KR101885989B1 - Plating rack - Google Patents

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KR101885989B1
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이효민
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(주)진일테크
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    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • C25D17/08—Supporting racks, i.e. not for suspending

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Abstract

Disclosed is a plating rack capable of discharging a plating solution remaining in a groove after a plating process. According to the present invention, the plating rack comprises a frame structure, a voltage application structure, an inclination adjustment structure, and a holder. The frame structure comprises: first and second vertical supporters extended in a vertical direction and spaced apart from each other; a first horizontal supporter connecting the upper end parts of the first and second vertical supporters, and having a first guide hole formed at a central part; a second horizontal supporter to connect the lower end parts of the first and second vertical supporters; and a guide supporter placed between the first and second horizontal supporters, coupling both side end parts to the first and second vertical supporters, and having a second guide through-hole formed at a central part. First and second voltage application structures are coupled to the first horizontal supporter to be spaced apart from each other with the first guide through-hole interposed therebetween, and include first and second voltage application units to receive external voltage. The inclination adjustment structure vertically reciprocates with respect to the frame structure, and comprises: a vertical extended part penetrating the first and second guide through-holes; a horizontal extended part coupled to the upper end part of the vertical extended part on the upper part of the first horizontal supporter and extended in a first horizontal direction; and first and second coupling units formed on both side end parts of the horizontal extended part, and coupled to the first and second voltage application units to be able to vertically reciprocate. The holder is coupled to the first and second vertical supporters, and the vertical extended part, and supports a plated object.

Description

도금용 래크{PLATING RACK}Plating Rack {PLATING RACK}

본 발명은 피도금물에 대한 전기 도금이 가능한 도금용 래크에 관한 것이다.The present invention relates to a plating rack capable of electroplating with respect to an object to be plated.

일반적으로 전기도금에는 배럴 방식과 래크 방식이 있다. Generally, electroplating has a barrel type and a rack type.

배럴 방식은 통전과 통액을 위해 다수의 구멍이 형성된 원통형 배럴에 피도금물들을 대량으로 투입한 후 이 배럴을 도금조에 담근 상태에서 이를 서서히 회전시키면서 도금하는 도금방식이다. 배럴방식은 피도금물의 대량가공방식으로 가공비가 싼 이점은 있으나 도금액의 전류밀도가 낮고 배럴 내에서 피도금물들이 서로 접촉하면서 도금되기 때문에 비교적 도금품질이 떨어지는 단점이 있다.The barrel method is a plating method in which a large number of objects to be charged are placed in a cylindrical barrel having a plurality of holes for energizing and passing through, and then the object is slowly rotated while being immersed in the plating vessel. The barrel method has the advantage of a low processing cost due to the mass processing method of the object to be plated, but the current density of the plating liquid is low and the objects to be plated in the barrel are plated with each other.

래크 방식은 피도금물을 흔히 '래크(rack)'라고 불리는 도금용 래크에 걸어서 도금처리하는 것으로, 이러한 래크방식은 피도금물을 래크에 건 후 래크를 도금조에 걸어놓고 도금작업을 하기 때문에 피도금물 사이에 일정 간격이 유지되어 도금품질이 우수한 장점이 있다.In the rack method, the object to be plated is plated by hanging it on a plating rack, which is often called a "rack." In such a rack method, since plating is carried out by hanging the rack on the rack, There is an advantage in that the plating quality is excellent because a constant interval is maintained between the plating materials.

다만, 래크 방식의 경우, 보다 많은 피도금물을 한 번에 도금하여 생산성을 향상하면서 동시에 도금 품질이 저하되는 것을 방지하는 기술의 개발이 꾸준히 요구되고 있다.However, in the case of the rack method, there is a continuing need to develop a technique for improving the productivity by simultaneously plating more objects to be plated at the same time and preventing the deterioration of the plating quality.

본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로서, 본 발명의 목적은 도금액이 잔류할 수 있는 홈을 구비하는 피도금물로부터 도금 공정 후 홈 내부에 잔류하는 도금액을 배출시킬 수 있는 도금용 래크를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a plating rack capable of discharging a plating solution remaining in grooves after a plating process from an object to be plated, .

