기 때문에, FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 나타나는 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 높아진다. 내부 산화가 진행되면 탈탄에 수반하는 인장 강도의 저하 및 피로 강도의 저하가 현저해진다. 탈탄의 정도는, 탈탄층의 두께에 기초하여 확인할 수 있다. 예를 들어, 강판의 판 두께의 1/4 두께에 있어서의 경질 조직의 면적 분율을 S1, 강판의 표층부에 있어서의 경질 조직의 면적 분율을 S2로 했을 때, 비 S2/S1의 값이 0.40 이상인 부분의 최대 깊이를 탈탄층의 두께로 간주할 수 있다. 인장 강도의 저하 및 피로 강도의 저하를 회피하기 위해서는, 탈탄층의 두께가 3㎛ 이하인 것이 바람직하다. 여기에서 말하는 경질 조직이란, 마르텐사이트, 템퍼링 마르텐사이트, 베이나이트 또는 잔류 오스테나이트 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 조직을 의미한다. 예를 들어, O2 농도가 50ppm 이하의 N2 분위기에 있어서, H2 농도가 3％이고, 노점이 -10℃ 초과이면 탈탄이 현저하고, 비 S2/S1의 값이 0.40 미만이 될 우려가 있다.
「H2O←→H2+1/2(O2)」의 평형식으로부터도 알 수 있는 바와 같이, 어닐링 로 내의 O2 농도가 높을수록, H2O 농도가 높을수록, 또는 H2 농도가 낮을수록, 어닐링 로 내의 산소 포텐셜은 높아진다. H2O 농도는, 수증기 농도 또는 노점으로 표시되는 경우가 있다.
어닐링 후에는, 어닐링에서 발생한 망간실리케이트의 일부 또는 전부를 어닐링 후 산세에 의해 제거한다. 어닐링 후 산세의 후에 잔존하는 망간실리케이트의 양을 조정함으로써, 본 실시 형태에 따른 강판의 표면 FT-IR 분석으로 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 나타나는 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율을 제어할 수 있다. 잔존하는 망간실리케이트의 양은, 예를 들어 어닐링 후 산세의 조건을 조정함으로써 제어할 수 있다. 산의 농도가 높을수록, 산의 온도가 높을수록, 어닐링 강판이 산에 접촉하고 있는 시간이 길수록, 망간실리케이트가 적어진다. 어닐링 후 산세에서는, 예를 들어 어닐링 강판의 표면이, 농도가 3.0질량％ 내지 6.0질량％, 온도가 50℃ 내지 60℃의 염산으로 젖은 상태를 3초간 내지 10초간 유지한다. 염산으로 젖은 상태는, 어닐링 강판을 염산에 침지하여 얻을 수 있고, 어닐링 강판에 염산을 스프레이함으로써 얻을 수도 있다. 염산의 농도가 3.0질량％ 미만이면, 망간실리케이트가 용해되기 어렵다. 따라서, 염산의 농도는 바람직하게는 3.0질량％ 이상이다. 염산의 농도가 6.0질량％ 초과이면, 어닐링 강판의 표면에 미세한 공식이 발생할 수 있다는 우려가 있다. 따라서, 염산의 농도는 바람직하게는 6.0질량％ 이하이다. 염산의 온도가 50℃ 미만이면, 망간실리케이트가 용해되기 어렵다. 따라서, 염산의 온도는 바람직하게는 50℃ 이상이다. 염산의 온도가 60℃ 초과이면, 어닐링 강판의 표면에 미세한 공식이 발생할 수 있다는 우려가 있다. 따라서, 염산의 온도는 바람직하게는 60℃ 이하이다. 염산으로 젖어 있는 시간이 3초간 미만이면, 망간실리케이트가 용해되기 어렵다. 따라서, 이시간은 바람직하게는 3초간 이상이다. 이시간이 10초간 초과이면, 어닐링 강판의 표면에 미세한 공식이 발생할 수 있다는 우려가 있다. 따라서, 이시간은 10초간 이하이다. 어닐링 후 산세는, 어닐링으로 생성된 망간실리케이트를 제거할 수 있고, 어닐링 강판에 공식이 발생하기 어려운 조건에서 행하는 것이 바람직하고, 상기의 예에 한정되지 않는다. 공식이 발생했다고 해도, 깊이가 1㎛ 이상인 공식의 수가 임의의 단면 폭이 100㎛인 시야에 5개 이하이면 된다. 