KR101469318B1 - Transparent laminate having anti-reflection film and the method for manufacturing the same - Google Patents

Transparent laminate having anti-reflection film and the method for manufacturing the same Download PDF

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권대훈
전윤기
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(주)엘지하우시스
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Abstract

유리기판상에 굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; A first high refractive index layer is formed from a refractive index of 1.55 to 2.75 of the high refractive index material on a glass substrate; 굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; 및 굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하고, 상기 반사방지막은 열처리되어 내구성이 우수한 투명적층체를 제공한다. And a refractive index of the antireflection film comprises a high refractive index layer 2 are laminated sequentially is formed from 1.55 to 2.75 of the high refractive index material, and the anti-reflection film is heat-treated to provide a transparent laminate excellent in durability.
유리기판상에 굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; A first high refractive index layer is formed from a refractive index of 1.55 to 2.75 of the high refractive index material on a glass substrate; 굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; 및 굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하는 투명적층체 제조방법에 있어서, 상기 제 1 고굴절층, 상기 저굴절층 및 상기 제 2 고굴절층이 스퍼터링 또는 이온 플레이팅 방법으로 형성되는 투명적층체 제조방법을 제공한다. And a refractive index of the transparent laminated body production method that includes the anti-reflection film sequentially stacked second high refractive index layer formed of 1.55 to 2.75 of the high refractive index material, wherein the first high refractive index layer, the low refractive index layer and the second high refractive index layer It provides a method for producing a transparent laminate formed by a sputtering or ion plating method.

Description

반사방지막을 포함하는 투명적층체 및 그의 제조방법{TRANSPARENT LAMINATE HAVING ANTI-REFLECTION FILM AND THE METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME} A transparent laminate and a method of manufacturing the same, including the anti-reflection film {TRANSPARENT LAMINATE HAVING ANTI-REFLECTION FILM AND THE METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

반사방지막을 포함하는 투명적층체 및 그의 제조방법에 관한 것이다. Transparent layered product comprising a anti-reflection film and a process for their preparation.

종래에 반사방지막을 포함하는 투명적층체의 경우, 반사방지막의 내구성이 좋지 않아 투명적층체를 적용하는 제품의 가공 및 설치시 코팅막에 손상이 발생하였다. In the case of a transparent layered product comprising a anti-reflection film in the prior art, a damage was caused in the coating film during the processing and installation of the product for which the durability of the anti-reflective coating applied to the transparent layered product is not good. 또한, 스퍼터링을 통한 반사방지막의 증착은 반사방지막의 일정 부분만 내구성을 향상 시키는 단점이 있었다. In addition, deposition of anti-reflective film by sputtering was a disadvantage to improve the durability, only a portion of the anti-reflection film.

대한민국 특허공개공보 제 10-2011-0121188호의 반사방지 박막을 갖는 투명유리는 실리카 성분을 주성분으로 하는 다공성의 유리질층을 코팅하여 반사방지 박막을 형성하고 있을 뿐, 반사방지막의 내구성 향상에 관해서는 기재되어 있지 않다. Republic of Korea Patent Publication No. 10-2011-0121188 transparent glass having a favorable anti-reflection films are described as to be the coating a layer of porous glass mainly composed of silica to form an anti-reflection thin film as well, an increase in the durability of the anti-reflection film it is not.

본 발명의 일구현예는 내구성이 향상된 반사방지막을 포함하는 투명적층체를 제공한다. In one embodiment of the present invention provides a transparent laminate durability, including improved anti-reflection film.

본 발명의 다른 구현예는 상기 투명적층체를 제조하는 방법을 제공한다. Another embodiment of the present invention provides a method for producing the transparent laminate.

본 발명의 일 구현예에서, 유리기판상에 굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; In one embodiment, the first high refractive index layer is formed from a refractive index of the high refractive index material 1.55 to 2.75 on a glass substrate; 굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; 및 굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하고, 상기 반사방지막은 열처리되어 내구성이 우수한 투명적층체를 제공한다. And a refractive index of the antireflection film comprises a high refractive index layer 2 are laminated sequentially is formed from 1.55 to 2.75 of the high refractive index material, and the anti-reflection film is heat-treated to provide a transparent laminate excellent in durability.

상기 고굴절 물질은 주석(Sn), 아연(Zn), 세륨(Ce), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 인듐(In), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 니오븀(Nb), 탄타륨(Ta) 및 이들 조합의 산화물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 물질로 이루어질 수 있다. The high refractive index material is tin (Sn), zinc (Zn), cerium (Ce), zirconium (Zr), aluminum (Al), indium (In), tungsten (W), titanium (Ti), niobium (Nb), carbon taryum may be formed of at least one material selected from the group consisting of (Ta) oxide, and combinations of these.

상기 고굴절 물질은 산화지르코늄으로 이루어질 수 있다. The high refractive index material may be made of zirconium oxide.

상기 저굴절 물질이 실리콘산화물(SiO 2 ), 실리콘산질화물(SiOxNy), 플루오르화마그네슘(MgF 2 ), 플루오르화바륨(BaF 2 ) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 물질로 이루어질 수 있다. The low refractive index material is silicon oxide (SiO 2), silicon oxynitride (SiOxNy), magnesium fluoride (MgF 2), barium fluoride (BaF 2) and be formed of at least one material selected from the group consisting of have.

상기 반사방지막의 태양광 투과율이 85% 내지 98% 일 수 있다. The solar light transmittance of the reflective film may be 85% to 98%.

상기 반사방지막의 헤이즈가 0.01% 내지 0.5% 일 수 있다. The haze of the anti-reflection can be from 0.01% to 0.5%.

상기 투명적층체를 pH 2, 온도 38℃인 용액에 10분 동안 방치하고, 상기 투명적층체를 방치하기 전과 방치한 후의 태양광 투과율 차이가 0.5이하일 수 있다. Allowed to stand for 10 minutes, the transparent laminate to the pH 2, temperature 38 ℃ solution, and the solar transmittance difference before and after being left to stand for the transparent laminate can be 0.5 or less.