본 발명의 실시예에 따른 도금용 래크는 수직 방향으로 연장되고 상기 수직 방향과 직교하는 제1 수평 방향을 따라 이격된 제1 및 제2 수직 지지대들, 상기 제1 및 제2 수직 지지대들의 상부 단부들을 연결하고 중심부에 제1 가이드 관통홀이 형성된 제1 수평 지지대, 상기 제1 및 제2 수직 지지대들의 하부 단부들을 연결하는 제2 수평 지지대, 그리고 상기 제1 및 제2 수평 지지대들 사이에 위치하고 양쪽 단부가 상기 제1 및 제2 수직 지지대들에 결합되며 중심부에 제2 가이드 관통홀이 형성된 가이드 지지대를 구비하는 프레임 구조; 상기 제1 가이드 관통홀을 사이에 두고 서로 이격되도록 상기 제1 수평 지지대에 결합되고, 상기 수직 방향으로 연장되며, 외부 전압인 인가되는 제1 및 제2 전압인가부를 구비하는 전압인가 구조; 상기 제1 가이드 관통홀 및 상기 제2 가이드 관통홀을 관통하는 수직 연장부, 상기 제1 수평 지지대의 상부에서 상기 수직 연장부의 상부 단부에 결합되고 상기 제1 수평 방향으로 연장된 수평 연장부 그리고 상기 수평 연장부의 양쪽 단부에 각각 형성되고 상기 수직 방향으로 왕복 이동 가능하게 상기 제1 전압인가부 및 상기 제2 전압인가부에 각각 결합된 제1 및 제2 체결부를 구비하고, 상기 프레임 구조에 대해 상기 수직 방향으로 왕복 이동 가능한 기울기 조절 구조; 및 상기 제1 수직 지지대, 상기 제2 수직 지지대 및 상기 수직 연장부에 결합되고 피도금물을 지지하는 거치대를 포함한다. The plating rack according to an embodiment of the present invention includes first and second vertical supports extending in a vertical direction and spaced apart from each other in a first horizontal direction perpendicular to the vertical direction, upper ends of the first and second vertical supports And a second horizontal support rod connecting the lower ends of the first and second vertical support rods, and a second horizontal support rods located between the first and second horizontal supports, A frame structure having an end portion coupled to the first and second vertical supports and a guide support having a second guide through hole at a central portion thereof; And a first voltage application unit coupled to the first horizontal support unit to be spaced apart from each other with the first guide through hole interposed therebetween, the first and second voltage application units extending in the vertical direction and being applied with an external voltage; A vertical extension extending through the first guide through hole and the second guide through hole, a horizontal extension coupled to an upper end of the vertical extension at an upper portion of the first horizontal support and extending in the first horizontal direction, And first and second fastening portions respectively formed at both ends of the horizontal extending portion and coupled to the first voltage applying portion and the second voltage applying portion so as to be reciprocally movable in the vertical direction, A tilt adjustment structure capable of reciprocating in a vertical direction; And a cradle coupled to the first vertical support, the second vertical support, and the vertical extension and supporting the object to be plated.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 수평 지지대의 상부면에는 상기 수직 연장부의 단부가 삽입되는 수용홈이 형성될 수 있다. In one embodiment, the upper surface of the second horizontal support may be formed with a receiving groove into which the end of the vertical extension is inserted.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 체결부는 상기 제1 전압인가부가 관통하는 제1 체결홀을 구비하고, 상기 제2 체결부는 상기 제2 전압인가부가 관통하는 제2 체결홀을 구비할 수 있다. In an exemplary embodiment, the first fastening portion may include a first fastening hole through which the first voltage applying portion passes, and the second fastening portion may include a second fastening hole through which the second voltage applying portion passes.

일 실시예에 있어서, 상기 거치대는 상기 제1 수직 지지대로부터 상기 수직 연장부 방향으로 돌출된 제1 거치대, 상기 제2 수직 지지대로부터 상기 수직 연장부 방향으로 돌출된 제2 거치대, 상기 수직 연장부의 제1 측면으로부터 상기 제1 수직 지지대 방향으로 돌출된 제3 거치대 및 상기 수직 연장부의 제2 측면으로부터 상기 제2 수직 지지대 방향으로 돌출된 제4 거치대를 포함할 수 있고, 이 경우, 상기 제1 및 제3 거치대는 제1 피도금물의 서로 이격된 부분을 지지하고 상기 제2 및 제4 거치대는 제2 피도금물의 서로 이격된 부분을 지지할 수 있다. In one embodiment, the cradle includes a first cradle protruding from the first vertical support in the direction of the vertical extension portion, a second cradle protruding from the second vertical support in the direction of the vertical extension, And a fourth cradle protruding from the first side of the vertical extension part toward the first vertical support direction and the fourth cradle protruding from the second side of the vertical extension part toward the second vertical support direction, The third stand supports the mutually spaced portions of the first objects to be plated, and the second and fourth holders can support the mutually spaced portions of the second object to be plated.

일 실시예에 있어서, 상기 도금용 래크는 상기 제1 피도금물의 상부에 위치하여 도금액이 상기 제1 피도금물에 도달하는 것을 방지하는 제1 가림막 구조 및 상기 제2 피도금물의 상부에 위치하여 도금액이 상기 제2 피도금물에 도달하는 것을 방지하는 제2 가림막 구조를 구비하는 가림막 구조를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 및 제2 가림막 구조 각각은 제2 수평 방향으로의 직사각형 형상의 가림막 그리고 상기 가림막의 상기 제1 수평 방향으로의 양쪽 단부들에 각각 결합되고, 상기 제1 및 제2 수직 지지대 중 하나와 상기 수직 연장부에 각각 결합되는 제1 및 제2 결합고리를 포함할 수 있다.In one embodiment, the plating rack is disposed on the top of the first to-be-plated object to prevent the plating liquid from reaching the first object to be plated, and a second screen structure on the top of the second object to be plated And a second thin film structure for preventing the plating liquid from reaching the second target object to be plated. For example, each of the first and second shroud structure structures is coupled to both ends of the shading film in a rectangular shape in the second horizontal direction and to the first horizontal direction of the shroud film, And first and second engagement rings coupled to one of the supports and the vertical extension, respectively.

