KR101262135B1 - Multilayer printed wiring board and method for manufacturing same - Google Patents

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카즈노리 우에다
요시히로 고토
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쇼헤이 아라이
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신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

폴리이미드 또는 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 제1의 절연층과 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판, 그리고 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 제2의 절연층과 상기 제2의 절연층의 편면에 적층된 도체층을 가지는 도체층 기판을 준비하는 공정과,
상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을, 상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층측을 상기 배선기판에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 공정을 포함하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
A wiring board having a first insulating layer made of polyimide or a first liquid crystal polymer and a wiring circuit formed on at least one side of the first insulating layer, and a melting point below the heat deformation temperature of the polyimide and / or the first Preparing a conductor layer substrate having a second insulating layer made of a second liquid crystal polymer having a melting point lower than that of the liquid crystal polymer and a conductor layer laminated on one side of the second insulating layer;
And arranging the wiring substrate and the conductor layer substrate so that the second insulating layer side of the conductor layer substrate faces the wiring substrate, and successively laminating the substrate under heating and pressing using a heat pressurizing equipment. Method of manufacturing a printed wiring board.

Description

다층 프린트 배선판 및 그 제조방법{MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME}Multilayer printed wiring board and manufacturing method therefor {MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME}

본 발명은 다층 프린트 배선판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer printed wiring board and a method of manufacturing the same.

최근의 전자기기의 고성능화는 눈부시며, 특히, 통신기기, 컴퓨터는 동작속도의 향상과 더불어 고주파화에의 대응이 요구되고, 또한 다기능화나 휴대성 향상을 위해 보다 한층의 경박단소화(輕薄短小化)도 요구되고 있다.In recent years, the high performance of electronic devices has been remarkable, and in particular, communication devices and computers are required to cope with high frequency as well as to improve operation speed, and to further reduce the size and thickness of the device in order to increase the multifunctionality and portability. ) Is also required.

그 때문에 이 기기들에 탑재되는 프린트 배선판에 대해서도 고속·저손실 신호 전송성, 배선 고밀도화, 박화(薄化), 경량화 등이 요구되고 있다. 그리고, 프린트 배선판에 대한 이 요구들은 그대로 기판재료의 보다 한층의 저유전율화, 저유전 정접화나 박화, 경량화 등으로 향해 있다. 이 요구들을 해결하는 수단으로서, 빌드업(build up) 방식에 의한 다층 프린트 배선판이 채용된지 오래이다.Therefore, high-speed, low-loss signal transmission, high-density wiring, thinning, and weight reduction are also required for printed wiring boards mounted on these devices. These demands for printed wiring boards are directed toward further lowering the dielectric constant of the substrate material, lowering the dielectric constant, thinning, and reducing the weight of the substrate. As a means to solve these demands, it has been a long time since a multilayer printed wiring board by a build up method has been adopted.

또한 다층 프린트 배선판의 층간 절연재료로서, 에폭시수지나 폴리이미드수지 등의 열경화성 수지를 사용한 것이 널리 알려져 있다. 이 열경화성 수지들은 고밀도화된 다층 프린트 배선판에 있어서 유용한, 양호한 내열성 등의 특성을 구비한다. 그러나 상기 열경화성 수지는 반드시 충분한 저유전율, 저유전 정접 특성을 가지는 것은 아니기 때문에, 전자기기에 요구되는 고주파 특성을 충분히 만족하는 것은 아니었다.Moreover, as an interlayer insulation material of a multilayer printed wiring board, what used thermosetting resins, such as an epoxy resin and a polyimide resin, is widely known. These thermosetting resins have properties such as good heat resistance, which are useful in densified multilayer printed wiring boards. However, since the thermosetting resin does not necessarily have sufficient low dielectric constant and low dielectric loss tangent characteristics, the thermosetting resin did not sufficiently satisfy the high frequency characteristics required for electronic devices.

그 때문에, 상기 고주파 특성을 만족하는 것으로서, 열가소성 수지인 액정 폴리머를 층간 절연재료로 사용한 다층 프린트 배선판도 제안되어 있다. 이러한 액정 폴리머는 저유전율, 저유전 정접의 각 특성에 있어서 뛰어나기 때문에, 다층 프린트 배선판의 고주파 영역에서의 고속·저손실 신호 전송성이 뛰어나다.Therefore, the multilayer printed wiring board which used the liquid crystal polymer which is a thermoplastic resin as an interlayer insulation material is also proposed as what satisfy | fills the said high frequency characteristic. Such a liquid crystal polymer is excellent in the characteristics of low dielectric constant and low dielectric loss tangent, and is excellent in the high speed and low loss signal transmission property in the high frequency area of a multilayer printed wiring board.

그리고, 이러한 액정 폴리머를 층간 절연재료로 사용한 다층 프린트 배선판으로서, 예를 들면 일본국 공개특허 평8-97565호 공보(문헌 1)에는, 회로층(배선회로)을 형성한 배선기판을 겹쳐 적층체를 형성할 시에, 배선기판의 액정 폴리머의 융점보다도 적어도 10℃ 낮은 융점을 가지는 액정 폴리머를 접착층으로서 배선기판 사이에 끼워 넣은 것이 개시되고, 명세서 중에 있어서, 적층체는 겹쳐 쌓은 배선기판을 이형(離型) 패드와 함께 적층 프레스에 배치하여 적층함으로써 형성되는 것이 기재되어 있다. 또한 명세서 중에는, 이 제안에 의하면, 회로층의 액정 폴리머 성분을 그 융점 이상으로 가열할 필요 없이 다층 프린트 배선판을 얻을 수 있다고 기재되어 있다.As a multilayer printed wiring board using such a liquid crystal polymer as an interlayer insulating material, for example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 8-97565 (Document 1) superimposes a wiring board on which a circuit layer (wiring circuit) is formed. In forming the substrate, it is disclosed that a liquid crystal polymer having a melting point at least 10 ° C. lower than the melting point of the liquid crystal polymer of the wiring board is sandwiched between the wiring boards as an adhesive layer, and in the specification, the laminated body releases the stacked wiring boards. It is described that it is formed by laminating | stacking by laminating | stacking with a pad and a lamination press. Moreover, according to this proposal, it is described that a multilayer printed wiring board can be obtained, without having to heat the liquid crystal polymer component of a circuit layer more than its melting | fusing point.

또한 일본국 공개특허 2001-244630호 공보(문헌 2)에는, 배선회로를 형성한 배선회로기판(배선기판)을, 이 배선회로기판의 절연층으로 사용되는 액정 폴리머 필름보다 낮은 내열성을 가지는 액정 폴리머 필름의 상하면에 배치하여 한쌍의 가열롤로 압착시키는 방법이 개시되어 있다. 또한 명세서 중에는 상기 적층 프레스를 사용하는 것과 같이, 낮은 내열성을 가지는 액정 폴리머 필름은 접착층으로서 사용되고, 또한 이때, 배선회로기판(배선기판)의 외면에 보다 낮은 내열성을 가지는 액정 폴리머 필름을 보호막으로서 더 적층하는 것도 기재되어 있다. 또한 명세서 중에는, 각 가열롤이 각 배선회로기판의 표면(외표면)에 형성된 배선회로를 파손하거나 하는 것을 방지하기 위해, 롤 간에 이형시트를 걸쳐 감아서, 이 이형시트를 각 배선회로기판의 표면에 접촉시키면서 롤에 의한 가압을 행하는 것이 기재되어 있다. 또한 명세서 중에는, 이 제안에 의하면, 외관이 양호하고 충분한 치수 안정성 및 고접착력을 가지는 다층 배선회로기판(다층 프린트 배선판)을 저비용으로 얻을 수 있다고 기재되어 있다.Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-244630 (Patent 2) discloses a liquid crystal polymer having a lower heat resistance than a liquid crystal polymer film used as an insulating layer of the wiring circuit board (wiring board) on which the wiring circuit is formed. Disclosed is a method of arranging on the upper and lower surfaces of a film and pressing with a pair of heating rolls. In addition, in the specification, as in the case of using the above laminated press, a liquid crystal polymer film having low heat resistance is used as an adhesive layer, and at this time, a liquid crystal polymer film having lower heat resistance on the outer surface of the wiring circuit board (wiring substrate) is further laminated as a protective film. It is also described. In addition, in this specification, in order to prevent each heating roll from damaging the wiring circuit formed in the surface (outer surface) of each wiring circuit board, it winds around a release sheet between rolls, and this release sheet is wound on the surface of each wiring circuit board. It is described to pressurize with a roll, making contact with. In addition, according to this proposal, it is described that a multilayer wiring circuit board (multilayer printed wiring board) having a good appearance and having sufficient dimensional stability and high adhesion can be obtained at low cost.

문헌 1: 일본국 공개특허 평8-97565호 공보Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 8-97565 문헌 2: 일본국 공개특허 2001-244630호 공보Document 2: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-244630

그러나 상기 종래 기술 중, 전자(문헌 1)의 적층 프레스에 의해 적층하는 것은 롤 압착하는, 이른바 롤 라미네이트에 의해 적층하는 것에 비해 생산성의 면에서 떨어지는 것이 잘 알려져 있다. 또한 적층 프레스시에 액정 폴리머 융점보다도 높은 온도로 적층한 경우는 회로의 유출이나 변형을 발생시키는 불량이 있다고 하는 문제가 있었다.However, in the said prior art, it is well known that lamination | stacking by the lamination | stacking press of the former (document 1) is inferior in productivity compared with lamination | stacking by what is called roll lamination which roll-compresses. Moreover, when laminating at a temperature higher than the liquid crystal polymer melting point at the time of lamination press, there exists a problem that there exists a defect which causes outflow of a circuit and a deformation | transformation.

한편, 후자(문헌 2)의 가열롤에 의해 적층하는 것은, 상기와 같이 생산성이나 비용의 면에서 적층 프레스에 의해 적층하는 것에 비해 뛰어나지만, 각 배선회로기판의 표면(외표면)에 형성된 배선회로에 주는 손상을 완전히 회피하는 것은 어렵다는 문제가 있었다.On the other hand, lamination by the heating roll of the latter (document 2) is superior to lamination by lamination presses in terms of productivity and cost as described above, but the wiring circuit formed on the surface (outer surface) of each wiring circuit board is described above. There was a problem that it was difficult to completely avoid the damage.

즉, 문헌 2에 기재된 방법에 따르면, 최초의 가압롤에 의한 적층공정에 있어서, 가압롤로부터 떨어진 중앙측에 외측의 절연층보다도 낮은 내열성(융점)의 액정 폴리머층을 배치하기 때문에, 적층시의 가열가압 조건이 보다 엄격한 것이 되어, 배선회로의 변형 등의 불량이 우려된다. 또한 마찬가지로 최초의 적층공정을 실제로 행하고자 하는 경우에는, 현실적으로는 회로 파손 방지를 위해 유리 직포 함침 테플론(등록상표) 시트 등의 이형시트가 필수가 된다고 생각되며, 그 경우에는, 적층공정의 미묘한 온도제어의 방해가 되어 다층 회로기판의 불량으로 이어질 우려가 있다.That is, according to the method described in Document 2, in the lamination step by the first press roll, the liquid crystal polymer layer having a lower heat resistance (melting point) than the insulating layer on the outside is disposed on the center side away from the press roll, The heating and pressing conditions become more stringent, and there is a fear that a defect such as deformation of the wiring circuit is caused. Similarly, in the case where the first lamination step is actually to be performed, a release sheet such as a glass woven impregnated Teflon (registered trademark) sheet is indispensable to prevent the breakage of the circuit, and in that case, the delicate temperature of the lamination step It may interfere with control and lead to a defect of the multilayer circuit board.

또한 상기 문헌 1, 2에 기재되어 있는 바와 같은 다층 프린트 배선판에 있어서는, 한층 더한 고밀도화나 소형화를 실현하기 위해, 다층 프린트 배선판의 판 두께의 박형화를 도모하는 경우, 절연층의 내열성이 반드시 충분하지는 않다고 하는 문제가 있었다.In addition, in the multilayer printed wiring boards described in Documents 1 and 2 above, in order to achieve a higher density and a smaller size, in order to reduce the thickness of the multilayer printed wiring board, the heat resistance of the insulating layer is not necessarily sufficient. There was a problem.

본 발명은 상기 종래기술이 가지는 과제에 비추어 이루어진 것으로서, 액정 폴리머로 이루어지는 절연층을 가지는 다층 프린트 배선판을 연속적으로 제조하는 방법에 있어서, 다층 프린트 배선판의 최외면에 형성되어 있는 배선회로의 변형을 방지할 수 있는 다층 프린트 배선판의 제조방법, 그리고 그 제조방법에 의해 얻어지며, 내열성과 뛰어난 고주파 특성을 동시에 실현할 수 있는 다층 프린트 배선판을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and in the method of continuously manufacturing a multilayer printed wiring board having an insulating layer made of a liquid crystal polymer, the deformation of the wiring circuit formed on the outermost surface of the multilayer printed wiring board is prevented. It aims at providing the multilayer printed wiring board which can be obtained by the manufacturing method of the multilayer printed wiring board which can be made, and the manufacturing method which can simultaneously implement | achieve heat resistance and the outstanding high frequency characteristic.

본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 폴리이미드 또는 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 제1의 절연층과 상기 제1의 절연층의 적어도 편면(片面)에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판, 그리고 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 제2의 절연층과 상기 제2의 절연층의 편면에 적층된 도체층을 가지는 도체층 기판을 준비하는 공정과,MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnest research in order to achieve the said objective, the present inventors have a 1st insulating layer which consists of a polyimide or a 1st liquid crystal polymer, and the wiring circuit formed in at least one surface of the said 1st insulating layer. One side of the second insulating layer and the second insulating layer made of a wiring substrate and a second liquid crystal polymer having a melting point lower than the heat deformation temperature of the polyimide and / or a melting point lower than the melting point of the first liquid crystal polymer. Preparing a conductor layer substrate having a conductor layer laminated on the substrate;

상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을, 상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층측을 상기 배선기판에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 공정,Arranging the wiring board and the conductor layer substrate so that the second insulating layer side of the conductor layer substrate faces the wiring board, and successively laminating under heating pressure using a heat pressurizing equipment;

을 포함하는 다층 프린트 배선판의 제조방법에 의해, 다층 프린트 배선판의 최외면에 형성되어 있는 배선회로의 변형을 방지할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.By the manufacturing method of the multilayer printed wiring board containing this, what discovered that the deformation | transformation of the wiring circuit formed in the outermost surface of a multilayer printed wiring board can be prevented, and came to complete this invention.

본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법은, 폴리이미드 또는 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 제1의 절연층과 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판, 그리고 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 제2의 절연층과 상기 제2의 절연층의 편면에 적층된 도체층을 가지는 도체층 기판을 준비하는 공정과,The manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is a wiring board which has the 1st insulating layer which consists of polyimide or a 1st liquid crystal polymer, and the wiring circuit formed in at least one surface of the said 1st insulating layer, and the said polyimide A conductor having a second insulating layer made of a second liquid crystal polymer having a melting point below the heat deflection temperature and / or a melting point lower than the melting point of the first liquid crystal polymer and a conductor layer laminated on one side of the second insulating layer. Preparing a layer substrate;

상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을, 상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층측을 상기 배선기판에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 공정,Arranging the wiring board and the conductor layer substrate so that the second insulating layer side of the conductor layer substrate faces the wiring board, and successively laminating under heating pressure using a heat pressurizing equipment;

을 포함하는 방법이다.It is a method including.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 도체층 기판을 2개 준비하고, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층하는 데 있어 상기 배선기판 및 2개의 도체층 기판을, 상기 배선기판을 사이에 두고 상기 2개의 도체층 기판을 상기 제2의 절연층측을 각각 상기 배선기판에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 것이 바람직하다.In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, the wiring board and the two conductor layer substrates are prepared by preparing two conductor layer substrates and laminating the wiring substrate and the conductor layer substrate. It is preferable that the two conductor layer substrates are disposed so as to face the second insulating layer side to the wiring substrate, respectively, and are laminated successively under heating pressurization using a heat pressurizing equipment.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 제2의 액정 폴리머가 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 5~60℃ 낮은 융점을 가지는 것이 바람직하다.Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, it is preferable that the said 2nd liquid crystal polymer has melting | fusing point 5-60 degreeC lower than melting | fusing point of a 1st liquid crystal polymer.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판이 각각 롤상으로 권회된 것이 바람직하다.Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, it is preferable that the said wiring board and the said conductor layer board were respectively wound in roll shape.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층하는 데 있어, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 각각 인출하여 롤투롤(roll to roll) 방식으로 연속적으로 적층하는 것이 바람직하다.Further, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, in laminating the wiring board and the conductor layer substrate, the wiring board and the conductor layer substrate are respectively drawn out and continuously in a roll to roll manner. It is preferable to laminate.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 가열가압처리 설비가 롤 라미네이터인 것이 바람직하다.Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, it is preferable that the said heating pressurization installation equipment is a roll laminator.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 롤 라미네이터의 롤 선압(線壓)이 10~250kN/m인 것이 바람직하다.Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, it is preferable that the roll linear pressure of the said roll laminator is 10-250 kN / m.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층의 표면을 표면 처리하는 공정을 더 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, it is preferable to further include the process of surface-treating the surface of the said 2nd insulating layer of the said conductor layer board | substrate.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층하는 데 있어, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 가열가압하에서 적층(가적층)하여 적층체(가적층체)를 얻은 후에, 상기 적층체를 열처리 설비를 사용하여 가열함으로써 고온 열처리를 행하는 것이 바람직하다.In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, in the lamination of the wiring board and the conductor layer substrate, the wiring board and the conductor layer substrate are laminated (preliminarily stacked) under heating and pressing to form a laminate (preliminary laminate). ), It is preferable to perform a high temperature heat treatment by heating the laminate using a heat treatment equipment.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 고온 열처리를 행하는 데 있어, 상기 적층체를 하기 수식(F1)으로 표현되는 조건을 만족하는 고온 열처리 온도 T1:Further, in the manufacturing method of the multilayered printed circuit board of the present invention, it is for performing the high temperature heat treatment, high temperature heat treatment temperature satisfying the condition represented by formula (F1) to the laminate T 1:

(제2의 액정 폴리머의 융점)-15℃≤T1≤(제2의 액정 폴리머의 융점)+20℃…(F1)(Melting point of the second liquid crystal polymer) -15 ° C? T 1 ? (F1)

로 가열하는 것이 바람직하다.It is preferable to heat with.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 고온 열처리를 행하는 데 있어, 고온 열처리 시간이 10~180초의 범위인 것이 바람직하다.Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, when performing the said high temperature heat processing, it is preferable that high temperature heat processing time is the range of 10-180 second.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 적층체를 얻는 데 있어, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 하기 수식(F2)으로 표현되는 조건을 만족하는 적층 열처리 온도 T2:In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, in order to obtain the laminated body, the laminated heat treatment temperature T 2 for satisfying the condition expressed by the following formula (F2) for the wiring board and the conductor layer substrate:

(제2의 액정 폴리머의 융점)-100℃≤T2≤(제2의 액정 폴리머의 융점)-20℃…(F2)(Melting point of the second liquid crystal polymer)-100 deg. C < T 2 ? (Melting point of the second liquid crystal polymer)-20 deg. (F2)

에 있어서 적층(가적층)하는 것이 바람직하다.It is preferable to laminate | stack (temporarily laminate) in the process.

본 발명의 다층 프린트 배선판은 배선회로층과 절연층이 교대로 적층되어 이루어지는 다층 프린트 배선판에 있어서,The multilayer printed wiring board of the present invention is a multilayer printed wiring board in which a wiring circuit layer and an insulating layer are laminated alternately,

상기 배선회로층을 통해 서로 이웃하는 2층의 절연층 중 하나의 절연층이 폴리이미드수지층이며, 다른 하나의 절연층이 액정 폴리머층인 적층구조 단위를 포함하는 것이다.One of the two insulating layers adjacent to each other through the wiring circuit layer is a polyimide resin layer, and the other insulating layer includes a laminated structure unit in which a liquid crystal polymer layer is used.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판에 있어서는, 상기 적층구조 단위에 있어서, 상기 액정 폴리머층의 폴리이미드수지층과 서로 이웃하는 측과는 반대측에, 배선회로층을 통해 액정 폴리머층이 더 마련되어 있는 것이 바람직하다.Moreover, in the multilayer printed wiring board of this invention, it is preferable that the liquid crystal polymer layer is further provided in the said laminated structure unit through the wiring circuit layer on the opposite side to the side which adjoins the polyimide resin layer of the said liquid crystal polymer layer. Do.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판에 있어서는, 상기 적층구조 단위에 있어서, 상기 폴리이미드수지층과 상기 액정 폴리머층의 경계면의 거칠기가 4~6㎛의 범위인 것이 바람직하다.Moreover, in the multilayer printed wiring board of this invention, it is preferable that the roughness of the interface of the said polyimide resin layer and the said liquid crystal polymer layer is the range of 4-6 micrometers in the said laminated structure unit.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판에 있어서는, 상기 적층구조 단위에 있어서, 상기 폴리이미드수지층과 상기 액정 폴리머층의 경계면의 거칠기가 4㎛미만이어도 된다.Moreover, in the multilayer printed wiring board of this invention, in the said laminated structure unit, the roughness of the interface of the said polyimide resin layer and the said liquid crystal polymer layer may be less than 4 micrometers.

본 발명에 의하면, 액정 폴리머로 이루어지는 절연층을 가지는 다층 프린트 배선판을 연속적으로 제조하는 방법에 있어서, 다층 프린트 배선판의 최외면에 형성되어 있는 배선회로의 변형을 방지할 수 있는 다층 프린트 배선판의 제조방법, 그리고 그 제조방법에 의해 얻어지는 다층 프린트 배선판을 제공하는 것이 가능해진다.According to the present invention, in the method of continuously manufacturing a multilayer printed wiring board having an insulating layer made of a liquid crystal polymer, a method of manufacturing a multilayer printed wiring board which can prevent deformation of the wiring circuit formed on the outermost surface of the multilayer printed wiring board. And it becomes possible to provide the multilayer printed wiring board obtained by the manufacturing method.

