KR101635440B1 - Metal silicon is contained,the Manufacture of Method for Tile for saltpan floor board - Google Patents

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Abstract

본 발명은 옹기용 유약 또는 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여, 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 제조한 다음, 그를 이용하여 타일의 표면에 시유한 다음, 건조시킨 후에 1200℃ ~ 1300℃조건에서 소성시키는 단계;를 거쳐 제조하는 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약 및 그를 이용한 염전타일의 제조방법에 관한 것이다.In the present invention, 50 kg of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 μm is mixed with 1 kg of glaze for ongyo glaze or tile and stirred at 700 rpm with a stirrer to prepare a glaze for salt tile containing metal silicon, And then baking the surface of the tile at a temperature of 1200 ° C to 1300 ° C .; and a method for manufacturing a salt tile using the glaze.

Description

메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약 및 그를 이용한 염전타일의 제조방법{Metal silicon is contained,the Manufacture of Method for Tile for saltpan floor board} BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glaze for a salt tile containing metal silicon and a method for manufacturing a salt tile using the glaze,

본 발명은 바닷물로부터 천일염을 생산하기 위하여 타일의 표면을 메탈실리콘이 함유된 유약으로 코팅함으로써 태양열 흡수 및 열전도도를 증대시켜 천일염의 생산을 증대시킬 수 있는 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약 및 그를 이용한 염전타일의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a glaze for a salt tile containing metal silicon which can increase the solar absorption and thermal conductivity by coating the surface of the tile with a glaze containing metal silicon in order to produce the glaze from the seawater, The present invention relates to a method for manufacturing a salt tile using the same.

천일염 생산시설이라 함은 태양에 의한 열, 바람에 의한 풍력 등을 이용하여 바닷물을 난치(제1증발지), 느티(제2증발지), 결정지 등을 거치면서 염도 23도의 바닷물을 염도 27도 까지 증발, 농축하는 시설을 말한다. Sea salt production facility refers to sea water of salinity of 23 degrees with the salinity of 27 (sea of salt) by the heat of the sun, wind power by the wind, It refers to a facility to evaporate and concentrate to a degree.

결정지에는 채염을 위한 기반시설로부터 발생되는 각종 녹, 보온덮개의 부스러기, 모래 알갱이, 해충과 같은 이물질, 해안의 갯벌과 저류지 갯벌에서 유입된 불용분, 오염된 바닷물로 부터의 오염물질이 지반에 섞여 있고, 이러한 물질들이 채염용으로 확보해둔 바닷물이나 소금에 혼입되는 것을 방지하기 위해 합성수지재의 장판 또는 도자기와 같은 타일 등으로 바닥마감부재로 하여 결정지의 지면을 덮어서 사용하고 있다. There are various rusts, debris, grit, pests and other pollutants from the infrastructure for compaction in the ground, pollutants from coastal tidal flats and tidal flats, and contaminated seawater. In order to prevent these substances from being mixed with seawater or salt obtained for the purpose of saltification, it is used as a floor covering material such as a plate made of a synthetic resin material or a tile such as a porcelain to cover the ground of the determined paper.

바닷물을 농축시켜 천일염을 생산하기 위해서는 바닷물의 온도가 고온으로 상승되어야 한다. 태양으로 부터의 열 흡수를 향상시킬 목적으로 바닥재로 활용되는 착색재 첨가 합성수지재 장판은 채염시 고무래를 이용하여 계속 바닥재를 긁을 경우 바닥재에 흠이 생성되고 생성된 흠으로 인하여 유해물질이 바닥재에서 용출함과 함께 PVC, 착색재가 함유된 바닥재가 깎여져 천일염 속에 혼합될 수 있는 문제점을 안고 있다. 또한 장판을 고정하기 위하여 염전 옆면에 구성되는 구조물에 못 또는 스크류를 이용하여 고정하기 때문에 장기간 사용시 못 또는 스크류가 산화되어 생성되는 소금에 함유되는 큰 문제점도 내포하고 있다. In order to concentrate sea water and produce sea salt, the temperature of sea water has to be raised to high temperature. In order to improve the heat absorption from the sun, the coloring material added as a flooring material is added. When the flooring material is scratched by using a rubberized material, the flooring material is flawed and the generated flaws cause the harmful substances to be dissolved PVC, and flooring materials containing coloring materials are shaved and mixed in the salt of the sun. In addition, since the structure formed on the side of the salt front is fixed by using a nail or a screw in order to fix the base, there is a big problem that it is contained in the salt produced by the oxidation of the nail or the screw during long use.

염전의 결정지에서 바닥재로 널리 이용되는 합성수지재 중의 하나인 PVC는 가격이 저렴하고 내약품성 등이 우수하여 생활에 널리 활용되고 있는 플라스틱 재질이다. 이들은 신축성과 접착성을 좋게 하기 위하여 프탈레이트(phthalate)화합물과 같은 다량의 가소제를 첨가하지만 이들의 대부분이 내분비계 장해물질을 함유하고 있어 발암을 의심하게 하는 즉, 국제 암 연구기관(IARC)에 의해 2B그룹으로 분리되어, 우리나라에서는 식품위생법 기구 및 용기 포장의 기준규격에 따라 사용을 금지하고 있다.
PVC, one of synthetic resin materials widely used as a flooring material in a tidal flat, is a plastic material widely used in daily life because of its low price and excellent chemical resistance. They add a large amount of plasticizer, such as phthalate compound, to improve elasticity and adhesion, but most of them contain endocrine disrupting substances, making them susceptible to carcinogenesis, namely, by the International Agency for Research on Cancer (IARC) 2B group. In Korea, it is prohibited to use according to the standards of Food Sanitation Act and container packaging.

최근에는 플라스틱 재질의 장판 등이 염전에 사용될 경우 상기와 같은 문제점을 지니고 있어 이를 개선하기 위한 목적으로 타일 사용을 시작하였다. 예들 들면,In recent years, when a plastic plate or the like is used for torsion, the tiles are used to improve the above problems. For example,

국내등록특허공보 등록번호 제1007544170000(2007.08.27)호에는 폴리에틸렌(PE) 또는 에틸렌 비닐아세테이트(EVA) 6085중량%와 충진제 1540중량%로 구성되며, 비중이 1.181.59, 바람직하게는 1.251.50이고; 상면과 저면을 갖는 스트립 형태의 시트 본체와, 상기한 시트 본체의 상면, 또는 저면, 또는 상면과 저면으로부터 단턱을 경유하여 상기한 시트 본체의 양 외측으로 일체로 연장되는 박엽(薄葉) 연장부를 갖는 염전 토판 피복용 플라스틱 시트 부재와 이를 이용한 염전 토판 피복 시공 방법이 공개되어 있고,The Korean Registered Patent Publication No. 1007544170000 (2007.08.27) includes 6085% by weight of polyethylene (PE) or ethylene vinyl acetate (EVA) and 1540% by weight of a filler and has a specific gravity of 1.181.59, preferably 1.251.50 ego; A sheet-like sheet body having an upper surface and a lower surface, a thin sheet extending portion integrally extending outwardly from the upper surface, the lower surface, or the upper and lower surfaces of the sheet body, There is disclosed a plastic sheet member for covering a salt top cover and a salt cover top cover coating method using the same,

