KR101698226B1 - Optical film - Google Patents

Optical film Download PDF

Info

Publication number
KR101698226B1
KR101698226B1 KR1020120042135A KR20120042135A KR101698226B1 KR 101698226 B1 KR101698226 B1 KR 101698226B1 KR 1020120042135 A KR1020120042135 A KR 1020120042135A KR 20120042135 A KR20120042135 A KR 20120042135A KR 101698226 B1 KR101698226 B1 KR 101698226B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
liquid crystal
clc
haze
region
Prior art date
Application number
KR1020120042135A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130004060A (en
Inventor
이대희
장준원
김영진
박문수
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Publication of KR20130004060A publication Critical patent/KR20130004060A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101698226B1 publication Critical patent/KR101698226B1/en

Links

Images

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

본 출원은 광학 필름에 관한 것이다. 예시적인 광학 필름은, 예를 들면, LCD 등의 디스플레이 장치의 광 이용 효율을 개선하고, 휘도를 향상시킬 수 있는 반사형 편광판으로 사용될 수 있다.The present application relates to optical films. The exemplary optical film can be used as a reflection type polarizing plate capable of improving light utilization efficiency and brightness of a display device such as an LCD, for example.

Description

광학 필름{Optical film}Optical film {Optical film}

본 출원은 광학 필름, 반사형 편광판 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film, a reflection type polarizing plate and a liquid crystal display device.

LCD(Liquid crystal display)는, 액정 패널 및 상기 액정 패널의 상부측과 하부측에 배치된 편광판을 포함할 수 있고, 상기 편광판 외에도 다양한 기능성 광학 소자를 포함할 수 있다. The liquid crystal display (LCD) may include a liquid crystal panel and a polarizing plate disposed on the upper side and the lower side of the liquid crystal panel, and may include various functional optical elements in addition to the polarizing plate.

LCD에서는, 액정 패널의 각 화소별로 액정의 배향을 변화시켜 영상을 표시할 수 있다. LCD는 자체 발광형의 소자가 아니기 때문에, 통상적으로 액정 패널의 하부측 편광판의 이면에 BLU(Backlight unit) 등의 광원을 위치시키고, 상기 광원으부터 출사되는 광을 패널에 투과시켜 영상을 표시한다.In the LCD, an image can be displayed by changing the orientation of the liquid crystal for each pixel of the liquid crystal panel. Since the LCD is not a self-luminous device, a light source such as a backlight unit (BLU) is usually placed on the back surface of the lower polarizer of the liquid crystal panel, and the light emitted from the light source is transmitted through the panel to display an image .

본 출원은 광학 필름, 반사형 편광판 및 액정 표시 장치를 제공한다.The present application provides an optical film, a reflection type polarizing plate and a liquid crystal display device.

본 출원은, 광학 필름에 관한 것이다. 예시적인 광학 필름은 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층(이하, 「CLC층」)을 포함한다. 상기 광학 필름은, 상기 액정층의 상부에 헤이즈(haze)가 약 40% 내지 60% 정도인 헤이즈층을 추가로 포함할 수 있다. This application relates to an optical film. An exemplary optical film comprises a liquid crystal layer (hereinafter " CLC layer ") comprising a cholesteric aligned liquid crystal region. The optical film may further include a haze layer having a haze of about 40% to 60% at the top of the liquid crystal layer.

광학 필름에서 CLC층은 단일층일 수 있다. 본 명세서에서 CLC층이 단일층이라는 것은, 2개 이상의 CLC층을 적층 또는 부착시켜서 형성되거나, CLC 조성물을 복수 회 코팅하여 형성되는 CLC층은 제외되는 의미일 수 있다.In the optical film, the CLC layer may be a single layer. Herein, the CLC layer may be formed as a single layer by laminating or adhering two or more CLC layers, or may exclude a CLC layer formed by coating the CLC composition a plurality of times.

상기 CLC층은 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하고, 상기 액정 영역은 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 액정 영역을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 콜레스테릭 액정 또는 콜레스테릭 배향된 액정은 「CLC」로 약칭될 수 있다. 도 1을 참조하면, CLC는, 액정 분자의 도파기(도 1의 n)가 나선축(도 1의 X)을 따라 꼬이면서 층을 이루며 배향한 나선형의 구조를 가진다. CLC의 구조에서 액정 분자의 도파기가 360도의 회전을 완성하기까지의 거리(도 1의 P)를 「피치(pitch)」라고 호칭한다. 본 명세서에서 용어 「액정 영역 또는 CLC 영역」은, CLC의 도파기가 360도의 회전을 완성하고 있는 CLC 영역을 의미할 수 있다. 본 명세서에서 각 CLC 영역은, 예를 들면, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장에 따라 구분될 수 있다.The CLC layer may include a cholesteric liquid crystal region, and the liquid crystal region may include two or more types of liquid crystal regions having different center wavelengths of reflected light. In the present specification, a cholesteric liquid crystal or a cholesteric liquid crystal can be abbreviated as " CLC ". Referring to FIG. 1, the CLC has a helical structure in which a waveguide (n in FIG. 1) of liquid crystal molecules is layered and aligned along a spiral axis (X in FIG. 1). The distance (P in Fig. 1) until the waveguide of the liquid crystal molecules completes the rotation of 360 degrees in the structure of CLC is called " pitch ". As used herein, the term " liquid crystal region or CLC region " may mean a CLC region in which a CLC waveguide completes a 360 degree rotation. In this specification, each CLC region can be divided, for example, according to the central wavelength of reflected light of each CLC region.

CLC는 원형 편광의 광을 선택적으로 반사시킬 수 있다. CLC에 의해 반사되는 광의 파장은 액정의 굴절율 및 피치에 의존한다. CLC 도파기의 나선형 뒤틀림은 재료의 유전체 텐서에서 공간적으로 주기적인 변형을 가져오고, 이것은 광의 파장 선택적 반사를 일으킨다. 일반적으로 CLC에서는 나선 축을 따라 전파되는 광에 대하여, 파장 λ가 하기 일반식 1의 범주일 때 브래그(Bragg) 반사가 일어난다.CLC can selectively reflect circularly polarized light. The wavelength of the light reflected by the CLC depends on the refractive index and the pitch of the liquid crystal. The helical twist of the CLC waveguide causes spatially periodic deformation in the dielectric tensor of the material, which causes wavelength selective reflection of the light. Generally, in CLC, Bragg reflections occur when the wavelength λ of the light propagating along the helical axis falls within the category of the following general formula (1).

[일반식 1][Formula 1]

NoP < λ < NePN o P <λ <N e P

상기 일반식 1에서, P는 CLC 영역의 피치이고, Ne는 CLC의 도파기에 대해 평행하게 편광된 광에 대한 CLC의 굴절율을 나타내며, No은 CLC의 도파기에 수직으로 편광된 광에 대한 CLC의 굴절율을 나타낸다. In the above general formula 1, P represents the pitch of the CLC region, N e represents the refractive index of CLC for light polarized parallel to the CLC waveguide, N o represents the refractive index of CLC &Lt; / RTI &gt;

또한, CLC에 의해 반사되는 광, 즉 반사광의 파장 범위의 중심 파장 λ0는 하기 일반식 2에 의해 근사될 수 있다.In addition, the center wavelength? 0 in the wavelength range of the light reflected by the CLC, that is, the reflected light, can be approximated by the following general formula (2).

[일반식 2][Formula 2]

λo = 0.5(No+Ne)Pλ o = 0.5 (N o + N e ) P

일반식 2에서, P, Ne 및 No은 일반식 1에서 정의된 바와 같다.In the general formula (2), P, N e and N o are as defined in the general formula (1).

또한, CLC에 의해 반사되는 광의 스펙트럼 폭 △λ0은 하기 일반식 3에 의해 근사될 수 있다.Further, the spectral width?? 0 of the light reflected by the CLC can be approximated by the following general formula (3).

[일반식 3][Formula 3]

△λ0 =2λo(Ne-No)/ (No+Ne) = P(Ne-No)? 0 = 2? O (N e -N o ) / (N o + N e ) = P (N e -N o )

일반식 3에서, P, Ne 및 No은 일반식 1에서 정의된 바와 같다In the general formula 3, P, N e and N o are as defined in general formula

상기 CLC층은 2종류 이상의 CLC 영역을 포함한다. 상기 2종류 이상의 CLC 영역은 각각 반사할 수 있는 광, 즉 반사광의 중심 파장이 서로 상이하다. The CLC layer includes two or more kinds of CLC regions. In the two or more types of CLC regions, light that can be reflected, that is, the central wavelength of reflected light, is different from each other.

하나의 예시에서 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 CLC 영역은, 서로 상이한 범위의 피치를 가질 수 있다. 하나의 예시에 따라 단일층의 CLC층 내에 2종류 이상의 CLC 영역이 포함되면, CLC층을 얇게 구성하면서도, CLC층에 의한 선택적 반사 특성을 넓은 파장 범위에서 활용할 수 있다. 본 명세서에서 상기 단일층이면서 2종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 CLC층은 광대역 CLC층이라고 호칭할 수 있다.In one example, the CLC regions having different center wavelengths of reflected light may have different pitches from each other. According to one example, when two or more types of CLC regions are included in a CLC layer of a single layer, the selective reflection characteristic by the CLC layer can be utilized in a wide wavelength range while the CLC layer is made thin. In this specification, the CLC layer including the single layer and two or more types of CLC regions may be referred to as a broadband CLC layer.

CLC층에서 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 CLC 영역의 배치는 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 CLC 영역들은 CLC층의 일 측에서 다른 측까지 각 영역의 반사광의 중심 파장이 순차적으로 길어지거나 또는 짧아지도록 배치되어 있거나, 혹은 상기 중심 파장이 길어지다가 다시 짧아지도록 배치되거나, 혹은 짧아지다가 다시 길어지도록 배치되거나, 혹은 불규칙적으로 상기 중심 파장이 변화하도록 배치되어 있을 수 있다. 하나의 예시에서 상기 CLC층에 포함되는 CLC가 동일한 종류의 화합물이면, CLC 영역의 피치는 각 CLC 영역이 상기와 같은 반사광의 중심 파장을 나타내도록 변화할 수 있다. The arrangement of the CLC regions having different center wavelengths of the reflected light in the CLC layer is not particularly limited. In one example, the CLC regions are disposed such that the center wavelength of the reflected light of each region sequentially lengthens or shortens from one side to the other of the CLC layers, or is arranged such that the central wavelength becomes longer and then shortens again, Or may be arranged so as to lengthen again, or may be arranged so as to vary the central wavelength irregularly. In one example, if the CLC contained in the CLC layer is the same kind of compound, the pitch of the CLC region may change so that each CLC region represents the center wavelength of the reflected light as described above.

하나의 예시적인 CLC층에서는, CLC층의 하나의 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 가시 광선의 적색(red)광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되고, CLC층의 다른 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 청색(blue)광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되면서, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장이 CLC층의 두께 방향을 따라서 순차적으로 변화하도록 상기 영역들이 배치되어 있을 수 있다. In one exemplary CLC layer, a CLC region having a central wavelength of reflected light belonging to a red light region of visible light is disposed on one main surface side of the CLC layer, and a central wavelength of reflected light is arranged on the other main surface side of the CLC layer The CLC regions belonging to the blue light region may be arranged such that the central wavelengths of the reflected light of each CLC region sequentially change along the thickness direction of the CLC layer.

본 명세서에서 용어 「CLC층의 두께 방향」은, 상기 CLC층의 하나의 주표면과 그와 대향하는 주표면을 최단거리로 연결하는 가상의 선과 평행한 방향을 의미할 수 있다. 하나의 예시에서 상기 광학 필름이 후술하는 바와 같이 기재층을 추가로 포함하고, 상기 CLC층이 상기 기재층의 일면에 형성되어 있는 경우에는, 상기 CLC층의 두께 방향은, 상기 CLC층이 형성되어 있는 기재층의 면과 수직한 방향으로 형성된 가상의 선과 평행한 방향일 수 있다. 또한, 본 명세서에서 각도를 정의하면서, 수직, 평행, 직교 또는 수평 등의 용어를 사용하는 경우, 이는 목적하는 효과를 손상시키지 않는 범위에서의 실질적인 수직, 평행, 직교 또는 수평을 의미하는 것으로, 예를 들면, 제조 오차(error) 또는 편차(variation) 등을 감안한 오차를 포함하는 것이다. 예를 들면, 상기 각각의 경우는, 약 ±15도 이내의 오차, 약 ±10도 이내의 오차 또는 약 ±5도 이내의 오차를 포함할 수 있다.In this specification, the term &quot; thickness direction of the CLC layer &quot; may refer to a direction parallel to a virtual line connecting the one major surface of the CLC layer and the major surface opposite to the major surface. In one example, when the optical film further includes a base layer as described later, and the CLC layer is formed on one side of the base layer, the thickness direction of the CLC layer is such that the CLC layer is formed And may be a direction parallel to an imaginary line formed in a direction perpendicular to the surface of the substrate layer. In this specification, when defining the angle and using terms such as vertical, parallel, orthogonal, or horizontal, it means a substantial vertical, parallel, orthogonal, or horizontal range without impairing the desired effect. For example, it includes an error considering manufacturing error or variation. For example, each of the above cases may include an error within about +/- 15 degrees, an error within about +/- 10 degrees, or an error within about +/- 5 degrees.

도 2는, 상기 CLC층(2)을 추상적으로 도식한 모식도로서, CLC층(2)의 하나의 주표면(21)측으로부터 다른 주표면(22)측 방향으로 반사광의 중심 파장이 적색(Red)광의 범주에 속하는 CLC 영역(231), 녹색(Green)광의 범주에 속하는 CLC 영역(232) 및 청색(Blue)광의 범주에 속하는 CLC 영역(233)이 순차적으로 배치된 예시를 나타낸다. 2 is a schematic diagram schematically illustrating the CLC layer 2 in which the central wavelength of the reflected light from the main surface 21 side to the other main surface 22 side of the CLC layer 2 is red A CLC region 231 belonging to the category of light, a CLC region 232 belonging to the category of green light and a CLC region 233 belonging to the category of blue light are sequentially arranged.

