KR101456396B1 - Anisotropic conductive adhesive film and curing agent - Google Patents

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Abstract

양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더; 상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더 100 질량부에 대하여, 0.01∼15 질량부의 화학식 (1)로 표시되는 양이온 발생제; 및 상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더의 전체 체적에 대하여, 0.1∼20 체적%의 도전성 입자를 포함하는 이방 도전성 접착 필름이 제공된다.

Figure 112013005491119-pct00020

{식 (1) 중, Q, A, R4 및 Y-는 명세서에서 규정한 바와 같다.}An organic binder comprising a cationic polymerizable material; A cation generating agent represented by the formula (1) in an amount of 0.01 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the organic binder containing the cationic polymerizable substance; And 0.1 to 20% by volume of the conductive particles based on the total volume of the organic binder including the cationic polymerizable material.
Figure 112013005491119-pct00020

(In the formula (1), Q, A, R 4 and Y - are as defined in the specification.}

Description

이방 도전성 접착 필름 및 경화제{ANISOTROPIC CONDUCTIVE ADHESIVE FILM AND CURING AGENT}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an anisotropic conductive adhesive film and an anisotropic conductive adhesive film.

본 발명은 미세 패턴의 전기적 접속에 있어서, 저온 접속성이 우수하고, 박리 강도의 신뢰성이 우수한 이방 도전성 접착 필름, 그것을 이용한 접속 구조체의 제조 방법 및 경화제에 관한 것이다. The present invention relates to an anisotropically electroconductive adhesive film having excellent low-temperature connectivity and high reliability in peel strength in electrical connection of fine patterns, a method of manufacturing a connection structure using the anisotropic conductive adhesive film, and a curing agent.

이방 도전성 접착 필름은 절연성 접착제 중에 도전성 입자를 분산시킨 필름, 바꾸어 말하면, 액정 디스플레이와 IC칩 또는 TCP(Tape Carrier Package)와의 접속, FPC(Flexible Printed Circuit)와 TCP의 접속, 또는 FPC과 프린트 배선판의 접속을 간편하게 행하기 위해 사용되는 접속 부재이며, 예컨대, 노트북 컴퓨터 또는 휴대 전화의 액정 디스플레이와 제어 IC의 접속용으로서 광범위하게 이용되고, 최근에는 IC칩을 직접 프린트 기판 또는 플렉시블 배선판에 탑재하는 플립 칩 실장에도 이용되고 있다. The anisotropic conductive adhesive film is a film obtained by dispersing conductive particles in an insulating adhesive, in other words, a connection between a liquid crystal display and an IC chip or a TCP (Tape Carrier Package), a connection between an FPC (Flexible Printed Circuit) and a TCP, And is widely used for connection of a liquid crystal display and a control IC of a notebook computer or a mobile phone. In recent years, a flip chip for directly mounting an IC chip on a printed board or a flexible wiring board It is also used for mounting.

한편, 이 분야에서는 최근, 접속되는 기판의 박형화, 대형화가 진행되고, 접속시의 온도차에 의한 휘어짐을 완화하기 위해, 저온에서 접속하는 요구가 높아지고 있다. On the other hand, in recent years, in recent years, there has been an increasing demand for connection at a low temperature in order to reduce the warp caused by the temperature difference at the time of connecting and the board becoming thinner and larger.

이방 도전성 접착 필름은 접속 신뢰성의 점에서 주로 열경화형의 바인더 수지가 이용되고 있다. 경화성 수지로서 에폭시 수지가, 경화제로는 음이온 중합형 경화제인 삼급 아민 또는 이미다졸류가 주로 이용된다. 또한, 삼급 아민류 또는 이미다졸류를 마이크로캡슐화함으로써 보존 안정성을 높이는 것이 알려져 있다. 이러한 음이온 중합형 경화제보다 저온에서 경화할 수 있는 경화제로서 양이온형 경화제가 제안되어 있다(특허문헌 1). 또한, 저온 경화성과 보존성을 양립시키기 위해 안정제를 배합하는 방법(특허문헌 2)이 공지되어 있다. 또한, 양이온 경화성 수지 조성물에 있어서 양이온 경화제의 카운터 이온을 유기 붕소 화합물로 함으로써, 불순물 이온의 영향을 저감하는 방법이 제안되어 있다(특허문헌 3 및 4).A thermosetting type binder resin is mainly used from the viewpoint of connection reliability of the anisotropic conductive adhesive film. An epoxy resin as the curable resin, and a tertiary amine or imidazole as the anion polymerization type curing agent are mainly used as the curing agent. Further, it is known that storage stability is improved by microencapsulating tertiary amines or imidazoles. A cationic curing agent has been proposed as a curing agent capable of curing at a lower temperature than such an anion polymerization type curing agent (Patent Document 1). Further, a method of blending a stabilizer to achieve both low-temperature curing properties and storage stability (Patent Document 2) is known. In addition, a method of reducing the influence of impurity ions by using an organic boron compound as a counter ion of a cation curing agent in a cationic curable resin composition has been proposed (Patent Documents 3 and 4).

특허문헌 1: 일본 특허 제3907217호 공보Patent Document 1: Japanese Patent No. 3907217 특허문헌 2: 일본 특허 제3589422호 공보Patent Document 2: Japanese Patent No. 3589422 특허문헌 3: 일본 특허 공개 제2008-303167호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-303167 특허문헌 4: 일본 특허 공개 제2010-132614호 공보Patent Document 4: JP-A-2010-132614

그러나, 이들 양이온 경화제를 이용한 경우에도, 저온 접속성과 박리 강도의 신뢰성을 양립시키는 것은 어렵고, 흡습 상태로 유지한 경우에 박리 강도가 저하되기 쉽다고 하는 과제가 있었다. However, even when these cationic curing agents are used, it is difficult to achieve both low-temperature connectivity and reliability of the peel strength, and there is a problem that the peel strength tends to deteriorate when held in a hygroscopic state.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 상대하는 배선 회로끼리의 전기적 접속에 있어서, 저온 접속성이 우수하고, 박리 강도의 저하가 일어나기 어려운 고신뢰성의 이방 도전성 접착 필름을 제공하는 것이다. 또한, 보존성과 저온 경화성을 양립시킨 양이온 경화제를 제공하는 것이다.A problem to be solved by the present invention is to provide a highly reliable anisotropic conductive adhesive film which is excellent in low-temperature connectivity and hardly deteriorates in peel strength in electrical connection between opposing wiring circuits. It is another object of the present invention to provide a cationic curing agent that combines storage stability and low temperature curability.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 하기 조성에 의해 저온 접속성, 박리 강도 신뢰성이 우수한 이방 도전성 접착 필름을 얻을 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하였다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above problems and found that an anisotropic conductive adhesive film excellent in low temperature connectivity and peel strength reliability can be obtained by the following composition.

즉, 본 발명은 하기와 같다.That is, the present invention is as follows.

[1] 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더; [1] An organic binder comprising a cationic polymerizable material;

상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더 100 질량부에 대하여, 0.01∼15 질량부의 화학식 (1): 0.01 to 15 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the organic binder containing the cationic polymerizable substance,

Figure 112013005491119-pct00001
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{식 (1) 중, Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기 또는 치환 또는 무치환 벤질기이고, A는 1∼5개의 치환기를 갖는 페닐기이고, Q가 치환 또는 무치환 나프틸메틸기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트(Hammett) 상수의 합은 -0.3∼0이고, Q가 치환 또는 무치환 벤질기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 0∼+0.5이고, R4는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, 그리고 Y-는 화학식 (2): (In the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group or a substituted or unsubstituted benzyl group, A is a phenyl group having 1 to 5 substituents, and when Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, and to 5 of substituents meth (Hammett) is the sum of the constant -0.3~0, when Q is a substituted or unsubstituted benzyl date and the sum of the constant of the mat 1 to 5 substituents is 0~ + 0.5, R 4 Is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Y < - >

Figure 112013005601190-pct00021
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[식 (2) 중, X는 각각 독립적으로 불소, 염소 또는 브롬이다.]로 표시되는 음이온이다.}로 표시되는 양이온 발생제; 및 [In the formula (2), each X is independently an anion represented by fluorine, chlorine or bromine)]; And

상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더의 전체 체적에 대하여, 0.1∼20 체적%의 도전성 입자Based on the total volume of the organic binder including the cationic polymerizable material, 0.1 to 20% by volume of the conductive particles

를 포함하는 이방 도전성 접착 필름. And an anisotropic conductive adhesive film.

[2] 식 (1)에 있어서, Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기이고, A의 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 -0.3∼0인 [1]에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [2] The anisotropic conductive adhesive film according to [1], wherein in the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group and the sum of Hammett constants of 1 to 5 substituents of A is -0.3 to 0.

[3] 식 (1)에 있어서, Q는 치환 또는 무치환 벤질기이고, A의 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 0∼+0.5인 [1]에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [3] The anisotropic conductive adhesive film according to [1], wherein in the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted benzyl group, and the sum of Hammett constants of 1 to 5 substituents of A is 0 to +0.5.

