KR102018157B1 - Elctromagnetic interference shielding film, printed circuit board comprising the same and method for prepareing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 전자파 차폐필름은 전도성 접착제층, 상기 전도성 접착제층 상에 형성된 도전층 및 상기 도전층 상에 형성된 절연층을 포함하고, 상기 도전층은 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 20 nm 내지 1,000 nm이다.The electromagnetic wave shielding film of the present invention includes a conductive adhesive layer, a conductive layer formed on the conductive adhesive layer, and an insulating layer formed on the conductive layer, wherein the conductive layer has a surface roughness Rz of 20 in contact with the conductive adhesive layer. nm to 1,000 nm.

Description

전자파 차폐필름, 이를 포함하는 인쇄 회로 기판 및 이의 제조방법{ELCTROMAGNETIC INTERFERENCE SHIELDING FILM, PRINTED CIRCUIT BOARD COMPRISING THE SAME AND METHOD FOR PREPAREING THE SAME}Electromagnetic shielding film, printed circuit board including the same, and manufacturing method therefor {ELCTROMAGNETIC INTERFERENCE SHIELDING FILM, PRINTED CIRCUIT BOARD COMPRISING THE SAME AND METHOD FOR PREPAREING THE SAME}

본 발명은 전자파 차폐필름, 이를 포함하는 인쇄 회로 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film, a printed circuit board including the same, and a manufacturing method thereof.

전자기기의 내부에는 이를 동작시키기 위한 칩, 전자 부품 등이 실장되는 회로기판이 포함된다. 회로기판에서는 전자기기 동작 중에 전자파가 발생하는데, 이러한 전자파는 회로기판에 실장된 부품에 대해서 신호의 왜곡을 발생시키거나 인체에 유해한 영향을 미치는 등 다양한 문제를 발생시키며, 이를 차단하기 위해, 회로기판에는 전자파 차폐필름이 부착된다.An electronic device includes a circuit board on which chips, electronic components, and the like are mounted to operate the electronic device. In the circuit board, electromagnetic waves are generated during the operation of the electronic device. These electromagnetic waves generate various problems such as distortion of a signal or harmful effects on the human body, and in order to block the circuit board, The electromagnetic shielding film is attached to.

그러나, 회로기판에 전자파 차폐필름이 부탁되면, 전송되는 신호에 손실이 발생하게 되고 이를 위한 연구가 활발하게 이루어 지고 있습니다.However, when electromagnetic wave shielding film is applied to a circuit board, loss occurs in the transmitted signal, and research for this is being actively conducted.

신호 전송 효율를 개선하기 위해, 전자파 차폐필름에 포함되는 전도성 접착제층의 도전성 필러 함량을 낮추는 방법이 있으나, 이 경우 금속층과의 통전효율 및 전자파 차폐효율이 저하되는 단점이 있습니다.In order to improve the signal transmission efficiency, there is a method of lowering the conductive filler content of the conductive adhesive layer included in the electromagnetic shielding film, but in this case, there is a disadvantage that the conduction efficiency and the electromagnetic shielding efficiency with the metal layer are reduced.

이에, 전도성 접착제층의 도전성 필러 함량을 낮추지 않으면서, 신호 전송 효율을 개선시키는 전자파 차폐필름이 필요한 실정이다.Thus, an electromagnetic shielding film for improving the signal transmission efficiency without lowering the conductive filler content of the conductive adhesive layer is required.

이와 관련한 선행기술은 한국 공개 특허 제2006-0052892호에 개시되어 있다.Prior art in this regard is disclosed in Korean Laid-Open Patent No. 2006-0052892.

본 발명의 목적은 신호 전송 효율 및 전자파 차폐 효율이 우수한 전자파 차폐필름, 이를 포함하는 인쇄 회로 기판 및 이의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding film having excellent signal transmission efficiency and electromagnetic shielding efficiency, a printed circuit board including the same and a method of manufacturing the same.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

본 발명의 하나의 관점은 전자파 차폐필름에 관한 것이다.One aspect of the present invention relates to an electromagnetic shielding film.

일 구체예에서, 상기 전자파 차폐필름은 전도성 접착제층, 상기 전도성 접착제층 상에 형성된 도전층 및 상기 도전층 상에 형성된 절연층을 포함하고, 상기 도전층은 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 20 nm 내지 1,000 nm이다.In one embodiment, the electromagnetic shielding film comprises a conductive adhesive layer, a conductive layer formed on the conductive adhesive layer and an insulating layer formed on the conductive layer, the conductive layer is a surface roughness of the surface in contact with the conductive adhesive layer Rz is 20 nm to 1,000 nm.

상기 도전층은 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Ra가 100 nm 이하일 수 있다.The conductive layer may have a surface roughness Ra of 100 nm or less in contact with the conductive adhesive layer.

상기 도전층은 니켈, 구리, 은, 주석, 금, 팔라듐, 알루미늄, 크롬, 티타늄 및 아연 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The conductive layer may include one or more of nickel, copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, and zinc.

상기 전도성 접착제층은 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 및 탄소나노튜브(CNT) 중 하나 이상을 포함하고, 상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 및 탄소나노튜브(CNT)는 전도성 접착제층에 20 내지 75 중량%로 포함될 수 있다. The conductive adhesive layer includes at least one of a dendrite-shaped conductive particle and carbon nanotubes (CNT), and the dendrite-shaped conductive particles and carbon nanotubes (CNT) are formed on the conductive adhesive layer. 20 to 75% by weight may be included.

상기 전도성 접착제층은 금속층과의 저항이 직경 2.0mm에서 2 Ω 이하일 수 있다.The conductive adhesive layer may have a resistance with a metal layer of 2 Ω or less at a diameter of 2.0 mm.

상기 도전층은 두께가 1 ㎛ 내지 12 ㎛일 수 있다.The conductive layer may have a thickness of 1 μm to 12 μm.

상기 전도성 접착제층은 두께가 3 ㎛ 내지 30 ㎛일 수 있다.The conductive adhesive layer may have a thickness of 3 μm to 30 μm.

상기 전도성 접착제층은 전도성 접착제층용 조성물로 형성되고, 상기 전도성 접착제층용 조성물은, 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 20 내지 70 중량%, 에폭시 수지 10 내지 60 중량% 및 경화제 1 내지 20 중량%를 포함할 수 있다.The conductive adhesive layer is formed of a composition for a conductive adhesive layer, the composition for the conductive adhesive layer, 20 to 70% by weight of the dendrite-shaped conductive particles, 10 to 60% by weight epoxy resin and 1 to 20% by weight of the curing agent It may include.

상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자는 은 코팅 구리일 수 있다.The dendrite conductive particles may be silver coated copper.