상기 투명적층체를 pH 2, 온도 38℃인 용액에 10분 동안 방치하고, 상기 투명적층체를 방치하기 전과 방치한 후의 헤이즈 차이가 0.2이하일 수 있다. Allowed to stand for 10 minutes, the transparent laminate to the pH 2, temperature 38 ℃ solution, and the haze difference before and after being left to stand for the transparent laminate can be 0.2 or less.

본 발명의 다른 구현예에서, 유리기판상에 굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; In another embodiment of the invention, the first high refractive index layer is formed from a refractive index of the high refractive index material 1.55 to 2.75 on a glass substrate; 굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; 및 굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하는 투명적층체 제조방법에 있어서, 상기 제 1 고굴절층, 상기 저굴절층 및 상기 제 2 고굴절층이 스퍼터링 또는 이온 플레이팅 방법으로 형성되는 투명적층체 제조방법을 제공한다. And a refractive index of the transparent laminated body production method that includes the anti-reflection film sequentially stacked second high refractive index layer formed of 1.55 to 2.75 of the high refractive index material, wherein the first high refractive index layer, the low refractive index layer and the second high refractive index layer It provides a method for producing a transparent laminate formed by a sputtering or ion plating method.

상기 제 1고굴절층, 상기 저굴절층 및 상기 제 2고굴절층을 순차적으로 적층하여 반사방지막을 형성한 후, 상기 반사방지막을 300℃ 내지 600℃의 온도에서 열처리 하는 단계를 포함할 수 있다. The first can include the step of heat treatment in the first high refractive index layer, the low refractive index layer and the second after forming the anti-reflection film by stacking a high refractive index layer 2, the temperature of the anti-reflection film 300 ℃ to 600 ℃.

상기 열처리는 5분 내지 30분 동안 수행하는 것을 특징으로 한다. The heat treatment is characterized in that it is conducted for from 5 minutes to 30 minutes.

상기 투명적층체는 외부로부터 인입되는 태양광의 표면반사를 억제하고, 태양광의 발전효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. The transparent laminate has an effect capable of suppressing the surface reflection of sunlight incoming from the outside, and improve the power generation efficiency of solar light.

상기 투명적층체는 내구성이 향상되어 외부압력 및 충격에 영향을 받지 않을 수 있다. The transparent laminate can be improved in durability not affected by external pressure or impact.

도 1은 본 발명의 일구현예에 따른 투명적층체의 개략적인 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent laminate according to one embodiment of the present invention.
도 2는 상기 투명적층체의 반사방지막을 열처리하는 개략적인 단면도이다. Figure 2 is a schematic cross-sectional view of heat-treating an antireflection film of the transparent laminate.
도 3은 실시예1 및 비교예1의 태양광 투과율을 측정한 결과를 그래프로 나타낸 것이다. Figure 3 illustrates the results of the measurement in Example 1 and the solar transmittance of the Comparative Example 1 in a graph.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. It will now be described in detail so that the invention can be easily implemented by those of ordinary skill, in which with respect to the embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. The invention is not be implemented in many different forms and limited to the embodiments set forth herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다. Parts not related to the description in order to clearly describe the present invention was omitted, so as to put the same reference numerals for the same or similar elements throughout the specification.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. In order to clearly express various layers and regions in the drawings it is shown on an enlarged scale, a thickness. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. And in the drawing, for convenience of description, it is shown exaggerated in thickness of some layers and areas. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. Layer, film, region, when there is "on" another part "on" portion of the plate or the like, which, as well as if the "just above" the other part also includes the case that the other element or intervening. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. Conversely, when any part of the other part says, "just above" it means that there is no other part in the middle.

이하, 본 발명에 대해서 상세히 설명한다. Will now be described in detail the invention.

투명적층체 Transparent laminate

본 발명의 일 구현예는 유리기판상에 굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; In one embodiment of the present invention comprises a first high refractive index layer is formed from a refractive index of the high refractive index material is 1.55 to 2.75 on a glass substrate; 굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; 및 굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하고, 상기 반사방지막은 열처리되어 내구성이 우수한 투명적층체를 제공한다. And a refractive index of the antireflection film comprises a high refractive index layer 2 are laminated sequentially is formed from 1.55 to 2.75 of the high refractive index material, and the anti-reflection film is heat-treated to provide a transparent laminate excellent in durability.

도 1은 본 발명의 일구현예에 따른 투명적층체의 개략적인 단면도로, 상기 투명적층체(100)는 위로부터 유리기판(10), 제 1고굴절층(20), 저굴절층(30), 제 2고굴절층(40)을 포함한다. Figure 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent laminate according to one embodiment of the present invention, the transparent layered product 100 is a glass substrate from the top 10, the first high refractive index layer 20, low refractive index layer 30 the second comprises a high refractive index layer 40.

상기 유리기판(10)은 반드시 유리(glass)로 한정되는 것은 아니며 유리기판 상부에 반사방지막(50)이 형성될 수 있는 것이면 가능하다. Limited to the glass substrate 10 may be glass (glass), it is not possible as long as it can be an anti-reflection film 50 is formed on the upper glass substrate. 바람직하게는, 투명고분자 수지 등 통상의 액정표시장치에서 사용되는 다양한 종류 및 재질의 기판을 포함한다. Preferably, the transparent material and include a variety of substrates used in the conventional liquid crystal display device such as a polymeric resin. 또한, 사용목적에 따라 약 2mm 내지 약 10mm의 두께를 가지는 유리를 자유롭게 사용할 수 있다. In addition, it is possible to free the glass has a thickness of about 2mm to about 10mm use in accordance with the intended use.

