KR101715777B1 - Silicone particle and method for manufacturing thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 (a) 시드 입자를 포함하는 분산액을 준비하는 단계; 및 (b) 상기 분산액과 실리콘 전구체를 혼합한 후, 가수분해 및 축합반응을 통해 실리콘(silicone) 입자를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 (b) 단계에서 실리콘(silicone) 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛ 인 것을 특징으로 하는 실리콘 입자 및 이의 제조방법에 관한 것이다. (A) preparing a dispersion containing seed particles; And (b) mixing the dispersion with a silicon precursor followed by hydrolysis and condensation to produce silicone particles. In step (b), the particle size distribution of the silicone particles is 50 % Cumulative mass particle size distribution diameter is D50, D50? 10 占 퐉 and a method for producing the same.

Figure R1020150090193
Figure R1020150090193

Description

실리콘 입자 및 이의 제조방법{SILICONE PARTICLE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}[0001] SILICONE PARTICLE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF [0002]

본 발명은 실리콘 입자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to silicon particles and a process for their preparation.

실리콘(silicone) 올리고머, 고분자 또는 수지는 화장품 및 각종 산업용 코팅에 널리 사용되는 물질로서, 불용성입자, 용해성 입자, 용해성이 있는 점성이 높은 액체 또는 점성이 낮은 수백 내지 수천의 분자량을 갖는 올리고머 형태 등으로 제조되어 판매되고 있다. 즉, 실리콘 화합물은 물리적 형태에 따라 고체 또는 액체로 구분하고, 용해성에 따라 불용성 및 용해성 물질로 구분할 수 있다.Silicone oligomers, polymers, or resins are widely used in cosmetics and various industrial coatings. They are insoluble particles, soluble particles, highly soluble viscous liquids, or oligomeric forms with a low viscosity of hundreds to thousands of molecular weight Manufactured and sold. That is, the silicone compound is classified into a solid or a liquid according to its physical form, and can be classified into an insoluble and a soluble substance depending on its solubility.

고체 형태의 실리콘 중에서 특히 실리콘 입자는 여러 가지 용도에 적용되고 있다. 현존하는 화장품에 적용되는 입자 대부분은 약 10㎛ 미만의 직경을 가지고 있으며, 이들이 자유롭게 날리는 입자를 사용하는 제품에 적용되는 경우, 미세 입자로서 인체에 해를 일으킬 수도 있는 문제점이 있다. 특히, 화장품에 사용되고 있는 폴리메틸실세스퀴옥산 입자의 경우 크기에 따라 여러 가지 등급의 입자가 시판되고 있으며 주로 5㎛ 정도의 직경을 가진 제품이 사용되고 있다.Of the silicon in the solid form, silicon particles in particular have been applied to various applications. Most of the particles applied to existing cosmetics have a diameter of less than about 10 탆 and, when they are applied to a product using free-flowing particles, they may cause harm to the human body as fine particles. Particularly, in the case of polymethylsilsesquioxane particles used in cosmetics, various grades of particles are commercially available, and products having a diameter of about 5 μm are mainly used.

한편, 약 10㎛ 이상의 직경을 가진 입자를 제조하기 위해서는 매질의 양을 크게 감소시키는 방법이 가장 널리 사용된다. 그러나 이러한 방법을 사용하면 입자의 크기는 증가하지만 반응 중 생성되는 올리고머가 서로 엉겨붙음으로써 대량의 부생성물이 발생하여 수율이 매우 낮아지는 문제점이 있다.
On the other hand, in order to produce particles having a diameter of about 10 mu m or more, a method of largely reducing the amount of the medium is most widely used. However, when such a method is used, the size of the particles increases, but the oligomers produced during the reaction are clumped together, resulting in generation of a large number of by-products, resulting in a very low yield.

본 발명은 (a) 시드 입자를 포함하는 분산액을 준비하는 단계; 및 (b) 상기 분산액과 실리콘 전구체를 혼합한 후, 가수분해 및 축합반응을 통해 실리콘(silicone) 입자를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 (b) 단계에서 실리콘(silicone) 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛ 인 것을 특징으로 하는 실리콘 입자의 제조방법 등을 제공하고자 한다. (A) preparing a dispersion containing seed particles; And (b) mixing the dispersion with a silicon precursor followed by hydrolysis and condensation to produce silicone particles. In step (b), the particle size distribution of the silicone particles is 50 And a cumulative mass particle size distribution diameter of D50 is D50? 10 占 퐉.

그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
However, the technical problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other matters not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 (a) 시드 입자를 포함하는 분산액을 준비하는 단계; 및 (b) 상기 분산액과 실리콘 전구체를 혼합한 후, 가수분해 및 축합반응을 통해 실리콘(silicone) 입자를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 (b) 단계에서 실리콘(silicone) 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛인 것을 특징으로 하는 실리콘 입자의 제조방법을 제공한다.(A) preparing a dispersion containing seed particles; And (b) mixing the dispersion with a silicon precursor followed by hydrolysis and condensation to produce silicone particles. In step (b), the particle size distribution of the silicone particles is 50 % Cumulative mass particle size distribution diameter is D50, D50 > = 10 mu m.

상기 (a) 단계에서 시드 입자는 친수성 또는 소수성 실리카, 친수성 또는 소수성 실리콘, 산화금속, 친수성 또는 소수성으로 표면 코팅된 산화금속, 탈크 및 전분으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.In the step (a), the seed particle may include at least one selected from the group consisting of hydrophilic or hydrophobic silica, hydrophilic or hydrophobic silicon, metal oxide, metal oxide surface-coated with hydrophilic or hydrophobic, talc and starch.

