KR101601887B1 - Led encapsulant containing ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin and manufacturing method of epoxy-based polysiloxane resin - Google Patents

Led encapsulant containing ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin and manufacturing method of epoxy-based polysiloxane resin Download PDF

Info

Publication number
KR101601887B1
KR101601887B1 KR1020140066552A KR20140066552A KR101601887B1 KR 101601887 B1 KR101601887 B1 KR 101601887B1 KR 1020140066552 A KR1020140066552 A KR 1020140066552A KR 20140066552 A KR20140066552 A KR 20140066552A KR 101601887 B1 KR101601887 B1 KR 101601887B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
epoxy
resin
nanoparticles
polysiloxane resin
based polysiloxane
Prior art date
Application number
KR1020140066552A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20150139042A (en
Inventor
김성웅
이성기
손홍래
김병희
Original Assignee
조선대학교산학협력단
다미폴리켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 조선대학교산학협력단, 다미폴리켐 주식회사 filed Critical 조선대학교산학협력단
Priority to KR1020140066552A priority Critical patent/KR101601887B1/en
Publication of KR20150139042A publication Critical patent/KR20150139042A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101601887B1 publication Critical patent/KR101601887B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • C08L83/06Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/09Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241Titanium dioxide

Abstract

본 발명은 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED 봉지재 및 그 수지의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 종래 우수한 굴절률과 투명성의 에폭시 수지를 이용하되 높은 온도에서의 내열성이 확보되어 황변현상에 내성이 있고 경화시간이 짧은 방향족 그룹의 무수 경화제를 이용하여 열 경화된, 에폭시 기반의 폴리실록산 수지를 제공하고, 상기 수지가 높은 온도에서도 고굴절과 고투명성을 유지하고, 특히 내열성이 확보되고 60분 이내의 초고속 경화시간을 제공함으로써, 물성이 개선된 LED 봉지재로 유용하다.
The present invention relates to an LED encapsulant made of an ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin and a method for producing the resin.
The present invention relates to an epoxy-based polysiloxane resin which is thermally cured by using an epoxy resin having excellent refractive index and transparency, but is resistant to yellowing at a high temperature and has a short curing time, The resin is useful as an LED encapsulant having improved physical properties by maintaining a high refractive index and high transparency even at a high temperature, particularly securing heat resistance and providing an extremely fast curing time of 60 minutes or less.

Description

초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED 봉지재 및 그 수지의 제조방법{LED ENCAPSULANT CONTAINING ULTRA-FAST CURING EPOXY-BASED POLYSILOXANE RESIN AND MANUFACTURING METHOD OF EPOXY-BASED POLYSILOXANE RESIN}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an LED encapsulant made of an ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin and a method for manufacturing the same. [0001] The present invention relates to an LED encapsulant,

본 발명은 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED 봉지재 및 그 수지의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 종래 우수한 굴절률과 투명성의 에폭시 수지를 이용하되, 높은 온도에서의 내열성이 확보되어 황변현상에 내성이 있고, 경화시간이 짧은 방향족 그룹의 무수 경화제와 열 경화시켜 얻어진 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED 봉지재 및 그 수지의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an LED encapsulant made of an ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin and a method for producing the resin, and more particularly, to an LED encapsulant made of an epoxy resin having excellent refractive index and transparency, Fast curing type epoxy-based polysiloxane resin obtained by thermosetting an aromatic group anhydride curing agent which is resistant to development and has a short curing time, and a method for producing the resin.

발광 다이오드(Light Emitting Device, 이하, "LED"라 함)는 에너지 효율성과 내구성으로 인하여, 연구분야뿐 아니라 산업분야에서도 많은 관심을 받고 있다. BACKGROUND ART Light emitting diodes (hereinafter referred to as "LEDs") have attracted much attention not only in research fields but also in industrial fields due to their energy efficiency and durability.

이에, 봉지된 내부의 전구체와 LED 칩의 결합으로 백색 빛의 발광을 위한 LED는 황색전구체와 청색 LED 칩을 사용하는 유형과 적색, 녹색, 청색 LED 칩을 하나로 결합한 유형 및 적색, 녹색, 청색 전구체와 함께 UV LED 칩을 사용하는 유형이 있다. Thus, the LED for emitting white light by combining the sealed inner precursor and the LED chip can be classified into a type using a yellow precursor and a blue LED chip, a type combining red, green and blue LED chips and a red, green, and blue precursor There is a type that uses UV LED chip with.

일반적으로 봉지재(encapsulant) 수지는 LED 칩을 보호할 뿐 아니라 백색의 빛을 얻기 위해 사용된다. 따라서 봉지재 수지는 가시광선 영역에서 우수한 투명도를 가지며 열, 수분, 용매, 화학적 저항에 안정해야 한다. In general, encapsulant resin is used not only to protect the LED chip but also to obtain white light. Thus, the encapsulant resin should have good transparency in the visible light range and be stable to heat, moisture, solvent, and chemical resistance.

특히 LED 칩으로부터의 열복사는 LED 패키징의 온도를 증가시켜 황변 현상을 일으키고 투과율을 저해하여 빛 효율을 감소시키므로, 봉지재 수지는 LED 빛의 방출 정도를 초기상태로 유지하기 위하여 높은 온도를 대비한 우수한 열 안정성을 가져야 한다. In particular, heat radiation from the LED chip increases the temperature of the LED packaging to cause yellowing and reduces the light efficiency by inhibiting the transmittance. Therefore, the encapsulant resin is excellent in high temperature It should have thermal stability.

또한 일반적으로 LED 칩의 굴절률이 2.0 이상이기 때문에, 효율적인 빛의 방출을 위하여, 봉지재 수지 역시 그에 가깝거나 높은 굴절률이 요구된다. In addition, since the refractive index of the LED chip is generally 2.0 or more, the encapsulant resin is required to have a refractive index close to or higher than that of the LED chip for effective light emission.

최근에는 졸-겔로 만들어진 올리고실록산을 기반으로 한 하이브리드 물질들의 경우, 높은 투명도와 통상의 고분자에 비해 비교적 높은 열 안정성을 보이므로, 이들을 광학적 응용에 적용하고 있다[Chem . Mater ., 1995, 7, 2010, Lightwave . Techol . 1998, 16, 1049].In recent years, hybrid materials based on oligosiloxanes made of sol-gel exhibit high transparency and relatively high thermal stability compared to conventional polymers, and thus they have been applied to optical applications [ Chem . Mater ., 1995, 7 , 2010, Lightwave . Techol . 1998, 16 , 1049].

일반적으로, 졸-겔 과정에 의해 제조된 유ㆍ무기 나노 하이브리드 물질(일명 하이브리머(hybrimer)라 함)은 제조 시 유ㆍ무기 구성요소의 크기와 분포의 정확한 제어를 통해 그들의 균일한 무기와 유기 특성을 얻을 수 있다. In general, organic-inorganic nanohybrid materials (also referred to as hybrimers) prepared by a sol-gel process are prepared by precisely controlling the size and distribution of oil-and-inorganic constituents in their preparation, Characteristics can be obtained.

이러한 관점에서 무기 구조로서, 유기 실란의 간단한 졸-겔 반응에 의해 합성된 나노크기의 유기 올리고실록산은 하이브리머 제조에 적합하다. 이에, 졸-겔 반응을 이용한 에폭시 기반의 하이브리머는 나노-임프린팅, 보호막과 웨이브가이드와 같은 분야에 폭넓게 연구되고 있다.In this regard, nano-sized organo oligosiloxanes synthesized by simple sol-gel reactions of organosilanes as inorganic structures are suitable for hybridization. Thus, epoxy based hybrids using sol-gel reactions have been extensively studied in fields such as nano-imprinting, protective films and wave guides.