하나의 예시에서 CLC층은, 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 내지 700 nm인 제 3 영역을 적어도 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 내지 제 3 영역은, CLC층의 두께 방향을 따라서 각 영역의 반사광의 중심 파장이 순차적으로 변화하도록 배치될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. CLC 영역의 반사광의 중심 파장은, 이 분야에서는 공지되어 있는 방식에 따라서 측정할 수 있다.In one example, the CLC layer comprises a first region having a central wavelength of reflected light of 400 nm to 500 nm, a second region having a central wavelength of reflected light of 500 nm to 600 nm, and a second region having a center wavelength of reflected light of 600 to 700 nm Region. &Lt; / RTI &gt; For example, the first to third regions may be arranged so that the center wavelength of the reflected light of each region sequentially changes along the thickness direction of the CLC layer, but the present invention is not limited thereto. The center wavelength of the reflected light in the CLC region can be measured according to a method known in the art.

하나의 예시에서 CLC층은, 액정 분자의 도파기의 나선축이 상기 CLC층의 두께 방향과 평행하지 않도록 형성되어 있는 CLC 영역을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 CLC층은, 상기 나선축이 상기 두께 방향과 평행하도록 형성되어 있는 CLC 영역과 상기 나선축이 상기 두께 방향과 평행하지 않은 방향으로 형성되어 있는 CLC 영역을 포함할 수 있다.In one example, the CLC layer may comprise a CLC region formed such that the helical axis of the waveguide of the liquid crystal molecules is not parallel to the thickness direction of the CLC layer. For example, the CLC layer may include a CLC region in which the helical axis is parallel to the thickness direction and a CLC region in which the helical axis is formed in a direction not parallel to the thickness direction.

CLC 영역의 나선축의 배치를 도 3을 참조하여 예시적으로 설명하면, 하기와 같다.The arrangement of the helical axes of the CLC region will be described below with reference to FIG.

통상적으로 CLC 영역은 나선형으로 회전하고 있는 CLC 분자를 포함하고, CLC 분자의 도파기, 예를 들면, CLC 분자의 장축의 나선축은 CLC층의 두께 방향에 대하여 평행하게 되도록 정렬하게 된다. CLC 영역은, 도 3의 A에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이, CLC층의 두께 방향(31)과 평행하게 배향되는 것이 일반적이다. 도 3에서 두께 방향(31)과 수직한 방향(32)은, 예를 들면, 전술한 바와 같은 기재층의 면 방향을 의미할 수 있다. 본 명세서에서 상기와 같이 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행한 상태로 배향되어 있는 CLC 영역은, 플래너(planar) 배향된 CLC 영역으로 호칭될 수 있다.Typically, the CLC region comprises a spirally-rotating CLC molecule, and the director of the CLC molecule, for example, the helical axis of the long axis of the CLC molecule, is aligned to be parallel to the thickness direction of the CLC layer. The CLC region is generally oriented such that the helical axis HA of the CLC is parallel to the thickness direction 31 of the CLC layer, as shown in Fig. In FIG. 3, the direction 32 perpendicular to the thickness direction 31 may mean, for example, the plane direction of the base layer as described above. In this specification, the CLC region in which the helical axis is oriented parallel to the thickness direction of the CLC layer as described above may be referred to as a planar oriented CLC region.

CLC의 배향 조건이나, 혹은 CLC가 형성되는 기재층의 면의 특성에 따라서는, 상기 CLC 분자의 도파기의 나선축의 방향이 상기 CLC층의 두께 방향과는 평행하지 않은 방향으로 정렬할 수 있다. 예를 들면, 도 3의 B에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이 CLC층의 두께 방향(31)과 수직한 방향으로 배향하거나, 도 3의 C에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이 CLC층의 두께 방향(31)과 수직 및 평행한 방향 이외의 방향을 이루면서 배향이 이루어질 수 있다. 본 명세서에서는 상기 나선축이 CLC층의 두께 방향과 수직한 상태로 배향되어 있는 CLC 영역은, 호메오트로픽(homeotropic) 배향된 CLC 영역으로 호칭되고, 나선축이 CLC층의 두께 방향과 수직 및 평행한 방향 이외의 방향으로 배향한 상태의 CLC 영역은, 포컬 코틱(focal conic) 배향된 CLC 영역으로 호칭될 수 있다.The direction of the helical axis of the waveguide of the CLC molecule may be aligned in a direction not parallel to the thickness direction of the CLC layer depending on the orientation condition of the CLC or the surface of the base layer on which the CLC is formed. For example, as shown in FIG. 3B, the helical axis HA of the CLC may be oriented in a direction perpendicular to the thickness direction 31 of the CLC layer, or may be oriented in a direction perpendicular to the thickness direction 31 of the CLC layer, (HA) may be oriented in a direction other than the direction perpendicular and parallel to the thickness direction 31 of the CLC layer. In this specification, the CLC region in which the helical axis is oriented perpendicular to the thickness direction of the CLC layer is referred to as a homeotropic oriented CLC region, and the helical axis is perpendicular and parallel to the thickness direction of the CLC layer The CLC region oriented in a direction other than one direction may be referred to as a focal conic oriented CLC region.

통상적인 방식으로 형성된 CLC층 내에서 CLC 영역은 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행을 이루면서 배향된다. 그렇지만, 상기 광학 필름의 CLC층에는, 인위적으로 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행 이외의 방향으로 형성되는 CLC 영역을 포함시킬 수 있다. 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행 이외의 방향으로 형성되는 CLC 영역은, 광학 필름의 헤이즈 특성을 조절할 수 있다.In a CLC layer formed in a conventional manner, the CLC region is oriented with the helical axis parallel to the thickness direction of the CLC layer. However, the CLC layer of the optical film may include a CLC region in which a helical axis is artificially formed in a direction other than the thickness direction of the CLC layer. The CLC region in which the helical axis is formed in a direction other than the direction parallel to the thickness direction of the CLC layer can control the haze characteristics of the optical film.

호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역의 CLC층 내에서의 양이나 위치 내지는 분포 상태 또는 포컬 코닉 배향에서 나선축이 CLC층의 두께 방향과 이루는 각도 등은 특별히 제한되지 않으며, 목적에 따라 적정 범위로 조절될 수 있다.The amount, position or distribution state in the CLC layer of the homeotropic or focal-conical CLC region or the angle formed by the spiral axis in the thickness direction of the CLC layer in the focal-conic orientation is not particularly limited, Lt; / RTI &gt;

상기 호메오트로픽 또는 포컬 코틱 배향된 CLC 영역은, 예를 들면, 후술하는 바와 같이, CLC층이 형성되는 면의 표면 특성을 조절하거나, 혹은 CLC의 배향 조건을 적절하게 설정함으로써 형성시킬 수 있다.The homeotropic or focal-coked CLC region can be formed, for example, by adjusting the surface characteristics of the surface on which the CLC layer is formed, or by appropriately setting the orientation conditions of the CLC, as described later.

하나의 예시에서 CLC층은 액정 고분자를 포함할 수 있다. 예시적인 CLC층의 제조 방법은, 중합성 액정 화합물 및 중합성 또는 비중합성인 키랄제(chiral agent)를 포함하는 조성물을 코팅하고, 상기 키랄제에 의해 액정 화합물의 나선 피치를 유도한 상태로 상기 조성물을 중합시켜서 형성할 수 있고, 이 경우, 상기 CLC층은 중합된 액정 고분자를 포함할 수 있다.In one example, the CLC layer may comprise a liquid crystal polymer. An exemplary method for producing a CLC layer is a method of coating a composition comprising a polymerizable liquid crystal compound and a polymerizable or non-polymerizable chiral agent, The CLC layer may comprise a polymerized liquid crystal polymer.

하나의 예시적인 CLC층은, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 중합된 형태로 포함할 수 있다.One exemplary CLC layer may comprise a polymeric form of a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1] [Chemical Formula 1]

Figure 112012032203186-pat00001
Figure 112012032203186-pat00001

상기 화학식 1에서 A는 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이고, R1 내지 R10은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 니트로기, -O-Q-P 또는 하기 화학식 2의 치환기이되, R1 내지 R10 중 적어도 하나는 -O-Q-P 또는 하기 화학식 2의 치환기이고, 상기에서 Q는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이며, P는, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.Wherein A is a single bond, -COO- or -OCO-, and R 1 to R 10 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, a halogen, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group, -OQP, Wherein at least one of R 1 to R 10 is -OQP or a substituent of the following formula 2, Q is an alkylene group or an alkylidene group, P is an alkenyl group, an epoxy group, a cyano group, a carboxyl group, an acryloyl group, A methacryloyl group, an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.

[화학식 2](2)

Figure 112012032203186-pat00002
Figure 112012032203186-pat00002

상기 화학식 2에서 B는 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이고, R11 내지 R15는, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 니트로기 또는 -O-Q-P이되, R11 내지 R15 중 적어도 하나는 -O-Q-P이고, 상기에서 Q는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이며, P는, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.In the formula 2 B is a single bond, -COO- or -OCO-, R 11 to R 15 are each independently hydrogen, halogen, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group or -OQP provided that, R 11 to At least one of R &lt; 15 &gt; is -OQP, Q is an alkylene group or an alkylidene group, and P is an alkenyl group, an epoxy group, a cyano group, a carboxyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, Methacryloyloxy group.

상기 화학식 2에서 B의 좌측의 "-"는 B가 화학식 1의 벤젠에 직접 연결되는 것을 의미한다.In the above formula (2), "-" to the left of B means that B is directly connected to benzene of formula (1).

상기 화학식 1 및 2에서 용어 "단일 결합"은, A 또는 B로 표시되는 부분에 별도의 원자가 존재하지 않는 경우를 의미한다. 예를 들어, 화학식 1에서 A가 단일 결합인 경우, A의 양측의 벤젠이 직접 연결되어 비페닐(biphenyl) 구조를 형성할 수 있다.The term "single bond" in the above formulas (1) and (2) means a case where there is no separate atom in the part represented by A or B. For example, when A is a single bond in formula (I), benzene on both sides of A may be directly connected to form a biphenyl structure.

화학식 1 및 2에서 할로겐으로는, 염소, 브롬 또는 요오드 등이 예시될 수 있다. As the halogen in the formulas (1) and (2), chlorine, bromine or iodine and the like can be exemplified.

화학식 1 및 2에서 알킬기로는, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기 또는 탄소수 3 내지 20, 탄소수 3 내지 16 또는 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기가 예시될 수 있다. 또한, 상기 알킬기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.The alkyl group in the general formulas (1) and (2) is preferably a linear or branched alkyl group having from 1 to 20 carbon atoms, from 1 to 16 carbon atoms, from 1 to 12 carbon atoms, from 1 to 8 carbon atoms or from 1 to 4 carbon atoms or from 3 to 20 carbon atoms, A cycloalkyl group having 4 to 12 carbon atoms may be exemplified. In addition, the alkyl group may be optionally substituted by one or more substituents.

화학식 1 및 2에서 알콕시기로는, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시기가 예시될 수 있다. 상기 알콕시기는, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알콕시기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.In the general formulas (1) and (2), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms or 1 to 4 carbon atoms may be exemplified. The alkoxy group may be linear, branched or cyclic. In addition, the alkoxy group may be optionally substituted with one or more substituents.

또한, 화학식 1 및 2에서 알킬렌기 또는 알킬리덴기로는, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 4 내지 10 또는 탄소수 6 내지 9의 알킬렌기 또는 알킬리덴기가 예시될 수 있다. 알킬렌기 또는 알킬리덴기는, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 알킬렌기 또는 알킬리덴기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.The alkylene group or the alkylidene group in the formulas (1) and (2) may be an alkylene group or an alkylidene group having 1 to 12 carbon atoms, 4 to 10 carbon atoms, or 6 to 9 carbon atoms. The alkylene group or alkylidene group may be linear, branched or cyclic. The alkylene or alkylidene group may be optionally substituted by one or more substituents.

또한, 화학식 1 및 2에서 알케닐기로는, 탄소수 2 내지 20, 탄소수 2 내지 16, 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 알케닐기가 예시될 수 있다. 상기 알케닐기는, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알케닐기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.The alkenyl groups in the general formulas (1) and (2) include an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, 2 to 16 carbon atoms, 2 to 12 carbon atoms, 2 to 8 carbon atoms or 2 to 4 carbon atoms. The alkenyl group may be linear, branched or cyclic. In addition, the alkenyl group may be optionally substituted with one or more substituents.

상기에서 알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 알킬렌기 또는 알킬리덴기에 치환되어 있을 수 있는 치환기로는, 알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 또는 아릴기 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the substituent which may be substituted in the above alkyl group, alkoxy group, alkenyl group, alkylene group or alkylidene group include alkyl group, alkoxy group, alkenyl group, epoxy group, cyano group, carboxyl group, acryloyl group, methacryloyl group, Acryloyloxy group, methacryloyloxy group, aryl group, and the like, but the present invention is not limited thereto.

또한, 화학식 1 및 2에서 P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이거나, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기일 수 있으며, 다른 예시에서는 아크릴로일옥시기일 수 있다.In the general formulas (1) and (2), P may be an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, or an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group. In another example, acryloyloxy Time.

