KR101867556B1 - 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치 - Google Patents

고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치 Download PDF

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KR101867556B1 KR1020160178403A KR20160178403A KR101867556B1 KR 101867556 B1 KR101867556 B1 KR 101867556B1 KR 1020160178403 A KR1020160178403 A KR 1020160178403A KR 20160178403 A KR20160178403 A KR 20160178403A KR 101867556 B1 KR101867556 B1 KR 101867556B1
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치는 습식 집진기로부터 배출된 집진수가 유입되는 디개싱타워, 그리고 디개싱타워로 유입되는 배기 가스를 토출하는 열풍로를 포함하고, 상기 배기 가스는 이산화탄소를 포함한다.
상기 디개싱타워는 몸체, 상기 몸체 내부에 위치하는 제1 월류부, 상기 제1 월류부 아래에 위치하고, 상기 제1 월류부와 이격되는 제1 집진수 흐름 유도부, 상기 제1 집진수 흐름 유도부 아래에 위치하고, 상기 제1 집진수 흐름 유도부와 이격되는 배수 유도판, 상기 배수 유도판 아래에 위치하고, 상기 배수 유도판과 이격되는 제2 집진수 흐름 유도부, 그리고 상기 제2 집진수 흐름 유도부 아래에 위치하고, 상기 상기 제2 집진수 흐름 유도부와 이격되는 제2 월류부를 포함한다.

Description

고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치{ACCESORY APPARATUS FOR CLEANING OF BLAST FURANCE GAS}
본 발명은 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 고로 공장에서 발생된 고로 가스(Blast Furance Gas, BFG)를 정제하기 위하여 건식 집진기(Dust Cather)에서 더스트(dust)를 제거한 다음, 습식 집진기(Bischoff Scrubber)에서 건식 집진기(Dust Cather)에서 미 제거된 더스트를 집진한다.
습식 집진기에서는 고로 가스에 함유된 더스트와 물이 섞인 형태의 집진수로 배출되고, 배출된 집진수는 디개싱타워(degassing tower)로 유입되어 집진수 내의 용존 가스가 분리된다. 디개싱타워에서 배출된 집진수는 시크너 폰드(thickener pond)에 집수되고, 시크너 폰드에 집수된 집진수는 소립자 더스트가 시크너 폰드 내에 침전되고, 더스트와 분리된 물은 급수조로 유입된 후, 다시 습식 집진기의 내부로 살수되어 재사용된다.
디개싱타워에서 배출되는 집진수의 pH 전하에 의해 더스트와 분리된 물의 순환 공정에서 펌프, 급수 배수관, 밸브 등의 결함이 발생하게 된다. 이에, 디개싱타워에서 배출되는 집진수의 pH를 조절하는 장치에 대해 많은 연구가 진행되고 있다.
본 발명은 집진수의 pH를 감소시킬 수 있는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치는 습식 집진기로부터 배출된 집진수가 유입되는 디개싱타워, 그리고 디개싱타워로 유입되는 배기 가스를 토출하는 열풍로를 포함하고, 상기 배기 가스는 이산화탄소를 포함한다.
상기 디개싱타워는 몸체, 상기 몸체 내부에 위치하는 제1 월류부, 상기 제1 월류부 아래에 위치하고, 상기 제1 월류부와 이격되는 제1 집진수 흐름 유도부, 상기 제1 집진수 흐름 유도부 아래에 위치하고, 상기 제1 집진수 흐름 유도부와 이격되는 배수 유도판, 상기 배수 유도판 아래에 위치하고, 상기 배수 유도판과 이격되는 제2 집진수 흐름 유도부, 그리고 상기 제2 집진수 흐름 유도부 아래에 위치하고, 상기 상기 제2 집진수 흐름 유도부와 이격되는 제2 월류부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치는 상기 디개싱타워에 상기 배기 가스를 투입하는 제1 배기 가스 투입 노즐 및 제2 배기 가스 투입 노즐을 더 포함할 수 있다.