국내실용신안공보 공고번호 제1988-2392호에는 염전의 토판(E)에 평면적으로 시공하게 된 타일에 있어서, 강인한 검은색의 합성수지재질로 타일체(1)의 주연부(2')에 비하여 중앙부(2)의 두께가 보다 두꺼우면서 표면(1')이 완만한 곡면이 되게 형성하여 주연부(2')를 만곡되게 하고, 타일체(1)의 저면에는 보강돌조(3)와 복수개의 지지핀(4)을 적당한 간격으로 배열 돌설하여서 된 염전용 합성수지 타일이 기재되어 있으며,Korean Utility Model Publication No. 1988-2392 discloses a tile which is flatly installed on a top plate (E) of a torsion spring, and is made of a strong black synthetic resin material and has a central portion 2 is thicker and the surface 1 'is formed into a gentle curved surface so that the peripheral edge 2' is curved so that the reinforcing protrusions 3 and the plurality of support pins 4) are arranged at proper intervals, and a salt-only synthetic resin tile is disclosed.

국내등록특허공보 등록번호 제1009214450000(2009.10.06)호에는 염전 결정지의 지면상에 설치되는 상지층(10)과 하지층(20)으로 구성된 염전 바닥부재에 있어서, 상기 상지층(10)은 폴리에틸렌(PE) 15~25중량%, 폴리프로필렌(PP) 15~25중량%, TPO(Thermo Plastic Olefin)15~25중량%, 청옥 12~40중량%, 카본블랙 1.0~3.0중량%, 활제 1.0~2.0중량%, 산화방지제 0.1~3.0중량%, 첨가제 0.5~5중량%가 배합되어 제조되고; 상기 하지층(20)은 폴리에틸렌(PE) 10~20중량%, 폴리프로필렌(PP) 10~20중량%, TPO(Thermo Plastic Olefin)10~20중량%, 무기충전제 40~60중량%, 카본블랙 0.5~2.0중량%, 활제 1.0~3.0중량%, 첨가제 0.5~5중량%가 배합되어 제조되는 염전 장판 및 이의 제조방법이 공개되어 있고, In Japanese Unexamined Patent Publication No. 1009214450000 (Oct. 10, 2009), a top layer 10 composed of a top layer 10 and a bottom layer 20 provided on the surface of a torsion proof crystal paper, 15 to 25% by weight of polypropylene (PP), 15 to 25% by weight of TPO (Thermo Plastic Olefin), 12 to 40% by weight of saponite, 1.0 to 3.0% by weight of carbon black, 2.0% by weight, an antioxidant of 0.1 to 3.0% by weight, and an additive of 0.5 to 5% by weight; The undercoating layer 20 is formed of 10 to 20 wt% of polyethylene (PE), 10 to 20 wt% of polypropylene (PP), 10 to 20 wt% of TPO (thermo plastic olefin), 40 to 60 wt% of inorganic filler, 0.5 to 2.0% by weight of a lubricant, 1.0 to 3.0% by weight of a lubricant, and 0.5 to 5% by weight of an additive, and a method for producing the same,

국내등록실용신안공보 등록번호 제2004522260000 (2011.02.07)호에는 유기질 점토, 리튬장석 또는 소다장석, 할로이사이트질 고령토, 규조토 또는 플라이애쉬, 파유리, 석회석 또는 돌로마이트, 활석, 탄닌산리그닌, 탄화규소(SiC)의 분말을 타일로 성형하는 성형단계; 상기 성형된 타일을 건조하는 건조단계 또는 상기 성형된 타일을 소성하는 소성단계; 상기 건조된 타일 또는 소성된 타일의 윗면에 1차로 고내화성의 엔고베유약(Engobe glaze)을 시유하고, 1차 시유된 표면 위에 2차로 나노실버 항균제가 첨가된 결정질항균유약을 시유하는 시유단계; 상기 시유 처리된 타일을 소성하는 소성단계; 상기 소성된 타일의 표면위에 방오제를 도포한 후 건조하는 방오제 코팅단계를 포함하는 방법에 의해 얻을 수 있는 세라믹 경량타일이 기재되어 있으며,In the Korean Registered Utility Model Registration No. 2004522260000 (Feb. 23, 2011), there are listed organic clay, lithium feldspar or soda feldspar, halloysite kaolinite, diatomaceous earth or fly ash, wave glass, limestone or dolomite, talc, tannic acid lignin, SiC) is formed into a tile; A drying step of drying the molded tile or a sintering step of sintering the molded tile; A step of applying a high-refractory Engobe glaze to the top surface of the dried tile or the sintered tile and sowing a crystalline antimicrobial glaze to which a nanosilver antimicrobial agent is added on the first sourced surface; A firing step of firing the refractory treated tile; And an antifouling agent coating step of coating an antifouling agent on the surface of the fired tile and then drying the coated tile.

국내등록특허공보 등록번호 제1008874210000(2009.02.27)호에는 메탈실리콘 100 중량부에 대하여 고용존 산소수 250~320 중량부, 수산화나트륨 27~45 중량부, 붕사 10~22 중량부, 분산제 0.3~0.8 중량부, 초산칼슘 수용액 7~11 중량부를 혼합하여 반응용기에서 반응시켜 제조하는 것을 특징으로 하는 무기경화제 및 그 제조방법이 공개되어 있음을 알 수 있다.
In Korean Patent Registration No. 1008874210000 (2009.02.27), 250 to 320 parts by weight of oxygenated zeolite, 27 to 45 parts by weight of sodium hydroxide, 10 to 22 parts by weight of borax and 0.3 to 10 parts by weight of dispersant are added to 100 parts by weight of metal silicon, 0.8 parts by weight of calcium carbonate, and 7 to 11 parts by weight of an aqueous solution of calcium acetate are mixed and reacted in a reaction vessel. The inorganic curing agent and the preparation method thereof are disclosed.

