KR101652911B1 - Circulation pump for water tank of the scrubber - Google Patents

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KR101652911B1
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KR1020150029723A
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박상준
박진만
전동근
이기용
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주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지
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Abstract

Disclosed is a circulation pump for a water tank of a scrubber. The circulation pump supplies the water of the water treatment to the inside of the scrubber by being installed at one side of the water treatment tank in which circulation water is filled by being located under a reactor of the scrubber to remove a wasted gas of a semiconductor. According to an embodiment of the present invention, the circulation pump comprises: a motor; a main impeller rotated by connecting to a driving shaft of the motor; a housing in which the main impeller is stored, in which an inlet to inhale water is formed at one side, and in which an outlet to discharge the water is formed at another side; and a grounding impeller formed at one side of the main impeller and connected to the driving shaft of the motor. According to the present invention, the circulation pump has an effect to prevent a phenomenon of enabling the lump of powder to be inserted into the circulation pump to block a pipe and a heat exchanger by grinding the lump of the powder by generating spray on the surface layer of circulation water through a hole and by rotating the impeller with the driving shaft of the circulation pump when the lump of the powder stored in the water treatment tank approaches to the circulation pump in a process to treat the water of the scrubber.

Description

스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프{Circulation pump for water tank of the scrubber}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber,

본 발명은 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조 공정에서 발생되는 폐가스를 정화시키는 스크러버에 물을 공급하는 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프에 관한 것이다.
The present invention relates to a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber, and more particularly to a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber that supplies water to a scrubber for purifying waste gas generated in a semiconductor manufacturing process.

일반적으로 반도체 공정은 실리콘 기판에 사진, 확산, 식각, 화학기상증착 및 금속증착 등의 다양한 공정을 반복수행하게 되며, 이러한 공정 중 확산, 식각, 화학기상증착 등의 공정은 밀폐된 공정챔버 내부에 공정가스를 공급하여 이들 공정가스로 하여금 웨이퍼 상에서 반응토록 하는 것이다.In general, a semiconductor process repeatedly performs various processes such as photo, diffusion, etching, chemical vapor deposition, and metal deposition on a silicon substrate, and processes such as diffusion, etching, and chemical vapor deposition are performed in a sealed process chamber The process gas is supplied to cause these process gases to react on the wafer.

한편, 반도체 제조 공정에 사용되는 가스는 유독성, 가연성 및 부식성 등 그 특성이 강한 것이 사용되고, 이러한 공정가스는 제조설비의 공정 과정에서 약 10% 정도만이 반응에 참여하고, 나머지 90% 정도의 공정가스는 미반응한 상태에서 제조설비로부터 배출된다.On the other hand, the gas used in the semiconductor manufacturing process has a strong characteristic such as toxicity, flammability and corrosiveness, and this process gas only participates in the reaction process of about 10% in the manufacturing process, and the remaining 90% Is discharged from the manufacturing facility in an unreacted state.

따라서 이러한 고정가스인 유독성 폐가스들이 별도의 정화과정 없이 대기중에 그대로 방출될 경우 주변 제조설비의 손상과 심각한 환경오염 및 작업자의 안전사고를 초래하게 되므로 각 제조설비에는 배기덕트로 연결된 가스 배출라인 상에 배출가스를 안전한 상태로 분해 또는 정화시키는 스크러버가 설치된다.Therefore, if the toxic waste gas, which is a fixed gas, is discharged into the air without any purification process, it will cause damage to the surrounding manufacturing equipment, serious environmental pollution, and worker safety accidents. Therefore, each manufacturing facility is equipped with a gas discharge line A scrubber is installed which decomposes or purifies the exhaust gas into a safe state.

스크러버는 폐가스의 성질 즉, 일반 공기와 접촉시 폭발적으로 반응하는 성질, 연소되는 성질, 가스 처리제와 반응하는 성질 및 물에 용해되는 성질 등을 이용하는 것으로 크게 건식과 습식 및 이들 건식과 습식을 병행하는 혼합식으로 구분된다.The scrubber utilizes the properties of the waste gas, such as explosive reactivity upon contact with ordinary air, combustibility, reactivity with a gas treating agent, and properties dissolving in water, and is largely classified into dry and wet, Mixed type.

습식방식의 스크러버는 물을 이용하여 폐가스를 포집한 후, 세정 및 냉각하는 구조로써, 비교적 간단한 구성을 가지며, 제작이 용이하고 대용량화 할 수 있는 장점이 있다. A wet type scrubber is a structure for collecting waste gas by using water, followed by cleaning and cooling, has a relatively simple structure, and is easy to manufacture and has a large capacity.