화학식 1 및 2에서 적어도 하나 이상 존재할 수 있는 -O-Q-P 또는 화학식 2의 잔기는, 예를 들면, R3, R8 또는 R13의 위치에 존재할 수 있고, 예를 들면, 상기는 1개 또는 2개가 존재할 수 있다. 또한, 상기 화학식 1의 화합물 또는 화학식 2의 잔기에서 -O-Q-P 또는 화학식 2의 잔기 이외의 치환기는 예를 들면, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기, 시아노기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기일 수 있으며, 바람직하게는 염소, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기 또는 시아노기일 수 있다.The -OQP or the moiety of formula 2 which may be present in at least one of the formulas 1 and 2 may for example be present at the position of R 3 , R 8 or R 13 , for example 1 or 2 above Can exist. Further, substituents other than -OQP or the residue of the formula (2) in the compound of the formula (1) or the residue of the formula (2) include, for example, hydrogen, halogen, a straight or branched alkyl group of 1 to 4 carbon atoms, An alkyl group, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group, preferably a chlorine, a straight or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 12 carbon atoms, Or an alkoxy group or a cyano group.

CLC층에 포함될 수 있는 키랄제(chiral agent)로는, 액정성, 예를 들면, 네마틱 규칙성을 손상시키지 않고, 목적하는 나선 피치를 유발할 수 있는 것이라면, 특별히 제한되지 않고 사용될 수 있다. 액정에 나선 피치를 유발하기 위한 키랄제는 분자 구조 중에 키랄리티(chirality)를 적어도 포함할 필요가 있다. 키랄제로는, 예를 들면, 1개 또는 2개 이상의 비대칭 탄소(asymmetric carbon)를 가지는 화합물, 키랄 아민 또는 키랄 술폭시드 등의 헤테로원자 상에 비대칭점(asymmetric point)이 있는 화합물 또는 크물렌(cumulene) 또는 비나프톨(binaphthol) 등의 축부제를 가지는 광학 활성인 부위(axially asymmetric, optically active site)를 가지는 화합물이 예시될 수 있다. 키랄제는 예를 들면 분자량이 1,500 이하인 저분자 화합물일 수 있다. 키랄제로는, 시판되는 키랄 네마틱 액정, 예를 들면, Merck사에서 시판되는 키랄 도판트 액정 S-811 또는 BASF사의 LC756 등을 사용할 수도 있다The chiral agent that can be included in the CLC layer is not particularly limited as long as it can induce a desired spiral pitch without deteriorating liquid crystallinity, for example, nematic regularity. The chiral agent for causing the helical pitch in the liquid crystal needs to include at least the chirality in the molecular structure. Chiral agents include, for example, a compound having one or more asymmetric carbons, a compound having an asymmetric point on a heteroatom such as a chiral amine or a chiral sulfoxide, or a compound having an asymmetric carbon atom such as cumulene ) Or an axially asymmetric (optically active site) having an axial-reducing agent such as binaphthol. The chiral agent may be, for example, a low molecular weight compound having a molecular weight of 1,500 or less. As the chiral agent, a commercially available chiral nematic liquid crystal, for example, a chiral dopant liquid crystal S-811 available from Merck Co., Ltd. or LC756 manufactured by BASF may be used

CLC층은, 예를 들면, 3 ㎛ 내지 8 ㎛ 또는 4 ㎛ 내지 6 ㎛의 두께를 가질 수 있다. CLC층의 두께를 상기 범위로 제어하여, 광대역 CLC층을 효과적으로 구현하고, 필요에 따라서 전술한 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배항된 CLC 영역을 효과적으로 형성할 수 있다.The CLC layer may have a thickness of, for example, 3 占 퐉 to 8 占 퐉 or 4 占 퐉 to 6 占 퐉. By controlling the thickness of the CLC layer to the above range, the wide band CLC layer can be effectively implemented and, if necessary, the above-described homeotropic or focal-conicted CLC region can be effectively formed.

광학 필름은, 상기 액정층상에 존재하고, 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 포함할 수 있다. 도 4는, 예시적인 광학 필름(400)의 모식도로서 액정층(401) 및 그 상부에 헤이즈층(402)을 포함하는 경우를 나타내고 있다. 도 4에서는, 액정층(401)의 상부에 헤이즈층(402)이 직접 형성되어 있는 경우가 예시되어 있으나, 헤이즈층(402)과 액정층(401)의 사이에는 다른 층, 예를 들면, 후술하는 1/4 파장층, 배향층, 점착층 또는 접착층이 존재하고 있을 수 있다.The optical film may include a haze layer present on the liquid crystal layer and having a haze of 40% to 60%. Fig. 4 shows a schematic diagram of an exemplary optical film 400 in which a liquid crystal layer 401 and a haze layer 402 are formed on the liquid crystal layer 401. In Fig. 4 illustrates a case where the haze layer 402 is directly formed on the upper portion of the liquid crystal layer 401. However, another layer may be formed between the haze layer 402 and the liquid crystal layer 401, for example, A quarter wavelength layer, an orientation layer, an adhesive layer, or an adhesive layer may be present.

헤이즈층은, 광학 필름이 적용되는 용도에 따라서 가장 적합한 효과를 발휘하도록 할 수 있다. 예를 들어, 광학 필름이 후술하는 바와 같이 반사형 편광판에 포함되면, 상기 헤이즈층은, 상기 편광판을 포함하는 디스플레이 장치의 색특성, 특히 측면에서의 색반전과 같은 색감의 변화가 방지되도록 할 수 있다. 또한, 상기 헤이즈층은, 광을 적절하게 산란 및/또는 확산시켜 디스플레이 장치의 휘도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 헤이즈층에 의해 광학 필름은 광원의 색좌표를 효과적으로 재현할 수 있다. 상기 헤이즈층의 헤이즈는, 예를 들면, 세풍사의 HR-100 또는 HM-150 등과 같은 헤이즈미터(hazemeter)를 사용하여 제조사의 매뉴얼에 따라 측정할 수 있다. The haze layer can exhibit the most suitable effect depending on the application to which the optical film is applied. For example, when the optical film is included in the reflective polarizer as described later, the haze layer can prevent the color characteristics of the display device including the polarizer, particularly the color change such as color inversion on the side have. In addition, the haze layer can improve the brightness of the display device by appropriately scattering and / or diffusing light. Further, the optical film can effectively reproduce the color coordinates of the light source by the haze layer. The haze of the haze layer can be measured according to the manufacturer's manual using a hazemeter such as HR-100 or HM-150 of Sephoon Co.,

상기 액정층에서 상기 헤이즈층의 구체적인 종류는 상기 범위의 헤이즈를 나타내는 한 특별히 제한되지 않는다. 즉, 본 명세서에서 용어 헤이즈층에는 광학 필름에 적절한 헤이즈를 부여할 수 있는 공지된 모든 층이 포함될 수 있다.The specific kind of the haze layer in the liquid crystal layer is not particularly limited as long as it represents the haze in the above range. That is, in this specification, the term haze layer may include all known layers capable of imparting appropriate haze to the optical film.

하나의 예시에서 헤이즈층은, 입자를 포함하는 수지층일 수 있다. 상기에서 입자는 수지층과 상이한 굴절률을 가질 수 있다. 굴절률이 상이한 입자를 포함하는 수지층은, 입사되는 광을 산란 및/또는 확산시켜서 광학 필름의 헤이즈를 부여할 수 있다. 이러한 수지층은, 예를 들면 적절한 필름 또는 시트상에 형성되어 있을 수 있다. 도 5는 예시적인 광학 필름(500)의 단면도이고, 도 4의 헤이즈층(402)으로서, 필름 또는 시트(501) 및 그 일면에 형성된 수지층(502)을 사용한 경우를 나타낸다. 상기에서 필름 또는 시트로는, 예를 들면, 후술하는 기재층에 사용되는 플라스틱 기재층 중에서 적절한 종류가 선택 및 사용될 수 있다.In one example, the haze layer may be a resin layer comprising particles. The particles may have different refractive indices from the resin layer. The resin layer containing particles having different refractive indices can impart the haze of the optical film by scattering and / or diffusing the incident light. Such a resin layer may be formed, for example, on a suitable film or sheet. 5 is a cross-sectional view of an exemplary optical film 500 and shows a case where a film or a sheet 501 and a resin layer 502 formed on one side thereof are used as the haze layer 402 in Fig. As the film or sheet described above, for example, a suitable type of plastic substrate layer used in a base layer described later can be selected and used.

하나의 예시에서 상기 수지층은, 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물을 경화된 상태로 포함할 수 있다. 용어 「경화된 상태」란, 조성물에 포함되는 성분들이 가교 반응 또는 중합 반응 등을 거친 후의 상태를 의미할 수 있다. 또한, 상기 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물은, 상기 경화된 상태가 각각 상온 또는 습기의 존재 하, 열 또는 활성 에너지선의 조사에 의하여 유도되거나, 또는 상기 중 2개 이상의 메커니즘이 동시 또는 순차로 작용하여 경화되는 조성물을 의미할 수 있다. 또한, 상기에서 활성 에너지선은, 예를 들면, 자외선 또는 전자선 등과 같은 전자기파를 의미할 수 있다. In one example, the resin layer may include a room temperature curable, moisture curable, thermosetting, active energy ray curable or hybrid curable composition in a cured state. The term &quot; cured state &quot; may mean a state after the components contained in the composition have undergone a crosslinking reaction, a polymerization reaction, or the like. In addition, the room temperature curing type, moisture curing type, thermosetting type, active energy ray curing type or hybrid curing type composition may be prepared by irradiating the cured state with heat or an active energy ray in the presence of room temperature or moisture respectively, May refer to a composition in which more than two mechanisms act simultaneously or sequentially to cure. In the above, the active energy ray may mean, for example, an electromagnetic wave such as an ultraviolet ray or an electron ray.

상기 조성물은, 아크릴 화합물, 에폭시 화합물, 우레탄 화합물, 페놀 화합물 또는 폴리에스테르 화합물 등을 포함할 수 있다. 상기 「화합물」은, 단량체성, 올리고머성 또는 중합체성 화합물일 수 있다. 이러한 경우, 상기 수지층은, 바인더로서, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지 또는 폴리에스테르를 포함할 수 있다.The composition may include an acrylic compound, an epoxy compound, a urethane compound, a phenol compound, or a polyester compound. The &quot; compound &quot; may be a monomeric, oligomeric or polymeric compound. In this case, the resin layer may include an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin, or a polyester as a binder.

하나의 예시에서는, 상기 수지층은, 투명성 등의 광학 특성이 우수하고, 황변 등에 대한 저항성이 있는 아크릴 조성물, 예를 들면 활성에너지선 경화형 아크릴 조성물을 경화된 상태로 포함할 수 있다. In one example, the resin layer may include an acrylic composition having excellent optical properties such as transparency and resistance to yellowing, for example, an active energy ray-curable acrylic composition in a cured state.

활성 에너지선 경화형 아크릴 조성물은, 예를 들면, 활성 에너지선 중합성의 중합체 성분과 반응성 희석용 단량체를 포함할 수 있다. The active energy ray-curable acrylic composition may, for example, comprise an active energy ray polymerizable polymer component and a reactive diluent monomer.

상기 중합체 성분으로는, 우레탄 아크레이트, 에폭시 아크릴레이트, 에테르 아크릴레이트 또는 에스테르 아크릴레이트 등과 같이 업계에서 소위 광중합성 올리고머로 알려진 성분이나, 또는 (메타)아크릴산 에스테르 단량체 등과 같은 단량체를 포함하는 혼합물의 중합물이 예시될 수 있다. 상기에서 (메타)아크릴산 에스테르 단량체로는, 알킬 (메타)아크릴레이트, 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 헤테로시클릭 (메타)아크릴레이트 또는 알콕시 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있다. 이 분야야서는 활성 에너지선 경화형 조성물을 제조하기 위한 다양한 중합체 성분이 알려져 있으며, 상기와 같은 화합물이 필요에 따라서 선택될 수 있다. Examples of the polymer component include polymers known as photopolymerizable oligomers, such as urethane acrylate, epoxy acrylate, ether acrylate or ester acrylate, or a mixture of monomers such as (meth) acrylic acid ester monomers and the like Can be illustrated. Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer include alkyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having an aromatic group, heterocyclic (meth) acrylate or alkoxy (meth) acrylate. Various polymer components are known in the art for making active energy ray curable compositions, and such compounds can be selected as needed.

활성 에너지선 경화형 아크릴 조성물에 포함될 수 있는, 반응성 희석용 단량체로는, 활성 에너지선 경화형 관능기, 예를 들면, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기 등을 하나 또는 두 개 이상 가지는 단량체가 예시될 수 있고, 예를 들면, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 단량체나 다관능성 아크릴레이트 등이 사용될 수 있다. Examples of the reactive diluting monomer that can be contained in the active energy ray-curable acrylic composition include monomers having one or more active energy ray-curable functional groups such as an acryloyl group or a methacryloyl group, , For example, the above (meth) acrylic acid ester monomers and multifunctional acrylates can be used.

활성 에너지선 경화형 아크릴 조성물을 제조하기 위한 상기 성분의 선택이나 선택된 성분의 배합 비율 등은 특별히 제한되지 않고, 목적하는 수지층의 경도 및 기타 물성을 고려하여 조절될 수 있다.The selection of the above-mentioned components for forming the active energy ray-curable acrylic composition, the blending ratio of the selected components and the like are not particularly limited and can be adjusted in consideration of the hardness and other physical properties of the desired resin layer.