1. 국내등록특허공보 등록번호 제 754417호1. Korean Patent Registration No. 754417 2. 국내실용신안공보 공고번호 제 88-2392호2. Domestic Utility Model Announcement No. 88-2392 3. 국내등록특허공보 등록번호 제 10-0944225호3. Korean Patent Registration No. 10-0944225 4. 국내등록실용신안공보 등록번호 제200452226호4. Domestic Registration Utility Model Registration No. 200452226 5. 국내등록특허공보 등록번호 제 10-0887421호5. Domestic Patent Registration No. 10-0887421

상기와 같은 종래의 타일은 경제적 관점에서 플라스틱 재질 바닥재와 비교하여 천일염 생산량 측면에서는 별 차이가 없고, 오히려 가격이 비싼 이유로 인해 경제적 부담만을 가중시키는 원인이 되어 사용을 주저하고 있는 실정이다. 또한, 시간이 경과하게 되면서 평탄도도 떨어질 뿐만 아니라 내충격성 및 내마모성이 약해서 쉽게 깨어지며, 깨어진 타일을 교체하고자 할 경우 깨어진 타일뿐만 아니라 주변을 함께 교체해야만 하는 문제가 있어서 상당한 시간과 인건비가 소용되는 문제점을 해결하는 것이 본 발명이 해결하려고 하는 과제인 것이다.
The conventional tiles as described above are not inferior in terms of the amount of production of silver salt compared with plastic flooring materials from an economic point of view, and are rather hesitant to use the tiles because they cause an increase in economic burden because they are expensive. In addition, as the time elapses, the flatness is lowered, and impact resistance and abrasion resistance are weak. Therefore, when the broken tiles are to be replaced, it is necessary to replace the broken tiles as well as the surrounding tiles. The problem to be solved is a problem to be solved by the present invention.

본 발명은 상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 옹기용 유약 또는 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여, 염전타일용 유약을 제조한 다음, 그를 이용하여 타일의 표면에 시유한 다음, 건조시킨 후에 1200℃ ~ 1300℃ 조건에서 소성시키는 단계;를 거쳐 제조하는 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약 및 그를 이용한 염전타일의 제조방법을 제공하는 것이 본 발명이 이루고자 하는 과제 해결 수단인 것이다.
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method for manufacturing a glaze for a salt tile, which comprises mixing 50 kg of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 μm with 1 kg of glaze for ongyo glaze or tile and stirring the mixture at 700 rpm with a stirrer And then baking the surface of the tile using the tile, followed by drying and firing at 1200 ° C to 1300 ° C .; and a method for manufacturing a salt tile using the glaze for tile salt containing metal silicon, The present invention is intended to solve the problems to be solved by the present invention.

본 발명을 적용하면, 높은 열전도도를 갖는 메탈실리콘에 의해 타일을 가열함과 동시에 증대된 소금물로의 열전도에 의하여 염전을 높은 온도 조건에서 오랫동안 유지할 수 있어 천일염의 생산을 증대시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
According to the present invention, the tile is heated by the metal silicon having a high thermal conductivity, and at the same time, the tile can be maintained at a high temperature condition for a long time by thermal conduction to the brine, .

도1은 본 발명의 염전타일의 제조공정 모식도
도2는 본 발명의 염전타일의 실험장치 예 사진
도3은 본 발명의 염전타일과 비교되는 염전타일의 염전발아 사진
실시예5의염전타일에 의한 염전발아(3A)
비교예의 염전타일에 의한 염전발아(3B)
도4는 본 발명의 염전타일과 비교되는 염전타일의 생산된 소금 사진
실시예5의염전타일로 72시간 경과하여 제조된 소금(4A)
비교예의 염전타일로 72시간 경과하여 제조된 소금(3B)
1 is a schematic view showing a process of manufacturing a salt tile according to the present invention
Fig. 2 is a photograph of an experimental apparatus example of the salt tile of the present invention
FIG. 3 is a photograph showing the salt germination of the salt tile compared with the salt tile of the present invention
The salt germination (3A) by the salt tile of Example 5
Salt germination by a salt tile of Comparative Example (3B)
FIG. 4 is a photograph of the produced salt of the salt tile compared with the salt tile of the present invention
The salt (4A) produced after 72 hours with the salt tile of Example 5,
The salt (3B) produced after 72 hours with the salt tile of the comparative example,

상기와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 옹기용 유약 또는 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여, 염전타일용 유약을 제조한 다음, 그를 이용하여 타일의 표면에 시유한 다음, 건조시킨 후에 1200℃ ~ 1300℃ 조건에서 소성시키는 단계;를 거쳐 제조하는 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약 및 그를 이용한 염전타일의 제조방법에 관한 것이다. In order to solve the above-mentioned problems, the present invention mixes 1 kg of Onggi glaze or tile glaze with 50 g of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 m, and then stirs the mixture with a stirrer at 700 rpm to prepare a glaze for a salt tile A method for manufacturing a glaze for a salt tile containing metal silicon, and a method for producing a salt tile using the glaze, which is manufactured through the step of baking the surface of the tile using the same, and drying the glaze at a temperature of 1200 ° C to 1300 ° C .

본 발명은 산청토, 맥반석, 흑연 및 유리 등의 혼합물로 타일을 성형시키는 성형단계; 온도 300℃~400℃ 조건에서 성형타일을 건조시키는 건조단계; 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약 제조단계; 건조된 성형타일에 대해 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 시유시키는 단계; 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약으로 시유된 타일을 건조시킨 다음, 1200℃ ~ 1300℃ 조건에서 소성시키는 단계;를 거쳐 제조하는 염전용 타일의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing a tile, comprising: a molding step of molding a tile with a mixture of sulfuric acid, elvan, graphite and glass; A drying step of drying the molding tile at a temperature of 300 ° C to 400 ° C; A step of preparing a glaze for a salt tile containing metal silicon; Subjecting the dried molded tile to a glaze for salt tile containing metal silicon; The present invention relates to a method for manufacturing a salt-only tile, which is manufactured through a step of drying a tile which has been used as a glaze for a salt tile containing metal silicon, and then firing at a temperature of 1200 ° C to 1300 ° C.

본 발명을 구체적으로 설명하면, 20nm~500μm 입자의 산청토 20kg, 20nm~500μm 입자의 맥반석1kg, 20nm~500μm 입자의 흑연0.5kg, 20nm~500μm입자의 유리 0.1kg을 물5과 혼합한 다음, 가로 300mm, 세로300mm, 두께10mm의 성형틀에 이동시킨 후, 프레스로 350~400 kg/cm2 의 압력을 가한 다음, 성형틀을 제거한 후에, 전기로로 이동시켜 350℃에서 30분간 건조시켜 성형타일을 제조한 다음, Specifically, 20 kg of sulfuric acid grains having a particle size of 20 nm to 500 μm, 1 kg of elvan granules having a particle size of 20 nm to 500 μm, 0.5 kg of graphite having a particle size of 20 nm to 500 μm, and 0.1 kg of a glass having a particle size of 20 nm to 500 μm are mixed with water 5, After moving to a mold 300 mm in width, 300 mm in length and 10 mm in thickness, a pressure of 350 to 400 kg / cm 2 was applied by a press, the mold was removed and the mold was moved to an electric furnace and dried at 350 ° C. for 30 minutes, , ≪ / RTI >

상기에서 제조된 성형타일의 표면에 제2공정에서 제조된 염전타일용 유약을 시유한 다음, 상온에서8시간 건조시킨 후, 전기로에서 1200℃ 에서 1시간 소성하여 제조하는 염전타일의 제조방법에 관한 것이다. A method for manufacturing a salt tile is prepared by applying a glaze for a salt tile prepared in the second step to the surface of the shaped tile manufactured in the above, drying it at room temperature for 8 hours, and then firing it in an electric furnace at 1200 ° C for 1 hour will be.