[4] 식 (1)에 있어서, A는 화학식 (4): [4] In the formula (1), A is a group represented by the formula (4):

Figure 112013005491119-pct00003
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{식 (4) 중, R1은 메틸기, 아세틸기, 페녹시카르보닐기, 벤질옥시카르보닐기, 벤조일기 또는 9-플루오레닐카르보닐기이고, 그리고 R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 탄소수 1∼6의 알킬기이다.}로 표시되는 기인 [1]에 기재된 이방 도전성 접착 필름. (4), R 1 is a methyl group, an acetyl group, a phenoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a benzoyl group or a 9-fluorenylcarbonyl group, and R 2 and R 3 are each a hydrogen, a halogen, Is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

[5] 식 (4)에 있어서, R1은 아세틸기, 페녹시카르보닐기, 벤질옥시카르보닐기 또는 벤조일기이고, 그리고 R2 및 R3은 수소 또는 메틸기인 [4]에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [5] The anisotropic conductive adhesive film according to [4], wherein in Formula (4), R 1 is an acetyl group, a phenoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group or a benzoyl group, and R 2 and R 3 are hydrogen or a methyl group.

[6] 식 (1)에 있어서, Q는 화학식 (3): [6] In the formula (1), Q represents a group represented by the formula (3):

Figure 112013005601190-pct00022
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{식 (3) 중, R5는 수소, 메틸, 메톡시 또는 할로겐이다.}으로 표시되는 치환 또는 무치환 벤질기, α-나프틸메틸기 또는 β-나프틸메틸기인 [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [1] to [5], wherein R 5 is hydrogen, methyl, methoxy or halogen, a substituted or unsubstituted benzyl group, an? -Naphthylmethyl group or a? And an anisotropic conductive adhesive film.

[7] 식 (3)에 있어서 R5는 수소 또는 메틸인 [6]에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [7] The anisotropic conductive adhesive film according to [6], wherein R 5 in the formula (3) is hydrogen or methyl.

[8] 식 (1)에 있어서 R4는 메틸기인 [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [8] The anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [7], wherein R 4 in the formula (1) is a methyl group.

[9] 식 (2)에 있어서 X는 불소인 [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [9] The anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [8], wherein X in Formula (2) is fluorine.

[10] 상기 양이온 발생제로부터 발생하는 양이온종과 반응하는 양이온 포착제를 상기 양이온 발생제의 100 질량부에 대하여 0.1∼20 질량부 포함하는 [1]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [10] An anisotropic conductive film according to any one of [1] to [9], wherein the cationic capturing agent which reacts with the cation species generated from the cation generating agent is contained in an amount of 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the cation generating agent Adhesive film.

[11] 상기 양이온 포착제는 티오요소 화합물, 4-알킬티오페놀 화합물 및 4-히드록시페닐-디알킬술포늄염으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 [10]에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [11] The anisotropic conductive adhesive film according to [10], wherein the cationic capturing agent is at least one selected from the group consisting of a thiourea compound, a 4-alkylthiophenol compound and a 4-hydroxyphenyl-dialkylsulfonium salt.

[12] 상기 양이온 발생제로부터 발생하는 양이온종이 적어도 2종 이상인 [1]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [12] The anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [11], wherein at least two cationic species are generated from the cation generating agent.

[13] 상기 유기 바인더는 레조르신형 에폭시 수지를 포함하는 [1]∼[12] 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 접착 필름. [13] The anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [12], wherein the organic binder comprises a resorcinol type epoxy resin.

[14] 대응하는 전극 배치를 갖는 한쌍의 전자 회로 기판을 [1]∼[13] 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 접착 필름을 개재하여 가열 및 가압하는 공정을 포함하는, 접속 구조체의 제조 방법. [14] A method for manufacturing a connection structure, comprising a step of heating and pressing a pair of electronic circuit boards having corresponding electrode arrangements via an anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [13].

[15] [14]에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 접속 구조체. [15] A connection structure obtained by the manufacturing method according to [14].

[16] 화학식 (1): [16] A compound represented by the formula (1):

Figure 112013005491119-pct00005
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{식 (1) 중, Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기 또는 치환 또는 무치환 벤질기이고, A는 1∼5개의 치환기를 갖는 페닐기이고, Q가 치환 또는 무치환 나프틸메틸기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 -0.3∼0이고, Q가 치환 또는 무치환 벤질기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 0∼+0.5이고, R4는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, 그리고 Y-는 화학식 (2): (In the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group or a substituted or unsubstituted benzyl group, A is a phenyl group having 1 to 5 substituents, and when Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, the sum of a constant and meth to 5 substituents are -0.3~0 and, when Q is a substituted or unsubstituted benzyl date and the sum of the mat constant of the 1 to 5 substituent is 0~ + 0.5, R 4 is C 1 And Y < - > is an alkyl group of the formula (2):

Figure 112013005601190-pct00023
Figure 112013005601190-pct00023

[식 (2) 중, X는 각각 독립적으로 불소, 염소 또는 브롬이다.]로 표시되는 음이온이다.}로 표시되는 양이온 발생제. [In the formula (2), each X is independently an anion represented by fluorine, chlorine or bromine.].

[17] 에폭시기를 갖는 유기 바인더, 양이온 발생제 및 도전성 입자를 포함하는 이방 도전성 필름으로서, 80℃, 10초에서의 에폭시기 반응률이 10% 미만이고, 140℃, 10초에서의 에폭시기 반응률이 80% 이상인 이방 도전성 접착 필름.[17] An anisotropic conductive film comprising an organic binder having an epoxy group, a cation generator and conductive particles, wherein the epoxy reaction rate at 80 ° C for 10 seconds is less than 10% and the epoxy reaction rate at 140 ° C for 10 seconds is 80% Or more.

본 발명은 상대하는 회로끼리의 전기적 접속에 있어서, 저온 접속성이 우수하고, 박리 강도의 저하가 일어나기 어렵다고 하는 효과를 나타낸다. 또한, 보존성과 저온 경화성을 양립시킨 양이온 경화제를 제공할 수 있다. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention has an effect that electrical connection between opposing circuits is excellent in low-temperature connection property, and deterioration of peeling strength is hard to occur. It is also possible to provide a cationic curing agent that combines storage stability and low temperature curability.

이하, 본 발명에 관해 구체적으로 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 일실시형태는 에폭시기를 갖는 유기 바인더, 양이온 발생제, 도전성 입자를 포함하는 이방 도전성 필름에 있어서, 80℃, 10초에서의 에폭시기 반응률이 10% 미만이고, 140℃, 10초에서의 에폭시기 반응률이 80% 이상인 이방 도전성 접착 필름이다. An embodiment of the present invention relates to an anisotropic conductive film comprising an organic binder having an epoxy group, a cation generator and conductive particles, wherein the reaction rate of the epoxy group at 80 DEG C for 10 seconds is less than 10% Is an anisotropic conductive adhesive film having an epoxy group reaction rate of 80% or more.

80℃, 10초에서의 에폭시기 반응률은 10% 미만이 바람직하고, 5% 미만이 보다 바람직하고, 2% 미만이 더욱 바람직하다. 80℃, 10초에서의 에폭시기 반응률이 10% 미만인 경우, 보존 안정성이 양호하고, 또한 회로 기판에 대한 가접착시의 열의 영향을 받기 어려워 바람직하다. The reaction rate of the epoxy group at 80 DEG C for 10 seconds is preferably less than 10%, more preferably less than 5%, and even more preferably less than 2%. When the epoxy group reaction rate is less than 10% at 80 占 폚 and 10 seconds, the storage stability is favorable and it is preferable because it is hardly affected by heat at the time of adhesion to the circuit board.

140℃, 10초에서의 에폭시기 반응률은 80% 이상인 것이 바람직하고, 85% 이상인 것이 보다 바람직하고, 90% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 95% 이상인 것이 특히 바람직하다. 140℃, 10초에서의 에폭시기 반응률이 80% 이상인 경우, 접속 저항치, 박리 강도가 양호하고, 접속후의 신뢰성도 안정화되기 때문에 바람직하다. The reaction rate of the epoxy group at 140 DEG C for 10 seconds is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more. When the epoxy reaction rate at 140 ° C for 10 seconds is 80% or more, the connection resistance value and the peel strength are good and the reliability after connection is also stabilized.

에폭시기 반응률의 측정은 에폭시기 흡광도비를 FT-IR법에 의해 측정할 수 있다. The epoxy group reaction rate can be measured by measuring the epoxy group absorbance ratio by the FT-IR method.

본 발명의 일실시형태는 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더; 상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더 100 질량부에 대하여, 0.01∼15 질량부의 화학식 (1): One embodiment of the present invention relates to an organic binder comprising a cationic polymerizable material; 0.01 to 15 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the organic binder containing the cationic polymerizable substance,

Figure 112013005491119-pct00007
Figure 112013005491119-pct00007

{식 (1) 중, A는 치환 페닐기이고, Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기 또는 치환 또는 무치환 벤질기이고, R4는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, 그리고 Y-는 화학식 (2): (1), A is a substituted phenyl group, Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group or a substituted or unsubstituted benzyl group, R 4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Y - is a group represented by the formula (2) :

Figure 112013005601190-pct00024
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[식 (2) 중, X는 각각 독립적으로 불소, 염소 또는 브롬이다.]로 표시되는 음이온이다.}로 표시되는 양이온 발생제; 및 [In the formula (2), each X is independently an anion represented by fluorine, chlorine or bromine)]; And

상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더의 전체 체적에 대하여, 0.1∼20 체적%의 도전성 입자를 포함하는 이방 도전성 접착 필름이다. Is an anisotropic conductive adhesive film comprising 0.1 to 20% by volume of conductive particles with respect to the total volume of the organic binder including the cationic polymerizable substance.

