KR101256375B1 - Manufacturing method of superconducting coated films by powder spray - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a superconductive coating film by a powder spraying method is provided to manufacture a superconductive coating film composed of MgB_2 by spraying and attaching the mixture of MgB_2, Mg and B, and the powder mixed with an additional doping agent to a substrate in the powder spraying method. CONSTITUTION: A manufacturing method of a superconductive coating film by a powder spraying method comprises the following steps. The powder of MgB_2 is provided. The coating film(C) with superconductivity is formed by spraying and coating a powder of MgB_2 at a speed of 200-300m/s onto a monocrystal Al_2O_3 substrate which is a coated object(W). The monocrystal Al_2O_3 substrate formed with the coating film and magnesium are inserted into a pure iron tube(f) by heat treatment and the pure iron tube is heat-treated at 600-800>= simultaneously with the inflow of Ar or Ar+4%H_2 gas.

Description

분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법{Manufacturing method of superconducting coated films by powder spray} Method of producing a superconducting coating by powder blasting {Manufacturing method of superconducting coated films by powder spray}

본 발명은 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 분말 상태인 이붕화마그네슘(MgB 2 ), 마그네슘(Mg)과 붕소(B)의 혼합물, 특성향상을 위한 추가적인 도핑물질이 혼합된 혼합분말을 분말 분사법(powder spray)으로 분사 및 부착하여 제조된 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention is powder particles that relates to a method for producing a superconducting coating by the law and, more particularly powder-form the magnesium diboride (MgB 2), magnesium (Mg) as a mixture of boron (B), additional doping for improving properties the substance is a minute mixed powder mixing powder of Justice (powder spray) spray attachment and prepared by the powder particles a method of manufacturing a superconducting coating film by the method.

이붕화마그네슘(Magnesium diboride, MgB 2 )은 미국의 물리학자인 존 바딘, 리언 N. 쿠퍼 및 존 R. 슈리퍼가 주장하여 1972년 노벨 물리학상을 받은 BCS 이론의 금속성 초전도체의 한계온도인 절대온도 30K를 넘어 39K의 초전도 임계전이온도를 갖는다는 점에서 전 세계적으로 많은 관심과 연구의 대상이 되고 있다.(J. Nagamatsu, N. Nakagawa, T. Muranaka, Y. Zenitani, and J. Akimitsu, Nature, 401, pp.63-64 (2001)) Magnesium diboride (Magnesium diboride, MgB 2) is claimed by design of the American physicist John Bardeen, Leon N. Cooper and John R. Shree spurs beyond the absolute temperature of 30K limit temperature metallic superconductors of the BCS theory, it received the Nobel Prize in Physics 1972 has a critical superconducting transition temperature of 39K has been the subject of much interest and research in the world in that. (J. Nagamatsu, N. Nakagawa, T. Muranaka, Y. Zenitani, and J. Akimitsu, Nature, 401, pp.63-64 (2001))

또한, 이러한 이붕화마그네슘은 현재 많은 연구가 이루어지고 있는 고온 산화물계 초전도체보다 구조가 매우 간단하고 화학적으로도 안정되어 있으며, 그 원료가 지구상에 풍부하게 존재하고 있어 그 공급이 원활하다는 이점을 갖고 있다. In addition, such magnesium diboride is present much, and studies have been made and a high temperature structure is very simple, than the oxide-based superconductors, which are stable also chemically, it is that the raw materials are abundant on the earth has the advantage that the supply smooth .

게다가, 상기 이붕화마그네슘은 초전도 전이온도가 39K라는 점에서 액체헬륨을 사용하지 않고 현존하는 전기 냉동기를 사용하여 충분히 초전도성을 발휘하는 온도까지 낮출 수 있고 초전도 임계 전류밀도 측정값이 높아서 경제적인 이점이 크며 그 응용 범위가 매우 넓다. In addition, the magnesium diboride is this can be reduced to a temperature high superconducting critical current density measurement economic advantage to exert sufficient superconducting properties by using the electric refrigerator of existing without the use of liquid helium in that the superconducting transition temperature of 39K As a large range of applications is very broad.

따라서, 이러한 이붕화마그네슘에 대한 많은 연구가 이루어지고 있으며, 그 중, 마그네슘(Mg) 분말과 비정질 붕소(B) 분말을 정량비 1:2로 혼합하고, 이를 펠렛 형태로 성형한 후, 열간정수압성형기(HIP)를 이용하여 973K의 온도 및 196MPa의 아르곤 압을 약 10시간 동안 시편에 가함으로써 이붕화마그네슘을 제조하는 방법과(대한민국 등록특허 제0493764호) , 정량비 1:2로 혼합된 마그네슘 분말과 비정질 붕소를 금 앰플 캡슐 내에서 2시간동안 900℃로 유지시키면서, 3GPa로 등가압하여 분말을 제조하는 방법이 공지되어 있다. Accordingly, much research on these magnesium diboride has been made, of which, magnesium (Mg) powder and amorphous boron (B) a powder dose ratio of 1: then a solution of 2, and forming them into pellets, hot isostatic the magnesium mixed in a 2: molding the (HIP) argon pressure of the temperature and 196MPa of 973K by using a method for producing a magnesium diboride by applying to the specimen for about 10 hours and (Republic of Korea Patent No. 0493764 No.), quantified ratio 1 maintaining the powder and amorphous boron at 900 ℃ for 2 hours in a gold capsule in ampoules, there is a method of producing a powder by pressing, etc. to 3GPa is known.

