KR101953761B1 - Apparatus for manufacturing replication stamp and manufacture method thereof - Google Patents

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KR101953761B1 KR1020170133264A KR20170133264A KR101953761B1 KR 101953761 B1 KR101953761 B1 KR 101953761B1 KR 1020170133264 A KR1020170133264 A KR 1020170133264A KR 20170133264 A KR20170133264 A KR 20170133264A KR 101953761 B1 KR101953761 B1 KR 101953761B1
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김기홍
임형준
이재종
최기봉
권순근
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한국기계연구원
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Abstract

The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a duplication stamp which uniformly form the thickness of an intermediate layer making up a duplication stamp when manufacturing the duplication stamp. According to the present invention provides the apparatus for manufacturing a duplication stamp, which manufactures a duplication stamp created by sequentially laminating a substrate layer, an intermediate layer, and a pattern layer, comprises: a support chuck for supporting the substrate layer; a pressing chuck for pressing a master substrate on which the pattern layer is laminated towards the substrate layer; a thickness adjustment member arranged between the substrate layer and the master substrate to adjust the thickness of an intermediate layer material to form the intermediate layer; a support rod vertically arranged on an upper surface of the support chuck; and a support bar wherein one end thereof is coupled to the pressing chuck, and the other end thereof is coupled to be slid with respect to the support rod to allow the pressing chuck to descend towards the support chuck, and also provides a manufacturing method thereof.

Description

복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법{APPARATUS FOR MANUFACTURING REPLICATION STAMP AND MANUFACTURE METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a replica stamp manufacturing apparatus,

본 발명은 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 복제 스탬프를 제조할 때 복제 스탬프를 구성하는 중간층의 두께를 균일하게 형성될 수 있도록 하는 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a replica stamp manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a replica stamp manufacturing apparatus capable of uniformly forming a thickness of an intermediate layer constituting a replica stamp when a replica stamp is manufactured, ≪ / RTI >

UV 나노 임프린팅 공정이란, 복사하고자 하는 패턴을 가진 스탬프(stamp)를 UV 레진(resin)이 도포된 기판에 접촉시켜 레진이 스탬프의 패턴들을 채우도록 하고, UV광을 이용하여 이 레진을 경화함으로써 스탬프의 패턴을 기판의 레진에 복사하는 방법이다.The UV nanoimprinting process is a process in which a stamp having a pattern to be copied is brought into contact with a substrate coated with a UV resin so that the resin fills the patterns of the stamp and the UV light is used to cure the resin The pattern of the stamp is copied to the resin of the substrate.

최근 SUSS MicroTec에서 Philips와 공동으로 SCIL(Substrate Conformal Imprint Lithography)란 새로운 UV 나노 임프린팅 공정을 상용화하였다. SCIL 공정에서는 일반적으로 실리콘 웨이퍼에 포토 리소그라피(photo lithography)나 전자빔 리소그라피(e-beam lithography)를 이용하여 마스터 기판을 제작하고, 이의 복제품인 복제 스탬프를 제작한다. 이러한 복제 스탬프는 얇은 유리를 기판으로 사용하며, 마스터 기판의 패턴을 복제한 h-PDMS와 유리 기판과 h-PDMS사이에 PDMS 층으로 구성된다.Recently, SUSS MicroTec has partnered with Philips to commercialize a new UV nanoimprinting process called SCIL (Substrate Conformal Imprint Lithography). In the SCIL process, a master substrate is generally manufactured by using photo lithography or e-beam lithography on a silicon wafer, and a duplicate stamp is produced. This replica stamp uses thin glass as a substrate and consists of a h-PDMS replicating the pattern of the master substrate and a PDMS layer between the glass substrate and the h-PDMS.

종래의 복제 스탬프의 제작과정은 마스터 기판의 전면적에 걸쳐 h-PDMS를 부착하고 경화시킨 다음, 그 위에 PDMS를 떨어뜨린 후 (향후 기판이 될) 얇은 유리로 덮어 눌러서 마스터 기판 전면적에 걸쳐 PDMS가 퍼지도록 한다. 이와 같이 형성된 PDMS 층이 경화된 후 마스터 기판을 제거하면 복제 스탬프의 제작이 완료된다.In the conventional manufacturing process of the duplicate stamp, h-PDMS is attached and cured over the whole area of the master substrate, and then the PDMS is dropped thereon (to be a substrate in the future) . When the PDMS layer thus formed is cured and then the master substrate is removed, the production of the duplicate stamp is completed.

이러한 복제 스탬프를 제작할 때 가장 중요한 부분은 적정량의 PDMS를 떨어뜨린 후 얇은 유리를 덮어, 마스터 기판의 전면적에 균일한 두께의 PDMS가 성형될 수 있도록 하는 단계이다. 그런데, 실제 공정 중 PDMS가 마스터 기판의 전면적에 고르게 분포되지 못하여 균일한 PDMS층을 형성하지 못하는 문제점이 있었다.The most important part in fabricating such a duplicate stamp is a step of dropping a proper amount of PDMS and covering a thin glass so that a uniform thickness of PDMS can be formed on the entire surface of the master substrate. However, in the actual process, the PDMS is not uniformly distributed over the entire surface of the master substrate, so that a uniform PDMS layer can not be formed.

한국특허공개 제2010-0132282호("나노입자 박막 제조 방법 및 이를 이용하는 나노 임프린트용 스탬프 제작 방법", 2010.12.17)Korean Patent Laid-Open Publication No. 2010-0132282 ("Nanoparticle Thin Film Manufacturing Method and Manufacturing Method of Stamp for Nanoimprint Using It," 2010.12.17)

본 발명의 목적은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 중간층(즉 PDMS 층)을 형성하기 위한 장치 및 제조방법을 개선함으로써, 중간층의 두께가 균일하게 형성될 수 있도록 하는 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법을 제공하고자 한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide an apparatus and method for forming an intermediate layer (i.e., a PDMS layer) And a method for producing the same.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치는, 기판층, 중간층 및 패턴층이 순차적으로 적층되어 이루어지는 복제 스탬프를 제조하기 위한 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 기판층을 지지하는 지지척; 상기 패턴층이 적층된 마스터 기판을 상기 기판층 측으로 가압하는 가압척; 상기 기판층과 상기 마스터 기판 사이에 배치되어, 상기 중간층을 형성하기 위한 중간층 재료의 두께를 조절하기 위한 두께조절부재; 상기 지지척의 상면에 상하 방향으로 배치되는 지지봉; 및 일단부는 상기 가압척에 결합되고, 타단부는 상기 가압척이 상기 지지척을 향해 하강할 수 있도록 상기 지지봉에 대하여 슬라이딩 가능하게 결합되는 지지바;를 포함한다.In order to achieve the object of the present invention, an apparatus for producing replica stamps according to an embodiment of the present invention is a replica stamp production apparatus for producing a replica stamp comprising a substrate layer, an intermediate layer and a pattern layer successively laminated A support chuck for supporting the substrate layer; A pressing chuck for pressing the master substrate on which the pattern layers are stacked to the substrate layer side; A thickness adjusting member disposed between the substrate layer and the master substrate to adjust a thickness of the intermediate layer material for forming the intermediate layer; A support rod vertically disposed on the upper surface of the support chuck; And a support bar slidably engaged with the support bar so that one end thereof is coupled to the pressure chuck and the other end is capable of descending toward the support chuck.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 지지척의 하부에 설치되고, 상기 중간층 재료를 가열하는 히터부;를 더 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a replica stamp manufacturing apparatus, wherein the replica stamp manufacturing apparatus further includes a heater unit disposed below the support chuck and heating the intermediate layer material.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 지지봉의 하단부에 결합되어 상기 지지봉을 상기 지지척에 안착시키고, 상기 가압척의 하강 시 상기 지지척과 접촉되는 부위를 회동 중심으로 하여 상기 지지봉이 회동 가능하도록 상기 지지척과 접촉되는 부위가 곡면을 가지도록 형성된 안착부재;를 더 포함할 수 있다.Further, in the duplicating stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, the supporting rod is coupled to the lower end of the supporting rod, the supporting rod is seated on the supporting chuck, and a portion, which is in contact with the supporting chuck when the pressing chuck is lowered, And a seating member formed to have a curved surface at a portion where the supporting rod is brought into contact with the supporting chuck so as to be rotatable.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 지지척은 상기 안착부재가 유격을 가진 상태로 안착될 수 있는 안착홈을 더 포함할 수 있다.In addition, in the replica stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, the support chuck may further include a seating groove in which the seating member can be seated with a clearance.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 지지바는 상기 지지봉이 관통 설치되도록 마련된 관통공을 포함하고, 상기 지지바는 상기 관통공을 통해 상기 지지봉의 길이 방향을 따라 슬라이딩하면서 상기 가압척과 함께 하강될 수 있다.Further, in the replica stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, the support bar may include a through-hole provided so that the support bar penetrates through the support bar, and the support bar may be provided along the longitudinal direction of the support rod through the through- And can be lowered together with the pressurizing chuck while sliding.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 지지바는, 상기 마스터 기판 및 상기 패턴층이 상기 두께조절부재에 안착된 이후 상기 지지바를 상기 지지봉에 고정시키기 위한 고정부를 포함할 수 있다.Further, in the replica stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, the supporting bar may include a fixing part for fixing the supporting bar to the supporting bar after the master board and the pattern layer are seated on the thickness adjusting member .