또한, 상기 식 (1)에 있어서, A는 1∼5개의 치환기를 갖는 페닐기이고, 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 -0.3∼0이고, 그리고 Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기인 것이 바람직하다. In the above formula (1), A is a phenyl group having 1 to 5 substituents, the sum of the Hammett constants of the 1 to 5 substituents is -0.3 to 0, and Q is substituted or unsubstituted naphthyl And is preferably a methyl group.

또한, 상기 식 (1)에 있어서, A는 1∼5개의 치환기를 갖는 페닐기이고, 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 0∼+0.5이고, 그리고 Q는 치환 또는 무치환 벤질기인 것이 바람직하다. In the above formula (1), A is a phenyl group having 1 to 5 substituents, the sum of the Hammett constants of the 1 to 5 substituents is 0 to +0.5, and Q is a substituted or unsubstituted benzyl group .

하메트 규칙은 벤젠 유도체의 반응 또는 평형에 미치는 치환기의 영향을 정량적으로 논하기 위해 1935년 L. P. Hammett에 의해 제창된 경험칙이지만, 이것은 오늘날 널리 타당성을 인정받고 있다. 하메트 규칙에서 구해진 하메트 상수에는 σp값과 σm값이 있고, 이들 값은 많은 일반적인 서적에서 발견할 수 있다. 예컨대, J. A. Dean편, 「Lange's Handbook of Chemistry」제12판, 1979년(McGraw-Hill) 또는 「화학의 영역」증간, 122호, 96∼103페이지, 1979년(난코도), Chem. Rev., 1991년, 91권, 165∼195페이지 등에 상세히 설명되어 있다. The Hammett rule is an empirical rule proposed by L. P. Hammett in 1935 to quantitatively discuss the effect of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives, but this is now widely accepted. The Hammett constants obtained from the Hammett rule have σp and σm values, which can be found in many general books. See, for example, J. A. Dean, Lange ' s Handbook of Chemistry, 12th Edition, 1979 (McGraw-Hill) or in the section entitled " Chemistry ", 122, 96-103, 1979 (Nankodo), Chem. Rev., 1991, vol. 91, pp. 165-195.

또한, 본 발명에 있어서 각 치환기를 하메트의 치환기 상수에 의해 한정하거나 설명하거나 하지만, 각 치환기는 상기 서적에서 발견할 수 있는 문헌 기지의 값이 있는 치환기에만 한정된다고 하는 의미는 아니고, 그 값이 문헌에 기재되어 있지 않더라도 하메트 규칙에 기초하여 측정한 경우에 그 범위내에 들어가는 치환기도 포함하는 것을 이해하기 바란다.Although each substituent in the present invention is limited or described by Hammett's substituent constant, it does not mean that each substituent is limited only to a substituent having a known value found in the book, It is to be understood that even when not described in the literature, substituents which fall within the range when measured based on the Hammett rule are also included.

하메트 상수가 마이너스인 경우, 치환기는 전자 공여성 치환기인 것을 나타내고 있고, 상기 식 (1)에 있어서, Q가 치환 또는 무치환 나프틸메틸기이고, 그리고 페닐기의 치환기의 하메트 상수의 합이 -0.3∼0일 때에, 양호한 양이온 발생성과 적절한 보존 안정성의 양립이 가능하다. 상기 하메트 상수의 합은 -0.27∼0의 경우가 보다 바람직하고, -0.25∼0의 경우가 더욱 바람직하다. (1), Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, and the sum of the Hammett constants of the substituent of the phenyl group is - (-) -, the substituent is an electron donative substituent, and when the Hammett constant is negative, When 0.3 to 0, good cation generation and adequate storage stability can be achieved. The sum of the Hammett constants is more preferably -0.27 to 0, more preferably -0.25 to 0.

하메트 상수가 플러스인 경우, 치환기는 전자 흡인성 치환기인 것을 나타내고 있고, 상기 식 (1)에 있어서, Q가 치환 또는 무치환 벤질기이고, 그리고 페닐기의 치환기의 하메트 상수의 합이 0∼+0.5일 때, 양호한 양이온 발생성과 적절한 보존 안정성의 양립이 가능하다. 상기 하메트 상수의 합은 0∼+0.4의 경우가 바람직하고, 0∼+0.35의 경우가 보다 바람직하고, 0∼+0.30의 경우가 더욱 바람직하다. (1), Q is a substituted or unsubstituted benzyl group, and the sum of the Hammett constants of the substituents of the phenyl group is 0 to 4. When the Hammett constant is positive, the substituent is an electron withdrawing substituent, +0.5, good cation generation and adequate storage stability can be achieved at the same time. The sum of the Hammett constants is preferably from 0 to +0.4, more preferably from 0 to +0.35, and even more preferably from 0 to +0.3.

또한, 상기 식 (1)에 있어서, Q로 표시되는 치환기가 치환 벤질기인 경우, 이들 치환기의 하메트 상수의 합이, -0.2∼+0.2의 범위에 있는 것이 바람직하고, -0.15∼+0.15의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, -0.1∼+0.1의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다. -0.2∼+0.2의 범위에 있는 경우, 양이온 발생성과 보존 안정성의 양립이 가능하여 바람직하다. When the substituent represented by Q in the formula (1) is a substituted benzyl group, the sum of the Hammett constants of these substituents is preferably in the range of -0.2 to +0.2, more preferably in the range of -0.15 to +0.15 , More preferably in the range of -0.1 to +0.1. When it is in the range of -0.2 to +0.2, both cation generation property and storage stability can be achieved, which is preferable.

보다 상세하게는 후술하는 표 2에 기재된 페닐기의 치환기의 하메트 상수의 합을 참조하기 바란다.More specifically, the sum of the Hammett constants of the substituents of the phenyl group described in Table 2 described later is to be referred to.

본 발명의 일실시형태는 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더; 상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더 성분 100 질량부에 대하여, 0.01∼15 질량부의 하기 화학식 (5): One embodiment of the present invention relates to an organic binder comprising a cationic polymerizable material; 0.01 to 15 parts by mass, based on 100 parts by mass of the organic binder component containing the cationic polymerizable substance,

Figure 112013005601190-pct00025
Figure 112013005601190-pct00025

{식 (5) 중, R1은 메틸기, 아세틸기, 페녹시카르보닐기, 벤질옥시카르보닐기, 벤조일기 또는 9-플루오레닐카르보닐기이고, R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, R4는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, Q는 하기 화학식 (3):(In the formula (5), R 1 represents a methyl group, an acetyl group, a phenoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a benzoyl group or a 9-fluorenylcarbonyl group, R 2 and R 3 each represent a hydrogen, a halogen, , R 4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Q is a group represented by the following formula (3):

Figure 112013005601190-pct00026
Figure 112013005601190-pct00026

(식 (3) 중, R5는 수소, 메틸, 메톡시 또는 할로겐이다.)으로 표시되는 기, α-나프틸메틸기 또는 β-나프틸메틸기이고, 그리고 Y-는 하기 화학식 (2): (In the formula (3), R 5 is hydrogen, methyl, methoxy or halogen), an α-naphthylmethyl group or a β-naphthylmethyl group, and Y -

Figure 112013005601190-pct00027
Figure 112013005601190-pct00027

[식 (2) 중, X는 각각 독립적으로 불소, 염소 또는 브롬이다.]로 표시되는 음이온이다.}로 표시되는 양이온 발생제; 및 상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더의 전체 체적에 대하여, 0.1∼20 체적%의 도전성 입자를 포함하는 이방 도전성 접착 필름이다. [In the formula (2), each X is independently an anion represented by fluorine, chlorine or bromine)]; And 0.1 to 20% by volume of the conductive particles with respect to the total volume of the organic binder including the cationic polymerizable substance.

<양이온 발생제> &Lt; Cation generating agent >

본 발명에 이용하는 양이온 발생제는 상기 화학식 (1) 또는 (5)로 표시되는 것이라면 어떠한 구조여도 좋지만, 보존 안정성의 점에서, 50℃ 이상에서 양이온종을 발생시키는 것이 바람직하다. The cation generating agent used in the present invention may have any structure as long as it is represented by the above formula (1) or (5), but from the viewpoint of storage stability, it is preferable to generate cation species at 50 占 폚 or higher.