에폭시 수지는 우수한 굴절률 및 투과율과 더불어, 신속한 공정시간에 따른 비용 효율성 및 우수한 기계적 성질로 인해 산업계에서 널리 사용되어 왔으며, 이러한 장점으로 인하여 수십 년간 LED 봉지재로서 사용되어 왔다. Epoxy resins have been widely used in the industry due to their excellent refractive index and transmittance, cost-effectiveness due to rapid processing time and excellent mechanical properties, and these advantages have been used for many years as LED encapsulants.

그러나 높은 출력의 백색 LED를 실현하기 위해 고강도 청색 빛의 사용은 에폭시 봉지재의 변색(황변현상) 증가를 초래시켰다. 이러한 황변에 대한 낮은 열 안정성 때문에 고출력 백색 LED 봉지재로서, 종래의 에폭시 수지 대신에, 높은 열 저항을 보이는 실리콘 수지가 사용되고 있다. However, the use of high intensity blue light to achieve a high output white LED has resulted in an increase in discoloration (yellowing) of the epoxy encapsulant. As a high-power white LED encapsulant, silicon resin showing high heat resistance is used instead of conventional epoxy resin because of low thermal stability against yellowing.

그러나 통상의 페닐 실리콘 수지는1.53의 비교적 높은 굴절률을 가지므로 결과적으로 LED의 제한된 빛 방출 효율이 초래되고, 종래 에폭시 기반으로 한 봉지재가 1 시간 이내 경화되는 특성에 따라 신속한 경화시간이 요구된다. However, the conventional phenylsilicone resin has a relatively high refractive index of 1.53, resulting in a limited light emission efficiency of the LED, and a rapid curing time is required according to the conventional epoxy-based encapsulant cured within one hour.

이에, 본 발명자들은 종래 LED 봉지재의 문제점을 개선하고자 노력한 결과, 종래의 LED 봉지재로 사용된 에폭시 수지와 최근 부각된 실리콘 수지 각각의 단점을 보완하되, 높은 온도에서의 내열성이 확보되어 황변 현상에 내성이 있고, 경화시간이 짧은 방향족 그룹의 무수 경화제와 열 경화시켜 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지를 제공하고, 상기 수지가 LED 봉지재에 요구되는 물성을 충족함을 확인함으로써, 본 발명을 완성하였다. The present inventors have made efforts to solve the problems of the conventional LED encapsulant. As a result, they have improved the disadvantages of the epoxy resin used as the conventional LED encapsulant and the recently introduced silicone resin, The present inventors have completed the present invention by providing an ultrahigh-speed curing epoxy-based polysiloxane resin which is resistant to heat and curing with an anhydrous curing agent of an aromatic group having a short curing time and confirming that the resin satisfies the physical properties required for the LED encapsulant .

본 발명의 목적은 높은 온도에서 고굴절과 고투명이 유지되는 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED 봉지재를 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide an LED encapsulant made of a high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin which maintains high transparency at high temperatures and high transparency.

본 발명의 다른 목적은 LED 봉지재에 요구되는 물성을 충족하는 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for producing an ultrahigh-speed curing epoxy-based polysiloxane resin satisfying physical properties required for an LED encapsulant.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 에폭시 올리고실록산 및 방향족 그룹의 무수 경화제가 열 경화에 의해 얻어진 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED용 봉지재를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides an encapsulant for an LED comprising an epoxy oligosiloxane and an anhydride curing agent of an aromatic group formed by an ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin obtained by thermosetting.

상기에서 방향족 그룹의 무수 경화제는 120∼180℃의 경화조건에서 투명성이 유지되면서 60분 이내에 초고속 경화성이 구현되는 것이며, 방향족 그룹의 무수 경화제의 바람직한 일례로는, 프탈릭산 무수물 또는 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)이다.The aromatic group anhydride curing agent can be cured within 60 minutes while maintaining transparency under a curing condition of 120 to 180 캜. Preferred examples of the anhydride curing agent of the aromatic group include phthalic anhydride or 4,4 ' - (4,4'-isopropylidene diphenoxy) bis (phthalic anhydride).

본 발명의 LED용 봉지재로서의 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 (1) 굴절률 1.50 이상, (2) 투과율 90% 이상 및 (3) 경화시간 60분 이내의 물성을 충족한다.The ultrahigh speed curable epoxy-based polysiloxane resin as the encapsulant for LED of the present invention satisfies (1) a refractive index of 1.50 or more, (2) a transmittance of 90% or more, and (3) a curing time of 60 minutes or less.

또한, 본 발명의 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 120℃ 온도조건에서 적어도 48 시간 동안의 투과율변화가 15% 이하의 내열성을 충족한다.In addition, the ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin of the present invention satisfies heat resistance of 15% or less in transmittance change for at least 48 hours at a temperature of 120 ° C.

나아가, 본 발명은 상기 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에, SiO2 나노입자, TiO2 나노입자 또는 Si 나노입자가 더 함입될 수 있으며, 상기 나노입자가 함입된 수지의 경우, 나노입자의 굴절률에 따라 수지의 굴절률이 제어될 수 있으나, 초기 수지의 굴절률과 투명성이 유지된다. Furthermore, the present invention is a polysiloxane resin of the high-speed curing type epoxy-based, SiO 2 Nanoparticles, TiO 2 nanoparticles, or Si nanoparticles can be further incorporated. In the case of the resin in which the nanoparticles are incorporated, the refractive index of the resin can be controlled according to the refractive index of the nanoparticles. However, maintain.

구체적으로는, 상기 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에, 굴절률 1.50 이하의 SiO2 나노입자가 함입된 수지는 (1) 굴절률 1.50 이상의 고굴절성 및 (2) 투과율 90% 이상의 고투명성이 유지되면서 낮아진 경도로 인해 유연한 수지로 제공된다. Specifically, the ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin is coated with SiO 2 having a refractive index of 1.50 or less The nanoparticle-impregnated resin is provided as a flexible resin due to (1) high refractive index of 1.50 or higher and (2) high transparency of 90% or higher transmittance and lowered hardness.

본 발명은 하기 반응식 1에 의해 수행되는 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a process for preparing an epoxy-based polysiloxane resin which is carried out according to the following Reaction Scheme 1.

더욱 구체적으로는, 에폭시기를 포함하는 유기알콕시실란(3)과 유기실란디올(4)이 졸-겔반응에 의해 에폭시-올리고머실란(2)를 합성하고, 상기 에폭시-올리고머실란(2)에 방향족 그룹의 무수 경화제를 120∼180℃에서 열경화하여 에폭시 기반의 폴리실록산 수지(1)를 제조한다.More specifically, an epoxy-oligomer silane (2) is synthesized by sol-gel reaction between an organoalkoxysilane (3) containing an epoxy group and an organosilane diol (4) The anhydrous curing agent of the group is thermally cured at 120 to 180 DEG C to prepare an epoxy-based polysiloxane resin (1).

반응식 1Scheme 1

Figure 112014051779862-pat00001
Figure 112014051779862-pat00001

상기에서, R1 내지 R3은 각각 직쇄 또는 분지쇄의 C1∼C7 알킬기이다. In the above, R 1 to R 3 are each a linear or branched C 1 to C 7 alkyl group.

상기 제조방법에서, 열경화 반응에 사용되는 경화제는 방향족 그룹의 무수 경화제가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 프탈릭산 무수물 또는 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)을 사용한다. In the above production process, the curing agent used in the thermosetting reaction is preferably an aromatic group anhydride curing agent, more preferably a phthalic acid anhydride or 4,4 '- (4,4'-isopropylidenepiperoxy) bis (Phthalic anhydride) is used.

본 발명은 상기의 제조방법에서, 열경화 반응시 SiO2 나노입자, TiO2 나노입자 또는 Si 나노입자에서 선택되는 어느 하나가 분산된 용액 하에서 수행되도록 하여, 나노입자가 합입된 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지를 제공할 수 있다. The present invention, in the manufacturing method described above, when thermal curing reaction SiO 2 Nanoparticles, TiO 2 Nanoparticles or Si nanoparticles in a dispersed solution to provide an ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin in which nanoparticles are incorporated.