하나의 예시에서 수지층에 포함되는 입자는, 수지층과는 상이한 굴절률을 가질 수 있다. 상기 입자는, 예를 들면, 수지층과의 굴절률의 차이가 0.03 이하 또는 0.02 내지 0.2일 수 있다. 굴절률의 차이가 지나치게 작으면, 헤이즈를 유발하기 어렵고, 반대로 지나치게 크게 되면, 수지층 내에서의 산란이 많이 발생하여, 헤이즈를 증가시키지만, 광투과도 또는 콘트라스트 특성 등의 저하가 유도될 수 있으므로, 이를 고려하여 적절한 입자를 선택할 수 있다. In one example, the particles included in the resin layer may have a refractive index different from that of the resin layer. For example, the difference in refractive index between the particles and the resin layer may be 0.03 or less or 0.02 to 0.2. If the difference in refractive index is too small, it is difficult to cause haze. On the contrary, if the refractive index difference is excessively large, scattering in the resin layer occurs a lot and haze increases, but deterioration of light transmittance or contrast characteristics may be induced. And appropriate particles can be selected.

수지층에 포함되는 입자의 형상은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 구형, 타원형, 다면체형, 무정형 또는 기타 다른 형상을 가질 수 있다. 상기 입자는, 평균 직경이 50 nm 내지 5,000 nm일 수 있다. 하나의 예시에서는, 상기 입자로서, 표면에 요철이 형성되어 있는 입자를 사용할 수 있다. 이러한 입자는, 예를 들면, 평균 표면 거칠기(Rz)가 10 nm 내지 50 nm 또는 20 nm 내지 40 nm이거나, 및/또는 표면에 형성된 요철의 최대 높이가 약 100 nm 내지 500 nm 또는 200 nm 내지 400 nm이고, 요철간의 폭이 400 nm 내지 1,200 nm 또는 600 nm 내지 1,000 nm일 수 있다. 이러한 입자는, 수지층과의 상용성이나 그 내부에서의 분산성이 우수하다. The shape of the particles contained in the resin layer is not particularly limited and may have, for example, spherical, elliptical, polyhedral, amorphous or other shapes. The particles may have an average diameter of 50 nm to 5,000 nm. In one example, as the particles, particles having irregularities on the surface can be used. Such particles may have a mean surface roughness (Rz) of, for example, 10 nm to 50 nm or 20 nm to 40 nm, and / or a maximum height of irregularities formed on the surface of about 100 nm to 500 nm or 200 nm to 400 nm, and the width between the irregularities may be 400 nm to 1,200 nm or 600 nm to 1,000 nm. Such particles are excellent in compatibility with the resin layer and in dispersibility therein.

상기 입자로는, 다양한 무기 또는 유기 입자가 예시될 수 있다. 무기 입자로는, 실리카, 비결정질 티타니아, 비결정질 지르코니아, 인듐 옥시드, 알루미나, 비결정질 아연 옥시드, 비결정질 세륨 옥시드, 바륨 옥시드, 칼슘 카보네이트, 비결정질 바륨 티타네이트 또는 바륨 설페이트 등이 예시될 수 있고, 유기 입자로는, 아크릴 수지, 스티렌 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 에폭시 수지 또는 실리콘 수지 등의 유기계 소재의 가교물 또는 비가교물을 포함하는 입자가 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. As the particles, various inorganic or organic particles can be exemplified. Examples of the inorganic particles include silica, amorphous titania, amorphous zirconia, indium oxide, alumina, amorphous zinc oxide, amorphous cerium oxide, barium oxide, calcium carbonate, amorphous barium titanate, barium sulfate, Examples of the organic particles include crosslinked or non-crosslinked particles of an organic material such as an acrylic resin, a styrene resin, a urethane resin, a melamine resin, a benzoguanamine resin, an epoxy resin or a silicone resin, It is not.

수지층 내에서 상기 입자의 함량은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 광학 필름이 전술한 헤이즈를 나타낼 수 있는 범위에서 상기 입자의 함량은 결정될 수 있다. The content of the particles in the resin layer is not particularly limited. For example, the content of the particles can be determined to such an extent that the optical film can exhibit the haze described above.

상기 수지층은, 필요에 따라서 중합 개시제, 자외선 차단제 또는 흡수제, 대전 방지제 또는 분산제 등의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.The resin layer may further contain an additive such as a polymerization initiator, an ultraviolet screening agent or an absorbent, an antistatic agent or a dispersant if necessary.

하나의 예시에서 광학 필름은, 기재층을 추가로 포함하고, CLC층이 상기 기재층의 일면에 형성되어 있을 수 있다. 광학 필름이 기재층을 추가로 포함하고, CLC층이 상기 기재층의 일면에 형성될 때, 예를 들면, 상기 기술한 바와 같이 CLC층의 하나의 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 가시 광선의 적색광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되고, 다른 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 청색광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되면서, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장이 CLC층의 두께 방향을 따라서 순차적으로 변화하도록 CLC 영역들이 배치되어 있는 형태라면, 상기 기재층과 접하는 CLC층의 주표면측에는 상기 반사광의 중심 파장이 적색광 영역에 속하는 CLC 영역 또는 청색광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치될 수 있다. 다른 예시에서는 상기 기재층과 접하는 CLC층의 주표면측에는 상기 반사광의 중심 파장이 적색광 영역에 속하는 CLC 영역이 형성되어 있을 수 있다. In one example, the optical film may further comprise a substrate layer, and a CLC layer may be formed on one side of the substrate layer. When the optical film further comprises a base layer and a CLC layer is formed on one side of the base layer, for example, as described above, the center wavelength of the reflected light is reflected on one main surface side of the CLC layer, And a CLC region having a center wavelength of reflected light belonging to the blue light region is arranged on the other main surface side so that the center wavelength of the reflected light of each CLC region sequentially changes along the thickness direction of the CLC layer, A CLC region belonging to the red light region or a CLC region belonging to the blue light region may be disposed on the main surface side of the CLC layer contacting the base layer. In another example, a CLC region having a center wavelength of the reflected light belonging to the red light region may be formed on the main surface side of the CLC layer contacting the base layer.

도 6은, 예시적인 광학 필름(600)을 나타내는 단면도이고, 기재층(601)의 하나의 주표면에 CLC층(401)이 형성되어 있고, 그 상부에는 헤이즈층(402)이 형성되어 있는 경우를 나타낸다. 6 is a cross-sectional view showing an exemplary optical film 600. In the case where a CLC layer 401 is formed on one main surface of a base layer 601 and a haze layer 402 is formed thereon .

하나의 예시에서 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역들을 형성시키기 위하여, 기재층의 CLC층이 형성되는 면은 친수성일 수 있다. 하나의 예시에서 기재층의 CLC층이 형성되는 면은, 물에 대한 젖음각(wetting angle)이 0도 내지 50도, 0도 내지 40도, 0도 내지 30도, 0도 내지 20도 또는 0도 내지 10도이거나, 10도 내지 50도, 20도 내지 50도, 30도 내지 50도 정도일 수 있다. 이러한 범위의 젖음각을 가지는 기재층의 면에 CLC층을 형성하면, 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역들을 적절하게 형성할 수 있다. 상기에서 기재층의 물에 대한 젖음각을 측정하는 방식은 특별히 제한되지 않고, 이 분야에서 공지되어 있는 젖음각의 측정 방식을 사용할 수 있으며, 예를 들면, KRUSS사제의 DSA100 기기를 사용하여, 제조사의 매뉴얼에 따라 측정할 수 있다.In one example, in order to form homeotropic or focal-conical oriented CLC regions, the side on which the CLC layer of the substrate layer is formed may be hydrophilic. In one example, the surface on which the CLC layer of the substrate layer is formed has a wetting angle to water of 0 to 50 degrees, 0 to 40 degrees, 0 to 30 degrees, 0 to 20 degrees, or 0 10 degrees to 50 degrees, 20 degrees to 50 degrees, and 30 degrees to 50 degrees. When the CLC layer is formed on the surface of the substrate layer having such a range of the wetting angle, the CLC regions that are homeotropic or focal-conical can be suitably formed. The method of measuring the wetting angle of the substrate layer with respect to water is not particularly limited and a wetting angle measurement method known in the art can be used. For example, by using a DSA100 device manufactured by KRUSS, Can be measured according to the manual.

기재층이 상기 젖음각을 가지도록 하기 위해서는, 기재층의 면에 친수화 처리를 수행하거나, 또는 기재층으로서 친수성 관능기를 포함하는 기재층을 사용하면 된다. 이 분야에서는 기재층의 젖음각을 상기 범위로 제어할 수 있는 다양한 친수화 처리 방식이나, 상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층이 다양하게 공지되어 있다. 친수화 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리 또는 알칼리 처리 등이 예시될 수 있다. 따라서, 하나의 예시에서 상기 기재층의 면에는 코로나 처리층, 플라즈마 처리층 또는 알칼리 처리층이 형성되어 있을 수 있다. In order to cause the substrate layer to have the wetting angle, a hydrophilic treatment may be performed on the surface of the base layer, or a base layer containing a hydrophilic functional group may be used as the base layer. In this field, various hydrophilization treatment methods capable of controlling the wetting angle of the substrate layer within the above-mentioned range, and a substrate layer having such a wetting angle as described above are variously known. As the hydrophilizing treatment, corona treatment, plasma treatment or alkali treatment can be exemplified. Thus, in one example, a corona treatment layer, a plasma treatment layer or an alkali treatment layer may be formed on the surface of the base layer.

기재층으로는 다양한 종류의 기재층이 사용될 수 있다. 하나의 예시에서 상기 기재층은, 광학적 등방성 기재층, 위상지연층(retardation layer) 등과 같이 광학적 이방성 기재층 또는 편광 소자 등이 사용될 수 있다.As the base layer, various types of base layers may be used. In one example, the substrate layer may be an optically anisotropic substrate layer or a polarization element, such as an optically isotropic base layer, a retardation layer, or the like.

광학적 등방성 기재층으로는, 유리 또는 투명 플라스틱 기재층 등과 같은 투명 기재층이 사용될 수 있다. 플라스틱 기재층으로는, DAC(diacetyl cellulose) 또는 TAC(triacetyl cellulose) 기재층과 같은 셀룰로오스 기재층; 노르보르넨 유도체 수지 기재층 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 기재층; PMMA(poly(methyl methacrylate) 기재층 등의 아크릴 기재층; PC(polycarbonate) 기재층; PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene) 기재층 등과 같은 올레핀 기재층; PVA(polyvinyl alcohol) 기재층; PES(poly ether sulfone) 기재층; PEEK(polyetheretherketone) 기재층; PEI(polyetherimide) 기재층; PEN(polyethylenenaphthatlate) 기재층; PET(polyethyleneterephtalate) 기재층 등과 같은 폴리에스테르 기재층; PI(polyimide) 기재층; PSF(polysulfone) 기재층; PAR(polyarylate) 기재층 또는 플루오르수지 기재층 등이 예시될 수 있다. 상기 기재층은 예를 들면, 시트 또는 필름 형상일 수 있다.As the optically isotropic base layer, a transparent base layer such as a glass or transparent plastic base layer or the like may be used. The plastic substrate layer may be a cellulosic substrate layer such as a DAC (diacetyl cellulose) or TAC (triacetyl cellulose) substrate layer; A cycloolefin copolymer (COP) base layer such as a norbornene derivative resin base layer; An acrylic base layer such as PMMA (poly (methyl methacrylate) base layer, a polycarbonate base layer, an olefin base layer such as a PE (polyethylene) or a polypropylene (PB) base layer, a polyvinyl alcohol ether sulfone base layer, a polyetheretherketone (PEEK) base layer, a polyetherimide (PEI) base layer, a polyethylenenaphthatate (PEN) base layer, a polyester base layer such as a PET (polyethyleneterephtalate) base layer, a polyimide ) Base layer, a PAR (polyarylate) base layer, a fluororesin base layer, etc. The base layer may be, for example, in the form of a sheet or a film.

광학적 이방성 기재층, 예를 들면, 위상 지연층으로는, 예를 들면, 1/4 파장층 또는 1/2 파장층 등이 사용될 수 있다. 본 명세서에서 용어 「1/4 파장층」은, 입사되는 광을 그 파장의 1/4배만큼 위상 지연시킬 수 있는 위상 지연 소자를 의미하고, 「1/2 파장층」은, 입사되는 광을 그 파장의 1/2배만큼 위상 지연시킬 수 있는 위상 지연 소자를 의미할 수 있다. 이러한 위상 지연층은, 중합성 액정 화합물을 배향 및 중합시켜서 형성된 액정 고분자층이거나, 연신 또는 수축 공정 등에 의하여 복굴절성을 부여한 플라스틱 필름일 수 있다. As the optically anisotropic base layer, for example, the phase retardation layer, for example, a 1/4 wavelength layer or a half wavelength layer or the like may be used. In the present specification, the term &quot; quarter wavelength layer &quot; means a phase delay element capable of phase-delaying incident light by 1/4 of its wavelength, and &quot; half wavelength layer &quot; And can be a phase delay element capable of delaying a phase by 1/2 of the wavelength. The retardation layer may be a liquid crystal polymer layer formed by aligning and polymerizing a polymerizable liquid crystal compound, or may be a plastic film imparted with birefringence by a stretching or shrinking process or the like.

편광 소자로는, 이 분야에서 공지되어 있는 통상적인 소자가 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 편광 소자는, 폴리비닐알코올 수지에 이색성 색소 등을 흡착 및 배향시켜서 제조되는 소자가 사용될 수 있다.As the polarizing element, a conventional element known in this field can be used. For example, as the polarizing element, an element manufactured by adsorbing and orienting a dichroic dye or the like on a polyvinyl alcohol resin can be used.

상기 기재층에는, 필요에 따라서 저반사 처리, 반사 방지 처리, 눈부심 방지 처리 및/또는 고해상도 방현 처리 등과 같은 다양한 표면 처리가 수행되어 있을 수 있다. The substrate layer may be subjected to various surface treatments such as low reflection treatment, anti-reflection treatment, anti-glare treatment and / or high-resolution anti-glare treatment, if necessary.