본 발명의 양이온 발생제의 열분해에 의해 발생하는 양이온종으로는 양이온 중합성 물질과의 반응성이 충분하다면 어떠한 구조여도 좋지만, 벤질 양이온종, α-나프틸 양이온종, β-나프틸 양이온종 또는 아실 양이온종이 바람직하다. 접속 형성성의 점에서, 적어도 1종이 아실 양이온종인 것이 바람직하다. 또한, 발생하는 양이온종이 아실 양이온종을 포함하는 적어도 2종 이상인 것이 특히 바람직하다. The cationic species generated by the thermal decomposition of the cation generating agent of the present invention may be any structure as long as the cationic polymerizable substance is sufficiently reactive with the cationic polymerizable substance. However, the cationic species may be a benzyl cation species, an α-naphthyl cation species, Cationic species are preferred. At least one of them is preferably an acyl cationic species in view of connection formability. Further, it is particularly preferable that at least two kinds of cationic species generated include acyl cationic species.

양이온 발생제의 쌍음이온으로는 식 (2)의 구조를 갖고 있으면 되지만, 불순물 이온의 관점에서 불소 화합물인 것이 특히 바람직하다. The counter anion of the cation generator may have the structure of the formula (2), but it is particularly preferable that it is a fluorine compound from the viewpoint of the impurity ion.

본 발명의 이방 도전성 접착 필름 중의 양이온 발생제의 함유량은 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더 100 질량부에 대하여 0.01∼15 질량부이고, 바람직하게는 0.5∼5 질량부이다. 양이온 발생제의 함유량이 0.01 질량부 미만인 경우, 경화가 불충분해져 충분한 전기적 접속성을 얻을 수 없고, 양이온 발생제의 함유량이 15 질량부를 넘는 경우, 보존성이 저하된다. The content of the cation generating agent in the anisotropic conductive adhesive film of the present invention is 0.01 to 15 parts by mass, preferably 0.5 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the organic binder including the cationic polymerizable substance. When the content of the cation generating agent is less than 0.01 part by mass, curing becomes insufficient and sufficient electrical connectivity can not be obtained. When the content of the cation generating agent exceeds 15 parts by mass, the storage property is lowered.

<양이온 포착제>&Lt; Cation capture agent >

본 발명에 이용하는 양이온 포착제는 양이온 발생제의 열분해에 의해 발생하는 양이온종과 반응하는 것이라면 어떠한 구조의 것이어도 좋지만, 티오요소 화합물, 4-알킬티오페놀 화합물 및 4-히드록시페닐-디알킬술포늄염으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다. The cationic capturing agent used in the present invention may have any structure as long as it is capable of reacting with cationic species generated by pyrolysis of the cation generating agent. However, the thiourea compound, 4-alkylthiophenol compound and 4-hydroxyphenyl- And at least one member selected from the group consisting of ammonium salts.

이하에 양이온 포착제의 구체예를 나타낸다. 티오요소 화합물로는 에틸렌티오요소, N,N'-디부틸티오요소, 트리메틸티오요소 등을 들 수 있다. 4-알킬티오페놀 화합물로는 4-메틸티오페놀, 4-에틸티오페놀, 4-부틸티오페놀 등을 들 수 있다. 4-히드록시페닐디알킬술포늄염으로는 4-히드록시페닐디메틸술포늄 메틸술페이트, 4-히드록시페닐-디부틸술포늄 메틸술페이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the cationic capturing agent are shown below. Examples of thiourea compounds include ethylenethiourea, N, N'-dibutylthiourea, and trimethylthiourea. Examples of the 4-alkylthiophenol compound include 4-methylthiophenol, 4-ethylthiophenol, 4-butylthiophenol and the like. Examples of the 4-hydroxyphenyl dialkylsulfonium salt include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium methylsulfate and 4-hydroxyphenyl-dibutylsulfonium methylsulfate.

본 발명의 이방 도전성 접착 필름 중의 양이온 포착제의 함유량은 양이온 발생제 100 질량부에 대하여 0.1∼20 질량부이다. The content of the cationic capturing agent in the anisotropic conductive adhesive film of the present invention is 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the cation generating agent.

바람직하게는 양이온 포착제의 함유량은 양이온 발생제 100 질량부에 대하여 0.5∼10 질량부이다. 양이온 포착제의 함유량이 0.1 질량부 미만인 경우는 접속 신뢰성이 저하되고, 20 질량부를 넘는 경우는 접속성이 저하된다. Preferably, the content of the cation scavenger is 0.5 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the cation generator. When the content of the cationic capturing agent is less than 0.1 part by mass, the connection reliability is deteriorated. When the content is more than 20 parts by mass, the connectivity is deteriorated.

<도전성 입자> <Conductive Particle>

본 발명의 이방 도전성 접착 필름에 포함되는 도전성 입자는 유기 바인더의 전체 체적에 대하여 0.1∼20 체적%이고, 바람직하게는 0.5∼15 체적%이고, 더욱 바람직하게는 1∼10 체적%이다. 도전성 입자의 함유량이 20 체적%를 넘는 경우는 인접하는 단자간의 절연성이 불충분해지고, 0.1 체적% 미만인 경우는 접속성이 저하된다. 도전성 입자는 금, 은, 구리, 니켈, 은, 납, 주석 등의 금속 입자, 또는 이들로 이루어지는 합금, 예컨대, 땜납, 은구리 합금 등의 입자, 카본 등의 도전성 입자, 이들 도전성 입자 또는 비도전성 입자인 유리, 세라믹스, 플라스틱 입자를 핵으로 하여 표면에 도전성 재료를 피복한 것이다. 플라스틱 입자에 금속 도금한 입자는 탄성 변형에 의해 접속 신뢰성이 우수하기 때문에, 특히 바람직하다. The conductive particles contained in the anisotropically conductive adhesive film of the present invention are 0.1 to 20% by volume, preferably 0.5 to 15% by volume, more preferably 1 to 10% by volume, based on the total volume of the organic binder. When the content of the conductive particles exceeds 20% by volume, the insulating property between the adjacent terminals becomes insufficient, and when the content is less than 0.1% by volume, the connectivity deteriorates. The conductive particles include metal particles such as gold, silver, copper, nickel, silver, lead, and tin, or alloys of these metals such as solder, particles of silver and copper alloy, conductive particles such as carbon, Glass, ceramics, and plastic particles are used as nuclei to cover the surface with a conductive material. Particles of metal plated with plastic particles are particularly preferable because they are excellent in connection reliability due to elastic deformation.

플라스틱 입자로는 에폭시 수지, 스티렌 수지, 실리콘 수지, 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 폴리에스테르 수지, 디비닐벤젠 가교체, NBR, SBR 등의 폴리머 중에서 1종 또는 2종 이상 조합한 핵을 이용할 수 있다. 이들 플라스틱 입자에는 산화규소 등의 무기물을 함유하고 있어도 좋다. 이들 플라스틱 입자에 무전해 도금 등의 방법으로 Ni 도금을 형성하여, 도전성 입자를 얻을 수 있다. 또한, Ni 도금 상에 금 등의 Ni 이외의 금속층을 더 형성하는 것도 가능하다. 또한, 도전성 입자를 핵으로 하고, 이 핵의 표면을 절연 재료로 피복하여, 압착했을 때에 내부의 도전성 입자가 표면의 절연층을 배제하고, 피접속 회로와의 접촉을 행할 수 있도록 한 것도 유효하다. 이러한 도전성 입자를 이용한 경우, 인접하는 단자간의 단락을 방지하기 쉬워, 단자 간격이 좁은 피접속 회로의 경우에도 사용할 수 있다. Examples of the plastic particles include polymers such as epoxy resin, styrene resin, silicone resin, acrylic resin, polyolefin resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urethane resin, phenol resin, polyester resin, crosslinked divinylbenzene, NBR and SBR One or a combination of two or more kinds of nuclei can be used. These plastic particles may contain an inorganic substance such as silicon oxide. These plastics particles can be formed with Ni plating by electroless plating or the like to obtain conductive particles. It is also possible to further form a metal layer other than Ni such as gold on the Ni plating. It is also effective to coat the surface of the core with an insulating material and to allow the inner conductive particles to remove the insulating layer on the surface and make contact with the circuit to be connected when the conductive particles are used as nuclei . When such conductive particles are used, it is easy to prevent short-circuiting between adjacent terminals, and can be used also in the case of a connection circuit with a narrow terminal interval.

도전성 입자의 입경은 0.1∼20 ㎛인 것이 바람직하고, 1∼10 ㎛인 것이 보다 바람직하고, 2∼8 ㎛인 것이 더욱 바람직하다. 입경이 0.1 ㎛ 미만인 경우, 피접속 단자의 표면 거칠기의 변동에 영향을 받아 접속이 불안정해지기 쉽고, 또한 20 ㎛를 넘는 경우는 인접하는 단자간의 단락이 발생하기 쉬워진다. 도전성 입자의 평균 입경의 표준편차는 작을수록 바람직하며, 평균 입경의 50% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20% 이하, 더욱 바람직하게는 10% 이하, 특히 바람직하게는 5% 이하이다. 도전성 입자의 평균 입경 측정은 콜터 카운터 등의 기지의 방법을 이용할 수 있다. 인접하는 단자간의 단락을 방지하기 위해, 접속 저항을 손상시키지 않는 범위내에서 절연 입자를 병용해도 좋다. The particle diameter of the conductive particles is preferably 0.1 to 20 占 퐉, more preferably 1 to 10 占 퐉, and even more preferably 2 to 8 占 퐉. When the particle size is less than 0.1 탆, the connection tends to become unstable due to the fluctuation of the surface roughness of the connected terminal. When the particle diameter exceeds 20 탆, shorting between adjacent terminals tends to occur. The standard deviation of the average particle diameter of the conductive particles is preferably as small as possible, and is preferably 50% or less, more preferably 20% or less, further preferably 10% or less, particularly preferably 5% or less of the average particle diameter. The average particle diameter of the conductive particles can be measured by a known method such as a Coulter counter. In order to prevent short-circuiting between adjacent terminals, insulating particles may be used in combination within a range that does not impair the connection resistance.