도 1은 제1의 공정에 있어서 사용하는 롤상으로 권회된 동장(銅張) 적층판(a) 및 배선기판(b)을 나타내는 일부 확대 모식 측단면도이다.
도 2는 제1의 공정에 있어서 사용하는 롤상으로 권회된 2권의 도체층 기판을 나타내는 일부 확대 모식 측단면도이다.
도 3은 제2의 공정에서의 가열가압처리 설비의 주변부를 나타내는 모식 측단면도이다.
도 4는 제2의 공정에서의 열처리 설비의 주변부를 나타내는 모식 측단면도이다.
도 5는 제2의 공정에 의해 얻어지는 외층 미가공 다층 프린트 배선판에 실시하는 후공정의 적합한 한 실시형태를 나타내는 모식 측단면도이다(도 5a는 스루홀 형성 처리에 대응하고, 도 5b는 도금 처리에 대응하며, 도 5c는 회로 형성 처리 및 솔더 레지스트 형성 처리에 대응함).
도 6은 본 발명의 다층 프린트 배선판의 적합한 한 실시형태를 나타내는 모식 측단면도이다.
도 7은 본 발명의 다층 프린트 배선판의 적합한 다른 실시형태를 나타내는 모식 측단면도이다.
도 8은 실시예 7에서 얻어지는 다층 프린트 배선판을 나타내는 모식 측단면도이다.
도 9는 실시예 8에서 얻어지는 다층 프린트 배선판을 나타내는 모식 측단면도이다.
도 10은 실시예 9에서 얻어지는 다층 프린트 배선판을 나타내는 모식 측단면도이다.
도 11은 실시예 10에서 얻어지는 다층 프린트 배선판을 나타내는 모식 측단면도이다.
도 12는 실시예 11에서 얻어지는 다층 프린트 배선판의 제조공정을 설명하기 위한 공정도이다.
도 13은 실시예 12에서 얻어지는 다층 프린트 배선판의 제조공정을 설명하기 위한 공정도이다.
도 14는 실시예 13에서 얻어지는 다층 프린트 배선판의 제조공정을 설명하기 위한 공정도이다.
도 15는 실시예 14에서 얻어지는 다층 프린트 배선판의 제조공정을 설명하기 위한 공정도이다.
도 16은 실시예 15에서 얻어지는 다층 프린트 배선판의 제조공정을 설명하기 위한 공정도이다.
도 17은 실시예 16에서 얻어지는 다층 프린트 배선판의 제조공정을 설명하기 위한 공정도이다.
1 is a partially enlarged schematic side cross-sectional view showing a copper clad laminate (a) and a wiring board (b) wound in a roll shape used in a first step.
FIG. 2 is a partially enlarged schematic side sectional view showing two conductor layer substrates wound in a roll shape used in a first step. FIG.
FIG. 3: is a schematic side cross-sectional view which shows the periphery of the heat | fever pressurization installation equipment in a 2nd process.
It is a schematic side cross-sectional view which shows the peripheral part of the heat processing equipment in a 2nd process.
FIG. 5: is a schematic side cross-sectional view which shows one suitable embodiment of the post process performed to the outer layer unprocessed multilayer printed wiring board obtained by a 2nd process (FIG. 5A corresponds to a through-hole formation process, FIG. 5B responds to a plating process) 5C corresponds to the circuit formation process and the solder resist formation process).
It is a schematic side cross-sectional view which shows one suitable embodiment of the multilayer printed wiring board of this invention.
It is a schematic side cross-sectional view which shows another suitable embodiment of the multilayer printed wiring board of this invention.
It is a schematic side cross-sectional view which shows the multilayer printed wiring board obtained in Example 7. FIG.
9 is a schematic side cross-sectional view showing a multilayer printed wiring board obtained in Example 8. FIG.
10 is a schematic side cross-sectional view showing a multilayer printed wiring board obtained in Example 9. FIG.
It is a schematic side cross-sectional view which shows the multilayer printed wiring board obtained in Example 10.
It is process drawing for demonstrating the manufacturing process of the multilayer printed wiring board obtained in Example 11. FIG.
It is process drawing for demonstrating the manufacturing process of the multilayer printed wiring board obtained in Example 12. FIG.
It is process drawing for demonstrating the manufacturing process of the multilayer printed wiring board obtained in Example 13. FIG.
It is process drawing for demonstrating the manufacturing process of the multilayer printed wiring board obtained in Example 14. FIG.
It is process drawing for demonstrating the manufacturing process of the multilayer printed wiring board obtained in Example 15. FIG.
17 is a flowchart for explaining a manufacturing step of the multilayer printed wiring board obtained in Example 16. FIG.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 적합한 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described in detail, referring drawings.

(다층 프린트 배선판의 제조방법)(Manufacturing method of a multilayer printed wiring board)

우선, 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법은, 폴리이미드 또는 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 제1의 절연층과 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판, 그리고 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 제2의 절연층과 상기 제2의 절연층의 편면에 적층된 도체층을 가지는 도체층 기판을 준비하는 공정(제1의 공정)과,First, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is demonstrated. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is a wiring board which has the 1st insulating layer which consists of polyimide or a 1st liquid crystal polymer, and the wiring circuit formed in at least one surface of the said 1st insulating layer, and the said polyimide A conductor having a second insulating layer made of a second liquid crystal polymer having a melting point below the heat deflection temperature and / or a melting point lower than the melting point of the first liquid crystal polymer and a conductor layer laminated on one side of the second insulating layer. Preparing a layer substrate (first process),

상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을, 상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층측을 상기 배선기판에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 공정(제2의 공정),Arranging the wiring substrate and the conductor layer substrate so that the second insulating layer side of the conductor layer substrate faces the wiring substrate, and successively laminating the substrate under heating and fair),

을 포함하는 방법이다.It is a method including.

우선, 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 사용하는 폴리이미드, 그리고 제1 및 제2의 액정 폴리머에 대하여 설명한다. 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 사용하는 폴리이미드란, 분자 중에 이미드 결합을 가지는 폴리이미드나 폴리아미드를 주성분으로 하는 것으로서, 반드시 단일의 폴리이미드로만 이루어질 필요는 없고, 다른 수지와의 혼합물이어도 된다. 폴리이미드는 공지의 디아미노화합물과 테트라카르본산 또는 그 무수물을 적당히 선정해, 소망의 특성이 얻어지도록 이들을 조합시켜 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 또한 이들 폴리이미드는, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 치수 정밀도의 관점에서, 예를 들면 0~35×10-6/℃(보다 바람직하게는, 1×10-6~25×10-6/℃)의 범위의 선팽창 계수를 가지는 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 예를 들면 이러한 폴리이미드수지를 제1의 절연층으로 하고, 그 적어도 편면에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판을 사용하는데, 그 경우, 시판되어 있는 폴리이미드 필름 또는 폴리이미드 및 동박(銅箔)으로 이루어지는 동장 적층판을 사용하는 것이 간편하다. 폴리이미드 필름을 사용하는 경우에는, 스퍼터 등의 공지의 방법으로 회로 형성하여 배선기판으로 할 수 있다. 또한 동장 적층판을 사용하는 경우에는, 공지의 방법으로 임의의 배선회로를 형성하여 배선기판으로 할 수 있다. 이러한 폴리이미드 필름으로서는, 아피칼 AH, NPI(가부시키가이샤 카네카사 제품), 유필렉스 S(우베 고산 가부시키가이샤 제품), 캡톤(토레·듀폰 가부시키가이샤 제품) 등을 사용할 수 있다. 또한 이러한 동장 적층판으로서는, 에스파넥스 S 시리즈나 M 시리즈(모두 신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품)를 사용할 수 있다. 또한 이러한 폴리이미드의 열변형 온도는 300~380℃의 범위인 것이 바람직하고, 320~360℃의 범위인 것이 바람직하다.First, the polyimide used for the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, and the 1st and 2nd liquid crystal polymer are demonstrated. The polyimide used for the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention has a polyimide and polyamide which have an imide bond in a molecule as a main component, and does not necessarily need to consist only of a single polyimide, A mixture may be sufficient. A polyimide can be obtained by selecting a well-known diamino compound, tetracarboxylic acid, or its anhydride suitably, combining them so that desired characteristics may be obtained, and making it react. Moreover, these polyimides are 0-35x10 <-6> / degreeC (more preferably, 1x10 <-6> -25 * 10 <-6> / degreeC) from a viewpoint of the dimensional precision of the multilayer printed wiring board obtained. It is desirable to have a linear expansion coefficient in the range. In the present invention, for example, such a polyimide resin is used as the first insulating layer, and a wiring board having a wiring circuit formed on at least one side thereof is used. In that case, a commercially available polyimide film or polyimide and copper foil ( It is easy to use the copper clad laminated board which consists of i). When using a polyimide film, it can form a circuit board by circuit formation by well-known methods, such as a sputter | spatter. In the case of using a copper clad laminate, any wiring circuit can be formed by a known method to form a wiring board. As such a polyimide film, Apical AH, NPI (manufactured by Kaneka Corporation), Euphilex S (manufactured by Ube Koyama Co., Ltd.), Kapton (manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) and the like can be used. Moreover, as such a copper clad laminated board, Espanex S series and M series (all are the Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd. make) can be used. Moreover, it is preferable that it is the range of 300-380 degreeC, and, as for the heat distortion temperature of such polyimide, it is preferable that it is the range of 320-360 degreeC.

본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 사용하는 제1 및 제2의 액정 폴리머란, 광학적 이방성의 용융상(溶融相)을 형성하는 것을 말한다. 이들 액정 폴리머는 특별히 그 종류가 한정되는 것은 아니지만, 이른바 전 방향족 액정 폴리머, 즉, 지방족 장쇄를 포함하지 않고 실질적으로 방향족만으로 구성되는 액정 폴리머가 바람직하다. 또한 이들 중에서도, 6-히드록시-2-나프토에산(naphthoic acid)과 p-히드록시안식향산으로 이루어지는 폴리에스테르를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한 이들의 액정 폴리머로서는, 적당한 종류의 액정재료를 조합시킨 혼합물을 사용할 수도 있고, 예를 들면 시판되어 있는 동장 적층판에 절연층으로서 사용되는 액정 폴리머 등의 각종의 액정 폴리머 중에서 적당히 선정하여 사용할 수도 있다. 또한 이들 액정 폴리머는, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 치수 정밀도의 관점에서, 예를 들면, 1×10-6~25×10-6/℃의 범위의 선팽창 계수를 가지는 것이 바람직하다. 또한 본 발명에서는, 예를 들면 이러한 액정 폴리머를 제2의 절연층으로 하고, 그 적어도 편면에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판을 사용하는데, 그 경우, 시판되어 있는 액정 폴리머 필름 또는 액정 폴리머 및 동박으로 이루어지는 동장 적층판을 사용하는 것이 간편하다. 이와 같은 액정 폴리머 필름으로서는, 벡스타(가부시키가이샤 쿠라레이사 제품) 등을 사용할 수 있다. 또한 이러한 동장 적층판으로서는, 에스파넥스 L 시리즈(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품)를 사용할 수 있다. 또한 이러한 제1의 액정 폴리머의 융점은 280~350℃의 범위에 있는 것이 바람직하고, 또한 이러한 제2의 액정 폴리머의 융점은 180~280℃의 범위에 있는 것이 바람직하다.The 1st and 2nd liquid crystal polymers used for the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention mean forming an optically anisotropic molten phase. Although these types of liquid crystal polymers are not particularly limited, so-called all aromatic liquid crystal polymers, that is, liquid crystal polymers containing substantially no aromatic aliphatic long chains, are preferred. Moreover, it is more preferable to use the polyester which consists of 6-hydroxy- 2-naphthoic acid and p-hydroxy benzoic acid among these. Moreover, as these liquid crystal polymers, the mixture which combined the appropriate kind of liquid crystal material can also be used, For example, it can also select suitably from various liquid crystal polymers, such as the liquid crystal polymer used as an insulating layer in a commercial copper clad laminated board, and can use it suitably. . Moreover, it is preferable that these liquid crystal polymers have a linear expansion coefficient of the range of 1 * 10 <-6> -25 * 10 <-6> / degreeC , for example from a viewpoint of the dimensional precision of the multilayer printed wiring board obtained. In the present invention, for example, such a liquid crystal polymer is used as a second insulating layer, and a wiring board having a wiring circuit formed on at least one side thereof is used. In this case, a commercially available liquid crystal polymer film or liquid crystal polymer and copper foil are used. It is easy to use the copper clad laminated board which consists of. As such a liquid crystal polymer film, BEXSTAR (made by Kuraray Co., Ltd.) etc. can be used. Moreover, as such a copper clad laminated board, Espanex L series (made by Shinnitetsu Chemical Co., Ltd.) can be used. Moreover, it is preferable that melting | fusing point of this 1st liquid crystal polymer exists in the range of 280-350 degreeC, and it is preferable that melting | fusing point of this 2nd liquid crystal polymer exists in the range of 180-280 degreeC.

이러한 폴리이미드 또는 제1의 액정 폴리머는 본 발명에 따른 제1의 절연층의 재료이다. 또한 이러한 제2의 액정 폴리머는 본 발명에 따른 제2의 절연층의 재료이다. 그리고, 본 발명에 있어서는, 상기 제2의 액정 폴리머가 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 것이 필요하다. 이와 같이, 상기 제2의 액정 폴리머의 융점이 상기 폴리이미드의 열변형 온도 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮아지도록 함으로써, 후술하는 제2의 공정에 있어서, 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로간에의 상기 제2의 액정 폴리머의 충전성을 유지하면서, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 변형을 방지하는 것이 가능해진다.This polyimide or first liquid crystal polymer is the material of the first insulating layer according to the invention. This second liquid crystal polymer is also the material of the second insulating layer according to the present invention. And in this invention, it is necessary for the said 2nd liquid crystal polymer to have melting | fusing point lower than the heat distortion temperature of the said polyimide, and / or lower than melting | fusing point of the said 1st liquid crystal polymer. Thus, by making melting | fusing point of the said 2nd liquid crystal polymer lower than the heat distortion temperature of the said polyimide, and / or melting | fusing point of the said 1st liquid crystal polymer, the said 1st insulating layer in the 2nd process mentioned later It is possible to prevent deformation of the obtained multilayer printed wiring board while maintaining the filling property of the second liquid crystal polymer between the wiring circuits formed on at least one side of the substrate.

또한 본 발명에 있어서는, 상기 제2의 액정 폴리머의 융점이 상기 폴리이미드의 열변형 온도보다도 5℃이상 낮은 것이 바람직하고, 상기 폴리이미드의 열변형 온도보다도 5~200℃ 낮은 것이 보다 바람직하다. 또한 상기 제2의 액정 폴리머의 융점은 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 5~60℃ 낮은 것이 바람직하고, 10~60℃ 낮은 것이 보다 바람직하며, 15~40℃ 낮은 것이 특히 바람직하다. 상기 제2의 액정 폴리머의 융점이 상기 하한 미만에서는, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 치수 정밀도가 불충분해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 넘으면 얻어지는 다층 프린트 배선판의 휨이나 회로 변형이 커지는 경향이 있다. 또한 본 발명에서의 열변형 온도란, 필름에 일정의 하중을 가하여 승온시켰을 때에 하중에 의해 급격하게 필름이 늘어나기 시작하는 온도를 말한다. 그리고, 열변형 온도는 ASTM D648 또는 JIS K7191에 기재되어 있는 방법에 준하여 측정할 수 있고, 예를 들면 이하와 같은 방법으로 측정할 수 있다. 즉, 열 기계 분석장치(TMA)를 사용하여 샘플에 5g의 하중을 가하고, 승온속도 10℃/min으로 400℃까지 승온했을 때의 샘플의 치수 변화를 측정하여, Tg 이하의 늘어남의 외삽선(外揷線)과 Tg 이상의 늘어남의 외삽선의 교점으로부터 열변형 온도를 구할 수 있다. 또한 융점이란, 시차주사(示差走査) 열량계(DSC)를 사용하여 승온속도 10℃/min으로 360℃까지 승온했을 때에 관찰되는 흡열 피크의 온도를 말한다.Moreover, in this invention, it is preferable that melting | fusing point of the said 2nd liquid crystal polymer is 5 degreeC or more lower than the heat distortion temperature of the said polyimide, and it is more preferable that it is 5-200 degreeC lower than the heat deformation temperature of the said polyimide. The melting point of the second liquid crystal polymer is preferably 5 to 60 ° C lower than the melting point of the first liquid crystal polymer, more preferably 10 to 60 ° C lower, and particularly preferably 15 to 40 ° C lower. If melting | fusing point of the said 2nd liquid crystal polymer is less than the said minimum, there exists a tendency for the dimensional precision of the multilayer printed wiring board obtained to become inadequate, and when it exceeds the said upper limit, there exists a tendency for the curvature and circuit deformation of the multilayer printed wiring board obtained to become large. In addition, the heat deflection temperature in this invention means the temperature which a film starts to increase rapidly with a load, when a certain load is heated and it heats up. And heat distortion temperature can be measured according to the method described in ASTM D648 or JIS K7191, for example, can be measured by the following method. In other words, by applying a thermomechanical analyzer (TMA) to the sample 5g load, by measuring the dimensional change of the sample when the temperature is raised to 400 ℃ at a temperature increase rate of 10 ℃ / min, the extrapolation of the extension of Tg or less ( The heat deflection temperature can be obtained from the intersection of the external line and the extrapolation of the elongation above Tg. In addition, melting | fusing point means the temperature of the endothermic peak observed when heated up to 360 degreeC with the temperature increase rate of 10 degreeC / min using a differential scanning calorimeter (DSC).

이상, 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 사용하는 폴리이미드, 그리고 제1 및 제2의 액정 폴리머에 대하여 설명하였는데, 이하, 도 1~도 5를 참조하면서 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 대하여 설명한다. 도 1~도 5는 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법의 적합한 한 실시형태를 설명하기 위한 모식 측단면도이다. 그리고, 도 1 및 도 2는 제1의 공정에 대응하고, 도 3 및 도 4는 제2의 공정에 대응하며, 도 5는 후술하는 후공정에 대응한다.As mentioned above, although the polyimide used for the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, and the 1st and 2nd liquid crystal polymer were demonstrated, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is hereafter referring FIG. It demonstrates. 1-5 is a schematic side sectional view for demonstrating one suitable embodiment of the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention. 1 and 2 correspond to the first process, FIGS. 3 and 4 correspond to the second process, and FIG. 5 corresponds to a later process to be described later.

제1의 공정에 있어서는, 우선, 도 1b에 나타내는 바와 같은 상기 폴리이미드 또는 상기 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 제1의 절연층(12)과, 제1의 절연층(12)의 적어도 편면에 형성된 배선회로(16)를 가지는 배선기판(18)을 준비한다. 이러한 배선기판(18)은 특별히 한정되지 않지만, 도 1b에 나타내는 바와 같이 롤상으로 권회된 것이 바람직하다. 이와 같이 롤상으로 권회된 것을 사용함으로써, 다층 프린트 배선판의 제조방법을 롤투롤 방식으로 실시할 수 있고, 한층 더 생산성의 향상을 도모할 수 있다. 또한 이러한 배선기판(18)은, 예를 들면 도 1a에 나타내는 바와 같은 롤상으로 권회된 제1의 절연층(12)과, 제1의 절연층(12)의 적어도 편면에 적층된 동박(10)을 가지는 동장 적층판(14)에 대하여, 회로 형성 처리를 실시함으로써 제작할 수 있다. 이러한 회로 형성 처리로서는, 예를 들면 동장 적층판(14)에 에칭 레지스트 라미네이트, 노광, 현상, 에칭, 레지스트 박리의 처리를 순차로 실시하는 방법을 채용할 수 있다. 또한 이러한 회로 형성 처리는 롤투롤 방식으로 실시하는 것이 바람직하다.In the first step, first, the first insulating layer 12 made of the polyimide or the first liquid crystal polymer as shown in FIG. 1B and the first insulating layer 12 are formed on at least one side thereof. The wiring board 18 having the wiring circuit 16 is prepared. Although the wiring board 18 is not specifically limited, As shown in FIG. 1B, it is preferable to be wound in roll shape. By using the thing wound in roll shape in this way, the manufacturing method of a multilayer printed wiring board can be performed by a roll-to-roll system, and further productivity can be aimed at. In addition, the wiring board 18 includes, for example, the first insulating layer 12 wound in a roll shape as shown in FIG. 1A and the copper foil 10 laminated on at least one surface of the first insulating layer 12. About the copper clad laminated board 14 which has a structure, it can manufacture by performing a circuit formation process. As such a circuit formation process, the method of performing etching resist lamination, exposure, image development, an etching, and resist peeling to the copper clad laminated board 14 in order, for example can be employ | adopted. Moreover, it is preferable to perform this circuit formation process by a roll-to-roll system.

또한 제1의 절연층(12)은 상기 폴리이미드 또는 상기 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 층이면 되며, 특별히 한정되지 않는다. 그리고, 이러한 제1의 절연층(12)으로서는, 상기 폴리이미드 필름, 또는 시판되어 있는 액정 폴리머 필름을 적당히 선택하여 사용해도 된다. 이러한 액정 폴리머 필름으로서는, 벡스타(가부시키가이샤 쿠라레이사 제품) 등을 사용할 수 있다. 또한 이러한 제1의 절연층(12)을 가지는 동장 적층판(14)으로서는, 에스파넥스 L 시리즈(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품)나 에스파넥스 M 시리즈(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품) 등을 사용할 수 있다.Moreover, the 1st insulating layer 12 should just be a layer which consists of said polyimide or said 1st liquid crystal polymer, and is not specifically limited. And as this 1st insulating layer 12, you may select and use the said polyimide film or a commercially available liquid crystal polymer film suitably. As such a liquid crystal polymer film, BEXSTAR (made by Kuraray Co., Ltd.) etc. can be used. Moreover, as the copper clad laminated board 14 which has such a 1st insulating layer 12, Espanex L series (made by Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd.) and Espanex M series (made by Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned. Can be used.

또한 제1의 절연층(12)의 두께는, 예를 들면 5~100㎛의 범위로 할 수 있고, 바람직하게는 10~50㎛의 범위이다. 또한 배선회로(16)의 두께는, 예를 들면 3~35㎛의 범위로 할 수 있고, 바람직하게는 5~25㎛의 범위이다.Moreover, the thickness of the 1st insulating layer 12 can be made into the range of 5-100 micrometers, for example, Preferably it is the range of 10-50 micrometers. The thickness of the wiring circuit 16 can be, for example, in the range of 3 to 35 µm, and preferably in the range of 5 to 25 µm.

제1의 공정에 있어서는, 다음으로, 도 2에 나타내는 바와 같은 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 제2의 절연층(22)과, 제2의 절연층(22)의 편면에 적층된 도체층(20)을 가지는 도체층 기판(24)을 준비한다. 이러한 제2의 절연층(22)은 상기 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 층이면 되며, 특별히 한정되지 않는다. 그리고, 이러한 제2의 절연층(22)으로서는, 시판되어 있는 액정 폴리머 필름을 적당히 선택하여 사용해도 된다. 이러한 액정 폴리머 필름으로서는, 벡스타(가부시키가이샤 쿠라레이사 제품) 등을 사용할 수 있다. 또한 도체층(20)의 재료로서는, 적당한 도전성이 양호한 금속을 사용할 수 있는데, 구리를 사용하는 것이 특히 바람직하다. 또한 이러한 제2의 절연층(22)을 가지는 도체층 기판(24)으로서는, 에스파넥스 L 시리즈(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품) 등을 사용할 수 있다.In the first step, a second liquid crystal polymer having a melting point that is lower than the heat deformation temperature of the polyimide as shown in FIG. 2 and / or a melting point lower than the melting point of the first liquid crystal polymer is shown. The conductor layer substrate 24 which has the insulating layer 22 and the conductor layer 20 laminated | stacked on the single side | surface of the 2nd insulating layer 22 is prepared. The second insulating layer 22 may be a layer made of the second liquid crystal polymer, and is not particularly limited. And as this 2nd insulating layer 22, you may select a commercially available liquid crystal polymer film suitably. As such a liquid crystal polymer film, BEXSTAR (made by Kuraray Co., Ltd.) etc. can be used. In addition, as a material of the conductor layer 20, a metal having good electrical conductivity can be used, and copper is particularly preferable. As the conductor layer substrate 24 having the second insulating layer 22, Espanex L series (manufactured by Shinnitetsu Chemical Co., Ltd.) or the like can be used.

또한 제2의 절연층(22)의 두께는, 예를 들면 5~100㎛의 범위로 할 수 있고, 바람직하게는 10~50㎛의 범위이다. 또한 도체층(20)의 두께는, 예를 들면 3~35㎛의 범위로 할 수 있고, 바람직하게는 5~25㎛의 범위이다.Moreover, the thickness of the 2nd insulating layer 22 can be made into the range of 5-100 micrometers, for example, Preferably it is the range of 10-50 micrometers. Moreover, the thickness of the conductor layer 20 can be made into the range of 3-35 micrometers, for example, Preferably it is the range of 5-25 micrometers.

또한 이러한 도체층 기판(24)은 배선기판(18)이 편면에만 배선회로(16)를 가지는 것일 경우에는 적어도 한 개 준비하면 되지만, 배선기판(18)이 양면에 배선회로(16)를 가지는 것일 경우에는 2개 준비하는 것이 바람직하다.Further, at least one conductor layer substrate 24 may be prepared when the wiring substrate 18 has the wiring circuit 16 only on one side, but the wiring substrate 18 has the wiring circuit 16 on both sides. In this case, it is preferable to prepare two.