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 두께조절부재는, 원하는 중간층의 두께와 동일한 두께로 형성되어 상기 기판층에 안착되는 두께조절부와, 상기 두께조절부의 단부로부터 꺾어져 상측으로 연장되게 형성된 연장부를 포함할 수 있다.In addition, in the apparatus for producing duplicate stamp according to an embodiment of the present invention, the thickness adjusting member may include a thickness adjusting portion formed to have the same thickness as the desired intermediate layer and seated on the substrate layer, And may include an extension formed by being bent and extending upward.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 관통공으로부터 돌출 형성된 제1 고정부재; 상기 제1 고정부재로부터 일정간격 이격된 상태로 형성되되, 상기 제1 고정부재와 동일한 형상으로 형성된 제2 고정부재; 및 나사체결에 의해 상기 제1 고정부재와 제2 고정부재 사이 간격을 좁힘으로써, 상기 지지바를 상기 지지봉에 고정시키기 위한 고정노브;를 포함할 수 있다.Further, in the duplicating stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, the first fixing member protruding from the through hole; A second fixing member formed at a predetermined distance from the first fixing member and formed in the same shape as the first fixing member; And a fixing knob for fixing the support bar to the support bar by narrowing the gap between the first and second fixing members by screwing.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 있어서, 상기 지지봉은, 상기 가압척의 원주방향을 따라 120도 간격으로 3개소 설치되고, 상기 두께조절부재는 상기 지지봉과 이웃하는 지지봉 사이사이에 일정한 간격을 가지고 배치될 수 있다.Further, in the duplicating stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, three support rods are provided at intervals of 120 degrees along the circumferential direction of the pressure chuck, and the thickness adjustment member is provided between the support rods and the adjacent support rods As shown in FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법은, 상술한 복제 스탬프 제조장치를 이용하여 제조되는 복제 스탬프 제조방법에 있어서, a) 상기 마스터 기판의 상면에 상기 패턴층을 형성하는 단계; b) 상기 패턴층의 상면에 상기 중간층을 형성하는 중간층 재료를 도포하는 단계; c) 상기 중간층 재료의 상측에 상기 기판층을 배치하는 단계; d) 상기 마스터 기판, 상기 패턴층, 상기 중간층 재료 및 상기 기판층이 하부에서 상부로 순차적으로 적층된 상태에서 상하가 바뀌도록 하여 상기 지지척과 상기 가압척 사이에 배치하고, 상기 기판층과 상기 마스터 기판 사이에 상기 두께조절부재를 배치하는 단계; e) 상기 가압척의 하중에 의해 상기 가압척이 하강되도록 하여 상기 중간층 재료를 가압하는 단계; f) 상기 마스터 기판 및 상기 패턴층이 상기 두께조절부재에 안착된 이후, 상기 두께조절부재를 제거하고, 상기 지지바를 상기 지지봉에 고정시키는 단계; g) 상기 중간층 재료를 경화시켜 상기 중간층을 형성하는 단계; 및 h) 상기 지지척 및 상기 가압척을 제거하고, 상기 패턴층으로부터 상기 마스터 기판을 제거하는 단계;를 포함한다.A method of manufacturing a duplicate stamp according to an embodiment of the present invention includes the steps of: a) forming the pattern layer on an upper surface of the master substrate; b) applying an intermediate layer material forming the intermediate layer on the upper surface of the pattern layer; c) disposing the substrate layer above the interlayer material; d) placing the master substrate, the pattern layer, the intermediate layer material, and the substrate layer between the support chuck and the pressurizing chuck such that the top and bottom of the master substrate, the pattern layer, the intermediate layer material and the substrate layer are sequentially stacked from the bottom to the top, Disposing the thickness adjusting member between the substrates; e) pressing the intermediate layer material by lowering the pressurizing chuck by a load of the pressurizing chuck; f) removing the thickness adjustment member and securing the support bar to the support bar after the master substrate and the pattern layer are seated on the thickness adjustment member; g) curing the intermediate layer material to form the intermediate layer; And h) removing the support chuck and the pressure chuck, and removing the master substrate from the pattern layer.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법에 있어서, f) 단계이후, 상기 중간층 재료가 채워지지 않은 영역에 대해 상기 중간층 재료의 추가분을 주입시키는 단계;를 더 포함할 수 있다.Further, in the method of manufacturing a replica stamp according to an embodiment of the present invention, after the step f), an additional portion of the interlayer material may be injected into an area not filled with the interlayer material.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법에 있어서, 상기 중간층 재료와 상기 중간층 재료의 추가분은 동일한 재질일 수 있다.In addition, in the method of manufacturing a replica stamp according to an embodiment of the present invention, the addition of the intermediate layer material and the intermediate layer material may be the same material.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법에 있어서, 상기 기판층은 유리 재질, 상기 중간층은 PDMS(polydimethylsiloxane) 재질, 상기 패턴층은 h-PDMS 또는 X-PDMS 재질로 이루어질 수 있다.In the method of manufacturing a duplicate stamp according to an embodiment of the present invention, the substrate layer may be made of glass, the intermediate layer may be made of PDMS (polydimethylsiloxane), and the pattern layer may be made of h-PDMS or X-PDMS.

본 발명에 따른 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법은 균일 두께의 중간층을 가지는 복제 스탬프를 제작할 수 있는 효과가 있다. INDUSTRIAL APPLICABILITY The duplication stamp manufacturing apparatus and its manufacturing method according to the present invention have the effect of producing a duplicate stamp having an intermediate layer of uniform thickness.

또한, 본 발명에 따른 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법은 간단한 구조의 두께조절부재가 구비된 것에 의해 원하는 중간층의 두께를 용이하게 조절할 수 있는 효과가 있다.In addition, the apparatus and method for manufacturing a duplicate stamp according to the present invention can easily adjust the thickness of a desired intermediate layer by providing a thickness adjusting member having a simple structure.

또한, 본 발명에 따른 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법은 지지봉이 안착부재에 의해 지지척 상에서 회동가능하게 설치된 것에 의해 가압척이 기판층을 향해 수평을 유지한 상태로 하강 시킬 수 있는 효과가 있다.Further, in the duplicating stamp manufacturing apparatus and the manufacturing method thereof according to the present invention, since the support rods are rotatably provided on the support chuck by the seating members, there is an effect that the pressurizing chuck can be lowered in a state of being held horizontally toward the substrate layer .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치의 구조를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치의 구조에 대한 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 두께조절부재의 구조를 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판층과 마스터 기판 사이에 두께조절부재가 배치된 상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법에 대한 과정을 단계별로 나타낸 도면이다.
1 is a perspective view schematically showing a structure of a duplicate stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a structure of a duplicate stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view illustrating a structure of a thickness adjusting member according to an embodiment of the present invention.
4 is a view illustrating a state where a thickness adjusting member is disposed between a substrate layer and a master substrate according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing steps of a method of manufacturing a duplicate stamp according to an embodiment of the present invention.