본 발명은 종래 우수한 굴절률과 투명성의 에폭시 수지를 이용하되, 방향족 그룹의 무수 경화제를 사용한 경우, 비방향족 그룹의 무수 경화제를 사용한 경우보다 경화시간을 현저히 단축할 수 있으며, 높은 온도에서 고굴절과 고투명이 유지되는 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지를 제공할 수 있다. In the present invention, epoxy resin having excellent refractive index and transparency is used, and when an aromatic group anhydride curing agent is used, the curing time can be remarkably shortened compared with the case of using a non-aromatic group curing agent and high transparency and high transparency A high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin can be provided.

이에, 본 발명의 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED 봉지재는 종래의 LED 봉지재로서 사용된 에폭시 수지와 실리콘 수지 각각의 단점을 보완하면서, 굴절률과 투명성을 높은 온도에서도 유지할 수 있어 황변현상을 최소화할 수 있다.Thus, the LED encapsulant made of the ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin of the present invention can maintain the refractive index and transparency at a high temperature while complementing the disadvantages of each of the epoxy resin and the silicone resin used as the conventional LED encapsulant, Can be minimized.

또한, 본 발명은 상기의 물성을 충족할 수 있는 최적의 조건으로 수행된 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조방법을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a method for producing an ultrahigh-speed curing epoxy-based polysiloxane resin which is carried out under optimal conditions to satisfy the above physical properties.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 시간별 경도 측정결과이고
도 2는 도 1의 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 투과율 평가 사진과 광투과율 스펙트럼결과이고,
도 3은 본 발명의 실시예 3에 따른 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 시간별 경도 측정결과이고,
도 4는 도 3의 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 투과율 평가 사진과 광투과율 스펙트럼결과이고,
도 5는 본 발명의 실시예 2에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 적외선 스펙트럼을 비교분석 결과이고,
도 6은 본 발명의 실시예 2에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 파장에 따른 굴절률 변화 결과이고,
도 7은 본 발명의 실시예 2에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 열중량 분석(TGA)의 결과이고,
도 8은 본 발명의 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대하여 나노입자 함입 유무에 따른 내열성 평가결과이다.
1 is a result of measuring the hardness of epoxy-based polysiloxane resin according to Example 1 of the present invention over time
Fig. 2 is a photograph of the transmittance evaluation result and the light transmittance spectrum of the epoxy-based polysiloxane resin of Fig. 1,
FIG. 3 shows the results of measuring the hardness of the epoxy-based polysiloxane resin containing nanoparticles according to Example 3 of the present invention,
FIG. 4 is a photograph of a transmittance evaluation image and a light transmittance spectrum of the epoxy-based polysiloxane resin containing the nanoparticles of FIG. 3,
5 is a comparative analysis result of the infrared spectrum of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 2 of the present invention,
6 is a graph illustrating the refractive index change of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 2 of the present invention,
Figure 7 shows the results of thermogravimetric analysis (TGA) of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 2 of the present invention,
Fig. 8 shows the heat resistance evaluation results of the epoxy-based polysiloxane resin of the present invention with or without nanoparticle impregnation.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 에폭시 올리고실록산 및 방향족 그룹의 무수 경화제가 열 경화에 의해 얻어진 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED용 봉지재를 제공한다. The present invention provides an encapsulant for an LED comprising an epoxy oligosiloxane and an anhydrous curing agent of an aromatic group, which is obtained by thermosetting an ultrahigh speed curing epoxy based polysiloxane resin.

이에, 본 발명은 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지가 고굴절률, 고투과율을 유지하면서도 황변현상에 강하고 특히 경화시간이 60분 이내, 더욱 바람직하게는 30분 미만인 요건을 충족하는 방향족 그룹의 무수 경화제 사용에 특징이 있다.Accordingly, the present invention relates to an epoxy resin composition which is excellent in yellowing resistance while maintaining a high refractive index and high transmittance, and particularly, an anhydrous curing agent of an aromatic group satisfying the requirement that the curing time is less than 60 minutes, more preferably less than 30 minutes .

본 발명의 실시예에서는 바람직한 일례로서, 하기 화학식 1의 프탈릭산 무수물 또는 화학식 2의 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)를 사용하여 설명하고 있으나, 120∼180℃의 경화조건에서 투명성이 유지되면서 60분 이내에 초고속 경화되는 방향족 그룹의 무수 경화제라면 사용할 수 있다.In an embodiment of the present invention, as a preferable example, a phthalic anhydride of the following formula (1) or 4,4 '- (4,4'-isopropylidene diphenoxy) bis (phthalic anhydride) of the formula However, it is possible to use an anhydrous curing agent of an aromatic group which is cured at an extremely high speed within 60 minutes while transparency is maintained under a curing condition of 120 to 180 캜.

화학식 1Formula 1

Figure 112014051779862-pat00002
Figure 112014051779862-pat00002

화학식 1Formula 1

Figure 112014051779862-pat00003
Figure 112014051779862-pat00003

상기 화학식 1로 표시되는 프탈릭산 무수물(phthalic anhydride)은 경화온도(150℃) 보다 낮은 녹는점(131℃)을 가지는 방향족 그룹의 무수물로서, 낮은 녹는점은 경화단계에서 투명성을 확보하며 방향족 그룹의 존재는 굴절률의 향상에 영향을 준다. 본 발명의 실시예에서는 120℃의 경화온도와 경화시간 60 분 동안 경화반응을 수행한 결과, 고투과율과 고굴절률을 가지면서 120℃ 온도조건에서 적어도 48시간 동안의 우수한 내열성을 충족하는 에폭시 기반의 폴리실록산 수지를 제공한다. The phthalic anhydride represented by Formula 1 is an aromatic group anhydride having a melting point (131 ° C) lower than the curing temperature (150 ° C). The low melting point secures transparency in the curing step, The influence of the refractive index is enhanced. In the examples of the present invention, the curing reaction was carried out at a curing temperature of 120 ° C. and a curing time of 60 minutes. As a result, it was found that an epoxy-based resin having high transmittance and high refractive index and satisfying excellent heat resistance at 120 ° C. for at least 48 hours To provide a polysiloxane resin.

상기 화학식 2로 표시되는 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)은 4개의 방향족 그룹이 직쇄 형태로 구성된 무수물로서, 녹는점이 184-187℃이다. 상기 구조에서 에폭시 그룹과 연결될 수 있는 부분을 2 곳을 가지므로 좋은 결합성과 여러 개의 방향족 그룹으로 인하여, 굴절률의 향상에 유리하다. 본 발명의 실시예에서는 상기 녹는점을 고려하여, 180℃의 경화온도로 유지하여 경화한 결과, 30 분 이내의 빠른 경화를 확인할 수 있다. The 4,4 '- (4,4'-isopropylidene diphenoxy) bis (phthalic anhydride) represented by the above formula (2) is an anhydride having four aromatic groups in the form of a straight chain and has a melting point of 184-187 ° C. to be. In this structure, since there are two sites that can be connected to the epoxy group, it is advantageous in improving the refractive index because of good bonding properties and several aromatic groups. In the embodiment of the present invention, the curing temperature is maintained at a curing temperature of 180 캜 in consideration of the melting point, and as a result, quick curing within 30 minutes can be confirmed.

이상의 방향족 그룹의 무수 경화제로 열 경화되어 얻어진 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 (1) 굴절률 1.50 이상, (2) 투과율 90% 이상 및 (3) 경화시간 60분 이내의 물성을 충족한다.(1) a refractive index of at least 1.50, (2) a transmittance of 90% or more, and (3) a curing time of 60 minutes or less, obtained by thermosetting with an aromatic group anhydride curing agent.

