KR102048384B1 - 유체를 이용한 피부 미용 치료용 rf 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스 - Google Patents

유체를 이용한 피부 미용 치료용 rf 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스는 내부에 유체를 수용할 수 있는 유체 수용 공간이 위치되고 하면부가 피부와 접촉되는 유전체 용기부 내에 전기전원을 인가받아 RF신호를 발생시키는 도전성 유체를 포함하여 도전성 유체로 RF 전극 역할과 피부를 냉각시키는 냉각수 역할을 동시에 함으로써 구조를 단순화하고 제조 비용을 절감함으로써 경제성을 확보할 수 있고 장기간 안정적으로 사용이 가능하며 내구성이 우수하여 치료 중 오작동에 의한 사고가 발생되지 않고 치료 중 안정성을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라 유지 비용을 절감할 수 있다.

Description

유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스{FLUID RF ELECTRODE ASSEMBLY FOR BEAUTY TREATMENT OF SKIN AND HANDPIECE FOR BEAUTY TREATMENT OF SKIN USING THE SAME}
본 발명은 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스에 관한 것으로 더 상세하게는 도전성 이온을 포함한 유체로 RF 전극을 형성하여 피부 냉각과 전극 역할을 동시에 할 수 있는 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스에 관한 발명이다.
일반적으로 RF 전극을 구비한 핸드 피스는 RF 전극(radio frequency)을 이용하여 피부 및 피부의 하부 조직을 가열하여 치료하는 장치이다.
RF 전극을 구비한 핸드 피스는 비만치료로 냉각지방 분해시술 후 피부의 온도를 높여 피부를 회복시키는 용도 및 피부 및 피부의 하부 조직을 가열하여 콜라겐의 수축을 발생시키거나 상처 치유 반응을 유발시키는 피부 치료에 사용되고 있다.
근래에 들어 피부 미용에 대한 관심의 증가로 RF 전극을 구비한 핸드 피스는 하부 진피 내 콜라겐에 수축 또는 상처 치유 반응으로 피부 리모델링/재표면화(resurfacing), 주름 제거 그리고 피지샘, 모낭 지방 조직 및 거미 정맥(spider veins)의 치료 등으로 다양하게 이용되고 있는 실정이다.
종래의 RF 전극을 구비한 핸드 피스에서 전극체는 유전체 상에 도전성의 전극패턴이 부착되어 이루어지는 연성회로기판(FPCB) 구조로 이루어지고 있다.
또한, 종래의 RF 전극을 구비한 핸드 피스는 RF 신호를 피부에 인가하여 피부를 가열하면서 치료가 이루어지므로 치료 중 피부에 화상 등의 손상이 발생될 수 있어 피부와 접촉되는 전극체에 냉각가스를 분사하여 피부를 냉각시키는 냉각 가스 분사부를 포함하고 있다.
따라서, 종래의 RF 전극을 구비한 핸드 피스는 도전성 전극패턴이 부착되어 위치되는 연성회로기판(FPCB)을 제조하고, 이와 함께 연성회로기판이 치료 부위의 피부에 접촉되어 치료 중에 연성회로기판 즉, 전극체에 냉각가스를 분사하는 냉각 가스분사부를 함께 구비해야 하므로 구조가 복잡하고 제조 비용이 많이 소요되는 문제점이 있었다.
또한, 연성회로기판(FPCB) 구조의 RF 전극은 피부와 다수 회 접촉되면서 유전체가 휘어질 때 도전성 전극 패턴이 함께 휘어지게 되는 것이 반복되므로 다수회 사용 시 도전성의 전극 패턴 중 일부가 필름 즉, 유전체에서 분리되면서 치료 중 오작동이 유발되는 사고가 발생될 수 있고, 연성회로기판(FPCB) 구조의 내구성 문제로 장기간 안정적으로 사용하기 어려운 문제점이 있었다.