광학 필름은, 또한 배향층을 추가로 포함할 수 있다. 용어 「배향층」은, CLC층이 형성되는 과정에서 정렬 균일성을 개선 또는 제공하거나, 액정의 도파기의 정렬을 생성하는 표면 정렬 특성을 나타내는 층을 의미할 수 있다. 배향층은, 예를 들면, 패턴화되어 있는 복수의 홈 영역을 제공하는 수지막, 광배향층 또는 러빙 처리되어 있는 폴리이미드 등과 같은 러빙 처리막 등일 수 있다. 배향층은 예를 들면, 광학 필름이 도 6에 나타난 바와 같은 기재층(601)을 포함하는 경우에는 상기 기재층(601)의 표면, 예를 들면, 기재층(601)와 CLC층(401)의 사이에 형성될 수 있다. 경우에 따라서는, 별도의 배향층을 형성하지 않고, 기재층을 단순히 러빙 또는 연신하거나, 그 표면에 친수성을 부여함으로써 기재층에 배향성을 부여하는 방식을 사용할 수도 있다. 예를 들어, 기재층이 상기 범위의 젖음각을 가진다면, 배향층이 없이도 상기 기재층은, CLC의 배향이나 CLC 영역의 나선축의 위치를 목적하는 범위로 제어할 수 있는 특성을 나타낼 수도 있다. The optical film may further include an orientation layer. The term &quot; orientation layer &quot; can refer to a layer exhibiting surface alignment properties that improve or provide alignment uniformity in the process of forming the CLC layer, or produce alignment of the liquid crystal waveguide. The alignment layer may be, for example, a resin film providing a plurality of patterned groove regions, a rubbing treatment film such as a photo alignment layer or rubbed polyimide, or the like. The alignment layer may be formed on the surface of the base layer 601, for example, the base layer 601 and the CLC layer 401 when the optical film includes the base layer 601 as shown in Fig. 6, As shown in FIG. In some cases, a method of imparting orientation to the substrate layer by simply rubbing or stretching the base layer without imparting a separate orientation layer, or imparting hydrophilicity to the surface may be used. For example, if the base layer has the above-mentioned range of the wetting angle, the base layer may exhibit the property that the orientation of the CLC or the position of the helical axis of the CLC region can be controlled within a desired range without the orientation layer.

광학 필름은 또한 CLC층과 헤이즈층의 사이에 1/4 파장층을 추가로 포함할 수 있다. 도 7은, CLC층(401)과 헤이즈층(402)의 사이에 1/4 파장층(701)을 추가로 포함하는 예시적인 광학 필름(700)의 모식도이다.The optical film may further comprise a quarter wavelength layer between the CLC layer and the haze layer. 7 is a schematic diagram of an exemplary optical film 700 that additionally includes a quarter wavelength layer 701 between the CLC layer 401 and the haze layer 402. As shown in FIG.

1/4 파장층으로는, 예를 들면, 고분자 필름 또는 액정 필름이 사용될 수 있고, 상기는 단층 또는 다층 구조일 수 있다. 고분자 필름으로는, PC(polycarbonate), 노르보넨 수지(norbonene resin), PVA(poly(vinyl alcohol)), PS(polystyrene), PMMA(poly(methyl methacrylate)), PP(polypropylene) 등의 폴리올레핀, Par(poly(arylate)), PA(polyamide), PET(poly(ethylene terephthalate)) 또는 PS(polysulfone) 등을 포함하는 필름을 사용할 수 있다. 상기 고분자 필름을 적절한 조건에서 연신 또는 수축 처리하여 복굴절성을 부여하여 상기 1/4 파장층으로 사용할 수 있다. As the 1/4 wavelength layer, for example, a polymer film or a liquid crystal film may be used, and the above may be a single layer or a multilayer structure. Examples of the polymer film include polyolefins such as polycarbonate (PC), norbonene resin, polyvinyl alcohol (PVA), polystyrene (PS), poly (methyl methacrylate) (poly (arylate), PA (polyamide), PET (poly (ethylene terephthalate)) or PS (polysulfone). The polymer film may be stretched or shrunk under appropriate conditions to impart birefringence and used as the 1/4 wavelength layer.

다른 예시에서 1/4 파장층으로는, 액정 필름이 사용될 수 있다. 층일 수 있다. 1/4 파장층이 액정 필름인 경우에 광학 필름은, 상기 액정 필름을 형성하는 액정 화합물을 배향시키는 배향층을 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 7의 경우, 1/4 파장층(701)과 헤이즈층(402)의 사이에 배향층이 추가로 형성되어 있을 수 있다. 이 분야에서는 1/4 파장층으로 작용할 수 있는 액정 필름 및 배향층이 다양하게 공지되어 있으며, 이러한 요소들은 상기 광학 필름에서 모두 사용될 수 있다.In another example, as the 1/4 wavelength layer, a liquid crystal film may be used. Layer. When the 1/4 wavelength layer is a liquid crystal film, the optical film may further include an alignment layer for orienting the liquid crystal compound forming the liquid crystal film. For example, in the case of FIG. 7, an orientation layer may be further formed between the 1/4 wavelength layer 701 and the haze layer 402. In this field, a variety of liquid crystal films and orientation layers capable of serving as a quarter wavelength layer are known, and these elements can be used in all of the optical films.

하나의 예시에서 1/4 파장층인 액정 필름은, Merk사의 RM(Reactive Mesogen) 또는 BASF사의 LC242 등과 같은 중합성 액정 화합물을 배향 및 중합시켜서 형성할 수 있다. 또한, 상기 배향층으로는, 예를 들면, 광배향층 또는 러빙 배향층 등과 같은 공지의 배향층이 사용될 수 있다.In one example, the liquid crystal film having a quarter wavelength layer can be formed by aligning and polymerizing a polymerizable liquid crystal compound such as RM (Reactive Mesogen) from Merk or LC242 from BASF. As the alignment layer, for example, a known alignment layer such as a photo alignment layer or a rubbing alignment layer may be used.

본 출원은, 또한 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법은, 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 CLC층상에 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 형성하는 것을 포함할 수 있다. The present application also relates to a method for producing an optical film. The manufacturing method may include forming a haze layer having a haze of 40% to 60% on a CLC layer including two or more types of CLC regions whose center wavelengths of reflected light are different from each other.

하나의 예시에서, CLC층의 형성은 중합성 액정 화합물, 예를 들면, 상기 화학식 1의 화합물 및 키랄제를 포함하는 CLC 조성물을 도포하고, 상기 액정 화합물을 중합시키는 것을 포함할 수 있다.In one example, the formation of a CLC layer may include applying a CLC composition comprising a polymerizable liquid crystal compound, such as the compound of Formula 1 and a chiral agent, and polymerizing the liquid crystal compound.

본 명세서에서 용어 「CLC 조성물」은, 목적하는 패턴으로 액정 영역을 포함하는 CLC층을 형성하기 위하여 사용될 수 있는 모든 종류의 조성물이 포함될 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 조성물은, CLC 화합물, CLC 중합체 또는 CLC 중합체를 형성하기 위해 반응할 수 있는 단량체 또는 올리고머 등과 같은 저분자량 화합물을 포함할 수 있다. 또한, CLC 조성물은 하나 이상의 다른 첨가제, 예를 들어 가교제나 중합 개시제 등을 포함할 수 있다. 단량체 또는 기타 저 분자량 화합물의 중합 또는 가교를 개시하기 위하여 중합 개시제가 CLC 조성물 내에 포함될 수 있다. 적절한 중합 개시제는 중합 또는 가교를 개시하고 전파하기 위해 자유 라디칼을 발생시킬 수 있는 것을 포함한다. 자유 라디칼 개시제는 예를 들어 안정성 또는 반감기에 따라 선택될 수 있다. 바람직하게는, 자유 라디칼 개시제는 흡수 또는 다른 방식에 의해 CLC 층에서 추가의 색을 발생하지 않는다. 자유 라디칼 개시제는 전형적으로 열적 자유 라디칼 개시제 또는 광개시제이다. 열적 자유 라디칼 개시제는 예를 들어 퍼옥시드, 퍼술페이트 또는 아조니트릴 화합물을 포함한다. 자유 라디칼 개시제는 열적 분해시에 자유 라디칼을 생성한다.As used herein, the term &quot; CLC composition &quot; may include any kind of composition that can be used to form a CLC layer comprising a liquid crystal region in a desired pattern. In one example, the composition may comprise a low molecular weight compound such as a CLC compound, a CLC polymer, or a monomer or oligomer capable of reacting to form a CLC polymer. In addition, the CLC composition may comprise one or more other additives, such as crosslinking agents, polymerization initiators, and the like. Polymerization initiators may be included in the CLC composition to initiate polymerization or crosslinking of monomers or other low molecular weight compounds. Suitable polymerization initiators include those capable of generating free radicals to initiate polymerization and crosslinking and to propagate. The free radical initiator may be selected, for example, depending on its stability or half life. Preferably, the free radical initiator does not generate additional color in the CLC layer by absorption or otherwise. Free radical initiators are typically thermal free radical initiators or photoinitiators. Thermally-free radical initiators include, for example, peroxide, persulfate or azonitrile compounds. Free radical initiators generate free radicals upon thermal degradation.

전자기 복사선 또는 입자 조사에 의해 광개시제가 활성화될 수 있다. 적절한 광개시제의 예는 오늄 염 광개시제, 유기 금속 광개시제, 양이온성 금속 염 광개시제, 광분해가능한 유기실란, 잠재성 술폰산, 포스핀 옥시드, 시클로헥실 페닐케톤, 아민 치환된 아세토페논 및 벤조페논을 포함할 수 있다. 일반적으로, 다른 광원들이 사용될 수 있긴 하지만 광개시제를 활성화시키기 위해 자외선(UV) 조사가 사용될 수 있다. 광개시제는 광의 특정 파장의 흡수를 기초로 하여 선택될 수 있다.Photoinitiators can be activated by electromagnetic radiation or particle irradiation. Examples of suitable photoinitiators may include onium salt photoinitiators, organometallic photoinitiators, cationic metal salt photoinitiators, photodegradable organosilanes, latent sulfonic acids, phosphine oxides, cyclohexyl phenyl ketones, amine substituted acetophenones, and benzophenones have. In general, ultraviolet (UV) irradiation may be used to activate the photoinitiator, although other light sources may be used. The photoinitiator can be selected based on absorption of a specific wavelength of light.

CLC 조성물은 전형적으로 하나 이상의 용매를 포함하는 코팅 조성물의 일부일 수 있다. 코팅 조성물은 예를 들어 분산제, 산화방지제 및 오존발생방지제를 포함할 수 있다. 추가로, 코팅 조성물은 원한다면 자외선, 적외선 또는 가시광선을 흡수하기 위해 다양한 염료 및 안료를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 증점제 및 충진제와 같은 점도 개질제를 첨가하는 것이 적절할 수 있다. The CLC composition typically can be part of a coating composition comprising at least one solvent. The coating composition may comprise, for example, dispersants, antioxidants and antiozonants. In addition, the coating composition may include various dyes and pigments to absorb ultraviolet, infrared or visible light, if desired. In some cases, it may be appropriate to add viscosity modifiers such as thickeners and fillers.

CLC 조성물은 각종 액체 코팅 방법에 의해 적용될 수 있다. 일부 구현 양태에서, 코팅 후에, CLC 조성물은 CLC층으로 중합되거나 전환된다. 이러한 전환은, 용매의 증발, CLC 물질을 정렬하기 위한 가열; CLC 조성물의 가교; 또는 예를 들어 화학선(actinic) 조사와 같은 열의 인가; 자외선, 가시광선 또는 적외선 등의 광의 조사 및 전자 빔의 조사, 또는 이들의 조합 또는 유사한 기술을 사용한 CLC 조성물의 경화를 포함한 다양한 기술에 의해 달성될 수 있다.The CLC composition can be applied by various liquid coating methods. In some embodiments, after coating, the CLC composition is polymerized or converted into a CLC layer. This conversion can be accomplished by evaporation of the solvent, heating to align the CLC material, Crosslinking of the CLC composition; Or application of heat, such as, for example, actinic irradiation; Irradiation of light such as ultraviolet light, visible light or infrared light and irradiation of an electron beam, or a combination thereof, or curing of a CLC composition using a similar technique.

하나의 예시에서 상기 CLC 조성물은 상기 화학식 1의 화합물, 광개시제 및 키랄제를 포함할 수 있다. In one example, the CLC composition may comprise a compound of Formula 1, a photoinitiator, and a chiral agent.

광개시제는, 화학식 1의 화합물의 중합 또는 가교를 개시시키기 위한 것으로, 상기 화합물과의 상용성에 문제가 없는 한, 이 분야에서 공지된 일반적인 성분을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 광개시제로는, 예를 들면, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로파논(2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-(4-morpholinyl)-1-propanone), 2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 (2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one), 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤(1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone), 트리아릴 술포늄 헥사플루오로안티모네이트염(Triaryl sulfonium hexafluoroantimonate salts) 및 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드(diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide) 등에서 선택되는 1종 또는 2종 이상이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. CLC 조성물은, 상기 광개시제를 상기 화학식 1의 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 내지 10 중량부의 비율로 포함할 수 있다. 광개시제의 함량을 상기와 같이 조절함으로써, 액정 화합물의 효과적인 중합 및 가교를 유도하고, 중합 및 가교 후에 잔존 개시제에 의한 물성 저하를 방지할 수 있다. 본 명세서에서 단위 중량부는 특별히 달리 규정하지 않는 한, 각 성분의 중량의 비율을 의미할 수 있다.The photoinitiator is used for initiating the polymerization or crosslinking of the compound of formula (1). As long as there is no problem in compatibility with the above compound, general components known in this field can be appropriately selected and used. Examples of the photoinitiator include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- (4-morpholinyl) phenyl-2- (4-morpholinyl) -1-propanone, 2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1- 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, triarylsulfonium hexafluoroantimonate salts, and diphenyl (2,4,6-trimethyl Benzoyl) -phosphine oxide (diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide) may be used, but the present invention is not limited thereto. The CLC composition may include 0.1 to 10 parts by weight of the photoinitiator relative to 100 parts by weight of the compound of Formula 1. By controlling the content of the photoinitiator as described above, it is possible to induce effective polymerization and crosslinking of the liquid crystal compound and to prevent deterioration of physical properties due to the residual initiator after polymerization and crosslinking. Unless otherwise specified, the unit weight portion in the present specification may mean the weight ratio of each component.