그러나 불수용성의 가스는 처리가 불가능하고, 특히 발화성이 강한 수소기를 포함하는 폐가스의 처리에는 부적절하다.However, the water-insoluble gas is not processable, and is inadequate for the treatment of waste gas containing a hydrogen group, which is particularly highly ignitable.

건식방식의 스크러버는 버너 내부로 폐가스가 통과되도록 하여 직접 연소시키거나, 열원을 이용하여 고온의 챔버를 형성하고, 그 속으로 폐가스가 통과되도록 하여 간접적으로 연소시키는 구조를 갖는다. 이러한 건식방식의 스크러버는 발화성(가연성) 가스의 처리에는 탁월한 효과가 있으나, 수용성 가스와 같이 잘 연소되지 않는 가스의 처리에는 부적절하다.The dry type scrubber has a structure in which waste gas is passed through the burner to directly burn it, or a high-temperature chamber is formed by using a heat source, and waste gas is passed through the chamber to indirectly burn the gas. Such a dry type scrubber has an excellent effect in the treatment of flammable gas, but is unsuitable for the treatment of gas which is not well burned, such as a water-soluble gas.

혼합식 스크러버는 폐가스를 연소실에서 1차 연소시켜 발화성 가스 및 폭발성 가스를 제거한 후 2차적으로 수조에 수용시켜 수용성의 유독성 폐가스를 물에 용해시키는 구조를 가지며, 이러한 혼합형 스크러버의 선행기술로는 국내공개특허 제10-2010-0021135호 "폐가스 처리 장치"를 통해 이미 개시된 바 있다.The mixed-type scrubber has a structure in which waste gas is firstly combusted in a combustion chamber to remove ignitable gas and explosive gas, and then the water is secondarily contained in a water tank to dissolve a water-soluble toxic waste gas into water. As a prior art of such a mixed scrubber, Has already been disclosed in Japanese Patent No. 10-2010-0021135 entitled " Waste Gas Treatment Apparatus ".

한편, 가스 스크러버에 의해 폐가스가 처리되는 과정을 살펴보면, 반도체 장비의 공정챔버에서 발생되는 폐가스가 주입부를 통해 반응기(Reactor)의 버너(Burner)로 이동된 후 연소/산화되거나 열분해되는 방법으로 버닝(Burning)되고, 버닝으로 처리되지 못한 일부 가스나 분진 입자 등 미처리 가스는 습식세정부(Wet Zone)로 이동되며, 이때 습식세정부에서는 물을 분사함으로써 산화 가스속의 파우더(Powder)를 분리시켜 아래의 수조에 떨어지도록 하는 세정(Wetting) 공정을 거치게 되고, 세정된 처리가스는 필터와 덕트를 통해 대기중으로 배출된다.In the process of treating the waste gas by the gas scrubber, the waste gas generated in the process chamber of the semiconductor equipment is transferred to the burner of the reactor through the injection unit, and burned / oxidized or pyrolyzed Burned) and unburned gases such as some gases and dust particles that are not burned are transferred to the wet zone, where the water is sprayed to separate the powder in the oxidant gas, A wetting process is carried out so as to fall to the water tank, and the cleaned process gas is discharged to the atmosphere through the filter and the duct.

그러나 종래에는 폐가스의 버닝과정에서 생성되는 파우더 등의 이물질이 배관을 타고 이동하다가 순환펌프를 통해 열교환기로 이동되고, 이동된 파우더가 열교환기의 내부에 누적되어 막히거나 흐름을 방해하여 성능을 저하시키게 되는 문제점이 있었다.
However, in the related art, foreign substances such as powder generated during the burning process of the waste gas are moved on the piping and then moved to the heat exchanger through the circulation pump, and the transferred powder accumulates in the heat exchanger, .

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 스크러버의 수처리 과정에서 만들어지는 파우더 덩어리가 순환펌프를 통해 배관 및 열교환기로 이동되는 것을 방지할 수 있도록 한 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프를 제공하는데 그 목적이 있다.
Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and it is an object of the present invention to provide a circulation pump for water treatment tank of a scrubber which can prevent a powder mass, which is produced during a water treatment process of a scrubber, from being transferred to a pipe and a heat exchanger through a circulation pump The purpose is to provide.