(선행특허문헌)한국특허등록 제0993491호 '고주파 출력장치'(2010.11.04.등록)
본 발명의 목적은 도전성 이온을 포함한 유체로 RF 전극을 형성하여 피부 냉각과 전극 역할을 동시에 할 수 있어 구조를 단순화하고 제조 비용을 절감할 수 있는 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스를 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 도전성 이온을 포함한 유체로 RF 전극을 형성하여 장기간 안정적으로 사용이 가능하고 내구성이 우수한 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체 및 이를 구비한 피부 미용 치료용 핸드피스를 제공하는 데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체는 내부에 유체를 수용할 수 있는 유체 수용 공간이 위치되고 하면부가 피부와 접촉되는 유전체 용기부, 상기 유전체 용기부의 내부에 위치되고 전기전원을 인가받아 RF신호를 발생시키는 도전성 유체, 상기 도전성 유체에 전기 전원을 인가하는 전원 인가용 단자부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 피부 미용 치료용 핸드피스는 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체, 상기 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체가 위치되는 핸드피스용 케이싱을 포함하며, 상기 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체는 내부에 유체를 수용할 수 있는 유체 수용 공간이 위치되고 하면부가 피부와 접촉되는 유전체 용기부, 상기 유전체 용기부의 내부에 위치되고 전기전원을 인가받아 RF신호를 발생시키는 도전성 유체, 상기 도전성 유체에 전기 전원을 인가하는 전원 인가용 단자부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체는 상기 유전체 용기부 내 상기 도전성 유체를 순환시켜 냉각시키는 냉각 순환부를 더 포함할 수 있다.
본 발명에서 상기 도전성 유체는 이온 전도체를 포함할 수 있다.
본 발명에서 상기 도전성 유체는 이온 전도체를 포함하는 물일 수 있다.
본 발명에서 상기 하면부는 하부 측으로 볼록한 곡면을 가지되, 피부로 눌려질 때 변형되지 않는 곡면을 이루도록 형성될 수 있다.
본 발명에서 상기 냉각 순환부는 상기 도전성 유체를 저장하는 유체 저장 탱크, 상기 유체 저장 탱크와 유체 수용 공간을 연결하여 도전성 유체를 순환시키는 냉각 순환라인, 상기 냉각 순환라인에 위치되는 펌프 및 상기 냉각 순환라인으로 순환되는 도전성 유체를 냉각시키는 냉각부를 포함할 수 있다.
본 발명에서 상기 냉각 순환라인은 상기 유체 저장 탱크와 상기 유전체 용기부의 유체 유입구를 연결하는 유체 유입 라인부 및 상기 유체 저장 탱크와 상기 유전체 용기부의 유체 배출구를 연결하는 유체 배출 라인부를 포함하고, 상기 유체 배출 라인부에는 상기 도전성 유체만 투과시키고 상기 이온 전도체의 투과를 방지하는 이온 투과 방지막부재가 위치될 수 있다.
본 발명에서 상기 냉각 순환부는 상기 유체 수용 공간 내 상기 도전성 유체를 순환하는 순환 라인부, 상기 순환 라인부에 위치되어 상기 도전성 유체를 순환시키는 제1펌프, 상기 순환 라인부로 순환되는 상기 도전성 유체를 냉각시키는 열교환부 및 상기 열교환부에서 상기 도전성 유체와 열교환을 통해 상기 도전성 유체를 냉각시키는 냉각 유체를 순환시키는 냉각 유체 순환부를 더 포함할 수 있다.
본 발명에서 상기 냉각 순환부는 상기 도전성 유체의 온도를 감지하는 온도센서를 더 포함할 수 있다.
본 발명은 도전성 이온을 포함한 유체로 RF 전극을 형성하여 피부 냉각과 전극 역할을 동시에 할 수 있어 구조를 단순화하고 제조 비용을 절감함으로써 경제성을 확보하는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 도전성 이온을 포함한 유체로 RF 전극을 형성하여 장기간 안정적으로 사용이 가능하며 내구성이 우수하여 치료 중 오작동에 의한 사고가 발생되지 않고 치료 중 안정성을 향상시키고, 유지 비용을 크게 절감하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체의 일 실시예를 도시한 개략도.
도 2는 본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체의 다른 실시예를 도시한 개략도.
도 3은 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스를 도시한 저면 사시도.
도 4는 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스의 사용 예를 도시한 개략도.
본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 상세한 설명에 앞서, 이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니된다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체(100)의 일 실시예를 도시한 개략도이고, 도 1을 참고하면 본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체(100)는 내부에 유체를 수용할 수 있는 유체 수용 공간(110a)이 위치되고 하면부(111a)가 피부와 접촉되는 유전체 용기부(110)를 포함한다.