본 발명의 일구현예로써, 상기 투명 적층체는 통상 태양광 유리, 태양광 전지, 태양관 발전장치 및 솔라(solar)셀 등에 사용되고, 반사율 저감 효과로 인해 액정시계, 휴대전화 등의 액정표시장치 및 액정표시장치 패널 등에 사용될 수 있다. As one embodiment of the invention, the transparent laminate is usually solar glass, solar cells, solar tube apparatuses and solar (solar) is used like a cell, the liquid crystal display devices such as liquid crystal clock, a mobile phone due to the reflection reducing effect and it may be used in the liquid crystal display panel.

상기 제 1고굴절층(20) 및 상기 제 2고굴절층(40)은 원하는 수준의 내구성 및 활용가능한 고굴절 물질의 굴절율 범위를 고려하였을 때 1.55 내지 2.75의 굴절율을 가질 수 있다. The first high refractive index layer 20 and the second high refractive index layer 40 may have a refractive index of 1.55 to 2.75 when considering the refractive index range of the desired level of durability, and can take advantage of the high refractive index material. 상기 제 1고굴절층 및 제 2고굴절층이 상기 굴절율 범위를 유지하고, 후술할 저굴절층과 함께 순차적으로 적층됨으로써 반사방지 효과를 가질 수 있다. By holding the first high refractive index layer and the second high refractive index layer is the refractive index range, and sequentially stacked together with the low refractive index layer which will be described later it may have a anti-reflection effect.

상기 제 1고굴절층(20) 및 상기 제 2고굴절층(40)의 두께는 반사방지막의 내구성을 원하는 수준으로 유지하기 위해서, 상기 제1 고굴절층(20)의 두께가 약 10nm 내지 약 35nm의 범위이고, 상기 제2 고굴절층(40)의 두께가 약 5nm 내지 약 15nm이다. The first high refractive index layer 20 and the second high refractive index thickness of the layer 40 in order to maintain a desired level of durability of the anti-reflection film, wherein the first high refractive index layer ranges in thickness of 20, from about 10nm to about 35nm and the thickness of the second high refractive index layer 40 is about 5nm to about 15nm. 상기 제 1고굴절층(20)의 두께가 상기 범위를 유지하고, 상기 제 2고굴절층(40)의 두께가 상기 범위를 유지함으로써 유리기판에 반사방지막 형성시 일반 투명 유리에 비해 투과율이 상승되는 효과를 가질 수 있다. Wherein the first thickness of the high refractive index layer 20, the aforesaid range, and the second high refractive index when the anti-reflection film formed on a glass substrate by the aforesaid range the thickness of the layer 40, the effect that the transmittance is raised as compared to normal clear glass the may have.

상기 고굴절 물질은 주석(Sn), 아연(Zn), 세륨(Ce), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 인듐(In), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 니오븀(Nb), 탄타륨(Ta) 및 이들 조합의 산화물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 물질로 이루어진다. The high refractive index material is tin (Sn), zinc (Zn), cerium (Ce), zirconium (Zr), aluminum (Al), indium (In), tungsten (W), titanium (Ti), niobium (Nb), carbon It is made from the group consisting of taryum (Ta), and oxides of these in combination with at least one material selected.

보다 구체적으로, 상기 고굴절 물질은 산화지르코늄(ZrO 2 )으로 이루어질 수 있는바, 상기 산화지르코늄을 최외각층인 제 2고굴절층에 사용함으로써 내구성을 높일 수 있고, 추후 서술할 열처리 공정을 거침으로써 산화지르코늄으로 형성된 제 2굴절층(40)이 반사방지막의 내구성 및 투명적층체의 반사방지 기능에도 우수한 영향을 미칠 수 있다. More specifically, the high refractive index material can improve the durability by using the above-mentioned zirconium oxide-bar, which may be made of zirconium (ZrO 2) oxidizing the outermost layer is the second high refractive index layer, a zirconium oxide, by performing the heat treatment process to be described later second refractive layer 40 formed in the can have an excellent effect on the durability and the anti-reflection function of the transparent laminate of the anti-reflection film.

상기 저굴절층(30)은 원하는 수준의 내구성 및 활용가능한 저굴절 물질의 굴절율 범위를 고려하였을 때 약 1.3 내지 1.54의 굴절율을 가질 수 있다. The low refractive index layer 30 when considering the refractive index range of the low refractive index material can take advantage of the durability and the desired level may have a refractive index of about 1.3 to 1.54. 상기 저굴절층이 상기 굴절율 범위를 유지하고, 전술한 제 1굴절층 및 제 2굴절층과 함께 순차적으로 적층됨으로써 반사방지 효과를 가진다 . By the low refractive index layer is holding the refractive index range, and sequentially stacked together with the first refraction layer and the second refraction layer described above has an anti-reflection effect.

상기 저굴절층(30)의 두께는 반사방지막의 내구성을 원하는 수준으로 유지하기 위해서 약 50nm 내지 약 180nm가 될 수 있다. The thickness of the low refractive index layer 30 may be about 50nm to about 180nm in order to maintain a desired level of durability of the anti-reflection film. 상기 저굴절층(30)의 두께가 상기 범위를 유지함으로써 반사방지막 형성시 일반 투명 유리에 비해 투과율이 상승되는 효과를 가질 수 있다. By the thickness of the low refractive index layer 30, the aforesaid range may have the effect that the transmittance is raised as compared to normal clear glass when forming the antireflection film.

상기 저굴절 물질은 실리콘산화물(SiO 2 ), 실리콘산질화물(SiOxNy), 플루오르화마그네슘(MgF 2 ), 플루오르화바륨(BaF 2 ) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 물질로 이루어질 수 있다. The low refractive index material may be formed of a silicon oxide (SiO 2), silicon oxynitride (SiOxNy), magnesium fluoride (MgF 2), barium fluoride (BaF 2) and at least one material selected from the group consisting of have.