상기한 본 발명의 목적은, 반도체 폐가스 제거를 위한 스크러버의 반응기 하부에 위치되어 순환수가 채워지는 수처리 탱크의 어느 한쪽에 설치되어 상기 수처리 탱크의 물을 상기 스크러버의 내부로 다시 공급시켜주는 것으로, 모터와, 상기 모터의 구동축에 연결되어 회전되는 메인 임펠러와, 상기 메인 임펠러가 수용되며 일측에는 물을 흡입하는 흡입구가 형성되고, 타측에는 물을 토출하는 토출구가 형성된 하우징을 포함하고, 상기 메인 임펠러의 일측에 형성되고, 상기 모터의 구동축과 연결되는 파쇄 임펠러를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프에 의해 달성될 수 있다. The object of the present invention is to provide water in the water treatment tank again to the inside of the scrubber by being installed in any one of the water treatment tanks located in the lower part of the reactor of the scrubber for removing semiconductor waste gas and filled with the circulating water, A main impeller rotatably connected to a drive shaft of the motor, and a housing having a main impeller, a suction port formed at one side thereof for sucking water, and a discharge port for discharging water at the other side, And a crushing impeller formed on one side of the crusher and connected to the drive shaft of the motor.

상기 하우징에는 상기 수처리 탱크의 수면층과 동일 선상에 위치되며, 상기 파쇄 임펠러에 대응되도록 다수의 통공으로 구획되어 수면층에 부유하는 파우더를 인입하는 인입구를 포함하는 것을 특징으로 한다. The housing is provided with an inlet which is located on the same line as the water surface layer of the water treatment tank and is partitioned into a plurality of through holes corresponding to the crushing impeller to draw powder floating in the water surface layer.

상기 파쇄 임펠러는 구동축이 결합되는 결합공이 형성된 몸체와, 몸체의 외주면에 다수개로 배열되는 날개로 구성되는 것을 특징으로 한다.The crushing impeller includes a body formed with a coupling hole to which a drive shaft is coupled, and a plurality of blades arranged on an outer peripheral surface of the body.

상기 날개는 직선형의 판형이거나 또는 일방향으로 휘어진 판형인 것을 특징으로 한다.
The wing is characterized by being a straight plate or a plate which is curved in one direction.

본 발명에 따르면 스크러버의 수처리 과정에서 수처리 탱크에 저장되어 있는 순환수 표면에 파우더가 만들어지면서 덩어리 형태로 뭉쳐진 파우더가 순환펌프에 접근하는 경우 순환펌프의 구동축과 함께 임펠러가 회전되면서 통공을 통해 순환수의 표면층에 물보라를 일으켜 뭉쳐진 파우더를 분쇄함으로써, 덩어리 형태의 파우더가 순환펌프로 유입되어 배관 및 열교환기에 막히게 되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention, when powder is formed on the surface of the circulating water stored in the water treatment tank in the water treatment process of the scrubber and the powder gathered in a lump form approaches the circulation pump, the impeller is rotated together with the driving shaft of the circulation pump, There is an effect that it is possible to prevent the phenomenon that the powder in the form of lumps flows into the circulation pump and is clogged in the piping and the heat exchanger.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프를 나타낸 정면도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프의 부분 분해 사시도,
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프를 나타낸 정면도,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프를 나타낸 결합된 단면도.1 is a front view showing a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention;
2 is a partially exploded perspective view of a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention,
FIGS. 3A to 3C are a front view showing a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention,
4 is a combined sectional view showing a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention;

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 토대로 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

하기에서 설명될 실시예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이며, 이로 인해 본 발명의 기술적인 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed. It does not mean anything.

또한, 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시될 수 있으며, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있고, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 함을 밝혀둔다.
In addition, the sizes and shapes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation, and the terms defined specifically in consideration of the configuration and operation of the present invention may vary depending on the intention or custom of the user, operator It should be noted that the definitions of these terms should be made on the basis of the contents throughout this specification.