유전체 용기부(110)는 내부에 유체를 수용할 수 있는 유체전극 유체 수용 공간(110a)이 형성되고 상부 측으로 개방된 유체 수용 공간(110a)의 하부를 막는 하면부(111a), 하면부(111a)의 상부 측으로 세워져 유체 수용 공간(110a)을 둘러싸는 측면부(111b)를 포함하는 용기 몸체부재(111), 용기 몸체부재(111)의 개방된 상부 측에 위치되어 개방된 유체 수용 공간(110a)의 상부를 커버하는 커버부재(112)를 포함하여 내부의 유체 수용 공간(110a)이 밀폐되는 구조를 가질 수 있다.
유체 수용 공간(110a)은 하면부(111a), 측면부(111b), 커버부재(112)로 내부가 밀폐되는 구조를 가지며 내부에 RF 전극 역할을 하기 위한 도전성 유체(120)가 채워져 위치될 수 있다.
커버부재(112)에는 도전성 유체(120)에 전기 전원을 인가하는 전원 인가용 단자부(140)가 위치되고, 전원 인가용 단자부(140)는 커버부재(112)를 관통하여 위치되고 하부 측 일부분이 유체 수용 공간(110a) 내에 위치되어 도전성 유체(120)와 접속되어 연결되고 상부 측 일부분이 커버부재(112)의 상부로 돌출되게 위치되어 RF 신호를 발생시키는 RF 신호 발생부와 연결될 수 있다.
커버부재(112)는 측면부(111b)의 상부에 위치되는 커버 결합부(111c)에 분리 가능하게 결합되어 유체 수용 공간(110a)을 밀폐시키거나 유체 수용 공간(110a)을 개방할 수 있도록 구성될 수 있다.
또한, 측면부(111b)의 상부에는 측면부(111b)의 외측 둘레로 커버부재(112)가 안착되는 커버 결합부(111c)가 위치될 수 있고, 커버 결합부(111c)는 테두리에 상부로 돌출되는 커버 결합 안내프레임(111d)이 돌출될 수 있다.
커버부재(112)는 하부 측에 커버 결합 안내 프레임의 내측면에 밀착되어 결합되는 밀폐용 돌출부(112a)가 위치될 수 있고, 밀폐용 돌출부(112a)의 둘레로 커버 결합 안내프레임(111d)의 상단부에 안착되는 평면의 안착부가 위치될 수 있다.
커버부재(112)는 평면의 안착부가 커버 결합 안내프레임(111d)의 상부에 안착되면서 밀폐용 돌출부(112a)의 외측 둘레가 커버 결합 안내프레임(111d)의 내측면에 밀착되고, 밀폐용 돌출부(112a)의 하부면이 커버 결합부(111c)의 상부면과 이격되게 위치된 상태로 커버 결합 안내프레임(111d)의 상부에 안착되어 결합됨으로써 유체 수용 공간(110a)의 상부를 밀폐시키는 것을 일 예로 한다.
유전체 용기부(110)는 합성수지재질 등의 절연재질로 형성되는 것을 일 예로 하고, 하면부(111a)는 유체 수용 공간(110a) 내에 위치되는 도전성 유체(120)로 피부를 냉각시킬 수 있는 두께로 형성된다.
또한, 하면부(111a)는 하부 측으로 볼록한 곡면을 가지되, 피부로 눌려질 때 변형되지 않는 곡면을 이루도록 형성된다.
하면부(111a)의 표면 곡률은 피부에 접촉되어 눌려질 때 피부와 접촉되는 면적이 극대화될 수 있는 곡률을 가지도록 형성되는 것을 일 예로 한다.
또한, 하면부(111a)는 표면이 볼록한 곡면 즉, 중심에서 360°둘레로 고른 곡률을 가지는 형상으로 형성되어 피부를 가압할 때 가압력이 고르게 분산될 수 있는 형상임과 동시에 외측둘레 모서리에서 피부가 과도하게 눌려져 통증이 유발되는 것을 방지할 수 있다.