상기 전도성 접착제층용 조성물은 탄소나노튜브(CNT)를 0.1 내지 5 중량% 더 포함하고, 상기 탄소나노튜브(CNT)는 평균직경이 1nm 내지 20nm, 평균길이가 5㎛ 내지 100㎛, 부피밀도(bulk density)가 0.01 내지 0.08 g/ml일 수 있다.The conductive adhesive layer composition further comprises 0.1 to 5% by weight of carbon nanotubes (CNT), the carbon nanotubes (CNT) has an average diameter of 1nm to 20nm, an average length of 5㎛ to 100㎛, bulk density (bulk) density) may be 0.01 to 0.08 g / ml.

상기 전자파 차폐필름은 두께가 10㎛ 내지 40㎛일 수 있다.The electromagnetic shielding film may have a thickness of 10 μm to 40 μm.

본 발명의 다른 관점은 인쇄 회로 기판에 관한 것이다. Another aspect of the invention relates to a printed circuit board.

일 구체예에서, 상기 인쇄 회로 기판은 적어도 일 면에 전자파 차폐필름이 형성된 인쇄 회로 기판일 수 있고, 상기 전자파 차폐필름은 본 발명의 하나의 관점에 따른 전자파 차폐필름일 수 있다.In one embodiment, the printed circuit board may be a printed circuit board formed with an electromagnetic shielding film on at least one surface, the electromagnetic shielding film may be an electromagnetic shielding film according to one aspect of the present invention.

본 발명의 또 다른 관점인 전자파 차폐필름의 제조방법은 절연층 상에 도전층을 형성하는 단계 및 상기 도전층 상에 전도성 접착제층용 조성물을 도포하고 경화하는 단계를 포함하는 상기의 전자파 차폐필름을 제조하는 방법일 수 있다.Another aspect of the present invention provides a method for manufacturing an electromagnetic shielding film, the electromagnetic shielding film comprising the step of forming a conductive layer on the insulating layer and the step of applying and curing the composition for the conductive adhesive layer on the conductive layer. It may be a way to.

본 발명은 신호 전송 효율 및 전자파 차폐 효율이 우수한 전자파 차폐필름, 이를 포함하는 인쇄 회로 기판 및 이의 제조방법을 제공하는 효과를 갖는다.The present invention has the effect of providing an electromagnetic shielding film excellent in signal transmission efficiency and electromagnetic shielding efficiency, a printed circuit board including the same and a method of manufacturing the same.

도 1은 본 발명의 구체예에 따른 전자파 차폐필름의 단면도를 간단히 도시한 것이다.Figure 1 shows a simplified cross-sectional view of the electromagnetic shielding film according to an embodiment of the present invention.

본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. In describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related known technology may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

단지, 여기서 소개되는 구체예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해 줄 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다.It is merely to be understood that the embodiments introduced herein are provided so that the disclosure can be made thorough and complete, and that the spirit of the present application can be sufficiently conveyed to those skilled in the art. In the drawings, the width, thickness, and the like of the components are enlarged in order to clearly express the components of each device. In addition, although only a part of the components are shown for convenience of description, those skilled in the art will be able to easily understand the rest of the components.

본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시관점에 따라 "상부"가 "하부"로, "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 의미한다.In the present specification, "upper" and "lower" are defined based on the drawings, and according to a viewpoint, "upper" may be changed to "lower", "lower" to "upper", and "on". Alternatively, what is referred to as "on" may include intervening other structures in the middle as well as directly above. On the other hand, what is referred to as "directly on" or "directly on" means that there is no intervening structure in between.

본 명세서에서 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.In the present specification, terms including ordinal numbers such as first and second may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.In addition, one of ordinary skill in the art may implement the spirit of the present application in various other forms without departing from the technical spirit of the present application.

본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.In the case where 'comprises', 'haves', 'consists of' and the like mentioned in the present specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. In the case where the component is expressed in the singular, the plural includes the plural unless specifically stated otherwise.

또한, 방법 또는 제조방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.In addition, in carrying out a method or a manufacturing method, each process constituting the method may occur differently from the stated order unless the context clearly indicates a specific order. That is, each process may occur in the same order as specified, may be performed substantially simultaneously, or may be performed in the reverse order.

또한, 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In addition, in interpreting a component, even if there is no separate description, it is interpreted as including an error range.

또한, 본 명세서에 있어서, 범위를 나타내는 'X 내지 Y'는 'X 이상 Y 이하'를 의미한다. In addition, in this specification, "X-Y" which shows a range means "X or more and Y or less."

본 명세서에서 '표면 조도 Rz'는 십점 평균 표면 조도를 의미할 수 있고, '표면 조도 Ra'는 산술 평균 조도를 의미할 수 있다.In the present specification, 'surface roughness Rz' may mean ten-point average surface roughness, and 'surface roughness Ra' may mean arithmetic mean roughness.

이하, 본 발명에 대해 보다 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated more concretely.

전자파 차폐필름Electromagnetic shielding film

도 1을 참고하여 본 발명의 일 구체예에 따른 전자파 차폐필름을 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 구체예에 따른 전자파 차폐필름의 단면도를 간단히 도시한 것이다.Referring to Figure 1 will be described an electromagnetic shielding film according to an embodiment of the present invention. Figure 1 shows a simplified cross-sectional view of the electromagnetic shielding film according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 구체예에 따른 전자파 차폐필름(10)은 전도성 접착제층(100), 상기 전도성 접착제층(100) 상에 형성된 도전층(200) 및 상기 도전층(200) 상에 형성된 절연층(300)을 포함한다.Electromagnetic shielding film 10 according to an embodiment of the present invention is a conductive adhesive layer 100, the conductive layer 200 formed on the conductive adhesive layer 100 and the insulating layer formed on the conductive layer (200) 300).

전도성 접착제층(100)은 전자파를 차폐하는 역할 뿐만 아니라, 접착성도 가져 전자파 차폐 대상(예를 들어, 인쇄회로기판)에 접착 및 고정될 수 있다. The conductive adhesive layer 100 may not only shield electromagnetic waves, but also have adhesiveness, and may be attached and fixed to the electromagnetic shielding object (for example, a printed circuit board).

상기 전도성 접착제층(100)은 전도성 효과를 위해 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자를 포함할 수 있다. 상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자는 구형, 로드형, 침상형, 플레이크형, 럭비공형의 형상에 비해, 도전성 입자 함량 대비 전도성이 우수한 장점이 있다.The conductive adhesive layer 100 may include conductive particles having a dendrite shape for the conductive effect. The conductive particles of the dendrite (dendrite) shape has an advantage of excellent conductivity compared to the conductive particle content, compared to the spherical, rod-shaped, needle-like, flake, rugby ball shape.

