KR101197588B1 - Substrate processing apparatus and method for transferring substrate of the same - Google Patents

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Abstract

기판 처리장치는 각각 수납용기를 적재하는 로드 포트들과 적어도 하나의 버퍼 포트를 구비한다. 버퍼 포트는 수평 이동 및 수직 이동이 가능하게 설치도어 수납용기를 로드 포트에 적재하고, 로드 포트로부터 수납용기를 픽업할 수 있다. 이에 따라, 기판 처리장치는 기판의 이송에 소요되는 시간을 단축시키고, 생산성을 향상시킬 수 있다.The substrate processing apparatus includes load ports and at least one buffer port, respectively, for loading a container. The buffer port can load the installation door storage container into the load port for horizontal movement and vertical movement, and can pick up the storage container from the load port. Accordingly, the substrate processing apparatus can shorten the time required for transferring the substrate and improve the productivity.

Description

기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR TRANSFERRING SUBSTRATE OF THE SAME}SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR TRANSFERRING SUBSTRATE OF THE SAME}

본 발명은 반도체 기판을 제조하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 기판을 처리하는 기판 처리장치 및 이의 기판 이송 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for manufacturing a semiconductor substrate, and more particularly to a substrate processing apparatus for processing a semiconductor substrate and a substrate transfer method thereof.

일반적으로 기판 제조공정에서는 절연막 및 금속물질의 증착(Deposition), 식각(Etching), 감광제(Photo Resist)의 도포(Coating), 현상(Develop), 애셔(Asher) 제거 등이 수회 반복되어 미세한 패터닝(Patterning)의 배열을 만들어 나가게 되는데, 이러한 공정의 진행에 따라 기판 내에는 식각이나 애셔의 제거공정으로 완전제거가 되지 않은 이물질이 남게 된다. 이러한 이물질의 제거를 위한 공정으로는 순수(Deionized Water) 또는 약액(Chemical)을 이용한 세정공정(Wet Cleaning)이 있다. In general, in the substrate manufacturing process, the deposition, etching, coating of photoresist, development, and removal of asher are repeated several times in order to perform fine patterning. Patterning) is made, and as the process progresses, foreign substances are left in the substrate that are not completely removed by etching or ashing. A process for removing such foreign matters is a cleaning process using deionized water or chemical.

기판 세정장치는 배치식 세정장치(Batch Processor)와 매엽식 세정장치(Single Processor)로 구분된다. 배치식 세정장치는 한번에 25매 또는 50매를 처리할 수 있는 크기의 약액조(Chemical Bath), 린스조(Rinse Bath), 건조조(Dry Bath) 등을 구비한다. 배치식 세정장치는 기판들을 각각의 조(Bath)에 일정 시간 동안 담가 이물을 제거한다. 이러한 배치식 세정장치는 기판의 상부 및 하부가 동시에 세정되고 동시에 대용량을 처리할 수 있는 이점이 있다. 그러나, 기판의 대구경화가 진행될수록 조의 크기가 커져 장치의 크기 및 약액의 사용량이 많아질 뿐만 아니라, 동시에 약액조 내에서 세정이 진행중인 기판에서는 인접한 기판로부터 떨어져 나온 이물이 재부착되는 문제가 있다.Substrate cleaning devices are classified into a batch processor and a single processor. The batch washing apparatus includes a chemical bath, a rinse bath, a dry bath, and the like, which can process 25 sheets or 50 sheets at a time. The batch cleaning device soaks the substrates in each bath for a period of time to remove debris. Such a batch cleaning device has the advantage that the upper and lower portions of the substrate can be cleaned at the same time and at the same time can handle a large capacity. However, as the diameter of the substrate increases, the size of the tank increases, and thus the size of the apparatus and the amount of chemical liquid used increase, and at the same time, foreign matters separated from adjacent substrates are reattached to the substrate that is being cleaned in the chemical chamber.

최근에는 기판 직경의 대형화로 인해 매엽식 세정장치가 많이 사용된다. 매엽식 세정장치는 한 장의 기판을 처리할 수 있는 작은 크기의 챔버(Chamber)에서 기판을 기판 척(Chuck)으로 고정시킨 후 모터(Motor)에 의해 기판을 회전시키면서, 기판 상부에서 노즐(Nozzle)을 통해 약액 또는 순수를 기판에 제공한다. 기판의 회전력에 의해 약액 또는 순수 등이 기판 상부로 퍼지며, 이에 따라, 기판에 부착된 이물이 제거된다. 이러한 매엽식 세정장치는 배치식 세정장치에 비해 장치의 크기가 작고 균질의 세정효과를 갖는다.Recently, due to the increase in the diameter of the substrate, sheet type cleaning devices are frequently used. The single sheet cleaning apparatus fixes the substrate with a substrate chuck in a small chamber capable of processing a single substrate, and then rotates the substrate by a motor and nozzles at the top of the substrate. The chemical liquid or pure water is provided to the substrate through. Chemical liquid or pure water is spread over the substrate by the rotational force of the substrate, thereby removing foreign substances adhering to the substrate. Such single sheet type washing apparatus has a smaller size and a homogeneous washing effect than the batch type washing apparatus.