본 발명에 따른 도금용 래크는 상기 프레임 구조에 대해 수직 방향을 따라 상대적으로 왕복이동 가능한 기울기 조절 구조를 구비하고, 이를 이용하여 피도금물을 도금 공정 후 기울일 수 있으으모, 피도금물의 홈 내부에 잔류하는 도금액이 외부로 배출시킬 수 있다. The plating rack according to the present invention is provided with a tilt adjusting structure capable of relatively reciprocating movement along the vertical direction with respect to the frame structure, and the object to be plated can be tilted after the plating process using the tilt adjusting structure, The plating liquid remaining in the plating liquid can be discharged to the outside.

그리고 본 발명에 따른 도금용 래크는 가림막 구조를 구비하므로, 도금 공정 후 이동시 프레임 구조로부터 떨어지는 도금액이 피도금물에 도달하는 것을 차단할 수 있다. Since the plating rack according to the present invention has a thin film structure, it is possible to prevent the plating liquid falling from the frame structure from reaching the object to be plated upon movement after the plating process.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도금용 래크를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시된 가림막 구조의 상부면도 및 정면도이다. 1 is a sectional view for explaining a plating rack according to an embodiment of the present invention.
2A and 2B are a top view and a front view of the shroud structure shown in FIG.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태로 한정하려는 것은 아니며, 본 발명은 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대 또는 축소하여 도시한 것이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is capable of various modifications and various forms, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It is to be understood, however, that the intention is not to limit the invention to the particular forms disclosed, but on the contrary, the intention is to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown enlarged or reduced from the actual size for the sake of clarity of the present invention.

“제1, 제2”등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms " first, second, " and the like can be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로서 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, the terms "comprises", "comprising", or "having" are used to specify that there is a stated feature, step, operation, component, It is to be understood that the foregoing does not preclude the presence or addition of one or more other features, steps, operations, elements, parts or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도금용 래크를 설명하기 위한 단면도이고, 도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시된 가림막 구조의 상부면도 및 정면도이다. FIG. 1 is a sectional view for explaining a plating rack according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 (a) and 2 (b) are a top view and a front view of the thin film structure shown in FIG.

도 1, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 도금용 래크(100)는 프레임 구조(110), 전압인가 구조(120), 기울기 조절 구조(130), 거치대(140) 및 가림막 구조(150)를 포함할 수 있고, 도금조(미도시) 내에서 홈을 구비하는 피도금물(미도시)을 거치하여 이들에 대해 전기 도금을 수행할 수 있다.1, 2A and 2B, a plating rack 100 according to an embodiment of the present invention includes a frame structure 110, a voltage applying structure 120, a tilt adjusting structure 130, a holder 140, And a thin film structure 150, and electroplating can be performed on the plating object (not shown) provided with grooves in a plating bath (not shown).

상기 프레임 구조(110)는 수직 방향(Z)으로 연장되고 상기 수직 방향(Z)과 직교하는 제1 수평 방향(X)을 따라 이격된 제1 및 제2 수직 지지대들(111a, 111b), 상기 제1 및 제2 수직 지지대들(111a, 111b)의 상부 단부들 및 하부 단부들을 각각 연결하도록 상기 제1 수평 방향(X)으로 연장된 제1 및 제2 수평 지지대들(112a, 112b) 그리고 상기 제1 및 제2 수평 지지대들 사이에 위치하고 상기 제1 수평 방향(X)으로 연장되며 양쪽 단부가 상기 제1 및 제2 수직 지지대들에 결합된 가이드 지지대(113)를 포함할 수 있다. The frame structure 110 includes first and second vertical supports 111a and 111b extending in a vertical direction Z and spaced along a first horizontal direction X orthogonal to the vertical direction Z, First and second horizontal supports 112a and 112b extending in the first horizontal direction X to connect upper ends and lower ends of the first and second vertical supports 111a and 111b, And a guide support 113 positioned between the first and second horizontal supports and extending in the first horizontal direction X and having opposite ends coupled to the first and second vertical supports.

상기 제1 및 제2 수직 지지대들(111a, 111b) 그리고 상기 제1 및 제2 수평 지지대들(112a, 112b) 각각은 단면이 원형, 다각형 등의 형상을 갖고 일방향으로 길게 연장된 막대 형상을 가질 수 있고, 금속, 합금 등의 전도성 소재로 형성되며, 용접 등의 방법으로 결합되어 사각형 틀 구조를 형성할 수 있다. 한편, 상기 제1 및 제2 수평 지지대들(112a, 112b) 중 상부에 위치하는 제1 수평 지지대(112a)의 중심부에는 상기 기울기 조절 구조(130) 중 수직 연장부(131)가 삽입될 수 있는 제1 가이드 관통홀이 형성될 수 있다. Each of the first and second vertical supports 111a and 111b and the first and second horizontal supports 112a and 112b may have a rod shape having a circular cross section or a polygonal cross section and extending in one direction And may be formed of a conductive material such as a metal or an alloy, and may be joined by a method such as welding to form a rectangular frame structure. The vertical extension part 131 of the tilt adjustment structure 130 may be inserted into the center of the first horizontal support part 112a positioned above the first and second horizontal support parts 112a and 112b A first guide through hole may be formed.