하지만, 상기와 같은 이붕화마그네슘의 제조방법은 그 제조공정 중 고온 및 고압으로 장시간 유지시켜야 하므로 에너지 소비가 많을 뿐만 아니라, 이를 위한 고가의 설비를 필요로 한다. However, the manufacturing method of the magnesium diboride as described above, so should be maintained for a long time at a high temperature and high pressure during the manufacturing process as well as a lot of energy consumption, and requires expensive equipment therefor.

따라서, 상술한 이붕화마그네슘 제조방법은 에너지 소모율이 크고 고가의 설비를 필요로 하므로 경제적으로 비효율적인 문제점을 갖는다. Therefore, the above-mentioned magnesium diboride manufacturing method has a problem economically inefficient because it requires expensive equipment, energy consumption is large.

한편, 이붕화마그네슘(MgB 2 ) 초전도 박막을 제조하기 위한 기술은 크게 두 가지 방식을 취하고 있다. On the other hand, magnesium diboride (MgB 2) technique for manufacturing a superconducting thin film is largely take two ways.

먼저 붕소(B)를 기판에 증착하고 마그네슘(Mg)을 나중에 기판 외부에 증발시켜 붕소(B) 코팅막에 확산하여 들어가 이붕화마그네슘(MgB 2 )으로 합성하는 것이다. First, by depositing a boron (B) to a substrate and evaporation of the magnesium (Mg) into the future outside of the substrate to spread a coating of boron (B) to the synthetic magnesium diboride (MgB 2). two-step 공정 또는 ex-situ 방법으로 명명된다.(대한민국 등록특허 제0413533호) It is named two-step process, or ex-situ methods (Republic of Korea Registered Patent No. 0413533)

또 하나는 마그네슘(Mg)과 붕소(B)를 동시에 증착하여 이붕화마그네슘(MgB 2 )으로 합성하는 방법으로서 동시증착 공정 또는 in-situ 방법으로 명명된다.(XX Xi et al, Physica C, 456 pp.22-37 (2007)) Another is named as magnesium (Mg) and depositing a boron (B) at the same time, magnesium diboride (MgB 2) co-deposition process, or in-situ method as a method of synthesizing a. (XX Xi et al, Physica C, 456 pp.22-37 (2007))

여기서 주목해야 하는 부분은 마그네슘(Mg)과 붕소(B)의 물리적 성질로서 마그네슘(Mg)의 녹는점은 약 650℃이고 붕소(B)의 녹는점은 2075℃로 매우 큰 차이를 갖고 있다는 것이다. Part to be noted here is the melting point of magnesium (Mg) and boron melting point of magnesium (Mg) as the physical properties of (B) is from about 650 ℃ and boron (B) is that it has a very large difference to 2075 ℃.

또한 마그네슘(M)g)은 휘발성이 강하기 때문에 증착하여 박막형태로 제조하기 매우 어려운 물질이다. In addition, magnesium (M) g) is a very difficult matter to produce a thin-film form by depositing so strong volatility.

특히 증착된 기판의 온도가 높을 경우에는 더욱 심하여 증착 후에 기판 위에 남아 있는 마그네슘(Mg)은 거의 없을 수도 있다. In particular, higher the temperature of the deposition substrate may be much more severe is little or no magnesium (Mg) remain on the substrate after deposition.

따라서 ex-situ방법에서는 붕소(B)를 따로 먼저 증착하게 되며, 마그네슘(Mg)는 매우 높은 증기압을 유지하여야만 붕소(B) 박막 속으로 확산해 들어갈 수 있다. Thus, the ex-situ method is to separately deposit the first boron (B), magnesium (Mg) may enter to diffuse into hayeoyaman boron (B) thin film maintaining a very high vapor pressure.

먼저 증착한 붕소(B)의 경우에도 매우 녹는점이 높은 강한 물질이므로 박막화가 쉬운 물질은 아니며 또한 대기 중 노출시 산화문제 및 crack 문제가 발생할 수 있어 매우 조심스럽게 다루어야 한다. First case of depositing boron (B), because it is a very strong high melting point materials in the thin film material is not easy to be handled carefully it can also be very careful cause oxidation problems and crack problems in atmospheric exposure.

한편 in-situ방법에서도 마찬가지로 마그네슘(Mg)의 높은 휘발성으로 인해 MgB 2 라는 1:2의 조성비를 제대로 맞추기가 매우 어렵기 때문에 공정의 경제성 및 단순성이라는 장점에도 불구하고 좋은 이붕화마그네슘(MgB 2 )박막을 제조하기가 힘들었다. The in-situ method in the same manner due to the high volatility of magnesium (Mg) MgB 2 of 1: Despite the advantages of cost-effectiveness and simplicity of the process, because the two properly aligned, the composition of the very difficult and good magnesium diboride (MgB 2) It was difficult to manufacture a thin film.