본 발명에서 사용되는 옹기용 유약 또는 타일용유약은 일반적으로 옹기 또는 타일의 제조에 사용되는 유약을 사용하며, The glazes for ongyo or tiles used in the present invention generally use glazes used for the production of pottery or tiles,

옹기용 유약 또는 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여, 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 제조한 다음, 50 g of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 μm was mixed with 1 kg of glaze for ongyo glaze or tile and stirred at 700 rpm with a stirrer to prepare a glaze for salt tile containing metal silicon,

본 발명에서 사용되는 메탈실리콘이 함유된 연전 타일용 유약은 일반적으로 사용하는 옹기유약 또는 타일용 유약을 사용할 수 있으며, 본 발명에서는 20nm~500μm입자의 황토분말 30kg, 20nm~500μm입자의 맥반석분말 15kg, 20nm~500μm입자의 해토분말 10kg, 20nm~500μm입자의 활석분말 5kg, 20nm~500μm입자의 나무 재 35kg, 물 10을 혼합하여 제조할 수도 있다.The glaze for use in the present invention can be used as a generally used Inge glaze or a glaze for tiles. In the present invention, 30 kg of ocher powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 15 kg of elvan powder having a particle size of 20 nm to 500 μm 10 kg of fired powder of 20 nm to 500 μm particles, 5 kg of talc powder of 20 nm to 500 μm particles, 35 kg of wood of 20 nm to 500 μm particles, and water 10 may be mixed.

메탈실리콘은 규석과 탄소환원제 등을 원료로 탄열환원법을 이용하여 제조된 규소가 99% 이상 함유된 물질로, 태양광 소재의 가장 기본적인 소재로 통하는 폴리실리콘의 아랫단계 질이다. 열전도도(K)는 170.0 w/m℃로 구리(397w/m℃), 금(315w/m℃), 알루미늄(238w/m℃), 마그네슘(155w/m℃), 베릴륨(194w/m℃)과 함께 매우 높은 값을 지니고 있다. 열전도도가 높으면 열 흐름을 증가시키고, 반대로 열전도도가 낮으면 단열재로 사용되어 열 흐름을 방해한다. Metallic silicon is a material with 99% or more of silicon produced by the redox reduction method from raw materials such as silica and carbon reducing agent. It is the lower quality of polysilicon which is the most basic material of the photovoltaic material. The thermal conductivity (K) was 170.0 w / m ° C, and copper (397w / m ° C), gold (315w / m ° C), aluminum (238w / m ° C), magnesium (155w / m ° C) ) With very high values. Higher thermal conductivity increases heat flow and, conversely, lower thermal conductivity is used as an insulation material to interfere with heat flow.

상기 메탈실리콘의 대표적인 화합물은 탄화규소로 탄화규소(silicon carbide, SiC)는 탄화규소와 붕소(boron, B)는 높은 인장률을 갖는 강화재료로서, Al₂O₃이 산화물 세라믹스의 대표라면 SiC는 비산화물 세라믹스의 대표 격으로 널리 쓰이고 있다. SiC 섬유는 세라믹과 금속 복합재료의 강화재료로 용도가 활발히 개척되고 있으며, boron섬유는 주로고성능의 에폭시 강화재료로 쓰이고 있다.Silicon carbide (SiC) is a silicon carbide, and boron (B) is a reinforcing material having a high tensile strength. When Al 2 O 3 is a representative of oxide ceramics, SiC is a non-oxide ceramics Is widely used as a representative. SiC fibers have been actively used as reinforcing materials for ceramic and metal composite materials, and boron fibers are mainly used as high-performance epoxy reinforcing materials.

특히 물성이 뛰어난 SiC는 다른 강화재료보다 훨씬 비싼 가격문제만 해결된다면 많이 쓰이는 강화재료 될 것이다.Especially, SiC with excellent physical properties will be used as a reinforcing material if it is solved only by a price problem which is much higher than other reinforcing materials.

탄화규소(SiC)는 합성재료로서 세라믹스 분야에서 가장 중요한 탄화물이다. Silicon carbide (SiC) is the most important carbide in the field of ceramics as a synthesis material.

탄화규소는 입방 정(cubic) 결정구조를 갖는 β상과 육방정(hexagonal) 결정구조를 갖는 α상이 존재한다. Silicon carbide has a β-phase having a cubic crystal structure and an α-phase having a hexagonal crystal structure.

β상은 1400-1800oC의 온도 범위에서 안정하고, α상은 2000oC 이상에서 형성된다.The β phase is stable in the temperature range of 1400-1800oC, and the α phase is formed at 2000oC or higher.

SiC의 분자량은 40.1 이고, 비중은 3.21이며, 2500oC 이상에서 분해된다.SiC has a molecular weight of 40.1, a specific gravity of 3.21, and decomposes at 2500 ° C or higher.

탄화규소는 1970년대에 미국 G.E.의 prochazka에 의해 boron 및 carbon의 첨가로 상압소결이 처음 성공한 이래로 SiC는 고온강도가 높고, 내마모성, 내산화성, 내식성, 크립저항성등의 특성이 우수하여 고온 주고재료로서 주목을 받는 재료이며, 현재 “메카니컬 씰”, “베어링”, “각종 노즐”, “고온 절삭공구”, “내화판”, “연마재”, “제강시 환원재”, “피뢰기” 등에 광범위하게 사용되고 있는 소재이다.
Since SiC first succeeded in pressureless sintering by the addition of boron and carbon by GE Prochazka in the 1970s, SiC has high temperature strength and excellent abrasion resistance, oxidation resistance, corrosion resistance and creep resistance. It is widely used for "mechanical seals", "bearings", "various nozzles", "hot cutting tools", "fireproof plates", "abrasive materials", "steel reduction materials" Is the material.

따라서 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약으로 제조된 염전타일을 결정지의 바닥재로 사용할 경우 일반 타일과 비교해 볼 때, 메탈실리콘에 의해 효율적으로 흡수된 태양열이 타일 내부로 손쉽게 전도 및 축척을 유도하고, 결정지를 높은 온도조건을 오랜 시간 유지시킬 수 있는 조건을 만들 수 있씀으로 천일염의 생산을 증대시킬 수 있다는 장점이 있다.
Therefore, when a salt tile made of glaze for salt tile containing metal silicon is used as the bottom material of crystal paper, the solar heat absorbed efficiently by metal silicon easily induces conduction and scale within the tile, It has the advantage of increasing the production of solar salt because it can make the condition that the crystal paper can be maintained at high temperature condition for a long time.

본 발명에 따른 메탈실리콘으로 코팅된 염전타일용 유약을 이용한 염전타일의 제조방법은 도 1의 제조공정 과정도를 통해 개략적으로 나타내었다.
The method of manufacturing the salt tile using the glaze for salt tile coated with metal silicon according to the present invention is schematically shown in the manufacturing process diagram of FIG.