또한 이러한 도체층 기판(24)에 있어서는, 후술하는 제2의 공정을 행하기 전에, 상기 제2의 액정 폴리머(상기 제2의 절연층)의 표면을 표면 처리해 두는 것이 바람직하고, 이것에 의해 적층면의 밀착 강도를 향상시킬 수 있다. 또한 이러한 표면 처리 방법으로서는, 알칼리 혼합용액에 의한 에칭 처리나 플라즈마에 의한 에칭 처리가 적합하게 적용 가능하다.Moreover, in such a conductor layer board | substrate 24, it is preferable to surface-treat the surface of the said 2nd liquid crystal polymer (the said 2nd insulating layer) before performing the 2nd process mentioned later, and laminating by this The adhesion strength of the surface can be improved. As such a surface treatment method, an etching treatment with an alkali mixed solution or an etching treatment with plasma can be suitably applied.

제2의 공정에 있어서는, 우선, 상기 배선기판(18) 및 상기 도체층 기판(24)을, 상기 도체층 기판(24)의 제2의 절연층측을 상기 배선기판(18)을 향하도록 배치한다. 여기서, 배선기판(18)이 양면에 배선회로(16)를 가지는 것일 경우에는, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 최외면에 형성되어 있는 배선회로의 변형을 방지한다는 관점에서, 도 3에 나타내는 바와 같이, 배선기판(18) 및 2개의 도체층 기판(24)을, 배선기판(18)을 사이에 두고 2개의 도체층 기판(24)을 제2의 절연층측을 각각 배선기판(18)을 향하도록 배치하는 것이 바람직하다. 또한 배선기판(18) 및 도체층 기판(24)이 롤상으로 권회된 것일 경우에는 그들을 인출하여 사용할 수 있다.In the second step, first, the wiring board 18 and the conductor layer substrate 24 are disposed so that the second insulating layer side of the conductor layer substrate 24 faces the wiring board 18. . Here, when the wiring board 18 has the wiring circuit 16 on both sides, as shown in FIG. 3 from a viewpoint of preventing deformation of the wiring circuit formed in the outermost surface of the multilayer printed wiring board obtained, wiring is shown. The substrate 18 and the two conductor layer substrates 24 are arranged so that the two conductor layer substrates 24 are disposed with the wiring substrate 18 therebetween so that the second insulating layer side faces the wiring substrate 18, respectively. It is preferable. In addition, when the wiring board 18 and the conductor layer board 24 are wound in roll shape, they can be taken out and used.

제2의 공정에 있어서는, 그 후 상기 배선기판(18) 및 상기 도체층 기판(24)을 가열가압처리 설비(27)를 사용해 가열가압하에서 연속적으로 적층하여, 최외면이 미가공인 다층 프린트 배선판(외층 미가공 다층 프린트 배선판)을 얻는다(도 3). 이러한 가열가압처리 설비(27)는 생산성의 관점에서 롤투롤 방식으로 연속적으로 처리 가능한 것이 바람직하다. 또한 이러한 가열가압처리 설비(27)로서는, 롤 라미네이터, 더블스틸벨트 프레스, 연속 프레스 장치(예를 들면, 메이키 세이사쿠쇼사 제품 MVLP 시리즈) 등의 장치를 사용할 수 있는데, 생산성의 관점에서 롤 라미네이터를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 가열가압처리 설비(27)로서 롤 라미네이터를 사용하는 경우에는, 롤 라미네이터에 의한 롤 선압(라미네이트압)이 10~250kN/m인 것이 바람직하고, 25~150kN/m인 것이 보다 바람직하다. 롤 선압이 상기 하한 미만에서는, 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로간에의 상기 제2의 액정 폴리머의 충전성, 그리고 상기 배선회로와 상기 제2의 절연층의 접착성이 불충분해지는 경향이 있고, 한편 상기 상한을 넘으면, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 휨이 커지거나, 상기 제2의 액정 폴리머의 두께 변화가 커지는 경향이 있다. 또한 롤 라미네이터의 롤 온도(표면 온도)는 150~300℃인 것이 바람직하다.In the second step, the wiring board 18 and the conductor layer substrate 24 are subsequently laminated under a heating pressurization using a heating pressurizing facility 27, and the outermost surface of the multilayer printed wiring board ( Outer layer unprocessed multilayer printed wiring board) (FIG. 3). It is preferable that such a heating and pressing treatment facility 27 can be continuously processed in a roll-to-roll manner from the viewpoint of productivity. Moreover, as such a heating and pressurizing apparatus 27, apparatuses, such as a roll laminator, a double steel belt press, and a continuous press apparatus (for example, the MVLP series by Meiki Seisakusho Co., Ltd.), can be used, but from a viewpoint of productivity, it is a roll laminator. Preference is given to using. Moreover, when using a roll laminator as the heating pressurization equipment 27, it is preferable that roll linear pressure (lamination pressure) by a roll laminator is 10-250 kN / m, and it is more preferable that it is 25-150 kN / m. When roll linear pressure is less than the said minimum, the filling property of the said 2nd liquid crystal polymer between the wiring circuits formed in the at least single side | surface of the said 1st insulating layer, and the adhesiveness of the said wiring circuit and the said 2nd insulating layer will become inadequate. On the other hand, when it exceeds the said upper limit, the curvature of the multilayer printed wiring board obtained will become large, and there exists a tendency for the thickness change of the said 2nd liquid crystal polymer to become large. Moreover, it is preferable that the roll temperature (surface temperature) of a roll laminator is 150-300 degreeC.

또한 이러한 제2의 공정에 있어서는, 상기 배선기판(18) 및 상기 도체층 기판(24)을 적층하는 데 있어, 상기 배선기판(18) 및 상기 도체층 기판(24)을 가열가압하에서 적층(가적층)하여 적층체(26)(가적층체(26))를 얻은 후에, 도 4에 나타내는 바와 같이 상기 적층체(26)를 열처리 설비(29)를 사용해 가열함으로써 고온 열처리를 행하여, 최외면이 미가공인 다층 프린트 배선판(외층 미가공 다층 프린트 배선판(28))을 얻는 것이 바람직하다.In the second step, the wiring board 18 and the conductor layer substrate 24 are laminated in the laminating under heating and pressing (the temporary substrate). Layer) to obtain the laminate 26 (preliminary laminate 26), and then the laminate 26 is heated using a heat treatment facility 29 to heat the laminate 26 as shown in FIG. 4, and the outermost surface is unprocessed. It is preferable to obtain a phosphorus multilayer printed wiring board (outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28).

이와 같이 가적층체를 얻은 후에 고온 열처리를 행하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판을 얻는 방법은, 롤 라미네이터 등의 가열가압처리 설비만을 사용하여 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층해서 외층 미가공 다층 프린트 배선판을 얻는 방법에 비해, 이하에 설명하는 바와 같은 점에서 유리하다. 즉, 롤 라미네이터 등의 가열가압처리 설비만을 사용하여 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층해서 외층 미가공 다층 프린트 배선판을 얻는 경우에는, 단시간의 가열가압처리로 상기 배선회로간에의 상기 제2의 액정 폴리머의 충전성, 상기 배선회로와 상기 제2의 절연층의 접착성, 그리고 얻어지는 다층 프린트 배선판의 변형 방지라고 하는 3개의 관점을 만족하도록 하여 이들을 적층할 필요가 있고, 예를 들면 내열성이나 두께와 같은 원료 품질의 편차에 의한 영향도 감안하면, 적층공정에서의 미묘한 조건 관리가 필요해질 우려가 있다. 또한 이러한 조건 관리하에서 양호한 적층이 실시된 경우에도, 가열가압 조건하에서의 적층에 의해 발생했다고 생각되는 잔류 응력에 의해, 그 후의 공정에 있어서, 다층 프린트 배선판에 휨이 발생하여, 다층 프린트 배선판으로서 부품을 실장하여 사용하는 경우에 있어서 불량이 발생할 우려가 있다.The method of obtaining an outer layer unprocessed multilayer printed wiring board by performing a high temperature heat treatment after obtaining the provisional laminate in this manner is to obtain the outer layer unprocessed multilayer printed wiring board by laminating the wiring substrate and the conductor layer substrate using only a heating and pressing treatment equipment such as a roll laminator. Compared with the method, it is advantageous at the point described below. That is, when laminating the wiring substrate and the conductor layer substrate using only a heating pressurizing equipment such as a roll laminator to obtain an outer layer unprocessed multilayer printed wiring board, the second liquid crystal between the wiring circuits by a short heating and pressing process is obtained. It is necessary to laminate these layers in such a manner as to satisfy three aspects of the filling properties of the polymer, the adhesion between the wiring circuit and the second insulating layer, and the prevention of deformation of the obtained multilayer printed wiring board. In view of the influence of the same variation in raw material quality, there is a concern that delicate condition management in the lamination step is required. Further, even when good lamination is performed under such condition management, warpage occurs in the multilayer printed wiring board in the subsequent step due to residual stress that is considered to have occurred due to lamination under heating and pressing conditions, and the component is formed as a multilayer printed wiring board. In the case of mounting and using, there exists a possibility that a defect may arise.

이에 대하여, 상기와 같이 가적층체를 얻은 후에 고온 열처리를 행하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판을 얻는 경우에는, 얻어지는 외층 미가공 다층 프린트 배선판에 잔류 응력이 생기기 어렵다. 그 때문에, 이와 같이 하여 다층 프린트 배선판의 휨을 충분히 억제할 수 있다. 또한 이러한 경우에는, 롤 라미네이터 등의 가열가압처리 설비(27)만을 사용하여 적층할 경우에 비해, 다층 프린트 배선판을 제조할 때에 상기의 3개의 관점을 동시에 만족하는 제조 조건을 용이하게 찾아낼 수 있다.On the other hand, when a high temperature heat treatment is performed after obtaining a temporary laminated body as mentioned above and an outer layer raw multilayer printed wiring board is obtained, a residual stress hardly arises in the outer layer raw multilayer printed wiring board obtained. Therefore, the curvature of a multilayer printed wiring board can be fully suppressed in this way. In this case, compared to the case of lamination using only heat-pressing equipment 27 such as a roll laminator, when manufacturing a multilayer printed wiring board, it is possible to easily find a manufacturing condition that satisfies the above three aspects. .

이와 같이 가적층체(26)를 얻은 후에 고온 열처리를 행하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)을 얻는 경우에는, 가적층체(26)를 얻는 데 있어, 상기 배선기판(18) 및 상기 도체층 기판(24)을 하기 수식(F2)으로 표현되는 조건을 만족하는 적층 열처리 온도(가적층 열처리 온도) T2:In this way, in the case of obtaining the outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 by performing a high temperature heat treatment after obtaining the provisional laminate 26, the wiring substrate 18 and the conductor layer substrate 24 are obtained. ) Is a lamination heat treatment temperature (temporary heat treatment temperature) that satisfies the condition expressed by the following formula (F2) T 2 :

(제2의 액정 폴리머의 융점)-100℃≤T2≤(제2의 액정 폴리머의 융점)-20℃…(F2)(Melting point of the second liquid crystal polymer)-100 deg. C &lt; T 2 ? (Melting point of the second liquid crystal polymer)-20 deg. (F2)

에 있어서 적층(가적층)하는 것이 바람직하다. 가적층 열처리 온도 T2가 상기 하한 미만에서는, 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로간에의 상기 제2의 액정 폴리머의 충전성, 그리고 상기 배선회로와 상기 제2의 절연층의 접착성이 불충분해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 넘으면, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 휨을 충분히 억제할 수 없는 경향이 있다.It is preferable to laminate | stack (temporarily laminate) in the process. When the temporary heat treatment temperature T 2 is less than the lower limit, the chargeability of the second liquid crystal polymer between wiring circuits formed on at least one side of the first insulating layer, and the adhesion of the wiring circuit and the second insulating layer. There exists a tendency for a sex to become inadequate, and on the other hand, when it exceeds the said upper limit, there exists a tendency which the curvature of the multilayer printed wiring board obtained cannot fully be suppressed.

또한 이와 같이 가적층체(26)를 얻은 후에 고온 열처리를 행하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)을 얻는 경우에는, 상기 고온 열처리를 행하는 데 있어, 가적층체(26)를 하기 수식(F1)으로 표현되는 조건을 만족하는 고온 열처리 온도 T1:In addition, when obtaining the outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 by performing high temperature heat processing after obtaining the laminated body 26 in this way, in performing the said high temperature heat processing, the laminated body 26 is represented by following formula (F1). High temperature heat treatment temperature satisfying the condition T 1 :

(제2의 액정 폴리머의 융점)-15℃≤T1≤(제2의 액정 폴리머의 융점)+20℃…(F1)(Melting point of the second liquid crystal polymer) -15 ° C? T 1 ? (F1)

로 가열하는 것이 바람직하다. 고온 열처리 온도 T1이 상기 하한 미만에서는, 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로간에의 상기 제2의 액정 폴리머의 충전성, 그리고 상기 배선회로와 상기 제2의 절연층의 접착성이 불충분해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 넘으면, 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로에 변형이나 주름이 생기는 경향이 있다.It is preferable to heat with. When the high temperature heat treatment temperature T 1 is less than the lower limit, the filling property of the second liquid crystal polymer between the wiring circuits formed on at least one side of the first insulating layer, and the adhesiveness of the wiring circuit and the second insulating layer. On the other hand, when the upper limit is exceeded, deformation or wrinkles tend to occur in the wiring circuit formed on at least one side of the first insulating layer.

또한 상기 고온 열처리를 행하는 데 있어, 고온 열처리 시간은 5초 이상으로 하는 것이 바람직하고, 10~180초의 범위로 하는 것이 보다 바람직하다. 고온 열처리 시간이 5초 미만에서는, 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로간에의 상기 제2의 액정 폴리머의 충전성, 그리고 상기 배선회로와 상기 제2의 절연층의 접착성이 불충분해지는 경향이 있고, 한편, 180초를 넘으면, 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로에 변형이나 주름이 생길 우려가 있다.In addition, in performing the said high temperature heat processing, it is preferable to make high temperature heat processing time into 5 second or more, and it is more preferable to set it as the range of 10-180 second. If the high temperature heat treatment time is less than 5 seconds, the filling property of the second liquid crystal polymer between the wiring circuits formed on at least one side of the first insulating layer and the adhesion between the wiring circuit and the second insulating layer are insufficient. On the other hand, when it exceeds 180 second, there exists a possibility that a distortion and a wrinkle may arise in the wiring circuit formed in the at least single side | surface of the said 1st insulating layer.

또한 이러한 열처리 설비(29)는 생산성의 관점에서, 롤투롤 방식으로 연속적으로 처리 가능한 것이 바람직하다. 또한 이러한 열처리 설비(29)로서는, 예를 들면 터널로(tunnel furnace), 원적외선로, 열풍건조로를 들 수 있다.In addition, it is preferable that such a heat treatment installation 29 can be processed continuously in a roll-to-roll manner from the viewpoint of productivity. Moreover, as this heat processing installation 29, a tunnel furnace, a far infrared furnace, and a hot air drying furnace are mentioned, for example.

본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 제2의 공정에 의해 얻어지는 외층 미가공 다층 프린트 배선판에, 필요에 따라, 이하 설명하는 후공정을 행함으로써 다층 프린트 배선판을 얻을 수 있다. 또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 외층 미가공 다층 프린트 배선판을 다층 프린트 배선판의 제품 치수로 재단한 후, 재단된 것마다 후공정을 행해도 되고, 또한 외층 미가공 다층 프린트 배선판을 그대로 롤투롤 방식으로 연속적으로 처리하여 후공정을 행해도 된다.In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, a multilayer printed wiring board can be obtained by performing the post process demonstrated below as needed to the outer layer unprocessed multilayer printed wiring board obtained by the said 2nd process. Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, after cutting an outer layer unprocessed multilayer printed wiring board to the product dimension of a multilayer printed wiring board, you may perform a post process for every cut, and also roll an outer layer unprocessed multilayer printed wiring board as it is. You may process continuously by a two-roll system and perform a post process.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 필요에 따라, 외층 미가공 다층 프린트 배선판의 시트를 감아서 롤상으로 하여 일시 보관해도 된다. 이러한 경우, 종래의 방법과 같이 표면에 배선회로를 형성한 것에서는 배선회로층을 손상할 우려가 있지만, 본 발명에 의하면, 최외면은 도체층이기 때문에 이 와 같은 불량은 없다.Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, you may wind up the sheet | seat of an outer layer unprocessed multilayer printed wiring board in roll shape, and temporarily store it as needed. In such a case, when the wiring circuit is formed on the surface as in the conventional method, the wiring circuit layer may be damaged. However, according to the present invention, since the outermost surface is a conductor layer, there is no such defect.

또한 그 후의 후공정으로서는, 예를 들면 도 5a에 나타내는 바와 같은 스루홀 형성 처리, 도 5b에 나타내는 바와 같은 도금 처리, 도 5c에 나타내는 바와 같은 회로 형성 처리 및 솔더 레지스트 형성 처리를 들 수 있다. 또한 이들 후공정으로서는 적당한 공지의 방법을 채용할 수 있다.Moreover, as a subsequent post process, the through-hole formation process as shown in FIG. 5A, the plating process as shown in FIG. 5B, the circuit formation process as shown in FIG. 5C, and a soldering resist formation process are mentioned, for example. Moreover, as these post-processes, a suitable well-known method can be employ | adopted.

이상 설명한 바와 같은 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 제2의 공정에 의해 얻어지는 외층 미가공 다층 프린트 배선판의 최외면이 아직 배선회로가 되어 있지 않은 도체층이기 때문에, 제2의 공정에서 배선회로의 변형의 문제를 발생시킬 여지가 없고, 또한 제2의 공정 후에 도체층을 패턴화하여 배선회로를 형성함으로써, 다층 프린트 배선판의 최외면에 형성되어 있는 배선회로가 변형할 우려가 적다.In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention as mentioned above, since the outermost surface of the outer layer unprocessed multilayer printed wiring board obtained by the 2nd process is a conductor layer which has not yet become a wiring circuit, wiring in a 2nd process is carried out. There is no room for the problem of the deformation of the circuit, and since the wiring layer is formed by patterning the conductor layer after the second process, there is little possibility that the wiring circuit formed on the outermost surface of the multilayer printed wiring board is deformed.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 따르면, 제2의 공정을 롤투롤 방식에 의해 연속적으로 행할 수 있고, 그 경우에는 다층 프린트 배선판을 높은 생산성으로 제조하는 것이 가능해진다.Moreover, according to the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, a 2nd process can be performed continuously by a roll-to-roll system, and in that case, it becomes possible to manufacture a multilayer printed wiring board with high productivity.

이상, 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법의 적합한 실시형태에 대하여 설명하였는데, 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 상기 배선기판이 상기 제1의 절연층을 복수 가지는 것이어도 된다. 즉, 상기 배선기판으로서 미리 다층의 배선기판을 사용함으로써, 4층 이상의 다층 프린트 배선판을 제조할 수도 있고, 또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 의해 얻어지는 다층 프린트 배선판을 더욱 다층화할 수도 있다. 또한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 있어서는, 배선회로의 재료로서 구리 이외에 적당한 도전성이 양호한 금속을 사용할 수도 있다.As mentioned above, although preferred embodiment of the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention was described, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention is not limited to the said embodiment. For example, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, the said wiring board may have two or more said 1st insulating layers. That is, by using a multilayer wiring board in advance as the wiring board, a multilayer printed wiring board of four or more layers can be manufactured, and the multilayer printed wiring board obtained by the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention can be further multilayered. Moreover, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention, a metal with favorable electroconductivity other than copper can also be used as a material of a wiring circuit.

(다층 프린트 배선판)(Multilayer printed wiring board)

다음으로, 본 발명의 다층 프린트 배선판에 대하여 설명한다. 본 발명의 다층 프린트 배선판은 복수의 배선회로층(배선회로, 도체층)과 복수의 절연층이 교대로 적층된 구조를 가지는 것이다. 그리고, 본 발명의 다층 프린트 배선판에 있어서는, 상기 배선회로층을 통해 서로 이웃하는 2층의 절연층 중 하나의 절연층이 폴리이미드수지층이며, 다른 하나의 절연층이 액정 폴리머층인 적층구조 단위를 포함하는 것이 필요하다. 본 발명에 있어서는, 이렇게 배선회로층을 통해 서로 이웃하는 2층의 절연층 중 하나의 절연층이 폴리이미드수지층이며, 다른 하나의 절연층이 액정 폴리머층인 적층구조 단위를 포함함으로써, 내열성과 뛰어난 고주파 특성을 양립하는 것이 가능해진다.Next, the multilayer printed wiring board of this invention is demonstrated. The multilayer printed wiring board of the present invention has a structure in which a plurality of wiring circuit layers (wiring circuits, conductor layers) and a plurality of insulating layers are alternately stacked. In the multilayer printed wiring board of the present invention, the laminated structure unit in which one of the two insulating layers adjacent to each other via the wiring circuit layer is a polyimide resin layer and the other insulating layer is a liquid crystal polymer layer. It is necessary to include. In the present invention, the insulating layer of one of two insulating layers adjacent to each other via the wiring circuit layer is a polyimide resin layer, and the other insulating layer includes a laminated structure unit in which a liquid crystal polymer layer is used. It is possible to achieve excellent high frequency characteristics.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판은, 예를 들면 상술한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 의해 제조할 수 있다. 즉, 폴리이미드 또는 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 제1의 절연층과 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판, 그리고 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 제2의 절연층과 상기 제2의 절연층의 편면에 적층된 도체층을 가지는 도체층 기판을 준비하는 공정과,Moreover, the multilayer printed wiring board of this invention can be manufactured by the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention mentioned above, for example. That is, a wiring board having a first insulating layer made of polyimide or a first liquid crystal polymer and a wiring circuit formed on at least one side of the first insulating layer, and a melting point below the thermal deformation temperature of the polyimide and / or the Preparing a conductor layer substrate having a second insulating layer made of a second liquid crystal polymer having a melting point lower than that of the first liquid crystal polymer and a conductor layer laminated on one side of the second insulating layer;

상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을, 상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층측을 상기 배선기판에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 공정,Arranging the wiring board and the conductor layer substrate so that the second insulating layer side of the conductor layer substrate faces the wiring board, and successively laminating under heating pressure using a heat pressurizing equipment;

을 포함하는 방법에 있어서, 적어도 한 개의 배선기판이 폴리이미드로 이루어지는 제1의 절연층(폴리이미드수지층)을 가지는 것일 경우에는, 본 발명의 다층 프린트 배선판을 제조할 수 있다.In the method comprising, when the at least one wiring board has a first insulating layer (polyimide resin layer) made of polyimide, the multilayer printed wiring board of the present invention can be produced.

본 발명의 다층 프린트 배선판은, 예를 들면, 도 6에 나타내는 바와 같이, 상기의 적층구조를 가지는 다층 프린트 배선판(50)에 있어서, 배선회로층(52)을 통해 서로 이웃하는 2층의 절연층(54a,54b) 중 하나의 절연층이 폴리이미드수지층이며, 다른 하나의 절연층이 액정 폴리머층인 적층구조 단위(56)를 포함하는 것이다. 이러한 적층구조 단위(56)는 다층 프린트 배선판(50)의 적층구조 전체에 미치는 것이어도 되고, 또한 적층구조 전체 중 적당한 부위에 하나 또는 복수 마련되는 것이어도 된다.For example, as shown in FIG. 6, the multilayer printed wiring board of the present invention has two insulating layers adjacent to each other via the wiring circuit layer 52 in the multilayer printed wiring board 50 having the laminated structure. One of the insulating layers (54a and 54b) is a polyimide resin layer, and the other insulating layer includes a laminated structure unit 56 which is a liquid crystal polymer layer. Such a laminated structure unit 56 may apply to the whole laminated structure of the multilayer printed wiring board 50, and may be provided in one or more in the appropriate site | part of the whole laminated structure.