이하, 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시 예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시 예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above-mentioned problems to be solved can be specifically realized will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the embodiments, the same names and the same symbols are used for the same configurations, and additional description therefor will be omitted below.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치의 구조를 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치의 구조에 대한 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a perspective view schematically showing a structure of a duplicate stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic view showing a cross section of a duplicate stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention .

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치는 기판층(11), 중간층(13) 및 패턴층(15)이 순차적으로 적층되어 이루어지는 복제 스탬프(10)를 제조하기 위한 장치인 것으로서, 이러한 복제 스탬프 제조장치는 지지척(100)과, 가압척(200)과, 두께조절부재(300)와, 지지봉(400) 및 지지바(500)를 포함한다.1 and 2, a duplication stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a duplication stamp 10 formed by sequentially laminating a substrate layer 11, an intermediate layer 13, and a pattern layer 15 The replica stamp manufacturing apparatus includes a support chuck 100, a pressurizing chuck 200, a thickness adjusting member 300, a support bar 400, and a support bar 500.

상기 지지척(100)은 기판층(11)이 안착된 상태로 기판층(11)을 지지한다.The support chuck 100 supports the substrate layer 11 in a state where the substrate layer 11 is seated.

본 발명의 일 실시예에서는 지지척(100)이 진공을 이용한 진공척이 사용된 것이 제시되었지만, 기판층(11)을 지지할 수 있는 구조를 가진 척이라면 어느 척이 사용되어도 무방하다.In one embodiment of the present invention, although the support chuck 100 is shown using a vacuum chuck using vacuum, any chuck may be used provided it has a structure capable of supporting the substrate layer 11. [

상기 가압척(200)은 패턴층(15)이 적층된 마스터 기판(17)을 기판층(11) 측으로 가압한다.The pressure chuck 200 presses the master substrate 17 on which the pattern layer 15 is laminated to the substrate layer 11 side.

더욱 구체적으로, 가압척(200)은 패턴층(15)이 적층된 마스터 기판(17)의 상면이 가압척(200)의 하면에 흡착된 상태로 기판층(11)을 향하여 하강하면서 후술하는 중간층(13)을 형성하기 위한 중간층 재료(13a)를 가압한다.More specifically, the pressure chuck 200 descends toward the substrate layer 11 while the upper surface of the master substrate 17 on which the pattern layer 15 is stacked is adsorbed on the lower surface of the pressure chuck 200, (13a) for forming the intermediate layer material (13).

본 발명의 일 실시예에서는 가압척(200)이 지지척(100)과 동일하게 진공을 이용한 진공척이 사용된 것이 제시되었지만, 마스터 기판(17)을 지지하여 기판층(11)을 가압할 수 있는 구조를 가진 척이라면 어느 척이 사용되어도 무방하다.In the embodiment of the present invention, although the vacuum chuck 200 is shown using a vacuum chuck using a vacuum in the same manner as the support chuck 100, it is possible to pressurize the substrate layer 11 by supporting the master substrate 17 Any chuck can be used if it has a structure with a structure.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 두께조절부재(300)의 구조를 나타낸 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판층(11)과 마스터 기판(17) 사이에 두께조절부재(300)가 배치된 상태를 나타낸 도면이다.FIG. 3 is a perspective view illustrating a structure of a thickness adjusting member 300 according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross- And the member 300 is arranged.

도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 두께조절부(310)는 기판층(11)과 마스터 기판(17) 사이에 배치되어, 중간층(13)을 형성하기 위한 중간층 재료(13a)의 두께를 조절한다. 이러한 두께조절부재(300)는 두께조절부(310) 및 연장부(320)를 포함할 수 있다.3 and 4, the thickness adjusting unit 310 is disposed between the substrate layer 11 and the master substrate 17 to adjust the thickness of the intermediate layer material 13a for forming the intermediate layer 13 do. The thickness adjusting member 300 may include a thickness adjusting portion 310 and an extending portion 320.

상기 두께조절부(310)는 원하는 중간층(13)의 두께와 동일한 두께로 형성될 수 있으며, 기판층(11)의 상면에 안착되되, 기판층(11)과 마스터 기판(17) 사이에 끼워진 상태로 안착될 수 있다.The thickness adjusting portion 310 may be formed to have the same thickness as the desired thickness of the intermediate layer 13 and may be mounted on the upper surface of the substrate layer 11 and sandwiched between the substrate layer 11 and the master substrate 17 Lt; / RTI >

상기 연장부(320)는 두께조절부(310)의 단부로부터 꺾어져 상측으로 연장되게 형성될 수 있으며, 연장부(320)를 파지한 상태로 두께조절부(310)를 기판층(11)과 마스터 기판(17) 사이에 끼워 넣을 수 있다. The extension 320 may be bent from the end of the thickness adjuster 310 to extend upward and the thickness adjuster 310 may be coupled to the substrate layer 11, Can be sandwiched between the master substrates (17).

즉, 간단한 구조의 두께조절부재(300)에 의해 중간층 재료(13a)의 두께를 조절함으로써, 원하는 중간층(13)의 두께를 형성할 수 있는 이점이 있다.That is, there is an advantage that the thickness of the desired intermediate layer 13 can be formed by adjusting the thickness of the intermediate layer material 13a by the thickness control member 300 of simple structure.

상기 지지봉(400)은 지지척(100)의 상면에 상하 방향으로 배치될 수 있으며, 후술하는 지지바(500)와 함께 지지척(100) 상에서 가압척(200)을 지지한다.The support bar 400 may be disposed on the upper surface of the support chuck 100 in a vertical direction and supports the pressurizing chuck 200 on the support chuck 100 together with a support bar 500 to be described later.

본 발명의 일 실시예에서는 지지봉(400)이 가압척(200)의 원주방향을 따라 120도 간격으로 3개소 설치되고, 두께조절부재(300)는 지지봉(400)과 이웃하는 지지봉(400) 사이사이에 일정한 간격을 가지고 배치된 것이 제시된다. 이때, 각 지지봉(400)은 각각의 후술하는 지지바(500)에 의해 가압척(200)과 연결된다.In the embodiment of the present invention, three support rods 400 are disposed at intervals of 120 degrees along the circumferential direction of the pressurizing chuck 200, and the thickness control member 300 is disposed between the support rods 400 and the adjacent support rods 400 Are arranged at regular intervals. At this time, the support rods 400 are connected to the pressurizing chuck 200 by the support bars 500, which will be described later.

이에 따라, 가압척(200)은 각 지지봉(400)에 의해 지지척(100)상에서 안정적으로 지지될 수 있다.Thus, the pressurizing chuck 200 can be stably supported on the support chuck 100 by the respective support rods 400.

상기 지지봉(400)은 안착부재(410)를 더 포함할 수 있다.The support rod 400 may further include a seating member 410.

상기 안착부재(410)는 지지봉(400)의 하단부에 결합되어 지지봉(400)을 지지척(100)의 상면에 안착시킨다.The seating member 410 is coupled to the lower end of the support rod 400 to seat the support rod 400 on the upper surface of the support chuck 100.

도시되지는 않았지만, 지지봉(400)과 안착부재(410)는 나사체결구조에 의해 결합될 수 있다.Although not shown, the support rod 400 and the seating member 410 can be coupled by a screw fastening structure.

안착부재(410)는 가압척(200)의 하강 시 지지척(100)과 접촉되는 부위를 회동 중심으로 하여 지지봉(400)이 회동 가능하도록 지지척(100)과 접촉되는 부위가 곡면을 가지도록 형성될 수 있다.The supporting member 400 is rotated so that a portion of the supporting member 400 which is in contact with the supporting chuck 100 has a curved surface so that the supporting member 400 is rotatable about a portion where the supporting member 400 contacts the supporting chuck 100 when the pressing chuck 200 descends. .

이때, 안착부재(410)는 구형으로 형성될 수 있으며, 구형으로 형성된 것에 의해 지지척(100)과 접촉되는 부위가 곡면을 가지도록 형성되게 된다.At this time, the seating member 410 may be formed in a spherical shape, and a portion where the seating member 410 is in contact with the support chuck 100 is formed to have a curved surface by being formed in a spherical shape.