상기 가이드 지지대(113)는 상기 제1 수평 방향(X)으로 길게 연장된 막대 형상을 가질 수 있고, 금속, 합금 등의 전도성 소재로 형성되며, 양쪽 단부가 용접 등의 방법으로 상기 제1 및 제2 수직 지지대들(112a, 112b)에 결합될 수 있다. 그리고 가이드 지지대(113)의 중심부에는 상기 기울기 조절 구조(130) 중 수직 연장부(131)가 삽입될 수 있는 제2 가이드 관통홀이 형성될 수 있다. The guide support 113 may have a rod shape elongated in the first horizontal direction X and may be formed of a conductive material such as a metal or an alloy. 2 vertical supports 112a, 112b. A second guide through hole may be formed at the center of the guide support 113 to allow the vertical extension 131 of the tilt adjustment structure 130 to be inserted.

한편, 상기 제2 수평 지지대(112b)의 상부면에는 상기 기울기 조절 구조(130) 중 수직 연장부(131)의 하부 단부가 삽입될 수 있는 수용홈이 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 프레임 구조와 상기 기울기 조절 구조(130)의 전기적 접촉 특성을 더욱 향상시킬 수 있다. On the upper surface of the second horizontal support part 112b, a receiving groove into which the lower end of the vertical extension part 131 of the tilt adjustment structure 130 can be inserted may be formed. In this case, the electrical contact characteristics of the frame structure and the tilt adjusting structure 130 can be further improved.

상기 전압인가 구조(120)는 상기 제1 가이드 관통홀을 사이에 두고 서로 이격되도록 상기 제1 수평 지지대(112a)에 결합되고, 상기 수직 방향(Z)으로 연장되며, 금속, 합금 등의 전도성 소재로 형성된 제1 및 제2 전압인가부(121, 122)를 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2 전압인가부(121, 122) 각각은 용접 등의 방법으로 상기 제1 수평 지지대(112a)에 결합될 수 있고, 단면이 원형, 다각형 등의 형상을 가질 수 있으며, 외부 도금장치에 거치될 수 있도록 단부가 절곡될 수 있다. The voltage applying structure 120 is coupled to the first horizontal support part 112a so as to be spaced apart from each other with the first guide through hole interposed therebetween and extends in the vertical direction Z and is made of a conductive material such as metal, And the first and second voltage application units 121 and 122 may be formed of a metal material. Each of the first and second voltage application parts 121 and 122 may be coupled to the first horizontal support part 112a by welding or the like and may have a circular or polygonal cross section, The end can be bent to be mounted on the device.

상기 기울기 조절 구조(130)는 수직 연장부(131), 수평 연장부(132) 및 체결부(133a, 133b)를 포함할 수 있다. The tilt adjustment structure 130 may include a vertical extension 131, a horizontal extension 132, and fasteners 133a and 133b.

상기 수직 연장부(131)는 상기 수직 방향(Z)으로 연장된 막대 형상을 가질 수 있고, 상기 수직 방향(Z)을 따라 왕복 이동 가능하도록 상기 제1 수평 지지대(112a)의 제1 가이드 관통홀 및 상기 가이드 지지대(113)의 제2 가이드 관통홀을 관통하며, 전도성 소재로 형성될 수 있다. The vertical extension part 131 may have a rod shape extending in the vertical direction Z and may have a first guide through hole 112a of the first horizontal support part 112a so as to reciprocate along the vertical direction Z, And a second guide through hole of the guide support 113, and may be formed of a conductive material.

상기 수평 연장부(132)는 상기 제1 수평 지지대(112a)의 상부에서 상기 수직 연장부(131)의 상부 단부에 결합되고, 상기 제1 및 제2 전압인가부(121, 122) 사이에서 상기 제1 수평 방향(X)으로 연장될 수 있다. The horizontal extension 132 is coupled to the upper end of the vertical extension 131 at the top of the first horizontal support 112a and between the first and second voltage application units 121 and 122, May extend in the first horizontal direction (X).