또한, 단락을 방지하기 위해, 복수층을 적층하는 방법 등에 의해, 도전성 입자를 이방 도전성 접착 필름의 두께 방향에 국재화시켜도 상관없다. Further, in order to prevent a short circuit, the conductive particles may be localized in the thickness direction of the anisotropic conductive adhesive film by a method of laminating a plurality of layers or the like.

보존 안정성을 높이기 위해, 유기 바인더 성분 중의 양이온 발생제를 미리 마이크로 캡슐화하는 것도 유효하다. 마이크로 캡슐화하는 방법으로는 기지의 방법을 이용할 수 있지만, 용제 증발법, 스프레이 드라이법, 코아세르베이션법, 계면 중합법을 이용하는 것이 바람직하다. In order to enhance storage stability, it is also effective to microencapsulate the cation generating agent in the organic binder component in advance. As a method for microencapsulation, a known method can be used, but it is preferable to use a solvent evaporation method, a spray drying method, a coacervation method, or an interfacial polymerization method.

<양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더> &Lt; Organic binder containing cationic polymerizable substance >

유기 바인더 성분 중의 양이온 중합성 물질은 산중합성 또는 산경화성의 물질이며, 예컨대, 에폭시 수지, 폴리비닐에테르, 폴리스티렌 등이다. 상기 양이온 중합성 물질은 단독으로 사용하거나, 또는 2종 이상 병용해도 좋다. The cationic polymerizable substance in the organic binder component is an acid-synthesized or acid-curable substance such as epoxy resin, polyvinyl ether, polystyrene and the like. The cationic polymerizable substance may be used singly or in combination of two or more.

상기 양이온 중합성 물질로는 에폭시 수지가 바람직하다. 에폭시 수지는 1분자 중에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 글리시딜에테르기, 글리시딜에스테르기, 지환식 에폭시기를 갖는 화합물, 분자내의 이중 결합을 에폭시화한 화합물, 이들 치환기를 2개 이상 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 또한, 내환경성을 향상시키기 위해, 레조르신형 에폭시 수지를 이용해도 좋다. The cationic polymerizable material is preferably an epoxy resin. The epoxy resin is preferably a compound having two or more epoxy groups in one molecule. Specifically, a compound having a glycidyl ether group, a glycidyl ester group, an alicyclic epoxy group, a compound obtained by epoxidizing a double bond in a molecule, or a compound having two or more of these substituents is more preferable. In order to improve the environmental resistance, a resorcinol type epoxy resin may also be used.

본 발명에 있어서 유기 바인더 성분은 바인더 수지와 양이온 중합성 물질을 포함하지만, 양이온 중합성 물질과 혼합 가능한 바인더 수지는 열가소성 수지, 에폭시 수지와 반응성이 있는 열경화성 수지 등이다. 양이온 중합성 물질과 혼합 가능한 열가소성 수지는 페녹시 수지, 폴리비닐아세탈 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 알킬화셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 등, 양이온 중합성 물질에 상용성이 있는 수지이다. 이들 수지 중, 수산기, 카르복실기 등의 극성기를 갖는 수지는 양이온 중합성 수지와의 상용성이 우수하기 때문에 바람직하다. 또한, 양이온 중합성 물질은 양이온에 의해 중합 혹은 경화하여 상기 바인더 수지와 함께 유기 바인더 성분으로서 기능한다. In the present invention, the organic binder component includes a binder resin and a cationic polymerizable substance, but the binder resin that can be mixed with the cationic polymerizable substance is a thermoplastic resin or a thermosetting resin reactive with an epoxy resin. The thermoplastic resin which can be mixed with the cationic polymerizable substance is a cationic polymerizable substance such as a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin, a polyvinyl butyral resin, an alkylated cellulose resin, a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin and a polyethylene terephthalate resin It is a resin with compatibility. Of these resins, a resin having a polar group such as a hydroxyl group or a carboxyl group is preferable because it is excellent in compatibility with a cationic polymerizable resin. Further, the cationic polymerizable substance is polymerized or cured by a cation to function together with the binder resin as an organic binder component.

<그 밖의 성분> &Lt; Other components >

본 발명에 이용되는 유기 바인더 성분에는 그 밖의 성분을 더 함유할 수 있다. 그 밖의 성분으로는 절연 입자, 충전제, 연화제, 촉진제, 노화 방지제, 착색제, 난연화제, 틱소트로픽제, 커플링제, 이온 트랩제 등을 들 수 있다. 절연 입자 및 충전제 등의 고형 성분의 경우, 이들의 최대 직경은 도전성 입자의 평균 입경 미만인 것이 바람직하다. 커플링제로는 케티민기, 비닐기, 아크릴기, 아미노기, 에폭시기 또는 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제가, 접착성 향상의 점에서 바람직하다. The organic binder component used in the present invention may further contain other components. Other components include insulating particles, fillers, softeners, accelerators, anti-aging agents, colorants, flame retarding agents, thixotropic agents, coupling agents, and ion trap agents. In the case of solid components such as insulating particles and filler, the maximum diameter thereof is preferably less than the average particle diameter of the conductive particles. As the coupling agent, a silane coupling agent containing a ketimine group, a vinyl group, an acryl group, an amino group, an epoxy group or an isocyanate group is preferable from the viewpoint of improving the adhesion.

그 밖의 성분의 함유량은 바람직하게는 유기 바인더 성분 100 질량부에 대하여 50 질량부 이하이고, 더욱 바람직하게는 20 질량부 이하이다. The content of the other components is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the organic binder component.

유기 바인더와 양이온 발생제, 양이온 포착제 및 도전성 입자 등의 성분을 혼합하는 경우, 필요에 따라서 용제를 이용할 수 있다. 용제로는 예컨대, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 톨루엔, 크실렌, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트 등을 들 수 있다. In the case where components such as a cation generator, a cation scavenger and conductive particles are mixed with the organic binder, a solvent may be used if necessary. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monoalkyl ether acetate and propylene glycol monoalkyl ether acetate.

<이방 도전성 접착 필름> <Anisotropically Conductive Adhesive Film>

본 발명의 이방 도전성 접착 필름은 단층의 필름이어도 좋고, 복수의 필름을 적층한 필름이어도 좋다. 복수의 필름을 적층하는 경우, 도전성 입자를 포함하지 않는 필름을 적층하는 것도 가능하다. The anisotropic conductive adhesive film of the present invention may be a single layer film or a film obtained by laminating a plurality of films. When a plurality of films are laminated, it is also possible to laminate films that do not contain conductive particles.

이방 도전성 접착 필름의 제조 방법으로는 미리, 도전성 입자, 양이온 발생제, 유기 바인더 및 필요에 따라서 양이온 포착제를 용제 중에서 혼합하여 도공액을 조제하고, 다음으로 세퍼레이터 상에 애플리케이터 도장 등에 의해 상기 도공액을 도공하고, 오븐 내에서 용제를 휘발시킴으로써 제조할 수 있다. The anisotropic conductive adhesive film may be produced by previously mixing conductive particles, a cation generator, an organic binder and, if necessary, a cationic capturing agent in a solvent to prepare a coating liquid, and then applying the coating liquid on the separator by means of an applicator coating or the like , And volatilizing the solvent in an oven.

복수층을 적층하는 경우는 라미네이트법이 바람직하다. 라미네이트하는 경우는 열롤을 이용하여 라미네이트하는 방법 등이 예시된다. 열롤을 이용하여 라미네이트하는 경우, 열롤의 온도는 양이온 발생제가 양이온종을 발생시키는 온도보다 낮은 온도인 것이 바람직하다. When a plurality of layers are laminated, a lamination method is preferable. In the case of laminating, there is exemplified a method of laminating using hot roll. In the case of laminating using hot roll, the temperature of the hot roll is preferably lower than the temperature at which the cation generator generates a cation species.

이방 도전성 접착 필름에 이용되는 세퍼레이터로는 예컨대, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리에스테르, PET, PEN, 나일론, 염화비닐, 폴리비닐알콜 등의 필름이 예시된다. 바람직한 보호 필름용의 수지로는 폴리프로필렌, PET 등을 들 수 있다. 상기 세퍼레이터는 불소 처리, Si 처리, 알키드 처리 등의 표면 처리를 행하고 있는 것이 바람직하다. 세퍼레이터의 막 두께는 20 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하가 바람직하다. Examples of the separator used in the anisotropic conductive adhesive film include films such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyester, PET, PEN, nylon, vinyl chloride, polyvinyl alcohol and the like. Preferable resins for the protective film include polypropylene and PET. It is preferable that the separator is subjected to surface treatment such as fluorine treatment, Si treatment, alkyd treatment or the like. The film thickness of the separator is preferably 20 占 퐉 or more and 100 占 퐉 or less.