일반적으로 매엽식 세정장치는 일측으로부터 다수의 로드포트, 인덱스 로봇, 버퍼부, 다수의 공정챔버, 및 메인 이송 로봇을 포함하는 구조로 이루어진다. 다수의 로드 포트에는 기판들이 수납된 풉(Front Opening Unified Pod : FOUP)이 각각 적재된다. 인덱스 로봇은 풉에 수납된 기판을 버퍼부로 이송하고, 메인 이송 로봇은 버퍼부에 수납된 기판을 각 공정 챔버로 이송한다. 메인 이송 로봇은 공정 챔버에서 세정이 완료된 기판을 버퍼부에 적재하고, 인덱스 로봇은 세정이 완료된 기판을 버퍼부로부터 인출하여 다시 풉에 수납한다. 풉에 세정된 기판들의 수납이 완료되면, 해당 풉은 외부로 반송된다.In general, the single-leaf type washing apparatus is composed of a structure including a plurality of load ports, an index robot, a buffer unit, a plurality of process chambers, and a main transfer robot from one side. Each load port is loaded with a front opening Unified Pod (FOUP) containing substrates. The index robot transfers the substrate stored in the pool to the buffer unit, and the main transfer robot transfers the substrate stored in the buffer unit to each process chamber. The main transfer robot loads the cleaned substrate into the buffer unit in the process chamber, and the index robot removes the cleaned substrate from the buffer unit and stores the cleaned substrate again in the pool. When the storage of the substrates cleaned in the pool is completed, the pool is returned to the outside.

일반적으로, 풉은 물류이송장치(Overhead Hoist Transport : OHT)에 의해 이송된다. 물류이송장치는 세정 처리 전의 기판들이 수납된 풉을 이송하여 비어 있는 로드 포트에 적재하고, 세정된 기판들이 수납된 풉을 로드포트로부터 픽업하여 외부로 반송한다.In general, the loosened is transported by an overhead hoist transport (OHT). The logistics transfer device transfers the pool in which the substrates before the cleaning process are stored and loads it into an empty load port, and picks up the pool in which the cleaned substrates are stored from the load port and transports the pool to the outside.

이러한 물류이송장치는 저속으로 운행되기 때문에, 풉으로부터 기판들을 인출하여 세정한 후 세정된 기판들을 다시 풉에 수납 완료하는 데 소요되는 시간보다 더 물류이송장치에 의해 풉을 이송하는 시간이 더 길다. 특히, 기술 개발을 통해 세정장치의 효율이 향상됨에 따라 기판의 세정 처리 시간은 단축되고 있으나, 물류이송장치는 여전히 저속으로 운행되고 있다. 이로 인해, 물류이송장치의 풉 반송 효율이 더욱 감소하고, 세정 장치의 유휴 시간이 증가하며, 생산성이 저하된다.Since the logistic transfer device is operated at a low speed, it takes longer to transfer the pool by the logistic transfer device than the time required to take out and clean the substrates from the pool and then complete the storage of the cleaned substrates again. In particular, as the efficiency of the cleaning apparatus is improved through technology development, the cleaning processing time of the substrate is shortened, but the logistics transport apparatus is still running at a low speed. For this reason, the pull conveyance efficiency of a logistics conveyance apparatus further reduces, the idle time of a washing | cleaning apparatus increases, and productivity falls.

본 발명의 목적은 기판의 이송 효율을 향상시킬 수 있는 기판 처리장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of improving the transfer efficiency of the substrate.

또한, 본 발명의 목적은 상기한 기판 처리장치에서 기판을 이송하는 방법을 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide a method of transferring a substrate in the substrate processing apparatus described above.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 기판 처리장치는, 공정 모듈, 메인 적재부, 및 버퍼 적재부로 이루어질 수 있다.According to one aspect of the present invention, a substrate processing apparatus may include a process module, a main stacker, and a buffer stacker.

공정 모듈은 기판의 처리가 이루어진다. 메인 적재부는 상기 공정 모듈의 전단에 설치되고, 기판들을 수납하는 수납용기를 각각 적재하는 다수의 로드 포트를 포함하며, 적재된 수납용기와 상기 공정 모듈 간에 기판의 이송이 이루어진다.The process module is processed of the substrate. The main loading unit is provided at the front end of the process module, and includes a plurality of load ports for loading the storage containers for storing the substrates, and the substrate is transferred between the loaded storage containers and the process module.

버퍼 적재부는 상기 공정 모듈의 전단에서 상기 메인 적재부의 상부에 설치되고, 상기 수납용기를 적재하며, 적재된 수납용기를 이송한다. 상기 버퍼 적재는 적어도 하나의 버퍼 포트를 포함할 수 있다. 버퍼 포트는 상기 수납용기를 적재하고, 상기 로드 포트들이 배치된 방향으로의 수평 이동과 수직 이동이 가능하며, 적재된 수납용기를 상기 메인 적재부에 적재하고, 상기 메인 적재부에 적재된 수납용기를 픽업한다.The buffer stacker is installed at an upper portion of the main stacker at the front end of the process module, loads the storage container, and transports the loaded storage container. The buffer loading may include at least one buffer port. The buffer port loads the storage container, and can move horizontally and vertically in the direction in which the load ports are arranged. The buffer port loads the loaded storage container into the main loading part, and the storage container loaded into the main loading part. Pick up.