최근 Hybrid Physical and Vapor Deposition방법의 경우 in-situ방법 중 하나로서 B 2 H 6 gas와 Mg vapor(기판 주위에 고체 Mg을 두고 가열하여 높은 증기상태로 유지)를 사용하여 매우 좋은 특성의 MgB 2 박막을 제조하는 방법으로 알려져 있다.(XX Xi et al, Physica C, 456 pp.22-37 (2007)) Recently Hybrid Physical and Vapor Deposition method when in-situ method as one of the B 2 H 6 gas and Mg vapor MgB 2 thin film of very good characteristics by using the (heated with the solid Mg around the substrate maintained at a high vapor state) It is known as the method of manufacturing. (XX Xi et al, Physica C, 456 pp.22-37 (2007)) for

그러나 이붕화마그네슘(B 2 H 6 )의 경우 높은 폭발성을 지니고 있어 조심스럽게 다루어야 할 기체이다. However, in the case of magnesium diboride (B 2 H 6) is a gas to be treated with care it has a high explosive.

위에서 언급된 두 가지 공정 모두에서 좋은 MgB 2 박막을 얻기 위해서는 대부분 산화방지 및 증착기술을 사용하기 위해서는 고진공이 필요하고 기판의 온도는 상온 이상에서 수행될 수 밖에 없으며 일반적으로 500℃ 이상을 필요로 한다. In order to obtain a good MgB 2 thin film in both processes mentioned above in order to use the most anti-oxidation and deposition techniques require a high vacuum and the temperature of the substrate will require more than 500 ℃ generally not only be carried out at more than room temperature, .

한편, 대부분의 전자기용 소자에는 초전도 박막이외에도 다른 박막이 하나이상 존재하고 있으며, 높은 온도에 유지될 경우 서로 다른 박막간의 반응 및 확산 등의 문제가 발생하여 다층박막의 각각 개별 층의 특성은 제대로 된 기능을 잃을 수 있다. On the other hand, most of which are electron appointed device are present one or more of the other films in addition to the superconducting thin film, each of the characteristics of the individual layers of the multilayer thin film has problems such as the reaction and diffusion between the different thin film when maintained in high temperature generated is a solid It may lose functionality.

본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위한 것으로, 초기원료인 혼합분말을 노즐을 통해 분사시켜 기판 위에 박막의 형태로 코팅함으로써 초전도 코팅막을 형성할 수 있도록 한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법을 제공하는 것에 있다. An object of the present invention is by that to solve the problems of the prior art, the powder to the initial raw material mixed powder is injected through a nozzle so as to form a superconducting coating layer by coating in the form of a thin film on a substrate spraying method as above to provide a method of manufacturing the superconducting film.

본 발명의 다른 목적은, 기판을 높은 온도로 유지하지 않고도 기판에 대하여 높은 접착력을 갖는 초전도 코팅막 제조 방법을 제공하는 것에 있다. Another object of the present invention is to provide a superconducting coating film production method with a high adhesion against the substrate to the substrate without having to maintain a high temperature.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 초전도 코팅막의 공정을 간소화하여 생산 속도를 높일 수 있으며, 두께의 조절이 가능하도록 한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법을 제공하는 것에 있다. Further, another object of the present invention may increase the speed of production by simplifying the process of a superconducting coating, to provide a method of producing a superconducting coating by powder spraying method to enable control of the thickness.

본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법은, 이붕화마그네슘(MgB 2 ), 마그네슘(Mg)과 붕소(B)의 혼합분말, 붕소(B)분말 중 어느 하나 이상의 분말을 준비하는 분말준비단계와, 상기 분말을 코팅대상물에 분사 및 코팅하여 코팅막을 형성하는 코팅막형성단계와, 상기 코팅막을 열처리로 내부에서 열처리하는 열처리단계로 이루어진 것을 특징으로 한다. Method of producing a superconducting coating by powder spraying method according to the present invention, magnesium diboride (MgB 2), magnesium (Mg) and a mixture of boron (B) powder, boron (B) to prepare the one or more powders of the powder and the powder preparation step and said heat treatment step consisting of the coating film formation comprising the steps of spraying and coating the powder coating on the object to form a coating film, heat-treating the coating film inside the heat treatment furnace.

상기 분말준비단계와 코팅막형성단계 사이에는, 상기 분말을 볼밀링하는 볼밀링단계가 실시됨을 특징으로 한다. Between the powder preparation step and a coating film forming step, and the ball milling step of ball milling the powder is characterized by silsidoem.

상기 코팅막형성단계에서, 상기 분말은 아르곤(Ar), 질소(N), 헬륨(He), 수소(H)가스 중 어느 하나 이상을 통해 운반되어 분사됨을 특징으로 한다. In the coating formation step, the powder is characterized in that is carried in the argon (Ar), nitrogen (N), helium (He), hydrogen at least one of (H) gas injection.

상기 코팅막형성단계는 상온에서 실시됨을 특징으로 한다. The coating film forming step is characterized by the silsidoem at room temperature.

상기 열처리단계는, 상기 코팅막을 600 내지 1000℃의 온도 범위가 채택됨을 특징으로 한다. The heat treatment step, and the coating film characterized in that the employed temperature range of 600 to 1000 ℃.

상기 코팅막형성단계에서, 붕소(B) 분말만 분사된 경우에는 열처리단계 실시 중에 열처리로 내부에 마그네슘(Mg)이 장입됨을 특징으로 한다. In the coating film formation step, when the boron (B) powder only injection is characterized in that the contents of magnesium (Mg) inside the heat treatment furnace during the heat treatment conducted.