물론, 안착부재(410)의 구조가 전체적으로 구형으로 제작될 필요는 없고, 지지척(100)과 접촉되는 부위만 곡면을 가지도록 반구형으로도 제작될 수도 있다.Of course, the structure of the seating member 410 does not need to be formed in a spherical shape as a whole, but may also be formed in a hemispherical shape so that only a portion in contact with the supporting chuck 100 has a curved surface.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 상기 지지척(100)은 상기 안착부재(410)가 유격을 가진 상태로 안착될 수 있도록 하기 위한 안착홈(110)을 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the support chuck 100 according to an embodiment of the present invention may further include a seating groove 110 for allowing the seating member 410 to be seated with a clearance therebetween.

즉, 안착홈(110)이 지지봉(400)에 결합된 안착부재(410)가 유격을 가지 상태로 안착될 수 있도록 형성됨에 따라, 지지척(100)의 상면에서 지지봉(400)이 회동될 경우, 안착홈(110)이 안착부재(410)의 하단부를 지지하고 있기 때문에 지지봉(400)이 쓰러지지 않고 안정적으로 회동될 수 있다.That is, when the support rod 400 is rotated on the upper surface of the support chuck 100, the seating member 110 coupled with the support rod 400 is formed so as to be seated with a clearance therebetween , The supporting groove 400 supports the lower end of the seating member 410, so that the supporting bar 400 can be stably rotated without collapsing.

상기 지지바(500)는 일단부가 가압척(200)에 결합되고, 타단부가 가압척(200)이 지지척(100)을 향해 하강할 수 있도록 지지봉(400)에 대하여 슬라이딩 가능하게 결합될 수 있다. The support bar 500 may be slidably engaged with the support bar 400 so that one end of the support bar 500 is coupled to the pressurizing chuck 200 and the other end of the support bar 500 can be lowered toward the support chuck 100 have.

더욱 구체적으로, 지지바(500)는 상술한 지지봉(400)과 함께 가압척(200)을 기판층(11) 상에서 지지하게 된다.More specifically, the support bar 500 supports the pressurizing chuck 200 on the substrate layer 11 together with the support rod 400 described above.

이때, 지지바(500)는 지지봉(400)이 관통 설치되도록 마련된 관통공(510)을 포함하고, 지지바(500)는 관통공(510)을 통해 지지봉(400)의 길이 방향을 따라 슬라이딩하면서 가압척(200)과 함께 하강할 수 있다.The support bar 500 includes a through hole 510 through which the support bar 400 is inserted so that the support bar 500 slides along the longitudinal direction of the support bar 400 through the through hole 510 And can be lowered together with the pressure chuck 200.

즉, 지지바(500)는 가압척(200)이 마스터 기판(17)을 가압하기 위해 하강하는 과정에서 지지바(500)에 형성된 관통공(510)에 지지봉(400)이 설치된 상태이기 때문에 가압척(200)은 지지봉(400)의 안내를 받아 슬라이딩하면서 하강하게 된다.That is, since the supporting bar 500 is in a state in which the supporting bar 400 is installed in the through hole 510 formed in the supporting bar 500 in the process of lowering the pressing chuck 200 to press the master substrate 17, The chuck 200 is guided by the support rods 400 and descends while sliding.

이때, 지지봉(400)은 안착부재(410)에 의해 회동됨으로써, 가압척(200)이 하강하는 과정에서 가압척이 기판층(11)에 대해 수평을 유지한 상태로 하강할 수 있게 된다.At this time, the support rod 400 is rotated by the seating member 410, so that the pressure chuck 200 can be lowered while maintaining the horizontal position of the pressure chuck 200 with respect to the substrate layer 11.

더욱 구체적으로, 가압척(200)이 하중에 의해 스스로 하강하는 구조이기 때문에, 지지봉(400)이 지지척(100)에 고정된 상태라면 가압척(200)과 연결된 지지바(500)가 가압척(200)과 함께 하강하는 과정에서 지지바(500)가 지지봉(400)에 걸리는 경우가 발생할 수 있다. The support bar 500 connected to the pressurizing chuck 200 may be pressed against the pressurizing chuck 200 if the support bar 400 is fixed to the support chuck 100. In this case, The support bar 500 may be caught by the support bar 400 in the process of descending with the support bar 200. [

지지바(500)가 지지봉(400)에 걸리게 되면, 지지바(500)에 연결된 가압척(200)이 비스듬하게 기울어질 수 있는 문제점이 발생하게 되어 중간층 재료(13a)에 균일한 가압력을 제공할 수 없게 되는 문제점이 발생하게 된다.When the support bar 500 is caught by the support bar 400, the pressure chuck 200 connected to the support bar 500 may be tilted obliquely to provide a uniform pressing force to the intermediate layer material 13a A problem may occur that it can not be performed.

따라서, 가압척(200)이 하강하는 과정에서 지지바(500)가 지지봉(400)에 걸리지 않도록 지지봉(400)이 안착부재(410)에 의해 회동가능하게 설치되는 것이 바람직한 것이다. Therefore, it is preferable that the support bar 400 is rotatably installed by the seating member 410 so that the support bar 500 is not caught by the support bar 400 during the downward movement of the pressure chuck 200.

상기 지지바(500)는 지지바(500)를 가압척(200)에 결합시키기 위한 결합부(520) 및 지지바(500)를 지지봉(400)에 고정시키기 위한 고정부(530)를 더 포함할 수 있다.The supporting bar 500 further includes a coupling part 520 for coupling the supporting bar 500 to the pressing chuck 200 and a fixing part 530 for fixing the supporting bar 500 to the supporting bar 400 can do.

상기 결합부(520)는 지지바(500)의 일측에 형성된 결합홈(521) 및 결합홈(521)에 결합되어 지지바(500)의 일측을 가압척(200)의 상면에 결합시키기 위한 결합부재(522)를 포함할 수 있다.The coupling part 520 is coupled to the coupling groove 521 formed at one side of the supporting bar 500 and the coupling groove 521 to connect one side of the supporting bar 500 to the upper surface of the pressing chuck 200. Member 522 as shown in FIG.

이때, 결합부(520)는 나사체결구조에 의해 지지바(500)의 일측을 가압척(200)의 상면에 결합시킬 수 있으며, 결합부재(522)로는 볼트가 사용될 수 있다.At this time, the engaging portion 520 can couple one side of the supporting bar 500 to the upper surface of the pressing chuck 200 by the screw fastening structure, and a bolt can be used as the engaging member 522.

상기 고정부(530)는 마스터 기판(17) 및 패턴층(15)이 두께조절부재(300)에 안착된 이후, 지지바(500)를 지지봉(400)에 고정시킨다. 이러한 고정부(530)는 제1 고정부재(531)와, 제2 고정부재(532) 및 고정노브(533)를 포함할 수 있다.The fixing portion 530 fixes the supporting bar 500 to the supporting rod 400 after the master substrate 17 and the pattern layer 15 are seated on the thickness adjusting member 300. The fixing portion 530 may include a first fixing member 531 and a second fixing member 532 and a fixing knob 533. [

상기 제1 고정부재(531)는 관통공(510)으로부터 돌출 형성될 수 있으며, 상기 제2 고정부재(532)는 제1 고정부재(531)로부터 일정간격 이격된 상태로 형성되되, 제1 고정부재(531)와 동일한 형상으로 형성될 수 있다. The first fixing member 531 may protrude from the through hole 510. The second fixing member 532 may be spaced apart from the first fixing member 531 by a predetermined distance, It may be formed in the same shape as the member 531.

상기 고정노브(533)는 나사체결에 의해 제1 고정부재(531)와 제2 고정부재(532) 사이 간격을 좁힘으로써, 지지바(500)를 지지봉(400)에 고정시킬 수 있다.The fixing knob 533 can fix the support bar 500 to the support bar 400 by narrowing the gap between the first fixing member 531 and the second fixing member 532 by screwing.