키랄제로는, 예를 들면, 전술한 종류ㄹ의 화합물이 사용될 수 있다. CLC 조성물은, 키랄제를 상기 화학식 1의 화합물 100 중량부에 대하여 1 중량부 내지 10 중량부의 비율로 포함할 수 있다. 키랄제의 함량을 상기와 같이 조절함으로써, CLC의 효과적인 비틀림을 유도할 수 있다.As the chiral agent, for example, a compound of the above-mentioned kind can be used. The CLC composition may contain the chiral agent in an amount of 1 part by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound of the formula (1). By controlling the content of chiral agent as described above, effective twisting of CLC can be induced.

CLC 조성물은 필요에 따라서 용매를 추가로 포함할 수 있다. 용매로는, 예를 들면, 클로로포름, 디클로로메탄, 테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메톡시 벤젠, 1,2-디메톡시벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 사이클로펜타논 등의 알코올류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 디에틸렌글리콜 디메틸에테르(DEGDME), 디프로필렌글리콜 디메틸에테르(DPGDME)등의 에테르류 등을 들 수 있다. 또한, 상기 용매의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 코팅 효율이나 건조 효율 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. The CLC composition may further comprise a solvent if desired. Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, tetrachloroethane, trichlorethylene, tetrachlorethylene and chlorobenzene; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, methoxybenzene, and 1,2-dimethoxybenzene; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and cyclopentanone; Cellosolve such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; And ethers such as diethylene glycol dimethyl ether (DEGDME) and dipropylene glycol dimethyl ether (DPGDME). The content of the solvent is not particularly limited and may be suitably selected in consideration of coating efficiency, drying efficiency, and the like.

또한, 상기 CLC 조성물은, 계면 활성제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 계면 활성제는 액정 표면에 분포하여 표면을 고르게 만들어 줄 뿐만 아니라, 액정 배향을 안정화시켜 CLC층의 형성 후에 필름 표면이 매끄럽게 유지할 수 있도록 하며, 그 결과 외관 품질을 향상시킬 수 있다. In addition, the CLC composition may further comprise a surfactant. The surfactant is dispersed on the surface of the liquid crystal to make the surface even and stabilizes the liquid crystal alignment so that the surface of the film can be smoothly maintained after the formation of the CLC layer. As a result, the appearance quality can be improved.

계면 활성제로는, 예를 들면, 플루오르 카본 계열의 계면 활성제 및/또는 실리콘 계열의 계면 활성제가 사용될 수 있다. 플루오르 카본 계열의 계면활성제로는 3M사 제조 제품인 플루오라드(Fluorad) FC4430™, 플루오라드 FC4432™, 플루오라드 FC4434™와 Dupont사 제조 제품인 조닐(Zonyl)등이 사용될 수 있고, 실리콘 계열의 계면활성제로는 BYK-Chemie사 제조 제품인 BYK™등이 사용될 수 있다. 계면 활성제의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 코팅 효율이나 건조 효율 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.As the surfactant, for example, a fluorocarbon surfactant and / or a silicon surfactant may be used. Fluorad FC4430 (TM), Fluorad FC4432 (TM), Fluorad FC4434 (TM) manufactured by 3M Company and Zonyl produced by Dupont Co., Ltd. can be used as the fluorocarbon surfactant, and silicone surfactants BYK 占 manufactured by BYK-Chemie, etc. may be used. The content of the surfactant is not particularly limited and may be suitably selected in consideration of coating efficiency, drying efficiency, and the like.

상기와 같은 CLC 조성물을 도포한 후에, 예를 들면, 상기 조성물 내에 액정 화합물의 CLC 배향이 유도된 상태에서, 상기 조성물의 성분들을 중합시켜서 CLC층을 형성할 수 있다.After the application of the CLC composition as described above, for example, the components of the composition may be polymerized to form a CLC layer in a state where CLC orientation of the liquid crystal compound is induced in the composition.

하나의 예시에서 상기 CLC층의 형성은, CLC 조성물의 도포층에 상대적으로 약한 자외선을 조사하여 키랄제의 농도 구배를 형성하고, 농도 구배가 형성되어 있는 도포층에 상대적으로 강한 자외선을 조사하여, 조성물의 성분들을 중합시키는 것을 포함할 수 있다. 이와 같은 방식으로, 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 단일층의 CLC층을 효과적으로 형성할 수 있다.In one example, the CLC layer is formed by irradiating a coating layer of the CLC composition with a relatively weak ultraviolet ray to form a concentration gradient of the chiral agent, irradiating the coating layer on which the concentration gradient is formed with a relatively strong ultraviolet ray, And polymerizing the components of the composition. In this manner, a single-layer CLC layer including two or more types of CLC regions having different center wavelengths of reflected light can be effectively formed.

CLC 조성물의 도포층에 상대적으로 약한 강도의 자외선을 소정 온도에서 조사하는 경우, 도포층 내에서 키랄제의 농도 구배, 즉 도포층 내에서 소정 방향을 따라서 키랄제의 농도의 변화를 유도할 수 있다. 하나의 예시에서 상기 키랄제의 농도 구배는 도포층의 두께 방향을 따라서 형성되어 있을 수 있다. 키랄제의 농도 구배를 형성한 자외선의 조사는, 예를 들면, 40℃ 내지 80℃, 50℃ 내지 70℃ 또는 약 60℃ 전후의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 또한, 상기 농도 구배의 형성을 위한 자외선의 조사는 자외선 A 영역의 자외선을 약 10 mJ/cm2 내지 500 mJ/cm2의 광량으로 조사하여 수행될 수 있다. When irradiating the coating layer of the CLC composition with ultraviolet light having a relatively weak intensity at a predetermined temperature, it is possible to induce a concentration gradient of the chiral agent in the coating layer, that is, a change in the concentration of the chiral agent along the predetermined direction in the coating layer . In one example, the concentration gradient of the chiral agent may be formed along the thickness direction of the coating layer. The irradiation of ultraviolet rays having a concentration gradient of chiral agent can be performed at a temperature range of, for example, 40 캜 to 80 캜, 50 캜 to 70 캜 or about 60 캜. The irradiation of the ultraviolet ray for forming the concentration gradient may be performed by irradiating the ultraviolet ray of the ultraviolet ray A region with an amount of light of about 10 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2 .

상기와 같은 방식으로 농도 구배를 형성한 후, 조성물의 성분을 중합시키기에 충분한 양의 자외선을 조사하여 CLC층을 형성할 수 있다. 상기 자외선 조사에 의하여 도포층은 형성된 키랄제의 농도 구배에 따라 액정이 상이한 피치를 가진 상태로 고정되어 CLC 영역이 형성될 수 있다. 상기 강한 자외선의 조사의 조건은, 조성물의 성분의 중합이 충분하게 진행될 정도로 수행되는 한 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 상기 자외선의 조사는, 자외선 A 내지 C 영역의 자외선을 약 1 J/cm2 내지 10 J/cm2의 광량으로 조사하여 수행될 수 있다. After the concentration gradient is formed in the same manner as described above, a CLC layer can be formed by irradiating ultraviolet ray in an amount sufficient to polymerize the components of the composition. By the ultraviolet ray irradiation, the coating layer can be fixed with different pitches of the liquid crystal according to the concentration gradient of the chiral agent to form the CLC region. The conditions of the irradiation of the strong ultraviolet ray are not particularly limited as long as the polymerization of the components of the composition is sufficiently carried out. In one example, the irradiation of the ultraviolet light can be performed by irradiating ultraviolet rays of the ultraviolet rays A to C at an amount of about 1 J / cm 2 to 10 J / cm 2 .

하나의 예시에서 상기 CLC 조성물의 도포층은, 적절한 기재층상에 형성될 수 있다. 상기 기재층은 예를 들면, 전술한 바와 같은 광학적 등방성 또는 이방성 기재층, 또는 편광 소자 등일 수 있다. In one example, the application layer of the CLC composition may be formed on a suitable substrate layer. The substrate layer may be, for example, an optically isotropic or anisotropic substrate layer as described above, or a polarizing element or the like.

하나의 예시에서 CLC 조성물의 도포층이 형성되는 기재층의 면에는 배향성이 부여되어 있을 수 있다. 배향성은, 예를 들면 상기와 같이 친수성 표면의 기재층을 사용하거나, 기재층을 러빙 또는 연신하거나, 혹은 기재층의 표면에 배향층을 형성하여 부여할 수 있다. 기재층의 면에 적절한 배향성을 부여함으로써 광대역 CLC층의 형성 효과를 높일 수 있다. 기재층에 배향층을 형성하는 방식은 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에서 공지된 적절한 방식이 사용될 수 있다. In one example, the surface of the base layer on which the application layer of the CLC composition is formed may be provided with an orientation. The orientation can be imparted, for example, by using a base layer of a hydrophilic surface as described above, by rubbing or stretching the base layer, or by forming an orientation layer on the surface of the base layer. The effect of forming the wide band CLC layer can be enhanced by giving the surface of the base layer with proper orientation. The manner of forming the alignment layer in the base layer is not particularly limited, and any suitable method known in the art can be used.

하나의 예시에서 상기 CLC 조성물의 도포층은, 젖음각이 0도 내지 50도, 0도 내지 40도, 0도 내지 30도, 0도 내지 20도 또는 0도 내지 10도인 기재층의 표면에 형성될 수 있다. 상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층으로는, 표면에 적절한 친수화 처리를 수행한 기재층, 또는 그 자체가 친수성 관능기를 포함하여 처음부터 친수성을 가지는 기재층을 사용할 수 있다. 상기에서 친수화 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리 또는 알칼리 처리 등이 예시될 수 있다. 상기 처리 조건은 특별히 제한되지 않는다. 이 분야에서는 기재층에 친수성을 부여하기 위한 다양한 방식들이 공지되어 있고, 상기와 같은 방식을 채용하여 상기 젖음각을 기재층이 나타내도록 친수화 처리를 수행할 수 있다.In one example, the application layer of the CLC composition is formed on the surface of the substrate layer with a wetting angle of 0 to 50 degrees, 0 to 40 degrees, 0 to 30 degrees, 0 to 20 degrees, or 0 to 10 degrees . As the base layer having such a wetting angle as described above, a substrate layer having been subjected to a suitable hydrophilizing treatment on its surface or a substrate layer having hydrophilic properties from the beginning including a hydrophilic functional group itself may be used. Examples of the hydrophilizing treatment include corona treatment, plasma treatment, alkali treatment, and the like. The treatment conditions are not particularly limited. In this field, various methods for imparting hydrophilicity to the substrate layer are known, and the hydrophilization treatment can be performed by employing the above-described method so that the substrate angle is represented by the wetting angle.

상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층의 표면에 CLC층을 형성하면, 상기 기술한 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역을 포함하는 CLC층을 형성할 수 있다.When the CLC layer is formed on the surface of the substrate layer having the wetting angle as described above, a CLC layer including the above described homeotropic or focal-conic CLC regions can be formed.

상기 방법은, 상기와 같은 CLC층상에 헤이즈층을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기에서 헤이즈층을 형성하는 방식은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 헤이즈층으로서 상기 기술한 수지층을 채용하는 경우에는, 적절한 필름 또는 시트상에 상기 수지층을 형성하고, 수지층이 형성된 필름 또는 시트를 CLC층에 부착하거나, 혹은 CLC층상에 수지층을 직접 형성하는 방식을 사용할 수 있다.The method may comprise forming a haze layer on the CLC layer as described above. The method of forming the haze layer is not particularly limited. For example, when the resin layer described above is employed as the haze layer, the resin layer may be formed on a suitable film or sheet, and a film or sheet on which the resin layer is formed may be attached to the CLC layer, A method of directly forming a layer can be used.

상기 수지층은, 예를 들면, 입자를 포함하는 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물의 코팅하고, 이를 경화시켜서 형성할 수 있다. 상기에서 조성물의 도포 및 경화는, CLC층의 표면에 직접 수행될 수도 있고, CLC층이 형성되어 있거나, 형성되어 있는 기재층의 일면에 수행되거나, 다른 임의의 기재층상에 수행될 수도 있다. 헤이즈층이 다른 임의의 기재층상에 수행되는 경우, 상기 기재층을 CLC층과 부착하거나, 또는 기재층상에 형성되어 있는 헤이즈층을 CLC층 또는 광학 필름의 다른 기재층에 전사하는 방식으로 헤이즈층을 형성할 수 있다.The resin layer can be formed, for example, by coating a room temperature curing type, moisture curing type, thermosetting type, active energy ray curing type or hybrid curing type composition containing particles and curing the composition. The application and curing of the composition may be performed directly on the surface of the CLC layer or may be performed on one surface of the substrate layer on which the CLC layer is formed or on any other substrate layer. When the haze layer is performed on another arbitrary base layer, the base layer is adhered to the CLC layer, or the haze layer formed on the base layer is transferred to the CLC layer or another base layer of the optical film to form the haze layer .