상기 체결부(133a, 133b)는 상기 수평 연장부(132)의 양쪽 단부에 각각 결합된 제1 체결부(133a) 및 제2 체결부(133b)를 포함할 수 있다. 상기 제1 체결부(133a) 및 상기 제2 체결부(133b)는 상기 수직 방향으로 이동 가능하게 상기 제1 전압인가부(121) 및 상기 제2 전압인가부(122)에 각각 결합될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 제1 체결부(133a)에는 상기 제1 전압인가부(121)가 관통하는 제1 체결홀이 형성될 수 있고, 상기 제2 체결부(133b)에는 상기 제2 전압인가부(122)가 관통하는 제2 체결홀이 형성될 수 있다. The fastening portions 133a and 133b may include a first fastening portion 133a and a second fastening portion 133b coupled to both ends of the horizontal extension portion 132, respectively. The first coupling part 133a and the second coupling part 133b may be coupled to the first voltage applying part 121 and the second voltage applying part 122 so as to be movable in the vertical direction . In one embodiment, the first fastening portion 133a may be formed with a first fastening hole through which the first voltage applying portion 121 passes, and the second fastening portion 133b may be provided with the second voltage A second fastening hole through which the applying part 122 passes may be formed.

상기와 같은 기울기 조절 구조(130)의 경우, 상기 제1 및 제2 체결부(133a, 133b)가 상기 제1 및 제2 전압인가부(121, 122)에 접촉한 상태에서 상기 수직 방향(Z)을 따라 왕복 이동 가능하므로, 상기 수직 연결부(131) 역시 상기 수직 방향(Z)을 따라 왕복 이동 가능할 뿐만 아니라 상기 전압인가 구조(120)로부터 외부 전원을 공급받을 수 있다. In the case of the tilt adjusting structure 130 as described above, the first and second coupling parts 133a and 133b are in contact with the first and second voltage application parts 121 and 122 in the vertical direction Z The vertical connection part 131 can be reciprocated along the vertical direction Z as well as receive external power from the voltage application structure 120. [

상기 거치대(140)는 전기 전도성 소재로 형성될 수 있고, 상기 제1 수직 지지대(111a), 상기 제2 수직 지지대(111b) 및 상기 기울기 조절 구조(130)의 수직 연장부(131)에 결합될 수 있다. 일 실시예로, 상기 거치대(140)는 상기 제1 수직 지지대(111a)로부터 상기 수직 연장부(131) 방향으로 돌출된 제1 거치대(141), 상기 제2 수직 지지대(111b)로부터 상기 수직 연장부(131) 방향으로 돌출된 제2 거치대(142), 상기 수직 연장부(131)의 제1 측면으로부터 상기 제1 수직 지지대(111a) 방향으로 돌출된 제3 거치대(143) 및 상기 수직 연장부(131)의 제2 측면으로부터 상기 제2 수직 지지대(111b) 방향으로 돌출된 제4 거치대(144)를 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제3 거치대(141, 143)는 제1 피도금물(미도시)의 서로 이격된 부분을 지지할 수 있고, 상기 제2 및 제4 거치대(142, 144)는 제2 피도금물(미도시)의 서로 이격된 부분을 지지할 수 있다. 즉, 상기 제1 거치대(141)는 상기 제3 거치대(143)와 함께 상기 제1 피도금물을 지지할 수 있고, 상기 제2 거치대(142)는 상기 제4 거치대(144)와 함께 상기 제2 피도금물을 지지할 수 있다. 상기 제1 및 제2 피도금물을 지지할 수 있다면, 상기 제1 내지 제4 거치대(141, 142, 143, 144)의 구조는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상기 제1 내지 제4 거치대(141, 142, 143, 144) 각각은 단부가 상부 방향으로 절곡된 구조를 가질 수 있다. The cradle 140 may be formed of an electrically conductive material and may be coupled to the first vertical support 111a, the second vertical support 111b and the vertical extension 131 of the tilt adjustment structure 130 . In one embodiment, the cradle 140 includes a first cradle 141 protruding from the first vertical support 111a in the direction of the vertical extension 131, a second cradle 141 extending from the second vertical cradle 111b, A third cradle 143 protruding from the first side of the vertical extension 131 toward the first vertical support 111a and a third cradle 143 protruding from the first side of the vertical extension 131, And a fourth cradle 144 protruding from the second side of the second vertical support 131 toward the second vertical support 111b. The first and third holders 141 and 143 can support mutually spaced portions of the first object to be plucked (not shown), and the second and fourth holders 142 and 144 can support the second object (Not shown) can be supported. That is, the first holder 141 can support the first object to be plated together with the third holder 143, and the second holder 142 can hold the fourth object 143 together with the fourth holder 144, 2 It can support the casting. If the first and second objects to be plated can be supported, the structures of the first to fourth cradles 141, 142, 143 and 144 are not particularly limited. For example, each of the first to fourth cradles 141, 142, 143, and 144 may have a structure in which the end portion is bent upward.

