KR101700269B1 - Plasma catalyst adsorption purification apparatus capable of generating ozone and removing ozone and purification method using the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a plasma purification apparatus purifying polluted gas which comprises: an ozone generating plasma reaction layer having at least one ozone generating plasma reactor which ionizes polluted gas by discharge of plasma and generates ozone gas; and an ozone removing plasma reaction layer having a plurality of discharge electrode pins which cause discharge of plasma to remove ozone remaining in gas passing through the ozone generating plasma reaction layer.

Description

오존 발생 및 오존 제거가 가능한 플라즈마 촉매 흡착 정화 장치 및 이를 이용한 정화 방법{PLASMA CATALYST ADSORPTION PURIFICATION APPARATUS CAPABLE OF GENERATING OZONE AND REMOVING OZONE AND PURIFICATION METHOD USING THE SAME}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a plasma catalytic adsorption purification apparatus capable of generating ozone and ozone, and a purification method using the apparatus.

본 발명은 오염가스를 정화하는 플라즈마 정화 장치 및 이를 이용한 정화 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma purification apparatus for purifying a polluted gas and a purification method using the same.

일반적으로 하수처리시설, 축산폐수 처리시설, 식품제조시설, 제약시설, 의료시설 및 공공시설 지역에서는 다량의 유해 악취가스가 발생하며, 당해 분야에서는 다양한 방식의 악취가스 처리장치들을 시설하여 악취가스가 무단 방출되는 것을 제한하고 있다.In general, a large amount of harmful odor gas is generated in sewage treatment facilities, animal wastewater treatment facilities, food manufacturing facilities, pharmaceutical facilities, medical facilities and public facilities. In this field, various kinds of malodorous gas treatment devices are provided, Which limits unauthorized release.

대한민국 공개특허 제10-2006-0001068호 및 제10-2006-0071691호에는 오염 공기를 정화하는 공기정화장치가 제시되어 있는데, 이러한 종래의 공기정화장치는 슬라이딩 아크 플라즈마(sliding arc plasma)를 이용한 것으로, 오존보다 산화력이 더 강력한 라디컬을 발생시켜 오염 물질을 산화 분해하여 정화한다.Korean Patent Laid-Open Nos. 10-2006-0001068 and 10-2006-0071691 disclose an air purifier for purifying polluted air. Such a conventional air purifier uses a sliding arc plasma , Which generates more powerful oxidizing power than ozone to oxidize and decompose pollutants.

그러나 이와 같은 종래의 공기정화장치는, 아크 방전에 의해 불가피하게 NOx가 생성된다는 문제점과, 분자/원자 결합 에너지가 큰 케톤류 등의 악취 물질들을 산화시키는데 상대적으로 큰 에너지가 소요된다는 문제점과, 광촉매에서 발생되는 제한적인 라디컬 발생량과 제한적인 광촉매 흡착능력에 의해 잔류 오존의 흡착력이 작아 탈취 효율이 저감된다는 문제점과, 주기적으로 가변하는 슬라이딩 아크 전류 및 전압을 안정적으로 공급할 수 있는 전원 공급 장치가 구조적으로 매우 복잡하다는 문제점을 가진다.However, such a conventional air cleaning apparatus has a problem that NOx is inevitably generated due to arc discharge, a relatively large energy is required to oxidize odorous substances such as ketones having a large molecular / atomic bonding energy, There is a problem that the deodorization efficiency is reduced due to the limited amount of generated radicals and the limited photocatalytic adsorption ability due to the small adsorption of residual ozone and a problem that the power supply device capable of stably supplying the periodically variable sliding arc current and voltage is structurally It is very complicated.

코로나 방전이나 유전체 장벽 방전에 따른 방식에 따르면 잔류 NOx 생성을 억제하여 오존을 용이하게 생성할 수 있으나, 더욱 강력한 반응종들을 발생시킬 수 있는 조업 조건을 조성하기 곤란하기 때문에, 대용량 오염가스를 효율적으로 정화 처리할 수 없다는 문제점이 있다.According to the method based on the corona discharge or the dielectric barrier discharge, it is possible to easily generate ozone by suppressing the formation of the residual NOx, but it is difficult to create operating conditions capable of generating more powerful reaction species, There is a problem that purification treatment can not be performed.

본 발명의 목적은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 각종 악취성분이 포함된 오염가스를 플라즈마 반응종들과 효과적으로 접촉 반응시킴으로써 오염가스를 효과적으로 정화할 수 있는 플라즈마 정화 장치 및 이를 이용한 정화 방법을 제공하는 것이다.The object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a plasma purification apparatus capable of effectively purifying polluted gas by effectively causing a pollution gas containing various odor components to react with plasma reactive species effectively, .

본 발명의 일 측면에 따른 플라즈마 정화 장치는, 플라즈마 방전에 의해 오염 가스를 이온화시켜 오존 가스를 생성하는 적어도 하나의 오존 발생용 플라즈마 반응기를 구비하는 오존 발생용 플라즈마 반응층 및 상기 오존 발생용 플라즈마 반응층을 거친 가스 내에 잔존하는 오존을 제거하기 위해 플라즈마 방전을 일으키는 다수의 방전 전극 핀을 구비하는 오존 제거용 플라즈마 반응층을 포함할 수 있다.A plasma purifying apparatus according to an aspect of the present invention includes a plasma reaction layer for generating ozone having at least one ozone generating plasma reactor for ionizing a polluted gas by plasma discharge to generate ozone gas, And a plasma reaction layer for removing ozone having a plurality of discharge electrode fins for causing a plasma discharge to remove ozone remaining in the gas passing through the layer.

상기 플라즈마 정화 장치는 미생물이 부착된 바이오 세라믹층을 더 포함하고, 상기 미생물은 티오바실루스(thiobacillus) 균일 수 있다.The plasma purification apparatus may further include a bio-ceramic layer to which microorganisms are attached, and the microorganism may be a thiobacillus homogenate.