상기 산화금속은 이산화티탄, 산화아연, 산화철 및 산화알루미늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.The metal oxide may be at least one selected from the group consisting of titanium dioxide, zinc oxide, iron oxide and aluminum oxide.

상기 (a) 단계에서 시드 입자는 상기 (b) 단계에서 실리콘 전구체 대비 0.1중량% 내지 10중량% 포함될 수 있다.In step (a), the seed particles may be contained in an amount of 0.1 wt% to 10 wt% of the silicon precursor in the step (b).

상기 (b) 단계에서 실리콘 전구체는 염화실란 또는 하기 화학식 1로 표시되는 유기알콕시 실란을 포함하는 것일 수 있다:In the step (b), the silicon precursor may include a chlorosilane or an organic alkoxysilane represented by the following formula (1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Aa-B4-a-Si A a -B 4-a -Si

상기 식에서, In this formula,

A는 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 또는 탄소수 5 내지 10의 아릴 그룹이고, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms whose terminal hydrogen is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group; Or an aryl group having 5 to 10 carbon atoms,

B는 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹; 또는 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹이며,B is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in which hydrogen at the terminal is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group,

a는 1 내지 3의 정수이다.a is an integer of 1 to 3;

상기 (b) 단계에서 가수분해 및 축합반응 후, 100℃ 내지 150℃에서 추가로 숙성시킬 수 있다.After the hydrolysis and condensation reaction in the step (b), the reaction may be further aged at 100 ° C to 150 ° C.

상기 (b) 단계에서 실리콘 입자는 10㎛≤D50≤20㎛의 입자 분포를 형성하는 것일 수 있다.In the step (b), the silicon particles may form a particle distribution of 10 μm ≦ D 50 ≦ 20 μm.

상기 (b) 단계에서 실리콘 입자의 입자 분포에서 90%, 50%, 10% 누적질량 입자크기 분포 직경을 각각 D90, D50, D10이라 할 때, (D90-D10)/D50≤3인 것일 수 있다.(D90-D10) / D50? 3, where 90%, 50%, and 10% cumulative mass particle size distribution diameters of the silicone particles in the step (b) are respectively D90, D50 and D10 .

상기 (b) 단계에서 실리콘 입자의 수율은 60% 이상일 수 있다.In the step (b), the yield of the silicon particles may be 60% or more.

본 발명의 일 구현예로, 시드입자를 포함하는 분산액 및 실리콘 전구체로부터 형성된 실리콘 입자이고, 상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛인 것을 특징으로 하는 실리콘 입자를 제공한다.In one embodiment of the present invention, a silicon particle formed from a dispersion liquid containing seed particles and a silicon precursor, wherein a 50% cumulative mass particle size distribution diameter in the particle distribution of the silicon particles is D50, Silicon particles characterized in that they provide silicon particles.

상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 90%, 50%, 10% 누적질량 입자크기 분포 직경을 각각 D90, D50, D10이라 할 때, (D90-D10)/D50≤3 인 것일 수 있다.
(D90-D10) / D50? 3 where 90%, 50%, and 10% cumulative mass particle size distribution diameters in the particle distribution of the silicon particles are D90, D50, and D10, respectively.

본 발명에 따른 실리콘 입자는 시드입자를 포함하는 분산액 및 실리콘 전구체로부터 형성된 것으로, 상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛인 것을 특징으로 하는바, 이를 흡입하더라도 인체에 무해하고, 촉감 개선에 탁월한 성능을 발휘할 수 있는 이점이 있다. The silicon particles according to the present invention are formed from a dispersion liquid containing seed particles and a silicon precursor, wherein a 50% cumulative mass particle size distribution diameter in the particle distribution of the silicon particles is D50, It is harmless to the human body even when it is inhaled, and it is possible to exert excellent performance in improving the touch feeling.

또한, 상기 실리콘 입자는 제조 과정에서 뭉침을 억제하여 입자크기 분포가 좁고, 대량의 부산물의 생성을 억제하여 수율 역시 높은 이점이 있다.
In addition, the silicon particles have a narrow particle size distribution by inhibiting the aggregation during the production process, and the production of a large amount of by-products is suppressed and the yield is also high.

도 1은 실시예 1에 따라 제조된 폴리메틸실세스퀴옥산 입자의 입자크기 분포를 나타낸 그래프이다.
도 2는 실시예 1에 따라 제조된 폴리메틸실세스퀴옥산 입자의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
FIG. 1 is a graph showing the particle size distribution of polymethylsilsesquioxane particles prepared according to Example 1. FIG.
2 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of the polymethylsilsesquioxane particles prepared according to Example 1. Fig.

본 발명자들은 시드입자를 실리콘 입자 제조에 도입하는 경우, 덩어리 형태의 부생성물 형성이 억제되어 매질의 양을 감소시키더라도 입자 크기 분포가 좁으며 직경이 큰 실리콘 입자를 고수율로 형성할 수 있음을 확인하고, 본 발명을 완성하였다.
The inventors of the present invention have found that when seed particles are introduced into the silicon particle production, formation of aggregate by-products is suppressed to reduce the amount of the medium, and thus the silicon particle having a narrow particle size distribution and a large diameter can be formed at a high yield And completed the present invention.

본 발명은 (a) 시드 입자를 포함하는 분산액을 준비하는 단계; 및 (b) 상기 분산액과 실리콘 전구체를 혼합한 후, 가수분해 및 축합반응을 통해 실리콘(silicone) 입자를 제조하는 단계를 포함하고, 상기 (b) 단계에서 실리콘(silicone) 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛ 인 것을 특징으로 하는 실리콘 입자의 제조방법을 제공한다.(A) preparing a dispersion containing seed particles; And (b) mixing the dispersion with a silicon precursor followed by hydrolysis and condensation to produce silicone particles. In step (b), the particle size distribution of the silicone particles is 50 % Cumulative mass particle size distribution diameter is D50, D50 > = 10 mu m.