상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자는 전도성 금속, 예를 들면 은, 구리, 니켈, 금, 알루미늄 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 또한 상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자는 단일 전도성 금속 입자이거나, 제1 전도성 금속 입자에 제2 전도성 금속이 코팅된 형태일 수 있다. 예를 들어, 상기 도전성 입자는 구리분말, 은분말, 니켈분말, 은코팅 구리분말(Ag코팅Cu분말), 금코팅 구리분말, 은코팅 니켈분말(Ag코팅Ni분말), 금코팅 니켈분말 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 도전성 입자는 전자파 차폐 효율 및 경제성 면에서 은 코팅 구리분말을 사용할 수 있다.The dendrite conductive particles may include one or more of conductive metals such as silver, copper, nickel, gold, and aluminum. In addition, the dendrite-shaped conductive particles may be a single conductive metal particle or a form in which the second conductive metal is coated on the first conductive metal particle. For example, the conductive particles may be one of copper powder, silver powder, nickel powder, silver coated copper powder (Ag coated Cu powder), gold coated copper powder, silver coated nickel powder (Ag coated Ni powder), and gold coated nickel powder. It may contain the above. Specifically, the conductive particles may use a silver coated copper powder in terms of electromagnetic shielding efficiency and economics.

상기 전도성 접착제층(100)은 전자파 차폐 효율이 더욱 개선하기 위해, 탄소나노튜브(CNT)를 더 포함할 수 있다.The conductive adhesive layer 100 may further include carbon nanotubes (CNT) in order to further improve the electromagnetic shielding efficiency.

상기 전도성 접착제층은 상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 및/또는 탄소나노튜브(CNT)를 전도성 접착제층에 20 내지 75 중량%, 구체적으로 30 내지 65 중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서, 전도성 접착제층은 금속층과의 통전 효율이 우수하고, 충분한 전자파 차폐 효과를 가질 수 있다.The conductive adhesive layer may include 20 to 75% by weight, specifically 30 to 65% by weight of the dendrite conductive particles and / or carbon nanotubes (CNT) in the conductive adhesive layer. In the above content range, the conductive adhesive layer is excellent in current carrying efficiency with the metal layer, it may have a sufficient electromagnetic shielding effect.

상기 전도성 접착제층은 금속층과의 저항이 직경 2.0mm에서 2 Ω 이하, 예를 들어, 0 Ω 내지 2 Ω, 구체적으로 0 Ω 내지 1 Ω, 더욱 구체적으로 0 Ω 내지 0.5 Ω일 수 있다. 상기 저항 범위에서, 전자파 차폐필름은 전자파 차폐 효율이 우수하다. 여기서, 상기 금속층과의 저항은 Cu Foil 표면에 직경 2.0mm의 구멍이 있는 절연층을 형성한 다음 그 상층에 전자파 차폐필름을 부착하여 하층의 Cu foil과 상층의 전자파 차폐필름간의 저항으로 측정할 수 있다.The conductive adhesive layer may have a resistance with a metal layer of 2 Ω or less, for example, 0 Ω to 2 Ω, specifically 0 Ω to 1 Ω, more specifically 0 Ω to 0.5 Ω at a diameter of 2.0 mm. In the resistance range, the electromagnetic shielding film is excellent in electromagnetic shielding efficiency. Here, the resistance with the metal layer can be measured by the resistance between the Cu foil of the lower layer and the electromagnetic shielding film of the upper layer by forming an insulating layer having a hole of 2.0mm diameter on the surface of the Cu Foil and then attaching the electromagnetic shielding film on the upper layer. have.

상기 전도성 접착제층(100)은 두께가 3㎛ 내지 30㎛, 구체적으로 4㎛ 내지 20㎛, 더욱 구체적으로 5㎛ 내지 15㎛일 수 있다. 상기 두께 범위에서 전차파 차폐 효과가 충분할 뿐만 아니라 전자파 차폐필름의 박막화를 달성할 수 있다.The conductive adhesive layer 100 may have a thickness of 3 μm to 30 μm, specifically 4 μm to 20 μm, and more specifically 5 μm to 15 μm. In the thickness range, not only the electric wave shielding effect is sufficient, but also the thinning of the electromagnetic wave shielding film can be achieved.

상기 전도성 접착제층(100)은 전도성 접착제층용 조성물로 형성될 수 있으며, 이에 대해서는 후술한다.The conductive adhesive layer 100 may be formed of a composition for a conductive adhesive layer, which will be described later.

도전층(200)은 인쇄 회로기판으로부터 발생되는 전자파 등의 노이즈를 차폐하여, 1GHz 이상의 고주파 또는 고속전송용 인쇄회로 기판에서 전자파 차폐효율을 개선시킬 수 있다. The conductive layer 200 may shield noise such as electromagnetic waves generated from a printed circuit board, thereby improving electromagnetic shielding efficiency in a printed circuit board for high frequency or high speed transmission of 1 GHz or more.

상기 도전층(200)은 전도성 접착제층(100)과 접촉하는 면(210)의 표면 조도 Rz가 20nm 내지 1,000 nm이다. 상기 표면 조도(Rz) 범위에서, 전자파 차폐필름은 신호 전송 효율을 개선하는 효과가 있다. 예를 들어, 상기 도전층(200)은 전도성 접착제층(100)과 접촉하는 면(210)의 표면 조도 Rz가 20 nm 내지 700 nm, 구체적으로 20 nm 내지 500 nm, 더욱 구체적으로 20 nm 내지 300 nm일 수 있다. The conductive layer 200 has a surface roughness Rz of the surface 210 in contact with the conductive adhesive layer 100 of 20 nm to 1,000 nm. In the surface roughness (Rz) range, the electromagnetic shielding film has an effect of improving the signal transmission efficiency. For example, the conductive layer 200 has a surface roughness Rz of the surface 210 in contact with the conductive adhesive layer 100 of 20 nm to 700 nm, specifically 20 nm to 500 nm, more specifically 20 nm to 300 nm.

상기 도전층(200)은 전도성 접착제층(100)과 접촉하는 면(210)의 표면 조도 Ra가 100 nm 이하, 예를 들어 0 내지 100 nm, 구체적으로 0 내지 50 nm일 수 있다. 상기 표면 조도(Ra) 범위에서, 전자파 차폐필름은 신호 전송 효율을 개선하는 효과가 있다.The conductive layer 200 may have a surface roughness Ra of the surface 210 in contact with the conductive adhesive layer 100 of 100 nm or less, for example, 0 to 100 nm, specifically 0 to 50 nm. In the surface roughness (Ra) range, the electromagnetic shielding film has an effect of improving the signal transmission efficiency.

상기 도전층(200)은 니켈, 구리, 은, 주석, 금, 팔라듐, 알루미늄, 크롬, 티타늄, 아연 및 이들 재료 중 하나 이상을 포함할 수 있으며, 이들 중 2 이상을 포함하는 합금일 수 있다. 예를 들어, 상기 도전층(200)은 차폐 효율 및 경제성 면에서 구리를 사용할 수 있다. 또한, 도전층(200) 표면에는 산화 방지, 내열 처리, 및 내화학 처리 등의 표면 처리를 할 수 있다.The conductive layer 200 may include nickel, copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and one or more of these materials, and may be an alloy including two or more of them. For example, the conductive layer 200 may use copper in terms of shielding efficiency and economy. The surface of the conductive layer 200 can be subjected to surface treatment such as oxidation prevention, heat treatment, and chemical treatment.