상기 플라즈마 정화 장치는 이온성 액체로 함침된 이온성 액체 함침 필터층을 더 포함하고, 상기 이온성 액체는 MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및 DES(deep eutectic solvents)로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나일 수 있다.The plasma purifier further comprises an ionic liquid impregnated filter layer impregnated with an ionic liquid, wherein the ionic liquid is selected from the group consisting of acetonitrile (MeCN), dimethyl formamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO) and deep eutectic solvents Lt; / RTI >

상기 오존 발생용 플라즈마 반응기는, 다수의 관통홀이 형성된 관 형상의 전극인 외부 전극, 상기 외부 전극의 내부에 위치되는 봉 형상의 내부 전극, 상기 내부 전극의 외주면을 둘러싸는 유전체 튜브 및 상기 외부 전극 및 상기 내부 전극에 전력을 공급하는 전원을 포함할 수 있다.The plasma reactor for ozone generation includes an outer electrode which is a tubular electrode having a plurality of through holes, a bar-shaped inner electrode located inside the outer electrode, a dielectric tube surrounding the outer circumferential surface of the inner electrode, And a power supply for supplying power to the internal electrode.

상기 외부 전극의 내주면 및 상기 유전체 튜브의 외주면 각각에는 광촉매 물질로 코팅되어 있고, 상기 광촉매 물질은 TiO2일 수 있다.Each of the inner circumferential surface of the outer electrode and the outer circumferential surface of the dielectric tube is coated with a photocatalyst material, and the photocatalyst material may be TiO 2 .

상기 오존 제거용 플라즈마 반응층은 상기 다수의 방전 전극 핀이 장착되는 프레임을 포함하고, 상기 다수의 방전 전극 핀 중 일부는, 전기적으로 직렬 접속되어 다수의 방전 간극을 형성하도록 구성되어 상기 프레임의 전방에 장착되는 제1 방전 전극 핀 세트를 이루고, 상기 다수의 방전 전극 핀 중 다른 일부는 전기적으로 직렬 접속되어 다수의 방전 간극을 형성하도록 구성되어 상기 프레임의 후방에 장착되는 제2 방전 전극 핀 세트를 이룰 수 있다.Wherein the plasma reaction layer for removing ozone includes a frame on which the plurality of discharge electrode fins are mounted and a part of the plurality of discharge electrode fins is electrically connected in series to form a plurality of discharge gaps, And the other of the plurality of discharge electrode fins is electrically connected in series so as to form a plurality of discharge gaps and is mounted on the rear of the frame with a second discharge electrode pin set Can be achieved.

본 발명의 다른 측면에 따른 오염 가스를 정화하는 정화 방법은, 플라즈마 방전에 의해 오염 가스를 이온화시킴으로써 생성되는 오존을 이용하여 오염 가스를 정화하는 오존 정화 작용과 플라즈마 방전 시 발산되는 자외선을 이용하여 광촉매 반응을 일으킴으로써 생성되는 히드록실 라디컬을 이용하여 오염 가스를 정화하는 히드록실 라디컬 정화 작용을 동시에 수행하여 오염 가스를 정화하는 오염 가스 정화 단계(S200) 및 글로우 방전과 같은 저온 플라즈마 방전을 이용하여 상기 단계(S200)를 거친 가스 내의 오존을 파괴함으로써 가스 내의 오존량을 사전 설정된 허용 기준치 이내로 저감시키는 오존 제거 단계(S300)를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a purifying method for purifying a polluted gas, comprising: an ozone purifying function for purifying a polluted gas using ozone generated by ionizing a polluting gas by a plasma discharge; A purge step S200 of purifying the polluted gas by simultaneously performing the hydroxyl radical purifying action of purifying the polluted gas using the hydroxyl radicals generated by the reaction, and a low temperature plasma discharge such as a glow discharge And an ozone removing step (S300) for reducing the amount of ozone in the gas to within a predetermined allowable reference value by destroying the ozone in the gas through the step (S200).

상기 정화 방법은 미생물을 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계(S400)를 더 포함하고, 상기 미생물은 티오바실루스(thiobacillus) 균일 수 있다.The purifying method may further comprise removing the contaminants using the microorganism (S400), wherein the microorganism may be thiobacillus homogenate.

상기 정화 방법은 이온성 액체를 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계(S500)를 더 포함하고, 상기 이온성 액체는 MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및 DES(deep eutectic solvents)로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나일 수 있다.The cleaning method further includes removing contaminants using an ionic liquid (S500), wherein the ionic liquid is selected from the group consisting of acetonitrile (MeCN), dimethyl formamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), and deep eutectic solvents, and the like.

본 발명의 플라즈마 정화 장치 및 이를 이용한 정화 방법에 따르면 오염 가스를 보다 효율적으로 정화시킬 수 있다. According to the plasma purification apparatus of the present invention and the purification method using the apparatus, the pollution gas can be purified more efficiently.

도 1은 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 오존 발생용 플라즈마 반응층을 나타낸 도면으로서, 도 2(a)는 오존 발생용 플라즈마 반응기의 사시도, 도 2(b)는 오존 발생용 플라즈마 반응기의 분해 사시도 및 도 2(c)는 오존 발생용 플라즈마 반응기의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 오존 발생용 플라즈마 반응기가 케이스 내에 다수 배열된 상태를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 4는 오존 제거용 플라즈마 반응층을 나타낸 도면으로서, 도 4(a)는 정면에서 바라본 오존 제거용 플라즈마 반응층을 나타낸 사시도이고, 도 4(b)는 후면에서 바라본 오존 제거용 플라즈마 반응층을 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 오염 가스 정화 방법을 나타낸 흐름도이다.
1 is a schematic view of a pollutant gas purifying apparatus according to the present invention.
2 (a) is a perspective view of a plasma reactor for generating ozone, Fig. 2 (b) is an exploded perspective view of a plasma reactor for generating ozone, and Fig. 2 and c) is a cross-sectional view of the ozone generating plasma reactor.
3 is a plan view schematically showing a state in which a plurality of plasma reactors for generating ozone according to the present invention are arranged in a case.
4 (a) is a perspective view showing a plasma reaction layer for ozone removal as seen from the front, and Fig. 4 (b) is a perspective view showing a plasma reaction layer for removing ozone, Fig.
5 is a flowchart illustrating a method for purifying a polluted gas according to the present invention.