이때, 고정노브(533)의 일측에는 나사체결축(533a)이 마련되어 있으며, 나사체결축(553a)이 제1 고정부재(551)와 제2 고정부재(553)를 관통한 상태로 설치될 수 있다. At this time, a screw fastening shaft 533a is provided on one side of the fixing knob 533, and the screw fastening shaft 553a can be installed in a state of passing through the first fastening member 551 and the second fastening member 553 have.

도시되지는 않았지만, 제1 고정부재(531) 및 제2 고정부재(532)에는 나사체결축(533a)이 체결되도록 제1 나사홈 및 제2 나사홈이 형성되는 것이 바람직하다.Although not shown, the first fixing member 531 and the second fixing member 532 may be formed with a first screw groove and a second screw groove so that the screw fastening shaft 533a is fastened.

즉, 고정노브(533)를 조작하게 되면 나사체결축(533a)이 제1 고정부재(531)의 제1 나사홈과 제2 고정부재(532)의 제2 나사홈에 나사 결합됨으로써, 제1 고정부재(531)와 제2 고정부재(532)의 사이 간격을 좁히게 되고, 제1 고정부재(531)와 제2 고정부재(532) 사이 간격이 좁혀짐에 따라, 관통공(510)이 조여지게 되어 관통공(510)에 관통 설치된 지지봉(500)에 지지바(400)가 고정될 수 있게 된다.That is, when the fixing knob 533 is operated, the screw fastening shaft 533a is screwed into the first screw groove of the first fixing member 531 and the second screw groove of the second fixing member 532, The gap between the fixing member 531 and the second fixing member 532 is narrowed and the gap between the first fixing member 531 and the second fixing member 532 is narrowed, So that the support bar 400 can be fixed to the support rod 500, which is inserted through the through hole 510.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치는 지지척(100)의 하부에 설치되어, 중간층 재료(13a)를 가열하는 히터부(600)를 더 포함할 수 있다.The apparatus for producing replica stamps according to an embodiment of the present invention may further include a heater unit 600 installed at a lower portion of the support chuck 100 to heat the intermediate layer material 13a.

도시되지는 않았지만, 히터부(600)는 히터본체와 히터본체 내부에 내장된 히터를 포함할 수 있으며, 히터본체는 지지척(100)을 지지하는 스테이지 구조로 구성될 수 있다. 즉, 히터부(600)의 히터를 통해 중간층 재료(13a)을 가열하여 경화시킬 수 있다.Although not shown, the heater unit 600 may include a heater body and a heater built in the heater body, and the heater body may have a stage structure supporting the support chuck 100. That is, the intermediate layer material 13a can be heated and cured through the heater of the heater unit 600. [

지금부터는 상기한 바와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치에 의해 제조되는 복제 스탬프 제조방법을 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method for manufacturing a duplicate stamp produced by the duplication stamp manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법에 대한 과정을 단계별로 나타낸 도면이다.5 is a view showing steps of a method of manufacturing a duplicate stamp according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법은 a) 상기 마스터 기판(17)의 상면에 상기 패턴층(15)을 형성하는 단계와, b) 상기 패턴층(15)의 상면에 상기 중간층(13)을 형성하는 중간층 재료(13a)를 도포하는 단계와, c) 상기 중간층 재료(13a)의 상측에 상기 기판층(11)을 배치하는 단계와, d) 상기 마스터 기판(17), 상기 패턴층(15), 상기 중간층 재료(13a) 및 상기 기판층(11)이 하부에서 상부로 순차적으로 적층된 상태에서 상하가 바뀌도록 하여 상기 지지척(100)과 상기 가압척(200) 사이에 배치하고, 상기 기판층(11)과 상기 마스터 기판(17) 사이에 상기 두께조절부재(300)를 배치하는 단계와, e) 상기 가압척(200)의 하중에 의해 상기 가압척(200)이 하강되도록 하여 상기 중간층 재료(13a)를 가압하는 단계와, f) 상기 마스터 기판(17) 및 상기 패턴층(15)이 상기 두께조절부재(300)에 안착된 이후, 상기 두께조절부재(300)를 제거하고, 상기 지지바(500)를 상기 지지봉(400)에 고정시키는 단계와, g) 상기 중간층 재료(13a)를 경화시켜 상기 중간층(13)을 형성하는 단계 및 h) 상기 지지척(100) 및 상기 가압척(200)을 제거하고, 상기 패턴층(15)으로부터 상기 마스터 기판(17)을 제거하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a duplicate stamp according to an embodiment of the present invention includes the steps of: a) forming the pattern layer 15 on the upper surface of the master substrate 17; b) 13); c) disposing the substrate layer (11) on the upper side of the intermediate layer material (13a); and d) disposing the master substrate (17), the pattern The intermediate layer material 13a and the substrate layer 11 are sequentially stacked from the lower part to the upper part and are arranged between the support chuck 100 and the pressurizing chuck 200 Disposing the thickness adjusting member 300 between the substrate layer 11 and the master substrate 17 and e) moving the pressurizing chuck 200 downward by a load of the pressurizing chuck 200 And pressing the intermediate layer material (13a) so that the thickness of the master layer (17) and the pattern layer (15) Removing the thickness adjustment member 300 and securing the support bar 500 to the support bar 400 after being seated on the member 300; g) curing the intermediate layer material 13a Forming the intermediate layer 13 and h) removing the support chuck 100 and the pressure chuck 200 and removing the master substrate 17 from the pattern layer 15. [

이때, 도시되지는 않았지만, g) 단계이후, 중간층 재료(13a)가 채워지지 않은 영역에 대해 상기 중간층 재료의 추가분(미도시)을 주입시키는 단계를 더 포함할 수 있다.At this time, although not shown, after step g), the step of implanting an additional portion (not shown) of the interlayer material may be performed on the region where the interlayer material 13a is not filled.

이때, 중간층 재료(13a)와 중간층 재료의 추가분은 동일한 재질일 수 있다.At this time, the addition of the intermediate layer material 13a and the intermediate layer material may be the same material.

이때, 기판층(11)은 유리 재질, 중간층(13)은 PDMS(polydimethylsiloxane) 재질, 패턴층(15)은 h-PDMS 또는 X-PDMS 재질로 이루어질 수 있다.At this time, the substrate layer 11 may be made of glass, the intermediate layer 13 may be made of PDMS (polydimethylsiloxane), and the pattern layer 15 may be made of h-PDMS or X-PDMS.

도 5를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조방법에 대해 보다 자세히 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 5, a method of manufacturing a duplicate stamp according to an embodiment of the present invention will be described in more detail as follows.

먼저, 도 5(a)에 도시된 바와 같이, a) 단계에서는 마스터 기판(17)의 상면에 패턴층(15)을 형성하는 과정을 수행한다.First, as shown in FIG. 5 (a), a pattern layer 15 is formed on the top surface of the master substrate 17 in step a).

패턴층(15)을 형성하는 과정을 구체적으로 설명하면, 먼저 패턴이 형성된 마스터 기판(17)에 패턴층 재료(미도시)를 도포한다. 이때, 패턴층 재료는 h-PDMS 또는 X-PDMS가 사용될 수 있다.The process of forming the pattern layer 15 will be described in detail. First, a pattern layer material (not shown) is applied to the master substrate 17 on which a pattern is formed. At this time, h-PDMS or X-PDMS may be used as the pattern layer material.

이때, 패턴층 재료는 스핀코팅 등의 방법에 의해 도포될 수 있고, 스핀코팅의 회전속도를 조절하여 패턴층(15)의 두께를 조절할 수 있다.  At this time, the material of the pattern layer can be applied by a method such as spin coating, and the thickness of the pattern layer 15 can be controlled by controlling the spin speed of the spin coating.

즉, 스핀코팅의 회전속도를 느리게 하면 패턴층(15)의 두께가 두꺼워지고, 스핀코팅의 회전속도를 빠르게 하면 패턴층(15)의 두께가 얇아지도록 조절할 수 있다. 따라서, 스핀코팅의 회전속도를 조절하여 원하는 패턴층(15)의 두께를 형성할 수 있게 된다.That is, if the rotation speed of the spin coating is slow, the thickness of the pattern layer 15 becomes thick, and if the spin coating speed is increased, the thickness of the pattern layer 15 can be adjusted to be thin. Accordingly, it is possible to form the desired thickness of the pattern layer 15 by adjusting the rotational speed of the spin coating.