깊이가 1㎛ 이상인 공식이 임의의 단면 폭이 100㎛인 시야에 5개 초과 존재하면, 충분한 내식성이 얻어지지 않거나, 충분한 피로 강도가 얻어지지 않거나 하기 때문이다. 어닐링 후 산세에 사용하는 산은 염산에 한정되지 않는다. 그리고, 망간실리케이트의 양이 적을수록, FT-IR 분석으로 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 나타나는 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 커지고, 망간실리케이트가 존재하지 않는 경우, 이 범위 내에 흡수 피크가 나타나지 않는다. 망간실리케이트의 양 및 반사율을 조정하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 강판을 제조할 때에는, 산의 종류도 포함하고, 어닐링 강판에 공식이 발생되기 어렵고, 망간실리케이트의 양이 원하는 범위 내가 되는 조건, 요컨대 FT-IR 분석으로 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크가 나타나지지 않거나, 나타났다고 해도 이 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 85％ 이상이 되는 조건을 미리 조사해 두고, 이 조건을 채용하는 것이 바람직하다.
어닐링 후 산세의 후에, 전해 도금에 의해 어닐링 강판의 표면에 Ni를 부착시킨다. 이 결과, 다공성인 실리카가 Ni로 덮인다. 전해 도금으로 사용하는 처리액으로서는, 예를 들어 황산 니켈 수용액, 염화니켈 수용액, 탄산 니켈 수용액 등의 일반적인 처리액을 사용할 수 있다. Ni의 부착량은, 예를 들어 처리액의 농도 및 전해 도금 시의 전류 밀도를 변경함으로써 조정할 수 있다. 상기한 바와 같이Ni가 다공성인 실리카의 전체를 덮을 필요는 없고, 모재의 실리카로부터 노출되어있는 부분의 전체를 덮을 필요도 없다.
이와 같이 하여, 본 발명의 실시 형태에 따른 강판을 제조할 수 있다.
본 발명의 실시 형태에 따른 강판의 용도는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 바람직하게는 프레스 가공 등에 의해 성형한 후에, 인산 아연 처리 등의 화성 처리를 실시하여 사용한다. 보다 바람직하게는, 화성 처리로 형성된 화성 처리층 상에 전착 도장을 실시하여 사용한다.
또한, 상기 실시 형태는, 모두 본 발명을 실시하는데 있어서의 구체화의 예를 나타낸 것에 불과하며, 이들에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정적으로 해석되어서는 안되는 것이다. 즉, 본 발명은 그 기술 사상, 또는 그 주요한 특징으로부터 일탈하는 일 없이, 다양한 형태로 실시할 수 있다.
실시예
이어서, 본 발명의 실시예에 대해 설명한다. 실시예에서의 조건은, 본 발명의 실시 가능성 및 효과를 확인하기 위하여 채용한 일 조건예이며, 본 발명은 이의 일 조건예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 본 발명의 요지를 일탈하지 않고, 본 발명의 목적을 달성하는 한, 다양한 조건을 채용할 수 있는 것이다.
이 시험에서는, 표 1에 나타내는 화학 조성을 갖는 강의 열간 압연, 열연 후 산세 및 냉간 압연을 거쳐, 두께가 1.2㎜인 냉연 강판을 얻었다. 표 1 중의 공란은, 당해 원소의 함유량이 검출 한계 미만이었던 것을 나타내고, 잔부는 Fe 및 불순물이다.
Figure 112018026366084-pct00001
계속해서, 냉연 강판을 연속 어닐링 장치에 의해 최고 도달판 온도가 820℃가 되는 조건에서 어닐링하여 어닐링 강판을 얻었다. 어닐링 로 내의 가스 분위기는, H2 및 수증기(H2O)를 포함하는 N2 분위기로 하였다. 어닐링 시의 H2 농도를 표 2에 나타낸다. 수증기의 양은 표 2에 나타내는 로 내의 노점으로 관리하였다.