본 발명의 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면에 나타낸 예시적인 실시 예와 후술하는 상세한 설명을 통해 더욱 명확해질 것이다. 명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 또는 "구비"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외한 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함하거나 구비할 수 있다는 것을 의미한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. It is to be understood that when an element is referred to as being "comprising" or "comprising" an element throughout the specification, it is to be understood that the element may or may not include other elements, .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 is a schematic view of a pollutant gas purifying apparatus according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치(10)는 오염 가스를 실시간으로 산화 분해하여 인체에 무해한 가스로 정화하는 장치로서, 전처리기(20), 오존 발생기(30), 혼합기(40), 오존 발생용 플라즈마 반응층(50), 흡착 필터층(60), 오존 제거용 플라즈마 반응층(70), 바이오 세라믹층(80), 이온성 액체 함침 필터층(90), 복합 흡착 필터층(100), 송풍기(110) 및 액상세정탑(120)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the apparatus 10 for purifying a polluted gas according to the present invention is a device for oxidizing and decomposing pollutant gases in real time to be harmless to the human body, and includes a preprocessor 20, an ozone generator 30, 40, a plasma reaction layer 50 for generating ozone, an adsorption filter layer 60, a plasma reaction layer 70 for removing ozone, a bioceramic layer 80, an ionic liquid impregnation filter layer 90, a composite adsorption filter layer 100 , A blower 110, and a liquid scrubbing tower 120.

전처리기(20)는 전기 집진기, 소수성 캔들(candle) 필터, 소수성 필터 또는 유수 분리기를 이용하여 구성될 수 있으며, 그의 내부로 유입되는 오염 가스에 포함된 분진, 수분 및/또는 유분 등과 같은 액상 또는 고상 오염 물질을 일차적으로 정화하는 역할을 수행할 수 있다.The preprocessor 20 may be constructed using an electrostatic precipitator, a hydrophobic candle filter, a hydrophobic filter, or an oil-water separator. The preprocessor 20 may be a liquid, such as dust, water, and / or oil, It can perform a role of primarily purifying solid phase pollutants.

오존 가스 발생기(30)는 DBD(Dielectric Barrier Discharge) 방식의 표면 방전(surface discharge)을 이용한 저농도 오존 발생기 또는 수냉식 고농도 오존 발생기로 구성될 수 있고, 정화 처리될 오염 공기의 처리량에 따라 공기를 원료로 오존을 필요한 양만큼 생성하여 공급할 수 있다.The ozone gas generator 30 may be composed of a low concentration ozone generator using a surface discharge of a DBD (Dielectric Barrier Discharge) method or a water-cooled high concentration ozone generator. Depending on the throughput of polluted air to be purified, Ozone can be generated and supplied in required amounts.

혼합기(40)는 오염 가스와 오존을 혼합하여 접촉시키는 가스-가스 혼합 장치로서, 내부식성 고분자 물질이나 금속으로 이루어진 원통 또는 사각 박스로 구성될 수 있다.The mixer 40 is a gas-gas mixing device for mixing and contacting the polluted gas with ozone, and may be formed of a cylindrical or rectangular box made of a corrosion-resistant polymer material or metal.

도 2는 본 발명에 따른 오존 발생용 플라즈마 반응기를 나타낸 도면으로서, 도 2(a)는 오존 발생용 플라즈마 반응기의 사시도, 도 2(b)는 오존 발생용 플라즈마 반응기의 분해 사시도 및 도 2(c)는 오존 발생용 플라즈마 반응기의 단면도이다.2 (a) is a perspective view of a plasma reactor for generating ozone, Fig. 2 (b) is an exploded perspective view of a plasma reactor for generating ozone, and Fig. 2 ) Is a cross-sectional view of a plasma reactor for generating ozone.

도 2를 참조하면, 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)는 봉 형상의 내부 전극(51), 내부 전극(51)을 둘러싸는 유전체 튜브(tube)(52), 다수의 관통홀(through holes)(55)이 형성된 외부 전극(53) 및 내부 전극(51)과 외부 전극(53)에 전력을 공급하는 전원(56)을 포함할 수 있다.2, the ozone generating plasma reactor 59 includes a rod-shaped inner electrode 51, a dielectric tube 52 surrounding the inner electrode 51, a plurality of through holes And an electric power source 56 for supplying electric power to the internal electrode 51 and the external electrode 53. The external electrode 53 may be formed of a conductive material,

내부 전극(51)은 유전체 튜브(52) 내에 삽입되는 봉 형상의 전극으로서 스테인레스 스틸이나 구리 등과 같은 전도성 재질의 금속으로 이루어질 수 있다.The internal electrode 51 is a rod-shaped electrode inserted into the dielectric tube 52 and may be made of a conductive metal such as stainless steel or copper.

유전체 튜브(52)는 세라믹(특히, 용융 알루미나), 유리 및/또는 석영 등의 절연 재질로 이루어진 구성요소로서, 봉 형상의 내부 전극(51)이 내부에 삽입되어 밀봉되도록 관 형상의 튜브로 구성될 수 있다. 따라서, 내부 전극(51)의 외부 직경과 유전체 튜브(52)의 내부 직경은 서로 동일한 치수를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 유전체 튜브(52)의 외주면에는 TiO2로 코팅된 광촉매층이 형성될 수 있다.The dielectric tube 52 is constituted by an insulating material such as ceramic (particularly, fused alumina), glass and / or quartz, and is constituted by a tubular tube so that the rod- . Therefore, it is preferable that the outer diameter of the inner electrode 51 and the inner diameter of the dielectric tube 52 have the same dimensions. A photocatalyst layer coated with TiO 2 may be formed on the outer circumferential surface of the dielectric tube 52.

외부 전극(53)은 다수의 관통홀(55)이 형성된 관 형상의 전극으로서 스테인레스 스틸이나 구리 등과 같은 전도성 재질의 금속 플레이트를 이용하여 제조될 수 있다. 외부 전극(53)은 유전체 튜브(52)의 외측에 위치한다. 이때, 외부 전극(53)의 외부 직경은 유전체 튜브(52)의 외부 직경보다 크기 때문에 유전체 튜브(52)와 외부 전극(53) 사이에는 플라즈마 생성 공간(54)이 형성되고, 그 공간(54) 내에서 플라즈마 방전이 일어난다. 또한, 외부 전극(53)의 내주면에는 TiO2로 코팅된 광촉매층이 형성될 수도 있다.The external electrode 53 may be manufactured using a metal plate of a conductive material such as stainless steel or copper as a tubular electrode having a plurality of through holes 55 formed therein. The outer electrode 53 is located outside the dielectric tube 52. Since the outer diameter of the outer electrode 53 is larger than the outer diameter of the dielectric tube 52, a plasma generating space 54 is formed between the dielectric tube 52 and the outer electrode 53, A plasma discharge occurs. A photocatalyst layer coated with TiO 2 may be formed on the inner peripheral surface of the external electrode 53.