하면부(111a)는 피부에 눌려질 때 변형되지 않는 곡면을 이루도록 형성되어 피부를 가압할 때 피부와 밀착되는 면적을 극대화함과 동시에 사용 중 변형되지 않아 내구성을 확보할 수 있다.
도전성 유체(120)는 물인 것을 일 예로 하고, 이온 전도체를 포함한 물로 전도성을 향상시켜 실시될 수도 있음을 밝혀둔다.
이온 전도체는 용매 즉, 물에 녹였을 때 이온으로 해리하여 전기 전도성을 나타내는 공지의 물질로 다양하게 변형되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다.
도전성 유체(120)는 물 이외에도 액체 암모니아, 플루오르화수소, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드 등과 같이 유전율이 높은 공지의 액체로 다양하게 변형되어 실시될 수도 있음을 밝혀둔다.
유전체 용기부(110)는 RF 전극을 감싸고 치료 대상자의 피부에 직접 접촉되는 유전체 역할을 하고, 도전성 유체(120)는 유체 수용 공간(110a) 내에서 교류 전원이 인가되어 RF 신호를 인가하는 RF 전극 역할을 하게 된다.
또한, 도전성 유체(120)는 RF 전극의 역할을 할 뿐만 아니라 RF 신호 인가로 치료 시 가열되는 피부의 표면을 냉각시키는 역할을 한다.
이에 도전성 유체(120)는 냉각 순환부(130)에 의해 순환되고, 순환되는 중에 냉각되어 기설정된 온도범위를 유지하면서 유전체 용기부(110)가 접촉되는 피부를 냉각시킬 수 있다.
커버부재(112)에는 유체 수용 공간(110a) 내로 도전성 유체(120)를 유입하는 유체 유입구, 유체 수용 공간(110a) 내 도전성 유체(120)를 배출시키는 유체 배출구가 위치된다.
유체 유입구와 유체 배출구에는 냉각 순환부(130)의 냉각 순환라인(132)이 연결될 수 있다.
냉각 순환부(130)는 도전성 유체(120)를 저장하는 유체 저장 탱크(131), 유체 저장 탱크(131)와 유체 수용 공간(110a)을 연결하여 도전성 유체(120)를 순환시키는 냉각 순환라인(132), 냉각 순환라인(132)에 위치되는 펌프(133), 냉각 순환라인(132)으로 순환되는 도전성 유체(120)를 냉각시키는 냉각부(134)를 포함할 수 있다.
냉각 순환부(130)는 유체 저장 탱크(131)와 유체 수용 공간(110a) 내 도전성 유체(120)를 펌프(133)의 작동으로 냉각 순환라인(132)을 통해 순환시키면서 냉각부(134)를 통해 냉각시키면서 RF 신호 인가로 피부가 가열될 때 피부 표면을 도전성 유체(120)로 냉각시킬 수 있도록 한다.
냉각부(134)는 유체 저장 탱크(131)에 위치되거나 냉각 순환라인(132)에 위치되어 순환되는 도전성 유체(120)를 냉각시키는 것을 일 예로 한다.
냉각부(134)는 라디에이터 또는 칠러 등 유체를 냉각시키는 공지의 냉각기기를 포함할 수 있다.
또한, 냉각 순환라인(132)은 유체 저장 탱크(131)와 유체 유입구를 연결하는 유체 유입 라인부(132a), 유체 저장 탱크(131)와 유체 배출구를 연결하는 유체 배출 라인부(132b)를 포함하고, 유체 배출 라인부(132b)에는 도전성 유체(120)만 투과시키고 이온 전도체의 투과를 방지하는 이온 투과 방지막부재(132c)가 위치될 수 있다.
이온 투과 방지막부재(132c)는 이온 전도체가 유체 수용 공간(110a) 내 도전성 유체(120)가 냉각 순환라인(132)을 통해 순환될 때 유체 배출 라인부(132b)를 통해 유체 저장 탱크(131)로 유입되는 것을 차단한다.
즉, 냉각 순환라인(132)으로는 도전성 유체(120)만 순환되고, 이온 전도체는 이온 투과 방지막부재(132c)에 의해 차단되어 유체 저장 탱크(131)로 유입되지 않고 유체 수용 공간(110a) 내 도전성 유체(120) 내에만 포함된다.