상기 가림막 구조(150)는 도금 공정 후 이동시 상기 프레임 구조로부터 떨어지는 도금액이 피도금물에 도달하여 피도금물에 얼룩이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 상기 가림막 구조(150)는 상기 제1 거치대(141)와 상기 제3 거치대(143)에 거치된 상기 제1 피도금물의 상부에 위치하여 도금액이 상기 제1 피도금물에 도달하는 것을 방지하는 제1 가림막 구조 및 상기 제2 거치대(142)와 상기 제4 거치대(144)에 거치된 상기 제2 피도금물의 상부에 위치하여 도금액이 상기 제2 피도금물에 도달하는 것을 방지하는 제2 가림막 구조를 포함할 수 있다. 한편, 상기 제1 내지 제4 거치대(141, 142, 143, 144)가 각각 복수개로 형성된 경우, 상기 제1 가림막 구조 및 제2 가림막 구조도 도 1에 도시된 바와 같이 각각 복수로 배치될 수 있다.The shroud structure 150 can prevent the plating liquid falling from the frame structure from reaching the object to be plated when the substrate is moved after the plating process, thereby causing unevenness in the object to be plated. The shroud structure 150 is located on the first placing table 141 and the third placing table 143 so as to prevent the plating solution from reaching the first to-be-plated object The second plating layer 142 and the second plating layer 142 are positioned on the first plating layer 142 and the second plating layer 142 mounted on the second base 142 and the fourth base 144 to prevent the plating solution from reaching the second plating layer. And may include a thin film structure. When the first to fourth mounts 141, 142, 143, and 144 are formed in a plurality, respectively, the first and second screens may be arranged in a plurality as shown in FIG. 1 .

일 실시예에 있어서, 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 상기 가림막 구조(150)는 제2 수평 방향(Y)으로의 일정한 폭과 제1 수평 방향(X)으로의 일정한 길이를 가진 직사각형 형상의 가림막(151) 및 상기 가림막(151)의 상기 제1 수평 방향(X)으로의 양쪽 단부들에 각각 결합되고, 상기 제1 및 제2 수직 지지대(111a, 111b) 중 하나와 상기 수직 연장부(131)에 각각 결합되는 제1 및 제2 결합고리(152a, 152b)를 포함할 수 있고, 상기 제1 및 제2 결합고리(152a, 152b)에 의해 상기 제1 및 제2 수직 지지대(111a, 111b) 중 하나와 상기 수직 연장부(131)에 착탈 가능하게 결합될 수 있다. 상기 제1 및 제2 수직 지지대(111a, 111b) 중 하나 및 상기 수직 연장부(131)와의 착탈을 용이하게 하기 위해서, 상기 제1 및 제2 결합고리(152a, 152b)는 일측이 개방된 고리 형상을 갖고, 탄성이 있는 고분자 재질로 형성될 수 있다. 한편, 상기 가림막(151)의 폭은 상기 제1 및 제2 피도금물의 상기 제2 수평 방향(Y)으로의 폭보다 큰 것이 바람직하고, 상기 제1 및 제2 수직 지지대(111a, 111b) 중 하나 및 상기 수직 연장부(131)에 결합된 상태에서 상기 가림막(151)이 상부로 볼록한 곡면을 형성하도록, 상기 제1 및 제2 수직 지지대(111a, 111b) 중 하나 및 상기 수직 연장부(131)에 결합되기 전의 상기 가림막(151)의 길이는 상기 제1 및 제2 수직 지지대(111a, 111b) 중 하나와 상기 수직 연장부(131) 사이의 이격 간격보다 큰 것이 바람직하다. 도금액이 피도금물에 떨어지는 것을 방지할 수 있다면, 상기 가림막(151)의 재질은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상기 가림막(151)은 고분자 소재로 형성될 수 있다. 2A and 2B, the shroud structure 150 may include a rectangular structure having a constant width in the second horizontal direction Y and a constant length in the first horizontal direction X, Shaped shielding film 151 and both of the first and second vertical supports 111a and 111b in the first horizontal direction X of the shielding film 151, And first and second coupling rings 152a and 152b coupled to the first and second vertical supports 150a and 152b by the first and second coupling rings 152a and 152b, 111a, and 111b and the vertical extension 131, respectively. The first and second coupling rings 152a and 152b are formed in a ring shape having one side opened to facilitate attachment and detachment of one of the first and second vertical supports 111a and 111b and the vertical extension 131, And may be formed of an elastic polymeric material. The width of the curled elastic member 151 is preferably larger than the width of the first and second objects to be plated in the second horizontal direction Y. The first and second vertical supports 111a, And one of the first and second vertical supports 111a and 111b and the vertical extension portion 111a are formed so as to form a convex curved surface with the curled elastic member 151 being coupled to one of the vertical extension portions 131, The length of the curled elastic member 151 is preferably larger than the distance between one of the first and second vertical supports 111a and 111b and the vertical extension 131. If the plating liquid can be prevented from falling on the object to be plated, the material of the curtain film 151 is not particularly limited. For example, the curled film 151 may be formed of a polymer material.

일반적으로 피도금물을 도금액에 침지하여 도금 공정을 수행하는 전해 도금에 있어서, 피도금물에 도금액이 수용될 수 있는 홈이 형성된 경우에는 도금 공정 후에도 상기 피도금물의 홈 내부에 도금액이 잔류하여 이 부분에 도금 불량이 발생할 수 있다. In general, in the electroplating for carrying out the plating process by immersing the object to be plated in the plating liquid, if the object to be plated has a groove for receiving the plating liquid, the plating liquid remains in the groove of the object to be plated even after the plating process Plating failure may occur at this portion.