이와 같이 구성된 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)를 이용하여 오염 가스를 정화하는 과정을 살펴보면, 오염 가스는 다수의 관통홀(55)을 통해 플라즈마 생성 공간(54) 내로 유입되거나 그로부터 유출될 수 있고, 이에 따라 플라즈마 생성 공간(54) 내의 플라즈마에 의해 생성되는 오존 가스에 의한 '오존 정화 작용' 및 자외선/광촉매에 의해 생성되는 히드록실 라디컬에 의한 '히드록실 라디컬 정화 작용'에 의해 보다 효율적으로 오염 가스의 정화 처리가 수행될 수 있다.In the process of purifying the polluted gas using the ozone generating plasma reactor 59, the polluted gas can flow into or out of the plasma generating space 54 through the plurality of through holes 55, The ozone purifying function by the ozone gas generated by the plasma in the plasma generating space 54 and the 'hydroxyl radical purifying function by the hydroxyl radical generated by the ultraviolet ray / photocatalyst' A purification treatment of the polluted gas can be performed.

구체적으로, '오존 정화 작용'이란 플라즈마 생성 공간(54) 내의 플라즈마 방전에 의해 발생되는 고에너지의 전자들이 오염 가스를 이온화시켜 오존(O3) 가스를 포함한 다양한 플라즈마 반응종들(plasma reactive species)(예컨대, O, N, OH, HO2, H2O2 등)을 생성하고, 이에 따라 강력한 산화력을 가진 오존(O3)을 포함한 반응종들이 오염 가스 내의 오염 물질을 순간적으로 산화시켜 인체에 무해한 물질로 전환시키는 작용을 말한다. The term 'ozone purifying action' refers to the action of high-energy electrons generated by the plasma discharge in the plasma generating space 54 to ionize the polluted gas to generate various plasma reactive species including ozone (O 3 ) reactive species including ozone (O 3) that has a strong oxidation power thus generated (e.g., O, N, OH, HO 2, H 2 O 2 and the like), and are to instantly oxidize contaminants in the dirty gas on the human body It is an action that converts into a harmless substance.

또한, '히드록실 정화 작용'이란 플라즈마 방전시 발산되는 특정 대역의 자외선(예컨대, 300~400nm 파장 대역의 UVA 광)이 유전체 튜브(52)의 외주면 및 외부 전극(53)의 내주면에 각각 코팅 형성된 광촉매층에 조사되어 광촉매 반응을 일으켜 히드록실 라디컬을 발생시킴으로써 오염 가스에 포함된 포름알데히드(formaldehyde) 또는 VOCs(Volatile Organic Compounds: 휘발성 유기 화합물) 등과 같은 유해 물질을 인체에 무해한 H2O와 CO2 등으로 분해하는 작용을 말한다.The term "hydroxyl cleaning action" refers to the action of ultraviolet rays (for example, UVA light in a wavelength band of 300 to 400 nm) emitted from a specific band emitted during plasma discharge to the outer peripheral surface of the dielectric tube 52 and the inner peripheral surface of the external electrode 53 The photocatalyst layer is irradiated with a photocatalytic reaction to generate hydroxyl radicals. Harmful substances such as formaldehyde or VOCs (volatile organic compounds) contained in the polluted gas are converted into H 2 O and CO 2 , and so on.

본 발명의 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)를 이용하면, 앞서 자세히 설명한 '오존 정화 작용' 및 '히드록실 정화 작용'이 플라즈마 생성 공간(54) 내에서 동시에 수행될 수 있기 때문에 오염 가스를 보다 효율적으로 정화 처리할 수 있다.The use of the ozone generating plasma reactor 59 of the present invention enables the ozone purifying action and the hydroxyl purifying action to be performed simultaneously in the plasma generating space 54, . ≪ / RTI >

도 3은 본 발명에 따른 오존 발생용 플라즈마 반응기가 케이스 내에 다수 탑재된 상태를 개략적으로 나타낸 평면도이다. 도 3을 참조하면, 오존 발생용 플라즈마 반응층(50)은 케이스(57) 내에 탑재된 다수의 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)를 구비할 수 있다. 서로 이웃한 2개의 오존 발생용 플라즈마 반응기(59) 사이에는 오염 가스가 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)를 경유하지 않고 우회(bypass)하여 유동하는 것을 방지하기 위한 우회 방지 파티션(bypass preventing partition)(58)이 선택적으로 구비될 수도 있다. 이와 같은 우회 방지 파티션(58)에 의해 오염 가스가 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)에 의해 정화 처리되지 않고 우회하는 것이 사전에 방지될 수 있기 때문에, 오염 가스의 정화 처리가 보다 효율적으로 이루어질 수 있다.3 is a plan view schematically showing a state in which a plurality of plasma reactors for generating ozone according to the present invention are mounted in a case. Referring to FIG. 3, the plasma reaction layer 50 for generating ozone may include a plurality of ozone generating plasma reactors 59 mounted in a case 57. A bypass preventing partition (not shown) is provided between the adjacent two ozone generating plasma reactors 59 to prevent the contaminated gas from bypassing and flowing through the ozone generating plasma reactor 59 58 may be optionally provided. Since the pollution gas can be prevented from being bypassed without being purified by the ozone generating plasma reactor 59 by the bypass preventing partition 58, the pollution gas purifying process can be performed more efficiently .