상기 열처리단계에서, 상기 열처리로 내부에는 아르곤(Ar), 질소(N), 헬륨(He), 수소(H)가스 중 하나 이상을 포함하는 가스가 공급됨을 특징으로 한다. Characterized in that the thermal treatment step, the gas is supplied to the heat treatment in the inside include argon (Ar), nitrogen (N), helium (He), at least one of the hydrogen (H) gas.

본 발명에서는 이붕화마그네슘(MgB 2 ), 마그네슘(Mg)과 붕소(B)의 혼합물, 특성향상을 위한 추가적인 도핑물질이 혼합된 혼합분말을 분말 분사법(powder spray)으로 분사 및 부착하여 이붕화마그네슘으로 이루어진 초전도 코팅막을 제조할 수 있도록 구성된다. In the present invention, magnesium diboride (MgB 2), magnesium (Mg) and the injection and attached to diboride, boron (B) mixture, (powder spray) additional doping material is mixed with the mixed powder powder spraying method for improving the properties of the screen It is configured to be capable of producing a superconducting coating film made of magnesium.

따라서, 기판의 온도를 높게 유지할 필요가 없고, 기판에 대한 접착력이 높아서 공정이 간소하고 품질이 향상되는 이점이 있다. Therefore, there is an advantage that it is not necessary to maintain high the temperature of the substrate, high adhesion to the substrate process is simple and improves the quality.

또한, 초전도 코팅막의 두께 조절이 가능한 이점이 있다. In addition, there is advantage capable of adjusting the thickness of the superconducting film.

도 1 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법을 나타낸 개요도. Figure 1 is a schematic view showing a manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 2 는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법을 나타낸 공정 순서도. Figure 2 is a flow chart showing a manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 3 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에 따라 제조된 제1실시예의 초전도 코팅막 미세 조직 사진. Figure 3 is a first embodiment of a superconducting coating microstructure pictures produced according to the method of manufacturing the superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 4 는 본 발명의 바람직한 실시예와 비교예에 대하여 볼밀링단계와 열처리단계 실시 유무를 구분하여 나타낸 표. Figure 4 is a table showing the separation of the milling step and the heat treatment step performed to see whether or not with respect to the comparison example and the preferred embodiment of the present invention.
도 5 는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계와 열처리단계를 실시하지 않은 비교예 코팅막의 미세 조직 사진. 5 is a microstructure photograph of a comparative example coating film not subjected to the milling step and the heat treatment step to see in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 6 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계와 열처리단계를 실시하지 않은 비교예 코팅막의 XRD. 6 is a XRD of the comparative example coating film not subjected to the milling step and the heat treatment step to see in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 7 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계와 열처리단계를 실시하지 않은 비교예 코팅막의 저항-온도 특성 그래프. Figure 7 is the resistance of the coating film in Comparative Example is not subjected to the milling step and the heat treatment step to see in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder according to the present invention the temperature characteristic graph.
도 8 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계를 실시하지 않은 실시예2의 코팅막 미세 조직 사진. 8 is a microstructure photograph of a coating film in Example 2 not subjected to the milling step to see in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 9 는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계를 실시하지 않은 실시예2 코팅막의 XRD. 9 is a XRD of Example 2, the coating film not subjected to the milling step to see in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 10 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계를 실시하지 않은 실시예2 코팅막의 저항-온도 특성 그래프. Figure 10 is the resistance of the coating film in Example 2 not subjected to the milling step to see in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder according to the present invention the temperature characteristic graph.
도 11 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 전 실시예1의 코팅막의 미세 조직 사진. 11 is a microstructure photograph of a coating film of the former embodiment the heat treatment step in the method for producing a superconducting coating film by spraying powder according to the invention Example 1.
도 12 는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 전 실시예1의 코팅막의 XRD. 12 is a XRD of the coating film before the heat treatment in Example 1. In a method of manufacturing a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.
도 13 은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 전 실시예1의 코팅막의 저항-온도 특성 그래프. Figure 13 is the resistance of the coating film of the embodiment in the method for producing a superconducting coating film by spraying powder according to the present invention before heat treatment in Example 1-temperature characteristic graph.
도 14 는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 완료된 실시예1의 코팅막의 XRD. 14 is a XRD of the coating film of example 1 step heat treatment in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder according to the present invention has been completed.
도 15 는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 완료된 실시예1의 코팅막의 저항-온도 특성 그래프. Figure 15 is the resistance of the coating film of example 1 step heat treatment in the manufacturing method of a superconducting coating film by spraying powder of the present invention is completed - temperature characteristic graph.

이하 첨부된 도 1 및 2를 참조하여 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법을 설명한다. With reference to the accompanying Figures 1 and 2 will be described a method for producing a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. Prior to the description and to be construed in the terms or words are common and dictionary meanings used in the claims is not, the inventor can adequately define terms to describe his own invention in the best way on the basis of the principle that the interpreted based on the meanings and concepts corresponding to technical aspects of the present invention.

따라서 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. Thus it embodiments the configuration shown in the examples and figures disclosed herein is merely nothing but a preferred embodiment of the present invention, in not intended to limit the scope of the present invention, a variety of equivalents that can be made thereto according to the present application point it should be understood that water and modifications could be.