본 발명에서 “실리콘(silicone) 입자”라 함은 유기기를 함유한 규소(organosilicone)와 산소 등이 화학결합으로 서로 연결된 모양으로 된 고분자를 의미한다. 실리콘 입자는 예를 들어, 폴리메틸실세스퀴옥산 입자, 폴리페닐실세스퀴옥산 입자 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 이러한 실리콘 입자는 유기성과 무기성을 겸비한 독특한 화학재로서 여러 형태로 응용될 수 있고, 대부분의 모든 산업분야에서 필수적인 고기능 재료로서 위치를 점하고 있다.In the present invention, the term " silicone particle " refers to a polymer in which an organosilicone containing an organic group and oxygen are chemically bonded to each other. The silicon particles may be, for example, polymethylsilsesquioxane particles, polyphenylsilsesquioxane particles, or mixtures thereof. These silicon particles are unique chemical materials with both organic and inorganic properties and can be applied in many forms and are positioned as high-function materials essential in most industrial fields.

특히, 본원 발명에 따른 입자크기가 크면서도 입자크기 분포가 좁은 실리콘 입자의 경우, 인체에 무해하고, 촉감 개선에 탁월한 성능을 발휘할 수 있어 화장품 분야 또는 의약 분야에 사용될 수 있으며, 그 밖에 섬유, 고무, 피혁 등의 제조를 위한 윤활제로도 사용될 수 있다.
In particular, in the case of the silicone particles having a large particle size and a narrow particle size distribution according to the present invention, they are harmless to the human body and can exhibit excellent performance for improving the feel and can be used in the field of cosmetics or medicine, , Leather, and the like.

먼저 본 발명에 따른 실리콘 입자를 제조하기 위해, 시드 입자를 포함하는 분산액을 준비한다[(a) 단계].First, in order to produce the silicon particles according to the present invention, a dispersion containing the seed particles is prepared (step (a)).

상기 시드 입자는 실리콘 입자를 제조하기 위한 출발 물질로 사용되는 것으로, 시드 입자의 평균 입자 크기는 10㎛ 미만인 것으로, 10㎚ 내지 8㎛인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 시드 입자의 평균 입자 크기가 상기 범위를 벗어나는 경우, 실리콘 전구체와의 혼합, 가수분해 및 축합반응이 원활하게 일어나기 어렵거나, 실리콘 입자를 제조하기 위한 출발 물질로 작용하기 어려운 문제점이 있다. The seed particles are used as a starting material for producing silicon particles. The seed particles preferably have an average particle size of less than 10 mu m and preferably 10 nm to 8 mu m, but are not limited thereto. At this time, when the average particle size of the seed particles is out of the above range, mixing with the silicon precursor, hydrolysis and condensation reaction are difficult to occur smoothly or it is difficult to act as a starting material for producing silicon particles.

상기 시드 입자는 실리카, 친수성 또는 소수성 실리콘, 산화금속, 친수성 또는 소수성으로 표면 코팅된 산화금속, 탈크 및 전분으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.The seed particles may include at least one selected from the group consisting of silica, hydrophilic or hydrophobic silicon, metal oxide, metal oxide surface-coated with hydrophilic or hydrophobic, talc and starch.

구체적으로, 상기 실리카 시드 입자는 별도로 표면 개질되지 않은 실리카 시드 입자를 말하는 것으로, 규소와 산소의 화학적 결합체로서 친수성을 띄는 특징이 있다.Specifically, the silica seed particles refer to silica-seed particles which have not been surface-modified, and are characterized by having a hydrophilic property as a chemical bond of silicon and oxygen.

상기 친수성 실리콘 시드 입자는 물에 대하여 친화력이 강한 성질을 가지는 것으로, 구체적으로, 폴리메틸실세스퀴옥산 및 실리카로 이루어진다. 이때, 흡유량(oil absorption)은 60g/100g~80g/100g이고, 굴절률(refractive index)은 약 1.40~1.50이며, 부피밀도(bulk density)는 약 8.4g/in3이다.The hydrophilic silicone seed particles have a property of having a strong affinity to water, and specifically comprise polymethylsilsesquioxane and silica. In this case, the oil absorption is 60 g / 100 g to 80 g / 100 g, the refractive index is about 1.40 to 1.50, and the bulk density is about 8.4 g / in 3 .

상기 소수성 실리콘 시드 입자는 물에 대하여 친화력이 부족한 성질을 가지는 것으로, 구체적으로, 폴리메틸실세스퀴옥산으로 이루어진다. 이때, 흡유량(oil absorption)은 35g/100g~55g/100g이고, 굴절률(refractive index)은 약 1.40~1.50이며, 부피밀도(bulk density)는 약 8.8g/in3이다.The hydrophobic silicon seed particles have a property of lacking affinity for water, and specifically comprise polymethylsilsesquioxane. In this case, the oil absorption is 35g / 100g to 55g / 100g, the refractive index is about 1.40 to 1.50, and the bulk density is about 8.8g / in 3 .

상기 산화금속 시드 입자로 공지의 산화금속을 사용할 수 있고, 상기 산화금속은 이산화티탄, 산화아연, 산화철 및 산화알루미늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것이 바람직하고, 산화철 및 이산화티탄의 조합이거나, 산화아연인 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. The metal oxide particles may be at least one selected from the group consisting of titanium dioxide, zinc oxide, iron oxide and aluminum oxide, and may be a combination of iron oxide and titanium dioxide, , But is not limited thereto.