또한, 상기 버퍼 적재부는 이송 레일을 더 포함할 수 있다. 이송 레일은, 상기 로드 포트들이 배치된 방향으로 연장된 메인 레일, 및 상기 메인 레로부터 상기 메인 레일의 길이 방향과 직교하는 방향으로 연장되어 형성되고 상기 로드 포트의 상면에 대해 수직하게 배치된 다수의 서브 레일을 포함한다.In addition, the buffer loading unit may further include a transfer rail. The transfer rail may include a main rail extending in a direction in which the load ports are arranged, and a plurality of main rails extending in a direction orthogonal to a longitudinal direction of the main rail from the main rail and disposed perpendicular to an upper surface of the load port. Includes a sub rail.

상기 버퍼 포트는 일단이 상기 이송 레일에 결합되어 상기 이송 레일을 따라 이동한다.One end of the buffer port is coupled to the transfer rail and moves along the transfer rail.

한편, 상기 버퍼 포트는, 상기 로드 포트와 마주하고 상기 수납용기가 적재되는 스테이지, 상기 스테이지의 서로 마주하는 양단부와 결합하고 일 단부가 상기 이송 레일에 결합된 가이드부, 및 상기 가이드부의 상면에 설치되고 상기 가이드부는 고정된 상태에서 상기 스테이지만 전방 및 후방으로 수평 이동시키는 수평 이동부를 포함한다.On the other hand, the buffer port, the stage facing the load port and the storage container is loaded, the guide portion coupled to both ends of the stage facing each other and the end is coupled to the transfer rail, and installed on the upper surface of the guide portion The guide unit includes a horizontal moving unit for horizontally moving only the stage forward and rearward in a fixed state.

상기 메인 레일은 상기 공정 모듈의 전단 측벽의 길이보다 짧거나 동일한 길이를 갖고, 상기 버퍼 포트는 상기 로드 포트들 중 어느 하나와 마주하게 위치할 수 있다.The main rail may have a length shorter or the same as a length of the front sidewall of the process module, and the buffer port may be located facing one of the load ports.

또한, 상기 메인 레일은 공정 모듈의 전단 측벽의 길이보다 긴 길이를 갖고, 상기 버퍼 포트는 상기 메인 레일의 일 단부에 위치하여 상기 로드 포트들과 중첩되지 않게 배치될 수 있다.In addition, the main rail may have a length longer than the length of the front side wall of the process module, and the buffer port may be disposed at one end of the main rail so as not to overlap with the load ports.

한편, 기판 처리 장치는 물류 이송 유닛을 더 포함할 수도 있다. 물류 이송 유닛은 외부로부터 상기 수납용기를 반입하여 상기 버퍼 포트 및 상기 로드 포트들 중 어느 하나에 적재하고, 상기 버퍼 포트 및 상기 로드 포트들 중 어느 하나에 적재된 상기 수납용기를 외부로 반송한다.On the other hand, the substrate processing apparatus may further include a logistics transfer unit. The logistics transport unit loads the storage container from the outside, loads it in one of the buffer port and the load ports, and transports the storage container loaded in any one of the buffer port and the load ports to the outside.

또한, 상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 기판 이송 방법은 다음과 같다. 먼저, 기판의 공정이 이루어지는 공정 모듈로 기판을 공급하기 위해 기판들이 수납된 수납용기를 다수의 로드 포트 및 상기 로드 포트들의 상부에 설치된 적어도 하나의 버퍼 포트 중 유휴 상태의 포트에 적재한다. 상기 버퍼 포트는 대응하는 로드 포트가 유휴 상태이면, 상면에 적재된 공정 대기중인 수납용기를 해당 로드 포트에 적재한다. 상기 로드 포트에 적재된 수납용기에 처리 완료된 기판들의 수납이 완료되면, 상기 로드 포트에 대응하는 버퍼 포트가 상기 로드 포트로부터 상기 공정 완료된 수납용기를 픽업한다. 상기 로드 포트 또는 상기 버퍼 포트로부터 상기 공정 완료된 수납용기를 픽업하여 외부로 반출한다.In addition, the substrate transfer method according to one feature for realizing the above object of the present invention is as follows. First, in order to supply a substrate to a process module in which a substrate is processed, an accommodating container in which the substrates are stored is loaded in an idle port among a plurality of load ports and at least one buffer port provided on the load ports. When the corresponding load port is idle, the buffer port loads the storage container waiting for the process loaded on the upper surface to the load port. When storage of the processed substrates in the storage container loaded in the load port is completed, a buffer port corresponding to the load port picks up the processed storage container from the load port. The process container is picked up from the load port or the buffer port and taken out to the outside.