천일염의 생산은 염전 결정지에서의 온도 상승을 위한 바닥재의 열 흡수능력 및 열전도도, 작업의 용이성 및 향상을 위한 바닥재의 강도 강화가 필수적이다. 메탈실리콘은 열흡수 및 열전도도가 매우 큰 물질로써 염전 결정지에서의 온도 상승에 매우 효과적일 수 있고, 유리는 타일의 강도 강화에 큰 도움을 줄 수 있다. 이러한 특성들을 활용하기 위하여, 본 발명에 따른 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약으로 제조 또는 코팅 된 염전타일의 제조방법은 도 1에서 보는바와 같이 타일성형을 위한 다양한 타일 재료, 성형을 위한 최적화 온도, 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약제조, 유약시유 및 최적온도, 제품생산 등을 포함한다. It is necessary to strengthen the strength of the flooring to improve the heat absorbing ability, thermal conductivity, workability and improvement of the flooring material for the temperature rise in the torsion deciduous ground. Metal silicon is a material with high heat absorption and thermal conductivity, which can be very effective for increasing the temperature in the torsion crystal paper, and glass can greatly enhance the strength of tiles. In order to utilize these characteristics, a method for manufacturing a salt tile made of or coated with a glaze for a salt tile containing metal silicon according to the present invention is characterized in that it comprises various tile materials for tile molding, , Manufacture of glaze for salt tile containing metal silicon, glazing flux and optimum temperature, product production.

상기 염전타일의 성형은 산청토 20kg, 분말맥반석1kg, 분말흑연0.5kg, 유리분말 0.1kg을 물5ℓ와 혼합하고 성형틀을 이용하여 가로 300mm, 세로300mm, 두께10mm가 되도록 350~400 kg/cm2 의 압력으로 제조하는 단계를 포함한다. The salt tile was formed by mixing 20 kg of sulfuric acid soil, 1 kg of powdered elvan, 0.5 kg of powdered graphite and 0.1 kg of glass powder with 5 liters of water, and 350 to 400 kg / cm 2 < / RTI >

상기 염전타일의 건조는 전기로에서 350℃, 30분간 건조시키는 것을 포함한다. The drying of the salt tile includes drying in an electric furnace at 350 DEG C for 30 minutes.

황토분말 30kg, 맥반석분말 15kg, 해토분말 10kg, 활석분말 5kg, 나무 재 35kg, 물 10ℓ으로 조성된 유약에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘을 혼합시키되, 상기 유약 1kg에 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후 700 rpm 의 교반강도로 교반하는 단계를 포함한다. 50 g of metal silicon was mixed with 1 kg of the glaze and mixed with 50 g of metal silicon. The mixture was mixed with 30 g of the loess powder, 15 kg of the elvan powder, 10 kg of the fired powder, 5 kg of the talc powder, lt; RTI ID = 0.0 > g / rpm. < / RTI >

상기 건조된 성형타일의 표면은 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약이 시유된 것을 포함한다. The surface of the dried shaped tile includes a glaze for salt tile containing metal silicon.

상기 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약으로 시유된 염전타일(성형타일)은 다시 전기로에서 1200℃ ~1,300℃ 조건에서 약 1시간 소성하는 단계를 포함한다.
The salt tile (forming tile) sintered as a glaze for a salt tile containing the above-mentioned metal silicon includes a step of firing again at 1200 ° C to 1,300 ° C for about 1 hour in an electric furnace.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부도면, 표 및 그림 등을 참조하여 설명하기로 한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, tables, figures, and the like, to enable those skilled in the art to easily carry out the technical idea of the present invention. I will explain.

실시예1 (유약제조)Example 1 (Preparation of glaze)

일반 옹기용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여, 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 제조하였다.
50 g of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 m was mixed with 1 kg of general Onggi glaze and stirred with a stirrer at 700 rpm to prepare a glaze for salt tile containing metal silicon.

실시예2 (유약제조)Example 2 (Preparation of glaze)

일반 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여, 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 제조하였다.
50 g of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 m was mixed with 1 kg of the general tile glaze and stirred at 700 rpm with a stirrer to prepare a glaze for salt tile containing metal silicon.

실시예3Example 3

타일을 성형한 다음, 일반 옹기용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여 제조된 염전타일용 유약을 시유한 다음, 상온에서 건조시킨 후, 전기로에서 1200℃ ~1,300℃ 에서 1시간 소성하여 염전타일을 제조하였다.
After forming the tile, 50 g of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 μm was mixed with 1 kg of general glaze for ongyo, and the mixture was stirred at 700 rpm with a stirrer. The glaze for the salt tile was then dried, At 1200 캜 to 1,300 캜 for 1 hour to prepare a salt tile.

실시예4Example 4

타일을 성형한 다음, 상기 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여 제조된 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 시유한 다음, 상온에서 건조시킨 후, 전기로에서 1200℃ ~1,300℃ 에서 1시간 소성하여 염전타일을 제조하였다.
After molding the tile, 50 kg of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 μm was mixed with 1 kg of the tile glaze, and the mixture was stirred at 700 rpm with a stirrer. The glaze for salt tile containing metal silicon was sieved, Dried and then baked in an electric furnace at 1200 ° C to 1,300 ° C for 1 hour to prepare a salt tile.

실시예5Example 5

제1공정(타일제조) The first step (tile manufacturing)

20nm~500μm 입자의 산청토 20kg, 20nm~500μm 입자의 맥반석1kg, 20nm~500μm 입자의 흑연0.5kg, 20nm~500μm입자의 유리 0.1kg을 물5ℓ과 혼합한 다음, 성형틀에 이동시킨 후, 프레스로 350~400 kg/cm2 의 압력을 가한 다음, 성형틀을 제거한 후에, 전기로로 이동시켜 350℃에서 30분간 건조시켜 성형타일을 제조한 다음, 1 kg of elvan, 20 kg to 500 μm of graphite, 0.5 kg of graphite, and 0.1 kg of glass of 20 nm to 500 μm particles were mixed with 5 L of water and then transferred to a mold, to prepare a molded tile pressured in 350 ~ 400 kg / cm 2 after the removal of the next, the forming die, is moved by an electric furnace and dried at 350 ℃ 30 min,

제2공정(유약제조)The second step (glaze manufacturing)

20nm~500μm입자의 황토분말 30kg, 20nm~500μm입자의 맥반석분말 15kg, 20nm~500μm입자의 해토분말 10kg, 20nm~500μm입자의 활석분말 5kg, 20nm~500μm입자의 나무 재 35kg, 물 10ℓ을 혼합하여 타일용 유약을 제조한 다음, 제조된 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여, 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 제조한 다음,
30 kg of loess powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 15 kg of powdered granite having a particle size of 20 nm to 500 μm, 10 kg of loam powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 5 kg of talc powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 35 kg of wood having a particle size of 20 nm to 500 μm, The glaze for tiles was prepared and then mixed with 50 g of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 μm to 1 kg of the glaze for tile thus prepared and stirred at 700 rpm with a stirrer to prepare a glaze for salt tile containing metal silicon,

제3공정(유약도포 및 2차소성)Third step (glaze application and secondary firing)

상기 제1공정에서 제조된 성형타일의 표면에 제2공정에서 제조된 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 시유한 다음, 상온에서 8시간 건조시킨 후, 전기로에서 1200℃ ~1,300℃ 에서 1시간 소성하여 염전타일을 제조하였다.
The glaze for the salt tile containing the metal silicon produced in the second step was applied to the surface of the molding tile manufactured in the first step and dried at room temperature for 8 hours and then heated in an electric furnace at 1200 ° C. to 1,300 ° C. for 1 hour Followed by firing to prepare a salt tile.