다음으로, 마스터 기판(17) 상에 도포된 패턴층 재료를 경화시켜 패턴층(15)을 형성한다. Next, the pattern layer material applied on the master substrate 17 is cured to form the pattern layer 15. [

한편, 패턴층 재료가 h-PDMS인 경우, 재료는 60 ~ 80℃ 범위 내의 온도에서 1 ~ 2시간 범위 내의 시간 동안의 가열에 의해 경화되도록 하는 것이 바람직하다.On the other hand, when the pattern layer material is h-PDMS, it is preferable that the material is cured by heating for a time within a range of 1 to 2 hours at a temperature within a range of 60 to 80 占 폚.

상기한 바와 같은 과정을 거처 마스터 기판(17)의 상면에 패턴층(15)을 형성할 수 있다.The pattern layer 15 may be formed on the upper surface of the master substrate 17 through the above process.

다음으로, 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, b)단계에서는 패턴층(15) 상면에 중간층 재료(13a)를 배치하는 과정을 수행한다. 이때, 중간층 재료(13a)는 PDMS가 사용될 수 있으며, PDMS는 점도가 높은 액체 상태로 되어 있어, 떨어뜨림(dropping) 방식에 의해 배치될 수 있다.Next, as shown in FIG. 5B, in step b), a process of disposing the intermediate layer material 13a on the upper surface of the pattern layer 15 is performed. At this time, PDMS can be used for the intermediate layer material 13a, and the PDMS can be placed in a liquid state having a high viscosity and can be arranged by a dropping method.

다음으로, 도 5의 (c)에 도시된 바와 같이, c) 단계에서는 중간층 재료(13a) 상측에 기판층(11)을 배치시키는 과정을 수행한다. 이때, 중간층 재료(13a)가 기판층(11)에 의한 가압 및 별도의 가열장치에 의해 가열되도록 하면서 1차적으로 경화될 수 있도록 한다.Next, as shown in FIG. 5C, in step c), a process of disposing the substrate layer 11 on the intermediate layer material 13a is performed. At this time, the intermediate layer material 13a can be primarily cured while being heated by the pressurization by the substrate layer 11 and a separate heating device.

즉, 기판층(11)이 중간층 재료(13a)를 눌러 주면, 중간층 재료(13a)가 눌림에 의해 퍼지게 된 상태에서 중간층 재료(13a)를 가열하여 1차로 경화될 수 있도록 한다.That is, when the substrate layer 11 presses the intermediate layer material 13a, the intermediate layer material 13a is heated to be cured first, in a state in which the intermediate layer material 13a is spread by pressing.

이와 같은 과정을 거치게 된 다음에는 앞서 상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프 제조장치를 통해 다음 과정이 진행될 수 있다.After this process, the following process can be performed through the duplication stamp manufacturing apparatus according to the embodiment of the present invention described above.

다음으로, 도 5(d)에 도시된 바와 같이, d)단계에서는 마스터 기판(17), 패턴층(15), 중간층 재료(13a) 및 기판층(11)이 하부에서 상부로 순차적으로 적층 배치된 상태에서 상하가 바뀌도록 하여, 지지척(100)과 가압척(200) 사이에 배치하고, 기판층(11)과 마스터 기판(17) 사이에 원하는 중간층(13)의 두께를 형성하기 위한 두께조절부재(300)를 배치하는 과정을 수행한다.5 (d), in the step d), the master substrate 17, the pattern layer 15, the intermediate layer material 13a and the substrate layer 11 are sequentially stacked from the lower part to the upper part The thickness of the intermediate layer 13 is set between the support chuck 100 and the pressurizing chuck 200 so that the thickness of the intermediate layer 13 is formed between the substrate layer 11 and the master substrate 17, The adjusting member 300 is disposed.

이때, 마스터 기판(17), 패턴층(15), 중간층 재료(13a) 및 기판층(11)이 하부에서 상부로 순차적으로 적층 배치된 상태에서 상하가 바뀌도록 하여 배치하는 이유는, 후술하는 중간층 재료의 추가분을 주입하여 중간층(13)의 모자란 영역을 채우는 과정에서 중간층 재료의 추가분이 기판층(11)의 외부로 배출될 수 있도록 하기 위함이다. The reason for disposing the master substrate 17, the pattern layer 15, the intermediate layer material 13a, and the substrate layer 11 in such a manner that they are vertically shifted in the state where the layers are sequentially stacked from the bottom to the top, So that an additional portion of the intermediate layer material can be discharged to the outside of the substrate layer 11 in the process of filling the insufficient region of the intermediate layer 13 by injecting an additional material.

이때, 기판층(11)이 마스터 기판(17)보다 더 넓게 형성되기 때문에 기판층(11)과 지지척(100) 사이로 중간층 재료의 추가분이 유입되는 것을 방지할 수 있다.At this time, since the substrate layer 11 is formed wider than the master substrate 17, it is possible to prevent an additional portion of the intermediate layer material from flowing between the substrate layer 11 and the support chuck 100.

만약, 마스터 기판(17)이 하부로 가도록 배치될 경우 즉, 마스터 기판(17)이 지지척(100) 상면에 놓이도록 배치될 경우에는 중간층(13)의 모자란 영역을 채우는 과정에서 중간층 재료의 추가분이 마스터 기판(17)과 지지척(100) 사이로 유입될 수 있기 때문이다. When the master substrate 17 is arranged to be disposed at the lower side, that is, when the master substrate 17 is arranged to be placed on the upper surface of the support chuck 100, in the process of filling the insufficient area of the intermediate layer 13, Because it can flow between the master substrate 17 and the support chuck 100.

이때, 중간층 재료의 추가분이 마스터 기판(17)과 지지척(100) 사이로 유입되면, 마스터 기판(17)과 지지척(100)을 분리하는 과정에서 마스터 기판(17)과 지지척(100)이 달라붙어 마스터 기판(17)이 파손되는 현상이 발생될 수 있다.At this time, when an additional portion of the intermediate layer material flows between the master substrate 17 and the support chuck 100, the master substrate 17 and the support chuck 100 are separated from each other during the separation of the master substrate 17 and the support chuck 100 So that the master substrate 17 may be damaged.

따라서, 상기와 같은 문제를 방지하기 위해서 마스터 기판(17), 패턴층(15), 중간층 재료(13a) 및 기판층(11)이 하부에서 상부로 순차적으로 적층 배치된 상태에서 상하가 바뀌도록 하여 배치하는 것이 바람직한 것이다.Therefore, in order to prevent the above problems, the master substrate 17, the pattern layer 15, the intermediate layer material 13a, and the substrate layer 11 are vertically shifted in a state where the layers are sequentially stacked from the bottom to the top It is preferable to arrange it.

한편, 두께조절부재(300)는 중간층(13)의 두께를 조절할 수 있다. 즉, 두께조절부재(300)의 두께조절부(310) 두께를 원하는 중간층(13)의 두께에 해당되도록 제작할 수 있기 때문에 간단한 구성에 의해 중간층(13)의 두께를 용이하게 조절할 수 있다.On the other hand, the thickness adjusting member 300 can adjust the thickness of the intermediate layer 13. That is, since the thickness of the thickness adjusting part 310 of the thickness adjusting member 300 can be made to correspond to the desired thickness of the intermediate layer 13, the thickness of the intermediate layer 13 can be easily adjusted by a simple structure.

다음으로, 도 5의 (e)에 도시된 바와 같이, e) 단계에서는 가압척(200)의 하중에 의해 가압척(200)이 하강되도록 하여 중간층 재료(13a)가 가압되도록 하는 과정을 수행한다.Next, as shown in FIG. 5E, in step e), the pressing chuck 200 is lowered by the load of the pressing chuck 200 so that the intermediate layer material 13a is pressed .

이때, 가압척(200)은 지지바(500)와 연결된 지지봉(400)의 안내를 받으면서 하강하게 된다.At this time, the pressure chuck 200 is lowered while being guided by the support bar 400 connected to the support bar 500.