상기 버퍼 포트는, 유휴 상태에서 상기 로드 포트로부터 상기 공정 완료된 수납용기를 픽업하며, 상/하/좌/우 방향으로의 이동을 통해 상기 수납용기를 이송한다. 상기 공정 모듈은 상기 로드 포트로부터 기판을 공급받고, 상기 공정 모듈로부터 배출된 기판은 상기 로드 포트 상의 수납용기에 수납된다.The buffer port picks up the processed storage container from the load port in an idle state, and transfers the storage container through movement in up / down / left / right directions. The process module receives a substrate from the load port, and the substrate discharged from the process module is accommodated in a storage container on the load port.

상기 버퍼 포트는 상기 공정 모듈 상단 전면에 설치되어 상기 로드 포트들 중 어느 하나와 마주하게 배치된 상태로 대기할 수 있다.The buffer port may be installed on the top surface of the process module and stand by facing one of the load ports.

또한, 상기 버퍼 포트는 상기 공정 모듈 상단 전면에 설치되어 평면상에서 볼 때 상기 로드 포트들이 배치된 영역과 중첩되지 않는 영역에서 대기할 수도 있다.In addition, the buffer port may be installed in the front surface of the upper end of the process module to stand by in an area that does not overlap with the region in which the load ports are disposed in plan view.

상술한 본 발명에 따르면, 기판 처리장치는 로드 포트들 이외에 수납용기를 적재할 수 있는 별도의 버퍼 포트들을 구비하여 공정 대기중인 수납용기를 로드 포트로 이송하는 시간을 단축한다. 또한, 버퍼 포트는 수납용기를 로드 포트에 적재하고, 로드 포트로부터 수납용기를 픽업할 수 있다. 이에 따라, 기판 처리장치는 기판의 이송에 소요되는 시간을 단축시키고, 생산성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention described above, the substrate processing apparatus includes separate buffer ports for loading the storage containers in addition to the load ports to shorten the time for transferring the storage containers waiting for the process to the load ports. Further, the buffer port can load the storage container into the load port and pick up the storage container from the load port. Accordingly, the substrate processing apparatus can shorten the time required for transferring the substrate and improve the productivity.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 부분 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 장치를 나타낸 정면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 이송 레일을 나타낸 부분 사시도이다.
도 4는 도 1의 'A' 부분을 확대하여 나타낸 사시도이다.
도 5는 도 1에 도시된 제1 버퍼 포트가 로드 포트에 안착된 상태를 도시한 평면도이다.
도 6은 도 5의 절단선 I-I'에 따른 단면도이다.
도 7은 도 1에 도시된 기판 처리 장치에서 풉이 이송되는 과정을 나타낸 흐름도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 부분 사시도이다.
1 is a partial perspective view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a front view of the substrate processing apparatus shown in FIG. 1.
3 is a partial perspective view of the conveying rail shown in FIG. 1.
4 is an enlarged perspective view of portion 'A' of FIG. 1.
FIG. 5 is a plan view illustrating a state in which the first buffer port illustrated in FIG. 1 is seated on a load port.
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 5.
7 is a flowchart illustrating a process of loosening and transferring the substrate in the substrate processing apparatus of FIG. 1.
8 is a partial perspective view showing a substrate processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다. 이하에서는 웨이퍼를 반도체 기판의 일례로 하여 설명하나, 본 발명의 기술적 사상과 범위는 이에 한정되지 않는다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention. Hereinafter, a wafer will be described as an example of a semiconductor substrate, but the spirit and scope of the present invention are not limited thereto.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 부분 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 장치를 나타낸 정면도이다.1 is a partial perspective view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a front view showing the substrate processing apparatus shown in FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 기판 처리장치(701)는 웨이퍼의 처리 공정이 이루어지는 공정 모듈(101), 및 미처리된 웨이퍼들을 상기 공정 모듈(101)에 공급하고 처리 완료된 웨이퍼들을 외부로 반출하는 기판 공급 모듈을 포함한다.1 and 2, the substrate processing apparatus 701 of the present invention supplies a process module 101 in which a wafer processing process is performed, and supplies unprocessed wafers to the process module 101 and externally processes the processed wafers. And a substrate supply module to be taken out.

구체적으로, 상기 미처리된 웨이퍼들은 풉(Front Opening Unified Pod : FOUP)(10)에 수납된 상태로 상기 기판 처리장치(701)에 제공되고, 마찬가지로, 상기 처리 완료된 웨이퍼들 또한 상기 풉(10)에 수납되어 외부로 인출된다.Specifically, the unprocessed wafers are provided to the substrate processing apparatus 701 in a state of being housed in a front opening Unified Pod (FOUP) 10, and likewise, the processed wafers are also provided to the pool 10. It is stored and taken out.