(비교예)
(Comparative Example)

제1공정(타일제조) The first step (tile manufacturing)

20nm~500μm 입자의 산청토 20kg, 20nm~500μm 입자의 맥반석1kg, 20nm~500μm 입자의 흑연0.5kg, 20nm~500μm입자의 유리 0.1kg을 물5ℓ과 혼합한 다음, 성형틀에 이동시킨 후, 프레스로 350~400 kg/cm2 의 압력을 가한 다음, 성형틀을 제거한 후에, 전기로로 이동시켜 350℃에서 30분간 건조시켜 성형타일을 제조한 다음, 1 kg of elvan, 20 kg to 500 μm of graphite, 0.5 kg of graphite, and 0.1 kg of glass of 20 nm to 500 μm particles were mixed with 5 L of water and then transferred to a mold, to prepare a molded tile was added to a pressure of 350 ~ 400 kg / cm 2 after the removal of the next, the forming die, is moved by an electric furnace and dried at 350 ℃ 30 min,

제2공정(유약제조)The second step (glaze manufacturing)

20nm~500μm입자의 황토분말 30kg, 20nm~500μm입자의 맥반석분말 15kg, 20nm~500μm입자의 해토분말 10kg, 20nm~500μm입자의 활석분말 5kg, 20nm~500μm입자의 나무 재 35kg, 물 10ℓ을 혼합하여 타일용 유약을 제조한 다음,
30 kg of loess powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 15 kg of powdered granite having a particle size of 20 nm to 500 μm, 10 kg of loam powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 5 kg of talc powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 35 kg of wood having a particle size of 20 nm to 500 μm, After producing the glaze for the tile,

제3공정(유약도포 및 2차소성)Third step (glaze application and secondary firing)

상기 제1공정에서 제조된 성형타일의 표면에 제2공정에서 제조된 염전타일용 유약을 시유한 다음, 상온에서 8시간 건조시킨 후, 전기로에서 1200℃ ~1,300℃ 에서 1시간 소성하여 염전타일을 제조하였다.
The glaze for the salt tile prepared in the second step is applied to the surface of the molding tile manufactured in the first process and then dried at room temperature for 8 hours and then baked in the electric furnace at 1200 ° C to 1,300 ° C for 1 hour to produce a salt tile .

(실험예)(Experimental Example)

본 발명에 따른 실시예5 및 비교예에서 메탈실리콘이 함유된 유약의 코팅에 의해 제조된 염전타일을 이용한 소금생산량 증대효과를 분석하기 위하여, 300W, 필라멘트 램프, 스테인레스 스틸 용기, 메탈실리콘이 함유된 유약의 코팅에 의해 제조된 실시예5의 염전타일과,In order to analyze the effect of the salt tile produced by the coating of the glaze containing metal silicon in Example 5 and Comparative Example according to the present invention on the increase of the salt production amount, it was found that 300 W, filament lamp, stainless steel container, The tile salt of Example 5 prepared by coating of glaze,

메탈실리콘이 함유되지 않은 유약을 사용하여 제조된 일반 염전타일 비교예의 염전타일을 이용하여 용기내 바닷물의 온도를 실시간으로 모니터 할 수 있는 온도감지 시스템, 타일표면 온도 변화를 실시간으로 모니터 할 수 있는 온도감지 시스템으로 구성된 도2와 같은 비교실험 시스템을 구축하였다.
General salt tile manufactured using glaze containing no metal silicon Temperature sensing system that can monitor the temperature of seawater in real time by using salt tile of comparative example, temperature for monitoring tile surface temperature change in real time A comparative experimental system as shown in Fig.

실험은 램프의 전원을 각각 구동시키고 최초 2시간 동안은 30분 간격으로 용기내 물의 온도와 타일 표면온도를 모니터하고 이후 10시간부터 72시간 까지는 10시간 간격으로 모니터 하였고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
The experiment was conducted by driving the power of each lamp, monitoring the temperature of the water in the container and the temperature of the tile surface at intervals of 30 minutes for the first 2 hours, and monitoring the tile surface temperature from 10 hours to 72 hours at 10 hour intervals. Respectively.

실시예5의염전타일과 비교예의 염전타일에 있어서 필라멘트 전구 가열 경과시간에 따른 바닷물 온도와 타일 표면온도(℃) The seawater temperature and the surface temperature of the tile (° C) according to the heating time of the filament bulb in the salt tile of Example 5 and the salt tile of Comparative Example, 경과시간  Elapsed time 바닷물 온도(℃)        Seawater temperature (℃) 타일 표면 온도(℃)          Tile surface temperature (℃) 실시예53
염전 타일
Example 53
Salt tile
비교예 염전타일Comparative Example Salt tile 실시예5
염전 타일
Example 5
Salt tile
비교예
염전 타일
Comparative Example
Salt tile
초기온도  Initial temperature 1111 1111 11.211.2 11.211.2 0.5 시간 경과0.5 hour elapse 19.419.4 13.813.8 21.421.4 19.319.3 1 시간 경과1 hour elapse 23.623.6 16.416.4 28.528.5 26.526.5 1.5 시간 경과1.5 hours elapsed 29.429.4 21.321.3 33.733.7 30.230.2 2 시간 경과2 hours elapsed 31.531.5 25.625.6 35.935.9 32.432.4 2.5 시간 경과2.5 hours elapsed 34.234.2 27.427.4 39.239.2 36.536.5 3 시간 경과3 hours elapsed 35.735.7 29.329.3 40.040.0 37.337.3 3.5 시간 경과3.5 hours elapsed 37.937.9 31.231.2 40.140.1 38.738.7 4 시간 경과4 hours elapsed 38.538.5 33.033.0 41.541.5 39.439.4 4.5 시간 경과4.5 hours elapsed 38.638.6 33.033.0 41.641.6 38.738.7 5 시간 경과5 hours elapsed 38.538.5 32.832.8 41.741.7 38.538.5 5.5 시간 경과5.5 hours elapsed 38.638.6 31.931.9 42.142.1 39.939.9 6 시간 경과6 hours elapsed 39.439.4 32.032.0 42.342.3 40.140.1 6.5 시간 경과6.5 hours elapsed 39.439.4 31.431.4 43.143.1 40.440.4 7 시간 경과7 hours elapsed 39.539.5 32.732.7 42.842.8 40.140.1 7.5 시간 경과7.5 hours elapsed 39.639.6 32.432.4 42.642.6 40.240.2 8 시간 경과8 hours elapsed 39.739.7 32.632.6 42.542.5 40.340.3 8.5 시간 경과8.5 hours elapsed 39.439.4 33.133.1 42.742.7 40.140.1 9 시간 경과9 hours elapsed 40.040.0 33.233.2 42.442.4 39.839.8 9.5 시간 경과9.5 hours elapsed 39.739.7 33.133.1 42.142.1 39.739.7 10 시간 경과10 hours elapsed 39.639.6 33.033.0 42.442.4 40.340.3 20 시간 경과20 hours elapsed 40.040.0 33.233.2 42.642.6 40.540.5 30 시간 경과30 hours elapsed 39.739.7 33.433.4 42.142.1 40.340.3 40 시간 경과40 hours elapsed 39.639.6 33.233.2 41.941.9 40.240.2 50 시간 경과50 hours elapsed 39.739.7 32.732.7 42.142.1 40.440.4 60 시간 경과60 hours elapsed 39.739.7 32.432.4 42.242.2 40.540.5 72 시간 경과72 hours elapsed 39.639.6 32.632.6 42.342.3 40.340.3