첨부된 도면 중에서, 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프를 나타낸 정면도, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프의 부분 분해 사시도, 도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프를 나타낸 정면도, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프를 나타낸 결합된 단면도이다.
1 is a front view showing a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention; FIG. 3 is a front view of a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view of a circulation pump for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention to be.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프(A)는, 반도체 폐가스 제거를 위한 스크러버의 반응기 하부에 위치되어 순환수가 채워지는 수처리 탱크(100)의 어느 한쪽에 설치되어 상기 수처리 탱크(100)의 물을 상기 스크러버의 내부로 다시 공급시켜주는 것으로, 모터(2)와, 상기 모터(2)의 구동축(22)에 연결되어 회전되는 메인 임펠러(3)와, 상기 메인 임펠러(3)가 수용되며 일측에는 물을 흡입하는 흡입구(42)가 형성되고, 타측에는 물을 토출하는 토출구(44)가 형성된 하우징(4)을 포함한다. 1 to 4, a circulation pump A for a water treatment tank of a scrubber according to an embodiment of the present invention includes a water treatment tank (not shown) located below a reactor of a scrubber for removing semiconductor waste gas 100 which are connected to the driving shaft 22 of the motor 2 to supply water of the water treatment tank 100 back to the inside of the scrubber, And a housing 4 formed with an impeller 3 and a suction port 42 for receiving the main impeller 3 at one side and a discharge port 44 for discharging water at the other side.

더욱이 메인 임펠러(3)의 일측에 형성되고, 상기 모터(2)의 구동축(22)과 연결되는 파쇄 임펠러(6)를 포함한다. And a crushing impeller 6 formed at one side of the main impeller 3 and connected to the drive shaft 22 of the motor 2. [

모터(2)는 하우징(4)의 상부에 결합되며, 내부에 구동축(22)이 삽입되어 하우징(4)을 관통하도록 결합되고, 구동축(22)의 일측에 메인 임펠러(3)가 장착된다. The motor 2 is coupled to the upper portion of the housing 4 and the drive shaft 22 is inserted into the housing 4 so as to penetrate through the housing 4. The main impeller 3 is mounted on one side of the drive shaft 22.

하우징(4)은 하부에 흡입구(42)가 형성되어 메인 임펠러(3) 측으로 물이 입수될 수 있고, 측면의 토출구(44)에는 토출관(46)이 연결되어 흡입된 물이 토출되어 순환될 수 있도록 한다.
In the housing 4, a suction port 42 is formed at a lower portion of the housing 4 so that water can be received at the main impeller 3 side. The discharge port 46 is connected to the discharge port 44 at the side, .

상기 하우징(4)은 메인 임펠러(3)가 수용되는 하부 바디(47)와, 상기 하부 바디(47)의 상단에 연장되며 보다 직경이 작은 상부 바디(48) 및 상부 바디(48)의 상단에 형성되어 모터(2)가 장착되는 플랜지(49)가 형성된다.The housing 4 has a lower body 47 in which the main impeller 3 is accommodated and an upper body 48 and an upper body 48 extending to the upper end of the lower body 47 and having a smaller diameter. And a flange 49 on which the motor 2 is mounted is formed.

여기서 상부 바디(48)에는 수처리 탱크의 수면층(P)과 동일 선상에 위치되며, 상기 파쇄 임펠러(6)에 대응되도록 다수의 통공으로 구획되어 수면층(P)에 부유하는 파우더(W)를 인입하는 인입구(45)가 형성된다.
The upper body 48 is provided with a powder W positioned on the same side as the water surface layer P of the water treatment tank and partitioned into a plurality of through holes corresponding to the crushing impeller 6 to float on the water surface layer P. An inlet port 45 is formed.

상기 인입구(45)는 가급적 넓은 면적을 갖도록 직사각형으로 형성되며, 입자가 큰 파우더는 걸러낼 수 있도록 다수의 거름봉(452)이 수직되게 형성된다. The inlet 45 is formed in a rectangular shape so as to have a large area as much as possible, and a plurality of manure bars 452 are vertically formed so that powder having a large particle size can be filtered.

또는 인입구(45)에는 미세 통공을 갖는 메쉬망(미도시)이 형성되어 유입되는 이물질을 걸러낼 수 있도록 하는 것도 가능할 것이다.
Alternatively, a mesh network (not shown) having fine holes may be formed in the inlet 45 so as to filter out foreign substances.

하우징(4)의 상부 바디(48) 내에 파쇄 임펠러(6)가 배치되며, 바람직하게는 인입구(45)에 대응되도록 파쇄 임펠러(6)를 배치하도록 한다. A crushing impeller 6 is arranged in the upper body 48 of the housing 4 and a crushing impeller 6 is preferably arranged so as to correspond to the inlet 45.