보다 구체적으로, 상기 저굴절 물질은 실리콘산화물(SiO 2 )로 이루어질 수 있는바, 상기 실리콘산화물(SiO 2 )을 저굴절층에 사용함으로써 내구성을 높일 수 있고, 투명적층체의 반사방지 기능에도 우수한 영향을 미칠 수 있다. More specifically, the low refractive index material is silicon oxide (SiO 2) to the bar, the silicon oxide (SiO 2) which may be made to, and to improve the durability by using a low refractive index layer, excellent in anti-reflection function of the transparent laminate It can influence.

본 발명의 일구현예인 투명적층체(100)가 포함하는 반사방지막(50)은 제 1굴절층(20), 저굴절층(30), 제 2굴절층(40)이 순차적으로 적층된 것이다. Anti-reflective coating 50, which includes a work implement towing transparent laminate 100 of the present invention is the first refractive layer 20, the low refractive index layer 30, a second refractive layer 40 are sequentially stacked. 상기 투명적층체는 반사방지막을 포함함으로써 통상의 유리기판에 비하여 태양광 투과율을 상승시킬 수 있고, 나아가, 상기 반사방지막을 열처리함으로써 내구성이 우수한 상기 투명적층체(100)를 구현할 수 있다. The transparent laminate can implement excellent the transparent laminate 100 may enhance the durability by and solar transmittance, and further, heat-treating the anti-reflection film than the conventional glass substrate, by including an anti-reflection coating.

상기 열처리시 최외각층이 상기 제 2굴절층이 가장 많은 영향을 받을 수 있는바, 예를 들어, 산화지르코늄으로 형성된 제 2굴절층이 열처리됨으로써 반사방지막의 내구성이 향상될 수 있고, 이로 인해, 강도가 향상됨으로써 산성에 강한 반사방지막을 제공할 수 있다. The above heat treatment when the outermost layer for the second refraction layer is a bar that may be most affected, such as by being heat-treated second refractive layer formed of zirconium oxide can be improved and the durability of the anti-reflection film, thereby, intensity the improvement whereby it is possible to provide a strong anti-reflection film in acid.

상기 반사방지막의 두께가 약 50nm 내지 약 200nm일 수 있다. The thickness of the reflection prevention film may be from about 50nm to about 200nm. 상기 반사방지막의 두께가 상기 범위를 유지함으로써 반사방지의 효과가 있고, 투과율 감소의 우려가 발생하지 않는다. By the thickness of the reflection prevention film, the aforesaid range, the effect of anti-reflection, and do not cause a risk of reducing the transmittance.

상기 반사방지막(50)의 태양광 투과율이 약 85% 내지 약 98%, 구체적으로는 90% 내지 약 98%일 수 있다. The solar light transmittance of the anti-reflection film 50 is about 85% to about 98%, specifically, may be a 90% to about 98%. 투과율(Transmittance)은 열, 빛 등이 물체의 내부를 빠져나가는 정도를 나타내는 값으로써, 투과의 에너지를 투사의 에너지로 나누어 얻을 수 있다. Transmittance (Transmittance) is open, as the value indicating the degree of outgoing light, etc. through the interior of the object can be obtained by dividing the transmission of energy to the incident energy. 본 발명의 일 구현예에서, 상기 태양광 투과율은 상기 반사방지막이 빛을 흡수하는 정도를 나타내는 값으로 투과광의 강도를 입사광의 강도로 나누어 얻을 수 있다. In one embodiment, the solar transmittance can be obtained by dividing the intensity of the transmission light of the incident light intensity to the value indicating the degree to which the anti-reflection film absorb light.

상기 반사방지막(50)의 태양광 투과율이 상기 범위를 유지함으로써, 본 발명의 일구현예인 투명적층체는 반사방지 효과의 특성을 가질 수 있고, 이를 통해 시각효과를 보다 선명하게 할 수 있다. By keeping the solar transmittance of the range of the anti-reflection film 50, an implementation is YES transparent laminate of the present invention may have the characteristics of anti-reflection effect, it is possible to make them more vivid visual effect through.

상기 반사방지막(50) 헤이즈가 약 0.01% 내지 약 0.5%일 수 있다. Wherein the anti-reflection film 50, the haze may be about 0.01% to about 0.5%. 헤이즈는 습도가 비교적 낮을 때 대기중에 연기, 먼지 등의 미세한 입자가 떠 있어서 공기의 색이 우유빛으로 뿌옇게 보이는 현상을 나타내는 것으로, 본 발명의 일 구현예에서 상기 헤이즈는 상기 반사방지막에 관한 것인바 상기 투명적층체의 반사방지 흐림에 관한 것이다. Hayes humidity in relatively low when the minute particles of smoke, dust or the like floating in the air to exhibit the phenomenon of air-color looks whitish as a milky, the haze In one embodiment of the present invention are Invar relates to the anti-reflection coating It relates to an anti-reflection blur of the transparent laminate.

상기 반사방지막(50)의 헤이즈가 상기 범위를 유지함으로써, 본 발명의 일구현예인 투명적층체의 흐림정도가 높아지지 않아, 투과율이 낮아지거나 부분적인 흐림 현상이 발생되지 않고, 이로 인해 탁월한 반사방지의 효과를 가진다. By the haze of the antireflection film 50, the aforesaid range, does not increase the blur degree of an implementation towing transparent laminate of the present invention, without these low or partial blur transmittance is not generated, whereby an excellent antireflection It has the effect of.

본 발명의 투명적층체가 포함하는 반사방지막은 열처리됨으로써 내구성이 우수한 것을 특징으로 한다. An anti-reflection film comprising a transparent laminated body of the invention is heat-treated by being characterized by excellent durability. 상기 내구성은 산의 작용에 대한 재료의 적응성을 알아보는 내산시험을 통해 나타낼 수 있다. The durability can be represented by the acid-resistant test to find out the applicability of the material to the action of an acid.