따라서, 유체 수용 공간(110a) 내에서 도전성 유체(120) 내에 포함된 이온 전도체의 함유량은 기설정된 범위 내에서 일정하게 유지될 수 있고, 교류 전원 인가 시 안정적인 RF 신호를 발생시킬 수 있게 된다.
또한, 유체 수용 공간(110a) 내 도전성 유체(120)에서 기설정된 범위 내의 이온 농도를 유지하기 위한 이온 전도체의 사용을 최소화할 수 있어 제조 원가 및 관리 비용을 절감할 수 있다.
또한, 냉각 순환부(130)는 도전성 유체(120)의 온도를 감지하는 온도센서(139)를 더 포함하여 온도센서(139)로 순환되는 도전성 유체(120)의 온도를 감지하여 펌프(133), 냉각부(134)의 작동을 제어함으로써 치료 중 피부를 냉각시키는 데 적합한 온도로 도전성 유체(120)의 온도를 유지할 수 있다.
온도센서(139)는 유체 수용 공간(110a) 내에 위치되어 실질적으로 피부 냉각이 이루어지는 도전성 유체(120)의 온도를 측정하고, 피부를 냉각시키는 데 적합한 온도로 도전성 유체(120)의 온도를 유지하는 것을 일 예로 하고, 이외에도 냉각 순환라인(132) 또는 유체 저장 탱크(131) 등과 같이 순환되는 도전성 유체(120)의 온도를 측정할 수 있는 어떠한 위치에도 위치되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다.
즉, 냉각 순환부(130)는 순환되는 도전성 유체(120)의 온도를 낮춰 치료 중인 피부의 표면을 냉각시킴으로써 치료 시 피부의 화상 및 열에 의한 손상을 방지할 수 있게 한다.
본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체(100)는 유체 수용 공간(110a) 내에 도전성 유체(120)를 순환시키고 순환되는 도전성 유체(120)를 냉각부(134)로 냉각시켜 도전성 유체(120)로 피부를 연속적으로 안정적으로 냉각시킬 수 있고 고르고 일정한 온도로 냉각시킬 수 있어 피부 치료 시 피부 냉각에 의한 불쾌감을 최소화하고, 치료 만족감을 향상시킬 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체(100)의 다른 실시예를 도시한 개략도이고, 냉각 순환부(130)의 다른 실시 예를 도시한 개략도이다.
도 2를 참고하면 냉각 순환부(130)는 유체 유입구와 유체 배출구를 연결하여 도전성 유체(120)를 순환하는 순환 라인부(135), 순환 라인부(135)에 위치되어 도전성 유체(120)를 순환시키는 제1펌프(136), 순환 라인부(135)로 순환되는 도전성 유체(120)를 냉각시키는 열교환부(137)를 포함할 수 있다.
또한, 냉각 순환부(130)는 열교환부(137)에서 도전성 유체(120)와 열교환을 통해 도전성 유체(120)를 냉각시키는 냉각 유체를 순환시키는 냉각 유체 순환부(138)를 더 포함할 수 있다.
냉각 유체 순환부(138)는 냉각 유체를 저장하는 냉각 유체 저장 탱크(138a), 냉각 유체 저장 탱크(138a)와 열교환부(137)를 연결하여 냉각 유체를 순환시키는 냉각 유체 순환라인부(138b), 냉각 유체 순환 라인부(135)에 위치되어 냉각 유체를 순환시키는 제2펌프(138c), 냉각 유체를 냉각시키는 냉각 유체 냉각부(138d)를 포함할 수 있다.
냉각 유체 냉각부(138d)는 냉각 유체 저장 탱크(138a)에 위치되거나 냉각 유체 순환라인부(138b)에 위치되어 순환되는 냉각 유체를 냉각시키는 것을 일 예로 한다.
냉각 유체 냉각부(138d)는 라디에이터 또는 칠러 등 유체를 냉각시키는 공지의 냉각기기를 포함할 수 있다.
냉각 순환부(130)는 도전성 유체(120)의 온도를 감지하는 온도센서(139)를 더 포함하여 온도센서(139)로 순환되는 도전성 유체(120)의 온도를 감지하여 제2펌프(138c), 냉각 유체 냉각부(138d)의 작동을 제어함으로써 피부를 냉각시키는 데 적합한 온도로 도전성 유체(120)의 온도를 유지할 수 있다.