본 발명은 상기의 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 물성이 경화시 나노입자의 함입에 의해 유지여부를 확인하기 위하여, 상기 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에, SiO2 나노입자, TiO2 나노입자 또는 Si 나노입자가 더 합입된 수지를 제공한다. The present invention, the polysiloxane resin of the high-speed curing type epoxy-based in order to determine whether or not to preserve by the incorporation of nano-particles in the cured physical properties of the epoxy polysiloxane-based resin, SiO 2 Nanoparticles, TiO 2 nanoparticles, or Si nanoparticles.

이에, 본 발명의 실시예에서는 상기 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에, 굴절률 1.50 이하인 1.46의 SiO2 나노입자가 함입된 수지를 제공한다. Thus, in the embodiment of the present invention, the ultra-high-speed curing type epoxy-based polysiloxane resin is coated with SiO 2 having a refractive index of 1.50 or less and 1.46 Thereby providing a resin in which nanoparticles are embedded.

상기 수지의 물성평가 결과, 굴절률 1.46의 SiO2 나노입자의 함입에 의해 얻어진 수지의 굴절률은 최초 수지의 굴절률보다는 낮아진 수치를 보임으로써, 함입된 나노입자에 따라 최종 수지의 굴절률을 제어할 수 있다. As a result of evaluating the physical properties of the resin, it was found that SiO 2 having a refractive index of 1.46 The refractive index of the resin obtained by the incorporation of the nanoparticles shows a value lower than the refractive index of the original resin, so that the refractive index of the final resin can be controlled according to the embedded nanoparticles.

즉, 본 발명의 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 굴절율이 다른 나노입자를 더 함입함으로써, 초기 수지의 굴절률, 투명성은 유지하면서 나노입자의 굴절률에 따라 최종 수지의 굴절률을 제어할 수 있다.That is, the ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin of the present invention can control the refractive index of the final resin according to the refractive index of the nanoparticles while maintaining the refractive index and transparency of the initial resin by further incorporating nanoparticles having different refractive indexes.

이에, 본 발명의 실시예에서는 굴절률이 1.46의 SiO2 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 굴절률, 투명성은 유지하면서 낮아진 경도에 의해 유연한 수지를 제공할 수 있다.Thus, in the embodiment of the present invention, SiO 2 having a refractive index of 1.46 The epoxy-based polysiloxane resin in which nanoparticles are incorporated can provide a flexible resin by lowering the hardness while maintaining the refractive index and transparency.

본 발명은 하기 반응식 1에 의해 수행되는 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조방법을 제공한다. The present invention provides a process for preparing an epoxy-based polysiloxane resin which is carried out according to the following Reaction Scheme 1.

더욱 구체적으로는, 에폭시기를 포함하는 유기알콕시실란(3)과 유기실란디올(4)이 졸-겔반응에 의해 에폭시-올리고머실란(2)를 합성하고, 상기 에폭시-올리고머실란(2)에 방향족 그룹의 무수 경화제를 120∼180℃에서 열경화하여 에폭시 기반의 폴리실록산 수지(1)를 제조한다.More specifically, an epoxy-oligomer silane (2) is synthesized by sol-gel reaction between an organoalkoxysilane (3) containing an epoxy group and an organosilane diol (4) The anhydrous curing agent of the group is thermally cured at 120 to 180 DEG C to prepare an epoxy-based polysiloxane resin (1).

반응식 1Scheme 1

Figure 112014051779862-pat00004
Figure 112014051779862-pat00004

(상기에서, R1 내지 R3은 각각 직쇄 또는 분지쇄의 C1∼C7 알킬기이다.)(Wherein R 1 to R 3 are each a linear or branched C 1 to C 7 alkyl group)

상기 제조방법에서, 열경화 반응에 사용되는 경화제는 방향족 그룹의 무수 경화제가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 프탈릭산 무수물 또는 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)을 사용한다. In the above production process, the curing agent used in the thermosetting reaction is preferably an aromatic group anhydride curing agent, more preferably a phthalic acid anhydride or 4,4 '- (4,4'-isopropylidenepiperoxy) bis (Phthalic anhydride) is used.

본 발명은 상기의 제조방법에서, 상기 열경화 반응이 SiO2 나노입자, TiO2 나노입자 또는 Si 나노입자에서 선택되는 어느 하나가 분산된 용액 하에서 수행되도록 하여, 나노입자가 합입된 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지를 제공할 수 있다.
The present invention is the heat curing reaction in the method for producing the SiO 2, Nanoparticles, TiO 2 Nanoparticles or Si nanoparticles in a dispersed solution to provide an ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin in which nanoparticles are incorporated.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

이는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.This is for further illustrating the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

<실시예 1> 에폭시 기반의 폴리실록산 수지 합성 1Example 1 Synthesis of Epoxy-Based Polysiloxane Resin 1

단계 1: 디페닐 실란디올(DPSD) 합성Step 1: Synthesis of diphenylsilanediol (DPSD)

반응식 1-1Scheme 1-1

Figure 112014051779862-pat00005
Figure 112014051779862-pat00005

2000㎖ 플라스크에 증류수 800㎖와 NaHCO3 50.4g(0.6 mol)를 넣고 교반하여 완전히 용해시켰다. 이후 실린지를 사용하여 디클로로디페닐실란 76g(0.3 mol)를 첨가하였다. 첨가 직후 하얀색 앙금이 생성되기 시작하고 1시간 동안 교반하며 충분히 반응시켰다. 이후 디에틸에테르 1000㎖ 가량 첨가하고 교반하여 하얀색 앙금을 모두 녹였다. 앙금이 모두 녹으면 교반을 멈추고 분별깔때기에 옮겨 수층을 분리하여 제거하여 무수 MgSO4 를 첨가하여 잔류하는 수분을 제거하였다. 그 다음 여과하여 용액만 얻어내고 감압 증발시켜 용매를 제거하여 백색의 결과물을 얻었다. 결과물의 재결정을 위하여 톨루엔 1L를 넣고 가열하여 모두 녹여준 뒤 저온 냉동고에서 12시간 동안 보관한 후 여과하여 하얀색 결정의 디페닐실란디올(DPSD)을 수득하였다[m.p. 144℃, 86%의 수득율, 1H-NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.78, 7.78, 7.76, 7.75, 7.51, 7.49, 7.49, 7.47, 7.45, 7.43, 2.86, 2.23, 2.22, 2.22, 2.22, 0.27, 0.26].In a 2000 ml flask, 800 ml of distilled water and 50.4 g (0.6 mol) of NaHCO 3 were added and stirred to dissolve completely. 76 g (0.3 mol) of dichlorodiphenylsilane was then added using the syringe. Immediately after the addition, a white precipitate began to be generated and stirred for 1 hour to react sufficiently. 1000 ml of diethyl ether was then added and stirred to dissolve all of the white sediments. When all of the sediment was dissolved, stirring was stopped and the aqueous layer was removed by transferring to a separating funnel, and anhydrous MgSO 4 was added to remove residual water. Then, only the solution was obtained by filtration, and the solvent was removed by evaporation under reduced pressure to obtain a white product. 1 L of toluene was added to the resultant and heated to dissolve the mixture. The mixture was stored in a cold freezer for 12 hours and filtered to obtain diphenylsilanediol (DPSD) as white crystals [mp 144 ° C, yield of 86%, 1 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 )? 7.78, 7.78, 7.76, 7.75, 7.51, 7.49, 7.49, 7.47, 7.45, 7.43, 2.86, 2.23, 2.22, 2.22, 2.22, 0.27, 0.26].