또한 하나의 절연층(54a)의 재료로서는, 폴리이미드수지를 사용하는 것이 바람직한데, 이에 한정되지 않고, 절연층의 내열성이 확보되면서, 적당한 저유전율, 저유전 정접의 각 특성을 가지는 것이면 다른 열경화성 수지를 사용해도 된다. 또한 이러한 폴리이미드수지로서는, 상술한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 사용하는 폴리이미드와 동일한 것을 들 수 있다.In addition, it is preferable to use polyimide resin as a material of one insulating layer 54a, but not limited to this, and if the heat resistance of the insulating layer is ensured and each of the characteristics of suitable low dielectric constant and low dielectric loss tangent is different, the thermosetting property is different. You may use resin. Moreover, as this polyimide resin, the thing similar to the polyimide used for the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention mentioned above is mentioned.

또한 다른 하나의 절연층(54b)의 재료로서는, 액정 폴리머를 사용하는 것이 바람직한데, 이에 한정되지 않고, 저유전율, 저유전 정접의 각 특성이 뛰어난 것이면 다른 열가소성 수지를 사용해도 된다. 또한 이러한 액정 폴리머로서는, 상술한 본 발명의 다층 프린트 배선판의 제조방법에 사용하는 액정 폴리머와 동일한 것을 들 수 있다.As the material of the other insulating layer 54b, a liquid crystal polymer is preferably used, but not limited thereto, and other thermoplastic resins may be used as long as they are excellent in characteristics of low dielectric constant and low dielectric loss tangent. Moreover, as this liquid crystal polymer, the thing similar to the liquid crystal polymer used for the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of this invention mentioned above is mentioned.

또한 배선회로층(배선회로)(52)의 재료로서는, 적당한 도전성이 양호한 금속을 사용할 수 있는데, 특히 동박을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, as a material of the wiring circuit layer (wiring circuit) 52, a metal having good conductivity can be used, and copper foil is particularly preferable.

절연층(54a)을 폴리이미드수지층으로 하고, 또한 절연층(54b)을 액정 폴리머층으로 한 경우, 절연층(54a)의 두께는 예를 들면 5~100㎛정도로 할 수 있고, 절연층(54b)의 두께는 예를 들면 10~100㎛정도로 할 수 있다. 또한 배선회로층(12)의 두께는 예를 들면 3~35㎛정도로 할 수 있다.When the insulating layer 54a is a polyimide resin layer and the insulating layer 54b is a liquid crystal polymer layer, the thickness of the insulating layer 54a can be, for example, about 5 to 100 µm, and the insulating layer ( The thickness of 54b) can be made into about 10-100 micrometers, for example. The thickness of the wiring circuit layer 12 can be, for example, about 3 to 35 µm.

이러한 본 발명의 다층 프린트 배선판은, 폴리이미드수지의 양호한 내열성과, 액정 폴리머의 뛰어난 고주파 특성이 서로 힘입어 특성의 밸런스가 뛰어나다. 또한 본 발명에 따른 절연층에는 유리 직포, 아라미드 부직포와 같은 보강재를 포함하지 않으므로, 얻어지는 다층 프린트 배선판의 고밀도화, 박화, 경량화가 뛰어나고, 또한 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실의 발생이 경감된다.The multilayer printed wiring board of this invention is excellent in the balance of a characteristic by the favorable heat resistance of a polyimide resin, and the outstanding high frequency characteristic of a liquid crystal polymer. Moreover, since the insulating layer which concerns on this invention does not contain reinforcing materials, such as a glass woven fabric and an aramid nonwoven fabric, it is excellent in the density, thinning, and weight reduction of the multilayer printed wiring board obtained, and also the occurrence of the yield loss resulting from powder fall-off is reduced.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판은, 예를 들면, 도 7에 나타내는 바와 같이, 적층구조 단위(56a)에 있어서, 액정 폴리머층(절연층(54b))의 폴리이미드수지층(절연층(54a))과 서로 이웃하는 측과는 반대측에, 배선회로층(52a)을 통해 액정 폴리머층(절연층(54c))이 더 마련된 것이어도 된다.In addition, the multilayer printed wiring board of the present invention is, for example, as shown in Fig. 7, in the laminated structure unit 56a, a polyimide resin layer (insulating layer 54a) of the liquid crystal polymer layer (insulating layer 54b). ) And a liquid crystal polymer layer (insulating layer 54c) may be further provided on the side opposite to the side adjacent to each other through the wiring circuit layer 52a.

이러한 액정 폴리머를 서로 이웃하게 적층하는 구조인 경우, 다층 프린트 배선판의 제조공정에서의 가열·가압에 의해 배선회로의 위치 어긋남이 우려되기 때문에, 서로 이웃하게 하는 액정 폴리머의 융점은, 액정 폴리머층(54b)의 융점이 액정 폴리머층(54c)의 융점보다도 5~60℃ 높은 것이 바람직하고, 10~60℃ 높은 것이 보다 바람직하며, 15~40℃ 높은 것이 특히 바람직하다. 또한 본 발명에 따른 액정 폴리머의 융점은, 시차주사 열량계(DSC)를 사용하여 승온속도 10℃/min으로 360℃까지 승온했을 때에 관찰되는 흡열 피크의 온도를 말한다.In the case of a structure in which such liquid crystal polymers are stacked adjacent to each other, since the positional shift of the wiring circuit may be caused by heating and pressing in the manufacturing process of the multilayer printed wiring board, the melting points of the liquid crystal polymers which are adjacent to each other are determined by the liquid crystal polymer layer ( It is preferable that melting | fusing point of 54b) is 5-60 degreeC higher than melting | fusing point of the liquid crystal polymer layer 54c, It is more preferable that it is 10-60 degreeC high, It is especially preferable that it is 15-40 degreeC high. The melting point of the liquid crystal polymer according to the present invention refers to the temperature of the endothermic peak observed when the temperature is raised to 360 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter (DSC).

이와 같이 적층구조 단위(56a)를 포함하는 다층 프린트 배선판은 상기의 적층구조 단위(56)를 골격구조로 한 프린트 배선판의 고차 다층화를 용이하게 실현할 수 있는 점에서 유리하다.As described above, the multilayer printed wiring board including the laminated structure unit 56a is advantageous in that a higher degree of multilayering of the printed wiring board using the laminated structure unit 56 as a skeleton structure can be easily realized.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판에 있어서는, 상기 적층구조 단위(56,56a)에 있어서, 폴리이미드수지층(절연층(54a))과 액정 폴리머층(절연층(54b))의 경계면(도 6 중 화살표(A)로 나타냄)의 거칠기(Rz)가 4~6㎛의 범위인 것이 바람직하다. 경계면의 거칠기가 상기 범위 내인 경우에는, 경계면의 거칠기가 현저하게 클 경우에 생길 수 있는 고주파 영역에서의 고속·저손실 신호 전송성에의 악영향을 발생시키지 않고, 층간을 빈틈없이 밀착시켜 충분한 층간 밀착 강도를 확보할 수 있다.Moreover, in the multilayer printed wiring board of this invention, in the said laminated structural unit 56 and 56a, the boundary surface of the polyimide resin layer (insulation layer 54a) and the liquid crystal polymer layer (insulation layer 54b) (in FIG. 6). It is preferable that the roughness Rz of the arrow (A) is in the range of 4 to 6 µm. If the roughness of the interface is within the above range, sufficient interlayer adhesion strength is achieved by tightly adhering between the layers without adversely affecting high speed and low loss signal transmission in a high frequency region which may occur when the roughness of the interface is remarkably large. It can be secured.

또한 상기 경계면의 거칠기(Rz)는 4㎛미만, 바람직하게는 1~3㎛의 범위여도 되고, 이 경우에는 고주파 영역에서의 고속·저손실 신호 전송성에의 악영향을 보다 확실하게 피할 수 있다.Moreover, the roughness Rz of the said interface surface may be less than 4 micrometers, Preferably it is the range of 1-3 micrometers, In this case, the bad influence to the high speed and low loss signal transmission in a high frequency range can be avoided more reliably.

경계면의 거칠기의 제어는, 예를 들면, 폴리이미드수지층(절연층(54a))에 미리 적층된 도체층을 에칭, 패턴화하여 배선회로(52)를 형성할 때에, 미리 폴리이미드수지층(절연층(54a))에 적층되는 동박 등의 도체층의 표면 거칠기, 바꿔 말하면, 액정 폴리머층(절연층(54b))이 적층되는 면(적층면)의 표면 거칠기를 변경하는 등의 적당한 방법에 의해 행할 수 있다.The control of the roughness of the interface is, for example, when the conductor layer laminated in advance on the polyimide resin layer (insulation layer 54a) is formed by etching and patterning the wiring circuit 52 to form the polyimide resin layer ( To a suitable method such as changing the surface roughness of a conductor layer such as copper foil laminated on the insulating layer 54a, in other words, the surface roughness of the surface (laminated surface) on which the liquid crystal polymer layer (insulating layer 54b) is laminated. This can be done by.

또한 본 발명의 다층 프린트 배선판에 있어서는, 상기 적층구조 단위(56,56a)에 있어서, 폴리이미드수지층(절연층(54a))과 액정 폴리머층(절연층(54b))의 경계면(A)을 구성하는 액정 폴리머층(54b)의 폴리이미드수지층(54a)을 향한 적층면, 액정 폴리머층(54c)의 액정 폴리머층(54b)을 향한 적층면이 각각 미리 표면 처리된 것이 바람직하다. 이렇게 하여, 층간을 빈틈없이 밀착시켜 양호한 층간 밀착 강도를 얻을 수 있다.In the multilayer printed wiring board of the present invention, in the laminated structural units 56 and 56a, the interface A between the polyimide resin layer (insulating layer 54a) and the liquid crystal polymer layer (insulating layer 54b) is formed. It is preferable that the laminated surface which faces the polyimide resin layer 54a of the liquid crystal polymer layer 54b to comprise, and the laminated surface which faced the liquid crystal polymer layer 54b of the liquid crystal polymer layer 54c are respectively surface-treated previously. In this way, good interlayer adhesion strength can be obtained by making the interlayers adhere tightly.

특히, 상기한 바와 같이 표면 거칠기가 4㎛미만인 경우에, 표면 처리 가공을 행하면, 고주파 영역에서의 고속·저손실 신호 전송성에의 악영향의 경감과 층간 밀착 강도의 확보를 균형적으로 실현할 수 있어 보다 적합하다.In particular, when the surface roughness is less than 4 µm as described above, the surface treatment allows balanced reduction of adverse effects on high-speed and low-loss signal transmission in the high frequency range and ensuring interlayer adhesion strength in a balanced manner. Do.

이러한 표면 처리 가공은 적층 일체화 공정의 전에 실시한다. 또한 이러한 표면 처리 가공의 방법으로서는, 알칼리 혼합용액에 의한 에칭 처리나 플라즈마에 의한 에칭 처리가 바람직하다.Such surface treatment is performed before the lamination integration process. Moreover, as a method of such a surface treatment process, the etching process by an alkali mixed solution and the etching process by a plasma are preferable.

그리고, 진공 열프레스 프로세스에서는, 예를 들면 최고 온도를 220~300℃의 범위에서 프레스압을 4~8㎫의 범위로 컨트롤함으로써, 또한 라미네이트 프로세스에서도, 예를 들면 최고 온도를 200~300℃의 범위로, 라미네이트압(선압)을 2~200kN/m의 범위로 컨트롤함으로써, 열가소성 수지를 적합하게 연화 혹은 유동시킴으로써 충분한 층간 밀착 강도의 확보를 실현할 수 있다.And in a vacuum heat press process, for example, by controlling a press pressure in the range of 220-300 degreeC in the range of 4-8 Mpa, and also in a lamination process, the maximum temperature is 200-300 degreeC, for example. By controlling the lamination pressure (linear pressure) in the range of 2 to 200 kN / m within the range, it is possible to realize sufficient interlayer adhesion strength by softening or flowing the thermoplastic resin suitably.

이하, 본 발명의 다층 프린트 배선판을 제조하는 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the method of manufacturing the multilayer printed wiring board of this invention is demonstrated.

도 12는 폴리이미드수지층을 중심으로 하는 4층 프린트 배선판(후술하는 실시예 11에 대응)을 제조하는 방법을 나타내는 공정도이다.FIG. 12 is a process chart showing a method of manufacturing a four-layer printed wiring board (corresponding to Example 11 described later) centered on a polyimide resin layer. FIG.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하고, 그 양면에 동박(503)이 적층된 양면 동장 적층판(502)을 준비한다(도 12a 참조). 양면 동장 적층판(502)은 시판되어 있는 양면 동장 적층판을 사용할 수 있다. 그리고, 이 양면 동장 적층판(502)에 임의의 방법으로 배선회로층(504)을 형성한다(도 12b 참조). 여기서는 예를 들면, 폴리이미드 필름에 스퍼터 도금으로 배선회로층(504)을 형성해도 된다. 또한 폴리이미드수지층, 배선회로층(동박)의 두께 등은 상술한 것이 바람직하다.First, the polyimide resin layer is used as an insulating layer, and the double-sided copper clad laminated board 502 in which the copper foil 503 was laminated on both surfaces is prepared (refer FIG. 12A). As the double-sided copper clad laminate 502, a commercially available double-sided copper clad laminate may be used. And the wiring circuit layer 504 is formed in this double-sided copper clad laminated board 502 by arbitrary methods (refer FIG. 12B). For example, the wiring circuit layer 504 may be formed on the polyimide film by sputter plating. In addition, it is preferable that the thickness of a polyimide resin layer, a wiring circuit layer (copper foil), etc. were mentioned above.

다음으로, 이와 같이 회로 형성된 양면 배선기판(505)의 양측에 액정 폴리머를 절연층으로 하는 편면 동장 적층판(506)을 가열 압착한다(도 12c 참조). 또한 참조부호 507은 진공 프레스의 열반(熱盤)을 나타낸다. 여기서, 양면 배선기판(505)의 양측에 가열 압착되는 액정 폴리머는 같은 융점의 것을 사용하는 것이 회로간에의 액정 폴리머의 충전을 양호하게 행하는 데 있어 바람직하다. 액정 폴리머의 바람직한 융점은 250~350℃의 범위이며, 가열·가압시의 가열온도는 액정 폴리머의 융점보다도 0~50℃ 낮은 온도로 하는 것이 바람직하다. 또한 가압은 4~8㎫로 5~60분 행하는 것이 바람직하다. 여기서, 액정 폴리머에 대한 가열·가압시의 가열온도가 액정 폴리머의 융점보다도 50℃이상 낮으면 배선기판의 배선회로가 변형할 우려가 있고, 또한 가압 범위가 4㎫에 미치지 않으면 배선회로간에의 액정 폴리머의 충전이 불충분해질 우려가 있다. 한편, 액정 폴리머에 대한 가열·가압시의 가열온도가 액정 폴리머의 융점보다도 높거나, 가압 범위가 8㎫를 넘으면 액정 폴리머의 기판(배선기판) 밖으로의 배어 나옴이 많아지거나, 액정 폴리머층 내에서 보이드가 발생할 우려가 있다.Next, the one-side copper clad laminate 506 having the liquid crystal polymer as an insulating layer is heated and pressed on both sides of the double-sided wiring board 505 formed as described above (see FIG. 12C). Reference numeral 507 denotes a hot plate of the vacuum press. Here, it is preferable to use a liquid crystal polymer of the same melting point for heat-pressing both sides of the double-sided wiring board 505 in order to satisfactorily charge the liquid crystal polymer between circuits. It is preferable that melting | fusing point of a liquid crystal polymer is 250-350 degreeC, and the heating temperature at the time of heating and pressurization shall be 0-50 degreeC lower than melting | fusing point of a liquid crystal polymer. Moreover, it is preferable to perform pressurization for 5 to 60 minutes at 4-8 Mpa. Here, when the heating temperature at the time of heating and pressurization with respect to a liquid crystal polymer is 50 degreeC or more lower than melting | fusing point of a liquid crystal polymer, there exists a possibility that the wiring circuit of a wiring board may deform | transform, and when the pressurization range is less than 4 Mpa, the liquid crystal between wiring circuits There is a risk of insufficient filling of the polymer. On the other hand, when the heating temperature at the time of heating and pressurization with respect to a liquid crystal polymer is higher than melting | fusing point of a liquid crystal polymer, or a pressurization range exceeds 8 Mpa, it will leak out of the board | substrate (wiring board) of a liquid crystal polymer more, or in a liquid crystal polymer layer There may be a void.

이어서, 가열·가압 후 기판을 냉각하여 적층체(508)를 얻는다(도 12d, 도 12e 참조). 이 제조 조건들은 이하에 설명하는 유사한 제조방법에 있어서도 동일하다. 또한 얻어진 적층체(508)는 NC 드릴 등 공지의 방법으로 스루홀(509)을 형성하고(도 12f 참조), 디스미어(desmear) 처리를 행하여 패널 도금(510)을 형성한다(도 12g 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(511)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(512)을 형성하고, 솔더 레지스트층(513)을 형성하여 다층 프린트 배선기판(501)을 얻을 수 있다(도 12h 참조).Subsequently, after heating and pressurizing, the board | substrate is cooled and the laminated body 508 is obtained (refer FIG. 12D, FIG. 12E). These manufacturing conditions are the same also in the similar manufacturing method described below. In addition, the obtained laminated body 508 forms the through-hole 509 by a well-known method, such as an NC drill (refer FIG. 12F), and performs desmear process, and forms panel plating 510 (refer FIG. 12G). . The outermost layer 511 is etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 512, and a solder resist layer 513 is formed to obtain a multilayer printed wiring board 501 (FIG. 12H). Reference).

도 13은 폴리이미드수지층을 중심으로 하는 4층 프린트 배선판(후술하는 실시예 12에 대응)을 롤투롤 방식으로 제조하는 방법을 나타내는 공정도이다.It is process drawing which shows the method of manufacturing the four-layer printed wiring board (corresponding to Example 12 mentioned later) centering on a polyimide resin layer by the roll-to-roll system.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하고, 그 양측에 동박(603)을 적층한 롤상으로 권회된 양면 동장 적층판(602)을 준비하여, 임의의 방법으로 배선회로층(604)을 형성해 롤상으로 권회된 양면 배선기판(605)을 얻는다(도 13a 참조). 양면 동장 적층판(602)은 시판되어 있는 양면 동장 적층판을 사용할 수 있다. 또한 폴리이미드수지층, 배선회로층(동박)의 두께 등은 상술한 것이 바람직하다.First, a polyimide resin layer is used as an insulating layer, a double-sided copper clad laminate 602 wound in a roll shape in which copper foils 603 are laminated on both sides thereof is prepared, and the wiring circuit layer 604 is formed in an arbitrary manner to form a roll shape. A wound double-sided wiring board 605 is obtained (see FIG. 13A). The double-sided copper clad laminate 602 may use a commercially available double-sided copper clad laminate. In addition, it is preferable that the thickness of a polyimide resin layer, a wiring circuit layer (copper foil), etc. were mentioned above.

다음으로, 액정 폴리머를 절연층으로 하는 롤상으로 권회된 2권의 편면 동장 적층판(606)을 준비하였다. 그리고, 상기와 같이 회로 형성된 양면 배선기판(605)의 양측에 2개의 편면 동장 적층판(606)을 가열 압착하여 적층체(608)를 얻는다(도 13b, 도 13c 참조). 또한 참조부호 607은 롤을 나타낸다. 여기서, 양면 배선기판(605)의 양측에 가열 압착되는 액정 폴리머는 같은 융점의 것을 사용하는 것이 양측의 회로간에의 충전을 양호하게 행하는 데 있어 바람직하다. 사용하는 액정 폴리머의 융점의 범위는 프레스 프로세스와 동일한데, 가열·가압시의 가열온도는 액정 폴리머의 융점보다도 0~80℃ 낮은 온도로 하는 것이 바람직하다. 또한 가압은 라미네이트압(선압) 2~200kN/m로 롤을 통과시키는 것이 바람직하다.Next, two single-sided copper clad laminates 606 wound in a roll shape having a liquid crystal polymer as an insulating layer were prepared. Then, two single-sided copper clad laminates 606 are heat-compressed on both sides of the double-sided wiring board 605 formed as described above to obtain a laminate 608 (see Figs. 13B and 13C). Also, reference numeral 607 denotes a roll. Here, it is preferable to use the same melting point for the liquid crystal polymer heated and compressed on both sides of the double-sided wiring board 605 in order to satisfactorily charge between the circuits on both sides. Although the melting | fusing point range of the liquid crystal polymer to be used is the same as that of a press process, it is preferable to make heating temperature at the time of heating and pressurization into temperature 0-80 degreeC lower than melting | fusing point of a liquid crystal polymer. Moreover, it is preferable to make pressurization pass a roll at 2 to 200 kN / m of lamination pressure (linear pressure).

이 제조 조건들은 이하에 설명하는 유사한 제조방법에 있어서도 동일하다. 여기서, 액정 폴리머에 대한 가열·가압시의 가열온도가 액정 폴리머의 융점보다도 80℃이상 낮으면 배선기판의 배선회로가 변형할 우려가 있고, 또한 가압 범위가 2kN/m에 미치지 않으면 배선회로간에의 액정 폴리머의 충전이 불충분해질 우려가 있다. 한편, 액정 폴리머에 대한 가열·가압시의 가열온도가 액정 폴리머의 융점보다도 높거나, 가압 범위가 200kN/m를 넘으면 액정 폴리머의 기판 밖으로의 배어 나옴이 많아지거나, 액정 폴리머층 내에서 보이드가 발생할 우려가 있다.These manufacturing conditions are the same also in the similar manufacturing method described below. Here, when the heating temperature at the time of heating and pressurization with respect to a liquid crystal polymer is lower than 80 degreeC below melting | fusing point of a liquid crystal polymer, there exists a possibility that the wiring circuit of a wiring board may deform | transform, and if the pressurization range does not reach 2 kN / m, There exists a possibility that filling of a liquid crystal polymer may become inadequate. On the other hand, when the heating temperature at the time of heating and pressurization with respect to a liquid crystal polymer is higher than melting | fusing point of a liquid crystal polymer, or a pressurization range exceeds 200 kN / m, the liquid crystal polymer will bleed out of the board | substrate more often, or a void may arise in a liquid crystal polymer layer. There is concern.

이어서 얻어진 적층체(608)는 절단 후 상술한 방법과 같은 방법으로 스루홀(609)을 형성하고(도 13d 참조), 디스미어 처리를 행하여 패널 도금(610)을 형성한다(도 13e 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(611)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(612)을 형성하고, 또한 솔더 레지스트층(613)을 형성하여 다층 프린트 배선기판(601)을 얻을 수 있다(도 13f 참조).Subsequently, the obtained laminated body 608 is formed after cutting, thereby forming a through hole 609 (see FIG. 13D), and performing a desmear process to form panel plating 610 (see FIG. 13E). Then, the outermost layer 611 is etched and patterned by the tenting method to form the wiring circuit layer 612, and the solder resist layer 613 can be formed to obtain the multilayer printed wiring board 601 (Fig. 13f).

도 14는 도 12와 동일한 폴리이미드수지층을 중심으로 하는 4층 프린트 배선판(후술하는 실시예 13에 대응)을 제조하는 방법을 나타내는 공정도이다.FIG. 14 is a process chart showing a method of manufacturing a four-layer printed wiring board (corresponding to Example 13 described later) centered on the same polyimide resin layer as in FIG. 12.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하고, 그 양면에 동박(703-1,703-2)이 적층된 양면 동장 적층판(702)을 준비한다(도 14a 참조). 양면 동장 적층판(702)은 시판되어 있는 양면 동장 적층판을 사용할 수 있다. 이 양면 동장 적층판(702)을 2개 준비하고(다른 한 개를 참조부호 702'로 나타냄), 임의의 방법으로 각각의 양면 동장 적층판(702,702')의 편면에 배선회로층(704-1',704-2)을 형성한다(도 14b 참조). 또한 폴리이미드수지층, 배선회로층(동박)의 두께 등은 상술한 것이 바람직하다.First, a polyimide resin layer is used as an insulating layer, and a double-sided copper clad laminate 702 in which copper foils 703-1 and 703-2 are laminated on both surfaces thereof is prepared (see Fig. 14A). As the double-sided copper clad laminate 702, a commercially available double-sided copper clad laminate may be used. Two double-sided copper clad laminates 702 are prepared (the other one denoted by reference numeral 702 '), and the wiring circuit layers 704-1', 704-2) (see FIG. 14B). In addition, it is preferable that the thickness of a polyimide resin layer, a wiring circuit layer (copper foil), etc. were mentioned above.