상기와 같은 도금 공정 후 피도금물에 잔류하는 도금액에 의한 도금 불량의 문제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 도금용 래크(100)는 상기 프레임 구조(110)에 대해 수직 방향을 따라 상대적으로 왕복이동 가능한 상기 기울기 조절 구조(130)를 구비한다. 이 경우, 상기 기울기 조절 구조(130)를 상기 프레임 구조(110)에 대해 상부 방향으로 이동시킨 경우, 상기 제1 및 제3 거치대(141, 143)에 의해 지지된 제1 피도금물 및 상기 제2 및 제4 거치대(142, 144)에 의해 지지된 제2 피도금물이 기울어지게 되어 상기 홈 내부에 잔류하는 도금액이 외부로 배출될 수 있다. In order to solve the problem of plating failure due to the plating solution remaining in the object to be plated after the plating process, the plating rack 100 according to the present invention is relatively reciprocated along the vertical direction with respect to the frame structure 110 And a movable tilt adjustment structure (130). In this case, when the tilt adjusting structure 130 is moved upward with respect to the frame structure 110, the first object to be plated supported by the first and third cradles 141 and 143, 2 and the fourth mounts 142, 144 are tilted so that the plating liquid remaining in the grooves can be discharged to the outside.

한편, 도금 공정 수행 후 도금조로부터 인출된 피도금물이 도금용 래크에 거치된 상태에서 이동하는 경우, 도금용 래크에 잔류하는 도금액이 피도금물로 떨어져 피도금물의 도금막에 얼룩이 발생하는 등의 도금 불량이 발생할 수 있다.On the other hand, when the object to be plucked from the plating vessel after the plating process is moved while being mounted on the plating rack, the plating liquid remaining on the plating rack falls into the object to be plated, causing unevenness in the plated film of the object to be plated Etc. may occur.

상기와 같은 도금 공정 후 도금용 래크로부터 떨어지는 도금액에 의한 얼룩 발생 등의 도금 불량 문제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 도금용 래크(100)는 가림막 구조(150)를 포함한다. 이 경우, 상기 가림막 구조(150)가 도금 공정 후 이동시 프레임 구조(110)로부터 떨어지는 도금액이 피도금물에 도달하는 것을 차단할 수 있다. The plating rack 100 according to the present invention includes a shroud structure 150 in order to solve the problem of plating defects such as occurrence of stain caused by a plating solution falling from a rack for plating after the plating process. In this case, it is possible to prevent the plating solution falling from the frame structure 110 from reaching the object to be plated when the curtain film structure 150 moves after the plating process.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims. It can be understood that it is possible.

100: 도금용 래크 110: 프레임 구조
120: 전압인가 구조 130: 기울기 조절 구조
140: 거치대 150: 가림막 구조100: plating rack 110: frame structure
120: voltage applying structure 130: tilt adjusting structure
140: Cradle 150: Cladding structure

Claims (6)