또한 소금발아 특성을 파악하기 위하여 실험시작 후 4시간 경과된 시점에서 실시예5에 의해 제조된 염전타일과 비교예에 의해 제조된 염전 타일의 표면에 대해서 사진을 득하였으며 그 결과를 하기 도3과 같이 나타났다. In order to understand the germination characteristics of the salt, photographs were taken on the surface of the salt tile prepared in Example 5 and the salt tile prepared in Comparative Example at 4 hours after the start of the experiment. Appeared together.

실시예5에 의해 제조된 염전타일, 비교예에 의해 제조된 염전타일로부터 생산된 소금양을 비교하기 위하여 72시간 경과 후 타일표면에 생성된 소금에 대해 하기 도4와 같이 나타났으며, 정량화한 소금생산량에 대한 결과는 상기의 실험을 3회 걸쳐 실시한 결과로 표 2에 나타내었다.
The salt produced on the surface of the tile after 72 hours in order to compare the amount of salt produced from the salt tile prepared in Example 5 and the salt tile prepared in Comparative Example was shown in Fig. The results for salt production are shown in Table 2 as a result of performing the above experiment three times.

필라멘트전구 72시간 가열 후 실시예5의염전타일과 비교예의 염전타일에 의해 생성된 소금양 (g)Filament bulb After heating for 72 hours, the amount of salt (g) produced by the salt tile of Example 5 and the salt tile of the comparative example, 실시예5
염전 타일
Example 5
Salt tile
비교예
염전타일
Comparative Example
Salt tile

생산된 소금양(g)
(1차 실험)

Amount of salt produced (g)
(Primary experiment)
24.7424.74 17.6317.63
생산된 소금양(g)
(2차 실험)
Amount of salt produced (g)
(Second experiment)
24.5324.53 18.6118.61
생산된 소금양(g)
(2차 실험)
Amount of salt produced (g)
(Second experiment)
25.7825.78 18.4218.42

(실험결과)
(Experiment result)

1. 실시예5의염전타일과 비교예의 염전타일이 설치된 바닷물 온도변화. 1. Changes in sea water temperature with the salt tile of Example 5 and the salt tile of Comparative Example.

표1에 나타낸 바와 같이, 실시예5에 의해 제조된 염전타일이 담겨 있는 용기의 바닷물 온도는 초기 온도 11℃에서 10분 경과 후 부터 온도가 상승하기 시작하였다. As shown in Table 1, the seawater temperature of the container containing the salt tile prepared in Example 5 started to rise after 10 minutes at the initial temperature of 11 占 폚.

실시예5의염전타일은 비교예의 염전타일과 비교하여 타일자체에 의해 램프로부터 흡수한 열은 4시간 경과 후 각각 41.5℃, 39.4℃ 이었다. 이것은 타일자체에 의한 램프로 부터의 열 흡수 능력은 약간의 차이는 있지만 아주 크지는 않았다. 하지만 같은 시간 바닷물의 온도는 두 실험조건에서 확연한 차이가 있음을 알 수 있다. In the tile of Example 5, the heat absorbed from the lamp by the tile itself was 41.5 ° C and 39.4 ° C after 4 hours, respectively, as compared with the tile tile of Comparative Example. This was not very large, although there was a slight difference in the ability of the tile itself to absorb heat from the lamp. However, the temperature of seawater at the same time shows a significant difference between the two experimental conditions.

실시예5의염전타일이 설치된 조건에서는 바닷물의 온도가 38.3℃, Under the condition that the salt tile of Example 5 was installed, the temperature of seawater was 38.3 ° C,

비교예의 염전타일이 설치된 조건에서의 바닷물 온도는 32.8℃ 로써 두 조건에서의 바닷물의 온도차이가 매우 차이가 있음을 알 수 있다. The temperature of the seawater at the condition that the salt tile of the comparative example is installed is 32.8 ° C, and it can be seen that the temperature difference of the seawater at the two conditions is very different.

이것은 실시예5의염전타일(메탈실리콘유약 사용)의 열전도도에 의한 영향으로 해석할 수 있다. 즉. 열전도도가 매우 큰 실시예5의염전타일에 의해 흡수된 흡수열이 바닷물쪽으로 쉽게 전도되어 바닷물의 온도를 상승시킨 반면 비교예의 염전타일이 설치된 곳에서의 바닷물온도는 비교예의 염전타일의 낮은 열전도도에 의해 실시예5의염전타일이 설치된 바닷물의 온도만큼 상승되지 못한 것으로 판단할 수 있다. This can be interpreted as the effect of the thermal conductivity of the salt tile (using the metal silicon glaze) of Example 5. In other words. The absorption heat absorbed by the tile salt tile of Example 5 having a very high thermal conductivity was easily conducted to the sea water to increase the temperature of the sea water while the temperature of the sea water at the place where the tile salt tile of the comparative example was installed was lower than that of the comparative example tile tile It can be concluded that the salt tile of Example 5 was not increased by the temperature of the seawater.

따라서 실시예5의염전타일은 비교예의 염전타일과 비교하여 결정지의 온도를 상승시키는데 있어 매우 효과적인 수단이 될 수 있음을 알 수 있다.
Therefore, it can be seen that the salt tile of Example 5 can be a very effective means for raising the temperature of the crystal paper in comparison with the salt tile of the comparative example.