단계 2: 에폭시-올리고실록산(E0) 합성Step 2: Synthesis of epoxy-oligosiloxane (E0)

반응식 1-2Scheme 1-2

Figure 112014051779862-pat00006
Figure 112014051779862-pat00006

500㎖ 플라스크에 (3-글리시독시프로필)트리메톡시실란(GPTMS) 11.82g(0.05 mol)와 수산화바륨 0.04g(0.2 mmol)을 넣고 오일 배스로 80℃를 유지하면서 교반하였다. 온도가 일정하게 유지되는 것을 확인한 후 아르곤 가스 분위기하에서 단계 1에서 제조된 디페닐실란디올(DPSD) 10.8g(0.05 mol)를 2시간 동안 천천히 첨가하며 교반하였다. 디페닐실란디올(DPSD) 첨가 초기에는 불투명한 용액에서 시간이 경과할수록 조금씩 투명해지는데, 첨가 완료 후 2시간 더 반응시키고 이후 감압하여 부산물로 생성된 메탄올을 모두 제거하여 맑고 투명한 생성물인 에폭시-올리고실록산(E0)을 얻었다. 이후 여과하여 촉매를 제거하고 다시 감압하여 수분 및 부산물을 재차 제거하였다[굴절률 1.54, 점도 2659 Cp, 1H-NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.68, 7.67, 7.65, 7.63, 7.62, 7.60, 7.59, 7.57, 7.54, 7.52, 7.47, 7.45, 7.44, 7.43, 7.42, 7.41, 7.39, 7.36, 7.34, 7.32, 7.29, 7.26, 7.23, 7.19, 7.17, 7.14, 7.13, 7.10, 3.64, 3.62, 3.57, 3.54, 3.52, 3.51, 3.50, 3.48, 3.48, 3.47, 3.44, 3.41, 3.40, 3.39, 3.38, 3.37, 3.36, 3.34, 3.31, 3.30, 3.29, 3.28, 3.27, 3.26, 3.25, 3.22, 2.54, 2.53, 1.62, 1.25, 0.65, 0.61]. 11.82 g (0.05 mol) of (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane (GPTMS) and 0.04 g (0.2 mmol) of barium hydroxide were placed in a 500 ml flask and stirred while being maintained at 80 ° C in an oil bath. After confirming that the temperature was kept constant, 10.8 g (0.05 mol) of diphenylsilanediol (DPSD) prepared in Step 1 was slowly added thereto under an argon gas atmosphere for 2 hours and stirred. At the beginning of the addition of diphenylsilanediol (DPSD), the opaque solution gradually became transparent as time elapsed. After the completion of the addition, the reaction was further continued for 2 hours and then the decompression was performed to remove all of the methanol generated as a by-product to obtain a transparent and transparent product, To obtain a siloxane (E0). 7.60, 7.63, 7.62, 7.60, 7.59 ( 1 H-NMR) (300 MHz, CDCl 3 ) 隆 7.68, 7.67, 7.65, 7.63 , 7.57, 7.54, 7.52, 7.47, 7.45, 7.44, 7.43, 7.42, 7.41, 7.39, 7.36, 7.34, 7.32, 7.29, 7.26, 7.23, 7.19, 7.17, 7.14, 7.13, 7.10, 3.64, 3.62, 3.57, 3.54 , 3.52, 3.51, 3.50, 3.48, 3.48, 3.47, 3.44, 3.41, 3.40, 3.39, 3.38, 3.37, 3.36, 3.34, 3.31, 3.30, 3.29, 3.28, 3.27, 3.26, 3.25, 3.22, 2.54, 2.53, 1.62 , 1.25, 0.65, 0.61].

단계 3: 프탈릭 언하이드라드 경화제를 이용한 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 합성Step 3: Synthesis of epoxy-based polysiloxane resin using phthalic anhydride curing agent

경화제로서, 프탈릭산 무수물(phthalic anhydride) 1.93g(13 mmol)과 THF 20㎖를 250㎖ 플라스크에 넣어 아르곤 가스 분위기하에서 교반하였다. 완전히 용해된 후 상기 단계 2에서 수득된 에폭시-올리고실록산(E0) 수지 5g(13 mmol)과 N,N-디메틸벤질아민 18mg(0.013 mmol)을 첨가하여 3시간 동안 교반하였다. 이후, 감압하여 용매를 모두 날려 백색의 점성이 있는 하기 반응식 1-3의 생성물을 얻을 수 있다. 상기 얻어진 생성물을 제작된 틀에 넣은 후 Ar 가스로 치환된 데시케이터에 넣어 오븐에서 경화하였다.As a curing agent, 1.93 g (13 mmol) of phthalic anhydride and 20 ml of THF were placed in a 250 ml flask and stirred under an argon gas atmosphere. After completely dissolved, 5 g (13 mmol) of the epoxy-oligosiloxane (E0) resin obtained in the above step 2 and 18 mg (0.013 mmol) of N, N- dimethylbenzylamine were added and stirred for 3 hours. Thereafter, the product is depressurized to blow off all of the solvent to obtain a white viscous product of the following Reaction Schemes 1-3. The obtained product was placed in a mold, and then placed in a desiccator substituted with Ar gas and cured in an oven.

또한, 하기 반응식 1-4는 생성물인 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조공정 중 경화공정을 설명한 것으로서, 아민 촉매는 경화 개시제로서 내부 염들을 형성하기 위하여 무수의 고리를 분해한다. 아민 촉매로 일어나 카복실레이트 이온은 알콕사이드 에스테르를 만들기 위해 에폭시-올리고실록산(E0)의 에폭시 그룹과 반응하고, 생성된 알콕사이드 에스테르는 다시 카복실레이트 음이온 기능의 에스테르를 형성하기 위하여 무수물과 더 반응하며, 마지막으로 번갈아 가며 연속반응에 의해 올리고실록산 경화반응을 수행한다. The following Schemes 1-4 illustrate the curing process during the production of the epoxy-based polysiloxane resin, which is a product, and the amine catalyst decomposes anhydrous rings to form internal salts as a curing initiator. Amine catalyst, the carboxylate ion reacts with the epoxy group of the epoxy-oligosiloxane (E0) to form an alkoxide ester, and the resulting alkoxide ester reacts further with an anhydride to form an ester of a carboxylate anion function, To carry out the oligosiloxane curing reaction by a continuous reaction.

반응식 1-3Scheme 1-3

Figure 112014051779862-pat00007
Figure 112014051779862-pat00007

반응식 1-4Scheme 1-4

Figure 112014051779862-pat00008
Figure 112014051779862-pat00008

<실시예 2> 에폭시 기반의 폴리실록산 수지 합성 2Example 2 Synthesis of epoxy-based polysiloxane resin 2

경화제로서, 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)(4,4'-(4,4'-Isopropylidenediphenoxy)bis(phthalic anhydride)) 3.55g(6.5 mmol)을 사용하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여, 백색의 점성이 있는 생성물을 얻었다.As the curing agent, 3.55 g of 4,4 '- (4,4'-isopropylidenediphenoxy) bis (4,4'- (4,4'-Isopropylidenediphenoxy) bis (phthalic anhydride) (6.5 mmol) of triethylamine was used as the starting material, to obtain a viscous white product.

<비교예 1> &Lt; Comparative Example 1 &

경화제로서, 아세트산 무수물 1.31g(13 mmol)을 사용하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여, 투명한 생성물을 얻었다.A transparent product was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.31 g (13 mmol) of acetic anhydride was used as a curing agent.