이때, 상기 산화금속의 표면을 친수성 또는 소수성 고분자로 코팅하여 사용할 수도 있다.At this time, the surface of the metal oxide may be coated with a hydrophilic or hydrophobic polymer.

또한, 상기 시드 입자는 후술될 실리콘 전구체 대비 0.1중량% 내지 10중량% 포함되는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 시드 입자가 상기 중량 범위 미만인 경우, 실리콘 입자를 제조하기 위한 출발물질로 작용하기 어려운 문제점이 있고, 시드 입자가 상기 중량 범위를 초과하는 경우, 실리콘 전구체와의 혼합이 원활하지 못한 문제점이 있다.The seed particles preferably include 0.1 wt% to 10 wt% of the silicon precursor, but the present invention is not limited thereto. At this time, when the seed particles are less than the above-mentioned weight range, there is a problem that it is difficult to act as a starting material for preparing silicon particles. When the seed particles exceed the above weight range, there is a problem that mixing with the silicon precursor is not smooth .

상기와 같은 시드 입자는 분산매에 분산되어 분산액 형태로 준비되는데, 상기 분산매로는 공지의 용매를 사용할 수도 있으나, 물, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 테트라하이드로퓨란(THF), 에탄올, 메탄올, 시클로헥산올, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 아세톤, 에틸렌글라이콜, 옥틴, 디에틸카보네이트, 디메틸설폭사이드(DMSO) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 사용하는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 상기와 같은 종류의 분산매는 시드 입자가 잘 분산되어 실리콘 전구체와 혼합하는데 도움을 줄 수 있다.
The seed particles are dispersed in a dispersion medium and prepared in the form of a dispersion. Examples of the dispersion medium include water, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), tetrahydrofuran (THF) It is preferable to use at least one selected from the group consisting of ethanol, methanol, cyclohexanol, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, ethylene glycol, octane, diethyl carbonate, dimethyl sulfoxide (DMSO) But is not limited thereto. These types of dispersants can help seed particles be well dispersed and mixed with the silicon precursor.

다음으로 본 발명에 따른 실리콘 입자를 제조하기 위해, 상기 분산액과 실리콘 전구체를 혼합한 후, 가수분해 및 축합반응을 통해 실리콘(silicone) 입자를 제조한다[(b) 단계].Next, in order to produce the silicon particles according to the present invention, the dispersion is mixed with the silicon precursor, and then silicone particles are prepared through hydrolysis and condensation (step (b)).

상기 실리콘 전구체는 가수분해 및 축합반응을 통해 실리콘 입자가 되기 위한 전단계 물질을 말하는 것이다.The silicon precursor refers to a pre-stage material to become silicon particles through hydrolysis and condensation reaction.

상기 실리콘 전구체는 염화실란 또는 하기 화학식 1로 표시되는 유기알콕시 실란을 포함할 수 있다:The silicon precursor may comprise a chlorosilane or an organoalkoxysilane represented by the following formula:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Aa-B4-a-Si A a -B 4-a -Si

상기 식에서, In this formula,

A는 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 또는 탄소수 5 내지 10의 아릴 그룹이고, A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms whose terminal hydrogen is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group; Or an aryl group having 5 to 10 carbon atoms,

B는 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹; 또는 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹이며,B is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in which hydrogen at the terminal is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group,

a는 1 내지 3의 정수이다.a is an integer of 1 to 3;

구체적으로, 상기 염화실란은 SiHnCl4 -n(n=1, 2, 3)으로 나타내는 화합물을 말하는 것으로, 모노클로로실란, 디클로로실란, 트리클로로실란 또는 사염화규소일 수 있다.Specifically, the chlorinated silane refers to a compound represented by SiH n Cl 4 -n (n = 1, 2, 3), which may be monochlorosilane, dichlorosilane, trichlorosilane or silicon tetrachloride.

또한, 상기 화학식 1로 표시되는 유기알콕시 실란은 메틸트리메톡시 실란, 에틸트리에톡시 실란, 페닐트리메톡시 실란, 페닐트리에톡시 실란, 디메틸디메톡시 실란, 디메틸디에톡시 실란, 메틸페닐디메톡시 실란, 메틸페닐디에톡시 실란, 테트라메톡시 실란, 테트라에톡시 실란, 3-아미노프로필트리메톡시 실란, 3-아미노프로필트리에톡시 실란, N-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시 실란 및 N-(2-아미노에틸)아미노프로필트리에톡시 실란으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다.The organic alkoxysilane represented by the above formula (1) may be at least one selected from the group consisting of methyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane , Methylphenyldiethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane and N - (2-aminoethyl) aminopropyltriethoxysilane.

상기와 같은 실리콘 전구체는 pH 조건을 조절함으로써 가수분해 및 축합반응을 수행한다. 이때, 산성 조건에서는 가수분해 반응이 주반응이 되고, 염기성 조건에서는 축합반응이 주반응이 될 수 있다. The silicon precursor as described above undergoes hydrolysis and condensation reactions by adjusting pH conditions. At this time, the hydrolysis reaction becomes the main reaction under the acidic condition, and the condensation reaction can be the main reaction under the basic condition.

상기 가수분해 및 축합반응을 통해 제조되는 실리콘 입자를 화장품 분야의 원료로 사용하기 위해서는, 최종 pH를 6~8로 조절하는 것이 바람직하다.In order to use the silicone particles produced through the hydrolysis and condensation reaction as raw materials in the field of cosmetics, it is preferable to adjust the final pH to 6 to 8.