흡착 필터층(60)은 오염 물질 및 오존을 흡착하여 이들 간 접촉 시간을 연장시킴으로써 오염 가스의 정화 효율을 증대시키는 역할을 수행하는 필터층이다. 이때, 흡착 필터층(60)는 미사용된 잔류 오존 가스 및 오염 물질 중 분자량이 큰 VOCs도 함께 흡착할 수 있도록 제올라이트 계열의 다공성 메조포러즈(mesoporous) 물질로 이루어질 수 있다.The adsorption filter layer 60 is a filter layer that plays a role of adsorbing contaminants and ozone to prolong the contact time between the adsorbing filter layers 60 to increase the purifying efficiency of the polluted gas. At this time, the adsorption filter layer 60 may be made of a zeolite-based porous mesoporous material so that unused residual ozone gas and contaminants may be adsorbed together with VOCs having large molecular weights.

도 4는 오존 제거용 플라즈마 반응층을 나타낸 도면으로서, 도 4(a)는 정면에서 바라본 오존 제거용 플라즈마 반응층을 나타낸 사시도이고, 도 4(b)는 후면에서 바라본 오존 제거용 플라즈마 반응층을 나타낸 사시도이다. 4 (a) is a perspective view showing a plasma reaction layer for ozone removal as viewed from the front, and Fig. 4 (b) is a perspective view showing a plasma reaction layer for removing ozone as shown in Fig. Fig.

도 4를 참조하면, 오존 제거용 플라즈마 반응층(70)은 글로우(glow) 방전 같은 저온 플라즈마 방전이 일어나는 공간을 형성하는 프레임(71) 및 프레임(71)에 장착되는 다수의 방전 전극 핀(pin)(P1-1,P1-2,‥‥,P1-9,P2-1,P2-2,‥‥,P2-9)을 구비할 수 있다.4, the ozone removing plasma reaction layer 70 includes a frame 71 for forming a space in which a low-temperature plasma discharge occurs, such as a glow discharge, and a plurality of discharge electrode pins (P1-1, P1-2, ..., P1-9, P2-1, P2-2, ..., P2-9).

프레임(71)은 절연 재질로 이루어진 4각 형상의 프레임으로서, 내부에 2개 이상의 가스 통로(72, 73)를 구획하도록 1개 이상의 구획 격벽(74)이 내부에 구비될 수 있다.The frame 71 is a quadrangular frame made of an insulating material. One or more partition walls 74 may be provided inside the frame 71 so as to partition at least two gas passages 72, 73 therein.

도 4(a)에 나타낸 바와 같이, 가스가 유입되는 프레임(71)의 유입 측면에 9개의 방전 전극 핀이 전기적으로 직렬 접속되어 6개의 방전 간극(gap)(G1-1,G1-2,‥‥,G1-6)을 형성하도록 구성된 제1 방전 전극 핀 세트(pin set)(P1-1,P1-2,‥‥,P1-9)가 프레임(71)의 전방에 장착될 수 있다. 이에 따라, 전원(S)이 전기적으로 직렬 접속하는 9개의 방전 전극 핀으로 구성된 제1 방전 전극 핀 세트(P1-1,P1-2,‥‥,P1-9)에 전력을 공급하면, 각각의 방전 간극(G1-1,G1-2,‥‥,G1-6)에는 글로우 방전 같은 저온 플라즈마 방전에 의해 가스 내의 오존을 파괴하고, 이에 따라 유입되는 가스 내의 오존량을 일차적으로 저감시킬 수 있다.As shown in Fig. 4 (a), nine discharge electrode fins are electrically connected in series to the inflow side of the frame 71 into which the gas flows, so that six discharge gaps G1-1, G1-2, ... P1-1, P1-2, ..., P1-9 configured to form the first discharge electrode pin sets G1, G2, ..., G1-6 may be mounted in front of the frame 71. [ Accordingly, when power is supplied to the first discharge electrode pin sets P1-1, P1-2, ..., P1-9 constituted by nine discharge electrode pins to which the power source S is electrically connected in series, The discharge gaps G1-1, G1-2, ..., G1-6 are capable of destroying ozone in the gas by a low-temperature plasma discharge such as a glow discharge, thereby reducing the amount of ozone in the introduced gas.

또한, 가스 내의 잔존하는 오존을 남김없이 대부분 제거하기 위해, 도 4(b)에 나타낸 바와 같이, 가스가 유출되는 프레임(71)의 유출 측면에 9개의 방전 전극 핀이 전기적으로 직렬 접속되어 6개의 방전 간극(gap)(G2-1,G2-2,‥‥,G2-6)을 형성하도록 구성된 제2 방전 전극 핀 세트(pin set)(P2-1,P2-2,‥‥,P2-9)가 프레임(71)의 후방에 장착될 수 있다. 이에 따라, 전원(S)이 전기적으로 직렬 접속하는 9개의 방전 전극 핀으로 구성된 제2 방전 전극 핀 세트(P2-1,P2-2,‥‥,P2-9)에 전력을 공급하면, 각각의 방전 간극(G2-1,G2-2,‥‥,G2-6)에는 글로우 방전 같은 저온 플라즈마 방전에 의해 유출되는 가스 내의 오존을 대부분 파괴함으로써 가스 내의 오존량을 이차적으로 저감시킬 수 있다.As shown in Fig. 4 (b), nine discharge electrode fins are electrically connected in series to the outflow side of the frame 71 through which the gas flows out, so as to remove most of the ozone remaining in the gas, P2-2, ..., P2-9 configured to form discharge gaps (G2-1, G2-2, ..., G2-6) Can be mounted on the rear side of the frame 71. Accordingly, when power is supplied to the second discharge electrode pin sets (P2-1, P2-2, ..., P2-9) constituted by nine discharge electrode pins to which the power source S is electrically connected in series, The amount of ozone in the gas can be reduced secondarily by destroying most of the ozone in the gas flowing out by the low temperature plasma discharge such as glow discharge to the discharge gaps G2-1, G2-2, ..., G2-6.