온도센서(139)는 유체 수용 공간(110a) 내에 위치되어 실질적으로 피부 냉각이 이루어지는 도전성 유체(120)의 온도를 측정하고, 피부를 냉각시키는 데 적합한 온도로 도전성 유체(120)의 온도를 유지하는 것을 일 예로 하고, 이외에도 냉각 순환라인(132) 또는 유체 저장 탱크(131) 등과 같이 순환되는 도전성 유체(120)의 온도를 측정할 수 있는 어떠한 위치에도 위치되어 실시될 수 있음을 밝혀둔다.
냉각 순환부(130)는 이온 전도체를 포함한 도전성 유체(120)를 순환 라인부(135)로 유체 수용 공간(110a) 내에서만 순환시키고, 별도의 열교환부(137)를 통해 이온 전도체를 포함한 도전성 유체(120)를 냉각시킨다.
그리고, 열교환부(137)는 이온 전도체를 포함한 도전성 유체(120)와 열교환을 통해 도전성 유체(120)를 냉각시키는 냉각 유체를 냉각 유체 순환부(138)를 통해 순환하면서 냉각시킨다.
즉, 유체 수용 공간(110a) 내에서 도전성 유체(120) 내에 포함된 이온 전도체의 함유량은 기설정된 범위 내에서 일정하게 유지될 수 있고, 교류 전원 인가 시 안정적인 RF 신호를 발생시킬 수 있도록 한다.
또한, 유체 수용 공간(110a) 내 도전성 유체(120)에서 기설정된 범위 내의 이온 농도를 유지하기 위한 이온 전도체의 사용을 최소화할 수 있어 제조 원가 및 관리 비용을 절감할 수 있다.
도 3은 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스를 도시한 저면 사시도로써 도 3을 참고하면 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스는 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체(100)가 위치될 수 있고, 의사 등의 시술자가 손으로 잡고 사용할 수 있는 형상을 가지는 핸드피스용 케이싱(200)을 더 포함할 수 있다.
핸드피스용 케이싱(200)은 하부면에 유전체 용기부(110)가 통과되어 결합될 수 있는 하우징 결합용 개방부(211)가 위치되는 하부 케이싱부(210), 하부 케이싱부(210)의 상부 측에 분리 가능하게 결합되는 상부 케이싱부(220)를 포함할 수 있다.
핸드피스용 케이싱(200) 내에는 도시되지는 않았지만 RF 신호 발생부와 전원 인가용 단자부(140)를 연결하는 전선 또는 케이블 등이 전원라인이 배선될 수 있고, 냉각 순환부(130)의 냉각 순환라인(132) 또는 순환 라인부(135)가 위치될 수 있다.
피부 미용 치료용 RF 전극 구조체(100)는 전원 라인을 통해 RF 치료 본체부 내 RF 신호 발생부와 연결되는 것으로 RF 치료 본체부와 RF 신호 발생부는 공지의 기술로 더 상세한 설명은 생략함을 밝혀둔다.
본 발명에 따른 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체(100)는 RF 전극 역할을 하는 도전성 유체(120)가 내부에 수용된 유전체 용기부(110), 전원 인가용 단자부(140)를 포함하는 것이고, 이에 대한 실시예는 상기에서 설명한 바 중복기재로 생략함을 밝혀둔다.
도 4는 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스의 사용 예를 도시한 개략도이고, 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스는 시술자가 손으로 잡고 유전체 용기부(110)의 하면부(111a)를 피부에 접촉시킨 상태에서 RF 신호 발생부로 유전체 용기부(110) 내 도전성 유체(120)로 교류 전원을 인가하여 RF 신호를 발생시킴으로써 피부 내 진피를 가열하여 피부를 치료하거나 미용 효과를 유발할 수 있도록 한다.
이 때 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스의 맞은 편에는 유전체 용기부(110)의 하면부(111a)보다 더 넓은 면적을 가지는 RF 전극 패널체(300)가 위치될 수 있다.
RF 전극 패널체(300)는 RF 신호를 인가하여 피부 내 진피를 가열하여 피부를 치료하거나 미용 효과를 유발할 수 있도록 하는 공지의 구성으로 더 상세한 설명은 생략함을 밝혀둔다.