구체적으로 상기 투명적층체를 pH 2, 온도 38℃인 용액에 10분 동안 방치하고, 상기 투명적층체를 방치하기 전과 방치한 후의 태양광 투과율 차이가 0.5이하인 것이 바람직하다. Specifically, it left standing for 10 minutes the transparent laminate to pH 2, the solution temperature 38 ℃, and it is preferable that the transparent laminate of the solar transmittance difference before and after being left to stand for more than 0.5. 상기 태양광 투과율 차이가 0.5를 초과하는 경우 상기 투명적층체가 산에 의해 부식하였음을 나타내는바, 반사방지막의 내구성이 향상되지 못하여, 제품 가공 및 설치시 손상이 발생할 수 있다. When the solar transmittance difference exceeds 0.5 mothayeo not improve the durability of the bar, the anti-reflection film represents the corrosion hayeoteum by the transparent laminated body is acid and can result in product processing, and damaged during installation.

또한, 상기 투명적층체를 pH 2, 온도 38℃인 용액에 10분 동안 방치하고, 상기 투명적층체를 방치하기 전과 방치한 후의 헤이즈 차이가 0.2이하인 것이 바람직하다. It is also allowed to stand for 10 minutes, the transparent laminate to the pH 2, temperature 38 ℃ solution, and the haze difference before and after being left to stand for the transparent laminate of 0.2 or less is preferred. 상기 헤이즈의 차이가 0.2를 초과하는 경우 또한 상기 투명적층체가 산에 의해 부식하였음을 나타내는바, 빛을 흡수하는 정도가 약해질 우려가 있다. The difference between the haze value has also become a concern degree of absorbing bars and light indicating that it has corrosion by the acid of the transparent laminated body, if it exceeds about 0.2.

투명적층체 제조방법 Transparent laminate production method

본 발명의 다른 구현예는 유리기판상에 굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; Another embodiment of the present invention includes a first high refractive index layer is formed from a refractive index of the high refractive index material is 1.55 to 2.75 on a glass substrate; 굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; 및 굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하는 투명적층체 제조방법에 있어서, 상기 제 1 고굴절층, 상기 저굴절층 및 상기 제 2 고굴절층이 스퍼터링 또는 이온 플레이팅 방법으로 형성되는 투명적층체 제조방법을 제공한다. And a refractive index of the transparent laminated body production method that includes the anti-reflection film sequentially stacked second high refractive index layer formed of 1.55 to 2.75 of the high refractive index material, wherein the first high refractive index layer, the low refractive index layer and the second high refractive index layer It provides a method for producing a transparent laminate formed by a sputtering or ion plating method.

상기 제 1고굴절층(20), 저굴절층(30) 및 제 2고굴절층(40)은 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 화학기상증착법, 스프레이법, 딥 코팅법, 스핀 코팅법 등의 통상의 박막 제조법에 굴절율이 제한된 물질을 유리기판(10) 상에 코팅함으로서 형성할 수 있다. Conventional thin film such as the first high refractive index layer 20, low refractive index layer 30 and the second high refractive index layer 40 is sputtering, ion plating, chemical vapor deposition method, a spray method, a dip coating method, a spin coating method this limited refractive index material in the production process by coating on a glass substrate 10 can be formed. 특히 공정이 간단하고 대면적에 증착할 수 있다는 점에서 스퍼터링법을 사용하여 반사방지막(50)을 형성할 수 있다. In particular, by using a sputtering method in that the process is simple and the deposition on a large area can be formed an anti-reflection coating (50).

상기 투명적층체 제조방법은 상기 제 1고굴절층, 상기 저굴절층 및 상기 제 2고굴절층을 순차적으로 적층하여 반사방지막을 형성한 후, 상기 반사방지막을 약 300℃ 내지 약 600℃의 온도에서 열처리 하는 단계를 포함할 수 있다. The transparent laminate manufacturing method is heat-treated in the first high refractive index layer, the low refractive index layer and the second after forming the anti-reflection film by stacking a second high refractive index layer, the temperature of the anti-reflection film of about 300 ℃ to about 600 ℃ It can include. 상기 반사방지층을 열처리함으로써, 투명적층체의 전체적 내구성이 우수해졌을 뿐 아니라, 우수한 반사방지 기능도 동시에 갖출 수 있다. By heat-treating said anti-reflection layer, as well as the overall durability of the transparent layered product became solid, may also be equipped at the same time, excellent anti-reflection function.

구체적으로, 상기 열처리 온도를 상기범위로 유지함으로써 열처리시 박막의 손상 없이 내구성만을 향상시키는 장점이 있고, 보다 구체적으로, 공기(air)상태에서 열처리함으로써 다른 물리적 효과 이외에 반사방지막의 내구성 향상에 가장 직접적인 영향을 미칠 수 있다. Specifically, by maintaining the heat treatment temperature in the above range, and the advantage of improving only the durability without damage to the heat treatment when the thin film, more specifically, air (air) most direct the increase in the durability of the anti-reflection film in addition to other physical effects by heat treatment in a state It can influence.

상기 열처리에 있어서, 반사방지막의 최외각층인 제 2고굴절층이 가장 많은 영향을 받을 수 있다. In the heat treatment, the outermost layer is the second high refractive index layer of the antireflection film can be most affected. 상기 제 2고굴절층은 상기 투명적층체의 최외각층으로 상기 저굴절층의 상부에 주석(Sn), 아연(Zn), 세륨(Ce), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 인듐(In), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 니오븀(Nb), 탄타륨(Ta) 및 이들 조합의 산화물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 고굴절 물질의 증착 후에 열처리를 함으로써 상기 반사방지막의 내구성을 향상시킬 수 있다. The second high refractive index layer is tin (Sn), zinc (Zn), cerium (Ce), zirconium (Zr), aluminum (Al), indium (In) at the upper portion of the low refractive index layer as the outermost layer of the transparent laminate , to improve the durability of the film the reflection by the thermal treatment of tungsten (W), titanium (Ti), niobium (Nb), tantalum (Ta), and after the deposition of at least one high refractive material is selected from the group consisting of oxides of these combinations can.