계속해서, 어닐링 강판의 어닐링 후 산세를 행하였다. 어닐링 후 산세에서는, 표 2에 나타내는 3종류의 조건을 채용하였다. 하나의 조건(약산세)에서는, 농도가 5질량％, 온도가 60℃의 염산을 어닐링 강판에 6초간 분사하고, 그 후에 수세하였다. 다른 하나의 조건(제1 강산세)에서는, 농도가 10질량％, 온도가 90℃의 염산을 어닐링 강판에 20초간 분사하고, 그 후에 수세하였다. 또 하나의 조건(제2 강산세)에서는, 농도가 2질량％, 온도가 70℃의 염산에 어닐링 강판을 2초간 침지하고, 그 후에 수세하였다.
계속해서, 전해 도금에 의해 Ni를 어닐링 강판의 표면에 부착시켰다. 도금욕에는, Ni 농도로 하여 2g/L이 되도록 조정한 황산 니켈 수용액을 사용하였다. 욕 온은 40℃로 하고, 전압을 변화시킴으로써 Ni의 부착량을 조정하였다. 부착된 Ni의 양은 형광 X선 분석 장치를 이용하여 측정하였다. 표 2에 Ni의 부착량을 나타낸다.
이와 같이 하여 56종류의 강판을 제작하였다. 그리고, 이들 강판의 표면 FT-IR 분석을 하였다. FT-IR 분석에는 닛본 분꼬우사제의 FT-IR6200형의 푸리에 변환형 적외 분광 분석 장치를 이용하였다. FT-IR 분석으로는, 적외 흡수 스펙트럼의 파수가 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 범위 내에서의 흡수 피크 및 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 범위 내에서의 흡수 피크를 특정하고, 이들 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율을 구하였다. 이 결과를 표 2에 나타낸다. 상기한 바와 같이 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에서의 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율은 실리카의 양을 반영하고, 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에서의 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율은 망간실리케이트의 양을 반영한다. 표 2 중의 밑줄은, 그 수치가 본 발명이 범위로부터 벗어나 있는 것을 나타낸다.
Figure 112018026366084-pct00002
각 강판의 공식을 조사하였다. 이 조사에서는, 강판의 임의의 단면의 표층 부근을 주사형 전자 현미경으로 관찰하고, 임의의 단면 폭 100㎛ 시야에 존재하는 깊이가 1㎛ 이상인 공식의 수를 조사하였다. 이 결과를 표 3에 나타낸다.
각 강판의 탈탄층의 두께를 조사하였다. 이 조사에서는, 강판의 판 두께의 1/4 두께에 있어서의 경질 조직의 면적 분율 S1 및 표층부에 있어서의 경질 조직의 면적 분율 S2를 측정하고, 이들의 비 S2/S1을 탈탄층의 두께로 하였다. 면적 분율 S1 및 면적 분율 S2의 측정으로는, 강판의 압연 방향에 평행한 판 두께 단면을 관찰면으로 하여 이 관찰면의 연마 및 나이탈 에칭을 행하고, 전계 방사형 주사형 전자 현미경(FE-SEM)에 의해, 500배 내지 3000배의 배율로 관찰하였다. 이때, 강판의 판면에 평행한 선을 긋고, 선이 경질 조직과 겹치는 총 길이 L을 구하고, 선의 길이 L0와의 비 L/L0을, 당해 깊이 위치에 있어서의 경질 조직의 면적 분율로 하였다. 이 결과를 표 3에 나타낸다.
각 강판의 인장 강도, 화성 처리성 및 도장후 내식성의 평가도 행하였다.
인장 강도의 평가에서는, 강판으로부터 압연 방향에 직각 방향으로 JIS5호 시험편을 잘라내고, 상온에서의 인장 시험을 행하였다. 그리고, 인장 강도가 780MPa 이상이면 ○, 780MPa 미만이면 ×로 평가하였다. 이 결과를 표 3에 나타낸다.