상기 제1 배기 가스 투입 노즐은 상기 제1 집진수 흐름 유도부에 대응하며, 상기 몸체의 둘레를 따라 위치할 수 있다.
상기 제2 배기 가스 투입 노즐은 상기 제2 집진수 흐름 유도부에 대응하며, 상기 몸체의 둘레를 따라 위치할 수 있다.
상기 제1 월류부에는 상기 습식 집진기로부터 배출된 집진수가 유입되고, 상기 제1 월류부는 제1 원통부와 상기 제1 원통부의 하단에 부착되는 제1 플레이트를 포함할 수 있다.
상기 제1 집진수 흐름 유도부 및 상기 배수 유도판에는 상기 제1 월류부를 통과한 집진수가 유입되고, 상기 제1 집진수 흐름 유도부는 원뿔형 구조를 가질 수 있다.
상기 제1 집진수 흐름 유도부의 측면에서 상기 제1 월류부를 통과한 집진수와 상기 배기 가스에 포함된 상기 이산화탄소가 반응할 수 있다.
상기 배수 유도판은 상기 배수 유도판의 중앙 부분에 위치하는 배수구를 가질 수 있다.
상기 제2 집진수 흐름 유도부 및 상기 제2 월류부에는 상기 배수 유도판을 통과한 집진수가 유입되고, 상기 제2 집진수 흐름 유도부는 원뿔형 구조를 가지고, 상기 제2 월류부는 제2 원통부 및 상기 제2 원통부의 하단에 부착되는 제2 플레이트를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치는 상기 열풍로에서 토출된 배기 가스를 냉각하는 배기 가스 냉각기, 상기 배기 가스 냉각기에서 냉각된 배기 가스를 압축하는 배기 가스 압축기, 그리고 상기 배기 가스 압축기에서 압축된 배기 가스를 냉각하는 토출 냉각기를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치는 상기 제2 월류부 배출되는 집진수의 pH를 측정하는 pH 측정 장치를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 월류부를 통과한 집진수의 pH는 상기 배수 유도판을 통과한 집진수의 pH보다 클 수 있다.
상기 배수 유도판을 통과한 집진수의 pH는 상기 제2 월류부 배출되는 집진수의 pH보다 클 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디개싱타워가 제1 집진수 흐름 유도부, 배수 유도판, 제2 집진수 흐름 유도부, 그리고 제2 월류부를 포함하고, 디개싱타워 내에 이산화탄소를 포함하는 배기 가스를 투입함에 따라, 디개싱타워에서 배출되는 집진수의 pH를 감소시킬 수 있다.
도 1을 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 공정의 일 예를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치를 간략하게 도시한 도면이다.
도 3은 도 2의 A 영역을 확대하여 도시한 도면이다.
도 4는 도 2의 A 영역에 배기 가스가 투입되는 것을 도시한 도면이다.
도 5는 도 2의 B 영역을 확대하여 도시한 도면이다.
도 6은 도 2의 B 영역에 배기 가스가 투입되는 것을 도시한 도면이다.
첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 또한, 층이 다른 층 또는 기판 "상"에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 층이 개재될 수도 있다.
도 1을 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 공정의 일 예를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1을 참고하면, 고로(10)에서 발생된 고로 가스(Blast Furance Gas, BFG)를 건식 집진기(Dust Cather)(20)에서 대립자 더스트(dust)를 포집하고, 습식 집진기(Bischoff Scrubber)(30)에서 건식 집진기(20)에서 포집되지 않은 소립자 더스트를 포집한다.
습식 집진기(30)에서 물을 미스트(mist) 형태로 살수하여 고로 가스에 함유된 소립자 더스트가 살수된 물과 섞인 집진수 상태로 배출된다. 집진수에는 많은 양의 가스가 용존하게 된다.
집진수가 습식 집진기(30) 내부에 모아지고, 모아진 집진수의 수위는 플로트 챔버(float chamber)(31) 내의 플로트와 연동하여 수위 제어 밸브(32)에 의해 배출되는 집진수의 유량이 조절된다.