프레임의 전방과 후방에 각각 장착되는 제1 및 제2 방전 전극 핀 세트(pin set)를 구비하는 본 발명의 오존 제거용 플라즈마 반응층(70)을 이용하면, 다수의 방전 전극 핀(P1-1,P1-2,‥‥,P1-9,P2-1,P2-2,‥‥,P2-9)이 전기적으로 직렬 접속되어 프레임(71)의 유입 측면 및 유출 측면 각각의 동일 평면 상에 위치되도록 구비되므로, 균일한 글로우 방전을 유도할 수 있을 뿐 아니라 가스와 플라즈마 반응종 간의 접촉 면적을 크게 설정할 수 있다. 그 결과, 가스 내에 잔존하는 대량의 오존을 효율적으로 대부분 파괴하여 오존량을 사전 결정된 허용 기준치 이내로 용이하게 저감시킬 수 있고, 아울러 에너지 효율 및 악취 제거율을 현저하게 향상시킬 수 있다. 결국, 최종적으로 정화 처리되어 배출되는 정화 가스 내의 오존 함량이 환경 기준에 따른 허용 농도 기준치 이내에서 유지되도록 용이하게 조절할 수 있다.By using the plasma reaction layer 70 for removing ozone according to the present invention having the first and second discharge electrode pin sets respectively mounted on the front and rear of the frame, , P2-9, P2-2, ..., P2-9) are electrically connected in series and are positioned on the same plane on the inflow side and outflow side of the frame 71 The uniform glow discharge can be induced, and the contact area between the gas and the plasma reaction species can be set to a large value. As a result, a large amount of ozone remaining in the gas can be efficiently broken most effectively, the amount of ozone can be easily reduced to within a predetermined allowable reference value, and the energy efficiency and odor removal rate can be remarkably improved. As a result, it is possible to easily adjust the content of ozone in the purifying gas finally purified and discharged to be maintained within the allowable concentration standard value according to the environmental standard.

바이오 세라믹층(80)은 제올라이트 및/또는 유리 재질로 이루어진 다공성 물질에 미생물, 예컨대 티오바실루스(thiobacillus) 균을 부착시킴으로써 구성될 수 있다. 티오바실루스 균을 이용하여 황화수소와 같은 오염 물질을 제거하기 위해 선택적으로 구비될 수 있다.The bio-ceramic layer 80 may be formed by attaching microorganisms, such as thiobacillus bacteria, to a porous material made of zeolite and / or glass. May be optionally provided to remove contaminants such as hydrogen sulphide using thiobacillus.

이온성 액체 함침 필터층(90)은 제올라이트(zeolite) 흡착층을 이온성 액체에 함침시킴으로써 제조된다. 이때, MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 또는 DES(deep eutectic solvents)가 이온성 액체로서 이용될 수 있다. 이온성 액체 함침 필터층(90)은 전기화학적 분해의 의해 O2 -(superoxide) 라디컬을 생성하고, 이와 동시에 생성된 O2 - 라디컬을 이온성 액체 내에 용해시켜 O2 - 라디컬의 수명을 연장시키기 위해 선택적으로 구비될 수 있고, 이에 따라 오염 가스의 정화 처리 효율을 대폭적으로 향상시킬 수 있다.The ionic liquid impregnated filter layer 90 is prepared by impregnating a zeolite adsorption layer with an ionic liquid. At this time, MeCN (acetonitrile), DMF (dimethyl formamide), DMSO (dimethyl sulfoxide), or DES (deep eutectic solvents) can be used as an ionic liquid. Ionic liquid impregnated filter layer 90 by the electrochemical decomposition O 2 - (superoxide) generation of radicals, and the O 2 generated at the same time - by dissolving the radical in the ionic liquid O 2 - the lifetime of the radicals So that the efficiency of the purification treatment of the polluted gas can be remarkably improved.

복합 흡착 필터층(100)은 이산화망간(MnO2)을 가진 활성탄을 이용하여 제조될 수 있으며, 그 외에도 제올라이트 또는 고농도 실리카를 함유하는 알루미늄 실리케이트 흡착제를 이용하여 제조될 수 있다. 이러한 복합 흡착 필터층(100)은 미처리 오존 가스와 오염 물질을 제거하기 위해 선택적으로 채용될 수도 있다.The composite adsorption filter layer 100 may be prepared using activated carbon having manganese dioxide (MnO 2 ), or may be prepared using an aluminosilicate adsorbent containing zeolite or high concentration silica. Such a composite adsorption filter layer 100 may be selectively employed to remove untreated ozone gas and contaminants.

송풍기(110)는 미처리 오존 가스와 오염 물질을 포함한 오염 가스를 액상 세정탑(120)으로 이송시킨다.The blower 110 conveys polluted gas containing untreated ozone gas and contaminants to the liquid scrubbing tower 120.

액상 세정탑(120)은 오염 가스내에 잔류하는 미처리 오존 가스와 미세 고상 및 액상 오염 물질을 제거한 최종적으로 정화 처리된 가스를 외기로 배출시키기 위해 선택적으로 채용될 수도 있다. The liquid scrubbing tower 120 may be selectively employed for discharging the untreated ozone gas remaining in the polluted gas and the finally purified gas from which the fine solid and liquid contaminants have been removed to the outside air.

이제, 도 5에 도시된 오염 가스 정화 방법을 참조하여 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치를 이용하여 오염 가스를 정화하는 방법의 바람직한 실시 예를 설명한다.A preferred embodiment of the method for purifying the polluted gas using the pollution gas purifying apparatus according to the present invention will now be described with reference to the pollution gas purifying method shown in Fig.

도 5를 참조하면, 오염 가스 정화 방법은, 오염 가스 전처리 단계(S100), 플라즈마 방전에 의해 생성된 오존을 이용하여 오염 가스를 정화하는 단계(S200), 플라즈마 방전을 이용하여 오존을 제거하는 단계(S300), 미생물을 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계(S400), 이온성 액체를 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계(S500) 및 잔존 오염 물질을 제거하는 단계(S600)를 포함한다.Referring to FIG. 5, the pollutant gas purifying method includes a pollutant gas pretreatment step (S100), purifying the polluted gas using ozone generated by plasma discharge (S200), removing ozone using a plasma discharge (S300), removing the pollutants using the microorganisms (S400), removing the pollutants using the ionic liquid (S500), and removing the remaining pollutants (S600).