상기 공정 모듈(101)은 상기 기판 공급 모듈에 공급된 풉(10)으로부터 미처리된 웨이퍼를 인출하는 인덱스 로봇(미도시)을 포함한다. 상기 인덱스 로봇에 의해 인출된 웨이퍼들은 처리 공정이 이루어지는 다수의 공정 챔버(미도시)에 제공된다. 상기 공정 챔버들에서는 웨이퍼 세정과 같은 처리 공정이 이루어질 수 있다. 또한, 상기 인덱스 로봇은 처리 완료된 웨이퍼들을 상기 기판 공급 모듈에 적재된 해당 풉(10)에 다시 적재한다. 즉, 상기 처리 공정이 완료된 웨이퍼들은 상기 공정 챔버들로부터 인출되고, 상기 인덱스 로봇(110)은 상기 처리된 웨이퍼들을 이송하여 상기 풉(10)에 적재한다.The process module 101 includes an index robot (not shown) for extracting the unprocessed wafer from the pool 10 supplied to the substrate supply module. Wafers taken out by the index robot are provided to a plurality of process chambers (not shown) in which a processing process is performed. In the process chambers, a processing process such as wafer cleaning may be performed. In addition, the index robot loads the processed wafers back into the corresponding pool 10 loaded on the substrate supply module. That is, the wafers on which the processing process is completed are withdrawn from the process chambers, and the index robot 110 transfers the processed wafers and loads the processed wafers into the pool 10.

한편, 상기 공정 모듈(101)의 전단에는 웨이퍼들을 상기 풉(10) 단위로 제공하는 상기 기판 공급 모듈이 설치된다. 상기 기판 공급 모듈은 메인 적재부(200) 및 버퍼 적재부(301)를 포함할 수 있다. On the other hand, the substrate supply module for providing wafers in the unit of the pool 10 is installed at the front end of the process module 101. The substrate supply module may include a main loader 200 and a buffer loader 301.

구체적으로, 메인 적재부(200)는 상기 공정 모듈(101)의 전단에 설치되어 상기 공정 모듈(101)과 접한다. 상기 메인 적재부(200)는 다수의 로드 포트(210, ..., 240)를 구비하고, 각 로드 포트(210, ..., 240)에는 하나의 풉(10)이 적재될 수 있다.In detail, the main loading part 200 is installed at the front end of the process module 101 to be in contact with the process module 101. The main loading part 200 may include a plurality of load ports 210,..., 240, and one pull 10 may be loaded in each load port 210,..., 240.

이 실시예에 있어서, 상기 메인 적재부(200)는 네 개의 로드 포트(210, ..., 240)로 이루어지나, 상기 로드 포트(210, ..., 240)의 개수는 상기 기판 처리장치(701)의 공정 효율에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다.In this embodiment, the main loading unit 200 is composed of four load ports (210, ..., 240), the number of the load port (210, ..., 240) is the substrate processing apparatus It may increase or decrease depending on the process efficiency of 701.

상기 로드 포트들(210, ..., 240)은 상기 공정 모듈(101)의 설비들이 내장된 파티션 베이(110)의 일 측벽에 위치하고, 상기 파티션 베이(110)에는 상기 로드 포트들(210, ..., 240)에 대응하여 다수의 도어 오프너가 설치된다. 각 도어 오프너는 대응하는 로드 포트에 안착된 풉(10)의 도어를 개폐한다.The load ports 210,..., 240 are located on one sidewall of the partition bay 110 in which the facilities of the process module 101 are built, and the load bays 210,. In response to 240, a plurality of door openers are installed. Each door opener opens and closes the door of the pull 10 seated on the corresponding load port.

상기 로드 포트들(210, ..., 240)은 지면에 대해 수평 방향으로 병렬 배치되며, 각 로드 포트(210, ..., 240)는 상기 풉(10)을 지지하는 면에 설치되는 슬라이딩 플레이트(211)를 포함할 수 있다. 상기 슬라이딩 플레이트(211)는 수평 방향으로 이동하여 상면에 안착된 풉(10)의 수평 위치를 조절한다.The load ports 210, ..., 240 are disposed in parallel in the horizontal direction with respect to the ground, each load port (210, ..., 240) is sliding to be installed on the surface supporting the pull 10 Plate 211 may be included. The sliding plate 211 is moved in the horizontal direction to adjust the horizontal position of the pool 10 seated on the upper surface.

즉, 상기 풉(10)이 로드 포트(210, ..., 240)에 안착되면, 상기 슬라이딩 플레이트(211)는 전방으로 수평 이동하여 상기 풉(10)을 상기 도어 오프너 측으로 이동하고, 상기 도어 오프너는 상기 풉(10)의 도어를 오픈한다. 상기 풉(10)의 도어(12)가 오픈되면, 상기 인덱스 로봇이 오픈된 풉(10)으로부터 웨이퍼를 인출한다.That is, when the pull 10 is seated on the load ports 210, ..., 240, the sliding plate 211 is moved horizontally forward to move the pull 10 to the door opener side, the door The opener opens the door of the pull 10. When the door 12 of the pull 10 is opened, the index robot pulls out the wafer from the open pull 10.

상기 풉(10)에 상기 처리된 웨이퍼들의 수납이 완료되면, 상기 도어 오프너는 상기 풉(10)의 도어를 닫아 상기 풉(10)을 밀폐시키고, 상기 슬라이딩 플레이트(211)는 후방으로 수평 이동하여 상기 풉(10)을 이동시킨다.When storage of the processed wafers is completed in the pool 10, the door opener closes the door of the pool 10 to seal the pool 10, and the sliding plate 211 horizontally moves backwards. The pool 10 is moved.