상기 도전층(200)은 두께가 1㎛ 내지 12㎛, 구체적으로 2㎛ 내지 10㎛, 더욱 구체적으로 3㎛ 내지 8㎛일 수 있다. 상기 두께 범위에서, 신호 전송 효율이 우수하고 박막화를 달성할 수 있다. The conductive layer 200 may have a thickness of 1 μm to 12 μm, specifically 2 μm to 10 μm, and more specifically 3 μm to 8 μm. In the above thickness range, signal transmission efficiency is excellent and thinning can be achieved.

또한, 상기 도전층(200) 및 상기 전도성 접착제층(100)은 두께비가 1:1 내지 1:5, 구체적으로 1:1 내지 1:3일 수 있다. 상기 두께비 범위에서, 전자파 차폐 효율 및 박막화의 밸런스가 우수하며, 전자파 차폐필름의 내구성도 우수하다.In addition, the conductive layer 200 and the conductive adhesive layer 100 may have a thickness ratio of 1: 1 to 1: 5, specifically, 1: 1 to 1: 3. In the thickness ratio range, the balance of electromagnetic wave shielding efficiency and thinning is excellent, and the durability of the electromagnetic shielding film is also excellent.

절연층(300)은 전자파 도전층(200)이 외부와 전기적으로 절연되도록 하며, 도전층(200)을 보호하는 역할을 한다. 또한, 전자파 차폐필름에 일정 강도를 부여하고, FPCB 공정 중 발생하는 외부의 충격으로부터 전도성 접착제 및 FPCB 기판을 보호하여, 손상 및 마모 등을 방지할 수 있다.The insulating layer 300 allows the electromagnetic wave conductive layer 200 to be electrically insulated from the outside and protects the conductive layer 200. In addition, by imparting a certain strength to the electromagnetic shielding film, and protects the conductive adhesive and the FPCB substrate from the external impact generated during the FPCB process, it is possible to prevent damage and wear.

상기 절연층(300)은 고분자 수지일 수 있으며, 당업계에서 통상적으로 사용되는 고분자 수지라면 제한하지 않고 사용할 수 있다. 구체적으로, 아크릴계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 에폭시계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 실리콘계 수지, 페놀 수지, 알키드 수지, 멜라민 수지 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 이때, 고분자 수지의 수평균 분자량은 10,000 내지 300,000일 수 있으나 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 절연층(300)은 내화학성, 내전압 특성, 내스크래치성 및 내마모성 면에서 폴리이미드계 수지를 사용할 수 있다.The insulating layer 300 may be a polymer resin, and may be used without limitation as long as it is a polymer resin commonly used in the art. Specifically, it may be an acrylic resin, a polyurethane resin, a polyester resin, a cellulose resin, an epoxy resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a silicone resin, a phenol resin, an alkyd resin, a melamine resin, or a mixture thereof. have. In this case, the number average molecular weight of the polymer resin may be 10,000 to 300,000, but is not limited thereto. For example, the insulating layer 300 may use a polyimide resin in terms of chemical resistance, voltage resistance, scratch resistance, and abrasion resistance.

상기 절연층(300)은 두께가 1㎛ 내지 30㎛, 구체적으로 3㎛ 내지 20㎛, 더욱 구체적으로, 5㎛ 내지 15㎛일 수 있다. 상기 두께 범위에서 일정 이상의 강도를 전자파 차폐필름에 부여할 수 있고, 전자파 차폐 성능을 저하시키지 않을 수 있다.The insulating layer 300 may have a thickness of 1 μm to 30 μm, specifically 3 μm to 20 μm, and more specifically, 5 μm to 15 μm. In the thickness range, a certain strength or more may be given to the electromagnetic shielding film, and the electromagnetic shielding performance may not be reduced.

상기 전자파 차폐필름은 두께가 10㎛ 내지 40㎛, 구체적으로 13㎛ 내지 35㎛일 수 있다.The electromagnetic shielding film may have a thickness of 10 μm to 40 μm, specifically 13 μm to 35 μm.

전도성 conductivity 접착제층용Adhesive layer 조성물 Composition

상기 전도성 접착제층(100)은 전도성 접착제층용 조성물로 형성되고, 일 구체예에서 상기 전도성 접착제층용 조성물은, 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자, 에폭시 수지 및 경화제를 포함할 수 있다.The conductive adhesive layer 100 is formed of a conductive adhesive layer composition, and in one embodiment, the conductive adhesive layer composition may include a dendrite-shaped conductive particle, an epoxy resin, and a curing agent.

상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자의 종류 및 형상은 상기 전도성 접착필름에 기재된 바와 실질적으로 동일하다. 상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자는 전도성 접착제층용 조성물에 20 내지 70 중량%, 구체적으로 30 내지 60 중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서, 전자파 차폐필름의 전자차 차폐 효과가 우수하다.The kind and shape of the dendrite conductive particles are substantially the same as described in the conductive adhesive film. The dendrite conductive particles may be included in the composition for the conductive adhesive layer in an amount of 20 to 70 wt%, specifically 30 to 60 wt%. In the above content range, the electromagnetic shielding effect of the electromagnetic shielding film is excellent.

다른 구체예에서, 상기 전도성 접착제층용 조성물은 탄소나노튜브(CNT)를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 전자파 차폐필름은 전자파 차폐 효율이 더욱 개선되는 효과가 있다. In another embodiment, the composition for the conductive adhesive layer may further include carbon nanotubes (CNT). In this case, the electromagnetic shielding film has an effect of further improving the electromagnetic shielding efficiency.

상기 탄소나노튜브(CNT)는 평균직경이 1nm 내지 20nm, 구체적으로 3nm 내지 15nm, 평균길이가 5㎛ 내지 100㎛, 구체적으로 10㎛ 내지 50㎛, 부피밀도(bulk density)가 0.01 내지 0.08 g/ml, 구체적으로 0.02 내지 0.04 g/ml일 수 있다. The carbon nanotubes (CNT) have an average diameter of 1 nm to 20 nm, specifically 3 nm to 15 nm, an average length of 5 μm to 100 μm, specifically 10 μm to 50 μm, and a bulk density of 0.01 to 0.08 g /. ml, specifically 0.02 to 0.04 g / ml.

상기 탄소나노튜브(CNT)는 전도성 접착제층용 조성물에 0.1 내지 5 중량%, 구체적으로 0.5 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서, 전자파 차폐필름은 전자차 차폐 효율이 충분히 개선될 수 있다. 한면, 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 및 탄소나노튜브(CNT) 전체 함량은 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성입자(및/또는 탄소나노튜브(CNT)), 에폭시 수지 및 경화제의 총 함량 100 중량% 중 20 내지 75 중량%, 구체적으로 30 내지 65 중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서, 전도성 접착제층은 금속층과의 통전 효율이 우수하고, 충분한 전자파 차폐 효과를 가질 수 있다.The carbon nanotubes (CNT) may be included in the composition for the conductive adhesive layer in an amount of 0.1 to 5 wt%, specifically 0.5 to 3 wt%. In the above content range, the electromagnetic shielding film may be sufficiently improved electron shielding efficiency. On one side, the total content of the dendrite conductive particles and the carbon nanotubes (CNT) is 100% of the dendrite conductive particles (and / or carbon nanotubes (CNTs)), the epoxy resin and the curing agent. 20 to 75% by weight, specifically 30 to 65% by weight may be included. In the above content range, the conductive adhesive layer is excellent in current carrying efficiency with the metal layer, it may have a sufficient electromagnetic shielding effect.