상기 가수분해 및 축합반응 후, 100℃ 내지 150℃에서 추가로 숙성시킬 수 있다. 이러한 숙성 과정을 통하여 축합되지 않은 잔여 올리고머의 추가적인 축합반응을 유도할 수 있어, 최종 수율을 더욱 높일 수 있는 이점이 있다.After the hydrolysis and condensation reaction, it may be further aged at 100 ° C to 150 ° C. Through this aging process, an additional condensation reaction of the unconjugated residual oligomer can be induced, and the final yield can be further increased.

상기와 같은 가수분해 및 축합 반응을 통해 최종 제조되는 실리콘 입자는 입도분석기 또는 전자주사현미경(SEM)를 통해 측정할 수 있고, 실리콘(silicone) 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛ 인 것을 특징으로 한다. 즉, 이를 흡입하더라도 인체에 무해하고, 촉감 개선에 탁월한 성능을 발휘할 수 있는 이점이 있다.The silicon particles finally produced through the above hydrolysis and condensation reaction can be measured through a particle size analyzer or a scanning electron microscope (SEM), and the 50% cumulative mass particle size distribution diameter in the particle distribution of silicone particles D50, D50? 10 占 퐉. That is, even if it is inhaled, it is harmless to the human body, and there is an advantage that excellent performance can be exerted to improve touch feeling.

보다 바람직하게는 상기 실리콘 입자는 10㎛≤D50≤20㎛의 입자 분포를 형성할 수 있다. More preferably, the silicon particles can form a particle distribution of 10 占 퐉? D50? 20 占 퐉.

또한, 상기와 같은 가수분해 및 축합 반응을 통해 최종 제조되는 실리콘 입자는 상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 90%, 50%, 10% 누적질량 입자크기 분포 직경을 각각 D90, D50, DO10이라 할 때, (D90-D10)/D50≤3일 수 있어, 입자크기 분포가 좁음을 확인할 수 있다.When 90%, 50%, and 10% cumulative mass particle size distribution diameters of the silicon particles finally obtained through the hydrolysis and condensation reaction are D90, D50, and DO10, respectively, (D90-D10) / D50? 3, and it can be confirmed that the particle size distribution is narrow.

이때, (D90-D10)/D50는 입자크기 분포 폭을 측정하기 위한 지표로서, 0에 가까울수록 입자크기 분포 폭이 좁은 것으로 본다.
In this case, (D90-D10) / D50 is an index for measuring the particle size distribution width, and it is considered that the particle size distribution width is narrower toward 0.

또한, 상기 실리콘 입자의 수율은 60% 이상인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 본 발명에서는 시드 입자를 출발물질로 하여 실리콘 입자를 형성하였는바, 반응 중 생성되는 올리고머가 서로 엉겨붙음으로써 생성되는 대량의 부산물을 억제함으로써, 수율을 높일 수 있는 것이다.
The yield of the silicon particles is preferably 60% or more, but is not limited thereto. In the present invention, when silicon particles are formed from seed particles as a starting material, a large amount of by-products produced by the oligomers generated during the reaction are suppressed, thereby increasing the yield.

또한, 본 발명은 시드 입자를 포함하는 분산액 및 실리콘 전구체로부터 형성된 실리콘 입자이고, 상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛인 것을 특징으로 하는 실리콘 입자를 제공한다.Further, the present invention is a silicon particle formed from a dispersion liquid containing a seed particle and a silicon precursor, wherein a 50% cumulative mass particle size distribution diameter in the particle distribution of the silicon particles is D50, Silicon particles.

상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 90%, 50%, 10% 누적질량 입자크기 분포 직경을 각각 D90, D50, DO10이라 할 때, (D90-D10)/D50≤3 일 수 있다.(D90-D10) / D50? 3 where 90%, 50%, and 10% cumulative mass particle size distribution diameters in the particle distribution of the silicon particles are D90, D50, and DO10, respectively.

본 발명에 따른 실리콘 입자는 시드입자를 포함하는 분산액 및 실리콘 전구체로부터 형성된 것으로, 상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥10㎛인 것을 특징으로 하는바, 이를 흡입하더라도 인체에 무해하고, 촉감 개선에 탁월한 성능을 발휘할 수 있는 이점이 있다. The silicon particles according to the present invention are formed from a dispersion liquid containing seed particles and a silicon precursor, wherein a 50% cumulative mass particle size distribution diameter in the particle distribution of the silicon particles is D50, It is harmless to the human body even when it is inhaled, and it is possible to exert excellent performance in improving the touch feeling.

또한, 상기 실리콘 입자는 제조 과정에서 뭉침을 억제하여 입자크기 분포가 좁고, 대량의 부산물의 생성을 억제하여 수율 역시 높은 이점이 있다.
In addition, the silicon particles have a narrow particle size distribution by inhibiting the aggregation during the production process, and the production of a large amount of by-products is suppressed and the yield is also high.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. However, the following examples are provided only for the purpose of easier understanding of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example ]]

실시예Example 1 One

테트라에톡시 실란 10g 및 물 10ml를 혼합하고, 10% NaOH 수용액 10ml를 가한 후, 약 10~12시간 동안 교반하여 평균 입자 직경이 약 1㎛인 실리카 시드 입자를 포함하는 용액을 제조한 후, 이를 원심분리하여 상등액을 제거하고 실리카 시드 입자를 회수하였다.10 g of tetraethoxysilane and 10 ml of water were mixed, 10 ml of a 10% NaOH aqueous solution was added, and the mixture was stirred for about 10 to 12 hours to prepare a solution containing silica seed particles having an average particle diameter of about 1 탆. The supernatant was removed by centrifugation and the silica seed particles were recovered.