상기 슬라이딩 플레이트(211)의 상면에는 상기 슬라이딩 플레이트(211)에 적재된 풉(10)을 고정시키는 고정 돌기들(211a)이 형성될 수도 있다. 상기 고정 돌기들(211a)은 상기 슬라이딩 플레이트(211)에 적재된 풉(10)과 결합하여 상기 풉(10)을 상기 슬라이딩 플레이트(211)에 고정시킨다.Fixing protrusions 211a may be formed on the upper surface of the sliding plate 211 to fix the pull 10 loaded on the sliding plate 211. The fixing protrusions 211a are coupled to the pool 10 mounted on the sliding plate 211 to fix the pool 10 to the sliding plate 211.

한편, 상기 메인 적재부(200)의 상부에는 상기 버퍼 적재부(301)가 설치된다. 상기 버퍼 적재부(301)는 상기 공정 모듈(101)의 내부에 설치되는 이송 레일(310), 상기 이송 레일(310)을 따라 이동하는 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330),각 버퍼 포트(320, 330)의 수직 위치를 조절하는 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)를 포함할 수 있다.On the other hand, the buffer stacking portion 301 is installed on the upper portion of the main stacking portion 200. The buffer stacker 301 is a transport rail 310 installed inside the process module 101, first and second buffer ports 320 and 330 moving along the transport rail 310, and respective buffers. The first and second vertical moving parts 340 and 350 for adjusting the vertical position of the ports 320 and 330 may be included.

도 3은 도 1에 도시된 이송 레일을 나타낸 부분 사시도이고, 도 4는 도 1의 'A' 부분을 확대하여 나타낸 사시도이다.FIG. 3 is a partial perspective view of the transport rail shown in FIG. 1, and FIG. 4 is an enlarged perspective view of part 'A' of FIG. 1.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 상기 이송 레일(310)은 상기 로드 포트들(210, ..., 240)이 배치된 방향으로 연장된 메인 레일(311) 및 상기 메인 레일(310)의 길이 방향과 직교하는 방향으로 연장된 다수의 서브 레일(312)을 포함할 수 있다. 상기 메인 레일(311)과 상기 서브 레일들(312)은 상기 파티션 베이(110)의 측벽들 중 상기 로드 포트들(210, ..., 240)과 접하는 측벽에 설치된다. 상기 파티션 베이(110)에는 상기 이송 레일(310)이 설치된 영역에 개구부(111)가 형성되어 상기 이송 레일(310)을 외부로 노출시킨다.1 to 3, the transfer rail 310 has a length of the main rail 311 and the main rail 310 extending in a direction in which the load ports 210,..., 240 are arranged. It may include a plurality of sub-rails 312 extending in a direction perpendicular to the direction. The main rail 311 and the sub rails 312 are installed on sidewalls that contact the load ports 210,... 240 of the sidewalls of the partition bay 110. The partition bay 110 has an opening 111 formed in an area in which the transfer rail 310 is installed to expose the transfer rail 310 to the outside.

상기 서브 레일들(312)은 상기 메인 레일(311)로부터 아래로 연장되어 형성되고, 평면상에서 볼 때, 한 쌍의 서브 레일이 하나의 도어 오프너를 사이에 두고 마주한다. 상기 서브 레일은 하나의 로드 포트에 대응하여 두 개씩 배치된다. 상기 로드 포트들(210, ..., 240)은 대응하는 두 개의 서브 레일들이 서로 다르다.The sub rails 312 extend downward from the main rail 311, and in plan view, a pair of sub rails face each other with one door opener therebetween. The sub-rails are arranged two by one corresponding to one load port. The load ports 210,..., 240 are different from two corresponding sub-rails.

상기 이송 레일(310)에는 각각 풉(10)을 적재할 수 있는 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)가 결합된다. 상기 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)는 상기 이송 레일(310)을 따라 이동하면서 상기 풉(10)을 이송하고, 상기 메인 적재부(200)에 풉(10)을 적재하며, 상기 메인 적재부(10)로부터 풉(10)을 픽업한다.First and second buffer ports 320 and 330 may be coupled to the transfer rail 310 to load the pool 10, respectively. The first and second buffer ports 320 and 330 move along the transfer rail 310 to transfer the pool 10, and load the pool 10 on the main loading unit 200. The pull 10 is picked up from the main mounting portion 10.

이 실시예에 있어서, 상기 버퍼 적재부(301)는 두 개의 버퍼 포트(320, 330)를 구비하나, 상기 버퍼 포트(320, 330)의 개수는 상기 로드 포트들(210, ..., 240)의 개수에 따라 증가하거나 감소할 수 있다.In this embodiment, the buffer loading unit 301 has two buffer ports 320 and 330, but the number of buffer ports 320 and 330 is the load ports 210, ..., 240. It may increase or decrease depending on the number of h).

또한, 이 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)는 동일한 구성을 갖는다. 따라서, 이하, 상기 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)에 대한 구체적인 설명에 있어서, 상기 제1 버퍼 포트(320)를 일례로 하여 설명한다.
Further, in this embodiment, the first and second buffer ports 320 and 330 have the same configuration. Therefore, in the following description of the first and second buffer ports 320 and 330, the first buffer port 320 will be described as an example.