<실시예 3> SiO2 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지 합성 Example 3 Synthesis of Epoxy-Based Polysiloxane Resin Containing SiO 2 Nanoparticles

30㎖ 유리병에 분산제로서 에틸렌글리콜 디메틸에테르 20㎖와 SiO2를 첨가하여 1 시간 동안 초음파 분산하였다. 이때, SiO2 는 전체 합성의 1몰% 비율로 계산하여 첨가하였다. 이후 250㎖ 플라스크에 옮겨 담고 프탈릭산 무수물 1.93g(13 mmol)을 넣어 아르곤 가스분위기에서 교반하였다. 모두 녹은 것을 확인한 후, 실시예 1의 단계 2에서 수득된 에폭시-올리고실록산(E0) 수지 5g(13 mmol)과 N,N-디메틸벤질아민 18mg(0.013 mmol)을 첨가하여 3시간 동안 교반하였다. 이후, 감압하여 용매를 모두 날려 백색의 점성이 있는 하기 반응식 2의 생성물을 얻을 수 있다. 상기 얻어진 생성물을 제작된 틀에 넣은 후 아르곤 가스로 치환된 데시케이터에 넣어 120℃로 유지된 오븐에서 60 분 동안 경화하였다. 하기 반응식 2에서

Figure 112014051779862-pat00009
는 SiO2 나노입자이다.20 ml of ethylene glycol dimethyl ether and SiO 2 were added to a 30 ml glass bottle as a dispersing agent and ultrasonically dispersed for 1 hour. At this time, SiO 2 Was calculated by adding 1 mol% of the total synthesis. Then, the flask was transferred into a 250 ml flask, and 1.93 g (13 mmol) of phthalic anhydride was added thereto and stirred in an argon gas atmosphere. 5 g (13 mmol) of the epoxy-oligosiloxane (E0) resin obtained in the step 2 of Example 1 and 18 mg (0.013 mmol) of N, N- dimethylbenzylamine were added thereto and stirred for 3 hours. Thereafter, the product is depressurized to blow off all of the solvent to obtain a white viscous product of the following reaction formula (2). The resulting product was placed in a mold and placed in a desiccator substituted with argon gas and cured in an oven maintained at 120 ° C for 60 minutes. In the following Reaction Scheme 2
Figure 112014051779862-pat00009
Are SiO 2 nanoparticles.

반응식 2Scheme 2

Figure 112014051779862-pat00010
Figure 112014051779862-pat00010

<실험예 1> 가교제의 물성측정Experimental Example 1 Measurement of Physical Properties of Crosslinking Agent

상기 실시예 1∼3 및 비교예 1의 각 단계 3에서 제조된 경화제에 따른 경화온도와 경화시간을 하기 표 1에 기재하였다. The curing temperature and curing time according to the curing agent prepared in Step 3 of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 are shown in Table 1 below.

Figure 112014051779862-pat00011
Figure 112014051779862-pat00011

<실험예 2> 수지의 물성평가<Experimental Example 2> Evaluation of physical properties of resin

상기 실시예 1∼3과 비교예 1에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대하여, 경도계(Durometer, GS-702N) 및 굴절계(NAR-1T SOLID)를 이용하여 경도 및 굴절률을 측정하였다. The hardness and refractive index of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were measured using a durometer (GS-702N) and a refractometer (NAR-1T SOLID).

또한 시간별로 경도를 측정하여 경화 정도를 측정하였고, 경화는 아르곤 가스로 치환된 데시케이터 내부에서 진행되었으며 120℃로 유지된 오븐을 사용하였다. 이때, 각 샘플의 측정은 5 분 간격으로 측정하였다. The degree of hardening was measured by measuring the hardness with time. The hardening was carried out in a desiccator substituted with argon gas and an oven maintained at 120 ° C. was used. At this time, the measurement of each sample was performed at intervals of 5 minutes.

굴절률은 각 수지를 10×40×1mm 크기로 제작하여 굴절계(Reflectometer, NAR-1TSOLID)를 이용하여 측정하였으며, 이때, 굴절계의 기판과 샘플 사이의 틈으로 인한 오차를 제거하기 위하여, 모노브로모나프탈렌을 사용하였다. The refractive index was measured using a refractometer (NAR-1 TSOLID) manufactured by making each resin to have a size of 10 x 40 x 1 mm. At this time, in order to eliminate the error due to the gap between the substrate and the sample of the refractometer, monobromonaphthalene Were used.

또한, 상기 실시예 1∼3과 비교예 1에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 투과율은 10×40×1mm 크기로 제작하여 자외선 분광기(UV-vis spectrometer, UV-2401 PC, Shimazu)를 이용하여 측정하였다. The transmittance of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was 10 × 40 × 1 mm and UV-vis spectrometer (UV-2401 PC, Shimazu) was used Respectively.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 시간별 경도 측정결과로서, 경도는 60 분 이후부터는 더 이상 증가하지 않았고 최대 경도 78을 확인하였다. FIG. 1 shows the hardness of the epoxy-based polysiloxane resin according to Example 1 of the present invention as a result of time-hardness measurement. The hardness was no longer increased after 60 minutes, and the maximum hardness was 78.

또한, LED 봉지재의 굴절률은 향상된 빛 방출 효율을 통해 백색 및 고출력 LED 에서 높은 발광효율을 실현하는데 중요한 요소이다. 이에, 본 발명의 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 굴절률은 많은 페닐 그룹이 존재하기 때문에 그들의 구성요소와 관계없이 1.58 이상의 높은 굴절률이 측정되었다.In addition, the refractive index of the LED encapsulant is an important factor for achieving high luminous efficiency in white and high output LEDs through improved light emission efficiency. Thus, the refractive index of the epoxy-based polysiloxane resin of the present invention was measured to be 1.58 or more, regardless of the components thereof, because many phenyl groups existed.

도 2는 실시예 1에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 투과율 평가 사진과 광투과율 스펙트럼결과로서, 본 발명의 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 투과율은 460nm 영역에서 약 94%로 확인되었으며, 컬러문양을 비춘 사진결과, 육안상으로 투명성을 확인하였다. FIG. 2 is a photograph of the transmittance evaluation photograph and the light transmittance spectrum of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 1, wherein the transmittance of the epoxy-based polysiloxane resin of the present invention was confirmed to be about 94% in the region of 460 nm, As a result of photographing, the transparency was visually confirmed.

도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 시간별 경도 측정결과로서, 경도는 60 분 이후부터는 더 이상 증가하지 않았고 최대 경도 70을 확인하였으며, 굴절률은 약 1.57이었다.FIG. 3 shows the results of measuring the hardness of the epoxy-based polysiloxane resin impregnated with the nanoparticles according to Example 1 of the present invention over time. The hardness was no longer increased after 60 minutes, the maximum hardness was 70, and the refractive index was about 1.57 .

도 4는 상기 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 투과율 평가 사진과 광투과율 스펙트럼결과로서, SiO2 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 육안으로 투명성을 확인가능하고, 스펙트럼 결과 460 nm 영역에서 90%의 투과율을 확인하였다. 4 is a transmittance evaluation images and the light transmittance spectrum results for the polysiloxane resins of the nanoparticles incorporated epoxy-based, SiO 2 The epoxy-based polysiloxane resin in which the nanoparticles were embedded had transparency visually, and showed a transmittance of 90% in the 460 nm region as a result of spectral analysis.

도 5는 본 발명의 실시예 2에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 적외선 스펙트럼을 비교분석 결과로서, 출발물질인 에폭시 올리고실록산(EO)와 합성물질인 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 적외선 스펙트럼 비교결과, 반응 후 사이클로디에테르(-C-O-C-) 그룹과 에폭시 그룹의 결합을 비교한 결과, 반응 전후에 각각의 사이클로디에테르(-C-O-C-) 그룹과 에폭시 그룹의 결합이 반응하여 사라지므로 반응 완료를 확인할 수 있었다.FIG. 5 is a graph comparing the infrared spectrum of an epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 2 of the present invention with that of an epoxy oligosiloxane (EO) as a starting material and an epoxy-based polysiloxane resin as a synthetic material As a result, after the reaction, the bonding between the cyclodiether (-COC-) group and the epoxy group was compared. As a result, the bonding between the cyclodiether (-COC-) group and the epoxy group disappeared before and after the reaction, I could confirm.

도 6은 본 발명의 실시예 2에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 파장에 따른 굴절률 변화 결과로서, 굴절률 1.52 이상의 결과를 확인하였다.FIG. 6 shows the results of the refractive index change according to the wavelength of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 2 of the present invention, showing a refractive index of 1.52 or more.