오염 가스 전처리 단계(S100)는 오염 가스 내의 일부 오염 물질을 일차적으로 제거하는 단계로서, 전처리기(20)를 이용하여 오염 가스 내의 분진, 수분, 유분 등과 같은 액상 또는 고상의 오염 물질의 일부를 제거하는 단계 및 혼합기(40) 내에서 오염 가스 및 오존 가스를 서로 혼합하여 접촉시켜 오염 물질을 제거하는 단계를 포함한다.The pretreatment step (S100) of the polluted gas is a step of removing some pollutants in the polluted gas, and the pretreatment (20) is used to remove some of the liquid or solid contaminants such as dust, moisture and oil in the polluted gas And mixing and contacting the polluting gas and the ozone gas in the mixer (40) to remove contaminants.

플라즈마 방전에 의해 생성된 오존을 이용하여 오염 가스를 정화하는 단계(S200)는 상술한 본 발명에 따른 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)를 이용하여 오염 가스를 정화하는 단계를 말한다. 구체적으로, 오염 가스를 오존 발생용 플라즈마 반응기(59)의 외부 전극(53)에 형성된 다수의 관통홀(55)을 통해 오염 가스를 플라즈마 생성 공간(54) 내로 유입시킨 후, 플라즈마 생성 공간(54) 내에서 플라즈마 방전에 의해 생성된 고에너지 전자들이 오염 가스를 이온화시켜 오존을 포함한 다양한 플라즈마 반응종들을 생성하여 오염 가스 내의 오염 물질을 산화시킴으로써 오염 가스의 정화하는 '오존 정화 작용'을 수행하고, 이와 동시에 플라즈마 방전시 발산되는 특정 대역의 자외선이 유전체 튜브(52)의 외주면 및 외부 전극(53)의 내주면에 각각 코팅 형성된 광촉매층에 조사되어 광촉매 반응을 일으켜 히드록실 라디컬을 발생시킴으로써 오염 가스에 포함된 포름알데히드나 VOCs와 같은 유해 물질을 인체에 무해한 H2O와 CO2 등으로 분해하는 '히드록실 라디컬 정화 작용'을 수행한다. 단계(S200)에서는, 플라즈마 방전을 이용한 '오존 정화 작용' 및 '히드록실 라디컬 정화 작용'을 동시에 수행하여 오염 가스를 정화하기 때문에, 오염 가스의 정화 처리가 보다 효율적으로 실행될 수 있다.The step of purifying the polluted gas using the ozone generated by the plasma discharge (S200) refers to the step of purifying the polluted gas using the ozone generating plasma reactor 59 according to the present invention. Specifically, the polluted gas is introduced into the plasma generating space 54 through the plurality of through holes 55 formed in the outer electrode 53 of the ozone generating plasma reactor 59, and then the plasma generating space 54 The high energy electrons generated by the plasma discharge ionize the polluted gas to generate various plasma reaction species including ozone to oxidize contaminants in the polluted gas to purify the polluted gas, At the same time, ultraviolet rays of a specific band emitted upon plasma discharge are irradiated to the photocatalyst layer coated on the outer circumferential surface of the dielectric tube 52 and the inner circumferential surface of the outer electrode 53, causing a photocatalytic reaction to generate hydroxyl radicals, for decomposing harmful substances, such as with formaldehyde or VOCs into H 2 O and CO 2, such as harmless to the human body, hydroxyl It performs decals purification. In step S200, since the 'ozone purifying action' and the 'hydroxyl radical purifying action' using the plasma discharge are simultaneously performed to purify the polluted gas, the purifying process of the polluted gas can be performed more efficiently.

글로우 방전과 같은 저온 플라즈마 방전을 이용하여 오존을 제거하는 단계(S300)는 가스 내의 잔존 오존량을 허용 기준치 이내로 저감시키기 위해 앞서 설명한 플라즈마 반응층(70)을 이용하여 가스 내의 오존을 파괴하는 단계이다. 구체적으로, 단계(S300)에서는 오존 제거용 플라즈마 반응층(70)으로 유입된 직후의 가스 내의 오존을 일차적으로 파괴하는 단계와 오존 제거용 플라즈마 반응층(70)으로부터 유출되기 직전의 가스 내의 오존을 이차적으로 파괴하는 단계가 수행될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 오존 제거용 플라즈마 반응층(70)을 이용하면, 가스 내에 잔존하는 대량의 오존을 효과적으로 대부분 파괴하여 오존량을 사전 결정된 허용 기준치 이내로 용이하게 저감시킬 수 있다.The step of removing ozone using a low-temperature plasma discharge such as a glow discharge (step S300) is a step of destroying ozone in the gas by using the plasma reaction layer 70 described above in order to reduce the remaining amount of ozone in the gas to within an allowable reference value. Specifically, in step S300, ozone in the gas immediately after flowing into the plasma reaction layer 70 for ozone removal is firstly broken and the ozone in the gas immediately before flowing out from the plasma reaction layer 70 for removing ozone is removed A secondary destructive step can be performed. Therefore, by using the plasma reaction layer 70 for removing ozone according to the present invention, a large amount of ozone remaining in the gas can be effectively broken most effectively, and the amount of ozone can be easily reduced to within a predetermined allowable reference value.

미생물을 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계(S400)는 앞서 자세히 설명한 바이오 세라믹층(80)을 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계로서, 구체적으로 제올라이트로 이루어진 다공성 물질에 티오바실루스(thiobacillus) 균을 부착하고, 그 균을 이용하여 오염 물질을 제거하는 작용을 수행한다. The step of removing contaminants using microorganisms (S400) is a step of removing contaminants using the bioceramics layer (80) described in detail above. Specifically, thiobacillus bacteria are attached to the porous material made of zeolite And performs the action of removing contaminants by using the bacteria.

이온성 액체를 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계(S500)는 이온성 액체, 예컨대 MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및/또는 DES(deep eutectic solvents)를 이용하여 전기화학적 분해의 의해 O2 -(superoxide) 라디컬을 생성시키고, 생성된 O2 - 라디컬 및 잔류 오존 가스를 이온성 액체 내에 용해시켜 그 수명을 연장시킬 수 있다. 따라서 오염 가스의 정화 처리 효율이 크게 향상될 수 있다.The step of removing contaminants using an ionic liquid (S500) may be carried out using an ionic liquid such as MeCN (acetonitrile), DMF (dimethyl formamide), DMSO (dimethyl sulfoxide) and / or DES (deep eutectic solvents) chemical decomposition of O 2 by - (superoxide) to generate the radicals, generated O 2 - the radicals and residual ozone gas is dissolved in the ionic liquid can extend its life. Therefore, the purification treatment efficiency of the polluted gas can be greatly improved.