다음으로, 도 5의 (f)에 도시된 바와 같이, f) 단계에서는 마스터 기판(17) 및 패턴층(15)이 두께조절부재(300)에 안착된 이후, 두께조절부재(300)를 제거하고, 지지바(500)를 지지봉(400)에 고정시키는 과정을 수행한다.5 (f), after the master substrate 17 and the pattern layer 15 are seated on the thickness adjusting member 300, the thickness adjusting member 300 is removed And the process of fixing the support bar 500 to the support bar 400 is performed.

이때, 지지바(500)의 고정부에 마련된 고정노브(533)를 조여 제1 고정부재(531)와 제2 고정부재(532)의 사이 간격을 좁힘으로써, 지지바(500)를 지지봉(400)에 고정시킬 수 있게 된다.At this time, the distance between the first fixing member 531 and the second fixing member 532 is narrowed by tightening the fixing knob 533 provided at the fixing portion of the supporting bar 500, As shown in Fig.

한편, 도시되지는 않았지만, (f) 단계이후, 중간층 재료(13a)가 채워지지 않은 영역에 대해 중간층 재료의 추가분을 주입시키는 단계가 수행될 수 있다.On the other hand, although not shown, after the step (f), a step of implanting an additional portion of the intermediate layer material into the region where the intermediate layer material 13a is not filled can be performed.

이때, 중간층 재료의 추가분은 중간층 재료(13a)와 동일한 재질이 사용될 수 있으며, 스포이드 등과 같은 장치를 이용하여 모세관 현상에 의해 주입시킬 수 있다.At this time, an additional material of the intermediate layer material may be the same material as the intermediate layer material 13a, and may be injected by a capillary phenomenon using a device such as a syringe.

이처럼 중간층 재료(13a) 추가분이 더 주입됨으로써, 중간층 재료(13a)가 채워지지 않은 영역 즉, 가장자리 부분이나, 두께조절부(310)가 안착된 영역 부분에 중간층 재료의 추가분이 채워지게 된다.In this manner, an additional portion of the intermediate layer material 13a is further injected, so that an additional portion of the intermediate layer material is filled in the region where the intermediate layer material 13a is not filled, that is, the edge portion or the region where the thickness adjusting portion 310 is seated.

다음, 도 5의 (g)에 도시된 바와 같이, g) 단계에서는 중간층 재료(13a) 및 중간층 재료의 추가분을 경화시켜 중간층을 형성하는 과정을 수행한다.Next, as shown in Fig. 5 (g), in the step g), the process of forming the intermediate layer is performed by curing the intermediate layer material 13a and the additional portion of the intermediate layer material.

이때, 중간층 재료(13a) 및 중간층 재료의 추가분의 경화는 지지척(100)의 하부에 마련된 히터부(600)를 통해 가열시켜 경화될 수 있다. 즉, 중간층 재료(13a) 및 중간층 재료의 추가분은 히터부(600)의 가열에 의해 2차 경화되도록 하여 중간층(13)을 형성하게 된다.At this time, the curing of the additional layer of the intermediate layer material 13a and the intermediate layer material can be performed by heating through the heater portion 600 provided at the lower portion of the support chuck 100. [ That is, the intermediate layer material 13a and the additional material of the intermediate layer material are hardened by the heating of the heater portion 600 to form the intermediate layer 13. [

다음, 도 5의 (h)에 도시된 바와 같이, h) 단계에서는 지지척(100) 및 가압척(200)을 제거하고, 패턴층(15)으로부터 마스터 기판(17)을 제거하는 과정이 수행된다. 상술한 바와 같은 과정을 통해 본 발명의 일 실시예에 따른 복제 스탬프(10)의 제조가 완료될 수 있다.5 (h), a process of removing the support chuck 100 and the pressure chuck 200 and removing the master substrate 17 from the pattern layer 15 is performed in step h) do. The manufacturing of the duplicate stamp 10 according to the embodiment of the present invention can be completed through the process as described above.

이상 상술한 바와 같은, 본 발명에 따른 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법은 균일 두께의 중간층을 가지는 복제 스탬프를 제작할 수 있는 효과가 있다. INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the duplication stamp manufacturing apparatus and the manufacturing method thereof according to the present invention have the effect of producing a duplicate stamp having an intermediate layer of uniform thickness.

또한, 본 발명에 따른 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법은 간단한 구조의 두께조절부재가 구비된 것에 의해 원하는 중간층의 두께를 용이하게 조절할 수 있는 효과가 있다.In addition, the apparatus and method for manufacturing a duplicate stamp according to the present invention can easily adjust the thickness of a desired intermediate layer by providing a thickness adjusting member having a simple structure.

또한, 본 발명에 따른 복제 스탬프 제조장치 및 이의 제조방법은 지지봉이 안착부재에 의해 지지척 상에서 회동가능하게 설치된 것에 의해 가압척이 기판층을 향해 수평을 유지한 상태로 하강 시킬 수 있는 효과가 있다.Further, in the duplicating stamp manufacturing apparatus and the manufacturing method thereof according to the present invention, since the support rods are rotatably provided on the support chuck by the seating members, there is an effect that the pressurizing chuck can be lowered in a state of being held horizontally toward the substrate layer .

상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Modify or modify the Software.

10: 복제 스탬프 11: 기판층
13: 중간층 13a: 중간층 재료
15: 패턴층 17: 마스터 기판
100: 지지척 200: 가압척
300: 두께조절부재 400: 지지봉
500: 지지바
10: copy stamp 11: substrate layer
13: intermediate layer 13a: intermediate layer material
15: pattern layer 17: master substrate
100: support chuck 200: pressure chuck
300: thickness adjusting member 400:
500: Support bar

Claims (13)