상기 제조 방법은, 상기 CLC층과 헤이즈층의 사이에 1/4 파장층을 형성하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 1/4 파장층의 형성 방식은 특별히 제한되지 않으며, 공정 진행 중에 적절한 시기에 1/4 파장층을 CLC층과 헤이즈층의 사이에 배치하여 형성할 수 있다.The manufacturing method may further include forming a 1/4 wavelength layer between the CLC layer and the haze layer. The formation method of the 1/4 wavelength layer is not particularly limited and may be formed by disposing a 1/4 wavelength layer between the CLC layer and the haze layer at an appropriate time during the process.

하나의 예시에서는 헤이즈층을 형성하는 과정에서 입자를 포함하는 수지층이고 상기 입자가 상기 수지층과는 상이한 굴절률을 가지는 수지층이 일면에 형성되고, 다른 면에는 1/4 파장층이 형성되어 있는 필름 또는 시트의 1/4 파장층을 CLC층상에 위치시키는 방식으로 상기 헤이즈층과 1/4 파장층을 동시에 형성할 수도 있다. 즉, 상기 헤이즈층으로 필름 또는 시트상에 형성되는 수지층을 사용하는 경우에는, 상기 필름 또는 시트의 일면에는 상기 수지층을 형성하고, 다른 면에는 1/4 파장층을 형성한 후에 상기 필름 또는 시트를 CLC층에 라미네이트하거나, 또는 상기 수지층이 형성되는 필름 또는 시트로서 1/4 파장층으로 작용하는 고분자 필름 또는 시트를 사용하고, 이를 CLC층에 라미네이트함으로써 1/4 파장층 및 헤이즈층을 형성할 수 있다.In one example, a resin layer containing particles in the process of forming a haze layer and having a refractive index different from that of the resin layer is formed on one surface and a 1/4 wavelength layer is formed on the other surface It is also possible to simultaneously form the haze layer and the 1/4 wavelength layer by placing a 1/4 wavelength layer of the film or sheet on the CLC layer. That is, when the resin layer formed on the film or sheet is used as the haze layer, the resin layer is formed on one surface of the film or sheet, the 1/4 wavelength layer is formed on the other surface, A 1/4 wavelength layer and a haze layer can be obtained by laminating a sheet to a CLC layer or by using a polymer film or sheet serving as a 1/4 wavelength layer as a film or sheet on which the resin layer is formed and laminating it on a CLC layer .

상기에서 필름 또는 시트의 일면에 1/4 파장층을 형성하는 것은, 예를 들면, (a) 필름 또는 시트상에 배향층을 형성하고, (b) 상기 배향층 상에 중합성 액정 화합물을 도포, 배향 및 중합시키는 것을 포함할 수 있다.The formation of the 1/4 wavelength layer on one side of the film or sheet may be achieved by, for example, (a) forming an orientation layer on a film or sheet, (b) applying a polymerizable liquid crystal compound on the orientation layer , Orientation and polymerization.

상기와 같이 형성된 필름 또는 시트를 CLC층과 라미네이트하는 방식은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 적절한 점착층 또는 접착층을 사용한 공지의 방식을 적용할 수 있다.The method of laminating the thus formed film or sheet with the CLC layer is not particularly limited, and for example, a well-known method using an appropriate adhesive layer or an adhesive layer can be applied.

본 출원은 또한 반사형 편광판에 관한 것이다. 예시적인 반사형 편광판은 상기 광학 필름 및 편광 소자를 포함할 수 있다. 상기에서 편광 소자는 예를 들면 상기 광학 필름의 헤이즈층의 상부에 배치될 수 있다.The present application also relates to a reflective polarizer. An exemplary reflective polarizer may comprise the optical film and the polarizing element. The polarizing element may be disposed above the haze layer of the optical film.

반사형 편광판으로 사용되는 경우에 상기 광학 필름은, 헤이즈층과 CLC층의 사이에 상기 1/4 파장층을 포함할 수 있다. 도 8은, 예시적인 반사형 편광판(800)을 나타내고, 편광 소자(801), 헤이즈층(402), 1/4 파장층(701) 및 CLC층(401)이 순차로 형성된 경우를 보여준다.When used as a reflection type polarizing plate, the optical film may include the 1/4 wavelength layer between the haze layer and the CLC layer. 8 shows an exemplary reflection type polarizing plate 800 and shows a case where a polarizing element 801, a haze layer 402, a 1/4 wavelength layer 701 and a CLC layer 401 are sequentially formed.

상기에서 편광 소자의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, LCD 등의 표시 장치에서 통상적으로 사용되는 폴리비닐알코올 편광 소자 등을 사용할 수 있다. The type of the polarizing element is not particularly limited. For example, a polyvinyl alcohol polarizing element or the like commonly used in a display device such as an LCD can be used.

상기 반사형 편광판은, 광대역의 CLC층을 포함하고, 또한 적합한 범위의 헤이즈를 나타내는 헤이즈층을 포함함으로써, 예를 들면, LCD 등의 디스플레이 장치에 적용되어서 적합한 휘도 특성을 보이면서 광원의 광원의 색을 효과적으로 재현하고, 또한 측면 관찰 시에 문제되는 색반전 현상도 방지할 수 있다.The reflective polarizer includes a wide-band CLC layer and includes a haze layer exhibiting a suitable range of haze. Thus, the reflective polarizer can be applied to, for example, a display device such as an LCD to exhibit suitable luminance characteristics, It is possible to effectively reproduce and prevent the color reversal phenomenon which is problematic at the time of side observation.

본 출원은 또한 LCD에 관한 것이다. 예시적인 LCD는 상기 반사형 편광판을 포함할 수 있다.The present application also relates to LCDs. An exemplary LCD may include the reflective polarizer.

하나의 예시에서 상기 LCD는, 액정 패널과 상기 액정 패널의 일측에 배치된 광원을 추가로 포함할 수 있고, 상기 반사형 편광판이 상기 액정 패널과 광원의 사이에 배치되어 있을 수 있다. 반사형 편광판이 1/4 파장층을 포함하는 경우에는, 상기 편광판은, 광학 필름의 CLC층이 상기 1/4 파장층에 비하여 광원이 가깝게 위치하도록 배치되어 있을 수 있다. In one example, the LCD may further include a liquid crystal panel and a light source disposed on one side of the liquid crystal panel, and the reflective polarizer may be disposed between the liquid crystal panel and the light source. In the case where the reflection type polarizing plate includes a quarter wavelength layer, the polarizing plate may be arranged such that the CLC layer of the optical film is located closer to the light source than the quarter wavelength layer.

도 9에 예시적으로 나타난 바와 같이, LCD(900)는, 예를 들면, 상부 편광판(903)이 일측에 배치되고, 다른 측에는 상기 반사형 편광판(902)이 배치되어 있는 액정 패널(901); 및 상기 반사형 편광판(902)의 하부에 배치되어 있는 광원(905)을 포함할 수 있다. 9, the LCD 900 includes, for example, a liquid crystal panel 901 in which the upper polarizer plate 903 is disposed on one side and the reflective polarizer plate 902 is disposed on the other side; And a light source 905 disposed below the reflection type polarizing plate 902.

상기 구조에서 반사형 편광판(902)의 CLC층은, 광원(904)에서 출사되는 광의 일부는 투과시켜 1/4 파장층측으로 보내고, 나머지 광은 다시 광원(904)측으로 반사시킬 수 있다. 1/4 파장층측으로 보내진 광은 1/4 파장층에 의하여 직선 편광으로 변환되어 편광 소자를 거쳐서 상부의 액정 패널(901)로 전달될 수 있다. 상기에서 CLC층에 의해 반사된 광은 장치의 내부에서 재반사되며, 그 편광 특성이 변하여 다시 편광판(902)으로 입사되며, 이러한 과정이 반복되면서 장치의 휘도 특성이 향상될 수 있다.In this structure, the CLC layer of the reflective polarizer 902 transmits a part of the light emitted from the light source 904 to the quarter wavelength layer side, and the remaining light can be reflected to the light source 904 side. The light sent to the 1/4 wavelength layer can be converted into linearly polarized light by the 1/4 wavelength layer and transmitted to the upper liquid crystal panel 901 through the polarizing element. In this case, the light reflected by the CLC layer is reflected again inside the device, the polarization characteristics thereof are changed, and the polarized light is incident on the polarizer 902 again. This process can be repeated to improve the brightness characteristics of the device.

LCD가 상기 광학 소자를 포함하는 한, 다른 부품 내지는 구조 등은 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에서 공지되어 있는 모든 내용이 적절하게 적용될 수 있다.As long as the LCD includes the optical element, other parts, structures, and the like are not particularly limited, and all contents well known in this field can be appropriately applied.

본 출원의 예시적인 광학 필름은, 예를 들면, LCD 등의 디스플레이 장치의 광 이용 효율을 개선하고, 휘도를 향상시킬 수 있는 반사형 편광판으로 사용될 수 있다. 예시적인 광학 필름은 입사되는 광의 색감을 휘도의 손실을 최소화하면서 효과적으로 재현할 수 있어서, 영상 품질이 탁월한 디스플레이 장치를 제공할 수 있다.The exemplary optical film of the present application can be used as a reflection type polarizing plate capable of improving light utilization efficiency and brightness of a display device such as an LCD, for example. The exemplary optical film can effectively reproduce the color of the incident light while minimizing the loss of brightness, thereby providing a display device with excellent image quality.

도 1은, CLC의 설명을 위한 예시적인 도면이다.
도 2는 CLC층 내에서 CLC 영역의 배치를 예시적으로 설명하는 도면이다.
도 3은, CLC의 배향을 설명하기 위한 예시적인 도면이다.
도 4 내지 8은, 예시적인 광학 필름을 나타내는 도면이다.
도 9는, 예시적인 LCD를 나타내는 도면이다.
도 10 및 11은 실시예 및 비교예에서 제조된 반사형 편광판에 대하여 CIE 색좌표를 측정한 결과를 보여주는 도면이다.
1 is an exemplary diagram for explaining CLC.
FIG. 2 is a diagram illustrating an exemplary arrangement of CLC regions in a CLC layer. FIG.
3 is an exemplary diagram for explaining the orientation of the CLC.
4 to 8 are views showing an exemplary optical film.
9 is a diagram showing an exemplary LCD.
10 and 11 are views showing the results of measurement of CIE color coordinates for the reflection type polarizing plate manufactured in Examples and Comparative Examples.

이하 실시예 및 비교예를 통하여 상기 광학 필름을 구체적으로 설명하나, 상기 필름의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the optical film will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the scope of the film is not limited by the following examples.

제조예Manufacturing example 1.  One. CLCCLC 조성물(A)의 조제 Preparation of composition (A)

CLC 조성물은, Merck사에서 입수할 수 있는 CLC 혼합물인 RMM856을 톨루엔 및 시클로헥사논의 혼합 용매(중량 비율 = 7:3(톨루엔:시클로헥사논)에 고형분이 40 중량% 정도가 되도록 용해시킨 후에, 균일한 용액의 형성을 위하여 60℃에서 1 시간 정도 가열한 후 충분히 식혀서 제조하였다.
The CLC composition was prepared by dissolving RMM856, a CLC mixture available from Merck, in a mixed solvent of toluene and cyclohexanone (weight ratio = 7: 3 (toluene: cyclohexanone) to a solids content of about 40% The mixture was heated at 60 캜 for about 1 hour and cooled sufficiently to form a homogeneous solution.

제조예Manufacturing example 2.  2. 헤이즈층(A)의(A) of the haze layer 제조 Produce

우레탄 아크릴레이트 올리고머 10 g 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 20 g을 메틸에틸케톤 30 g과 톨루엔 38 g의 혼합 용매에 배합하여 바인더용 조성물을 제조하였다. 그 후, 상기 바인더용 조성물에 형성될 바인더와는 상이한 굴절률을 가지며, 평균 입경이 3,500 nm 정도인 스티렌 수지계 입자를 배합하였다. 상기 스티렌 수지계 입자의 배합 비율은 최종적으로 제조된 수지층의 헤이즈가 약 50% 정도가 되도록 하였다. 그 후, 자외선 중합 개시제 2 g을 균일하게 혼합하여 헤이즈층을 형성하기 위한 수지 조성물을 제조하였다. 그 후, 광학용 TAC(Triacetyl cellulose) 필름의 일면에 상기 수지 조성물을 약 2 ㎛ 의 건조 두께를 가지도록 도포하고, 자외선(300mW/cm2)을 조사하여 헤이즈가 약 50% 정도인 헤이즈층을 형성하였다.
10 g of urethane acrylate oligomer and 20 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) were compounded in a mixed solvent of 30 g of methyl ethyl ketone and 38 g of toluene to prepare a composition for a binder. Thereafter, styrene resin-based particles having different refractive indices from those of the binder to be formed in the binder composition and having an average particle diameter of about 3,500 nm were blended. The blending ratio of the styrene resin-based particles was such that the final resin layer had a haze of about 50%. Thereafter, 2 g of the ultraviolet polymerization initiator was uniformly mixed to prepare a resin composition for forming a haze layer. Thereafter, the resin composition was coated on one surface of an optical TAC (triacetyl cellulose) film so as to have a dry thickness of about 2 탆, and irradiated with ultraviolet rays (300 mW / cm 2 ) to form a haze layer having a haze of about 50% .

실시예Example 1.  One.