상기 열처리는 약 5분 내지 약 30분 동안 수행하는 것을 특징으로 한다. The heat treatment is characterized in that it is conducted for about 30 minutes to about 5 minutes. 예를 들어, RTA(Rapid Thermal Annealing System)장비로 약 5분 내지 약 30분동안 열처리 할 수 있다. For example, it may be heat-treated for about 5 minutes to about 30 minutes by RTA (Rapid Thermal Annealing System) equipment. 상기 열처리 시간을 상기범위로 유지함으로써 열처리시 유리기판상의 성능에 변화나 변형을 주지 않으면서, 반사방지막의 내구성 향상에 있어서도 탁월한 영향을 미칠 수 있다. Without causing the variation or variations in the performance of the glass substrate during heat treatment by maintaining the heat treatment time in the above-described range, it can have an excellent effect even in an increase in the durability of the anti-reflection film.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. Above] Although described with reference to the embodiment of the present invention, it will be appreciated that it is only and the invention is if the technician having ordinary skill in the art which from Various modifications and example equivalent other embodiments as exemplary . 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 이하에 기재되는 특허청구범위에 의해서 판단되어야 할 것이다. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be determined by the claims described below.

< 실시예 비교예 > <Examples and Comparative Examples>

실시예1 Example 1

6mm 두께를 가진 유리(glass)기판 상에 ZrO 2 /SiO 2 /ZrO 2 의 층으로 구성되는 반사 방지막을 형성한다. To form an anti-reflection film composed of a layer of ZrO 2 / SiO 2 / ZrO 2 on the glass (glass) substrate with a thickness of 6mm. 상기 반사방지막은 100nm의 두께를 가지고, 제 1고굴절층인 ZrO 2 박막은 굴절률 2.10, 저굴절층인 SiO 2 박막은 굴절률 1.48, 제 2굴절층이 ZrO 2 박막은 굴절률 2.10이다. The anti-reflection film has a thickness of 100nm, a first high refractive index layer is a ZrO 2 thin film has a refractive index 2.10, the low refractive layer is a SiO 2 thin film is a refractive index of 1.48, a ZrO 2 thin film 2 is refractive index layer is 2.10. 상기 제 1고굴절층, 저굴절층 및 제 2고굴절층의 굴절률 확인은 엘립소미터를 이용하여 측정하였고, 510nm를 기준으로 굴절률을 확인하였다. The first high refractive index layer, a low refractive index layer and the second refractive index of the high refractive index layer was confirmed by measurement using an ellipsometer, it was confirmed that the refractive index relative to 510nm.

상기 유리기판상에 상기 반사방지막 적층한 후, 최외각층인 제 2굴절층 쪽에서 RTA(Rapid Thermal Anneal) 장비를 사용하여 300℃에서 5분간, air 분위기 The free radicals then laminating the reflection preventing film on the substrate, the outermost layer of the second refraction layer side using a RTA (Rapid Thermal Anneal) equipment for 5 minutes at 300 ℃, air atmosphere 에서 열처리를 실시하여 투명적층체를 제조하였다. In a heat treatment to prepare a transparent laminate.

실시예2 Example 2

상기 실시예 1에서, 상기 반사방지막의 두께를 150nm로 하고, 반사방지막의 열처리 온도를 400℃로 하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 같이 투명적층체를 제조하였다. In Example 1, was prepared, and the transparent laminate as shown in Example 1, except the thickness of the reflection prevention film to 150nm, and that the heat treatment temperature of the anti-reflection film to 400 ℃.

비교예1 Comparative Example 1

상기 실시예 1에서, 반사방지막을 적층한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 같이 투명적층체를 제조하였다. In Example 1, was prepared in the transparent laminate as shown in the Example 1 except that a laminating the anti-reflection film.

비교예2 Comparative Example 2

상기 실시예 1에서, 유리기판상에 적층된 반사방지막을 최외각층인 제 2굴절층 쪽에서 열처리를 실시한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 같이 투명 적층제를 제조하였다. In Example 1, was prepared, and the transparent laminate as shown in the example 1 except that the heat treatment conducted for the antireflection film laminated on a glass substrate side of the outermost layer of the second refraction layer.

비교예3 Comparative Example 3

상기 실시예 2에서, 유리기판상에 적층된 반사방지막을 최외각층인 제 2굴절층 쪽에서 열처리를 실시한 것을 제외하고는 상기 실시예 2와 같이 투명 적층제를 제조하였다. In Example 2, was prepared, and is a transparent laminate as in the above Example 2, except that the heat treatment subjected to the anti-reflection film deposited on a glass substrate side of the outermost layer of the second refraction layer.

< 실험예 > - 내산시험을 통한 투명 적층체의 내구성 평가 <Experiment> durability evaluation of the transparent laminate through the Acid Test

pH가 2이고 온도가 38℃인 HCl 0.01M 수용액에 10분 동안 상기 실시예 및 비교예의 투명적층체를 방치하여 부식여부를 확인하는 내산 시험을 실시하였는바, 이 때 상기 투명적층체를 방치하기 전, 후의 태양광 투과율 및 헤이즈(Gradner Micro-Haze plus, AG-4632)를 측정하였다. When pH is 2 and for 10 in 0.01M HCl aqueous solution having a temperature of 38 ℃ minutes, allowed to stand for the Examples and Comparative Examples transparent laminate bars hayeotneun subjected to acid resistance test to determine the corrosion, to the left for the transparent laminate before and after was measured solar transmittance and haze (Gradner Micro-haze plus, AG-4632).