도 1에는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법을 나타낸 개요도가 도시되어 있고, 도 2에는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법을 나타낸 공정 순서도가 도시되어 있다. Fig. 1 is shown a schematic diagram showing a manufacturing method of a superconducting coating by powder spraying method according to the invention, Figure 2 is a flow chart showing a manufacturing method of a superconducting coating by powder spraying method according to the present invention is shown .

첨부된 도면과 같이 본 발명은 아르곤(Ar) 가스를 통해 운반되어진 이붕화마그네슘(MgB 2 ) 분말을 노즐(N)을 통해 코팅대상물(W) 표면에 분사하여 코팅막(C)을 형성하고, 상기 코팅막(C)은 열처리로(F) 내부에 장입하여 열처리함으로써 초전도성을 가지는 코팅막을 제조할 수 있도록 한 방법에 관한 것이다. The present invention as shown in the accompanying drawings is a magnesium diboride (MgB 2) Powder been carried in the argon (Ar) gas through a nozzle (N) spraying the surface of the coating object (W) to form a coating film (C), and the coating film (C) relates to a method to manufacture a coating film having superconductivity by heat-treating the contents therein to a heat treatment (F).

즉, 도 2와 같이 본 발명은, 이붕화마그네슘(MgB 2 ), 마그네슘(Mg)과 붕소(B)의 혼합분말, 붕소(B)분말 중 어느 하나 이상의 분말을 준비하는 분말준비단계(S100)와, 상기 분말을 코팅대상물에 분사 및 코팅하여 코팅막을 형성하는 코팅막형성단계(S300)와, 상기 코팅막을 열처리로 내부에서 열처리하는 열처리단계(S400)가 순차적으로 실시되며, 상기 분말준비단계(S100)와 코팅막형성단계(S300) 사이에는 볼밀링단계(S200)가 선택적으로 실시될 수 있다. That is, the present invention as shown in Figure 2, magnesium diboride (MgB 2), magnesium powder preparation step of preparing mixed powder, boron (B) any one or more of the powder of the powder (Mg), boron (B) (S100) and, as coating film forming step (S300), which is sprayed and coated with the powder to the coating object to form a coating film, and subjected to the coating layer by a heat treatment step (S400) to heat treatment from the inside to the heat treatment sequence, the powder preparation step (S100 ) and has milling step (S200) to see between the coating film forming step (S300) may be optionally carried out.

상기 분말준비단계(S100)는 이붕화마그네슘(MgB 2 ), 마그네슘(Mg)과 붕소(B)의 혼합분말 중 어느 하나의 분말을 준비될 수도 있고, 붕소(B)분말만 준비할 수도 있다. The powder preparation step (S100) is a magnesium diboride (MgB 2), magnesium may be prepared by any of the powder of the mixed powder of (Mg), boron (B), may be prepared only boron (B) powder.

다만, 상기 분말준비단계(S100)에서 붕소분말만 준비되는 경우에는 열처리단계(S400)에서 마그네슘 금속이 열처리로 내부에 반드시 장입되어야 함이 바람직하다. However, if the preparation only the boron powder in the powder preparation step (S100), it is preferred that must be charged therein with the magnesium metal heat treatment in the heat treatment step (S400).

상기 코팅막형성단계(S300)는 200 ~ 300m/s 의 속도로 분말을 분사하여 코팅대상물의 표면에 코팅될 수 있도록 하는 과정으로서, 상온에서 실시되며 상기 분말은 200 ~ 300m/s 의 속도로 분사된다. The coating film forming step (S300) is a process that allows to be coated on the surface of the sprayed powder coating an object at a speed of 200 ~ 300m / s, is conducted at ambient temperature the powder is sprayed at a rate of 200 ~ 300m / s .

상기 볼밀링단계(S200)는 초전도특성을 향상시키기 위해 선택적으로 실시되는 과정으로, 그 효과는 아래의 실시예를 토대로 자세하게 설명하기로 한다. The ball-milling step (S200) is an optional process which is performed in order to improve the superconducting properties, and the effect will be described in detail based on the following embodiments.

상기 열처리단계(S400) 역시 초전도 코팅막의 초전도 특성을 향상시키기 위한 과정으로서 볼밀링단계(S200)처럼 선택적으로 실시되는 것이 아니라 반드시 실시됨이 바람직하다. Is the thermal treatment step (S400) is also not necessarily silsidoem is optionally carried out, as the milling step (S200) seen as a process for improving the superconducting properties of the superconducting coating are preferred.

본 발명의 실시예에서 상기 열처리단계(S400)의 열처리는 코팅막(C)이 형성된 단결정 Al 2 O 3 기판을 순철튜브의 가운데에 넣고 순철튜브의 끝쪽에는 Mg turning을 두었다. Heat treatment is a coating film (C) towards the end of the tube into the center tube of the pure iron is pure iron single crystal Al 2 O 3 substrate, which is formed in the thermal treatment step (S400) in the embodiment of the present invention and allowing Mg turning.

그리고, 순철튜브는 다시 열처리로 내부에 장입한 후 Ar 또는 Ar+4%H 2 가스를 흘려주면서 약 900℃에서 3시간 정도 열처리하였다. Then, the pure iron tube while flowing an Ar or Ar + 4% H 2 gas was charged therein back to the heat treatment was heat-treated for about 3 hours at about 900 ℃.