습식 집진기(30)에서 배출된 집진수는 배수 라인(33)을 따라 디개싱타워(degassing tower)(40)에 유입된다.
디개싱타워(40)에 유입된 집진수는 용존 가스와 분리되어 수통(trough)(61)을 통해 시크너 폰드(thickener pond)(70)에 집수된다. 이 때, pH 측정 장치(62)에 의해 집진수의 pH를 측정한다.
시크너 폰드(70)에 집수된 집진수는 소립자 더스트가 시크너 폰드(70) 내에 침전되고, 소립자 더스트와 분리된 물은 급수조(80)로 유입된 후, 다시 습식 집진기(30)의 내부로 살수되어 재사용된다.
한편, 디개싱타워(40)에 열풍로(50)로 이산화탄소(CO2)가 포함된 배기 가스를 투입하여 집진수의 pH를 감소시킨다. 배기 가스에는 이산화탄소가 25 wt% 이상 포함된다. 이러한 이산화탄소(CO2)가 집진수와 반응하여 집진수의 pH를 감소시킨다.
이산화탄소에 의한 pH 감소 메커니즘은 아래 식(1)로 나타낼 수 있다.
Figure 112016126989444-pat00001
식 (1)
이산화탄소가 물(H2O)에 용해되어 탄산(H2CO3)으로 변환되고, 수중의 pH에 따라서 점차적으로 탄산에서 수소 이온(H+)이 하나씩 수중으로 분리되어 중탄산염(HCO3 -) 및 탄산염(CO3 ²-)으로 변환된다. 이 때, 증가하는 수소 이온으로 인하여 집진수의 pH가 감소한다.
그러면, 도 2 내지 도 6을 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치에 대해 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치를 간략하게 도시한 도면이다. 도 3은 도 2의 A 영역을 확대하여 도시한 도면이다. 도 4는 도 2의 A 영역에 배기 가스가 투입되는 것을 도시한 도면이다. 도 5는 도 2의 B 영역을 확대하여 도시한 도면이다. 도 6은 도 2의 B 영역에 배기 가스가 투입되는 것을 도시한 도면이다.
도 2 내지 도 6을 참고하면, 본 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치는 디개싱타워(40), 열풍로(50) 및 pH 측정 장치(62)를 포함한다.
디개싱타워(40)는 몸체(40a), 가스 배출부(41), 제1 월류부(43), 제1 집진수 흐름 유도부(44), 배수 유도판(45), 제2 집진수 흐름 유도부(46), 제2 월류부(47), 그리고 블라인드 플레이트(blind plate)(48)를 포함한다.
제1 월류부(43), 제1 집진수 흐름 유도부(44), 배수 유도판(45), 제2 집진수 흐름 유도부(46), 제2 월류부(47), 그리고 블라인드 플레이트(48)는 몸체(40a) 내부에 위치하고, 가스 배출부(41)는 몸체(40a)로부터 상부 방향을 연장된다.
도 1에서 설명한 바와 같이, 습식 집진기(30)로부터 배출된 집진수는 배수 라인(33)을 따라 디개싱타워(40)에 유입된다. 배수 라인(33)은 디개싱타워(40)의 몸체(40a)의 측면에 연결되고, 집진수(33a)는 디개싱타워(40)의 몸체(40a)의 측면으로부터 내부로 유입된다.
몸체(40a) 내부로 유입된 집진수(33a)는 제1 월류부(43)에서 용존 가스(42)가 분리된다.
제1 월류부(43)는 몸체(40a)의 상부에 위치하고, 가스 배출부(41) 아래에 위치한다. 제1 월류부(43)는 제1 원통부(43a)와 제1 원통부(43a)의 하단에 위치하는 제1 플레이트(43b)를 포함한다. 제1 플레이트(43b)는 제1 원통부(43a)의 하단에 부착된다.
몸체(40a) 내부로 유입된 집진수(33a)는 제1 플레이트(43b) 위로 유입되어 제1 원통부(43a) 내부로 유입된다. 이 때, 집진수(33a)가 소용돌이 형태로 월류(overflow)되어 집진수(33a)로부터 용존 가스(42)가 분리된다. 분리된 용존 가스(42)는 가스 배출부(41)를 통하여 배출된다.