파쇄 임펠러(6)는 그 설치위치가 인입구(45)에 위치됨에 따라 순환펌프(A)의 내부로 유입되는 순환수의 일부가 인입구(45)를 통해 빠져나가는 과정에서 순환펌프(A)의 메인 임펠러(3)와 함께 회전되는 파쇄 임펠러(6)를 통해 물보라를 일으키게 되고, 이러한 물보라는 순환수 표면층(P)에 덩어리 형태로 모여진 파우더(W)를 분쇄시켜 덩어리 형태의 파우더(W)가 순환펌프(A)의 내부로 유입되는 현상을 방지할 수 있다.The crushing impeller 6 is positioned at the inlet 45 so that part of the circulating water flowing into the circulating pump A is discharged through the inlet 45, The powder W is crushed through the crushing impeller 6 rotated together with the impeller 3 and the powder W collected in a lump form in the circulating water surface layer P is pulverized so that the lump- It is possible to prevent the phenomenon of flowing into the inside of the pump A.

상기 파쇄 임펠러(6)는 구동축이 결합되는 결합공(620)이 형성된 몸체(62)와, 몸체(62)의 외주면에 다수개로 배열되는 날개(64)로 구성된다. The crushing impeller 6 includes a body 62 having a coupling hole 620 to which a driving shaft is coupled and a blade 64 arranged on the outer circumference of the body 62.

몸체(62)는 구동축(22)과 결합 상태를 견고하게 유지할 수 있도록 다양한 결속수단을 포함하게 된다.The body 62 includes various fastening means to firmly maintain the state of engagement with the drive shaft 22.

일 예로써 몸체(62)의 결합공(620)에 키홈이 형성되고, 구동축(22)에는 키이가 형성되어 상호 키이 결합된다. As an example, a key groove is formed in the coupling hole 620 of the body 62, and a key is formed on the driving shaft 22 to couple the keys with each other.

상기 파쇄 임펠러(6)는 회전 구동시 보다 파쇄력을 향상시킬 수 있도록 날개(64)의 형상에 변화를 줄 수 있을 것이다.The crushing impeller 6 may change the shape of the vane 64 so as to improve the crushing force in comparison with the rotational drive.

기본적인 날개(64)의 형상은 직선형의 판형이면서 몸체(62)의 외주면에 방사상으로 6~8개가 배치되어 형성된다. The basic shape of the blade 64 is a straight plate shape and is formed by arranging 6 to 8 radially on the outer peripheral surface of the body 62.

더 나아가 회전시 날개(64)가 받는 부하를 경감시킬 수 있도록 날개(64)의 끝부분이 일방향으로 휘어진 판형으로도 형성될 수 있다(도 3b 참조). Further, the blade 64 may be formed in a plate shape in which the end portion of the blade 64 is curved in one direction so as to reduce a load received by the blade 64 during rotation (see FIG. 3B).

또는 날개(64)의 회전 부하를 경감시키면서 파쇄성능을 강화시킬 수 있도록 날개(64)는 물이 통과되도록 다수의 홀(642)이 형성될 수도 있다(도 3c 참조).
Or a plurality of holes 642 may be formed in the vanes 64 to allow water to pass therethrough (see FIG. 3C) so as to enhance the crushing performance while reducing the rotational load of the vanes 64.

이와 같이 구성된 본 발명의 작용을 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the operation of the present invention will be described.

수처리 탱크 내에 본 발명의 순환펌프(A)를 장착하되 가장 적당한 위치는 하우징(4)은 순환수에 잠기도록 하고, 수면 표면층(P)이 인입구(45)의 중간 위치까지 잠기도록 장착한다. The circulation pump A of the present invention is mounted in the water treatment tank so that the most suitable position is such that the housing 4 is submerged in the circulating water and the surface layer P is immersed in the intermediate position of the inlet 45.

따라서 표면층(P)에는 파우더(W)가 다량으로 부유되어 있고, 물속에는 입자가 큰 파우더가 존재하게 된다. Accordingly, a large amount of the powder W is floating in the surface layer P, and a large amount of powder is present in the water.

이후 순환펌프를 온 시키면, 파쇄 임펠러(6)와 메인 임펠러(3)가 동시에 회전되고, 메인 임펠러(3)의 회전력에 의해 하우징(4)의 흡입구(42)를 통해 물이 흡입된 후 토출구(44)를 통해 배출된다. Thereafter, when the circulation pump is turned on, the crushing impeller 6 and the main impeller 3 are simultaneously rotated, and water is sucked through the suction port 42 of the housing 4 by the rotational force of the main impeller 3, 44).