본 발명의 이방 도전성 접착 필름은 필요에 따라 원하는 폭으로 슬릿되며, 릴형으로 권취된다. The anisotropic conductive adhesive film of the present invention is slit to a desired width as required and wound in a reel shape.

본 발명의 이방 도전성 접착 필름은 액정 디스플레이와 TCP, TCP와 FPC, FPC와 프린트 배선 기판의 접속, 또는 IC 칩을 직접 기판에 실장하는 플립 칩 실장에 적합하게 이용할 수 있다. The anisotropic conductive adhesive film of the present invention can be suitably used for connection of a liquid crystal display with TCP, TCP and FPC, connection of an FPC and a printed wiring board, or flip chip mounting in which an IC chip is directly mounted on a substrate.

<이방 도전성 접착 필름을 이용한 접속 방법 및 접속 구조체> &Lt; Connection method and connection structure using anisotropic conductive adhesive film >

이방 도전성 접착 필름을 이용한 접속 구조체의 제조 방법은 대응하는 전극 배치를 갖는 한쌍의 전자 회로 기판을 본 발명의 이방 도전성 접착 필름을 개재하여 가열 및 가압하는 공정을 포함한다. 예컨대, 본 발명의 이방 도전성 접착 필름을 이용한 접속 방법으로는 ITO 배선 또는 금속 배선 등에 의해 회로와 전극을 형성한 유리 기판 등의 회로 기판과, 회로 기판의 전극과 쌍을 이루는 위치에 전극을 형성한 IC 칩 등의 회로 부재를 준비하여, 회로 기판 상의 회로 부재를 배치하는 위치에, 본 발명의 이방 도전성 접착 필름을 접착하고, 다음으로, 회로 기판과 회로 부재를 각각의 전극이 서로 쌍을 이루도록 위치를 맞춘 후, 열압착하여 접속하는 방법을 들 수 있다. The manufacturing method of the connection structure using the anisotropic conductive adhesive film includes a step of heating and pressing a pair of electronic circuit boards having the corresponding electrode arrangement through the anisotropic conductive adhesive film of the present invention. For example, the connection method using the anisotropic conductive adhesive film of the present invention includes a circuit board such as a glass substrate on which circuits and electrodes are formed by ITO wiring or metal wiring, and a circuit substrate on which electrodes are formed A circuit member such as an IC chip is prepared, the anisotropic conductive adhesive film of the present invention is adhered to a position where the circuit member on the circuit board is placed, and then the circuit board and the circuit member are positioned Followed by thermocompression bonding.

이방 도전성 접착 필름의 접착시에, 세퍼레이터를 박리하기 위해 가열 및 가압할 수 있다. 가열 및 가압의 조건은 예컨대, 30℃ 이상 80℃ 이하의 온도, 0.1 MPa 이상 1 MPa 이하의 압력으로 0.5초 이상 3초 이하에 걸쳐 가열 및 가압하는 것이 바람직하다. Upon adhering the anisotropically conductive adhesive film, the separator can be heated and pressed to peel off. The heating and pressurizing conditions are preferably, for example, heating and pressurization at a temperature of 30 DEG C or more and 80 DEG C or less and a pressure of 0.1 MPa or more and 1 MPa or less for 0.5 seconds or more and 3 seconds or less.

접속에서의 열압착은 120℃ 이상 180℃ 이하(보다 바람직하게는 130℃ 이상 170℃ 이하, 가장 바람직하게는 140℃ 이상 160℃ 이하)의 온도 범위에서, 회로 부재 면적에 대하여, 0.1 MPa 이상 50 MPa 이하(보다 바람직하게는 0.5 MPa 이상 40 MPa 이하)의 압력 범위에서, 3초 이상 15초 이하(보다 바람직하게는 4초 이상 12초 이하) 동안 가열 및 가압하는 것이 바람직하다. The thermocompression bonding at the connection is preferably performed at a temperature of not less than 120 ° C. and not more than 180 ° C. (more preferably not less than 130 ° C. and not more than 170 ° C., most preferably not less than 140 ° C. and not more than 160 ° C.) It is preferable to heat and pressurize for 3 seconds or more and 15 seconds or less (more preferably 4 seconds or more and 12 seconds or less) in a pressure range of not more than 50 MPa (more preferably not less than 0.5 MPa and not more than 40 MPa)

상대하는 접속 기판의 온도차를 120℃ 이하로 하여 접속하는 것이 바람직하고, 온도차가 100℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 70℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. It is preferable that the temperature difference of the opposing connecting board is 120 占 폚 or less, more preferably 100 占 폚 or less, and even more preferably 70 占 폚 or less.

각 기판의 온도차는 상대하는 접속 기판 상에 각각 열전대를 놓고 측정할 수 있다. The temperature difference of each substrate can be measured by placing a thermocouple on the opposing connecting substrate.

상기 온도 범위, 압력 범위, 접착 또는 열압착 시간, 및 기판간의 온도차를 유지함으로써, 높은 접속 신뢰성을 얻을 수 있고, 내열성이 낮은 기판의 접속에 유리하고, 기판의 휘어짐을 억제할 수 있으며, 공정 시간의 단축에 유리한 회로 기판의 전기적 접속을 제공할 수 있다.By maintaining the temperature range, the pressure range, the bonding or thermocompression bonding time, and the temperature difference between the substrates, high connection reliability can be obtained and it is advantageous to connect the substrate with low heat resistance, It is possible to provide an electrical connection of the circuit board advantageous to shortening of the circuit board.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples.

실시예 1Example 1

1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 3-시클로헥산옥사이드-1-메탄올의 에스테르로 이루어진 지환식 에폭시 수지 30 g, 비스페놀 A형 액상 에폭시 수지 15 g, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 5 g, 평균 분자량 25,000의 페녹시 수지 50 g을 톨루엔-아세트산에틸의 혼합 용제(1:1)에 용해하여, 고형분 50%의 용액을 얻었다. 30 g of an alicyclic epoxy resin composed of an ester of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 3-cyclohexane oxide-1-methanol, 15 g of a bisphenol A type liquid epoxy resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl 5 g of 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and 50 g of a phenoxy resin having an average molecular weight of 25,000 were dissolved in a toluene-ethyl acetate mixed solvent (1: 1) to obtain a solution having a solid content of 50%.

4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 100 질량부, N,N'-디에틸티오요소 5 질량부가 되도록 배합하고, γ-부티로락톤에 용해하여, 50 질량부의 용액으로 했다. 고형 질량비로 수지 성분 100, 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 및 N,N'-디에틸티오요소의 합계가 2가 되도록 배합하고, 또한 벤조구아나민 수지를 핵으로 하는 입자의 표면에 0.2 ㎛ 두께의 니켈층을 형성하고, 그 니켈층의 외측에 0.03 ㎛ 두께의 금층을 형성한 평균 입경 3.2 ㎛의 도전성 입자를 유기 바인더의 전체 체적에 대하여 3 체적%가 되도록 배합하고, 분산시켜 분산액을 얻었다. 그 후, 두께 50 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 상기 분산액을 도포하고, 40℃에서 송풍 건조시켜, 막 두께 20 ㎛의 이방 도전성 접착 필름을 얻었다. 100 parts by weight of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and 5 parts by weight of N, N'-diethylthiourea were blended and mixed with? -Butyrolactone To obtain a solution of 50 parts by mass. And the total amount of resin component 100, 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and N, N'-diethylthio urea was 2 in solid mass ratio , A nickel layer having a thickness of 0.2 탆 was formed on the surface of a particle made of a benzoguanamine resin as a nucleus and a gold layer having a thickness of 0.03 탆 was formed on the outside of the nickel layer and conductive particles having an average particle size of 3.2 탆 3 volume% with respect to the volume, and dispersed to obtain a dispersion. Thereafter, the above dispersion was applied onto a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 占 퐉 and blow-dried at 40 占 폚 to obtain an anisotropic conductive adhesive film having a thickness of 20 占 퐉.

실시예 2Example 2

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-아세틸옥시페닐-벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Benzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, An anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that borate was used.

실시예 3Example 3

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-벤조일옥시페닐-o-메틸벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. (Pentafluorophenyl) borate instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-benzoyloxyphenyl- (Phenylphenyl) borate was used as the anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1.

실시예 4Example 4

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-페녹시카르보닐옥시페닐-벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-phenoxycarbonyloxyphenyl-benzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluoro (Phenylphenyl) borate was used as the anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1.

실시예 5Example 5

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-메톡시페닐-β-나프틸메틸메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용하고, N,N'-디에틸티오요소 대신, 4-히드록시페닐디메틸술포늄 메틸술페이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-methoxyphenyl-β-naphthylmethylsulfonium tetrakis Fluorophenyl) borate was used and 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium methyl sulfate was used instead of N, N'-diethyl thiourea, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1.