상기 에폭시 수지는 반응성이 우수하고, 전도성 접착제층의 내열성을 개선시킬 수 있다. 상기 에폭시 수지는 1분자 내에 에폭시기가 2개 이상 존재하는 것을 사용할 수 있으며, 구체적으로 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 안트라센 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 테트라메틸 비페닐형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 S 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 페놀 공축 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨 코레졸 공축 노볼락형 에폭시 수지, 방향족 탄화수소 포름알데히드 수지 변성 페놀 수지형 에폭시 수지, 트리페닐 메탄형 에폭시 수지, 테트라 페닐에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 페놀 부가반응형 에폭시 수지, 페놀 아랄킬형 에폭시 수지, 다관능성 페놀 수지, 및 나프톨 아랄킬형 에폭시 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 예를 들어 상기 에폭시 수지는 접착력과 내열성 면에서 비스페놀형 및 비페닐형 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 상기 에폭시 수지는 중량평균 분자량이 100 내지 10,000, 구체적으로 170 내지 2,800일 수 있다.The epoxy resin is excellent in reactivity and can improve the heat resistance of the conductive adhesive layer. The epoxy resin may be used in the presence of two or more epoxy groups in one molecule, specifically, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, bisphenol S-type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, anthracene epoxy resin, biphenyl Type epoxy resin, tetramethyl biphenyl type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol S novolak type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin, Naphthol novolac epoxy resin, naphthol phenol coaxial novolac epoxy resin, naphthol corresol coaxial novolac epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin epoxy resin, triphenyl methane epoxy resin, tetraphenylethane epoxy Resin, dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resin, phenol a It may include type epoxy resin, polyfunctional phenolic resin, and one or more of the naphthol aralkyl type epoxy resin. For example, the epoxy resin may include at least one of a bisphenol type and a biphenyl type in terms of adhesive strength and heat resistance. The epoxy resin may have a weight average molecular weight of 100 to 10,000, specifically 170 to 2,800.

상기 에폭시 수지는 전도성 접착제층용 조성물에 10 내지 60 중량%, 구체적으로 20 내지 55 중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서, 전도성 접착제층은 접착력, 내열성 및 작업성이 우수한 효과가 있다.The epoxy resin may be included in the composition for the conductive adhesive layer 10 to 60% by weight, specifically 20 to 55% by weight. In the content range, the conductive adhesive layer has an effect of excellent adhesion, heat resistance and workability.

상기 경화제는 아민계 화합물, 이미다졸계 화합물 및 BF3 착체 중 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 구체적으로, 상기 아민계 화합물은 벤질디메틸아민(BDMA), 4,4-디아미노디페닐술폰 및 2,4,6-트리스디메틸아미노메틸페놀(DMP-30) 중 하나 이상을 포함할 수 있고, 상기 이미다졸계 화합물은 2-메틸이미다졸 및 2-에틸-4-메틸이미다졸(EMI24) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. The curing agent may include one or more of an amine compound, an imidazole compound, and a BF3 complex, but is not limited thereto. Specifically, the amine compound may include one or more of benzyldimethylamine (BDMA), 4,4-diaminodiphenylsulfone and 2,4,6-trisdimethylaminomethylphenol (DMP-30), The imidazole compound may include one or more of 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole (EMI24).

상기 경화제는 전도성 접착제층용 조성물에 1 내지 20 중량%, 구체적으로 2 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서, 전도성 접착제층용 조성물은 충분한 경화가 이루어질 수 있고, 유동성 및 성형성이 우수하다.The curing agent may be included in the composition for the conductive adhesive layer 1 to 20% by weight, specifically 2 to 10% by weight. In the above content range, the composition for the conductive adhesive layer can be sufficiently cured, and excellent in fluidity and moldability.

상기 전도성 접착제층용 조성물은 용매를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 용매는 헥산, 톨루엔, 텍사놀, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 시클로헥사논, 부틸셀로솔브, 부틸 카비톨(디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르), 디부틸 카비톨(디에틸렌 글리콜 디부틸 에테르), 부틸 카비톨 아세테이트(디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르 아세테이트), 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 헥실렌 글리콜, 터핀올(Terpineol), 메틸에틸케톤, 벤질알콜, 감마부티로락톤 및 에틸락테이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 용매는 메틸에틸케톤 및 톨루엔을 조합하여 사용할 수 있으며, 메틸에틸케톤 및 톨루엔의 중량비는 1:1 내지 5:1, 구제적으로 2:1 내지 4:1일 수 있다. 상기 중량비 범위에서, 조성물의 모든 성분이 용해될 수 있고, 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 및/또는 탄소나노튜브의 분산도 우수하다.The composition for the conductive adhesive layer may further include a solvent. Specifically, the solvent is hexane, toluene, texanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, cyclohexanone, butyl cellosolve, butyl carbitol (diethylene glycol monobutyl ether), dibutyl carbitol (di Ethylene glycol dibutyl ether), butyl carbitol acetate (diethylene glycol monobutyl ether acetate), propylene glycol monomethyl ether, hexylene glycol, terpineol, methyl ethyl ketone, benzyl alcohol, gamma butyrolactone and ethyl It may comprise one or more of lactates. For example, the solvent may be used in combination of methyl ethyl ketone and toluene, the weight ratio of methyl ethyl ketone and toluene may be 1: 1 to 5: 1, specifically 2: 1 to 4: 1. In the above weight ratio range, all components of the composition may be dissolved, and dispersion of the conductive particles and / or carbon nanotubes having a dendrite shape is also excellent.

상기 용매는 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성입자(및/또는 탄소나노튜브(CNT)), 에폭시 수지 및 경화제의 총 함량 100 중량부에 대하여, 30 내지 200 중량부, 구체적으로 40 내지 180 중량부, 더욱 구체적으로 50 내지 160 중량부로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서, 조성물의 성분을 모두 용해할 수 있고, 적절한 점도를 유지하여 공정성도 우수하다.The solvent is 30 to 200 parts by weight, specifically 40 to 180 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total content of the dendrite conductive particles (and / or carbon nanotubes (CNT)), the epoxy resin and the curing agent. In more detail, it may be included in an amount of 50 to 160 parts by weight. In the above content range, it is possible to dissolve all the components of the composition, it is also excellent in processability by maintaining an appropriate viscosity.