구체적으로 열처리한 반사방지막을 포함하는 상기 실시예 1 및 실시예 2의 내산 Test 전, 후의 태양광 투과율 및 헤이즈를 각각 측정하여 태양광 투과율의 차이(△Vt) 및 헤이즈의 차이(△Haze)를 하기 표 1에 나타내었고, 열처리를 하지 않은 반사방지막을 포함하는 상기 비교예 2 및 비교예 3의 내산 Test 전, 후의 태양광 투과율 및 헤이즈를 각각 측정하여 태양광 투과율의 차이(△Vt) 및 헤이즈의 차이(△Haze)를 하기 표 2에 나타내었다. The first and second embodiments of the difference Acid Test before and after measuring the solar transmittance and haze respective difference (△ Vt) of the solar light transmittance and haze (△ Haze), including specifically an anti-reflection film heat-treated to shown in Table 1, above, including the anti-reflection film is not a heat treatment in Comparative example 2 and Comparative example 3 of the acid-proof Test before and after the sun light transmittance and haze of each measured difference (△ Vt) of the solar light transmittance and haze to the differences (△ Haze) are shown in Table 2 below.

내산시험은 산의 작용에 대한 재료의 적응성에 관한 시험으로, 내산시험 후의 헤이즈 변화량이 적으면 내구성이 우수한 것으로, 내산시험 후의 헤이즈 변화량이 크면 내구성이 우수하지 않은 것으로 평가할 수 있다. Acid test can be evaluated as a durability superior to the tests on the flexibility of the material to the action of an acid, the haze change after the acid resistance test was small, a haze change after the acid resistance test are not excellent in greater durability. 특히, 상기 투명 적층체의 경우 태양광유리, 태양광 전지등에 사용됨으로써 외부에 도출되어 산에 영향을 받는 경우가 많이 발생하는바, 내산시험에서 우수한 시험결과를 얻는 경우 내구성이 강하다고 볼 수 있다. In particular, in the case of the transparent laminate by being used for solar glass, photovoltaic cells can be found that the durable case to ensure good test results in the bar, acid resistance test occurs many cases is led to an external affected by acid .

열처리 Heat treatment
유/무 The presence or absence
열처리 Heat treatment
온도(℃) Temperature (℃)
반사방지막 열처리 후 내산시험 Antireflection film after the heat treatment Acid Test
태양광 투과율 차이 (△Vt) Solar transmittance difference (△ Vt) 헤이즈 차이 (△Haze) Haze difference (△ Haze)
실시예1 Example 1 U 300 300 0.5 0.5 0.15 0.15
실시예2 Example 2 U 400 400 0 0 0.02 0.02

열처리 Heat treatment
유/무 The presence or absence
열처리 Heat treatment
온도(℃) Temperature (℃)
반사방지막 열처리 전 내산시험 Antireflection film before heat treatment Acid Test
태양광 투과율 차이 (△Vt) Solar transmittance difference (△ Vt) 헤이즈 차이 (△Haze) Haze difference (△ Haze)
비교예2 Comparative Example 2 radish - - 2.3 2.3 0.5 0.5
비교예3 Comparative Example 3 radish - - 2.7 2.7 0.87 0.87

상기 실험결과, 실시예 1의 내산 시험 전, 후의 태양광 투과율 차이(△Vt)는 0.5%이하, 헤이즈 차이(ΔHaze)는 0.2이하로 측정되었는바, 산으로 인한 반사방지막의 투과율 및 헤이즈의 변화가 거의 관찰 되지 않았고 육안검사 시 핀홀이 전혀 발생되지 않았다. The test results, Example 1 acid resistance test before and after the sun light transmittance difference (△ Vt) is the change in transmittance and haze of the film more than 0.5%, the haze difference (ΔHaze) is due to the bar, acid doeeotneun measured to 0.2 reflection of is not no pinholes were not observed during visual inspection it occurs.

또한 온도를 실시예 1에 비해 100℃이상 상승하여 열처리를 실시한 실시예 2의 경우에도, 산으로 인한 반사방지막의 투과율 및 헤이즈의 변화가 거의 관찰 되지 않았고 육안검사 시 핀홀이 전혀 발생되지 않음을 확인하였다. Also confirmed even in the case of the exemplary embodiments subjected to heat treatment by rising above 100 ℃ compared to Example 1, the temperature in Example 2, no change due to acid anti-reflective film transmittance and haze of were hardly observed not at all pinholes generated during the inspection we.

한편, 비교예 2, 3의 경우 내산 시험 전, 후의 태양광 투과율 차이(△Vt)는 0.5를 크게 초과하여 측정되었고, 내산 시험 전, 후의 헤이즈 차이(△Haze)는 0.2를 크게 초과하여 측정되었는바, 반사방지막을 열처리 한 실시예 1 및 2의 경우가 태양광 투과율 차이 및 헤이즈 차이가 현저히 작았는바, 반사방지막의 열처리 단계를 거침으로써 내구성이 향상되었음을 알 수 있었다. On the other hand, in Comparative Example 2, acid resistance before the test, the solar transmittance difference (△ Vt) after the case of the 3 was measured by significantly more than 0.5, the former acid-resistant test, the haze difference after (△ Haze) are doeeotneun measured by significantly exceeds 0.2 bar, was carried out by heat treatment for an antireflection film in examples 1 and 2 can be seen that the difference in solar transmittance and haze difference significantly jakatneun bar and durability is improved to a heat treatment step of the anti-reflection film by performing.

또한, 도 2는 열처리한 반사방지막을 포함하고 있는 실시예 1과 반사방지막을 포함하고 있지 않은 비교예 1의 태양광 투과율 측정결과를 나타낸 것으로, 실시예 1의 태양광 투과율은 반사방지막을 적층하기 전인 비교예 1의 광 투과율 보다 약 2% 내지 약 4% 정도 향상되어 약 450nm 내지 약 600nm영역에서 약 90%이상의 태양광 투과율이 나타남을 확인할 수 있었다. In addition, Figure 2 is a solar transmittance of that shown in Example 1 and the solar transmittance of Comparative Example 1 that does not contain an anti-reflection coating measurement result that includes a film and heat-treated reflection Example 1 to laminating the anti-reflection coating before the comparison example than the light transmittance of 1 is improved by about 2% to about 4% was confirmed to appear is about 450nm to about 600nm in the region of at least about 90% of the solar transmittance.