즉, 본 발명에 따른 피부 미용 치료용 핸드피스는 유전체 용기부(110) 내 도전성 유체(120)로 피부에 RF 신호를 인가하여 피부 내 조직을 가열하여 하부 진피 내 콜라겐에 수축 또는 상처 치유 반응으로 피부 리모델링/재표면화(resurfacing), 주름 제거 그리고 피지샘, 모낭 지방 조직 및 거미 정맥(spider veins)의 치료 등을 수행할 수 있다.
본 발명은 도전성 이온을 포함한 유체로 RF 전극을 형성하여 피부 냉각과 전극 역할을 동시에 할 수 있어 구조를 단순화하고 제조 비용을 절감함으로써 경제성을 확보할 수 있다.
또한, 본 발명은 도전성 이온을 포함한 유체로 RF 전극을 형성하여 장기간 안정적으로 사용이 가능하며 내구성이 우수하여 치료 중 오작동에 의한 사고가 발생되지 않고 치료 중 안정성을 향상시키고, 유지 비용을 크게 절감할 수 있다.
본 발명은 상기한 실시 예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지에 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있으며 이는 본 발명의 구성에 포함됨을 밝혀둔다.
100 : 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체 110 : 유전체 용기부
110a : 유체 수용 공간 111 : 용기 몸체부재
111a : 하면부 111b : 측면부
111c : 커버 결합부 111d : 커버 결합 안내프레임
112 : 커버부재 112a : 밀폐용 돌출부
120 : 도전성 유체 130 : 냉각 순환부
131 : 유체 저장 탱크 132 : 냉각 순환라인
132a : 유체 유입 라인부 132b : 유체 배출 라인부
132c : 이온 투과 방지막부재 133 : 펌프
134 : 냉각부 135 : 순환 라인부
136 : 제1펌프 137 : 열교환부
138 : 냉각 유체 순환부 138a : 냉각 유체 저장 탱크
138b : 냉각 유체 순환라인부 138c : 제2펌프
138d : 냉각 유체 냉각부 139 : 온도센서
140 : 전원 인가용 단자부

Claims (10)

  1. 내부에 유체를 수용할 수 있는 유체 수용 공간이 위치되고 하면부가 피부와 접촉되는 유전체 용기부;
    상기 유전체 용기부의 내부에 위치되고 전기전원을 인가받아 RF신호를 발생시키며 이온 전도체를 포함하는 도전성 유체;
    상기 도전성 유체에 전기 전원을 인가하는 전원 인가용 단자부; 및
    상기 유전체 용기부 내 상기 도전성 유체를 순환시켜 냉각시키는 냉각 순환부를 포함하며,
    상기 냉각 순환부는 유체 저장 탱크와 상기 유체 수용 공간을 연결하여 도전성 유체를 순환시키는 냉각 순환라인을 포함하고,
    상기 냉각 순환라인은,
    상기 유체 저장 탱크와 상기 유전체 용기부의 유체 유입구를 연결하는 유체 유입 라인부; 및
    상기 유체 저장 탱크와 상기 유전체 용기부의 유체 배출구를 연결하는 유체 배출 라인부를 포함하고,
    상기 유체 배출 라인부에는 상기 도전성 유체만 투과시키고 상기 이온 전도체의 투과를 방지하는 이온 투과 방지막부재가 위치되는 것을 특징으로 하는 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 도전성 유체는 상기 이온 전도체를 포함하는 물인 것을 특징으로 하는 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 하면부는 하부 측으로 볼록한 곡면을 가지되, 피부로 눌려질 때 변형되지 않는 곡면을 이루도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 냉각 순환부는,
    상기 냉각 순환라인에 위치되는 펌프; 및
    상기 냉각 순환라인으로 순환되는 도전성 유체를 냉각시키는 냉각부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 냉각 순환부는 상기 도전성 유체의 온도를 감지하는 온도센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유체를 이용한 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체.
  10. 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체, 상기 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체가 위치되는 핸드피스용 케이싱을 포함하며,
    상기 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체는 청구항 1, 청구항 4 내지 청구항 6, 청구항 9 중 어느 한 항의 피부 미용 치료용 RF 전극 구조체인 것을 특징으로 하는 피부 미용 치료용 핸드피스.
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