기판층, 중간층 및 패턴층이 순차적으로 적층되어 이루어지는 복제 스탬프를 제조하기 위한 복제 스탬프 제조장치에 있어서,
상기 기판층을 지지하는 지지척;
상기 패턴층이 적층된 마스터 기판을 상기 기판층 측으로 가압하는 가압척;
상기 기판층과 상기 마스터 기판 사이에 배치되어, 원하는 상기 중간층의 두께와 동일한 두께로 형성되어 상기 기판층에 안착되는 두께조절부와, 상기 두께조절부의 단부로부터 꺾어져 상측으로 연장되게 형성된 연장부를 포함하여, 상기 중간층을 형성하기 위한 중간층 재료의 두께를 조절하기 위한 두께조절부재;
상기 지지척의 상면에 상하 방향으로 배치되는 지지봉; 및
일단부는 상기 가압척에 결합되고, 타단부는 상기 가압척이 상기 지지척을 향해 하강할 수 있도록 상기 지지봉에 대하여 슬라이딩 가능하게 결합되는 지지바;를 포함하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
An apparatus for producing a replica stamp for producing a replica stamp comprising a substrate layer, an intermediate layer and a pattern layer successively laminated,
A support chuck for supporting the substrate layer;
A pressing chuck for pressing the master substrate on which the pattern layers are stacked to the substrate layer side;
A thickness regulating portion disposed between the substrate layer and the master substrate and formed to have the same thickness as the desired thickness of the intermediate layer and seated on the substrate layer; and an extension portion formed by being bent from the end portion of the thickness regulating portion and extending upward A thickness adjusting member for adjusting the thickness of the intermediate layer material for forming the intermediate layer;
A support rod vertically disposed on the upper surface of the support chuck; And
And a support bar slidably engaged with the support bar so that the one end portion is coupled to the pressure chuck and the other end portion is capable of descending toward the support chuck.
제1항에 있어서,
상기 지지척의 하부에 설치되고, 상기 중간층 재료를 가열하는 히터부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
The method according to claim 1,
And a heater unit installed at a lower portion of the support chuck to heat the intermediate layer material.
제1항에 있어서,
상기 지지봉의 하단부에 결합되어 상기 지지봉을 상기 지지척에 안착시키고, 상기 가압척의 하강 시 상기 지지척과 접촉되는 부위를 회동 중심으로 하여 상기 지지봉이 회동 가능하도록 상기 지지척과 접촉되는 부위가 곡면을 가지도록 형성된 안착부재;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
The method according to claim 1,
So that a portion of the support rod, which is in contact with the support chuck, has a curved surface so that the support rod can be rotated around a portion that is in contact with the support chuck when the pressurizing chuck is lowered, And a formed seating member (130).
제3항에 있어서,
상기 지지척은 상기 안착부재가 유격을 가진 상태로 안착될 수 있는 안착홈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
The method of claim 3,
Wherein the support chuck further comprises a seating groove in which the seating member can be seated with a clearance.
제1항에 있어서,
상기 지지바는 상기 지지봉이 관통 설치되도록 마련된 관통공을 포함하고,
상기 지지바는 상기 관통공을 통해 상기 지지봉의 길이 방향을 따라 슬라이딩하면서 상기 가압척과 함께 하강하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
The method according to claim 1,
Wherein the support bar includes a through-hole provided so that the support rod penetrates through the support bar,
Wherein the support bar is lowered together with the pressurizing chuck while sliding along the longitudinal direction of the support bar through the through-hole.
제5항에 있어서,
상기 지지바는, 상기 마스터 기판 및 상기 패턴층이 상기 두께조절부재에 안착된 이후 상기 지지바를 상기 지지봉에 고정시키기 위한 고정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the support bar comprises a fixing portion for fixing the support bar to the support bar after the master substrate and the pattern layer are seated on the thickness adjusting member.
삭제delete 제6항에 있어서,
상기 고정부는,
상기 관통공으로부터 돌출 형성된 제1 고정부재;
상기 제1 고정부재로부터 일정간격 이격된 상태로 형성되되, 상기 제1 고정부재와 동일한 형상으로 형성된 제2 고정부재; 및
나사체결에 의해 상기 제1 고정부재와 상기 제2 고정부재 사이 간격을 좁힘으로써, 상기 지지바를 상기 지지봉에 고정시키기 위한 고정노브;를 포함하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
The method according to claim 6,
The fixing unit includes:
A first fixing member protruding from the through hole;
A second fixing member formed at a predetermined distance from the first fixing member and formed in the same shape as the first fixing member; And
And a fixing knob for fixing the support bar to the support bar by narrowing an interval between the first fixing member and the second fixing member by screwing.
제1항에 있어서,
상기 지지봉은,
상기 가압척의 원주방향을 따라 120도 간격으로 3개소 설치되고, 상기 두께조절부재는 상기 지지봉과 이웃하는 지지봉 사이사이에 일정한 간격을 가지고 배치되는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조장치.
The method according to claim 1,
The support rod
And three thickness adjusting members are disposed at intervals of 120 degrees along the circumferential direction of the pressing chuck, and the thickness adjusting member is disposed between the supporting rods and the neighboring supporting rods with a predetermined gap therebetween.
제1항에 기재된 복제 스탬프 제조장치를 이용하여 제조되는 복제 스탬프 제조방법에 있어서,
a) 상기 마스터 기판의 상면에 상기 패턴층을 형성하는 단계;
b) 상기 패턴층의 상면에 상기 중간층을 형성하는 중간층 재료를 도포하는 단계;
c) 상기 중간층 재료의 상측에 상기 기판층을 배치하는 단계;
d) 상기 마스터 기판, 상기 패턴층, 상기 중간층 재료 및 상기 기판층이 하부에서 상부로 순차적으로 적층된 상태에서 상하가 바뀌도록 하여 상기 지지척과 상기 가압척 사이에 배치하고, 상기 기판층과 상기 마스터 기판 사이에 상기 두께조절부재를 배치하는 단계;
e) 상기 가압척의 하중에 의해 상기 가압척이 하강되도록 하여 상기 중간층 재료를 가압하는 단계;
f) 상기 마스터 기판 및 상기 패턴층이 상기 두께조절부재에 안착된 이후, 상기 두께조절부재를 제거하고, 상기 지지바를 상기 지지봉에 고정시키는 단계;
상기 f) 단계이후, 상기 중간층 재료가 채워지지 않은 영역에 대해 상기 중간층 재료의 추가분을 주입시키는 단계;
g) 상기 중간층 재료를 경화시켜 상기 중간층을 형성하는 단계; 및
h) 상기 지지척 및 상기 가압척을 제거하고, 상기 패턴층으로부터 상기 마스터 기판을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조방법.
A duplicate stamp manufacturing method using the duplication stamp manufacturing apparatus according to claim 1,
a) forming the pattern layer on an upper surface of the master substrate;
b) applying an intermediate layer material forming the intermediate layer on the upper surface of the pattern layer;
c) disposing the substrate layer above the interlayer material;
d) placing the master substrate, the pattern layer, the intermediate layer material, and the substrate layer between the support chuck and the pressurizing chuck such that the top and bottom of the master substrate, the pattern layer, the intermediate layer material and the substrate layer are sequentially stacked from the bottom to the top, Disposing the thickness adjusting member between the substrates;
e) pressing the intermediate layer material by lowering the pressurizing chuck by a load of the pressurizing chuck;
f) removing the thickness adjustment member and securing the support bar to the support bar after the master substrate and the pattern layer are seated on the thickness adjustment member;
Injecting an additional portion of the interlayer material into the unfilled region of the interlayer material after step f);
g) curing the intermediate layer material to form the intermediate layer; And
h) removing the support chuck and the pressure chuck, and removing the master substrate from the pattern layer.
삭제delete 제10항에 있어서,
상기 중간층 재료와 상기 중간층 재료의 추가분은 동일한 재질인 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the additional material of the intermediate layer material and the intermediate layer material is the same material.
제12항에 있어서,
상기 기판층은 유리 재질, 상기 중간층은 PDMS(polydimethylsiloxane) 재질, 상기 패턴층은 h-PDMS 또는 X-PDMS 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 복제 스탬프 제조방법.
13. The method of claim 12,
Wherein the substrate layer is made of glass, the intermediate layer is made of PDMS (polydimethylsiloxane), and the pattern layer is made of h-PDMS or X-PDMS.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090077836A (en) * 2006-10-27 2009-07-15 더 보오드 오브 트러스티스 오브 더 유니버시티 오브 일리노이즈 Devices and methods for pattern generation by ink lithography
KR20100033560A (en) * 2008-09-22 2010-03-31 삼성전자주식회사 Manufacturing method of mold for nano imprint and pattern forming method using the mold for nano imprint
KR20100132282A (en) 2009-06-09 2010-12-17 한국기계연구원 Method for fabricating nanoparticle layer and method for preparing nano imprinting stamp using the same
JP2013042148A (en) * 2012-09-18 2013-02-28 Bondtech Inc Transfer method and transfer device
KR101246800B1 (en) * 2007-11-08 2013-03-26 가부시키가이샤 아루박 Bonding substrate manufacturing apparatus and bonding substrate manufacturing method
KR101355504B1 (en) * 2006-11-29 2014-01-29 엘아이지에이디피 주식회사 Diffusion tool and pattern forming appratus
KR20160116626A (en) * 2015-03-30 2016-10-10 김국겸 Mounting Apparatus for Optical Devices

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090077836A (en) * 2006-10-27 2009-07-15 더 보오드 오브 트러스티스 오브 더 유니버시티 오브 일리노이즈 Devices and methods for pattern generation by ink lithography
KR101355504B1 (en) * 2006-11-29 2014-01-29 엘아이지에이디피 주식회사 Diffusion tool and pattern forming appratus
KR101246800B1 (en) * 2007-11-08 2013-03-26 가부시키가이샤 아루박 Bonding substrate manufacturing apparatus and bonding substrate manufacturing method
KR20100033560A (en) * 2008-09-22 2010-03-31 삼성전자주식회사 Manufacturing method of mold for nano imprint and pattern forming method using the mold for nano imprint
KR20100132282A (en) 2009-06-09 2010-12-17 한국기계연구원 Method for fabricating nanoparticle layer and method for preparing nano imprinting stamp using the same
JP2013042148A (en) * 2012-09-18 2013-02-28 Bondtech Inc Transfer method and transfer device
KR20160116626A (en) * 2015-03-30 2016-10-10 김국겸 Mounting Apparatus for Optical Devices

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