평균 입자 크기가 3㎛인 실리카 시드 입자 2g을 물 1000ml에 분산시킨 후, 메틸트리메톡시 실란 200g을 혼합하였다. 혼합물에 진한염산 0.5ml를 가하여 유성층을 제거한 후, 10% NaOH 수용액을 가하여 pH를 10으로 조절하고 약 10~12시간 동안 교반하였다. 입자를 침지법으로 침전시키고 상등액을 제거한 후, 입자를 물로 세척하면서 묽은염산을 사용하여 pH를 6~8사이로 조절하고, 이를 원심분리하여 회수한 후, 120℃에서 건조하여 폴리메틸실세스퀴옥산 입자를 최종 제조하였다(최종 수율=70%). 2 g of the silica seed particles having an average particle size of 3 탆 was dispersed in 1000 ml of water, and then 200 g of methyltrimethoxysilane was mixed. The oily layer was removed by adding 0.5 ml of concentrated hydrochloric acid to the mixture, and the mixture was adjusted to pH 10 with 10% aqueous NaOH solution and stirred for about 10 to 12 hours. The particles were precipitated by a dipping method, and the supernatant was removed. The particles were washed with water and adjusted to pH 6-8 using dilute hydrochloric acid. The particles were recovered by centrifugation and dried at 120 ° C to obtain polymethylsilsesquioxane The particles were finally prepared (final yield = 70%).

최종 제조된 폴리메틸실세스퀴옥산 입자를 입도분석기(HELOS/RODOS, OASIS)를 통해 분석한 결과, 도 1에 나타난 바와 같이 D50=10.5㎛이고, (D90-D10)/D50=2.3이였다.The final polymethylsilsesquioxane particles were analyzed by a particle size analyzer (HELOS / RODOS, OASIS). As a result, D50 = 10.5 占 퐉 and (D90-D10) / D50 = 2.3 as shown in Fig.

도 2에 나타난 바와 같이, 주사전자현미경(SEM) 사진을 통해 분석한 결과, 폴리메틸실세스퀴옥산 입자는 구형으로 진원도(roundness)가 높고, 평균 입자크기가 약 10㎛임을 확인할 수 있었다.
As shown in FIG. 2, SEM photographs showed that the polymethylsilsesquioxane particles had a spherical shape with a high roundness and an average particle size of about 10 μm.

실시예Example 2 2

평균 입자크기가 5~6㎛인 친수성 실리콘 시드 입자(엔엔엠테크놀러지社, SESQ-MH5) 1g을 물 1000ml에 분산시킨 후, 메틸트리메톡시 실란 200g을 혼합하였다. 혼합물에 진한염산 0.5ml를 가하여 유성층을 제거한 후, 10% NaOH 수용액을 가하여 pH를 10으로 조절하고 약 10~12시간 동안 교반하였다. 입자를 침지법으로 침전시키고 상등액을 제거한 후, 입자를 물로 세척하면서 묽은염산을 사용하여 pH를 6~8 사이로 조절하고, 이를 원심분리하여 회수한 후, 120℃에서 건조하여 폴리메틸실세스퀴옥산 입자를 최종 제조하였다(최종 수율=65%). 1 g of hydrophilic silicon seed particles having an average particle size of 5 to 6 탆 (SESQ-MH5, ENM Technologies, Inc.) was dispersed in 1000 ml of water, followed by mixing 200 g of methyltrimethoxysilane. The oily layer was removed by adding 0.5 ml of concentrated hydrochloric acid to the mixture, and the mixture was adjusted to pH 10 with 10% aqueous NaOH solution and stirred for about 10 to 12 hours. The particles were precipitated by a dipping method, and the supernatant was removed. The particles were washed with water and adjusted to pH 6-8 using dilute hydrochloric acid. The particles were recovered by centrifugation and dried at 120 ° C to obtain polymethylsilsesquioxane The particles were finally prepared (final yield = 65%).

최종 제조된 폴리메틸실세스퀴옥산 입자를 입도분석기(HELOS/RODOS, OASIS)를 통해 분석한 결과, D50=10㎛이고, (D90-D10)/D50=3이였다.
The final polymethylsilsesquioxane particles were analyzed by a particle size analyzer (HELOS / RODOS, OASIS). As a result, D50 = 10 μm and (D90-D10) / D50 = 3.

실시예Example 3 3

평균 입자크기가 5~6㎛인 소수성 실리콘 시드 입자(엔엔엠테크놀러지社, SESQ-ML5) 1g을 에탄올 5ml 및 물 1000ml에 분산시킨 후, 메틸트리메톡시 실란 250g을 혼합하였다. 혼합물에 진한염산 0.5ml를 가하여 유성층을 제거한 후, 10% NaOH 수용액을 가하여 pH를 10으로 조절하고 약 10~12시간 동안 교반하였다. 입자를 침지법으로 침전시키고 상등액을 제거한 후, 입자를 물로 세척하면서 묽은염산을 사용하여 pH를 6~8 사이로 조절하고, 이를 원심분리하여 회수한 후, 120℃에서 건조하여 폴리메틸실세스퀴옥산 입자를 최종 제조하였다(최종 수율=75%). 1 g of hydrophobic silicon seed particles having an average particle size of 5 to 6 占 퐉 (SESQ-ML5, EN-M Technologies) was dispersed in 5 ml of ethanol and 1000 ml of water, and then 250 g of methyltrimethoxysilane was mixed. The oily layer was removed by adding 0.5 ml of concentrated hydrochloric acid to the mixture, and the mixture was adjusted to pH 10 with 10% aqueous NaOH solution and stirred for about 10 to 12 hours. The particles were precipitated by a dipping method, and the supernatant was removed. The particles were washed with water and adjusted to pH 6-8 using dilute hydrochloric acid. The particles were recovered by centrifugation and dried at 120 ° C to obtain polymethylsilsesquioxane The particles were finally prepared (final yield = 75%).