한편, 양면 동장 적층판(702,702')과 같은 사이즈의 액정 폴리머층(707)을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(705)의 양면의 동박(706)을 에칭 제거하고, 알칼리 혼합 수용액에 침지 처리하여 액정 폴리머층(707)을 얻는다(도 14c 참조).On the other hand, the copper foil 706 of both surfaces of the double-sided copper clad laminated board 705 which uses the liquid crystal polymer layer 707 of the same size as the double-sided copper clad laminated boards 702 and 702 'as an insulating layer is etched away, and it immersed in alkaline-mixed aqueous solution, and liquid-crystal A polymer layer 707 is obtained (see FIG. 14C).

다음으로, 배선회로층(704-2,704-1')면을 대향시킨 양면 동장 적층판(702,702')의 사이에 표면 처리된 액정 폴리머층(707)을 끼워 가열 압착한다(도 14d 참조). 또한 참조부호 708은 열반을 나타낸다. 가열·가압 후 기판을 냉각하여 적층체(709)를 얻는다(도 14e, 도 14f 참조).Next, the surface-treated liquid crystal polymer layer 707 is sandwiched and sandwiched between the double-sided copper clad laminates 702 and 702 'facing the wiring circuit layers 704-2 and 704-1' (see Fig. 14D). Reference numeral 708 also denotes nirvana. After heating and pressurizing, the board | substrate is cooled and the laminated body 709 is obtained (refer FIG. 14E, FIG. 14F).

이어서 얻어진 적층체(709)는 NC 드릴 등의 공지의 방법으로 스루홀(710)을 형성하고(도 14g 참조), 디스미어 처리를 행하여 패널 도금(711)을 형성한다(도 14h 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(712)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(713)을 형성하고, 솔더 레지스트층(714)을 형성하여 다층 프린트 배선기판(701)을 얻을 수 있다(도 14i 참조).Subsequently, the obtained laminated body 709 forms through-hole 710 by a well-known method, such as an NC drill (refer FIG. 14G), and performs desmear process, and forms panel plating 711 (refer FIG. 14H). Then, the outermost layer 712 is etched and patterned by the tenting method to form the wiring circuit layer 713, and the solder resist layer 714 is formed to obtain the multilayer printed wiring board 701 (FIG. 14I). Reference).

도 15는 도 14와 동일한 폴리이미드수지층을 중심으로 하는 4층 프린트 배선판(후술하는 실시예 14에 대응)을 제조하는 방법을 나타내는 공정도이다.FIG. 15 is a process chart showing a method of manufacturing a four-layer printed wiring board (corresponding to Example 14 described later) centered on the same polyimide resin layer as in FIG. 14.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하고, 그 양측에 동박(803,803')이 적층된 롤상으로 권회된 2개의 양면 동장 적층판(802,802')을 준비하여, 임의의 방법으로 배선회로층(804,804')을 형성해 양면 배선기판(805,805')을 얻는다(도 15a 참조).First, a polyimide resin layer is used as an insulating layer, and two double-sided copper clad laminates 802 and 802 'wound in rolls in which copper foils 803 and 803' are laminated on both sides thereof are prepared, and the wiring circuit layers 804 and 804 'are formed by any method. ) Is formed to obtain double-sided wiring boards 805 and 805 '(see Fig. 15A).

양면 동장 적층판(802,802')은 시판되어 있는 양면 동장 적층판을 사용할 수 있다. 또한 폴리이미드수지층, 배선회로층(동박)의 두께 등은 상술한 것이 바람직하다.The double-sided copper clad laminates 802 and 802 'can use commercially available double-sided copper clad laminates. In addition, it is preferable that the thickness of a polyimide resin layer, a wiring circuit layer (copper foil), etc. were mentioned above.

한편, 양면 배선기판(805,805')과 같은 사이즈의 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(806)의 양면의 동박을 에칭 제거한 후, 노출한 표면을 플라즈마 처리하여 액정 폴리머층(807)을 얻는다(도 15b 참조).On the other hand, after the copper foils on both sides of the double-sided copper clad laminate 806 having the same sized liquid crystal polymer layers as the insulating layers as the double-sided wiring boards 805 and 805 'are etched away, the exposed surface is subjected to plasma treatment to form the liquid crystal polymer layer 807. (See FIG. 15B).

다음으로, 배선회로층(804,804')을 대향시킨 양면 배선기판(805,805')의 사이에 표면 처리된 액정 폴리머층(807)을 끼워 가열 압착한다(도 15c 참조). 또한 참조부호 808은 롤을 나타낸다. 가열·가압 후 기판을 냉각하여 적층체(809)를 얻는다.Next, the surface-treated liquid crystal polymer layer 807 is sandwiched between the double-sided wiring boards 805 and 805 'facing the wiring circuit layers 804 and 804', and thermally crimped (see Fig. 15C). Reference numeral 808 also denotes a roll. The substrate is cooled after heating and pressing to obtain a laminate 809.

이어서 얻어진 적층체(809)는 절단 후 상술한 방법과 동일한 방법으로 스루홀(810)을 형성하고(도 15d 참조), 디스미어 처리를 행하여 패널 도금(811)을 형성한다. 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(812)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(813)을 형성하고, 또한 솔더 레지스트층(814)을 형성하여 다층 프린트 배선기판(801)을 얻을 수 있다(도 15e, 도 15f 참조).Subsequently, the obtained laminated body 809 is formed after the cutting to form the through hole 810 in the same manner as described above (see FIG. 15D), and desmearing to form the panel plating 811. Then, the outermost layer 812 is etched and patterned by the tenting method to form the wiring circuit layer 813, and the solder resist layer 814 can be formed to obtain the multilayer printed wiring board 801 (Fig. 15e, see FIG. 15f).

도 16은 폴리이미드수지층을 중심으로 하는 8층 프린트 배선판(후술하는 실시예 15에 대응)을 제조하는 방법을 나타내는 공정도이다.FIG. 16 is a process chart showing a method of manufacturing an eight-layer printed wiring board (corresponding to Example 15 described later) centered on a polyimide resin layer. FIG.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하고, 그 양면에 동박(903-1,903-2)이 적층된 양면 동장 적층판(902)을 2개 준비한다(도 16a 참조, 여기서 양면 동장 적층판(902)만 표시). 양면 동장 적층판(902,902')은 시판되어 있는 양면 동장 적층판을 사용할 수 있다. 이 양면 동장 적층판(902,902') 각각의 양면에 임의의 방법으로 배선회로층(904-1,904-1',904-2,904-2')을 형성한다(도 16b 참조). 또한 폴리이미드수지층, 배선회로층(동박)의 두께 등은 상술한 것이 바람직하다.First, the polyimide resin layer is used as an insulating layer, and two double-sided copper clad laminates 902 in which copper foils 903-1 and 903-2 are laminated on both sides thereof are prepared (see FIG. 16A, where only the double-sided copper clad laminates 902 are provided). Display). As the double-sided copper clad laminates 902 and 902 ', commercially available double-sided copper clad laminates can be used. Wiring circuit layers 904-1, 904-1 ′, 904-2, 904-2 ′ are formed on both surfaces of each of the double-sided copper clad laminates 902, 902 ′ (see FIG. 16B). In addition, it is preferable that the thickness of a polyimide resin layer, a wiring circuit layer (copper foil), etc. were mentioned above.

한편, 양면 동장 적층판(902,902')과 같은 사이즈의 액정 폴리머층(907)을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(905)의 양면의 동박(906)을 에칭 제거하고, 알칼리 혼합 수용액에 침지 처리하여 액정 폴리머층(907)을 얻는다(도 16c 참조).On the other hand, the copper foil 906 of both surfaces of the double-sided copper clad laminated board 905 which uses the liquid crystal polymer layer 907 of the same size as the double-sided copper clad laminated boards 902 and 902 'as an insulating layer is etched away, and is immersed in an aqueous alkali mixed aqueous solution to give a liquid crystal. A polymer layer 907 is obtained (see FIG. 16C).

다음으로, 상기와 같이 회로 형성된 양면 동장 적층판(902,902')의 사이에 표면 처리된 액정 폴리머층(907)을 끼워 가열 압착한다(도 16d 참조). 또한 참조부호 908은 열반을 나타낸다. 그 후 가열·가압 후 기판을 냉각하여 적층체(909)를 얻는다(도 16e 참조).Next, the surface-treated liquid crystal polymer layer 907 is sandwiched between the double-sided copper clad laminates 902 and 902 'formed as described above, followed by heat compression (see FIG. 16D). Reference numeral 908 also denotes nirvana. Thereafter, the substrate is cooled after heating and pressing to obtain a laminate 909 (see FIG. 16E).

다음으로, 액정 폴리머의 수지면(911,911')을 플라즈마 처리한 편면 동장 적층판(910,910')을 준비하고, 적층체(909)의 양면에 수지면(911,911')을 대향시켜 겹쳐서(도 16f 참조), 가열·가압하여 적층체(912)를 얻는다(도 16g 참조).Next, the single-sided copper clad laminates 910, 910 'having plasma-treated the resin surfaces 911, 911' of the liquid crystal polymer are prepared, and the resin surfaces 911, 911 'are placed on both sides of the laminate 909 so as to face each other (see Fig. 16F), and then heated. Press to obtain the laminate 912 (see FIG. 16G).

이어서 얻어진 적층체(912)를 에칭 가공(913)하고(도 16h 참조), 그 후 블라인드 비아홀(914)을 형성한다(도 16i 참조). 디스미어 처리 후 도금층(915)을 형성하고(도 16j 참조), 또한 배선회로층(916)을 형성한다(도 16k 참조). 다시 도 16f~도 16i까지의 공정을 실시하여, 얻어진 적층체(917)에 스루홀(918)을 형성하고(도 16l 참조), 디스미어 처리하여 패널 도금(919)을 실시한다(도 16m 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(920)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(919)을 형성하고, 솔더 레지스트층(921)을 형성하여 8층 프린트 배선판(901)을 얻는다(도 16n 참조).Subsequently, the obtained laminate 912 is etched 913 (see FIG. 16H), and then blind via holes 914 are formed (see FIG. 16I). After the desmear process, the plating layer 915 is formed (see FIG. 16J), and the wiring circuit layer 916 is formed (see FIG. 16K). 16F-16I are again performed, the through-hole 918 is formed in the obtained laminated body 917 (refer FIG. 16L), and the desmear process is performed and the panel plating is performed (refer FIG. 16M). ). Then, the outermost layer 920 is etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 919, and a solder resist layer 921 is formed to obtain an eight-layer printed wiring board 901 (see FIG. 16N). .

도 17은 도 16과 동일한 폴리이미드수지층을 중심으로 하는 8층 프린트 배선판(후술하는 실시예 16에 대응)을 제조하는 방법을 나타내는 공정도이다.FIG. 17 is a process chart showing a method of manufacturing an eight-layer printed wiring board (corresponding to Example 16 described later) centered on the same polyimide resin layer as in FIG. 16.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하고, 그 양측에 동박(1003-1,1003-2,1003-1',1003-2')이 적층된 롤상으로 권회된 2권의 양면 동장 적층판(1002,1002')을 준비하여, 임의의 방법으로 배선회로층(1004-1,1004-2,1004-1',1004-2')을 형성해 양면 배선기판(1005,1005')을 얻는다(도 17a 참조). 양면 동장 적층판(1002,1002')은 시판되어 있는 양면 동장 적층판을 사용할 수 있다. 또한 폴리이미드수지층, 배선회로층(동박)의 두께 등은 상술한 것이 바람직하다.First, two-sided copper-clad laminate 1002 wound in a roll shape in which a polyimide resin layer was used as an insulating layer and copper foils 1003-1,1003-2,1003-1 ', 1003-2' were laminated on both sides thereof. 1002 '), and the wiring circuit layers 1004-1,1004-2,1004-1', 1004-2 'are formed by any method to obtain double-sided wiring boards 1005,1005' (FIG. 17A). Reference). As the double-sided copper clad laminates 1002 and 1002 ', commercially available double-sided copper clad laminates can be used. In addition, it is preferable that the thickness of a polyimide resin layer, a wiring circuit layer (copper foil), etc. were mentioned above.

한편, 양면 배선기판(1005,1005')과 같은 사이즈의 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(1006)의 양면의 동박을 에칭 제거한 후, 표면을 플라즈마 처리하여 액정 폴리머층(1007)을 얻는다(도 17b 참조).On the other hand, after the copper foils on both sides of the double-sided copper clad laminate 1006 having a liquid crystal polymer layer of the same size as the double-sided wiring boards 1005 and 1005 'are used as an insulating layer, the surface of the liquid crystal polymer layer 1007 is subjected to plasma treatment. (See FIG. 17B).

다음으로, 양면 배선기판(1005,1005')의 사이에 표면 처리된 액정 폴리머층(1007)을 끼워 가열 압착한 후 냉각하여 적층체(1009)를 얻는다(도 17c 참조). 또한 참조부호 1008은 롤을 나타낸다.Next, the surface-treated liquid crystal polymer layer 1007 is sandwiched between the double-sided wiring boards 1005 and 1005 'to be thermally compressed and cooled to obtain a laminate 1009 (see Fig. 17C). Reference numeral 1008 denotes a roll.

다음으로, 액정 폴리머(1011,1011')의 수지면을 플라즈마 처리한 편면 동장 적층판(1010,1010')을 준비하고, 적층체(1009)의 양면에 액정 폴리머(1011,1011')의 수지면을 대향시켜 겹쳐서, 가열·가압하여 적층체(1012)를 얻는다(도 17d 참조).Next, single-sided copper-clad laminates 1010 and 1010 'obtained by plasma-processing the resin surfaces of the liquid crystal polymers 1011 and 1011' are prepared, and the resin surfaces of the liquid crystal polymers 1011 and 1011 'are opposed to both surfaces of the laminate 1009. And laminated | stacked, and it heats and pressurizes and obtains the laminated body 1012 (refer FIG. 17D).

다음으로, 적층체(1012)를 에칭 가공(1014)하고, 그 후 블라인드 비아홀(1015)을 형성한다(도 17e 참조). 디스미어 처리 후 배선회로층(1004-1,1004-2')과 전기적으로 접속한 도금층(1016)을 형성하고(도 17f 참조), 또한 배선회로층(1017)을 형성한다(도 17g 참조). 다시 도 17d~도 17e까지의 공정을 실시하여, 얻어진 적층체(1018)에 스루홀(1019)을 형성하고(도 17h 참조), 디스미어 처리하여 패널 도금(1020)을 실시한다(도 17i 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(1021,1021')을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(1022)을 형성하고, 솔더 레지스트층(1023)을 형성하여 8층 프린트 배선판(1001)을 얻는다(도 17j 참조).Next, the laminated body 1012 is etched 1014, and the blind via hole 1015 is formed after that (refer FIG. 17E). After the desmear process, the plating layer 1016 electrically connected to the wiring circuit layers 1004-1 and 1004-2 'is formed (see FIG. 17F), and the wiring circuit layer 1017 is formed (see FIG. 17G). . 17D to 17E are again performed, through-holes 1019 are formed in the obtained laminate 1018 (see FIG. 17H), and desmeared to perform panel plating 1020 (see FIG. 17I). ). The outermost layers 1021 and 1021 'are etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 1022, and a solder resist layer 1023 is formed to obtain an eight-layer printed wiring board 1001 (Fig. 17j).

<실시예><Examples>

이하, 실시예 및 비교예에 근거하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

(실시예 1)(Example 1)

융점이 295℃(열변형 온도: 265℃)인 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 두께가 25㎛인 제1의 절연층(12)과, 제1의 절연층(12)의 양면에 적층된 두께가 9㎛인 동박(10)을 가지는 동장 적층판(14)에 대하여, 에칭 레지스트 라미네이트, 노광, 현상, 에칭, 레지스트 박리의 처리를 롤투롤 방식으로 실시하고, 양면에 배선회로(16)를 형성하여 폭 300㎜×길이 200m의 롤상으로 권회된 장척의 배선기판(18)을 제작하였다(도 1 참조).The first insulating layer 12 having a thickness of 25 μm and the first laminated layer 12 having a melting point of 295 ° C. (heat deformation temperature: 265 ° C.) and the thickness of the first insulating layer 12 laminated on both surfaces thereof are With respect to the copper clad laminate 14 having the copper foil 10 having a thickness of 9 µm, etching resist lamination, exposure, development, etching, and resist peeling are performed in a roll-to-roll manner, and wiring circuits 16 are formed on both surfaces to form a width. A long wiring board 18 wound in a roll of 300 mm x 200 m in length was produced (see Fig. 1).

다음으로, 융점이 280℃(열변형 온도: 240℃)인 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 두께가 25㎛인 제2의 절연층(22)과, 제2의 절연층(22)의 편면에 적층된 두께가 9㎛인 도체층(20)(동박)을 가지는 2권의 도체층 기판(24)을 준비하여(도 2 참조), 2권의 도체층 기판(24)의 제2의 절연층(22)의 표면에 각각 플라즈마 처리를 실시하였다.Next, the second insulating layer 22 having a thickness of 25 μm and the second insulating layer 22 having a melting point of 280 ° C. (heat deformation temperature: 240 ° C.) are laminated on one side of the second insulating layer 22. Two conductor layer substrates 24 having a conductor layer 20 (copper foil) having a thickness of 9 μm (see FIG. 2) were prepared (see FIG. 2), and a second insulating layer of the two conductor layer substrates 24 ( The surface of 22) was plasma-processed, respectively.

그리고, 배선기판(18) 및 2개의 도체층 기판(24)을 각각 인출하여, 배선기판(18)을 사이에 두고 2개의 도체층 기판(24)을 상기 제2의 절연층측을 각각 배선기판(18)에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비(27)로서 롤 라미네이터를 사용해 롤 온도 260℃, 롤 선압 20kN/m의 조건으로 연속적으로 가열, 가압하여 최외면이 미가공인 다층 프린트 배선판(적층체(26))을 제작하였다(도 3 참조).Then, the wiring board 18 and the two conductor layer substrates 24 are drawn out, respectively, and the two insulation layer substrates 24 are sandwiched between the wiring boards 18 and the second insulating layer side. 18), a multilayer printed wiring board (laminated body) having the outermost surface unprocessed by continuously heating and pressing under a condition of a roll temperature of 260 ° C. and a roll linear pressure of 20 kN / m using a roll laminator as the heating pressurizing equipment 27. (26)) (see FIG. 3).

이어서 얻어진 적층체(26)를 300㎜×400㎜로 재단해, NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(30)을 형성하고(도 5a 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금(32)을 실시하였다(도 5b 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외면을 에칭, 패턴화하여 최외면의 배선회로(34)를 형성하고, 또한 솔더 레지스트(36)를 형성하여 다층 프린트 배선판(38)을 제작하였다(도 5c 참조).Subsequently, the obtained laminated body 26 was cut to 300 mm x 400 mm, the through-hole 30 of phi 0.15 mm was formed by NC drilling (refer FIG. 5A), and the panel of 8 micrometers thickness after predetermined desmear process was performed. Plating 32 was performed (see FIG. 5B). Then, the outermost surface was etched and patterned by the tenting method to form the wiring circuit 34 on the outermost surface, and the solder resist 36 was formed to produce a multilayer printed wiring board 38 (see Fig. 5C).

또한 얻어진 다층 프린트 배선판에 있어서는, 최외면의 배선회로(34)의 변형을 충분히 방지할 수 있는 것이 확인되었다. 또한 얻어진 적층체(26)의 단면 관찰을 행한 바, 배선회로(16)의 배선회로의 단선(斷線)이나 변형이 나타나지 않고, 배선간에의 제2의 액정 폴리머(22)의 충전도 양호하며, 각 수지층 두께도 거의 균일하게 되어 있었다.Moreover, in the obtained multilayer printed wiring board, it was confirmed that the deformation | transformation of the wiring circuit 34 of the outermost surface can fully be prevented. Furthermore, when the cross-sectional observation of the obtained laminated body 26 was performed, the disconnection and deformation of the wiring circuit of the wiring circuit 16 do not appear, and the charge of the 2nd liquid crystal polymer 22 between wirings is also favorable, The thickness of each resin layer was also almost uniform.

(실시예 2)(Example 2)

이하와 같이 하여, 실시예 1에서 얻어진 다층 프린트 배선판의 다층화를 한층 더 도모하였다. 즉, 우선, 실시예 1에서 얻어진 최외면이 미가공인 다층 프린트 배선판(적층체(26))을 준비하고, 상하의 양면 동박(20)을 패턴화하여 배선층(배선회로)을 형성하였다. 다음으로, 융점이 260℃(열변형 온도: 220℃)인 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 두께가 25㎛인 제2의 절연층(22)과, 제2의 절연층(22)의 편면에 적층된 두께가 9㎛인 도체층(20)(동박)을 가지는 2개의 도체층 기판(24)을 준비하였다(도 2 참조).The multilayering of the multilayer printed wiring board obtained in Example 1 was further planned as follows. That is, first, the multilayer printed wiring board (laminated body 26) whose outermost surface obtained in Example 1 was unprocessed was prepared, and the upper and lower double-sided copper foil 20 was patterned, and the wiring layer (wiring circuit) was formed. Next, the second insulating layer 22 having a thickness of 25 μm and the second insulating layer 22 having a melting point of 260 ° C. (heat deformation temperature: 220 ° C.) are laminated on one side of the second insulating layer 22. Two conductor layer substrates 24 having a conductor layer 20 (copper foil) having a thickness of 9 μm were prepared (see FIG. 2).

그리고, 다층 프린트 배선판(배선층을 형성한 적층체(26)) 및 2개의 도체층 기판(24)을, 다층 프린트 배선판(배선층을 형성한 적층체(26))을 사이에 두고 2개의 도체층 기판(24)을 상기 제2의 절연층측을 각각 다층 프린트 배선판(배선층을 형성한 적층체(26))에 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비(27)로서 롤 라미네이터를 사용해 롤 온도 240℃, 롤 선압 20kN/m의 조건으로 연속적으로 가열, 가압하여 다층 프린트 배선판(배선층을 형성한 적층체(26))에 2개의 도체층 기판(24)을 적층하였다. 그 후, 도 5에 나타내는 바와 같은 후공정을 실시하여 다층 프린트 배선판(배선층을 형성한 적층체(26))의 다층화를 한층 더 도모하였다.And two conductor layer board | substrates are sandwiched between a multilayer printed wiring board (the laminated body 26 in which the wiring layer was formed), and two conductor layer board | substrates 24, and a multilayer printed wiring board (the laminated body 26 in which the wiring layer was formed). The second insulating layer side is disposed so as to face the multilayer printed wiring board (the laminated body 26 on which the wiring layer is formed), and the roll temperature is 240 ° C., using the roll laminator as the heating and pressing equipment 27. Two conductor layer board | substrates 24 were laminated | stacked on the multilayer printed wiring board (the laminated body 26 in which the wiring layer was formed) by heating and pressurizing continuously on the conditions of 20 kN / m linear pressure. Subsequently, the post-process shown in FIG. 5 was performed, and further multilayering of the multilayer printed wiring board (the laminated body 26 in which the wiring layer was formed) was aimed at.

(실시예 3)(Example 3)

융점 295℃의 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 두께가 25㎛인 제1의 절연층(12)과, 제1의 절연층(12)의 양면에 적층된 두께가 9㎛인 동박(10)을 가지는 동장 적층판(14)에 대하여, 에칭 레지스트 라미네이트, 노광, 현상, 에칭, 레지스트 박리의 처리를 롤투롤 방식으로 실시하고, 양면에 배선회로(16)를 형성하여 폭 300㎜×길이 200m의 롤상으로 권회된 장척의 배선기판(18)을 제작하였다(도 1 참조).1st insulating layer 12 whose thickness consists of a 1st liquid crystal polymer of melting | fusing point 295 degreeC is 25 micrometers, and copper foil 10 whose thickness is 9 micrometers laminated | stacked on both surfaces of the 1st insulating layer 12, With respect to the copper-clad laminate 14, etching resist lamination, exposure, development, etching, and resist peeling are performed in a roll-to-roll manner, and wiring circuits 16 are formed on both surfaces, and wound in a roll of 300 mm in width and 200 m in length. An elongated wiring board 18 was produced (see FIG. 1).