용존 가스(42)가 분리된 집진수(33a)는 제1 월류부(43)를 통과하여 제1 집진수 흐름 유도부(44) 및 배수 유도판(45)으로 유입된다.
제1 집진수 흐름 유도부(44)는 제1 월류부(43) 아래에 위치하며, 제1 월류부(43)와 이격된다. 배수 유도판(45)은 제1 집진수 흐름 유도부(44) 아래에 위치하며, 제1 집진수 흐름 유도부(44)와 이격된다. 제1 집진수 흐름 유도부(44)는 원뿔형 구조를 가지고, 배수 유도판(45)의 중앙 부분에는 배수구가 위치한다.
제1 월류부(43)를 통과한 집진수(33a)가 제1 집진수 흐름 유도부(44)의 원뿔형 구조에 의해 제1 집진수 흐름 유도부(44)의 측면으로 이동하여 배수 유도판(45)의 배수구를 통하여 배수된다.
제1 집진수 흐름 유도부(44)의 측면으로 이산화탄소가 포함된 배기 가스가 투입된다. 열풍로(50)에서 토출된 배기 가스는 제1 배기 가스 투입 노즐(58)에 의해 몸체(40a)의 측면에서 몸체(40a)의 내부로 투입된다. 제1 배기 가스 투입 노즐(58)은 제1 집진수 흐름 유도부(44)에 대응하며, 몸체(40a)의 둘레를 따라 위치한다. 배기 가스가 투입됨에 따라, 제1 집진수 흐름 유도부(44)의 측면에서 집진수(33a)는 이산화탄소와 반응하여 집진수(33a)의 pH를 감소시킨다.
배수 유도판(45)을 통과한 집진수(45a)는 제2 집진수 흐름 유도부(46) 및 제2 월류부(47)로 유입된다.
제2 집진수 흐름 유도부(46)는 배수 유도판(45) 아래에 위치하며, 배수 유도판(45)과 이격된다. 제2 집진수 흐름 유도부(46)는 원뿔형 구조를 가진다. 제2 월류부(47)는 제2 집진수 흐름 유도부(46) 아래에 위치하며, 제2 집진수 흐름 유도부(46)와 이격된다. 제2 월류부(47)는 제2 원통부(47a)와 제2 원통부(47a)의 하단에 위치하는 제2 플레이트(47b)를 포함한다. 제2 플레이트(47b)는 제2 원통부(47a)의 하단에 부착된다. 제2 집진수 흐름 유도부(46)는 제2 원통부(47a)를 덮고 있다.
배수 유도판(45)을 통과한 집진수(45a)는 제2 집진수 흐름 유도부(46)의 원뿔형 구조에 의해 제2 집진수 흐름 유도부(46)의 측면으로 이동하고, 제2 플레이트(47b) 위로 유입되어 제2 원통부(47a) 내부로 유입되어 제2 월류부(47)를 통과한다.
제2 집진수 흐름 유도부(46)의 측면으로 이산화탄소가 포함된 배기 가스가 투입된다. 열풍로(50)에서 토출된 배기 가스는 제2 배기 가스 투입 노즐(59)에 의해 몸체(40a)의 측면에서 몸체(40a)의 내부로 투입된다. 제2 배기 가스 투입 노즐(59)은 제2 집진수 흐름 유도부(46)에 대응하며, 몸체(40a)의 둘레를 따라 위치한다. 배기 가스가 투입됨에 따라, 제2 집진수 흐름 유도부(46)의 측면에서 집진수(45a)는 이산화탄소와 반응하여 집진수(47c)의 pH를 감소시킨다.
제2 월류부(47)를 통과한 집진수(47c)는 수통(61)를 통하여 배출된다. 수통(61)에는 pH 측정 장치(62)가 위치하고, 제2 월류부(47)를 통과한 집진수(47c)의 pH를 측정한다.