수직 방향으로 연장되고 상기 수직 방향과 직교하는 제1 수평 방향을 따라 이격된 제1 및 제2 수직 지지대들, 상기 제1 및 제2 수직 지지대들의 상부 단부들을 연결하고 중심부에 제1 가이드 관통홀이 형성된 제1 수평 지지대, 상기 제1 및 제2 수직 지지대들의 하부 단부들을 연결하는 제2 수평 지지대, 그리고 상기 제1 및 제2 수평 지지대들 사이에 위치하고 양쪽 단부가 상기 제1 및 제2 수직 지지대들에 결합되며 중심부에 제2 가이드 관통홀이 형성된 가이드 지지대를 구비하는 프레임 구조;
상기 제1 가이드 관통홀을 사이에 두고 서로 이격되도록 상기 제1 수평 지지대에 결합되고, 상기 수직 방향으로 연장되며, 외부 전압인 인가되는 제1 및 제2 전압인가부를 구비하는 전압인가 구조;
상기 제1 가이드 관통홀 및 상기 제2 가이드 관통홀을 관통하는 수직 연장부, 상기 제1 수평 지지대의 상부에서 상기 수직 연장부의 상부 단부에 결합되고 상기 제1 수평 방향으로 연장된 수평 연장부 그리고 상기 수평 연장부의 양쪽 단부에 각각 형성되고 상기 수직 방향으로 왕복 이동 가능하게 상기 제1 전압인가부 및 상기 제2 전압인가부에 각각 결합된 제1 및 제2 체결부를 구비하고, 상기 프레임 구조에 대해 상기 수직 방향으로 왕복 이동 가능한 기울기 조절 구조; 및
상기 제1 수직 지지대, 상기 제2 수직 지지대 및 상기 수직 연장부에 결합되고 피도금물을 지지하는 거치대를 포함하고,
상기 제1 체결부는 상기 제1 전압인가부가 관통하는 제1 체결홀을 구비하여 상기 제1 체결홀을 통해 상기 제1 전압인가부와 결합되고, 상기 제2 체결부는 상기 제2 전압인가부가 관통하는 제2 체결홀을 구비하여 상기 제2 체결홀을 통해 상기 제2 전압인가부와 결합되고,
상기 기울기 조절 구조는 상기 제1 체결홀 및 제2 체결홀을 통해 상기 제1 및 제2 체결부가 상기 제1 및 제2 전압인가부에 접촉한 상태에서 상기 수직 방향으로 왕복 이동 가능한 것을 특징으로 하는, 도금용 래크.First and second vertical supports extending in a vertical direction and spaced apart from each other along a first horizontal direction orthogonal to the vertical direction, first end portions of the first and second vertical supports connected to each other, A second horizontal support that connects the lower ends of the first and second vertical supports and a second horizontal support that is positioned between the first and second horizontal supports and has both ends connected to the first and second vertical supports And a guide support having a second guide through-hole formed in the center thereof;
And a first voltage application unit coupled to the first horizontal support unit to be spaced apart from each other with the first guide through hole interposed therebetween, the first and second voltage application units extending in the vertical direction and being applied with an external voltage;
A vertical extension extending through the first guide through hole and the second guide through hole, a horizontal extension coupled to an upper end of the vertical extension at an upper portion of the first horizontal support and extending in the first horizontal direction, And first and second fastening portions respectively formed at both ends of the horizontal extending portion and coupled to the first voltage applying portion and the second voltage applying portion so as to be reciprocally movable in the vertical direction, A tilt adjustment structure capable of reciprocating in a vertical direction; And
And a cradle coupled to the first vertical support, the second vertical support, and the vertical extension for supporting the object to be plated,
The first fastening part has a first fastening hole through which the first voltage applying part passes and is coupled with the first voltage applying part through the first fastening hole, and the second fastening part is connected to the first voltage applying part through the second voltage applying part And a second coupling hole, which is coupled to the second voltage application unit through the second coupling hole,
Wherein the tilt adjusting structure is reciprocally movable in the vertical direction in a state where the first and second fastening portions are in contact with the first and second voltage applying portions through the first fastening hole and the second fastening hole, , Plating rack. 제1항에 있어서,
상기 제2 수평 지지대의 상부면에는 상기 수직 연장부의 단부가 삽입되는 수용홈이 형성된 것을 특징으로 하는, 도금용 래크.The method according to claim 1,
And the upper surface of the second horizontal support is formed with a receiving groove into which the end of the vertical extending part is inserted. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 거치대는 상기 제1 수직 지지대로부터 상기 수직 연장부 방향으로 돌출된 제1 거치대, 상기 제2 수직 지지대로부터 상기 수직 연장부 방향으로 돌출된 제2 거치대, 상기 수직 연장부의 제1 측면으로부터 상기 제1 수직 지지대 방향으로 돌출된 제3 거치대 및 상기 수직 연장부의 제2 측면으로부터 상기 제2 수직 지지대 방향으로 돌출된 제4 거치대를 포함하고,
상기 제1 및 제3 거치대는 제1 피도금물의 서로 이격된 부분을 지지하고 상기 제2 및 제4 거치대는 제2 피도금물의 서로 이격된 부분을 지지하는 것을 특징으로 하는, 도금용 래크.The method according to claim 1,
Wherein the cradle includes a first cradle protruding from the first vertical support to the vertical extending portion, a second cradle protruding from the second vertical support to the vertical extending portion, A third cradle protruding in the vertical support direction and a fourth cradle protruding from the second side of the vertical extension in the direction of the second vertical support,
Characterized in that the first and third holders support mutually spaced portions of the first object to be plated and the second and fourth holders support mutually spaced portions of the second object to be plated, . 제1항에 있어서,
상기 제1 피도금물의 상부에 위치하여 도금액이 상기 제1 피도금물에 도달하는 것을 방지하는 제1 가림막 구조 및 상기 제2 피도금물의 상부에 위치하여 도금액이 상기 제2 피도금물에 도달하는 것을 방지하는 제2 가림막 구조를 구비하는 가림막 구조를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 도금용 래크.The method according to claim 1,
A first screen structure disposed at an upper portion of the first object to be plated to prevent the plating liquid from reaching the first object to be plated, and a second screen structure disposed at an upper portion of the second object to be plated, And a second shielding structure for preventing the shielding structure from reaching the shielding structure. 제5항에 있어서,
상기 제1 및 제2 가림막 구조 각각은 제2 수평 방향으로의 직사각형 형상의 가림막 그리고 상기 가림막의 상기 제1 수평 방향으로의 양쪽 단부들에 각각 결합되고, 상기 제1 및 제2 수직 지지대 중 하나와 상기 수직 연장부에 각각 결합되는 제1 및 제2 결합고리를 포함하는 것을 특징으로 하는, 도금용 래크.
6. The method of claim 5,
Wherein each of the first and second shielding structures is coupled to a rectangular shielding film in a second horizontal direction and to both ends of the shielding film in the first horizontal direction and is connected to one of the first and second vertical supports And first and second engagement rings coupled to the vertical extensions, respectively.
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