상기 전도성 접착제층용 조성물은 목적 및 용도에 따라 상기 성분 외에 첨가제를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 첨가제로는 분산제, 요변제, 가소제, 방청제, 점도 안정화제, 소포제, 안료, 자외선 안정제, 산화방지제 및 커플링제 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 상기 첨가제는 전도성 접착제층용 조성물 중 5 중량% 이하로 포함될 수 있다.The conductive adhesive layer composition may further include an additive in addition to the component according to the purpose and use. Specifically, the additive may include one or more of a dispersant, thixotropic agent, plasticizer, rust preventive agent, viscosity stabilizer, antifoaming agent, pigment, UV stabilizer, antioxidant and coupling agent. The additive may be included in 5% by weight or less of the composition for the conductive adhesive layer.

상기 전도성 접착제층용 조성물은 점도가 200 cps 내지 3,000 cps일 수 있다. 상기 점도 범위에서, 공정성이 우수하다.The composition for the conductive adhesive layer may have a viscosity of 200 cps to 3,000 cps. In the said viscosity range, processability is excellent.

인쇄 회로 기판Printed circuit board

본 발명의 다른 관점은 인쇄 회로 기판에 관한 것이다. 일 구체예에 따르면, 상기 인쇄 회로 기판은 적어도 일 면에 전자파 차폐필름이 형성될 수 있고, 상기 전자파 차폐필름은 상기 본 발명의 하나의 관점에 따른 전자파 차폐필름일 수 있다. Another aspect of the invention relates to a printed circuit board. According to one embodiment, the printed circuit board may be formed with an electromagnetic shielding film on at least one surface, the electromagnetic shielding film may be an electromagnetic shielding film according to one aspect of the present invention.

구체예에서, 상기 인쇄 회로 기판은 플렉시블 인쇄 회로 기판(Flexible Printed Circuit Board, FPCB)일 수 있으며, 본 발명의 전자파 차폐필름을 적용하는 FPCB는 내구성이 우수할 뿐만 아니라, 전자파 차폐 효율의 저하 없이 신호 손실율이 낮은 장점이 있다.In an embodiment, the printed circuit board may be a flexible printed circuit board (FPCB), FPCB applying the electromagnetic shielding film of the present invention is not only excellent in durability, but also the signal without deteriorating the electromagnetic shielding efficiency It has the advantage of low loss rate.

상기 인쇄 회로 기판은 전자파 차폐필름 사이에 절연층을 포함할 수 있다.The printed circuit board may include an insulating layer between the electromagnetic shielding film.

전자파 차폐필름 제조방법Electromagnetic shielding film manufacturing method

본 발명의 다른 관점은 전자파 차폐필름 제조방법에 관한 것이다.Another aspect of the invention relates to a method for manufacturing an electromagnetic shielding film.

일 구체예에 따른 전자파 차폐필름의 제조방법은 절연층 상에 도전층을 형성하는 단계 및 상기 도전층 상에 전도성 접착제층용 조성물을 도포하고 경화하는 단계를 포함하는 상기의 전자파 차폐필름을 제조하는 방법일 수 있다.Method of manufacturing an electromagnetic shielding film according to an embodiment comprises the steps of forming a conductive layer on the insulating layer and coating and curing the composition for the conductive adhesive layer on the conductive layer. Can be.

상기 절연층 상에 도전층을 형성하는 단계는 전기 도금, 무전해 도금, CVD(Chemical Vapor Deposition) 및 PVD(Physical Vapor Deposition) 공정에 의할 수 있다. 또한, 상기 공정 중 2 이상의 공정을 병행하는 공정에 의해 도전층을 형성할 수 있다.The forming of the conductive layer on the insulating layer may be performed by electroplating, electroless plating, chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) processes. Moreover, a conductive layer can be formed by the process of performing two or more processes together in the said process.

구체적으로, 상기 도전층은 절연층 상에 CVD, PVD, 및/또는 전기 도금하는 방법으로 형성할 수 있으며, 이 경우 도전층은 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 20 nm 내지 1,000 nm의 범위를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 도전층은 Cu층을 제조하는 공정에서 기저층의 표면조도, Cu층 형성 시의 도금액의 농도와 형성 속도, 첨가제 등을 조절함으로써, 본원발명의 특정 조도 Rz를 만족할 수 있다.Specifically, the conductive layer may be formed by CVD, PVD, and / or electroplating on the insulating layer, in which case the conductive layer has a surface roughness Rz of 20 nm to 1,000 nm at the surface in contact with the conductive adhesive layer. It may have a range of. For example, the conductive layer may satisfy the specific roughness Rz of the present invention by controlling the surface roughness of the base layer, the concentration and the formation rate of the plating liquid, the additive, and the like in the process of manufacturing the Cu layer.

상기 전도성 접착제층용 조성물은 상기 기재된 전도성 접착제층용 조성물을 사용할 수 있다. 구체적으로, 절연층 상에 상기 전도성 접착제층용 조성물을 3㎛ 내지 30㎛, 구체적으로 4㎛ 내지 20㎛의 두께로 도포하고, 80℃ 내지 150℃에서 2분 내지 10분 동안 용매를 건조한 후 40℃ 내지 60℃에서 0시간 내지 120시간 숙성하는 방법으로 전도성 접착제층을 형성할 수 있다.The composition for the conductive adhesive layer may use the composition for the conductive adhesive layer described above. Specifically, the composition for the conductive adhesive layer is applied to a thickness of 3㎛ to 30㎛, specifically 4㎛ to 20㎛ on the insulating layer, and dried the solvent for 2 to 10 minutes at 80 ℃ to 150 ℃ 40 ℃ The conductive adhesive layer may be formed by aging at 0 to 60 ° C. for 0 to 120 hours.

다른 구체예에 따른 전자파 차폐필름 제조방법은 도전층 상에 절연층을 코팅하는 방법으로 절연층을 형성하는 단계 및 상기 도전층의 절연층이 형성된 반대면 상에 전도성 접착제층용 조성물을 도포하고 경화하는 단계를 포함할 수 있다. Electromagnetic shielding film manufacturing method according to another embodiment is to form an insulating layer by coating an insulating layer on the conductive layer and to apply and cure the composition for the conductive adhesive layer on the opposite surface formed with the insulating layer of the conductive layer It may include a step.

구체적으로, 도전층 상에 절연층 형성용 조성물을 1㎛ 내지 30㎛, 구체적으로 2㎛ 내지 20㎛의 두께로 코팅한 후, 80℃ 내지 180℃에서 2분 내지 10분 동안 용매를 건조시키는 방법으로 절연층을 형성할 수 있다. Specifically, after coating the composition for forming an insulating layer on the conductive layer to a thickness of 1㎛ 30㎛, specifically 2㎛ 20㎛, and then drying the solvent for 2 to 10 minutes at 80 ℃ to 180 ℃ The insulating layer can be formed.

전도성 접착제층은 상기 일 구체예에 따른 전자파 차폐필름 제조방법에 기재된 바와 같이 절연층이 형성된 도전층의 반대면에 전도성 접착제층용 조성물을 도포 및 경화하여 전자파 차폐필름을 제조할 수 있다.The conductive adhesive layer may be prepared by applying and curing the composition for the conductive adhesive layer on the opposite side of the conductive layer on which the insulating layer is formed as described in the method for manufacturing the electromagnetic shielding film according to the embodiment.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention through the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail. However, this is presented as a preferred example of the present invention and in no sense can be construed as limiting the present invention.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.Details that are not described herein will be omitted since those skilled in the art can sufficiently infer technically.