또한 상기 열처리로(F) 내부에 공급되는 가스는 마그네슘(Mg), 붕소(B), 이붕화마그네슘(MgB 2 )과 반응성이 적은 범위 내에서 아르곤(Ar), 질소(N), 헬륨(He), 수소(H)가스 중 하나 이상을 혼합하여 구성될 수 있다. In addition, the gas supplied to the inside by the heat treatment (F) is a magnesium (Mg), boron (B), magnesium diboride (MgB 2) and argon (Ar), nitrogen (N), helium in a little reactivity range (He ), it may be configured by mixing one or more of hydrogen (H) gas.

상기 열처리단계(S400)는 600 내지 1000℃의 온도 범위 내에서 선택될 수 있다. The heat treatment step (S400) may be selected within a temperature range of 600 to 1000 ℃.

상기한 과정을 거쳐 제조되는 초전도 코팅막(C)은 도 3과 같이 균일하고 치밀한 박막 형태를 나타낸다. Superconducting coating film to be produced through the above process (C) shows a uniform and dense thin film shape as shown in FIG.

도 3은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에 따라 제조된 제1실시예의 초전도 코팅막 미세 조직 사진이다. Figure 3 is an example superconducting coating microstructure picture of the first embodiment made according to the method of producing a superconducting coating film by spraying powder of the present invention.

이하 첨부된 도 4 내지 도 7을 참조하여 볼밀링단계를 실시하지 않은 비교예의 미세 조직, XRD 및 저항-온도 특성을 살펴본다. Comparative than not subjected to the milling step to see the accompanying reference to Figure 4 to 7 embodiment microstructure, XRD and resistance-examine temperature characteristics.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예와 비교예에 대하여 볼밀링단계와 열처리단계 실시 유무를 구분하여 나타낸 표로서, 비교예의 경우 볼밀링단계(S200)와 열처리단계(S400) 모두 실시하지 않았고, 실시예1 및 실시예2는 열처리단계(S400)를 반드시 실시한 반면, 실시예2의 경우 볼밀링단계(S200)는 실시하지 않았다. 4 was not carried out both as a table showing the separation of the milling step and the heat treatment step carried out whether or not the ball with respect to the example compared with the exemplary embodiment of the present invention, in the case of the comparative example ball-milling step (S200) and the heat treatment step (S400), carried out examples 1 and 2 was not carried out is the milling step (S200) to see if the second embodiment the heat treatment step (S400) on the other hand be conducted.

도 5는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계와 열처리단계를 실시하지 않은 비교예 코팅막의 XRD이며, 도 6은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계와 열처리단계를 실시하지 않은 비교예 코팅막의 저항-온도 특성 그래프이다. Figure 5 is a superconducting coating by powder spraying method according to the present by powder spraying method according to the invention comparison is not subjected to the milling step and heat treatment step to see in the manufacturing method of a superconducting coating is XRD of example a coating film, the present invention Figure 6 Comparative example coating film not subjected to the milling step and the heat treatment step in the production method to see the resistance-temperature characteristic of a graph.

도면과 같이, 마그네슘(Mg)과 붕소(B)를 1:2의 조성비로 구성된 이붕화마그네슘(MgB 2 ) 분말에 대하여 볼밀링단계(S200)와 열처리단계(S400)를 실시하지 않고 위와 같이 살펴본 결과, Al 2 O 3 peak가 관찰되었다. As shown in the figure, magnesium (Mg), boron (B), the 1: without conducting a magnesium diboride consisting of a composition ratio of 2 (MgB 2) the milling step (S200) to view with respect to the powder and the heat treatment step (S400) as above discussed, as a result, the Al 2 O 3 peak was observed.

Al 2 O 3 는 코팅대상물을 구성하는 성분이며, MgB 2 상은 (001) 방향으로 성장한 peak가 관찰되었으나 강도는 크지 않았고, 표면은 균일하여 매끄러웠고 균열은 나타나지 않았다. Al 2 O 3 is a component constituting the coating object, MgB 2 phase is a (001) peak is observed, but grown in the direction strength were high, the surface is homogeneous and smooth wotgo cracks was not observed.

그리고, 이붕화마그네슘(MgB 2 ) 입자는 200㎚의 크기를 나타내었다. Then, magnesium diboride (MgB 2) particles exhibited a 200㎚ size.

그러나, 도 7과 같이 열처리단계(S400)를 실시하지 않은 결과 초전도 전이온도가 시작되는 onset은 약 34.4Kelvin 이고, offset은 18.34Kelvin을 나타내었다. However, the onset is about 34.4Kelvin is also the heat treatment step results superconducting transition temperature is not conducted (S400) begins as 7, offset exhibited 18.34Kelvin.

상기와 같은 비교예의 실험 결과와 대비하여 바람직한 실시예의 실험 결과를 첨부된 도 8 내지 도 10을 참조하여 설명한다. It will be described with reference to the comparative example results in 8 to 10 attached to a preferred embodiment and the results compared as described above.