아울러 파쇄 임펠러(6)의 회전에 의해 수면 표면층(P)에 와류를 형성하게 되어 파우더(W)들의 응집된 상태를 분산시키고, 분산된 파우더가 인입구(45)를 통해 인입된 후에는 파쇄 임펠러(6)에 의해 잘게 파쇄된다.The pulverized impeller 6 rotates to form a vortex in the surface layer P so as to disperse the agglomerated state of the powder W. After the dispersed powder is drawn through the inlet 45, 6).

따라서 순환수가 스크러버를 순환하는 과정에서 덩어리 형태의 파우더가 배관이나 열교환기를 막는 폐단이 예방될 수 있다.
Therefore, in the process of circulating the circulating water in the scrubber, it is possible to prevent the clogging of the lump-shaped powder from obstructing the piping or the heat exchanger.

비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되어졌지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정 및 변형이 가능한 것은 당업자라면 용이하게 인식할 수 있을 것이며, 이러한 변경 및 수정은 모두 첨부된 청구의 범위에 속함은 자명하다.
Although the present invention has been described in connection with the above-mentioned preferred embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the invention, It is obvious that the claims fall within the scope of the claims.

2 : 모터 3 : 메인 임펠러
4 : 하우징 6 ; 파쇄 임펠러
47 : 하부 바디 48 : 상부 바디
49 : 플랜지 62 : 몸체
64 : 날개 2: motor 3: main impeller
4: housing 6; Crushing impeller
47: lower body 48: upper body
49: flange 62: body
64: wings

Claims (4)

반도체 폐가스 제거를 위한 스크러버의 반응기 하부에 위치되어 순환수가 채워지는 수처리 탱크의 어느 한쪽에 설치되어 상기 수처리 탱크의 물을 상기 스크러버의 내부로 다시 공급시켜주는 것으로,
모터와, 상기 모터의 구동축에 연결되어 회전되는 메인 임펠러와, 상기 메인 임펠러가 수용되며 일측에는 물을 흡입하는 흡입구가 형성되고, 타측에는 물을 토출하는 토출구가 형성된 하우징을 포함하고,
상기 메인 임펠러의 일측에 형성되고, 상기 모터의 구동축과 연결되는 파쇄 임펠러를 포함하고,

상기 하우징은 메인 임펠러가 수용되는 하부 바디와, 상기 하부 바디의 상단에 연장되며 보다 직경이 작은 상부 바디 및 상부 바디의 상단에 형성되어 모터가 장착되는 플랜지를 포함하고,
상부 바디에는 상기 파쇄 임펠러에 대응되도록 인입구가 형성된 것이며,

상기 파쇄 임펠러는
구동축이 결합되는 결합공이 형성된 몸체와, 몸체의 외주면에 다수개로 배열되는 날개로 구성되며,
상기 날개는 직선형의 판형이거나 또는 일방향으로 휘어진 판형인 것이고,
상기 날개는 물이 통과되도록 다수의 홀이 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프.
The water in the water treatment tank is supplied to the inside of the scrubber by being installed at either one of the water treatment tanks located in the lower part of the reactor of the scrubber for removing semiconductor waste gas and filled with the circulating water,
And a housing having a motor, a main impeller connected to the drive shaft of the motor and rotated, a main impeller accommodated in the housing, a suction port formed at one side for sucking water, and a discharge port for discharging water at the other side,
A crushing impeller formed on one side of the main impeller and connected to a drive shaft of the motor,

The housing includes a lower body in which the main impeller is received, an upper body extending in the upper end of the lower body and a flange mounted on the upper end of the upper body,
The upper body is provided with an inlet so as to correspond to the crushing impeller,

The crushing impeller
A body formed with a coupling hole to which the driving shaft is coupled, and a plurality of blades arranged on an outer peripheral surface of the body,
The wing may be a straight plate type or a plate type bent in one direction,
Wherein the vanes are formed with a plurality of holes for water to pass therethrough.
제 1항에 있어서,
상기 하우징의 인입구는
상기 수처리 탱크의 수면층과 동일 선상에 위치되며, 상기 파쇄 임펠러에 대응되도록 다수의 통공으로 구획되어 수면층에 부유하는 파우더를 인입하는 것을 특징으로 하는 스크러버의 수처리 탱크용 순환펌프.


The method according to claim 1,
The inlet of the housing
And a powder floating in the water surface layer is drawn in a plurality of through holes so as to correspond to the crushing impeller and is drawn in the water surface layer of the water treatment tank.


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KR102222675B1 (en) * 2020-10-21 2021-03-03 남상연 Scrubber water treatment circulation pump device

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