잔존 오염 물질을 제거하는 단계(S600)는 앞서 설명한 복합 흡착 필터층(100) 및 액상 세정탑(120)을 이용하여 미처리된 잔존 오염 물질을 최종적으로 제거하는 단계를 말한다. 최종적으로 정화 처리된 가스는 송풍기(110)의 송풍에 의해 외기로 배출된다.Step S600 of removing the residual contaminants is a step of finally removing the untreated contaminants using the complex adsorption filter layer 100 and the liquid scrubbing column 120 described above. The finally purified gas is discharged to the outside air by the blowing of the blower 110.

이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하였으나, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니고 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위 내에서 수정되거나 변경될 수 있다. 그러므로 본 발명의 범위는 상술한 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되고 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 그에 균등한 것들에 의해 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be determined by the equivalents of the following claims.

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10: 오염 가스 정화 장치
20: 전처리기
30: 오존 발생기
40: 혼합기
50: 오존 발생용 플라즈마 반응층
60: 흡착 필터층
70: 오존 제거용 플라즈마 반응층
80: 바이오 세라믹층
90: 이온성 액체 함침 필터층
100: 복합 흡착 필터층
110: 송풍기
120: 액상세정탑
10: Pollution gas purifier
20: preprocessor
30: ozone generator
40: Mixer
50: Plasma reaction layer for generating ozone
60: adsorption filter layer
70: Plasma reaction layer for removing ozone
80: Bioceramic layer
90: ionic liquid impregnated filter layer
100: composite adsorption filter layer
110: blower
120: liquid washing tower

Claims (9)

오염 가스를 정화하는 플라즈마 정화 장치에 있어서,
플라즈마 방전에 의해 오염 가스를 이온화시켜 오존 가스를 생성하는 오존 발생용 플라즈마 반응층; 및 상기 오존 발생용 플라즈마 반응층을 거친 가스 내에 잔존하는 오존을 제거하기 위해 글로우 방전과 같은 저온 플라즈마 방전을 일으키는 오존 제거용 플라즈마 반응층;을 포함하되,
상기 오존 발생용 플라즈마 반응층은, 케이스; 상기 케이스 내에 탑재된 다수의 오존 발생용 플라즈마 반응기; 및 상기 다수의 오존 발생용 플라즈마 반응기 중 서로 이웃한 2개의 오존 발생용 플라즈마 반응기 사이에 설치되는 우회 방지 파티션;을 포함하고,
상기 오존 제거용 플라즈마 반응층은, 적어도 2개의 가스 통로가 구획되도록 적어도 하나의 구획 격벽이 설치된 프레임; 상기 프레임의 전방에 장착되며 전기적으로 직렬 접속되어 다수의 방전 간극을 형성하도록 구성된 제1 방전 전극 핀 세트; 및 상기 프레임의 후방에 장착되며 전기적으로 직렬 접속되어 다수의 방전 간극을 형성하도록 구성된 제2 방전 전극 핀 세트;를 포함하는
플라즈마 정화 장치.
1. A plasma purification apparatus for purifying a polluted gas, comprising:
A plasma reaction layer for generating ozone which generates ozone gas by ionizing the polluted gas by plasma discharge; And a plasma reaction layer for removing ozone which causes a low temperature plasma discharge such as a glow discharge to remove ozone remaining in the gas passing through the ozone generating plasma reaction layer,
The plasma reaction layer for generating ozone comprises: a case; A plurality of ozone generating plasma reactors mounted in the case; And a bypass barrier disposed between two adjacent ozone generating plasma reactors of the plurality of ozone generating plasma reactors,
Wherein the plasma reaction layer for removing ozone comprises a frame provided with at least one partition wall such that at least two gas passages are partitioned; A first discharge electrode pin set mounted in front of the frame and electrically connected in series to form a plurality of discharge gaps; And a second discharge electrode pin set mounted at the rear of the frame and electrically connected in series to form a plurality of discharge gaps
Plasma purification apparatus.
제 1 항에 있어서,
상기 플라즈마 정화 장치는 미생물이 부착된 바이오 세라믹층을 더 포함하되, 상기 미생물은 티오바실루스(thiobacillus) 균인
플라즈마 정화 장치.
The method according to claim 1,
The plasma purification apparatus may further include a bio-ceramic layer to which microorganisms are attached, wherein the microorganism is a genus of thiobacillus
Plasma purification apparatus.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 플라즈마 정화 장치는 이온성 액체로 함침된 이온성 액체 함침 필터층을 더 포함하되, 상기 이온성 액체는 MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및 DES(deep eutectic solvents)로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나인
플라즈마 정화 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The plasma purification apparatus further comprises an ionic liquid impregnated filter layer impregnated with an ionic liquid, wherein the ionic liquid is selected from the group consisting of acetonitrile (MeCN), dimethyl formamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO) and deep eutectic solvents At least one selected from the group consisting of
Plasma purification apparatus.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 오존 발생용 플라즈마 반응기는, 다수의 관통홀이 형성된 관 형상의 전극인 외부 전극; 상기 외부 전극의 내부에 위치되는 봉 형상의 내부 전극; 상기 내부 전극의 외주면을 둘러싸는 유전체 튜브; 및 상기 외부 전극과 상기 내부 전극에 전력을 공급하는 전원;을 포함하는
플라즈마 정화 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The plasma reactor for generating ozone includes: an external electrode that is a tubular electrode having a plurality of through holes; A rod-shaped inner electrode positioned inside the outer electrode; A dielectric tube surrounding the outer circumferential surface of the inner electrode; And a power supply for supplying power to the external electrode and the internal electrode
Plasma purification apparatus.
제 4 항에 있어서,
상기 외부 전극의 내주면 및 상기 유전체 튜브의 외주면 각각에는 광촉매 물질로 코팅되어 있고, 상기 광촉매 물질은 TiO2
플라즈마 정화 장치.
5. The method of claim 4,
The inner circumferential surface of the outer electrode and the outer circumferential surface of the dielectric tube are each coated with a photocatalyst material, and the photocatalyst material is TiO 2
Plasma purification apparatus.
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