화성 처리성의 평가에서는, 먼저, 강판으로부터 70㎜×150㎜의 시험편을 잘라내고, 이 시험편의 탈지 및 화성 처리를 행하였다. 탈지에서는, 시료에 농도가 18g/L의 탈지제의 수용액을 40℃로 120초간 스프레이하고, 수세하였다. 탈지제로서는, 니혼 파커라이징사제의 파인 클리너 E2083을 사용하였다. 화성 처리에서는, 시험편을 농도가 0.5g/L의 표면 처리제의 수용액에 상온에서 60초간 침지하고, 인산 아연 처리제에 120초간 침지하고, 수세하여, 건조함으로써 화성 처리 피막을 형성하였다. 표면 처리제로서는, 니혼 파커라이징사제의 프레파렌 XG를 사용하고, 인산 아연 처리제로서는, 니혼 파커라이징사제의 팔 본드 L3065를 사용하였다.
그리고, 화성 처리 피막의 외관 평가로서, 시험편의 상부, 중앙부 및 하부의 3개소를 주사형 전자 현미경(SEM)을 사용하여 1000배의 배율로 관찰하고, 인산 아연의 결정 부착 정도를 관찰하였다. 그리고, 인산 아연의 막이 형성되지 않은 영역의 비율이 5 면적％ 미만인 것을 ○, 5 면적％ 이상 20 면적％ 미만인 것을 △, 20 면적％ 이상인 것을 ×로 평가하였다. 이 결과를 표 3에 나타낸다. ○의 평가를 한 시료의 SEM 사진을 도 1에 도시하고, △의 평가를 한 시료의 SEM 사진을 도 2에 도시하고, ×의 평가를 한 시료의 SEM 사진을 도 3에 도시한다.
형광 X선을 이용한 화성 처리 피막의 부착량의 측정도 행하였다. 이 측정으로는, 형광 X선의 P강도에 관한 것으로, 인산 아연의 화성 처리 피막의 부착량이 기지인 강판을 이용하여 미리 제작해 둔 검량선을 이용하였다. 화성 처리 피막의 부착량이 낮을수록 화성 처리성이 낮고, 2g/㎡ 이상의 부착량이면, 화성 처리성이 양호하다. 이 평가에서는, 부착량이 2g/㎡ 이상인 것을 ○, 1.5g/㎡ 이상 2g/㎡ 미만인 것을 △, 1.5g/㎡ 미만인 것을 ×로 하였다. 이 결과를 표 3에 나타낸다.
도장 후 내식성의 평가에서는, 먼저, 강판에 화성 처리성의 평가와 동일하게 하여 화성 처리 피막을 형성하고, 그 상에 전착 도료를 도장하였다. 전착 도료로서는, 닛폰 페인트사제의 파워닉스를 사용하였다. 이 도장에서는, 시험편을 온도가 30℃의 전착 도료 중에 침지한 상태에서 전압을 걸고, 150V의 전압으로 도막의 두께가 건조 막 두께로 20㎛가 되도록 통전 시간을 조정하였다. 통전 시간은 약 3분이었다. 막 두께는 전자 막 두께계를 이용하여 계측하였다.
그리고, 시험편의 중앙에 도막 위로부터 시험편의 소재(강판)에 도달하도록 ×자상의 커트 흠집을 커터 나이프로 형성하고, 가로의 단면(측면)을 테이프로 시일함으로써, 내식성 시험용 샘플을 제작하였다. 이것을 JIS Z 2371에 기재된 방법으로 염수 분무 시험하였다. 시험 시간은 1000시간으로 하고, 커트 흠집으로부터의 최대 팽창 폭이 편측에서 2㎜ 이내라면 ○, 2㎜ 초과 3㎜ 이내라면 △, 3㎜ 초과라면 ×로 평가하였다. 이 결과를 표 3에 나타낸다. 표 3 중의 밑줄은, 그 수치가 바람직한 범위로부터 벗어나 있음을 나타낸다.
Figure 112018026366084-pct00003
시험 번호 1, 3, 6 내지 8, 10 내지 14, 16 내지 18, 21, 23, 27 내지 29, 32, 34, 38 내지 40, 43 내지 45 및 49 내지 51에서는, 본 발명의 범위 내에 있기 때문에, 우수한 화성 처리성 및 도장 후 내식성이 얻어졌다. FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 나타난 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 60％ 이상 85％ 이하인 시험 번호 1, 6 내지 8, 11 내지 14, 16 내지 18, 21, 27 내지 29, 32, 38 내지 40, 43 내지 45 및 49 내지 51에 있어서, 특히 뛰어난 화성 처리성 및 도장 후 내식성이 얻어졌다.