다음으로, 융점이 280℃인 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 두께가 25㎛인 제2의 절연층(22)과, 제2의 절연층(22)의 편면에 적층된 두께가 9㎛인 도체층(20)(동박)을 가지는 2권의 도체층 기판(24)을 준비하였다(도 2 참조).Next, the second insulating layer 22 having a thickness of 25 μm and the second liquid crystal polymer having a melting point of 280 ° C., and the conductor layer having a thickness of 9 μm laminated on one side of the second insulating layer 22. Two conductor layer substrates 24 having (20) (copper foil) were prepared (see Fig. 2).

그리고, 배선기판(18) 및 2개의 도체층 기판(24)을 각각 인출하여, 배선기판(18)을 사이에 두고 2개의 도체층 기판(24)을 상기 제2의 절연층측을 각각 배선기판(18)을 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비(27)로서 롤 라미네이터를 사용해 롤 온도 210℃, 롤 선압 100kN/m의 조건으로 연속적으로 가열, 가압하여 적층체(가적층체)(26)를 제작하였다(도 3 참조). 또한 얻어진 가적층체(26)의 적층 계면에서의 박리 강도는 0.2kN/m로, 롤상으로 감을 때에는 박리하지 않지만, 손 등으로 용이하게 벗겨낼 수 있는 것이었다.Then, the wiring board 18 and the two conductor layer substrates 24 are drawn out, respectively, and the two insulation layer substrates 24 are sandwiched between the wiring boards 18 and the second insulating layer side. 18), using a roll laminator as the heat pressurizing equipment 27, continuously heating and pressing under conditions of a roll temperature of 210 ° C. and a roll linear pressure of 100 kN / m to produce a laminate (preliminary laminate) 26. (See FIG. 3). Moreover, the peeling strength in the laminated interface of the obtained laminated body 26 was 0.2 kN / m, and when peeling off in roll shape, it did not peel but could be peeled easily by hand etc.

다음으로, 얻어진 가적층체(26)를 열처리 설비(29)를 사용해 280℃로 30초의 고온 열처리를 행하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)을 제작하였다(도 4 참조). 또한 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 적층 계면에서의 박리 강도는 0.8kN/m로, 손 등으로 용이하게 벗겨낼 수 있는 것은 아니었다.Next, the obtained temporary laminated body 26 was heat-processed at 280 degreeC for 30 second using the heat processing equipment 29, and the outer layer raw multilayer printed wiring board 28 was produced (refer FIG. 4). Moreover, the peeling strength in the laminated interface of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was 0.8 kN / m, and was not able to peel easily by hand.

이어서 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)을 300㎜×400㎜로 재단해, NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(30)을 형성하고(도 5a 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금(32)을 실시하였다(도 5b 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외면을 에칭, 패턴화하여 최외면의 배선회로(34)를 형성하고, 또한 솔더 레지스트(36)를 형성하여 다층 프린트 배선판(38)을 제작하였다(도 5c 참조).Subsequently, the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was cut to 300 mm × 400 mm, and a through hole 30 having a diameter of 0.15 mm was formed by NC drilling (see FIG. 5A), and after predetermined desmear treatment, 8 μm. Panel plating 32 of thickness was performed (see FIG. 5B). Then, the outermost surface was etched and patterned by the tenting method to form the wiring circuit 34 on the outermost surface, and the solder resist 36 was formed to produce a multilayer printed wiring board 38 (see Fig. 5C).

이때, 얻어진 다층 프린트 배선판(38)을 5㎝ 사방의 크기로 잘라내었을 때의 배선판의 휨을 평가한 바, 배선판의 휨은 작았다. 또한 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 단면 관찰을 행한 바, 배선회로(16)의 배선회로의 단선이나 변형이 나타나지 않고, 배선간에의 제2의 액정 폴리머(22)의 충전도 양호하며, 각 수지층 두께도 거의 균일하게 되어 있었다.At this time, when the obtained multilayer printed wiring board 38 was cut out to the size of 5 cm square, the curvature of the wiring board was evaluated, and the curvature of the wiring board was small. Furthermore, when cross-sectional observation of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was carried out, disconnection or deformation of the wiring circuit of the wiring circuit 16 did not appear, and charging of the second liquid crystal polymer 22 between the wirings was also good. The thickness of each resin layer was also almost uniform.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 3에서 사용한 동장 적층판을 대신하여, 열변형 온도가 360℃인 폴리이미드로 이루어지는 두께가 25㎛인 제1의 절연층(12)과 제1의 절연층(12)의 양면에 적층되고 두께가 9㎛인 동박(10)을 가지는 동장 적층판을 사용한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28) 및 다층 프린트 배선판(38)을 제작하였다.Instead of the copper clad laminate used in Example 3, the thickness was laminated on both surfaces of the first insulating layer 12 and the first insulating layer 12 having a thickness of 25 μm, which consist of polyimide having a heat deformation temperature of 360 ° C. The outer layer raw multilayer printed wiring board 28 and the multilayer printed wiring board 38 were produced like Example 3 except having used the copper clad laminated board which has the copper foil 10 of 9 micrometers.

이때, 얻어진 가적층체(26)의 적층 계면에서의 박리 강도는 0.2kN/m로, 롤상으로 감을 때에는 박리하지 않지만, 손 등으로 용이하게 벗겨낼 수 있는 것이었다. 또한 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 적층 계면에서의 박리 강도는 0.9kN/m로, 손 등으로 용이하게 벗겨낼 수 있는 것은 아니었다.At this time, the peeling strength at the laminated interface of the obtained laminated body 26 was 0.2 kN / m, and when peeling it in roll shape, it did not peel but could be peeled easily by hand etc. Moreover, the peeling strength in the laminated interface of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was 0.9 kN / m, and was not easy to peel off by hand.

또한 얻어진 다층 프린트 배선판(38)을 5㎝ 사방의 크기로 잘라내었을 때의 배선판의 휨을 평가한 바, 배선판의 휨은 작았다. 또한 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 단면 관찰을 행한 바, 배선회로(16)의 배선회로의 단선이나 변형이 나타나지 않고, 배선간에의 제2의 액정 폴리머(22)의 충전도 양호하며, 각 수지층 두께도 거의 균일하게 되어 있었다.Moreover, when the obtained multilayer printed wiring board 38 was cut out to the magnitude | size of 5 cm square, the curvature of the wiring board was evaluated, and the curvature of the wiring board was small. Furthermore, when cross-sectional observation of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was carried out, disconnection or deformation of the wiring circuit of the wiring circuit 16 did not appear, and charging of the second liquid crystal polymer 22 between the wirings was also good. The thickness of each resin layer was also almost uniform.

(실시예 5)(Example 5)

롤 라미네이터의 롤 온도를 275℃, 선압 20kN/m로 하고, 도 4에 나타내는 바와 같은 고온 열처리를 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28) 및 다층 프린트 배선판(38)을 제작하였다.The outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 and the multilayer printed wiring board were prepared in the same manner as in Example 3 except that the roll temperature of the roll laminator was 275 ° C and the linear pressure was 20 kN / m, and the high temperature heat treatment was not performed as shown in FIG. 38) was produced.

이때, 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 적층 계면에서의 박리 강도는 0.6kN/m였다. 그러나 얻어진 다층 프린트 배선판(38)을 5㎝ 사방의 크기로 잘라내었을 때의 배선판의 휨을 평가한 바, 배선판의 휨은 컸다. 또한 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 단면 관찰을 행한 바, 적층시에서의 응력에 의한 것으로 생각되는 미세한 주름이나 배선회로의 변형이 확인되었다.At this time, the peeling strength at the laminated interface of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was 0.6 kN / m. However, when the obtained multilayer printed wiring board 38 was cut out to the size of 5 cm square, the curvature of the wiring board was evaluated, and the curvature of the wiring board was large. Moreover, when the cross-sectional observation of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was performed, the fine wrinkles and distortion of the wiring circuit which were considered to be due to the stress at the time of lamination were confirmed.

(참고예 1)(Reference Example 1)

롤 라미네이터의 롤 온도를 170℃, 선압 100kN/m로 한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여 가적층체(26)를 제작하였다.The laminated body 26 was produced like Example 3 except having set the roll temperature of the roll laminator to 170 degreeC, and the linear pressure of 100 kN / m.

이때, 얻어진 가적층체(26)는 적층 계면에서 용이하게 박리해 버려 롤상으로 감을 수 없었다. 그 때문에, 가적층체로서 사용할 수 없는 것이며, 그 후의 고온 열처리 이후의 공정을 실시하는 것도 불가능하였다.At this time, the obtained laminated body 26 peeled easily in the lamination | stacking interface, and was not able to wind up in roll shape. Therefore, it cannot use as a temporary laminated body, and also the process after the high temperature heat processing after that was not possible.

(참고예 2)(Reference Example 2)

고온 열처리에서의 처리 온도를 250℃, 처리 시간을 30초로 한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28) 및 다층 프린트 배선판(38)을 제작하였다.The outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 and the multilayer printed wiring board 38 were produced like Example 4 except having made process temperature in high temperature heat processing into 250 degreeC, and processing time into 30 second.

이때, 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 적층 계면에서의 박리 강도는 0.3kN/m이고, 손 등으로 용이하게 벗겨낼 수 있는 것이며, 접착성이 불충분한 것이었다. 그리고, 얻어진 다층 프린트 배선판(38)을 5㎝ 사방의 크기로 잘라내었을 때의 배선판의 휨을 평가한 바, 배선판의 휨은 작았다.At this time, the peeling strength at the laminated interface of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was 0.3 kN / m, and it was easy to peel off by hand etc., and adhesiveness was inadequate. And when the obtained multilayer printed wiring board 38 was cut out to the magnitude | size of 5 cm square, the curvature of the wiring board was evaluated, and the curvature of the wiring board was small.

(실시예 6)(Example 6)

고온 열처리에서의 처리 온도를 310℃, 처리 시간을 30초로 한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28) 및 다층 프린트 배선판(38)을 제작하였다.The outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 and the multilayer printed wiring board 38 were produced like Example 4 except having made processing temperature in high temperature heat processing into 310 degreeC, and processing time into 30 second.

이때, 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 적층 계면에서의 박리 강도는 0.9kN/m로, 손 등으로 용이하게 벗겨낼 수 있는 것은 아니었다. 그러나 얻어진 다층 프린트 배선판(38)을 5㎝ 사방의 크기로 잘라내었을 때의 배선판의 휨을 평가한 바, 배선판의 휨이 컸다. 또한 얻어진 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)의 단면 관찰을 행한 바, 고온 열처리시에서의 열변형에 의한 것으로 생각되는 미세한 주름이나 회로의 변형이 확인되었다.At this time, the peeling strength at the laminated interface of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was 0.9 kN / m, which could not be easily peeled off by hand. However, when the obtained multilayer printed wiring board 38 was cut out to the size of 5 cm square, the curvature of the wiring board was evaluated, and the curvature of the wiring board was large. Moreover, when cross-sectional observation of the obtained outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 was carried out, the fine wrinkles and deformation | transformation of a circuit thought to be due to the thermal deformation at the time of high temperature heat processing were confirmed.

<다층 프린트 배선판의 박리 강도, 휨 및 단면 관찰의 평가결과><Evaluation Results of Peel Strength, Warp and Cross-sectional Observation of Multilayer Printed Wiring Boards>

실시예 3~6 및 참고예 1, 2에서 얻어진 가적층체 및 외층 미가공 다층 프린트 배선판의 적층 계면에서의 박리 강도(필(peel)), 다층 프린트 배선판의 휨의 평가, 그리고 외층 미가공 다층 프린트 배선판의 단면 관찰의 평가 또는 측정의 결과를 표 1에 나타낸다. 또한 실시예 3~6 및 참고예 1, 2에서의 제1의 절연층의 재료의 종류, 그리고 가적층 및 고온 열처리의 조건을 표 1에 나타낸다.The peel strength (peel) at the laminated interface of the laminated body obtained in Examples 3-6 and Reference Examples 1 and 2 and the outer layer multilayer printed wiring board, the evaluation of the warpage of the multilayer printed wiring board, and the outer layer of the multilayer printed wiring board Table 1 shows the results of evaluation or measurement of cross-sectional observation. Moreover, the kind of material of the 1st insulating layer in Examples 3-6 and Reference Examples 1 and 2, and the conditions of provisional lamination and high temperature heat processing are shown in Table 1.

Figure 112012105194153-pat00001
Figure 112012105194153-pat00001

표 1에 나타낸 결과로부터 명백하듯이, 상기 배선기판(18) 및 상기 도체층 기판(24)을 특정의 가열가압하에서 적층(가적층)하여 적층체(26)(가적층체(26))를 얻은 후에, 상기 적층체(26)를 열처리 설비(29)를 사용하여 특정의 조건으로 가열함으로써 고온 열처리를 행하여 외층 미가공 다층 프린트 배선판(28)을 얻는 경우(실시예 3, 4)에는, 롤투롤 방식으로 연속적으로 액정 폴리머로 이루어지는 절연층을 가지는 다층 프린트 배선판을 제조하는 방법에 있어서, 다층 프린트 배선판의 최외면에 형성되어 있는 배선회로의 변형을 방지할 수 있고, 게다가 다층 프린트 배선판의 휨을 충분히 억제할 수 있는 것이 확인되었다.As is apparent from the results shown in Table 1, the wiring board 18 and the conductor layer substrate 24 were laminated (preliminarily stacked) under a specific heating pressure to obtain a laminate 26 (preliminary laminate 26). Subsequently, when the laminated body 26 is heated to specific conditions using the heat treatment equipment 29 to perform high temperature heat treatment to obtain the outer layer unprocessed multilayer printed wiring board 28 (Examples 3 and 4), a roll-to-roll method In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board having an insulating layer made of a liquid crystal polymer continuously, the deformation of the wiring circuit formed on the outermost surface of the multilayer printed wiring board can be prevented, and the curvature of the multilayer printed wiring board can be sufficiently suppressed. It was confirmed that it could.

(실시예 7)(Example 7)

도 8에 단면도를 나타내는 다층 프린트 배선판(101)에 대하여 설명한다.The multilayer printed wiring board 101 which shows sectional drawing in FIG. 8 is demonstrated.

도 8에 나타내는 다층(4층) 프린트 배선판(101)은, 기본 구조(105)로서, 절연층에 1층의 폴리이미드수지층(103)과 2층의 액정 폴리머층(104)을 사용한 것으로서, 폴리이미드수지층(103)의 양측에는 배선회로층(102)이 형성되어 있고, 또한 그 양측에는 액정 폴리머층(104)을 절연층으로서 가지고 있다. 폴리이미드수지층(103)과 그 양측의 배선회로층(102)은 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 S(에스파넥스는 등록상표), 품번: SB12-25-12CE)으로 형성되어 있다. 즉, 폴리이미드수지층(103)은 상기 양면 동장 적층판에 유래하는 폴리이미드수지층이며, 배선회로층(102)은 상기 양면 동장 적층판에 유래하는 동박을 회로 가공하여 형성된 것이다.The multilayer (four-layer) printed wiring board 101 shown in FIG. 8 uses the polyimide resin layer 103 and two liquid crystal polymer layers 104 of one layer as an insulating layer as a basic structure 105, The wiring circuit layer 102 is formed on both sides of the polyimide resin layer 103, and the liquid crystal polymer layer 104 is provided on both sides thereof as an insulating layer. The polyimide resin layer 103 and the wiring circuit layers 102 on both sides thereof are double-sided copper clad laminates (manufactured by Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd., trade name: Espanex S (Spanex is a registered trademark), Part No .: SB12-25-) 12CE). That is, the polyimide resin layer 103 is a polyimide resin layer derived from the double-sided copper clad laminate, and the wiring circuit layer 102 is formed by circuit processing copper foil derived from the double-sided copper clad laminate.

도 8에 나타내는 다층 프린트 배선판(101)에 있어서, 기본 구조(105)로서의 액정 폴리머층(104)과 그에 인접하여 마련되어 있는 배선회로층(109)은, 예를 들면 상기 양면 동장 적층판을 회로 가공하여 얻어진 양면 배선기판의 양측에, 두께 25㎛의 액정 폴리머로 이루어지는 절연층의 편면에 두께 12㎛의 동박을 가지는 편면 동장 적층판(이하, 이것을 편면 동장 적층판(LX)이라 칭함. 액정 폴리머의 융점: 280℃)을 적층 일체화하여, 동박을 회로 가공함으로써 형성할 수 있다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 배선회로층(109)상에는 그 표면에 배선회로층(106)을 가지고, 또한 각 층간을 전기적으로 접속하는 도금 스루홀(107)과 최외층에 형성된 솔더 레지스트층(108)을 가지고 있다.In the multilayer printed wiring board 101 shown in FIG. 8, the liquid crystal polymer layer 104 as a basic structure 105 and the wiring circuit layer 109 provided adjacent to it are circuit-processed the said double-sided copper clad laminated board, for example. Single-sided copper clad laminates (hereinafter referred to as single-sided copper clad laminates (LX)) having copper foils having a thickness of 12 μm on one side of an insulating layer made of a liquid crystal polymer having a thickness of 25 μm on both sides of the obtained double-sided wiring board. It is possible to form by laminating and integrating the C) and circuit processing the copper foil. As shown in FIG. 8, the soldering resist layer 108 formed on the wiring circuit layer 109 has a wiring circuit layer 106 on its surface and electrically connects the layers, and the solder resist layer 108 formed in the outermost layer. Has)

여기서, 배선회로층(106)은 배선회로층(109)과 도금 스루홀(107)과 동일한 도금 구리(110)로 구성된다. 액정 폴리머층(104)의 두께는 25㎛, 배선회로층(109)의 두께는 12㎛, 폴리이미드수지층(103)의 두께는 25㎛이다. 또한 스루홀(107)의 구멍 지름은 0.15㎜, 도금 구리(110)의 두께는 8㎛, 솔더 레지스트층(108)의 두께는 25㎛이다. 배선회로층의 기본 설계룰은 배선회로층(102)이 라인/스페이스: 50/50㎛, 배선회로층(106)이 75/75㎛, 각 배선회로층(102,106)의 스루홀 랜드(111)가 φ 0.3㎜이다. 또한 폴리이미드수지층(103)과 2개의 액정 폴리머층(104,104) 사이에 형성되는 2개의 경계면(112,112)의 거칠기(Rz)는 단면 관찰의 결과, 각각 4.5㎛와 4.9㎛였다. 또한 이 4층 프린트 배선판(101)의 총 두께는 약 125㎛였다.Here, the wiring circuit layer 106 is composed of the wiring circuit layer 109 and the same plating copper 110 as the plating through hole 107. The thickness of the liquid crystal polymer layer 104 is 25 μm, the thickness of the wiring circuit layer 109 is 12 μm, and the thickness of the polyimide resin layer 103 is 25 μm. The through hole 107 has a hole diameter of 0.15 mm, a thickness of the plated copper 110 of 8 μm, and a thickness of the solder resist layer 108 of 25 μm. The basic design rule of the wiring circuit layer is that the wiring circuit layer 102 has a line / space of 50/50 μm, the wiring circuit layer 106 has a 75/75 μm, and the through-hole land 111 of each wiring circuit layer 102, 106. Is 0.3 mm. In addition, the roughness Rz of the two boundary surfaces 112 and 112 formed between the polyimide resin layer 103 and the two liquid crystal polymer layers 104 and 104 was 4.5 µm and 4.9 µm, respectively, as a result of the cross-sectional observation. In addition, the total thickness of this four-layer printed wiring board 101 was about 125 micrometers.

(실시예 8)(Example 8)

도 9에 단면도를 나타내는 다층 프린트 배선판(201)에 대하여 설명한다.The multilayer printed wiring board 201 which shows sectional drawing in FIG. 9 is demonstrated.

도 9에 나타내는 다층(4층) 프린트 배선판(201)은 절연층에 2층의 폴리이미드수지층(203,203')과 1층의 액정 폴리머층(204)을 사용한 것으로서, 각 폴리이미드수지층(203,203')의 양측에는 배선회로층(208,208')이 형성되어 있고, 폴리이미드수지층(203)과 폴리이미드수지층(203') 사이에는 절연층으로서 액정 폴리머층(204)을 가지고 있다. 폴리이미드수지층(203)과 그 양측의 배선회로층(208,208')은 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 M, 품번: MB12-12-12FR)으로 형성되어 있다. 즉, 폴리이미드수지층(203,203')은 상기 양면 동장 적층판에 유래하는 폴리이미드수지층이며, 배선회로층(208,208')은 상기 양면 동장 적층판에 유래하는 동박을 회로 가공하여 형성된 것이다.The multilayer (four-layer) printed wiring board 201 shown in FIG. 9 uses two polyimide resin layers 203 and 203 'and one liquid crystal polymer layer 204 as an insulating layer, and each polyimide resin layer 203 and 203 is used. Wiring circuit layers 208 and 208 'are formed on both sides of'), and the liquid crystal polymer layer 204 is provided as an insulating layer between the polyimide resin layer 203 and the polyimide resin layer 203 '. The polyimide resin layer 203 and the wiring circuit layers 208 and 208 'on both sides thereof are formed of a double-sided copper clad laminate (Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd., trade name: Espanex M, Part No .: MB12-12-12FR). . That is, the polyimide resin layers 203 and 203 'are polyimide resin layers derived from the double-sided copper clad laminate, and the wiring circuit layers 208 and 208' are formed by circuit processing copper foil derived from the double-sided copper clad laminate.