2. 소금 발아 특성2. Characteristics of salt germination

실시예5의염전타일과 비교예의 염전타일이 설치된 각각의 조건에서 소금이 생성하지 시작하는 시작 시점에 있어서도 큰 차이가 있다. 두 조건에서 4시간 경과하면서 실시예5의염전타일이 설치된 곳에서 타일표면에 발아되기 시작한 소금이 비교예의 염전타일 표면에 발아되기 시작하는 소금양 보다 시각적으로 차이가 있다. 이러한 결과는 결국 최종적으로 두 조건에서 생산되는 소금생산량의 차이에 크게 기여하였다. (도3 참조)
There is also a large difference at the starting point of salt production in each condition in which the salt tile of Example 5 and the salt tile of Comparative Example are installed. The salt which started to germinate on the surface of the tile at the place where the salt tile of Example 5 was installed was visually different from the amount of salt which starts to germinate on the surface of the salt tile of the comparative example. These results ultimately contributed greatly to the difference in salt production produced in both conditions. (See Fig. 3)

3.소금 생산량3. Salt production

표 2에 나타난 바와 같이 72시간 경과 후, 실시예5의염전타일이 설치된 조건에서 생산되는 소금량은 평균 23.68g, 비교예의 염전타일이 설치된 조건에서 생산된 평균 소금량은18.22g 으로, 실시예5의염전타일이 설치된 조건에서 생산되는 소금량이 5.46g 더 많이 생산되어 약 30% 더 소금생산량이 증가되었음을 확인하였다. (도4 참조) As shown in Table 2, after 72 hours, the amount of salt produced under the condition that the salt tile of Example 5 was installed was 23.68g on average, and the average amount of salt produced under the condition that the salt tile of Comparative Example was installed was 18.22g, It is confirmed that the amount of salt produced in the condition that the salt tile of 5 is installed is increased by 5.46 g and the salt production is increased by about 30%. (See Fig. 4)

Claims (4)

메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약의 제조방법에 있어서,
옹기용 유약 또는 타일용 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여 제조하며,
상기 메탈실리콘은 탄열환원법을 이용하여 제조된 탄화규소인 것을 특징으로 하는 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약의 제조방법.
A method for manufacturing a glaze for salt tile containing metal silicon,
50 g of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 m was mixed with 1 kg of glaze for ongyo glaze or tile, and the mixture was stirred with a stirrer at 700 rpm,
Wherein the metal silicon is silicon carbide produced by a reheat reduction method.
청구항 1에 있어서, 상기 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약은 20nm~500μm입자의 황토분말 30kg, 20nm~500μm입자의 맥반석분말 15kg, 20nm~500μm입자의 해토분말 10kg, 20nm~500μm입자의 활석분말 5kg, 20nm~500μm입자의 나무 재 35kg, 물 10ℓ을 혼합하여 유약을 제조한 다음, 제조된 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여 제조함을 특징으로 하는 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약의 제조방법.
The glaze for salt tile according to claim 1, wherein 30 kg of the loess powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 15 kg of a granite powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 10 kg of a fired powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 35 kg of wood of 20 to 500 μm particles and 10 L of water were mixed to prepare a glaze. Then, 50 kg of metal silicon having a particle size of 20 nm to 500 μm was mixed with 1 kg of the glaze thus prepared, and the mixture was stirred with a stirrer at 700 rpm Characterized in that the glaze for salt tile containing metal silicon is produced.
염전타일의 제조방법에 있어서,
산청토, 맥반석, 흑연 및 유리의 혼합물로 타일을 성형시키는 성형단계; 온도 300℃~400℃ 조건에서 성형타일을 건조시키는 건조단계; 청구항 1의 제조방법에 의해 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 제조하는 단계; 건조된 타일에 대해 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 시유시키는 단계; 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약으로 시유된 타일을 건조시킨 다음, 온도 1200℃~1300℃ 조건에서 소성시키는 단계;를 거쳐 제조함을 특징으로 하는 염전타일의 제조방법.
A method for manufacturing a salt tile,
A forming step of forming a tile with a mixture of sulfuric acid, elvan, graphite, and glass; A drying step of drying the molding tile at a temperature of 300 ° C to 400 ° C; Preparing a glaze for a salt tile containing metal silicon by the manufacturing method of claim 1; Treating the dried tile with a glaze for salt tile containing metal silicon; Wherein the tile is dried with a glaze for a salt tile containing metal silicon and then baked at a temperature of 1200 ° C to 1300 ° C.
염전타일의 제조방법의 제조방법에 있어서,
제1공정(타일제조)
20nm~500μm 입자의 산청토 20kg, 20nm~500μm 입자의 맥반석1kg, 20nm~500μm 입자의 흑연0.5kg, 20nm~500μm입자의 유리 0.1kg을 물5ℓ과 혼합한 다음, 성형틀에 이동시킨 후, 프레스로 350~400 kg/cm2 의 압력을 가한 다음, 성형틀을 제거한 후에, 전기로로 이동시켜 350℃에서 30분간 건조시켜 성형타일을 제조한 다음,
제2공정(유약제조)
20nm~500μm입자의 황토분말 30kg, 20nm~500μm입자의 맥반석분말 15kg, 20nm~500μm입자의 해토분말 10kg, 20nm~500μm입자의 활석분말 5kg, 20nm~500μm입자의 나무 재 35kg, 물 10ℓ을 혼합하여 유약을 제조한 다음, 제조된 유약 1kg에 20nm~500μm입자의 탄열환원법을 이용하여 제조된 탄화규소인 메탈실리콘 50g 을 혼합한 후, 교반기로 700 rpm 으로 교반하여 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 제조한 다음,

제3공정(유약도포 및 2차소성)
상기 제1공정에서 제조된 성형타일의 표면에 제2공정에서 제조된 메탈실리콘이 함유된 염전타일용 유약을 시유한 다음, 상온에서 건조시킨 후, 전기로에서 1200℃ ~ 1,300℃에서 1시간 소성하여 제조함을 특징으로 하는 염전타일의 제조방법.
A method of manufacturing a method for manufacturing a salt tile,
The first step (tile manufacturing)
1 kg of elvan, 20 kg to 500 μm of graphite, 0.5 kg of graphite, and 0.1 kg of glass of 20 nm to 500 μm particles were mixed with 5 L of water and then transferred to a mold, to prepare a molded tile was added to a pressure of 350 ~ 400 kg / cm 2 after the removal of the next, the forming die, is moved by an electric furnace and dried at 350 ℃ 30 min,
The second step (glaze manufacturing)
30 kg of loess powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 15 kg of powdered granite having a particle size of 20 nm to 500 μm, 10 kg of loam powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 5 kg of talc powder having a particle size of 20 nm to 500 μm, 35 kg of wood having a particle size of 20 nm to 500 μm, Then, 50 g of metal silicon, which is silicon carbide produced by the reductive reduction method of particles of 20 nm to 500 μm, was mixed with 1 kg of the produced glaze, and the mixture was stirred at 700 rpm with a stirrer to obtain a glaze for salt tile containing metal silicon , ≪ / RTI >

Third step (glaze application and secondary firing)
The glaze for the salt tile containing the metal silicon produced in the second step is applied to the surface of the molding tile manufactured in the first step and is then dried at room temperature and then calcined at 1200 ° C. to 1,300 ° C. for 1 hour in an electric furnace ≪ / RTI > wherein the method comprises the steps of:
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