최종 제조된 폴리메틸실세스퀴옥산 입자를 입도분석기(HELOS/RODOS, OASIS)를 통해 분석한 결과, D50=12㎛이고, (D90-D10)/D50=2.5이였다.
The final polymethylsilsesquioxane particles were analyzed by means of a particle size analyzer (HELOS / RODOS, OASIS). As a result, D50 = 12 占 퐉 and (D90-D10) /D50=2.5.

실시예Example 4 4

평균 입자 크기가 0.4㎛인 산화철 시드 입자 0.1g 및 평균 입자 크기가 0.12㎛인 산화철 시드 입자 0.9g을 물 1000ml에 분산시킨 후, 메틸트리메톡시 실란 150g 및 페닐트리메톡시 실란 50g을 혼합하였다. 혼합물에 진한염산 2ml를 가하여 유성층을 제거한 후, 10% NaOH 수용액을 가하여 pH를 10으로 조절하고 약 10~12시간 동안 교반하였다. 입자를 침지법으로 침전시키고 상등액을 제거한 후, 입자를 물로 세척하면서 묽은염산을 사용하여 pH를 6~8 사이로 조절하고, 이를 원심분리하여 회수한 후, 120℃에서 건조하여 실리콘 입자를 최종 제조하였다(최종 수율=73%). 0.1 g of the iron oxide seed particles having an average particle size of 0.4 탆 and 0.9 g of the iron oxide seed particles having an average particle size of 0.12 탆 were dispersed in 1000 ml of water and then 150 g of methyltrimethoxysilane and 50 g of phenyl trimethoxysilane were mixed. The oily layer was removed by adding 2 ml of concentrated hydrochloric acid to the mixture, and the mixture was adjusted to pH 10 with 10% aqueous NaOH solution and stirred for about 10 to 12 hours. The particles were precipitated by a dipping method and the supernatant was removed. The particles were washed with water and adjusted to pH 6-8 using dilute hydrochloric acid. The particles were recovered by centrifugation and dried at 120 ° C to finally produce silicon particles (Final yield = 73%).

최종 제조된 실리콘 입자를 입도분석기(HELOS/RODOS, OASIS)를 통해 분석한 결과, D50=10㎛이고, (D90-D10)/D50=2 이였다.
The final silicon particles were analyzed by a particle size analyzer (HELOS / RODOS, OASIS). As a result, D50 = 10 占 퐉 and (D90-D10) / D50 = 2.

실시예Example 5 5

평균 입자 크기가 0.3 ㎛인 산화아연 시드 입자 1g을 에탄올 5ml 및 물 1000ml에 분산시킨 후, 메틸트리메톡시 실란 300g을 혼합하였다. 혼합물에 진한염산 0.5ml를 가하여 유성층을 제거한 후, 10% NaOH 수용액을 가하여 pH를 10으로 조절하고 약 10~12시간 동안 교반하였다. 입자를 침지법으로 침전시키고 상등액을 제거한 후, 입자를 물로 세척하면서 묽은염산을 사용하여 pH를 6~8 사이로 조절하고, 이를 원심분리하여 회수한 후, 120℃에서 건조하여 실리콘 입자를 최종 제조하였다(최종 수율=60%). 1 g of zinc oxide seed particles having an average particle size of 0.3 탆 was dispersed in 5 ml of ethanol and 1000 ml of water, and then 300 g of methyltrimethoxysilane was mixed. The oily layer was removed by adding 0.5 ml of concentrated hydrochloric acid to the mixture, and the mixture was adjusted to pH 10 with 10% aqueous NaOH solution and stirred for about 10 to 12 hours. The particles were precipitated by a dipping method and the supernatant was removed. The particles were washed with water and adjusted to pH 6-8 using dilute hydrochloric acid. The particles were recovered by centrifugation and dried at 120 ° C to finally produce silicon particles (Final yield = 60%).

최종 제조된 실리콘 입자를 입도분석기(HELOS/RODOS, OASIS)를 통해 분석한 결과, D50=15㎛이고, (D90-D10)/D50=2 이였다.
The final silicon particles were analyzed by a particle size analyzer (HELOS / RODOS, OASIS). As a result, D50 = 15 占 퐉 and (D90-D10) / D50 = 2.

비교예Comparative Example 1 One

물 1000ml 및 메틸트리메톡시 실란 300g을 혼합하였다. 혼합물에 진한염산 0.5ml를 가하여 유성층을 제거한 후, 10% NaOH 수용액을 가하여 pH를 10으로 조절하고 교반하였다. 교반 후 5분 이내에 덩어리가 형성되기 시작하여 더 이상 교반이 불가능한 상태의 커다란 덩어리를 형성하였다.
1000 ml of water and 300 g of methyltrimethoxysilane were mixed. 0.5 ml of concentrated hydrochloric acid was added to the mixture to remove the oily layer, and the mixture was adjusted to pH 10 with 10% aqueous NaOH solution and stirred. A large mass was formed in a state in which agglomerations were formed within 5 minutes after the agitation and no further stirring was possible.

실시예 1~5에 따른 실리콘 입자는 시드 입자를 출발물질로 하여 형성된 것으로, D50이 10~15㎛이고, (D90-D10)/D50가 2~3을 유지하는바, 입자크기가 크면서도 입자크기 분포가 좁음을 확인할 수 있었다. 특히, 실시예 5와 같이 산화아연을 시드 입자로 사용하면, D50이 15㎛이상인 실리콘 입자를 생성할 수 있음을 확인할 수 있었다.The silicon particles according to Examples 1 to 5 were formed from seed particles as a starting material and had D50 of 10 to 15 占 퐉 and (D90-D10) / D50 of 2 to 3, And the size distribution is narrow. In particular, it was confirmed that when zinc oxide was used as the seed particles as in Example 5, silicon particles having a D50 of 15 mu m or more could be formed.