도 9에 나타내는 다층 프린트 배선판(201)의 기본 구조(205)는, 액정 폴리머층(204)의 양측에 폴리이미드수지층(203,203')을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판의 편면측만 회로 가공하여 형성한 배선회로층(202-2,202-1')과 액정 폴리머층(204)이 대향하도록 적층 일체화하고, 그 후 외측의 배선회로층(208)을 형성하였다. 여기서, 액정 폴리머층(204)에는 두께 50㎛의 액정 폴리머층을 절연층으로 하고, 그 양면에 두께 12㎛의 동박을 가지는 양면 동장 적층판(이하, 이것을 양면 동장 적층판(LY)이라 칭함. 액정 폴리머의 융점: 300℃)의 동박을 에칭 제거한 액정 폴리머 필름을 사용하였다. 도 9에 나타내는 바와 같이, 외측의 배선회로층(208)상에는 그 표면에 배선회로층(209)을 가지며, 또한 각 층간을 전기적으로 접속하는 도금 스루홀(206)과 최외층에 형성된 솔더 레지스트층(207)을 가지고 있다.The basic structure 205 of the multilayer printed wiring board 201 shown in FIG. 9 is formed by circuit-processing only one side of a double-sided copper clad laminate having polyimide resin layers 203 and 203 'as insulating layers on both sides of the liquid crystal polymer layer 204. FIG. One wiring circuit layer 202-2, 202-1 'and the liquid crystal polymer layer 204 were laminated integrally so as to face each other, and then an outer wiring circuit layer 208 was formed. Here, the liquid crystal polymer layer 204 has a 50 µm thick liquid crystal polymer layer as an insulating layer, and has a copper foil having a thickness of 12 µm on both surfaces thereof (hereinafter referred to as a double-sided copper clad laminate LY). Melting | fusing point: 300 degreeC) The liquid crystal polymer film which removed the copper foil by etching was used. As shown in FIG. 9, on the outer wiring circuit layer 208, there is a wiring circuit layer 209 on the surface thereof, and a plated through hole 206 for electrically connecting each layer and a solder resist layer formed in the outermost layer. Has (207)

여기서, 배선회로층(202-1과 202-2')은 양면 동장 적층판(LY) 유래의 배선회로층(208)(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 M, 품번: MB12-12-12FR)과 도금 스루홀(206)과 동일한 도금 구리(209)로 구성된다. 폴리이미드수지층의 두께는 12㎛, 에스파넥스 M에 유래하는 동박 두께는 12㎛이다. 또한 스루홀(206)의 구멍 지름은 0.15㎜, 도금 구리(209)의 두께는 8㎛, 솔더 레지스트 막 두께는 20㎛이다. 배선회로층의 기본 설계룰은 배선회로층(202-2와 202-1')이 라인/스페이스: 50/50㎛, 배선회로층(202-1과 202-2')이 라인/스페이스: 75/75㎛, 각 층의 스루홀 랜드가 φ 0.3㎜이다. 또한 폴리이미드수지층(203,203')과 액정 폴리머층(204)의 계면(210)의 거칠기(Rz)는 단면 관찰의 결과, 각각 2.0㎛와 1.9㎛였다. 또한 이 4층 프린트 배선판(201)의 총 두께는 약 115㎛였다.Here, the wiring circuit layers 202-1 and 202-2 'are the wiring circuit layers 208 (Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd. make, brand name: Espanex M, product number: MB12-) derived from the double-sided copper clad laminated board LY. 12-12FR) and the same plated copper 209 as the plated through hole 206. The thickness of the polyimide resin layer is 12 micrometers, and the copper foil thickness derived from Espanex M is 12 micrometers. The through hole 206 has a hole diameter of 0.15 mm, a plated copper 209 having a thickness of 8 μm, and a solder resist film thickness of 20 μm. The basic design rule of the wiring circuit layer is that the wiring circuit layers 202-2 and 202-1 'have a line / space of 50/50 占 퐉 and the wiring circuit layers 202-1 and 202-2' have a line / space of 75. / 75 micrometers and the through-hole land of each layer are (phi) 0.3 mm. Moreover, the roughness Rz of the interface 210 of the polyimide resin layer 203,203 'and the liquid crystal polymer layer 204 was 2.0 micrometers and 1.9 micrometers, respectively, as a result of cross-sectional observation. In addition, the total thickness of this four-layer printed wiring board 201 was about 115 micrometers.

(실시예 9)(Example 9)

도 10에 단면도를 나타내는 다층 프린트 배선판(301)에 대하여 설명한다.The multilayer printed wiring board 301 which shows sectional drawing in FIG. 10 is demonstrated.

도 10에 나타내는 다층(8층) 프린트 배선판(301)은 실시예 2와 동일한 기본 구조(302)(단, 스루홀(206)과 그 도금 구리(209)에 상당하는 구조는 없음)의 양면에, 액정 폴리머층(303,303')과, IVH(304'), 배선회로층(305,305'), 또한 한 층씩 더 액정 폴리머층(317,317'), BVH(307,307'), 배선회로층(308,308')을 적층 일체화하여, 각 층간을 전기적으로 접속하는 도금 스루홀(309)과 최외층에 형성된 솔더 레지스트층(310)으로 이루어지는 8층 프린트 배선판이다.The multilayer (8-layer) printed wiring board 301 shown in FIG. 10 is formed on both sides of the same basic structure 302 as in the second embodiment (there is no structure corresponding to the through hole 206 and the plated copper 209). The liquid crystal polymer layers 303 and 303 ', the IVH 304', the wiring circuit layers 305 and 305 ', and the liquid crystal polymer layers 317 and 317', BVH 307 and 307 'and the wiring circuit layers 308 and 308'. It is an 8-layer printed wiring board which consists of the plating through-hole 309 which integrally laminates and electrically connects each layer, and the soldering resist layer 310 formed in outermost layer.

액정 폴리머층(303,303')은 두께 25㎛의 액정 폴리머를 절연층으로 하고, 그 편면에 두께 9㎛의 동박을 가지는 편면 동장 적층판(이하, 이것을 편면 동장 적층판(LX2)이라 칭함. 액정 폴리머의 융점: 300℃)에 유래하는 것이며, 배선회로층(311,311')은 상기 편면 동장 적층판의 동박을 회로 가공하여 형성된 것이다. 또한 액정 폴리머층(317,317')은 두께 50㎛의 액정 폴리머를 절연층으로 하고, 그 편면에 두께 9㎛의 동박을 가지는 편면 동장 적층판(이하, 이것을 편면 동장 적층판(LX3)이라 칭함. 액정 폴리머의 융점: 280℃)에 유래하는 것이며, 배선회로층(313,313')은 상기 편면 동장 적층판의 동박을 회로 가공하여 형성된 것이다. IVH(304')는 공지의 수단으로 임의로 마련되며, 다른 배선회로와의 전기적 접속을 가능하게 한다.The liquid crystal polymer layers 303 and 303 'have a liquid crystal polymer having a thickness of 25 µm as an insulating layer and have a copper foil having a thickness of 9 µm on one side thereof (hereinafter, referred to as a single-sided copper clad laminate (LX2)). : 300 degreeC), and the wiring circuit layers 311,311 'are formed by carrying out the circuit processing of the copper foil of the said single-sided copper clad laminated board. In addition, the liquid crystal polymer layers 317 and 317 'have a 50-micrometer-thick liquid crystal polymer as an insulating layer, and have a copper foil of 9 micrometers on one side (hereinafter, referred to as a single-sided copper clad laminate (LX3)). Melting | fusing point: 280 degreeC), and the wiring circuit layers 313 and 313 'are formed by circuit-processing the copper foil of the said single-sided copper clad laminated board. The IVH 304 'is arbitrarily provided by known means, and enables electrical connection with other wiring circuits.

여기서, 배선회로층(305와 305')은 배선회로층(311,311')과 IVH(304,304')와 동일한 도금 구리(312)로 구성된다. 마찬가지로, 배선회로층(308,308')은 배선회로층(313,313')과 BVH(307,307')와, 도금 스루홀(309)과 동일한 도금 구리(314)로 구성된다.Here, the wiring circuit layers 305 and 305 'are made of the wiring circuit layers 311 and 311' and the same plated copper 312 as the IVHs 304 and 304 '. Similarly, the wiring circuit layers 308 and 308 'are composed of the wiring circuit layers 313 and 313', the BVHs 307 and 307 ', and the same plating copper 314 as the plating through hole 309.

편면 동장 적층판(LX2) 및 편면 동장 적층판(LX3)에 유래하는 액정 폴리머 두께는 25㎛ 및 배선회로층(313,313')의 두께는 9㎛이며, IVH(304'), BVH(307,307')의 위 지름은 100㎛, 아래 지름은 90㎛, 도금 구리(314)의 두께는 8㎛, 스루홀(309)의 구멍 지름은 0.15㎜, 도금 구리(312)의 두께는 8㎛, 솔더 레지스트층(310)의 막 두께는 20㎛이다. 배선회로층의 기본 설계룰은 배선회로층(305와 305')의 라인/스페이스가 전 층 50/50㎛, 스루홀 랜드(315)가 전 층 0.3㎜, IVH(304')와 BVH(307,307')의 패드가 0.2㎜이다. 또한 폴리이미드수지층과 액정 폴리머층의 계면(316)의 거칠기(Rz)는 단면 관찰의 결과, 2.2㎛와 2.0㎛였다. 또한 이 8층 프린트 배선판(301)의 총 두께는 약 270㎛였다.The thickness of the liquid crystal polymer derived from the single-sided copper clad laminate (LX2) and the single-sided copper clad laminate (LX3) is 25 µm and the thickness of the wiring circuit layers 313,313 'is 9 µm, and is above IVH 304' and BVH (307,307 '). The diameter is 100 μm, the lower diameter is 90 μm, the thickness of the plated copper 314 is 8 μm, the hole diameter of the through hole 309 is 0.15 mm, the thickness of the plated copper 312 is 8 μm, the solder resist layer 310 ) Has a film thickness of 20 μm. The basic design rule of the wiring circuit layer is that the line / space of the wiring circuit layers 305 and 305 'is 50/50 mu m in all layers, the through-hole land 315 is 0.3 mm in all layers, IVH 304' and BVH (307,307). ') Pad is 0.2 mm. Moreover, the roughness Rz of the interface 316 of a polyimide resin layer and a liquid crystal polymer layer was 2.2 micrometers and 2.0 micrometers as a result of sectional observation. In addition, the total thickness of this eight-layer printed wiring board 301 was about 270 micrometers.

(실시예 10)(Example 10)

도 11에 단면도를 나타내는 다층 프린트 배선판(401)에 대하여 설명한다.The multilayer printed wiring board 401 which shows sectional drawing in FIG. 11 is demonstrated.

도 11에 나타내는 다층(4층) 프린트 배선판(401)은 절연층에 1층의 폴리이미드수지층(403)과 2층의 액정 폴리머층(404,407)을 가지며, 4층의 배선회로층(402,406,412,414)을 가지고 있다. 폴리이미드수지층(403)과 그 양측의 배선회로층(402,414)은 폴리이미드수지층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 S, 품번: SB18-25-18CE)에 유래하는 수지층과 그 동박을 회로 가공하여 형성된 배선회로층이다. 또한 폴리이미드수지층(403)에 인접하는 액정 폴리머층(404)과 배선회로층(406)은 두께 50㎛의 액정 폴리머층의 절연층의 편면에 두께 18㎛의 동박을 가지는 편면 동장 적층판(이하, 이것을 편면 동장 적층판(LX4)이라 칭함. 액정 폴리머의 융점: 290℃)에 유래하는 것이며, 그 액정 폴리머층(404)에 인접하는 액정 폴리머층(407)과 배선회로층(412)은 두께 50㎛의 액정 폴리머층의 절연층의 편면에 두께 18㎛의 동박을 가지는 것으로 하는 편면 동장 적층판(이하, 이것을 편면 동장 적층판(LX5)이라 칭함. 액정 폴리머의 융점: 280℃)에 유래하는 수지층과 그 동박을 회로 가공하여 형성된 배선회로층이다. 또한 배선회로층(408)은 배선회로층(412)과 BVH(409), 도금 스루홀(410)과 동일한 도금 구리(413)로, 또한 배선회로층(402')은 배선회로층(414)과 도금 구리(413)로 구성된다.The multilayer (four-layer) printed wiring board 401 shown in FIG. 11 has one layer of polyimide resin layer 403 and two layers of liquid crystal polymer layers 404 and 407 in an insulating layer, and four layers of wiring circuit layers 402, 406, 412 and 414. Have The polyimide resin layer 403 and the wiring circuit layers 402 and 414 on both sides thereof are double-sided copper clad laminates made of a polyimide resin layer as an insulating layer (manufactured by Shinnitetsu Chemical Co., Ltd., trade name: Espanex S, Part No .: SB18- It is a wiring circuit layer formed by circuit-processing the resin layer derived from 25-18CE), and its copper foil. In addition, the liquid crystal polymer layer 404 and the wiring circuit layer 406 adjacent to the polyimide resin layer 403 have a single-sided copper clad laminate having a copper foil having a thickness of 18 μm on one side of the insulating layer of the liquid crystal polymer layer having a thickness of 50 μm (hereinafter This is called a single-sided copper clad laminate (LX4), which is derived from the melting point of the liquid crystal polymer: 290 ° C., and has a thickness of 50 between the liquid crystal polymer layer 407 and the wiring circuit layer 412 adjacent to the liquid crystal polymer layer 404. A resin layer derived from a single-sided copper clad laminate (hereinafter referred to as a single-sided copper clad laminate (LX5)) having a copper foil having a thickness of 18 μm on one side of the insulating layer of the liquid crystal polymer layer having a thickness of 탆. It is a wiring circuit layer formed by circuit-processing the copper foil. The wiring circuit layer 408 is made of the same plating copper 413 as the wiring circuit layer 412, the BVH 409, and the plated-through hole 410, and the wiring circuit layer 402 ′ is formed of the wiring circuit layer 414. And plated copper 413.

여기서, 편면 동장 적층판(LX4)과 편면 동장 적층판(LX5)의 액정 폴리머의 두께는 50㎛, 배선회로층(406,412)의 두께는 18㎛, 폴리이미드수지층(403)의 두께는 25㎛, 배선회로층(402',408)의 두께는 18㎛이다. 또한 스루홀(410)의 구멍 지름은 0.15㎜, BVH(409)의 위 지름은 80㎛, 아래 지름은 75㎛, 도금 구리(413)의 두께는 8㎛, 솔더 레지스트층(411)의 막 두께는 20㎛이다. 또한 폴리이미드수지층(403)과 액정 폴리머층(404)의 계면(415)의 거칠기(Rz)는 단면 관찰의 결과, 각각 4.7㎛와 4.6㎛였다. 또한 이 4층 프린트 배선판(401)의 총 두께는 약 168㎛였다.Here, the thickness of the liquid crystal polymer of the single-sided copper clad laminate (LX4) and the single-sided copper clad laminate (LX5) is 50 µm, the thickness of the wiring circuit layers 406 and 412 is 18 µm, the thickness of the polyimide resin layer 403 is 25 µm, and the wiring. The thickness of the circuit layers 402 ', 408 is 18 mu m. In addition, the hole diameter of the through hole 410 is 0.15 mm, the upper diameter of the BVH 409 is 80 μm, the lower diameter is 75 μm, the thickness of the plated copper 413 is 8 μm, and the film thickness of the solder resist layer 411. Is 20 µm. In addition, the roughness Rz of the interface 415 of the polyimide resin layer 403 and the liquid crystal polymer layer 404 was 4.7 micrometers and 4.6 micrometers, respectively, as a result of cross-sectional observation. In addition, the total thickness of this four-layer printed wiring board 401 was about 168 micrometers.

(실시예 11)(Example 11)

실시예 7의 4층 프린트 배선판과 같은 구조의 4층 프린트 배선판(501)의 제조방법을 도 12a~도 12h에 나타내는 프로세스 단면도로 상세하게 설명한다.The manufacturing method of the 4-layer printed wiring board 501 of the structure similar to the 4-layer printed wiring board of Example 7 is demonstrated in detail by the process sectional drawing shown to FIG. 12A-FIG. 12H.

우선, 도 12a에 나타내는 폴리이미드수지층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 S, 품번: SB12-25-12CE)(502)의 양면의 동박(503)을 서브트랙티브(subtractive)법에 의해 패턴 가공하여 배선회로층(504)을 형성한 400×300㎜의 양면 배선기판(505)을 제작하였다(도 12b 참조). 다음으로, 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 같은 사이즈의 편면 동장 적층판(LX)(506)을 준비하고, 수지면끼리를 대향시켜 양면 배선기판(505)을 그 양측으로부터 끼워 그대로 진공 프레스에 세트하였다(도 12c 참조). 이어서, 프레스 열반(507) 사이를 1.3㎪로 배기하면서 몰드 클램핑(mold clamping)을 행하고, 열반을 260℃로 승온하여 가열하였다. 열반 온도가 260℃에 달한 5분 후에 6㎫의 접착압을 부가하고, 10분 후 열반(507)의 냉각을 개시하였다(도 12d 참조). 20분 후 접착압을 제거해, 열반(507)을 개방하여 적층체(508)를 꺼내었다(도 12e 참조). 얻어진 적층체(508)에 NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(509)을 형성하고(도 12f 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금(510)을 형성하였다(도 12g 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(511)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(512)을 형성하고, 솔더 레지스트층(513)을 형성하여 4층 프린트 배선판(501)을 제작하였다(도 12h 참조).First, double-sided copper foil of the double-sided copper clad laminated board (the Shinnitetsu Chemical Co., Ltd. make, brand name: Espanex S, product number: SB12-25-12CE) (502) which uses the polyimide resin layer shown in FIG. 12A as an insulating layer (502) 503) was patterned by a subtractive method to produce a 400 x 300 mm double-sided wiring board 505 having a wiring circuit layer 504 (see FIG. 12B). Next, a single-sided copper clad laminate (LX) 506 of the same size having the liquid crystal polymer layer as an insulating layer was prepared, and the two-sided wiring boards 505 were sandwiched from both sides with the resin surfaces facing each other to be set in a vacuum press as it is ( 12C). Subsequently, mold clamping was performed while evacuating between press hot plates 507 at 1.3 kPa, and the hot plates were heated to 260 ° C. and heated. 5 minutes after the hot plate temperature reached 260 ° C, an adhesion pressure of 6 MPa was added, and after 10 minutes, cooling of the hot plate 507 was started (see FIG. 12D). After 20 minutes, the adhesive pressure was removed, and the hot plate 507 was opened to take out the laminate 508 (see FIG. 12E). A through hole 509 having a diameter of 0.15 mm was formed in the obtained laminate 508 by NC drilling (see FIG. 12F), and a panel plating 510 having a thickness of 8 μm was formed after a predetermined desmear treatment (FIG. 12G). Reference). The outermost layer 511 was etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 512, and a solder resist layer 513 was formed to produce a four-layer printed wiring board 501 (see FIG. 12H). ).

본 프로세스에서의 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실은 0%였다.Yield loss due to powder fall in this process was 0%.

(실시예 12)(Example 12)

실시예 11의 4층 프린트 배선판과 같은 구조의 4층 프린트 배선판(601)의 다른 제조방법을 도 13a~도 13f에 나타내는 프로세스 단면도로 상세하게 설명한다.Another manufacturing method of the 4-layer printed wiring board 601 of the structure similar to the 4-layer printed wiring board of Example 11 is demonstrated in detail by the process sectional drawing shown to FIG. 13A-FIG. 13F.

우선, 실시예 11에서 사용한 것과 같은 양면 동장 적층판(602)의 양면의 동박(603)을 서브트랙티브법에 의해 패턴 가공하여 배선회로층(604)을 형성한 폭 300㎜×길이 100m의 롤상으로 권회된 장척의 양면 배선기판(605)을 제작하였다(도 13a 참조). 양면 배선기판(605)을 그 양측으로부터 수지면을 대향시킨 같은 형상의 편면 동장 적층판(LX)(606)으로 끼우고(도 13b 참조), 표면 온도 260℃의 롤(607) 사이에 공급하여 연속적으로 선압 20kN/m로 가열, 가압하였다(도 13c 참조). 얻어진 연속 적층체(608)는 400×30㎜로 재단해, NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(609)을 형성하고(도 13d 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금(610)을 형성하였다(도 13e 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(611)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(612)을 형성하고, 솔더 레지스트층(613)을 형성하여 4층 프린트 배선판(601)을 제작하였다(도 13f 참조).First, the copper foil 603 of both surfaces of the double-sided copper clad laminated board 602 as used in Example 11 was pattern-processed by the subtractive method, and the wiring circuit layer 604 was formed in roll shape of width 300mm x length 100m. The wound long double-sided wiring board 605 was fabricated (see FIG. 13A). The double-sided wiring board 605 is sandwiched by a single-sided copper clad laminate (LX) 606 of the same shape facing the surface of the water from both sides thereof (see Fig. 13B), and is supplied between the rolls 607 at a surface temperature of 260 ° C and continuously. It heated and pressurized to linear pressure 20kN / m (refer FIG. 13C). The obtained continuous laminate 608 was cut to 400 × 30 mm and formed through holes 609 with a diameter of 0.15 mm by NC drilling (see FIG. 13D), and then plated with a thickness of 8 μm after predetermined desmear treatment. 610 was formed (see FIG. 13E). Then, the outermost layer 611 was etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 612, and a solder resist layer 613 was formed to produce a four-layer printed wiring board 601 (see FIG. 13F). ).

본 프로세스에서의 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실은 0%였다.Yield loss due to powder fall in this process was 0%.

(실시예 13)(Example 13)

실시예 8의 4층 프린트 배선판과 같은 구조의 4층 프린트 배선판(701)의 제조방법을 도 14a~도 14i에 나타내는 프로세스 단면도로 상세하게 설명한다.The manufacturing method of the 4-layer printed wiring board 701 of the structure similar to the 4-layer printed wiring board of Example 8 is demonstrated in detail by the process sectional drawing shown to FIG. 14A-FIG. 14I.

우선, 400×300㎜의 폴리이미드수지층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 M, 품번: MB12-12-12FR)(702)(도 14a 참조)의 편면의 동박(703-2)을 서브트랙티브법에 의해 패턴 가공하여 배선회로층(704-2)을 형성하였다. 동일하게 하여, 또 한 개의 양면 동장 적층판(702')을 패턴 가공하였다(도 14b 참조). 이어서, 같은 사이즈의 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(LY)(705)의 양면의 동박(706)을 에칭 제거하고, 노출한 표면을 수산화칼륨(34질량%)/에틸렌글리콜(22질량%)/에틸렌디아민(11질량%)의 알칼리 혼합 수용액으로 60℃, 60초 침지 처리한 액정 폴리머층(707)을 제작하였다(도 14c 참조). 배선회로층(704-2,704-1')면을 대향시킨 편면 가공 기판(702,702')의 사이에 표면 처리된 액정 폴리머층(707)을 끼워 그대로 진공 프레스에 세트하였다(도 14d 참조). 이어서, 프레스 열반(708) 사이를 1.3㎪로 배기하면서 몰드 클램핑을 행하고, 열반(708)을 300℃로 승온하여 가열하였다. 열반 온도가 300℃에 달한 5분 후에 4㎫의 접착압을 부가하고, 10분 후 열반(708)의 냉각을 개시하였다(도 14e 참조). 20분 후 접착압을 제거해, 열반(708)을 개방하여 적층체(709)를 꺼내었다(도 14f 참조). 얻어진 적층체(709)에 NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(710)을 형성하고(도 14g 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금(711)을 형성하였다(도 14h 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(712)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(713)을 형성하고, 또한 솔더 레지스트층(714)을 형성하여 4층 프린트 배선판(701)을 제작하였다(도 14i 참조).First, a double-sided copper clad laminated board (made by Shinnitetsu Chemical Co., Ltd., brand name: Espanex M, part number: MB12-12-12FR) (702) which uses the polyimide resin layer of 400x300 mm as an insulating layer (refer FIG. 14A). The copper foil 703-2 of one side of the pattern) was pattern-processed by the subtractive method, and the wiring circuit layer 704-2 was formed. In the same manner, another double-sided copper clad laminate 702 'was patterned (see Fig. 14B). Subsequently, the copper foil 706 of both surfaces of the double-sided copper clad laminated board (LY) 705 which makes a liquid crystal polymer layer of the same size an insulating layer is etched away, and the exposed surface was potassium hydroxide (34 mass%) / ethylene glycol (22). The liquid crystal polymer layer 707 which was immersed at 60 degreeC for 60 second by the alkali mixed aqueous solution of the mass%) / ethylenediamine (11 mass%) was produced (refer FIG. 14C). The surface-treated liquid crystal polymer layer 707 was sandwiched between the single-sided processing substrates 702 and 702 'facing the wiring circuit layers 704-2 and 704-1', and set in a vacuum press as it is (see Fig. 14D). Subsequently, mold clamping was performed while exhausting between the press hot plates 708 at 1.3 kPa, and the hot plates 708 were heated to 300 ° C and heated. 5 minutes after the nibble temperature reached 300 占 폚, an adhesive pressure of 4 MPa was added, and after 10 minutes, cooling of the nibble 708 was started (see FIG. 14E). After 20 minutes, the adhesive pressure was removed, and the hot plate 708 was opened to take out the laminate 709 (see FIG. 14F). Through-hole 710 of 0.15 mm in diameter was formed in the obtained laminated body 709 by NC drill (refer FIG. 14G), and the panel plating 711 of 8 micrometer thickness was formed after predetermined desmear process (FIG. 14H). Reference). Then, the outermost layer 712 was etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 713, and a solder resist layer 714 was formed to produce a four-layer printed wiring board 701 (FIG. 14I). Reference).

본 프로세스에서의 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실은 0%였다.Yield loss due to powder fall in this process was 0%.