시험 번호 2, 9, 22 및 33에서는, FT-IR 분석으로 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 나타난 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 85％ 미만이기 때문에, 화성 처리성이 낮고, 이에 수반하여 도장 후 내식성도 낮았다. 망간실리케이트가 다량으로 잔존하고 있었기 때문이라고 생각된다.
시험 번호 15, 26, 37 및 48에서는, Ni의 부착량이 3㎎/㎡ 미만이기 때문에, 화성 처리성이 낮고, 이에 수반하여 도장 후 내식성도 낮았다. 시험 번호 19, 30, 41 및 52에서는, Ni의 부착량이 100g/㎡ 초과이기 때문에, 양호한 화성 처리성이 얻어지기는 했지만, 도장 후 내식성이 낮았다.
시험 번호 4, 5, 24, 25, 35, 36, 46 및 47에서는, 굳이 탈탄이 발생하는 조건에서 어닐링을 행했기 때문에, 즉 노점이 높고, 산소 포텐셜이 높은 분위기에서 어닐링을 행했기 때문에, 두꺼운 탈탄층이 형성되었다. 이 때문에, 피로 강도가 저하되어 버린다. 또한, FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 나타난 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 85％ 초과가 되고 있었다.
시험 번호 20, 31, 42 및 53에서는, 굳이 공식이 발생하기 쉬운 조건에서 어닐링 후 산세를 행했기 때문에, 즉 제1 강산세를 행했기 때문에, 많은 공식이 발생하였다. 이 때문에, 굽힘 가공성이 저하되어 버린다. 또한, FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 나타난 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 85％ 초과가 되고 있었다.
시험 번호 54 내지 56에서는, 강의 조성이 본 발명 범위로부터 벗어나고 있기 때문에, 인장 강도가 낮았다.
시험 번호 57 내지 60에서도, 굳이 공식이 발생되기 쉬운 조건에서 어닐링 후 산세를 행했기 때문에, 즉 제2 강산세를 행했기 때문에, 많은 공식이 발생하였다. 이 때문에, 굽힘 가공성이 저하되어 버린다. 또한, FT-IR 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 나타난 흡수 피크를 나타내는 파수에 있어서의 반사율이 85％ 초과가 되어 있었다.
본 발명은 예를 들어 자동차의 차체나 부품에 적합한 강판에 관련된 산업에 이용할 수 있다.

Claims (2)

  1. 질량％로,
    C: 0.050％ 내지 0.400％,
    Si: 0.10％ 내지 2.50％,
    Mn: 1.20％ 내지 3.50％,
    P: 0.100％ 이하,
    Al: 1.200％ 이하,
    N: 0.0100％ 이하,
    Cr, Mo, Ni 및 Cu: 합계 0.00％ 내지 1.20％,
    Nb, Ti 및 V: 합계 0.000％ 내지 0.200％,
    B: 0.0000％ 내지 0.0075％,
    Ca, Mg, Ce, Hf, La, Zr, Sb 및 REM: 합계 0.0000％ 내지 0.1000％, 및
    잔부: Fe 및 불순물,
    로 나타내는 화학 조성을 갖고,
    표면이,
    고감도 반사법에 의한 푸리에 변환형 적외 분광 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 50％ 이상 85％ 이하의 흡수 피크를 나타내며, 또한,
    1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 흡수 피크를 나타내지 않거나, 또는 1000㎝-1 내지 1100㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 85％ 이상의 흡수 피크를 나타내고,
    상기 표면에 3㎎/㎡ 내지 100㎎/㎡의 Ni가 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 강판.
  2. 제1항에 있어서, 상기 표면이, 고감도 반사법에 의한 푸리에 변환형 적외 분광 분석으로 1200㎝-1 내지 1300㎝-1의 파수의 범위 내에 반사율이 60％ 이상 85％ 이하의 흡수 피크를 나타내는 것을 특징으로 하는 강판.
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