수통(61)을 통하여 배출된 집진수(47c)는 도 1에 도시한 바와 같이, 시크너 폰드(70)에 집수된다.
디개싱타워(40)에 유입된 집진수(33a)의 pH는 디개싱타워(40)를 통과하면서 pH가 감소된다. 즉, 제1 월류부(43)를 통과한 집진수(33a)의 pH는 제1 집진수 흐름 유도부(44) 및 배수 유도판(45)를 통과한 집진수(45a)의 pH보다 크다. 또한, 제1 집진수 흐름 유도부(44) 및 배수 유도판(45)를 통과한 집진수(45a)의 pH는 제2 집진수 흐름 유도부(46) 및 제2 월류부(47)를 통과한 집진수(47c)의 pH보다 크다.
이와 같이, 디개싱타워(40)에 유입된 집진수(33a)는 제1 월류부(43), 제1 집진수 흐름 유도부(44), 배수 유도판(45), 제2 집진수 흐름 유도부(46) 및 제2 월류부(47)를 통과하면서, 이산화탄소가 포함된 배기 가스와 반응하여 pH가 감소될 수 있다.
또한, 본 실시예에서는 두 부분에서 이산화탄소의 투입하므로, 두 부분에서 집진수와 이산화 탄소가 반응하므로, 집진수의 pH가 감소 효과가 증가될 수 있다.
한편, 디개싱타워(40)의 몸체(40a) 내부에 투입되는 배기 가스는 열풍로(50)로부터 토출되고 압축 및 냉각되어 몸체(40a)로 투입된다.
이하에서는 디개싱타워(40)의 몸체(40a) 내부에 배기 가스가 투입되는 경로에 대해 설명한다.
본 실시예에 따른 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치는 열풍로 굴뚝(51), 배기 가스 차단 밸브(52), 배기 가스 냉각기(53), 배기 가스 압축기(54), 토출 냉각기(55), 토출 라인(56), 그리고 투입 배기 가스 차단 밸브(57)를 더 포함한다.
열풍로(50) 및 열풍로 굴뚝(51)에서 배기 되는 배기 가스는 배기 가스 차단 밸브(52), 배기 가스 냉각기(53), 그리고 배기 가스 압축기(54)로 차례로 이동한다. 배기 가스 냉각기(53)에서 열풍로(50) 및 열풍로 굴뚝(51)에서 배기 되는 배기 가스를 냉각하고, 배기 가스 압축기(54)에서 냉각된 배기 가스를 압축한다.
배기 가스 압축기(54)에서 압축된 배기 가스는 토출 냉각기(55), 토출 라인(56), 그리고 투입 배기 가스 차단 밸브(57)로 이동한다. 압축된 배기 가스는 토출 냉각기(55)에서 냉각되고, 냉각된 배기 가스는 토출 라인(56)을 통하여 제1 배기 가스 투입 노즐(58) 및 제2 배기 가스 투입 노즐(59)로 이동하여 디개싱타워(40)의 몸체(40a) 내부로 투입된다. 투입 배기 가스 차단 밸브(57)를 통하여 배기 가스가 디개싱타워(40)의 몸체(40a) 내부로 투입되는 것을 조절할 수 있다.
배기 가스 압축기(54)에 의해 열풍로(50) 및 열풍로 굴뚝(51)에서 배기 되는 배기 가스가 디개싱타워(40)의 몸체(40a) 내부에서 효과적으로 분출될 수 있도록 배기 가스의 압력을 상승시킨다.