도 1 및 도 4를 참조하면, 상기 제1 버퍼 포트(320)는 하나의 풉(10)이 적재되는 스테이지(321), 상기 스테이지(321)의 양 측단부에 결합된 제1 및 제2 가이드(322a, 322b), 상기 스테이지(321)의 수평 위치를 조절하는 수평 이동부(323), 상기 제1 및 제2 가이드(322a, 322b)에 연결된 제1 및 제2 레일 결합부(324a, 324b)를 포함할 수 있다.1 and 4, the first buffer port 320 includes a stage 321 on which one pull 10 is loaded, and first and second guides coupled to both side ends of the stage 321. 322a and 322b, a horizontal moving part 323 for adjusting a horizontal position of the stage 321, and first and second rail coupling parts 324a and 324b connected to the first and second guides 322a and 322b. ) May be included.

상기 수평 이동부(323)는 상기 제1 및 제2 가이드(322a, 322b)의 상면에 각각 설치되며, 기어 구동 방식으로 이루어진다. 즉, 상기 수평 이동부(323)는 피니언 기어(323a)를 구비하고, 상기 스테이지(320)의 상면에는 상기 피니언 기어(323a)와 맞물려서 전후 방향으로 이동하는 랙 기어(321b)가 형성된다. 상기 스테이지(320)는 상기 피니언 기어(323a)와 랙 기어(321b)에 의해 전후 방향으로 이동하며, 이때, 상기 제1 및 제2 가이드(322a, 322b)는 전후 방향으로 이동하지 않는다.The horizontal moving parts 323 are installed on the upper surfaces of the first and second guides 322a and 322b, respectively, and are made of a gear driving method. That is, the horizontal moving part 323 includes a pinion gear 323a, and a rack gear 321b that is engaged with the pinion gear 323a and moves in the front-rear direction on the upper surface of the stage 320. The stage 320 is moved in the front-rear direction by the pinion gear 323a and the rack gear 321b. At this time, the first and second guides 322a and 322b do not move in the front-rear direction.

상기 제1 및 제2 레일 결합부(324a, 324b)는 일 단이 상기 이송 레일(310)에 결합되고, 상기 이송 레일(310)을 따라 이동한다. 이에 따라, 상기 제1 버퍼부(320)는 상기 로드 포트들(210, ..., 240)의 배치 방향으로 이동가능하고, 수직 방향으로의 이동이 가능하다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 메인 레일(311)은 상기 제1 및 제2 레일 결합부(324a, 324b)와의 안정적인 결합을 위해 내면에 결합돌기들(311a, 311b)이 형성될 수 있다. 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 서브 레일(312) 또한 상기 제1 및 제2 레일 결합부(324a, 324b)와의 안정적인 결합을 위해 별도의 결합 돌기들을 구비할 수도 있다.One end of the first and second rail coupling parts 324a and 324b is coupled to the transfer rail 310 and moves along the transfer rail 310. Accordingly, the first buffer unit 320 may move in the arrangement direction of the load ports 210,..., 240, and may move in the vertical direction. As shown in FIG. 3, the main rail 311 may have coupling protrusions 311a and 311b formed on an inner surface of the main rail 311 so as to be stably coupled with the first and second rail coupling parts 324a and 324b. Although not shown in the drawing, the sub rail 312 may also include separate coupling protrusions for stable coupling with the first and second rail coupling portions 324a and 324b.

상기 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)는 상기 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)에 의해 수직 위치가 변경된다. 상기 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)는 하나의 로드 포트에 대응하여 구비되고, 서브 레일과 인접하게 위치한다. 상기 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)는 대응하는 로드 포트를 사이에 두고 서로 마주하며, 정면에서 볼 때, 상기 메인 레일(311)과 상기 메인 적재부(200) 사이에 설치된다.The vertical positions of the first and second buffer ports 320 and 330 are changed by the first and second vertical moving parts 340 and 350. The first and second vertical moving parts 340 and 350 are provided corresponding to one load port and are positioned adjacent to the sub rails. The first and second vertical moving parts 340 and 350 face each other with corresponding load ports interposed therebetween and are installed between the main rail 311 and the main loading part 200 when viewed from the front. .

상기 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)는 각각 이송 너트(351)와 볼 스크류(352)를 구비한다. 상기 이송 너트(351)에는 각 버퍼 포트(320, 330)의 레일 결합부(324a, 324b)가 안착되는 단턱이 형성된다. 각 버퍼 포트(320, 330)는 수직 이동시, 상기 제1 및 제2 레일 결합부(324a, 324b)가 각각 상기 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)의 이송 너트들에 의해 지지된다.The first and second vertical moving parts 340 and 350 have a transfer nut 351 and a ball screw 352, respectively. The transfer nut 351 has a stepped portion on which the rail coupling portions 324a and 324b of the buffer ports 320 and 330 are seated. Each of the buffer ports 320 and 330 is supported by the transport nuts of the first and second vertical moving parts 340 and 350 when the first and second rail coupling parts 324a and 324b are moved vertically. .