광학 필름의 제조Manufacture of optical film

기재층으로서, PET(poly(ethylene terephthalate), MRL38, Mitsubishi사제) 기재층의 일면에 300 Watt의 조건으로 5초 동안 코로나 처리를 수행하여 친수성 표면이 형성된 기재층을 제조하였다. 상기 PET 기재층의 물에 대한 젖음각은 약 60도 정도이며, 상기 자외선 조사를 통하여 친수성 표면의 물에 대한 젖음각이 약 30도 내지 40도가 되도록 조절하였다. 이어서, 상기 기재층의 친수성 표면 상에 CLC 조성물(A)를 와이어바로 코팅하고, 100℃에서 2 분 동안 건조시켜서 두께가 약 5 ㎛인 액정층을 형성하였다. 그 후 약 60℃의 온도에서 건조된 코팅층에 파장이 자외선 조사 장비(TLK40W/10R, Philips사제)로 350 nm 내지 400 nm 정도의 범위 내인 자외선을 조사하여 키랄제의 농도 구배를 유도하였다(광량: 약 100 mJ/cm2). 농도 구배를 유도한 후에 다시 자외선 조사 장비(Fusion UV, 400W)로 조성물이 충분히 경화되도록 자외선을 조사하여 코팅층을 중합시켜서 CLC층을 형성하여 광학 필름을 제조하였다.
As a substrate layer, a substrate layer on which a hydrophilic surface was formed was prepared by performing corona treatment on one surface of a PET (poly (ethylene terephthalate), MRL38, Mitsubishi) base layer under conditions of 300 Watt for 5 seconds. The wetting angle of the PET base layer with respect to water was about 60 degrees, and the wetting angle of the hydrophilic surface with respect to water was adjusted to about 30 to 40 degrees by the ultraviolet ray irradiation. Next, the CLC composition (A) was directly coated on the hydrophilic surface of the base layer with a wire and dried at 100 DEG C for 2 minutes to form a liquid crystal layer having a thickness of about 5 mu m. Then, the coating layer dried at a temperature of about 60 ° C was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength within the range of about 350 nm to 400 nm with an ultraviolet ray irradiation equipment (TLK40W / 10R, manufactured by Philips) to induce a concentration gradient of the chiral agent (amount of light: About 100 mJ / cm 2 ). After the concentration gradient was induced, the coating layer was irradiated with ultraviolet ray to sufficiently cure the composition with ultraviolet ray irradiation equipment (Fusion UV, 400W) to form a CLC layer to prepare an optical film.

반사형 편광판의 제조Production of Reflective Polarizer

상기 제조된 광학 필름의 CLC층을 1/4 파장층과 부착하여 반사형 편광판을 제조하였다. 1/4 파장층으로는 제조예 2에서 제조된 수지층이 일면에 형성되어 있는 TAC 필름의 수지층이 형성되어 있지 않은 면에 1/4 파장층을 형성할 수 있는 일반적인 배향층 및 액정층을 순차로 형성하여 제조하였다. 제조된 1/4 파장층을 CLC층에 라미네이트하여 반사형 편광판을 제조하였다. 도 10 및 11에는 제조된 반사형 편광판에 대하여 측정한 CIE 색좌표의 x 및 y 특성이 나타나 있다. CIE 색좌표는, 편광판의 CLC층측으로 광을 조사하면서, 투과하여 나온 광에 대하여 Eldim사의 EZ Contrast 장비를 이용하여 제조사의 매뉴얼에 따라서 측정하였다.
A CLC layer of the prepared optical film was attached to a 1/4 wavelength layer to prepare a reflective polarizer. As the 1/4 wavelength layer, a general orientation layer and a liquid crystal layer capable of forming a 1/4 wavelength layer on the surface of the TAC film having the resin layer formed on one side of the Production Example 2 are not formed, Respectively. The prepared 1/4 wavelength layer was laminated on the CLC layer to prepare a reflective polarizer. 10 and 11 show the x and y characteristics of the CIE color coordinates measured for the produced reflection type polarizing plate. The CIE color coordinates were measured according to the manual of the manufacturer using the EZ Contrast equipment of Eldim Inc. for the light transmitted through the CLC layer side of the polarizing plate.

비교예Comparative Example 1.  One.

반사형 편광판의 제조 시에 제조예 2에서 사용한 TAC 필름과 동일한 것으로 일면에 수지층이 형성되어 있지 않은 TAC 필름에 배향층 및 액정층을 순차로 형성하여 제조된 1/4 파장층을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 반사형 편광판을 제조하였다. 도 10 및 11에는 상기 비교예 제조된 반사형 편광판에 대하여 측정한 CIE 색좌표의 x 및 y 특성이 실시예 1과 비교되어 나타나 있다. 도 10 및 11로부터 헤이즈층을 포함하는 실시예 1의 반사형 편광판은 비교예 1 대비 광원의 색좌표를 효과적으로 재현하면서 측면에서의 색반전 현상도 방지하고 있는 것을 확인할 수 있다.Except that a 1/4 wavelength layer prepared by sequentially forming an alignment layer and a liquid crystal layer on a TAC film having no resin layer on one side, which is the same as the TAC film used in Production Example 2, in the production of a reflective polarizer , A reflective polarizer was prepared in the same manner as in Example 1. FIGS. 10 and 11 show the x and y characteristics of the CIE color coordinates measured for the reflective polarizer produced in the comparative example, as compared with Example 1. FIG. From FIGS. 10 and 11, it can be confirmed that the reflective polarizer of Example 1 including the haze layer effectively reproduces the color coordinates of the light source in comparison with Comparative Example 1 while preventing the color reversal phenomenon on the side.

n: CLC 도파기
P: 피치
X: 나선축
2: CLC층 21, 22: CLC층의 주표면
231, 232, 233: CLC 영역
HA: CLC 영역의 나선축
31: CLC층의 두께 방향
32: CLC층의 두께 방향과 수직한 방향
400, 500, 600, 700: 광학 필름
401: CLC층
402: 헤이즈층
501: 필름 또는 시트
502: 수지층
601: 기재층
701: 1/4 파장층
800: 반사형 편광판
801: 편광 소자
900: 액정 표시 장치
903: 상부 편광판
901: 액정 패널
902: 반사형 편광판
904: 광원
n: CLC waveguide
P: pitch
X: Spiral axis
2: CLC layer 21, 22: main surface of CLC layer
231, 232, 233: CLC area
HA: Spiral axis of CLC region
31: thickness direction of CLC layer
32: direction perpendicular to the thickness direction of the CLC layer
400, 500, 600, 700: optical film
401: CLC layer
402: haze layer
501: film or sheet
502: resin layer
601: substrate layer
701: quarter wavelength layer
800: reflective polarizer
801: Polarization element
900: liquid crystal display
903: upper polarizer plate
901: liquid crystal panel
902: reflective polarizer
904: Light source

Claims (18)

기재; 상기 기재의 일면에 형성되고 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층; 및 상기 액정층의 상부에 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 포함하며, 상기 액정층은 단일층이고, 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 내지 700 nm인 제 3 영역을 포함하며, 상기 제 1 내지 3 영역은 각각 서로 상이한 피치를 가지는 광학 필름으로서,
상기 기재의 액정층이 형성된 표면은 친수성이며 젖음각이 20도 내지 50도 이고,
상기 액정 영역은 콜레스테릭 액정 분자의 도파기의 나선축이 상기 액정층의 두께방향과 평행하도록 형성되어 있는 액정 영역과 평행하지 않도록 형성되어 있는 액정 영역을 포함하며,
상기 콜레스테릭 배향된 액정영역을 포함하는 액정층과 상기 헤이즈층의 사이에 1/4 파장층을 추가로 포함하고, 상기 1/4 파장층은 상기 액정층에 부착되어 있는 액정필름인 광학 필름.
materials; A liquid crystal layer formed on one surface of the substrate and including at least two kinds of cholesteric aligned liquid crystal regions whose center wavelengths of reflected light are different from each other; And a haze layer having a haze of 40% to 60% at an upper portion of the liquid crystal layer, wherein the liquid crystal layer is a single layer and has a first region in which the center wavelength of reflected light is 400 nm to 500 nm, and a third region having a central wavelength of the reflected light of 600 to 700 nm, wherein the first to third regions are optical films having mutually different pitches,
The surface of the substrate on which the liquid crystal layer is formed is hydrophilic and has a wetting angle of 20 to 50 degrees,
Wherein the liquid crystal region includes a liquid crystal region formed so as not to be parallel to a liquid crystal region formed so that a helical axis of a waveguide of the cholesteric liquid crystal molecule is parallel to a thickness direction of the liquid crystal layer,
A 1/4 wavelength layer is further provided between the liquid crystal layer including the cholesteric liquid crystal region and the haze layer, and the 1/4 wavelength layer is an optical film which is a liquid crystal film attached to the liquid crystal layer .
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, 헤이즈층은 입자를 포함하는 수지층이고, 상기 입자는 상기 수지층과는 상이한 굴절률을 가지는 광학 필름.The optical film according to claim 1, wherein the haze layer is a resin layer containing particles and the particles have a refractive index different from that of the resin layer. 제 4 항에 있어서, 수지층과 입자의 굴절률의 차이는 0.03 이하인 광학 필름.The optical film according to claim 4, wherein a difference in refractive index between the resin layer and the particles is 0.03 or less. 제 4 항에 있어서, 수지층은, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지 또는 폴리에스테르를 포함하는 광학 필름.The optical film according to claim 4, wherein the resin layer comprises an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin or a polyester. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, 기재 및 콜레스테릭 배향된 액정영역을 포함하는 액정층의 사이에 배향층을 추가로 포함하는 광학 필름.
The optical film of claim 1, further comprising an orientation layer between the substrate and a liquid crystal layer comprising a cholesteric aligned liquid crystal region.
삭제delete 삭제delete 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층상에 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 형성하는 것을 포함하며, 상기 액정층은 단일층이고, 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 내지 700 nm인 제 3 영역을 포함하며, 상기 제 1 내지 3 영역은 각각 서로 상이한 피치를 가지는 제 1항의 광학 필름의 제조 방법.Forming a haze layer having a haze of 40% to 60% on a liquid crystal layer including two or more types of cholesteric aligned liquid crystal regions whose center wavelengths of reflected light are different from each other, wherein the liquid crystal layer is a single layer, A first region having a center wavelength of 400 nm to 500 nm, a second region having a center wavelength of reflected light of 500 nm to 600 nm and a third region having a central wavelength of reflected light of 600 to 700 nm, The method of claim 1, wherein the regions have different pitches from each other. 제 12 항에 있어서, 액정층은, 콜레스테릭 액정 조성물의 도포층에 40℃ 내지 80℃에서 자외선 A 영역의 자외선을 10 mJ/cm2 내지 500 mJ/cm2로 조사한 후에 자외선 A 내지 C 영역의 자외선을 1 J/cm2 내지 10 J/cm2로 조사하는 것을 포함하는 방식으로 형성되는 광학 필름의 제조 방법.The method of claim 12, wherein the liquid crystal layer, cholesteric ultraviolet rays of the ultraviolet region A in the cholesteric 40 ℃ to 80 ℃ the applied layer of the liquid crystal composition after irradiating with 10 mJ / cm 2 to 500 mJ / cm 2 ultraviolet ray A to the area C In an amount of 1 J / cm 2 to 10 J / cm 2 . 삭제delete 제 12 항에 있어서, 액정층상에 헤이즈층을 형성하는 단계는, 일면에는 헤이즈층이 형성되어 있고, 다른 면에는 1/4 파장층이 형성되어 있는 필름 또는 시트의 상기 1/4 파장층을 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층상에 위치시키는 방식으로 수행되고, 상기에서 헤이즈층은, 입자를 포함하는 수지층이고, 상기 입자가 상기 수지층과는 상이한 굴절률을 가지는 수지층인 광학 필름의 제조 방법.The method as claimed in claim 12, wherein the step of forming a haze layer on the liquid crystal layer comprises the steps of forming a quarter-wave layer of a film or sheet having a haze layer on one side thereof and a quarter- Wherein the haze layer is a resin layer containing particles and the particles are disposed on the liquid crystal layer including the resin layer and the liquid crystal layer, Is a resin layer having a different refractive index. 제 1 항에 따른 광학 필름; 및 상기 광학 필름의 헤이즈층의 상부에 편광 소자를 포함하는 반사형 편광판.An optical film according to claim 1; And a polarizing element on top of the haze layer of the optical film. 삭제delete 제 16 항의 반사형 편광판을 포함하는 액정 표시 장치.A liquid crystal display device comprising the reflective polarizer of claim 16.
KR1020120042135A 2011-04-21 2012-04-23 Optical film KR101698226B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110037240 2011-04-21
KR20110037240 2011-04-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130004060A KR20130004060A (en) 2013-01-09
KR101698226B1 true KR101698226B1 (en) 2017-02-01

Family

ID=47836063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120042135A KR101698226B1 (en) 2011-04-21 2012-04-23 Optical film

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101698226B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101717419B1 (en) * 2013-09-30 2017-03-17 주식회사 엘지화학 Optical film

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3852342B2 (en) * 2002-01-28 2006-11-29 セイコーエプソン株式会社 Reflector, reflector manufacturing method, liquid crystal device, electronic device
KR100766179B1 (en) * 2005-12-28 2007-10-10 삼성정밀화학 주식회사 A diffuser-patterned broadband reflection typed brightness enhancement polarizer, the manufacturing method thereof and a liquid crystal display having the same
TWI447443B (en) * 2006-02-28 2014-08-01 Fujifilm Corp Polarizing plate and liquid crystal display

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130004060A (en) 2013-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101698612B1 (en) Liquid crystal film
JP6379443B2 (en) OPTICAL FILM, OPTICAL LAMINATE, OPTICAL FILM MANUFACTURING METHOD, AND DISPLAY DEVICE
KR101676894B1 (en) Liquid Crystal Film
KR101569237B1 (en) Liquid crystal composition
KR101293872B1 (en) Liquid crystal film
KR101554061B1 (en) Liquid crystal composition
KR101698226B1 (en) Optical film
KR101966818B1 (en) Optical film and display device comprising the same
KR20150038836A (en) Optical film
KR20150038834A (en) Optical film
KR101693080B1 (en) Optical film
KR101717419B1 (en) Optical film
CN110678807B (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display device
KR101959489B1 (en) Optical film
WO2012064137A2 (en) Liquid crystal film

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
AMND Amendment
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200102

Year of fee payment: 4