배기 가스 냉각기(53) 및 토출 냉각기(55)에 의해 열풍로(50) 및 열풍로 굴뚝(51)에서 배기 되는 배기 가스를 30 ℃의 전후의 낮은 온도까지 냉각시켜, 디개싱타워(40)에 유입된 집진수(33a)를 냉각할 수 있으므로 집진수(33a)의 pH 감소 효과를 향상시킬 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
40: 디개싱타워 40a: 몸체
43: 제1 월류부 44: 제1 집진수 흐름 유도부
45: 배수 유도판 46: 제2 집진수 흐름 유도부
47: 제2 월류부 50: 열풍로
53: 배기 가스 냉각기 54: 배기 가스 압축기
55: 토출 냉각기 58: 제1 가스 투입 노즐
59: 제2 가스 투입 노즐 62: pH 측정 장치

Claims (13)

  1. 습식 집진기로부터 배출된 집진수가 유입되는 디개싱타워, 그리고
    디개싱타워로 유입되는 배기 가스를 토출하는 열풍로를 포함하고,
    상기 배기 가스는 이산화탄소를 포함하고,
    상기 디개싱타워는
    몸체,
    상기 몸체 내부에 위치하는 제1 월류부,
    상기 제1 월류부 아래에 위치하고, 상기 제1 월류부와 이격되는 제1 집진수 흐름 유도부,
    상기 제1 집진수 흐름 유도부 아래에 위치하고, 상기 제1 집진수 흐름 유도부와 이격되는 배수 유도판,
    상기 배수 유도판 아래에 위치하고, 상기 배수 유도판과 이격되는 제2 집진수 흐름 유도부, 그리고
    상기 제2 집진수 흐름 유도부 아래에 위치하고, 상기 상기 제2 집진수 흐름 유도부와 이격되는 제2 월류부를 포함하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  2. 제1항에서,
    상기 디개싱타워에 상기 배기 가스를 투입하는 제1 배기 가스 투입 노즐 및 제2 배기 가스 투입 노즐을 더 포함하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  3. 제2항에서,
    상기 제1 배기 가스 투입 노즐은 상기 제1 집진수 흐름 유도부에 대응하며, 상기 몸체의 둘레를 따라 위치하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  4. 제3항에서,
    상기 제2 배기 가스 투입 노즐은 상기 제2 집진수 흐름 유도부에 대응하며, 상기 몸체의 둘레를 따라 위치하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  5. 제4항에서,
    상기 제1 월류부에는 상기 습식 집진기로부터 배출된 집진수가 유입되고,
    상기 제1 월류부는 제1 원통부와 상기 제1 원통부의 하단에 부착되는 제1 플레이트를 포함하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  6. 제5항에서,
    상기 제1 집진수 흐름 유도부 및 상기 배수 유도판에는 상기 제1 월류부를 통과한 집진수가 유입되고,
    상기 제1 집진수 흐름 유도부는 원뿔형 구조를 가지는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  7. 제6항에서,
    상기 제1 집진수 흐름 유도부의 측면에서 상기 제1 월류부를 통과한 집진수와 상기 배기 가스에 포함된 상기 이산화탄소가 반응하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  8. 제7항에서,
    상기 배수 유도판은 상기 배수 유도판의 중앙 부분에 위치하는 배수구를 가지는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  9. 제8항에서,
    상기 제2 집진수 흐름 유도부 및 상기 제2 월류부에는 상기 배수 유도판을 통과한 집진수가 유입되고,
    상기 제2 집진수 흐름 유도부는 원뿔형 구조를 가지고,
    상기 제2 월류부는 제2 원통부 및 상기 제2 원통부의 하단에 부착되는 제2 플레이트를 포함하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  10. 제9항에서,
    상기 열풍로에서 토출된 배기 가스를 냉각하는 배기 가스 냉각기,
    상기 배기 가스 냉각기에서 냉각된 배기 가스를 압축하는 배기 가스 압축기, 그리고
    상기 배기 가스 압축기에서 압축된 배기 가스를 냉각하는 토출 냉각기를 더 포함하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  11. 제10항에서,
    상기 제2 월류부 배출되는 집진수의 pH를 측정하는 pH 측정 장치를 더 포함하는 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  12. 제11항에서,
    상기 제1 월류부를 통과한 집진수의 pH는 상기 배수 유도판을 통과한 집진수의 pH보다 큰 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
  13. 제12항에서,
    상기 배수 유도판을 통과한 집진수의 pH는 상기 제2 월류부 배출되는 집진수의 pH보다 큰 고로 가스 청정 설비의 집진수 처리 장치.
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