실시예 6Example 6

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-아세틸옥시페닐벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용하고, 비스페놀 A형 액상 에폭시 수지 15 g 대신, 레조르신형 에폭시 수지 15 g을 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Except that 4-acetyloxyphenylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate was used instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) And 15 g of a resorcinol-type epoxy resin was used instead of 15 g of the bisphenol A-type liquid epoxy resin, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1.

실시예 7Example 7

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-아세틸옥시 2-메틸페닐벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-acetyloxy 2-methylphenylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) ) Borate was used, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, p-히드록시페닐-벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용하고, N,N'-디에틸티오요소를 배합하지 않는 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, p-hydroxyphenyl-benzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) An anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that borate was used and no N, N'-diethyl thiourea was added.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-메톡시카르보닐옥시페닐-벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용하고, N,N'-디에틸티오요소를 배합하지 않는 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. (Pentafluorophenyl) borate instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-methoxycarbonyloxyphenyl-benzyl-methylsulfonium tetrakis (Phenylphenyl) borate was used instead of the N, N'-diethyl thiourea, and an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that N, N'-diethyl thiourea was not added.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄헥사플루오로포스페이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium hexafluoro Anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1, except that phosphate was used.

비교예 4Comparative Example 4

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-히드록시페닐-α-나프틸메틸-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-hydroxyphenyl-a-naphthylmethyl-methylsulfonium tetrakis Pentafluorophenyl) borate was used as the anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1.

비교예 5Comparative Example 5

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-아세틸옥시페닐-α-나프틸메틸-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Instead of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate of Example 1, 4-acetyloxyphenyl- alpha -naphthylmethyl-methylsulfonium tetrakis Pentafluorophenyl) borate was used as the anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1.

비교예 6Comparative Example 6

실시예 1의 4-벤질옥시카르보닐옥시페닐-o-메틸벤질메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 대신, 4-시아노페닐-벤질-메틸술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트로 한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 이방 도전성 필름을 얻었다. Except that 4-cyanophenyl-benzyl-methylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate was used in place of 4-benzyloxycarbonyloxyphenyl-o-methylbenzylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) An anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the borate was used.

(접속 저항치 측정 방법)(Connection resistance value measurement method)

전면(全面)에 산화인듐-산화아연(IZO)의 박막을 형성한 두께 200 ㎛의 폴리카보네이트 필름 기판(표면 저항 200 Ω/sq) 상에 폭 2 mm의 이방 도전성 필름을 가접착하고, 2.5 mm 폭의 압착 헤드를 이용하여 50℃, 0.3 MPa 및 3초간 가압한 후, 폴리에틸렌테레프탈레이트의 베이스 필름을 박리한다. 박리면에, 배선폭 80 ㎛, 배선 피치 150 ㎛ 및 두께 18 ㎛의 금도금 구리 배선(금도금 두께 0.3 ㎛)으로 이루어진 회로 200개를 갖는 플렉시블 프린트 배선판(재질 폴리이미드 수지, 두께 25 ㎛)을 가접속한 후, 1.5 mm 폭의 압착 헤드를 이용하여, 130℃, 8초 및 0.9 MPa로 가압하여 압착한다. 압착후, 인접 단자간의 저항치를 사단자법의 저항계로 측정하여 접속 저항치로 한다. An anisotropic conductive film having a width of 2 mm was adhered on a polycarbonate film substrate (surface resistance: 200? / Sq) having a thickness of 200 占 퐉 and a thin film of indium oxide-zinc oxide (IZO) formed on the entire surface, Width compression press at 50 DEG C, 0.3 MPa and 3 seconds, and then the base film of polyethylene terephthalate is peeled off. A flexible printed wiring board (material polyimide resin, thickness 25 占 퐉) having 200 circuits made of a gold-plated copper wiring (gold-plated thickness 0.3 占 퐉) having a wiring width of 80 占 퐉, a wiring pitch of 150 占 퐉 and a thickness of 18 占 퐉 was connected After that, using a compression head having a width of 1.5 mm, press at 130 캜 for 8 seconds and 0.9 MPa for compression. After the crimping, the resistance value between the adjacent terminals is measured by a resistance meter of a divisional method to obtain a connection resistance value.

(박리 강도)(Peel strength)

압착한 플렉시블 프린트 배선판을 폭 10 mm로 절단하고, 인스트론을 이용하여 90° 필 강도를 측정한다. 인장 속도 50 mm/분으로 행했다. 측정치를 박리 강도로 한다. 판정 기준을 이하에 나타낸다. The crimped flexible printed wiring board was cut into a width of 10 mm, and a 90 ° peel strength was measured using an Instron. And a tensile speed of 50 mm / min. The measured value is taken as the peel strength. The judgment criteria are shown below.

α: 박리 강도가 700 g/cm 이상인 것?: Peel strength of not less than 700 g / cm

β: 박리 강도가 500 g/cm 이상 700 g/cm 미만인 것?: Peel strength of 500 g / cm or more and less than 700 g / cm

γ: 박리 강도가 500 g/cm 미만인 것?: The peel strength is less than 500 g / cm

(내환경 시험후 박리 강도)(Peel strength after environmental test)

압착한 프린트 배선판을 85℃ 및 85% 상대 습도의 환경하에 100시간 유지하고, 이어서, 사이클 시험(-40℃, 100℃, 각 30분, 1 사이클 1시간) 100 사이클을 행하고, 그 후 25℃에서 1시간 방치후 상기 박리 강도를 측정한다. The pressed printed wiring board was held for 100 hours under the environment of 85 占 폚 and 85% relative humidity, followed by 100 cycles of cycle test (-40 占 폚, 100 占 폚, 30 minutes, 1 cycle, 1 hour) And the peel strength is measured.

내환경성의 판정 기준을 이하에 나타낸다. The evaluation criteria for environmental resistance are shown below.

α: 박리 강도가 초기값의 70% 이상인 것α: Peel strength not less than 70% of initial value

β: 박리 강도가 초기값의 50% 이상 70% 미만인 것β: The peel strength is 50% or more but less than 70% of the initial value

γ: 박리 강도가 초기값의 50% 미만인 것γ: The peel strength is less than 50% of the initial value

(보존 안정성)(Storage stability)

이방 도전성 필름을 밀폐 용기에 넣고 25℃에서 2주간 보존한 후, 상기 박리 강도를 측정한다. 보존 안정성의 판정 기준을 이하에 나타낸다. The anisotropic conductive film is put in a hermetically sealed container and stored at 25 DEG C for 2 weeks, and then the peel strength is measured. The criteria for the storage stability are shown below.

α: 박리 강도가 초기값의 70% 이상인 것α: Peel strength not less than 70% of initial value

β: 박리 강도가 초기값의 50% 이상 70% 미만인 것β: The peel strength is 50% or more but less than 70% of the initial value

γ: 박리 강도가 초기값의 50% 미만인 것γ: The peel strength is less than 50% of the initial value

(반응률 측정)(Measurement of reaction rate)

에폭시기 반응률의 측정은 에폭시기 흡광도비를 FT-IR법에 의해 측정한다. 필름 기재 상에 형성된 2 mm 폭, 20 mm 길이의 이방 도전성 접착 필름을 30 ㎛ 두께의 테플론(등록상표) 테이프 사이에 끼워 넣고, 폭 2.5 mm의 가압 가열 헤드를 이용하여 10초, 0.3 MPa로 압착한 샘플을 제작한다. 압착 전후의 FT-IR 측정을 행하여, 압착 전후의 흡광도비로부터 에폭시기 반응률을 산출한다. 에폭시기의 흡광도비의 산출 방법은 내부 표준으로서 메틸기 흡수 강도를 이용하여, 이하의 계산식으로 반응률을 산출한다. The epoxy group reactivity is measured by measuring the epoxy group absorbance ratio by the FT-IR method. A 2 mm wide and 20 mm long anisotropic conductive adhesive film formed on the film substrate was sandwiched between Teflon (registered trademark) tapes having a thickness of 30 탆 and pressed for 10 seconds at 0.3 MPa using a pressure heating head having a width of 2.5 mm A sample is made. FT-IR measurement is performed before and after the compression, and the epoxy reaction rate is calculated from the absorbance ratio before and after compression. The method of calculating the absorbance ratio of the epoxy group uses the methyl group absorption intensity as an internal standard and calculates the reaction rate by the following calculation formula.

반응률(%)=(1-((a/b)/(A/B)))×100Reaction rate (%) = (1 - ((a / b) / (A / B))) 100

A: 압착전의 에폭시기 흡수 강도 A: Absorption strength of epoxy group before compression

B: 압착전의 메틸기 흡수 강도 B: Methyl group absorption intensity before compression

a: 압착후의 에폭시기 흡수 강도 a: Absorption strength of epoxy group after compression

b: 압착후의 메틸기 흡수 강도b: Methyl group absorption intensity after pressing

140℃, 10초에서의 에폭시기 반응률 Epoxy group reaction rate at 140 占 폚 and 10 seconds

α: 80% 이상인 것α: More than 80%

β: 50% 이상 80% 미만인 것β: 50% or more and less than 80%

γ: 50% 미만인 것γ: Less than 50%

80℃, 10초에서의 에폭시기 반응률The reaction rate of the epoxy group at 80 占 폚 and 10 seconds

α: 10% 미만인 것α: Less than 10%

β: 10% 이상 20% 미만인 것β: 10% or more and less than 20%

γ: 20% 이상인 것γ: 20% or more

이상의 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 상기 식 (1)에서의 페닐기의 치환기의 하메트 상수의 합을 표 2에 나타낸다. Table 1 shows the above results. The sum of the Hammett constants of the substituent of the phenyl group in the above formula (1) is shown in Table 2.