도 8은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계를 실시하지 않은 실시예2의 코팅막 미세 조직 사진이고, 도 9는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계를 실시하지 않은 실시예2 코팅막의 XRD이며, 도 10은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 볼밀링단계를 실시하지 않은 실시예2 코팅막의 저항-온도 특성 그래프이다. Figure 8 is a superconducting coating by powder spraying method by a coating microstructure photograph of Example 2 not subjected to the milling step to see in the manufacturing method of a superconducting coating by powder spraying method according to the invention, Figure 9 is the invention embodiment is not subjected to the milling step seen in preparation example 2 is the XRD of the coating film, 10 is the resistance of the example 2 coating film not subjected to the milling step to see in the manufacturing method of a superconducting coating by powder spraying method according to the invention It is a temperature characteristic graph.

도 8과 같이 본 발명의 실시예2는 비교예보다 균일한 형상을 가지며, 열처리단계(S400) 실시에 따라 표면은 미세한 알갱이들이 증가한 모습을 보여주었다. Embodiments of the present invention as shown in FIG. 2 for example has a uniform shape than that of the comparative example, according to an exemplary thermal processing step (S400) the surface, showed a look up to the fine grains.

이붕화마그네슘(MgB 2 ) 입자는 100㎚의 크기를 나타내어 열처리전(도 5참조)보다 입자크기가 감소한 것을 알 수 있다. Magnesium diboride (MgB 2), the particles can be seen that expressed the 100㎚ size of the reduced particle size than before heat treatment (see FIG. 5).

도 9와 같이 열처리단계(S400)를 실시하더라도 이붕화마그네슘(MgB 2 ) peak의 성장은 보이지 않았으며 열처리로 내부에 같이 장입한 마그네슘(Mg)에 의한 작은 peak가 관찰되었다. Also, even if a heat treatment step (S400), such as 9 magnesium diboride (MgB 2) peak did not show the growth of a small peak due to the magnesium (Mg) was charged therein as a heat treatment was observed.

실시예2에 대하여 저항-온도 특성을 도 10을 참조하여 살펴보면, 전이온도가 시작되는 onset은 약 35.6Kelvin 이고, offset은 30.6Kelvin을 나타내어 비교예보다 초전도 특성이 향상된 것을 알 수 있다. Examples for the second resistance-look with reference to Figure 10, a temperature characteristic, a transition onset temperature is the start was about 35.6Kelvin, offset can be seen that expressed the 30.6Kelvin the superconducting properties improved than Comparative Example.

따라서, 상기 열처리단계(S400)는 반드시 실시되어야 하는 필수 단계임이 증명된다. Therefore, the thermal treatment step (S400) is proven to be a mandatory step that must be carried out.

이하 도 11 내지 도 15를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예1의 특성을 살펴본다. With reference to FIGS. 11 to 15 to examine the characteristics of a preferred embodiment of the present invention.

실시예1은 도 4에서 확인할 수 있듯이, 볼밀링단계(S200)와 열처리단계(S400)를 모두 실시하여 제조된 코팅막이다. Example 1 As can be found in 4, it is a coating film produced by conducting all of the ball-milling step (S200) and the heat treatment step (S400).

도 11은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 전 실시예1의 코팅막의 미세 조직 사진이고, 도 12는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 전 실시예1의 코팅막의 XRD이고, 도 13은 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 전 실시예1의 코팅막의 저항-온도 특성 그래프이며, 도 14 는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 완료된 실시예1의 코팅막의 XRD이며, 도 15는 본 발명에 의한 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조 방법에서 열처리단계 완료된 실시예1의 코팅막의 저항-온도 특성 그래프이다. 11 is a microstructure photograph of a heat treatment step before embodiment the coating film of Example 1 in the method for producing a superconducting coating by powder spraying method according to the invention, Figure 12 is the manufacturing method of a superconducting coating by powder spraying method according to the invention a heat treatment step before embodiment XRD of the coating film of example 1, Figure 13 is the resistance of the coating film of the exemplary heat treatment step before the manufacturing method of a superconducting coating by powder spraying method according to the invention example 1 - a temperature characteristic graph, Figure 14 is the in a method of manufacturing a superconducting coating by powder spraying method according to the invention is a XRD of the coating film of example 1, the heat treatment step has been completed, Fig. 15 in example 1 step heat treatment in the manufacturing method of a superconducting coating by powder spraying method according to the invention is completed resistance of the coating film - is the temperature characteristic graph.

도 11(열처리단계 실시 전)과 도 3(열처리단계 실시 후)을 비교해보면 볼밀링단계를 거쳐 미세화된 분말을 사용하여 형성된 코팅막은 매우 균일하고 치밀한 형태를 보여주었다. 11 (heat treatment step carried out before) and the coating film formed by using the fine powder 3 through the ball milling step A comparison of (conducted after heat treatment) showed a very uniform and dense forms. 그러나 XRD 결과에서는 도 12 및 도 14와 같이 열처리단계(S400)의 실시 여부에 상관없이 Al 2 O 3 외에 이붕화마그네슘(MgB 2 )상은 관찰되지 않았다. However, the XRD results (MgB 2) magnesium diboride addition to Al 2 O 3, regardless of whether the embodiment of the heat treatment step (S400) as shown in Figs. 12 and 14 phase was not observed.