반면, 비교예 1에 따르면, 시드 입자 사용의 생략으로 인하여, 제조 과정에서 입자간 뭉침이 발생하여 커다란 덩어리를 형성함을 확인할 수 있었다.
On the other hand, according to Comparative Example 1, it was confirmed that a large mass was formed due to the intergranular agglomeration due to the omission of the use of the seed particles.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (11)

(a) 산화아연 포함 시드 입자를 포함하는 분산액을 준비하는 단계; 및
(b) 상기 분산액과 실리콘 전구체를 혼합한 후, 가수분해 및 축합반응을 통해 실리콘(silicone) 입자를 제조하는 단계를 포함하고,
상기 (b) 단계에서 실리콘(silicone) 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥15㎛이며,
상기 실리콘 전구체는 하기 화학식 1로 표시되는 유기알콕시 실란을 포함하는 것을 특징으로 하는
실리콘 입자의 제조방법:
[화학식 1]
Aa-B4-a-Si
상기 식에서,
A는 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 또는 탄소수 5 내지 10의 아릴 그룹이고,
B는 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹; 또는 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹이며,
a는 1 내지 3의 정수이다.
(a) preparing a dispersion containing zinc oxide-containing seed particles; And
(b) mixing the dispersion with a silicon precursor, and then producing silicone particles through hydrolysis and condensation reaction,
When the 50% cumulative mass particle size distribution diameter in the particle distribution of the silicone particles in the step (b) is D50, D50? 15 占 퐉,
Wherein the silicon precursor comprises an organoalkoxysilane represented by the following formula (1)
Method of producing silicon particles:
[Chemical Formula 1]
A a -B 4-a -Si
In this formula,
A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms whose terminal hydrogen is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group; Or an aryl group having 5 to 10 carbon atoms,
B is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in which hydrogen at the terminal is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group,
a is an integer of 1 to 3;
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 시드 입자는 상기 (b) 단계에서 실리콘 전구체 대비 0.1중량% 내지 10중량% 포함되는
실리콘 입자의 제조방법.
The method according to claim 1,
In the step (a), the seed particles may be contained in an amount of 0.1 wt% to 10 wt% with respect to the silicon precursor in the step (b)
A method for producing silicon particles.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 가수분해 및 축합반응 후, 100℃ 내지 150℃에서 추가로 숙성시키는
실리콘 입자의 제조방법.
The method according to claim 1,
After the hydrolysis and condensation reaction in step (b), further aging is performed at 100 ° C to 150 ° C
A method for producing silicon particles.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 실리콘 입자는 D50≤20㎛인 것을 특징으로 하는
실리콘 입자의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the silicon particles in the step (b) have a D50 ≤
A method for producing silicon particles.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 실리콘 입자의 입자 분포에서 90%, 50%, 10% 누적질량 입자크기 분포 직경을 각각 D90, D50, D10이라 할 때, (D90-D10)/D50≤3인 것을 특징으로 하는
실리콘 입자의 제조방법.
The method according to claim 1,
(D90-D10) / D50? 3 when the 90%, 50%, and 10% cumulative mass particle size distribution diameters of the silicon particles in the step (b) doing
A method for producing silicon particles.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 실리콘 입자의 수율은 60% 이상인
실리콘 입자의 제조방법.
The method according to claim 1,
In the step (b), the yield of the silicon particles is 60% or more
A method for producing silicon particles.
산화아연 포함 시드 입자를 포함하는 분산액 및 실리콘 전구체로부터 형성된 실리콘 입자이고,
상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 50% 누적질량 입자크기 분포 직경을 D50이라 할 때, D50≥15㎛이며,
상기 실리콘 전구체는 하기 화학식 1로 표시되는 유기알콕시 실란을 포함하는 것을 특징으로 하는
실리콘 입자:
[화학식 1]
Aa-B4-a-Si
상기 식에서,
A는 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬 그룹; 또는 탄소수 5 내지 10의 아릴 그룹이고,
B는 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹; 또는 말단의 수소가 할로겐원자, 니트로기, 술폰기, 수산기, 아민기, 알데히드기, 또는 카르복실기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알콕시 그룹이며,
a는 1 내지 3의 정수이다.
A dispersion containing zinc oxide-containing seed particles, and a silicon particle formed from a silicon precursor,
And a 50% cumulative mass particle size distribution diameter in the particle distribution of the silicon particles is D50, D50? 15 占 퐉,
Wherein the silicon precursor comprises an organoalkoxysilane represented by the following formula (1)
Silicon particles:
[Chemical Formula 1]
A a -B 4-a -Si
In this formula,
A is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms whose terminal hydrogen is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group; Or an aryl group having 5 to 10 carbon atoms,
B is an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms in which hydrogen at the terminal is substituted with a halogen atom, a nitro group, a sulfone group, a hydroxyl group, an amine group, an aldehyde group, or a carboxyl group,
a is an integer of 1 to 3;
제10항에 있어서,
상기 실리콘 입자의 입자 분포에서 90%, 50%, 10% 누적질량 입자크기 분포 직경을 각각 D90, D50, D10이라 할 때, (D90-D10)/D50≤3인 것을 특징으로 하는
실리콘 입자.
11. The method of claim 10,
(D90-D10) / D50? 3 where 90%, 50% and 10% cumulative mass particle size distribution diameters in the particle distribution of the silicon particles are D90, D50 and D10, respectively
Silicon particles.
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