실시예Example 1 One

절연층(Polyimide) 상에 Vapor Deposition 및 도금으로 도전층을 형성하였다. 그리고, 덴드라이트(dendrite) 형상의 은 코팅 구리분말(A) 45 중량%, 탄소나노튜브(CNT)(평균직경 3nm, 평균길이 15㎛)(B) 2 중량%, 비스페놀A형 에폭시 수지(C) 48 중량% 및 4,4-디아미노디페닐술폰(폴리사이언스, AEW:64)(E) 5 중량%를 포함하는 혼합물 100 중량부와 용매(메틸에틸케톤 50 중량부 및 톨루엔 30 중량부)를 포함하는 전도성 접착제층용 조성물을 상기 도전층 상에 도포하고, 50℃에서 24시간 동안 숙성하여 전자파 차폐필름을 제조하였다. The conductive layer was formed on the insulating layer (Polyimide) by vapor deposition and plating. And, 45% by weight of the dendrite silver coated copper powder (A), carbon nanotube (CNT) (average diameter 3nm, average length 15㎛) (B) 2% by weight, bisphenol-A epoxy resin (C ) 100 parts by weight of a mixture comprising 48% by weight and 4% by weight of 4,4-diaminodiphenylsulfone (polyscience, AEW: 64) (E) and a solvent (50 parts by weight of methyl ethyl ketone and 30 parts by weight of toluene) A composition for a conductive adhesive layer comprising a was applied on the conductive layer, and aged at 50 ° C. for 24 hours to prepare an electromagnetic shielding film.

상기 제조된 전자파 차폐필름은 절연층의 두께는 12㎛, 도전층의 두께는 3㎛, 전도성 접착제층 두께는 8㎛이고, 도전층의 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 200 nm, Ra가 30 nm였다.The prepared electromagnetic shielding film has an insulating layer thickness of 12 μm, a conductive layer thickness of 3 μm, a conductive adhesive layer thickness of 8 μm, and a surface roughness Rz of a surface in contact with the conductive adhesive layer of the conductive layer is 200 nm, Ra was 30 nm.

실시예Example 2 2

실시예 1에서 도전층을 도금으로 형성하여 도전층의 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 800 nm, Ra가 90 nm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전자파 차폐필름을 제조하였다.The electromagnetic wave shielding film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface roughness Rz of the surface in contact with the conductive adhesive layer of the conductive layer was 800 nm and Ra was 90 nm by forming the conductive layer by plating in Example 1. It was.

비교예Comparative example 1 One

실시예 1에서 도전층을 도금으로 형성하여 도전층의 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 1,500 nm, Ra가 120 nm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전자파 차폐필름을 제조하였다.In Example 1, the electromagnetic wave shielding film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the surface roughness Rz of the surface contacting the conductive adhesive layer of the conductive layer was 1,500 nm and Ra was 120 nm. It was.

비교예Comparative example 2 2

실시예 1에서 도전층을 도금으로 형성하여 도전층의 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 3,000 nm, Ra가 250 nm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전자파 차폐필름을 제조하였다.The electromagnetic wave shielding film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the surface roughness Rz of the surface contacting the conductive adhesive layer of the conductive layer was 3,000 nm and Ra was 250 nm in Example 1 by plating. It was.

물성평가 방법Property evaluation method

(1) 표면 조도 (Rz 및 Ra) 측정(nm): 실시예 및 비교예의 전자파 차폐필름에 대해, KLA Tencor社의 surface Profiler인 Alpha-Step 설비를 이용하여 Scan 길이 500㎛, Scan Speed 50㎛/s로 표면 조도를 측정하여, 하기 표 1에 나타내었다.(1) Surface roughness (Rz and Ra) measurement (nm): For the electromagnetic wave shielding films of Examples and Comparative Examples, Scan length 500㎛, Scan Speed 50㎛ / using Alpha-Step equipment, KLA Tencor's surface profiler Surface roughness was measured by s, and is shown in Table 1 below.

(2) 신호 손실(단위: dB): 실시예 및 비교예의 전자파 차폐필름에 대해, Micro Strip Line 회로를 100mm 길이로 형성하고, 상기 회로 상단에 전자파 차폐필름을 부착한 후 Agilent社의 E8364A Network Analyzer를 이용하여 s-parameter를 측정하여 산출된 신호손실 data를 하기 표 1에 나타내었다. (2) Signal loss (unit: dB): For the electromagnetic shielding film of the Examples and Comparative Examples, form a Micro Strip Line circuit 100mm long, attach the electromagnetic shielding film on top of the circuit and then E8364A Network Analyzer of Agilent The signal loss data calculated by measuring the s-parameter using is shown in Table 1 below.

(3) 전자파 차폐율(단위: dB): 실시예 및 비교예의 전자파 차폐필름에 대해, EM-2108 차폐율 지그와 E8364A Network Analyzer 를 이용하여 전자파 차폐율을 측정한 후, 하기 표 2에 나타내었다. (3) Electromagnetic wave shielding rate (unit: dB): For the electromagnetic wave shielding film of the Example and the comparative example, after measuring the electromagnetic wave shielding rate using EM-2108 shielding rate jig and E8364A Network Analyzer, it is shown in Table 2 below. .

신호 주파수Signal frequency 5 GHz5 GHz 10 GHz10 GHz 15 GHz15 GHz 20 GHz20 GHz 표면 조도Surface roughness 신호 손실(dB)Signal loss (dB) Rz(nm)Rz (nm) Ra(nm)Ra (nm) 실시예 1Example 1 200200 3030 -6.0-6.0 -9.8-9.8 -14.1-14.1 -18.4-18.4 실시예 2Example 2 800800 9090 -6.2-6.2 -9.9-9.9 -14.5-14.5 -19.1-19.1 비교예 1Comparative Example 1 15001500 120120 -6.5-6.5 -10.5-10.5 -15.2-15.2 -20.3-20.3 비교예 2Comparative Example 2 30003000 250250 -6.6-6.6 -11.3-11.3 -16.4-16.4 -21.4-21.4

신호 주파수Signal frequency 2 GHz2 GHz 4 GHz4 GHz 6 GHz6 GHz 8 GHz8 GHz 10 GHz10 GHz 표면 조도Surface roughness 전자파 차폐율(dB)Electromagnetic shielding rate (dB) Rz(nm)Rz (nm) Ra(nm)Ra (nm) 실시예 1Example 1 200200 3030 ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB 실시예 2Example 2 800800 9090 ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB 비교예 1Comparative Example 1 15001500 120120 ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB 비교예 2Comparative Example 2 30003000 250250 ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB ≥80dB≥80 dB

상기 표 1 및 2에 나타난 바와 같이, 본 발명 범위의 표면 조도를 갖는 전자파 차폐필름은 전자파 차폐율 저하 없이, 신호 손실을 최소화할 수 있는 것을 알 수 있다. 반면, 본 발명의 표면 조도 범위를 벗어나는 비교예 1 및 2는 본 발명의 신호 손실이 본원발명에 비해 큰 것을 알 수 있다.As shown in Tables 1 and 2, it can be seen that the electromagnetic wave shielding film having the surface roughness of the present invention can minimize signal loss without lowering the electromagnetic shielding rate. On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 outside the surface roughness range of the present invention can be seen that the signal loss of the present invention is larger than the present invention.