Figure 112013005491119-pct00012
Figure 112013005491119-pct00012

Figure 112013005491119-pct00013
Figure 112013005491119-pct00013

상기 표 1로부터도 명백한 바와 같이, 본 발명을 이용하는 실시예는 비교예에 비하여, 보존후의 박리 강도 저하가 적고 내환경 시험후의 박리 강도 저하도 낮아, 양호한 접속 저항을 나타낸다.As is clear from Table 1, the examples using the present invention exhibit a lower deterioration in peel strength after storage and a lower deterioration in peel strength after the environmental test, as compared with the comparative example, and exhibit good connection resistance.

Claims (17)

양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더;
상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더 100 질량부에 대하여, 0.01∼15 질량부의 화학식 (1)로 표시되는 양이온 발생제; 및
상기 양이온 중합성 물질을 포함하는 유기 바인더의 전체 체적에 대하여, 0.1∼20 체적%의 도전성 입자
를 포함하는 이방 도전성 접착 필름.
Figure 112013005601190-pct00014

{식 (1) 중, Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기 또는 치환 또는 무치환 벤질기이고, A는 1∼5개의 치환기를 갖는 페닐기이고, Q가 치환 또는 무치환 나프틸메틸기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트(Hammett) 상수의 합은 -0.3∼0이고, Q가 치환 또는 무치환 벤질기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 0∼+0.5이고, R4는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, 그리고 Y-는 화학식 (2):
Figure 112013005601190-pct00028

[식 (2) 중, X는 각각 독립적으로 불소, 염소 또는 브롬이다.]로 표시되는 음이온이다.}
An organic binder comprising a cationic polymerizable material;
A cation generating agent represented by the formula (1) in an amount of 0.01 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the organic binder containing the cationic polymerizable substance; And
Based on the total volume of the organic binder including the cationic polymerizable material, 0.1 to 20% by volume of the conductive particles
And an anisotropic conductive adhesive film.
Figure 112013005601190-pct00014

(In the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group or a substituted or unsubstituted benzyl group, A is a phenyl group having 1 to 5 substituents, and when Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, and to 5 of substituents meth (Hammett) is the sum of the constant -0.3~0, when Q is a substituted or unsubstituted benzyl date and the sum of the constant of the mat 1 to 5 substituents is 0~ + 0.5, R 4 Is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Y &lt; - &gt;
Figure 112013005601190-pct00028

[Wherein X in each formula (2) is independently an anion represented by fluorine, chlorine or bromine].
제1항에 있어서, 식 (1)에 있어서, Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기이고, A의 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 -0.3∼0인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein in the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, and the sum of Hammett constants of 1 to 5 substituents of A is -0.3 to 0. 제1항에 있어서, 식 (1)에 있어서, Q는 치환 또는 무치환 벤질기이고, A의 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 0∼+0.5인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein in the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted benzyl group, and the sum of Hammett constants of 1 to 5 substituents of A is 0 to +0.5. 제1항에 있어서, 식 (1)에 있어서, A는 화학식 (4)로 표시되는 기인 이방 도전성 접착 필름.
Figure 112013005491119-pct00016

{식 (4) 중, R1은 메틸기, 아세틸기, 페녹시카르보닐기, 벤질옥시카르보닐기, 벤조일기 또는 9-플루오레닐카르보닐기이고, 그리고 R2 및 R3은 수소, 할로겐 또는 탄소수 1∼6의 알킬기이다.}
The anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein A in the formula (1) is a group represented by the formula (4).
Figure 112013005491119-pct00016

(4), R 1 is a methyl group, an acetyl group, a phenoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a benzoyl group or a 9-fluorenylcarbonyl group, and R 2 and R 3 are each a hydrogen, a halogen, Alkyl group.
제4항에 있어서, 식 (4)에 있어서, R1은 아세틸기, 페녹시카르보닐기, 벤질옥시카르보닐기 또는 벤조일기이고, 그리고 R2 및 R3은 수소 또는 메틸기인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to claim 4, wherein R 1 in the formula (4) is an acetyl group, a phenoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group or a benzoyl group, and R 2 and R 3 are hydrogen or a methyl group. 제1항, 제4항 또는 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 식 (1)에 있어서, Q는 화학식 (3)으로 표시되는 치환 또는 무치환 벤질기, α-나프틸메틸기 또는 β-나프틸메틸기인 이방 도전성 접착 필름.
Figure 112013005601190-pct00029

{식 (3) 중, R5는 수소, 메틸기, 메톡시기 또는 할로겐이다.}
6. The compound according to any one of claims 1 to 5, wherein Q is a substituted or unsubstituted benzyl group represented by the formula (3),? -Naphthylmethyl group or? -Naphthyl group An anisotropic conductive adhesive film which is a tilethyl group.
Figure 112013005601190-pct00029

(In the formula (3), R 5 is hydrogen, a methyl group, a methoxy group or a halogen.)
제6항에 있어서, 식 (3)에 있어서 R5는 수소 또는 메틸기인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to claim 6, wherein R 5 in the formula (3) is hydrogen or a methyl group. 제6항에 있어서, 식 (1)에 있어서 R4는 메틸기인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to claim 6, wherein R 4 in the formula (1) is a methyl group. 제6항에 있어서, 식 (2)에 있어서 X는 불소인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to claim 6, wherein X in the formula (2) is fluorine. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양이온 발생제로부터 발생하는 양이온종과 반응하는 양이온 포착제를 상기 양이온 발생제의 100 질량부에 대하여 0.1∼20 질량부 포함하는 이방 도전성 접착 필름.The positive ion generator according to any one of claims 1 to 5, wherein an anionic conductive adhesive containing 0.1 to 20 parts by mass of a cationic capturing agent which reacts with the cation species generated from the cation generating agent with respect to 100 parts by mass of the cation generating agent film. 제10항에 있어서, 상기 양이온 포착제는 티오요소 화합물, 4-알킬티오페놀 화합물 및 4-히드록시페닐-디알킬술포늄염으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to claim 10, wherein the cationic capturing agent is at least one selected from the group consisting of a thio urea compound, a 4-alkylthiophenol compound and a 4-hydroxyphenyl-dialkylsulfonium salt. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양이온 발생제로부터 발생하는 양이온종이 2종 이상인 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to any one of claims 1 to 5, wherein at least two cationic species are generated from the cation generating agent. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기 바인더는 레조르신형 에폭시 수지를 포함하는 이방 도전성 접착 필름.The anisotropic conductive adhesive film according to any one of claims 1 to 5, wherein the organic binder comprises a resorcinol type epoxy resin. 대응하는 전극 배치를 갖는 한쌍의 전자 회로 기판을 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 이방 도전성 접착 필름을 개재하여 가열 및 가압하는 공정을 포함하는, 접속 구조체의 제조 방법.Comprising the step of heating and pressing a pair of electronic circuit boards having corresponding electrode arrangements through the anisotropic conductive adhesive film according to any one of claims 1 to 5. A method for manufacturing a connection structure, 제14항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 접속 구조체.A connection structure obtained by the manufacturing method according to claim 14. 화학식 (1)로 표시되는 양이온 발생제.
Figure 112013005601190-pct00018

{식 (1) 중, Q는 치환 또는 무치환 나프틸메틸기 또는 치환 또는 무치환 벤질기이고, A는 1∼5개의 치환기를 갖는 페닐기이고, Q가 치환 또는 무치환 나프틸메틸기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 -0.3∼0이고, Q가 치환 또는 무치환 벤질기일 때에는 상기 1∼5개의 치환기의 하메트 상수의 합은 0∼+0.5이고, R4는 탄소수 1∼6의 알킬기이고, 그리고 Y-는 화학식 (2):
Figure 112013005601190-pct00030

[식 (2) 중, X는 각각 독립적으로 불소, 염소 또는 브롬이다.]로 표시되는 음이온이다.}
The cation generator represented by the formula (1).
Figure 112013005601190-pct00018

(In the formula (1), Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group or a substituted or unsubstituted benzyl group, A is a phenyl group having 1 to 5 substituents, and when Q is a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, the sum of a constant and meth to 5 substituents are -0.3~0 and, when Q is a substituted or unsubstituted benzyl date and the sum of the constant of the mat 1 to 5 substituents is 0~ + 0.5, R 4 is C 1 And Y &lt; - &gt; is an alkyl group of the formula (2):
Figure 112013005601190-pct00030

[Wherein X in each formula (2) is independently an anion represented by fluorine, chlorine or bromine].
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