결과적으로, 상기 표 1, 2의 실험결과를 통하여 투명적층체 상부에 형성되는 반사방지막을 열처리함으로써 내구성을 향상시킬 수 있고, 도 2를 통하여 반사방지막의 증착이 태양광 투과율을 상승시킬 수 있음을 알 수 있었다. As a result, that the above Table 1, the deposition of the antireflection film can improve the durability by heat treatment of the anti-reflection film formed on the upper transparent laminate through the experimental results. 2, through the second it may enhance the solar transmittance Could know.

100 : 투명적층체 100: transparent laminate
10 : 유리기판 10: glass substrate
20 : 제 1고굴절층 20: the first high refractive index layer
30 : 저굴절층 30: low refractive index layer
40 : 제 2고굴절층 40: second high refractive index layer
50 : 반사방지막 50: anti-reflection coating

Claims (12)

  1. 유리기판상에 On a glass substrate
    굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; A first high refractive index layer is formed from a refractive index of the high refractive index material 1.55 to 2.75;
    굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; And
    굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하고, The second high refractive index layer is formed from 1.55 to 2.75 of the high refractive index material comprises a film sequentially stacked reflection
    상기 저굴절 물질이 실리콘산질화물(SiOxNy), 플루오르화바륨(BaF 2 ) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 물질로 이루어지며, Consists of the low refractive index material is silicon nitride acid (SiOxNy), barium fluoride (BaF 2) and at least one material selected from the group consisting of,
    상기 반사방지막의 헤이즈가 0.01% 내지 0.5% 이고, The haze of the anti-reflection and 0.01% to 0.5%,
    상기 반사방지막은 열처리되어 내구성이 우수한 The anti-reflection film is heat-treated Durable
    투명적층체. Transparent laminate.
  2. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 고굴절 물질이 주석(Sn), 아연(Zn), 세륨(Ce), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 인듐(In), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 니오븀(Nb), 탄타륨(Ta) 및 이들 조합의 산화물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 물질로 이루어진 The high refractive index material is tin (Sn), zinc (Zn), cerium (Ce), zirconium (Zr), aluminum (Al), indium (In), tungsten (W), titanium (Ti), niobium (Nb), carbon taryum (Ta), and consisting of at least one material selected from the group consisting of oxides of these combinations
    투명적층체. Transparent laminate.
  3. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 고굴절 물질이 산화지르코늄으로 이루어진 The high refractive index material is made of a zirconium oxide
    투명적층체. Transparent laminate.
  4. 삭제 delete
  5. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 반사방지막의 두께가 50nm 내지 200nm인 The thickness of the reflection preventing film of 50nm to 200nm
    투명적층체. Transparent laminate.
  6. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 반사방지막의 태양광 투과율이 85% 내지 98% 인 The solar light transmittance of the reflective film is 85% to 98%
    투명적층체. Transparent laminate.
  7. 삭제 delete
  8. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 투명적층체를 pH 2, 온도 38℃인 용액에 10분 동안 방치하고, 상기 투명적층체를 방치하기 전과 방치한 후의 태양광 투과율 차이가 0.5이하인 투명적층체. The transparent laminate of the pH 2, temperature 38 ℃ the solution 10 minutes the transparent laminate is allowed to stand, and the solar transmittance difference before and after being left to stand for the transparent laminate of more than 0.5 during the.
  9. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 투명적층체를 pH 2, 온도 38℃인 용액에 10분 동안 방치하고, 상기 투명적층체를 방치하기 전과 방치한 후의 헤이즈 차이가 0.2이하인 투명적층체. Transparent laminate left to stand for 10 minutes, the transparent laminate to the pH 2, temperature 38 ℃ solution, and the haze difference before and after being left to stand for the transparent laminate of 0.2 or less.
  10. 유리기판상에 On a glass substrate
    굴절율이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 1 고굴절층; A first high refractive index layer is formed from a refractive index of the high refractive index material 1.55 to 2.75;
    굴절률이 상기 제 1고굴절층의 굴절율에 비해 상대적으로 낮고 1.3이상인 저굴절 물질로 형성되는 저굴절층; The refractive index is relatively low compared to the refractive index of the first high refractive index layer Low refractive index layer is formed of a low refractive index material than 1.3; And
    굴절률이 1.55 내지 2.75인 고굴절 물질로 형성되는 제 2 고굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지막을 포함하는 투명적층체 제조방법에 있어서, The second high refractive index layer is formed of a high refractive index of 1.55 to 2.75 in the transparent material laminated body manufacturing method comprising the anti-reflection film sequentially stacked,
    상기 제 1 고굴절층, 상기 저굴절층 및 상기 제 2 고굴절층이 스퍼터링 또는 이온 플레이팅 방법으로 형성되고, The first high refractive index layer, the low refractive index layer and the second high refractive index layer is formed by sputtering or ion plating method,
    상기 제 1고굴절층, 상기 저굴절층 및 상기 제 2고굴절층을 순차적으로 적층하여 반사방지막을 형성한 후, After forming the antireflection film by laminating the first high refractive index layer, the low refractive index layer and the second high refractive index layer in order,
    상기 반사방지막을 300℃ 내지 600℃의 온도에서 열처리 하는 단계를 포함하는 Comprising the step of heat-treating the anti-reflection film at a temperature of 300 ℃ to 600 ℃
    투명적층체 제조방법. Transparent laminate method.
  11. 삭제 delete
  12. 제 10항에 있어서, 11. The method of claim 10,
    상기 열처리는 5분 내지 30분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 The heat treatment is characterized in that performed for 5 minutes to 30 minutes
    투명적층체 제조방법. Transparent laminate method.
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