이상 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야 한다.Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments and can be manufactured in various forms, and a person of ordinary skill in the art to which the present invention pertains has the technical spirit of the present invention. However, it will be understood that other specific forms may be practiced without changing the essential features. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

10: 전자파 차폐필름  100: 전도성 접착제층
200: 도전층 210: 도전층의 전도성 접착제층과 접촉하는 면
300: 절연층
10: electromagnetic shielding film 100: conductive adhesive layer
200: conductive layer 210: surface in contact with the conductive adhesive layer of the conductive layer
300: insulation layer

Claims (14)

전도성 접착제층;
상기 전도성 접착제층 상에 형성된 도전층; 및
상기 도전층 상에 형성된 절연층; 을 포함한 전자파 차폐필름이고,
상기 도전층은 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Rz가 20 nm 내지 1,000 nm이며,
구리(Cu) 호일 표면에 직경 2.0mm의 구멍이 있는 절연층을 형성한 다음 그 상층에 전자파 차폐필름을 부착하여 하층의 구리 호일과 상층의 전자파 차폐필름 간의 저항으로 측정되는 상기 전도성 접착제층의 금속층과의 저항이 2 Ω 이하인 전자파 차폐필름.
Conductive adhesive layer;
A conductive layer formed on the conductive adhesive layer; And
An insulating layer formed on the conductive layer; Electromagnetic shielding film, including
The conductive layer has a surface roughness Rz of the surface in contact with the conductive adhesive layer is 20 nm to 1,000 nm,
A metal layer of the conductive adhesive layer measured by the resistance between the copper foil of the lower layer and the electromagnetic shielding film of the upper layer by forming an insulating layer having a hole of 2.0 mm in diameter on the surface of the copper (Cu) foil, and then attaching an electromagnetic shielding film on the upper layer thereof. Electromagnetic shielding film having a resistance of 2 Ω or less.
제1항에 있어서,
상기 도전층은 전도성 접착제층과 접촉하는 면의 표면 조도 Ra가 100 nm 이하인 전자파 차폐필름.
The method of claim 1,
The conductive layer has an electromagnetic shielding film having a surface roughness Ra of 100 nm or less in contact with the conductive adhesive layer.
제1항에 있어서,
상기 도전층은 니켈, 구리, 은, 주석, 금, 팔라듐, 알루미늄, 크롬, 티타늄 및 아연 중 하나 이상을 포함하는 전자파 차폐필름.
The method of claim 1,
The conductive layer is at least one of nickel, copper, silver, tin, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium and zinc.
제1항에 있어서,
상기 전도성 접착제층은 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 및 탄소나노튜브(CNT) 중 하나 이상을 포함하고,
상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 및 탄소나노튜브(CNT)는 전도성 접착제층에 20 내지 75 중량%로 포함되는 전자파 차폐필름.
The method of claim 1,
The conductive adhesive layer includes at least one of a dendrite-shaped conductive particles and carbon nanotubes (CNT),
The dendrite-shaped conductive particles and carbon nanotubes (CNT) are contained in the conductive adhesive layer 20 to 75% by weight of the electromagnetic shielding film.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 도전층은 두께가 1 ㎛ 내지 12 ㎛인 전자파 차폐필름.
The method of claim 1,
The conductive layer has a thickness of 1 to 12 ㎛ electromagnetic shielding film.
제1항에 있어서,
상기 전도성 접착제층은 두께가 3 ㎛ 내지 30 ㎛인 전자파 차폐필름.
The method of claim 1,
The conductive adhesive layer has a thickness of 3 ㎛ to 30 ㎛ electromagnetic shielding film.
제1항에 있어서,
상기 전도성 접착제층은 전도성 접착제층용 조성물로 형성되고,
상기 전도성 접착제층용 조성물은,
덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자 20 내지 70 중량%;
에폭시 수지 10 내지 60 중량%; 및
경화제 1 내지 20 중량%;
를 포함하는 전자파 차폐필름.
The method of claim 1,
The conductive adhesive layer is formed of a composition for a conductive adhesive layer,
The composition for the conductive adhesive layer,
20 to 70 wt% of dendrite conductive particles;
10 to 60 wt% epoxy resin; And
1 to 20 weight percent of hardener;
Electromagnetic shielding film comprising a.
제8항에 있어서,
상기 덴드라이트(dendrite) 형상의 도전성 입자는 은 코팅 구리인 전자파 차폐필름.
The method of claim 8,
The dendrite conductive particles are silver-coated copper electromagnetic shielding film.
제8항에 있어서,
상기 전도성 접착제층용 조성물은 탄소나노튜브(CNT)를 0.1 내지 5 중량% 더 포함하고,
상기 탄소나노튜브(CNT)는 평균직경이 1nm 내지 20nm, 평균길이가 5㎛ 내지 100㎛, 부피밀도(bulk density)가 0.01 내지 0.08 g/ml인 전자파 차폐필름.
The method of claim 8,
The composition for the conductive adhesive layer further comprises 0.1 to 5% by weight of carbon nanotubes (CNT),
The carbon nanotube (CNT) has an average diameter of 1 nm to 20 nm, an average length of 5 μm to 100 μm, and a bulk density of 0.01 to 0.08 g / ml.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 전자파 차폐필름은 두께가 10㎛ 내지 40㎛인 전자파 차폐필름.
The method of claim 1,
The electromagnetic shielding film has a thickness of 10㎛ to 40㎛ electromagnetic shielding film.
적어도 일 면에 전자파 차폐필름이 형성된 인쇄 회로 기판이고,
상기 전자파 차폐필름은 제1항 내지 제4항, 제6항 내지 제10항 및 제12항 중 어느 한 항의 전자파 차폐필름인 인쇄 회로 기판.
Is a printed circuit board formed with an electromagnetic shielding film on at least one side,
The electromagnetic shielding film is a printed circuit board of any one of claims 1 to 4, 6 to 10 and 12.
절연층 상에 도전층을 형성하는 단계; 및
상기 도전층 상에 전도성 접착제층용 조성물을 도포하고 경화하는 단계;
를 포함하는 제1항 내지 제4항, 제6항 내지 제10항 및 제12항 중 어느 한 항의 전자파 차폐필름 제조방법.
Forming a conductive layer on the insulating layer; And
Applying and curing the composition for the conductive adhesive layer on the conductive layer;
Claim 1 to 4, claim 6 to claim 10 and claim 12, wherein any one of the electromagnetic wave shielding film manufacturing method.
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