(실시예 14)(Example 14)

실시예 13의 4층 프린트 배선판과 같은 구조의 4층 프린트 배선판(801)의 다른 제조방법을 도 15a~도 15f에 나타내는 프로세스 단면도로 상세하게 설명한다.Another manufacturing method of the four-layer printed wiring board 801 having the same structure as that of the four-layer printed wiring board of the thirteenth embodiment will be described in detail with the process sectional views shown in Figs. 15A to 15F.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하는 2권의 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 M, 품번: MB12-12-12FR)(802,802')의 동박(803,803')의 각각 편면을 서브트랙티브법에 의해 패턴 가공하여 배선회로층(804,804')을 형성한 폭 30㎜×길이 100m의 롤상으로 권회된 장척의 양면 배선기판(805,805')을 제작하였다(도 15a 참조). 이어서, 같은 형상의 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(LY)(806)의 양면의 동박을 에칭 제거하고, 노출한 표면을 아르곤, 헬륨, 산소, 질소로 이루어지는 가스를 사용하여 플라즈마 처리한 액정 폴리머층(807)을 제작하였다(도 15b 참조). 이 액정 폴리머층(807)을 배선회로층(804,804')을 대향시킨 2개의 배선기판(805,805')으로 끼우고, 표면 온도 260℃의 롤(808) 사이에 공급하여 연속적으로 선압 100kN/m로 가열, 가압하였다(도 15c 참조). 얻어진 연속 적층체(809)는 400×300㎜로 재단해, NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(810)을 형성하고(도 15d 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금을(811) 형성하였다(도 15e 참조). 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(812)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(813)을 형성하고, 솔더 레지스트층(814)을 형성하여 4층 프린트 배선판(801)을 제작하였다(도 15f 참조).First, copper foil (803,803 ') of two-sided copper clad laminated boards (Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd., brand name: Espanex M, product number: MB12-12-12FR) (802,802') which makes a polyimide resin layer an insulation layer ), The long-sided double-sided wiring boards 805 and 805 'wound in a roll shape having a width of 30 mm x 100 m in length by forming the wiring circuit layers 804 and 804' by the subtractive method (Fig. 15A). Reference). Subsequently, the copper foils on both sides of the double-sided copper clad laminate (LY) 806 having the liquid crystal polymer layer having the same shape as the insulating layer are etched away, and the exposed surface is plasma treated using a gas made of argon, helium, oxygen, and nitrogen. One liquid crystal polymer layer 807 was produced (see FIG. 15B). The liquid crystal polymer layer 807 is sandwiched between two wiring boards 805 and 805 'facing the wiring circuit layers 804 and 804', supplied between the rolls 808 at a surface temperature of 260 DEG C, and continuously at a linear pressure of 100 kN / m. Heated and pressurized (see FIG. 15C). The obtained continuous laminate 809 was cut to 400 × 300 mm and formed through holes 810 with a diameter of 0.15 mm by NC drilling (see FIG. 15D), and then plated with a thickness of 8 μm after a predetermined desmear process. 811 was formed (see FIG. 15E). Then, the outermost layer 812 was etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 813, and a solder resist layer 814 was formed to produce a four-layer printed wiring board 801 (see FIG. 15F). ).

본 프로세스에서의 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실은 0%였다.Yield loss due to powder fall in this process was 0%.

(실시예 15)(Example 15)

실시예 9의 8층 프린트 배선판과 같은 구조의 8층 프린트 배선판(901)의 제조방법을 도 16a~도 16j에 나타내는 프로세스 단면도로 상세하게 설명한다.The manufacturing method of the 8-layer printed wiring board 901 of the structure similar to the 8-layer printed wiring board of Example 9 is demonstrated in detail by the process sectional drawing shown to FIG. 16A-FIG. 16J.

우선, 400×300㎜의 폴리이미드수지층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 M, 품번: MB12-12-12FR)(902)(도 16a 참조)의 양면의 동박(903-1,903-2)을 서브트랙티브법에 의해 패턴 가공하여 배선회로층(904-1,904-2)을 형성하였다. 동일하게 한 개 더 제작하였다(도 16b 참조). 이어서, 같은 사이즈의 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(LY)(905)의 양면의 동박(906)을 에칭 제거하고, 노출한 표면을 수산화칼륨(34질량%)/에틸렌글리콜(22질량%)/에틸렌디아민(11질량%)의 알칼리 혼합 수용액으로 80℃ 30초 침지 처리한 액정 폴리머층(907)을 제작하였다(도 16c 참조). 양면 동장 적층판(902,902')의 사이에 표면 처리된 액정 폴리머층(907)을 끼워 그대로 진공 프레스에 세트하였다(도 16d 참조). 이어서, 프레스 열반(908) 사이를 1.3㎪로 배기하면서 몰드 클램핑을 행하고, 열반(908)을 280℃로 승온하여 가열하였다. 열반 온도가 280℃에 달한 5분 후에 5㎫의 접착압을 부가하고, 10분 후 열반(908)의 냉각을 개시하였다(도 16e 참조). 그리고, 20분 후 접착압을 제거해, 열반(908)을 개방하여 적층체(909)를 꺼내고, 얻어진 적층체(909)의 양면에 액정 폴리머의 수지면을 아르곤, 헬륨, 산소, 질소로 이루어지는 가스를 사용하여 플라즈마 처리한 편면 동장 적층판(LX2)(910,910')의 수지면(911,911')을 대향시켜 겹치고(도 16f 참조), 상기 조건으로 진공 프레스하여 적층체(912)를 제작하였다(도 16g 참조). 적층체(912)의 소정의 위치의 동박을 φ 100㎛로 에칭 가공(913)하고(도 16h 참조), 그 후 탄산 레이저로 블라인드 비아홀(914)을 형성하였다(도 16i 참조). 디스미어 처리 후 배선회로층(904-2')과 전기적으로 접속한 도금층(915)을 형성하고(도 16j 참조), 서브트랙티브법에 의해 배선회로층(916)을 형성하였다(도 16k 참조). 다시, 도 11f~도 11i까지의 공정을 실시하여, 얻어진 적층체(917)에 NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(918)을 형성하고(도 16l 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금(919)을 형성하였다(도 16m 참조). 단, 도 16l에 있어서 새롭게 적층한 편면 동장 적층판으로는 편면 동장 적층판(LX3)을 사용하였다. 그리고, 텐팅법에 의해 최외층(920)을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(921)을 형성하고, 솔더 레지스트층(922)을 형성하여 8층 프린트 배선판(901)을 제작하였다(도 16n 참조).First, a double-sided copper clad laminate (a Shinnettetsu Kagaku Co., Ltd. product, brand name: Espanex M, part number: MB12-12-12FR) 902 (FIG. 16A) which makes a polyimide resin layer of 400x300 mm an insulating layer is referred. The copper foils 903-1 and 903-2 of both surfaces of () were pattern-processed by the subtractive method, and the wiring circuit layers 904-1 and 904-2 were formed. One more was produced in the same way (see FIG. 16B). Subsequently, the copper foil 906 of both surfaces of the double-sided copper clad laminated board (LY) 905 which uses the liquid crystal polymer layer of the same size as an insulating layer is etched away, and the exposed surface is potassium hydroxide (34 mass%) / ethylene glycol (22). The liquid crystal polymer layer 907 which was immersed at 80 degreeC for 30 second by the alkali mixed aqueous solution of the mass%) / ethylenediamine (11 mass%) was produced (refer FIG. 16C). The surface-treated liquid crystal polymer layer 907 was sandwiched between the double-sided copper clad laminates 902 and 902 'and set in a vacuum press as it is (see FIG. 16D). Subsequently, mold clamping was performed while exhausting between the press hot plates 908 at 1.3 kPa, and the hot plates 908 were heated to 280 ° C and heated. 5 minutes after the nirvana temperature reached 280 ° C, an adhesion pressure of 5 MPa was added, and cooling of the nirvana 908 was started 10 minutes later (see FIG. 16E). After 20 minutes, the adhesive pressure is removed, the hot plate 908 is opened to take out the laminate 909, and the resin surface of the liquid crystal polymer is placed on both surfaces of the obtained laminate 909 with argon, helium, oxygen, and nitrogen. Using the plasma-treated single-sided copper clad laminate (LX2) (910,910 '), the surface of water (911,911') was overlapped with each other (see Fig. 16F), and vacuum press was conducted under the above conditions to produce a laminate (912) (see Fig. 16G). . The copper foil of the predetermined position of the laminated body 912 was etched 913 (phi FIG. 16H) by (phi) 100 micrometers, and the blind via hole 914 was formed with the carbonic acid laser after that (refer FIG. 16I). After the desmear process, the plating layer 915 electrically connected to the wiring circuit layer 904-2 ′ was formed (see FIG. 16J), and the wiring circuit layer 916 was formed by the subtractive method (see FIG. 16K). ). 11F to 11I were again performed to form a through hole 918 having a diameter of 0.15 mm in the obtained laminated body 917 by NC drilling (see FIG. 16L), and after the predetermined desmear treatment, 8 A panel plating 919 of thickness was formed (see FIG. 16M). 16L, a single-sided copper clad laminate (LX3) was used as the newly laminated single-sided copper clad laminate. The outermost layer 920 was etched and patterned by a tenting method to form a wiring circuit layer 921, and a solder resist layer 922 was formed to produce an eight-layer printed wiring board 901 (see FIG. 16N). ).

본 프로세스에서의 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실은 0%였다.Yield loss due to powder fall in this process was 0%.

(실시예 16)(Example 16)

실시예 15의 8층 프린트 배선판과 같은 구조의 8층 프린트 배선판(1001)의 다른 제조방법을 도 17a~도 17f에 나타내는 프로세스 단면도로 상세하게 설명한다.Another manufacturing method of the eight-layer printed wiring board 1001 having the same structure as the eight-layer printed wiring board of the fifteenth embodiment will be described in detail with the process cross-sectional views shown in FIGS. 17A to 17F.

우선, 폴리이미드수지층을 절연층으로 하는 2권의 양면 동장 적층판(신닛테츠 가가쿠 가부시키가이샤 제품, 상품명: 에스파넥스 M, 품번: MB12-12-12FR)(1002,1002')의 각각 양면의 동박(1003-1,1003-2,1003-1',1003-2')을 서브트랙티브법에 의해 패턴 가공하여 배선회로층(1004-1,1004-2,1004-1',1004-2')을 형성한 폭 300㎜×길이 100m의 롤상으로 권회된 장척의 양면 배선기판(1005,1005')을 제작하였다(도 17a 참조). 이어서, 같은 형상의 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 양면 동장 적층판(LY)(1006)의 양면의 동박을 에칭 제거하고, 노출한 표면을 아르곤, 헬륨, 산소, 질소로 이루어지는 가스를 사용하여 플라즈마 처리한 액정 폴리머층(1007)을 제작하였다(도 17b 참조). 이 액정 폴리머층(1007)을 2개의 양면 배선기판(1005,1005')으로 끼우고, 표면 온도 240℃의 롤(1008) 사이에 공급하여 연속적으로 선압 100kN/m로 가열, 가압하였다(도 17c 참조). 얻어진 연속 적층체(1009)의 양면에, 또한 수지면을 아르곤, 헬륨, 산소, 질소로 이루어지는 가스를 사용하여 플라즈마 처리한 폭 300㎜×길이 100m의 액정 폴리머층을 절연층으로 하는 편면 동장 적층판(LX2)(1010,1010')의 수지면(1011,1011')을 대향시켜 겹치고, 상기 조건으로 연속 가열·가압하여 연속 적층체(1012)를 제작하였다(도 17d 참조). 이어서, 연속 적층체(1012)의 최외층의 동박(1013,1013')의 소정의 위치에 φ 100㎛의 에칭 가공(1014)하고, 계속해서 탄산 레이저로 블라인드 비아홀(1015)을 가공하였다(도 17e 참조). 디스미어 처리 후 배선회로층(1004-2')과 전기적으로 접속한 도금층(1016)을 형성하고(도 17f 참조), 서브트랙티브법에 의해 배선회로층(1017)을 형성하였다(도 17g 참조). 다시, 도 17d~도 17e의 공정을 실시하여, 얻어진 연속 적층체(1018)에 NC 드릴가공으로 φ 0.15㎜의 스루홀(1019)을 형성하고(도 17h 참조), 소정의 디스미어 처리 후 8㎛ 두께의 패널 도금(1020)을 형성하였다(도 17i 참조). 단, 도 17h에 있어서 새롭게 적층한 편면 동장 적층판으로는 편면 동장 적층판(LX3)을 사용하였다. 그리고, 400㎜×300㎜로 재단한 후, 텐팅법에 의해 최외층(1021,1021')을 에칭, 패턴화하여 배선회로층(1022)을 형성하고, 솔더 레지스트층(1023)을 형성하여 8층 프린트 배선판(1001)을 형성하였다(도 17j 참조).First, two sides of two double-sided copper clad laminates (manufactured by Shinnitetsu Chemical Co., Ltd., product name: Espanex M, product number: MB12-12-12FR) (1002,1002 ') each having a polyimide resin layer as an insulating layer. Patterned copper foils (1003-1,1003-2,1003-1 ', 1003-2') by the subtractive method to form a wiring circuit layer (1004-1,1004-2,1004-1 ', 1004-) A long double-sided wiring board 1005, 1005 'wound in a roll of 300 mm in width x 100 m in length 2') was fabricated (see Fig. 17A). Subsequently, the copper foils on both sides of the double-sided copper clad laminate (LY) 1006 having the same shape liquid crystal polymer layer as the insulating layer are etched away, and the exposed surface is plasma treated using a gas made of argon, helium, oxygen, and nitrogen. One liquid crystal polymer layer 1007 was produced (see FIG. 17B). The liquid crystal polymer layer 1007 was sandwiched between two double-sided wiring boards 1005 and 1005 ', fed between the rolls 1008 at a surface temperature of 240 DEG C, and continuously heated and pressed at a line pressure of 100 kN / m (Fig. 17C). Reference). Single-sided copper clad laminate (LX2) having, as an insulating layer, a liquid crystal polymer layer having a width of 300 mm x a length of 100 m obtained by plasma treatment on both surfaces of the obtained continuous laminate 1009 using a gas composed of argon, helium, oxygen, and nitrogen. ) 1010 and 1010 'of the surface of the water (1011, 1011') and the overlapping, overlapping, continuous heating and pressure under the above conditions to produce a continuous laminate (1012) (see Fig. 17d). Subsequently, etching processing 1014 of (phi) 100micrometer was carried out at the predetermined | prescribed position of copper foil 1013,1013 'of outermost layer of continuous laminated body 1012, and the blind via hole 1015 was processed with the carbonate laser continuously (FIG. 17e). After the desmear process, the plating layer 1016 electrically connected to the wiring circuit layer 1004-2 'was formed (see FIG. 17F), and the wiring circuit layer 1017 was formed by the subtractive method (see FIG. 17G). ). Again, the through-hole 1019 of φ 0.15 mm is formed in the obtained continuous laminate 1018 by NC drilling (see FIG. 17H), and after the predetermined desmear treatment, Panel plating 1020 of thickness was formed (see FIG. 17I). However, single-sided copper clad laminated board LX3 was used as the single-sided copper clad laminate laminated newly in FIG. 17H. After cutting to 400 mm x 300 mm, the outermost layers 1021 and 1021 'are etched and patterned by the tenting method to form the wiring circuit layer 1022, and the solder resist layer 1023 is formed. The layer printed wiring board 1001 was formed (see FIG. 17J).

본 프로세스에서의 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실은 0%였다.Yield loss due to powder fall in this process was 0%.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

에스파넥스 S를 대신하여 유리 에폭시계 양면 동장 적층판(히타치 가세이사 제품, 상품명: MCL-E-679, 동박 두께: 12㎛, 절연 기재 두께: 60㎛)을 사용한 것 이외에는 실시예 11과 동일하게 하여 총 두께 190㎛의 4층 기판을 제작하였다. 본 프로세스에서의 가루 떨어짐에 기인한 수율 손실은 4.5%였다.In the same manner as in Example 11 except that a glass epoxy-based double-sided copper clad laminate (Hitachi Kasei Co., trade name: MCL-E-679, copper foil thickness: 12 µm, insulation substrate thickness: 60 µm) was used instead of Espanex S. A four-layer substrate having a total thickness of 190 μm was prepared. Yield loss due to powder fall in this process was 4.5%.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 12에 있어서, 편면 동장 적층판(LX)을 대신하여 수지 부착 동박(마츠시타 덴코사 제품, 상품명: R0880, 동박 두께: 12㎛, 수지 두께: 50㎛)을 사용하여 라미네이트 롤 표면 온도를 180℃로 한 것 이외에는 동일하게 실시하였다. 그러나 라미네이트 중에 수지 부착 동박이 파단(破斷)하였기 때문에 4층 프린트 배선판은 제조할 수 없었다.In Example 12, the lamination roll surface temperature was 180 ° C using a copper foil with a resin (manufactured by Matsushita Denko Corporation, trade name: R0880, copper foil thickness: 12 µm, resin thickness: 50 µm) in place of the single-sided copper clad laminate (LX). It carried out similarly except having made into. However, since the copper foil with resin broke in the laminate, the four-layer printed wiring board could not be manufactured.

본 발명에 의하면, 액정 폴리머로 이루어지는 절연층을 가지는 다층 프린트 배선판을 연속적으로 제조하는 방법에 있어서, 다층 프린트 배선판의 최외면에 형성되어 있는 배선회로의 변형을 방지할 수 있는 다층 프린트 배선판의 제조방법, 그리고 그 제조방법에 의해 얻어지는 다층 프린트 배선판을 제공하는 것이 가능해진다.According to the present invention, in the method of continuously manufacturing a multilayer printed wiring board having an insulating layer made of a liquid crystal polymer, a method of manufacturing a multilayer printed wiring board which can prevent deformation of the wiring circuit formed on the outermost surface of the multilayer printed wiring board. And it becomes possible to provide the multilayer printed wiring board obtained by the manufacturing method.

Claims (12)

폴리이미드 또는 제1의 액정 폴리머로 이루어지는 제1의 절연층;과 상기 제1의 절연층의 적어도 편면에 형성된 배선회로를 가지는 배선기판, 및 상기 폴리이미드의 열변형 온도 미만인 융점 및/또는 상기 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 낮은 융점을 가지는 제2의 액정 폴리머로 이루어지는 제2의 절연층;과 상기 제2의 절연층의 편면에 적층된 도체층;을 가지는 도체층 기판을 준비하는 공정과,
상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을, 상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층측을 상기 배선기판을 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
A first insulating layer made of polyimide or a first liquid crystal polymer; and a wiring board having a wiring circuit formed on at least one side of the first insulating layer; and a melting point and / or the above-mentioned melting point below a thermal deformation temperature of the polyimide. Preparing a conductor layer substrate having a second insulating layer comprising a second liquid crystal polymer having a melting point lower than that of the liquid crystal polymer of 1, and a conductor layer laminated on one side of the second insulating layer;
And arranging the wiring board and the conductor layer substrate so that the second insulating layer side of the conductor layer substrate faces the wiring board, and successively laminating under heating pressure using a heat pressurizing equipment. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서,
상기 도체층 기판을 2개 준비하고, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층하는 데 있어, 상기 배선기판 및 2개의 도체층 기판을, 상기 배선기판을 사이에 두고 상기 2개의 도체층 기판을 상기 제2의 절연층측을 각각 상기 배선기판을 향하도록 배치하고, 가열가압처리 설비를 사용하여 가열가압하에서 연속적으로 적층하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method of claim 1,
In preparing two said conductor layer board | substrate, and laminating | stacking the said wiring board and the said conductor layer board | substrate, the said two conductor layer board | substrates are made between the said wiring board and two conductor layer boards, and between the said wiring boards. A second insulating layer side is disposed so as to face the wiring board, respectively, and a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, which is successively laminated under heating pressure using a heat pressurizing equipment.
제1항에 있어서,
상기 제2의 액정 폴리머가 제1의 액정 폴리머의 융점보다도 5~60℃ 낮은 융점을 가지는 것임을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method of claim 1,
A method for producing a multilayer printed wiring board, wherein the second liquid crystal polymer has a melting point of 5 to 60 ° C. lower than that of the first liquid crystal polymer.
제1항에 있어서,
상기 배선기판 및 상기 도체층 기판이 각각 롤상으로 권회된 것임을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method of claim 1,
And each of the wiring board and the conductor layer substrate is rolled into a roll shape.
제4항에 있어서,
상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층하는 데 있어, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 각각 인출하여 롤투롤(roll to roll) 방식으로 연속적으로 적층하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
5. The method of claim 4,
In the stacking of the wiring board and the conductor layer substrate, the method of manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein the wiring board and the conductor layer substrate are drawn out and stacked in a continuous manner in a roll to roll manner.
제1항에 있어서,
상기 가열가압처리 설비가 롤 라미네이터인 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method of claim 1,
The method of manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that the heating pressurization equipment is a roll laminator.
제6항에 있어서,
상기 롤 라미네이터의 롤 선압(線壓)이 10~250kN/m인 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method according to claim 6,
A roll linear pressure of said roll laminator is 10-250 kN / m, The manufacturing method of the multilayer printed wiring board characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서,
상기 도체층 기판의 상기 제2의 절연층의 표면을 표면 처리하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method of claim 1,
And surface-treating the surface of said second insulating layer of said conductor layer substrate.
제1항에 있어서,
상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 적층하는 데 있어, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 가열가압하에서 적층하여 적층체를 얻은 후에, 상기 적층체를 열처리 설비를 사용하여 가열함으로써 고온 열처리를 행하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method of claim 1,
In laminating the wiring board and the conductor layer substrate, after the wiring board and the conductor layer substrate are laminated under a heating pressure to obtain a laminate, the high temperature heat treatment is performed by heating the laminate using a heat treatment facility. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board characterized by the above-mentioned.
제9항에 있어서,
상기 고온 열처리를 행하는 데 있어, 상기 적층체를 하기 수식(F1)으로 표현되는 조건을 만족하는 고온 열처리 온도 T1:
(제2의 액정 폴리머의 융점)-15℃≤T1≤(제2의 액정 폴리머의 융점)+20℃…(F1)
로 가열하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
10. The method of claim 9,
In performing the high temperature heat treatment, the high temperature heat treatment temperature T 1 in which the laminate satisfies the condition expressed by the following formula (F1):
(Melting point of the second liquid crystal polymer) -15 ° C? T 1 ? (F1)
Method for producing a multilayer printed wiring board characterized in that the heating.
제10항에 있어서,
상기 고온 열처리를 행하는 데 있어, 고온 열처리 시간이 10~180초의 범위인 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
The method of claim 10,
In performing the high temperature heat treatment, a high temperature heat treatment time is in a range of 10 to 180 seconds.
제9항에 있어서,
상기 적층체를 얻는 데 있어, 상기 배선기판 및 상기 도체층 기판을 하기 수식(F2)으로 표현되는 조건을 만족하는 적층 열처리 온도 T2:
(제2의 액정 폴리머의 융점)-100℃≤T2≤(제2의 액정 폴리머의 융점)-20℃…(F2)
에 있어서 적층하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조방법.
10. The method of claim 9,
In obtaining the laminate, a laminate heat treatment temperature T 2 satisfying a condition expressed by the following formula (F2) for the wiring board and the conductor layer substrate:
(Melting point of the second liquid crystal polymer)-100 deg. C &lt; T 2 ? (Melting point of the second liquid crystal polymer)-20 deg. (F2)
Lamination | stacking in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board characterized by the above-mentioned.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2005072187A (en) * 2003-08-22 2005-03-17 Denso Corp Multilayer circuit board, and its manufacturing method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001244630A (en) 2000-02-25 2001-09-07 Kuraray Co Ltd Multilayer interconnection circuit board and manufacturing method therefor
JP2003017855A (en) 2001-06-29 2003-01-17 Kyocera Chemical Corp Manufacturing method of multilayer printed-wiring board
JP2003069237A (en) 2001-08-29 2003-03-07 Kyocera Corp Insulation film and multilayer interconnection board using the same
JP2004349534A (en) 2003-05-23 2004-12-09 Fujikura Ltd Base material for multilayer substrate and its manufacturing method

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