도 7은 본 발명의 실시예 2에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 열중량 분석(TGA)의 결과로서, 가열 중에 재료 안에 일어나는 무게 변화를 측정하고, 온도에 따른 질량 변화를 측정하여, 출발물질인 에폭시 올리고실록산(EO)와 합성물질인 에폭시 기반의 폴리실록산 수지 각각의 열중량 분석(TGA) 결과, 200℃ 이상의 온도에서 열적 안정성을 확인하였다.7 is a graph showing the results of thermogravimetric analysis (TGA) of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 2 of the present invention by measuring the weight change taking place in the material during heating and measuring the mass change with temperature, The thermogravimetric analysis (TGA) of epoxy oligosiloxane (EO) and epoxy-based polysiloxane resin, which is a synthetic material, confirmed the thermal stability at a temperature of 200 ° C or higher.

Figure 112014051779862-pat00012
Figure 112014051779862-pat00012

상기 결과로부터, 종래 경화제인 비교예 1의 비방향족 그룹의 무수 경화제를 사용한 경우 12시간(720분) 이상에도 경화되지 않으므로, 경화시간 측면에서 실시예 1 및 2의 방향족 그룹의 무수 경화제를 사용한 경우, 12 시간이상 단축할 수 있고, 보다 높은 투과율과 굴절률을 유지하는 결과를 확인하였다. From the above results, it can be seen that when a non-aromatic group anhydride curing agent of Comparative Example 1, which is a conventional curing agent, was used, it was not cured for more than 12 hours (720 minutes). Therefore, in the case of using an anhydride curing agent of the aromatic groups of Examples 1 and 2 , It is possible to shorten more than 12 hours, and it is confirmed that the higher transmittance and the refractive index are maintained.

또한, 실시예 1 대비, SiO2 나노입자가 함입된 실시예 3의 경우, 굴절률, 경도 및 투과율은 다소 감소한 결과를 확인하였다. Further, compared to Example 1, SiO 2 In Example 3 in which nanoparticles were incorporated, the refractive index, hardness, and transmittance were somewhat reduced.

이러한 결과는 SiO2 의 굴절률은 1.46으로서, 나노입자가 함입되면 나노입자의 굴절률에 가깝게 변한다는 결과를 확인하였다. 이에, 굴절률이 높은 TiO2 또는 순수한 Si 나노입자를 첨가할 경우, 굴절률 증가 가능성을 제시한다. 또한, SiO2 나노입자의 굴절률이 1.5 이하임에도 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 굴절률이 여전이 높게 측정된 것은 페닐 그룹이 많이 포함되었기 때문이다. These results show that the refractive index of SiO 2 is 1.46, which is close to the refractive index of the nanoparticles when the nanoparticles are incorporated. Thus, the addition of TiO 2 or pure Si nanoparticles with a high refractive index suggests the possibility of increasing the refractive index. Further, SiO 2 The refractive index of the epoxy-based polysiloxane resin was still high even though the refractive index of the nanoparticles was 1.5 or less because the phenyl group was included in a large amount.

이상의 결과로부터, 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 굴절률이 제어된 나노입자를 함입함으로써, 수지의 굴절률을 조절할 수 있고, 경도를 낮춰 좀 더 유연한 수지의 개발이 가능함을 제시하였다. From the above results, it has been suggested that the refractive index of the resin can be controlled by incorporating the nanoparticles with controlled refractive index into the epoxy-based polysiloxane resin, and the resin having a lower hardness can be developed with more flexibility.

<실험예 3> 수지의 내열성 평가<Experimental Example 3> Evaluation of heat resistance of resin

상기 실시예 1에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지와 실시예 3에서 제조된 SiO2 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대하여, 최초 경화 직후를 기준으로 내열성을 관찰하였으며, 24 시간과 48 시간 동안 120℃의 조건에서 열적 에이징 후 변화하는 투과율 측정(UV-vis spectrometer, UV-2401 PC, Shimazu)을 통해 내열성을 평가하였다. The heat resistance of the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Example 1 and the epoxy-based polysiloxane resin impregnated with SiO 2 nanoparticles prepared in Example 3 was observed immediately after the initial curing, and the heat resistance was measured for 24 hours and 48 hours (UV-vis spectrometer, UV-2401 PC, Shimazu) after thermal aging at 120 ° C for 30 minutes.

도 8은 본 발명의 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대하여 나노입자 함입 유무에 따른 내열성 평가결과로서, (a) 스펙트럼은 실시예 1의 에폭시 기반의 폴리실록산 수지이고, (b) 스펙트럼은 실시예 3의 SiO2 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에 대한 결과이다. 각 스펙트럼에서, 초기의 투과율은 적색, 24 시간 경과후의 투과율은 청색, 48 시간 경과 후의 투과율은 녹색으로 표현하였다.8 shows that the epoxy-based polysiloxane resin of the present invention was evaluated for heat resistance with or without nanoparticle impregnation, wherein (a) the spectrum was the epoxy-based polysiloxane resin of Example 1, and (b) 2 Based polysiloxane resin with nanoparticles incorporated therein. In each spectrum, the initial transmittance is expressed in red, the transmittance after 24 hours is represented by blue, and the transmittance after 48 hours is represented by green.

Figure 112014051779862-pat00013
Figure 112014051779862-pat00013

도 8 및 상기 표 3의 결과, 실시예 1 및 3에서 제조된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 120℃에서 24 시간과 48 시간 동안 열적 저항에 대하여, 초기 투과율대비 최대 15% 이내의 변화거동을 보임으로써, 안정적인 내열성을 확인하였다. 이에, 본 발명의 수지를 이용한 LED 봉지재는 황변현상에 내성이 있음을 뒷받침한다.8 and Table 3, the epoxy-based polysiloxane resin prepared in Examples 1 and 3 exhibited a maximum variation of 15% or less with respect to the initial transmittance for thermal resistance at 120 ° C for 24 hours and 48 hours , And stable heat resistance was confirmed. Thus, the LED encapsulant using the resin of the present invention supports the resistance to yellowing.

상기에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 높은 온도에서 고굴절과 고투명이 유지되는 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지를 제공하였다. As described above, the present invention provides a high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin which maintains high transparency at high temperature and high transparency.

이에, 본 발명의 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED 봉지재는 종래의 LED 봉지재로 사용된 에폭시 수지와 실리콘 수지 각각의 단점을 보완함으로써, 굴절률과 투명성을 높은 온도에서도 유지할 수 있어 황변현상을 최소화할 수 있다.Accordingly, the LED encapsulant made of the ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin of the present invention can maintain the refractive index and transparency at a high temperature by complementing the disadvantages of the epoxy resin and the silicone resin used in the conventional LED encapsulant, Can be minimized.

또한, 본 발명의 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 굴절율이 다른 나노입자를 더 함입함으로써, 초기 수지의 굴절률, 투명성은 유지하면서 나노입자의 굴절률에 따라 최종 수지의 굴절률이 제어될 수 있다. In addition, the ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin of the present invention can further control the refractive index of the final resin according to the refractive index of the nanoparticles while maintaining the refractive index and transparency of the initial resin by further incorporating nanoparticles having different refractive indexes.