도 13(열처리단계 실시전)과 도 15(열처리단계 실시 후)를 참조하여 열처리단계 실시 여부에 따른 저항-온도 특성을 살펴보면, 열처리 전에는 초전도 전이온도가 시작되는 onset은 약 33.8Kelvin으로서 비교예(도 7 참조)보다는 약간 낮은 값을 나타내었으나, 초전도 저항이 zero가 되는 offset은 시료온도를10Kelvin 까지 낮추었으나 zero로 떨어지지 않았다. 13 (heat treatment step carried out before) and 15 according to whether the resistance (After thermal treatment carried out) the reference to the heat treatment step carried out - Looking at the temperature characteristic, for example, the heat treatment before onset as compared to the superconducting transition temperature of about 33.8Kelvin is started ( Fig 7). eoteuna indicate a slightly lower value than, offset the superconductor resistance that is zero eoteuna lower the sample temperature did not fall to 10Kelvin to zero.

전체적으로 초전도 상태의 연결성 및 초전도 특성이 나쁜 것으로 해석된다. Overall, this is interpreted as a bad connectivity and superconducting properties of the superconducting state.

한편, 열처리 후에는 도 15와 같이 onset은 약 37.9Kelvin 이고, offset은 28.9Kelvin을 나타내어 열처리 후에 초전도 특성이 다시 회복된 것으로 판단된다. On the other hand, the heat treatment after the onset as shown in FIG. 15 is about 37.9Kelvin, offset is judged to be shown to the Superconducting Properties after heat treatment 28.9Kelvin recovered.

이러한 본 발명의 범위는 상기에서 예시한 실시예에 한정하지 않고, 상기와 같은 기술범위 안에서 당업계의 통상의 기술자에게 있어서는 본 발명을 기초로 하는 많은 변형이 가능할 것이다. The extent of this present invention is not limited to the embodiments exemplified above, it will be many modifications of the invention In a skilled in the art within the technical scope described above is based.

C . C. 코팅막 F . Coating film F. 열처리로 By heat treatment
N . N. 노즐 S100. Nozzle S100. 분말준비단계 Powder preparation step
S200. S200. 볼밀링단계 S300. Ball milling step S300. 코팅막형성단계 A coating film-forming step
S400. S400. 열처리단계 W . Heat treatment W. 코팅대상물 Coated object

Claims (7)

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  2. 이붕화마그네슘(MgB 2 )분말을 준비하는 분말준비단계와, And a powder preparation to prepare a magnesium diboride (MgB 2) powder,
    상온에서 코팅대상물인 단결정 Al 2 O 3 기판에 이붕화마그네슘(MgB 2 )분말을 200 ~ 300m/s 의 속도로 분사 및 코팅하여 초전도 특성을 가지는 코팅막을 형성하는 코팅막형성단계와, And a coating film formation step of forming a coating film having superconductivity by spraying and coating a magnesium diboride (MgB 2) on the powder coated object of single crystal Al 2 O 3 substrate at a rate of 200 ~ 300m / s at room temperature,
    상기 코팅막이 형성된 단결정 Al 2 O 3 기판과 마그네슘을 순철튜브에 장입하고, 상기 순철튜브를 열처리로 내부에 장입한 후 Ar 또는 Ar+4%H 2 가스를 흘려주면서 600 내지 1000℃의 온도 범위로 열처리하여 초전도 특성을 높이는 열처리단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법. The coating to the formed single-crystal Al 2 O 3 substrate and a magnesium to pure iron temperature range of contents to the tube, and then charged to the interior of the pure iron tube of the heat treatment furnace while flowing Ar or Ar + 4% H 2 gas of 600 to 1000 ℃ heat treatment method for producing a superconducting coating by powder spraying method, characterized in that the heat treatment step consisting of enhancing the superconducting properties.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 코팅막형성단계에서, The method of claim 2, wherein, in the coating film forming step,
    상기 분말은 아르곤(Ar), 질소(N), 헬륨(He), 수소(H)가스 중 어느 하나 이상에 의해 운반되어 노즐을 통해 분사됨을 특징으로 하는 분말분사법에 의한 초전도 코팅막의 제조방법. The powder method for producing a superconducting coating by powder spraying method, characterized in that is carried by at least one of argon (Ar), nitrogen (N), helium (He), hydrogen (H) gas injected through the nozzle.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020074256A (en) * 2001-03-19 2002-09-30 학교법인 포항공과대학교 Fabrication method of superconducting magnesium diboride thin film and its apparatus
KR20100026138A (en) * 2008-08-29 2010-03-10 성균관대학교산학협력단 Method of manufacturing doped mgb2 superconductivity using mechanical alloying
KR20100136436A (en) * 2009-06-18 2010-12-28 에디슨 에스.피.에이. Superconductive element and relative preparation process
KR101006957B1 (en) * 2009-03-25 2011-01-12 한국기계연구원 METHOD OF MgB2 FORMING COATING AND FABRICATING SUPERCONDUCTING WIRES USING THE SAME

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020074256A (en) * 2001-03-19 2002-09-30 학교법인 포항공과대학교 Fabrication method of superconducting magnesium diboride thin film and its apparatus
KR20100026138A (en) * 2008-08-29 2010-03-10 성균관대학교산학협력단 Method of manufacturing doped mgb2 superconductivity using mechanical alloying
KR101006957B1 (en) * 2009-03-25 2011-01-12 한국기계연구원 METHOD OF MgB2 FORMING COATING AND FABRICATING SUPERCONDUCTING WIRES USING THE SAME
KR20100136436A (en) * 2009-06-18 2010-12-28 에디슨 에스.피.에이. Superconductive element and relative preparation process

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