나아가, 본 발명에서는 굴절률이 1.46의 SiO2 나노입자가 함입된 에폭시 기반의 폴리실록산 수지는 굴절률, 투명성은 유지하면서 낮아진 경도에 의해 유연한 수지를 제공하였다. Further, in the present invention, SiO 2 having a refractive index of 1.46 The epoxy-based polysiloxane resin containing nanoparticles provided a flexible resin by lowering the hardness while maintaining the refractive index and transparency.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims (10)

에폭시 올리고실록산 및 방향족 그룹의 무수 경화제가 열 경화된 것으로서,
(1) 굴절률 1.50 이상,
(2) 투과율 90% 이상 및
(3) 경화시간 60분 이내인
초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지로 이루어진 LED용 봉지재.
The epoxy oligosiloxane and the aromatic group anhydride curing agent are thermosetting,
(1) a refractive index of 1.50 or more,
(2) a transmittance of 90% or more and
(3) Curing time is less than 60 minutes
An encapsulant for LED comprising an ultra-fast cure epoxy based polysiloxane resin.
제1항에 있어서, 상기 방향족 그룹의 무수 경화제가 120∼180℃의 경화조건에서 투명성이 유지되면서 60분 이내에 초고속 경화성이 구현되는 것을 특징으로 하는 LED용 봉지재.The encapsulating material for LED according to claim 1, wherein the anhydrous curing agent of the aromatic group has transparency under a curing condition of 120 to 180 캜 and realizes ultra-fast curing within 60 minutes. 제1항에 있어서, 상기 방향족 그룹의 무수 경화제가 프탈릭산 무수물 또는 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)인 것을 특징으로 하는 LED용 봉지재.The LED according to claim 1, wherein the aromatic group anhydride curing agent is phthalic anhydride or 4,4 '- (4,4'-isopropylidenediphenoxy) bis (phthalic anhydride) Sealing material. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지가 120℃ 온도조건에서 적어도 48 시간 동안의 투과율변화가 15% 이하의 내열성을 가지는 것을 특징으로 하는 LED용 봉지재.The encapsulating material for LED according to claim 1, wherein the ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin has heat resistance of not more than 15% in transmittance change for at least 48 hours at a temperature of 120 캜. 제1항에 있어서, 상기 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에, SiO2 나노입자, TiO2 나노입자 또는 Si 나노입자가 합입된 것을 특징으로 하는 LED용 봉지재.The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the ultra-high-speed curing epoxy-based polysiloxane resin is SiO 2 Nanoparticles, TiO 2 nanoparticles, or Si nanoparticles are incorporated. 제1항에 있어서, 상기 초고속 경화형 에폭시 기반의 폴리실록산 수지에, 굴절률 1.50 이하의 SiO2 나노입자가 함입되어,
(1) 굴절률 1.50 이상의 고굴절성 및
(2) 투과율 90% 이상의 고투명성이 유지되는 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 LED용 봉지재.
The method according to claim 1, wherein SiO 2 nanoparticles having a refractive index of 1.50 or less are embedded in the ultra-high-speed curable epoxy-
(1) high refractive index with a refractive index of 1.50 or higher and
(2) A resin encapsulant for LED, which has a high transparency of 90% or more.
에폭시기를 포함하는 유기알콕시실란(3)과 유기실란디올(4)이 졸-겔반응에 의해 에폭시-올리고머실란(2)를 합성하고,
상기 에폭시-올리고머실란(2)를 방향족 그룹의 무수 경화제로 120∼180℃에서 열경화하여 에폭시 기반의 폴리실록산 수지(1)를 수득하는 것으로 이루어진 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조방법:
반응식 1
Figure 112014051779862-pat00014

상기에서, R1 내지 R3은 각각 직쇄 또는 분지쇄의 C1∼C7 알킬기이다.
An epoxy-oligomer silane (2) was synthesized by sol-gel reaction between an organoalkoxysilane (3) containing an epoxy group and an organosilane diol (4)
Thermosetting the epoxy-oligomeric silane (2) with an aromatic group anhydride curing agent at 120 to 180 캜 to obtain an epoxy-based polysiloxane resin (1).
Scheme 1
Figure 112014051779862-pat00014

In the above, R 1 to R 3 are each a linear or branched C 1 to C 7 alkyl group.
제8항에 있어서, 상기 방향족 그룹의 무수 경화제가 프탈릭산 무수물 또는 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭산 무수물)인 것을 특징으로 하는 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조방법.The epoxy-based resin composition according to claim 8, wherein the aromatic group anhydride curing agent is phthalic anhydride or 4,4 '- (4,4'-isopropylidenepiperoxy) bis (phthalic anhydride) Of the polysiloxane resin. 제8항에 있어서, 상기 열경화 반응이 SiO2 나노입자, TiO2 나노입자 또는 Si 나노입자에서 선택되는 어느 하나가 분산된 용액하에 수행되도록 하여, 나노입자가 합입되도록 한 것을 특징으로 하는 에폭시 기반의 폴리실록산 수지의 제조방법.
The method of claim 8, wherein the thermal curing reaction is SiO 2 Nanoparticles, TiO 2 Nanoparticles or Si nanoparticles are dispersed in a solution to allow the nanoparticles to be incorporated.
KR1020140066552A 2014-05-30 2014-05-30 Led encapsulant containing ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin and manufacturing method of epoxy-based polysiloxane resin KR101601887B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140066552A KR101601887B1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Led encapsulant containing ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin and manufacturing method of epoxy-based polysiloxane resin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140066552A KR101601887B1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Led encapsulant containing ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin and manufacturing method of epoxy-based polysiloxane resin

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150139042A KR20150139042A (en) 2015-12-11
KR101601887B1 true KR101601887B1 (en) 2016-03-10

Family

ID=55020285

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140066552A KR101601887B1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Led encapsulant containing ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin and manufacturing method of epoxy-based polysiloxane resin

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101601887B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101787728B1 (en) 2016-10-07 2017-10-18 한국생산기술연구원 An adhesive composition comprising polythiol and oligosiloxane hardner

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5489280B2 (en) * 2010-04-07 2014-05-14 信越化学工業株式会社 Epoxy composition for optical semiconductor encapsulation

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101787728B1 (en) 2016-10-07 2017-10-18 한국생산기술연구원 An adhesive composition comprising polythiol and oligosiloxane hardner

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150139042A (en) 2015-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101865150B1 (en) Silicon-containing curable composition and cured product of same
KR100980270B1 (en) Siloxane resin for LED encapsulation
KR101296082B1 (en) Silicone resin composition; and usage method for silicone resin-containing structure using same, optical semiconductor element sealed body using same, and said silicone resin composition using same
JP5945450B2 (en) High refractive index curable liquid light emitting diode encapsulant formulation
US20100291374A1 (en) Composites Comprising Nanoparticles
JP2004359933A (en) Sealing material for optical element
JP2011190413A (en) Siloxane polymer crosslinking-cured product
KR101472829B1 (en) Curable composition, cured product, photo-semiconductor device, and polysiloxane
KR101251553B1 (en) Siloxane Resin Composition for LED Encapsulants
JP2013159776A (en) Silicon-containing curable white resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor package and reflecting material using the cured product
US10435420B2 (en) High-RI siloxane monomers, their polymerization and use
JP2015155541A (en) Siloxane polymer crosslinked cured product
KR101454798B1 (en) Siloxane cross linker for sealing material of light emitting diode
KR100976461B1 (en) Transparent resin for encapsulation material and electronic device including the same
JP2016000768A (en) Condensation-curing type silicone resin, curable silicone resin composition, and semiconductor device member
KR101601887B1 (en) Led encapsulant containing ultra-fast curing epoxy-based polysiloxane resin and manufacturing method of epoxy-based polysiloxane resin
JP5866253B2 (en) Method for manufacturing a light emitting diode
KR20210098982A (en) Condensation curable resin composition, cured product, molded article and semiconductor device
KR20140083619A (en) Siloxane monomer and composition for encapsulant and encapsulant and electronic device
KR101607956B1 (en) Led encapsulant containing siloxane hybrid resin
KR20140098679A (en) Curable resin composition, and resin composition for optical semiconductor sealing
JP6766334B2 (en) Organosilicon compounds, thermosetting compositions containing the organosilicon compounds, and encapsulants for opto-semiconductors.
TWI745348B (en) Curable composition containing silicon and its cured product
JP2013091772A (en) Condensation-curable polysiloxane composition
JP2011153165A (en) Epoxy resin composition for optical semiconductor device, cured product thereof, and optical semiconductor device obtained by using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191219

Year of fee payment: 5