상기 이송 너트(351)는 상기 볼 스크류(352)에 나사 결합 방식으로 조립된다. 상기 볼 스크류(352)는 로드 형상을 갖고, 지면에 대해 수직하게 설치되며, 하단에 결합된 구동 모터에 의해 회전한다. 상기 이송 너트(351)는 상기 볼 스크류(352)의 정회전 또는 역회전에 의해 상기 볼 스크류(352)를 따라 승강 또는 하강한다. 이에 따라, 상기 이송 너트(351)에 안착된 버퍼 포트가 상기 서브 레일들(312)에 결합된 상태에서 상기 이송 너트(351)의 승강 및 하강에 의해 수직 이동된다.The transfer nut 351 is assembled to the ball screw 352 by screwing. The ball screw 352 has a rod shape, is installed perpendicular to the ground, and rotates by a drive motor coupled to the bottom. The transfer nut 351 is raised or lowered along the ball screw 352 by forward or reverse rotation of the ball screw 352. Accordingly, the buffer port seated on the transfer nut 351 is vertically moved by lifting and lowering the transfer nut 351 in a state in which it is coupled to the sub rails 312.

이 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)는 볼 스크류 방식을 이용하나, 볼 스크류 방식 이외에 벨트와 풀리를 이용한 방식, 실린더를 이용한 방식과 같은 다양한 리프트 방식이 사용될 수 있다.In this embodiment, the first and second vertical moving parts 340 and 350 use a ball screw method, but in addition to the ball screw method, various lift methods such as a belt and pulley method and a cylinder method may be used. Can be.

상기 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)는 상기 제1 및 제2 수직 이동부(340, 350)에 의해 승강 또는 하강하여 어느 하나의 로드 포트에 풉(10)을 적재 또는 픽업한다.The first and second buffer ports 320 and 330 are lifted or lowered by the first and second vertical moving parts 340 and 350 to load or pick up the pull 10 to one of the load ports.

구체적으로, 상기 제1 버퍼 포트(320)는 상기 로드 포트들(210, ... 240) 중 제1 및 제2 로드 포트(210, 220)의 상부에서 대기하고, 상기 제2 버퍼 포트(330)는 상기 로드 포트들(210, ..., 240) 중 제3 및 제4 로드 포트(230, 240)의 상부에서 대기한다.In detail, the first buffer port 320 waits on top of the first and second load ports 210 and 220 of the load ports 210 and 240, and the second buffer port 330. ) Waits on top of the third and fourth load ports 230, 240 of the load ports 210,.

상기 제1 버퍼 포트(320)는 상기 제1 및 제2 로드 포트(210, 220) 중 어느 하나로부터 공정 완료된 풉을 픽업하거나, 상기 제1 버퍼 포트(320)에 적재된 공정 대기중인 풉을 상기 제1 및 제2 로드 포트(210, 220) 중 유휴 로드 포트에 적재한다.The first buffer port 320 picks up a process-completed pool from any one of the first and second load ports 210 and 220 or the process-waiting pool loaded in the first buffer port 320. The first and second load ports 210 and 220 are loaded in an idle load port.

예컨대, 상기 제1 로드 포트(210)가 유휴 상태일 경우, 상기 제1 버퍼 포트(320)는 공정 대기중인 풉을 적재한 상태에서 상기 제1 로드 포트(210)에 안착된다.For example, when the first load port 210 is in an idle state, the first buffer port 320 is seated on the first load port 210 in a state in which a pool waiting for processing is loaded.

도 5는 도 1에 도시된 제1 버퍼 포트가 로드 포트에 안착된 상태를 도시한 평면도이고, 도 6은 도 5의 절단선 I-I'에 따른 단면도이다.5 is a plan view illustrating a state in which the first buffer port illustrated in FIG. 1 is seated on a load port, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 5.

도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 제1 버퍼 포트(320)의 스테이지(321)는 상기 제1 로드 포트(210)의 상면보다 넓은 크기로 형성되고, 풉이 안착되는 영역(FA)에서 상기 슬라이딩 플레이트(211)와 접촉하는 부분이 제거되어 개구부(321a)가 형성된다. 또한, 상기 제1 버퍼 포트(320)의 스테이지(321)는 상기 슬라이딩 플레이트(211)보다 얇은 두께로 형성되어 상기 슬라이딩 플레이트(321)에 안착된 풉의 하면과의 마찰을 방지한다.5 and 6, the stage 321 of the first buffer port 320 is formed to have a larger size than the upper surface of the first load port 210, and is formed in the area FA where the unwinding is seated. The portion in contact with the sliding plate 211 is removed to form the opening 321a. In addition, the stage 321 of the first buffer port 320 is formed to have a thickness thinner than the sliding plate 211 to prevent friction with the lower surface of the pull seated on the sliding plate 321.

즉, 상기 제1 버퍼 포트(320)가 상기 제1 로드 포트(210)에 안착되면 상기 제1 버퍼 포트(320)에 적재된 풉은 상기 슬라이딩 플레이트(211)에 안착되고, 상기 제1 버퍼 포트(320)의 스테이지(321)는 더 이상 상기 풉을 지지하지 않는다. 이어, 상기 스테이지(321)는 상기 수평 이동부(323)의 피니언 기어(323a)의 회전에 의해 후방으로 이동하여 승강 시 상기 제1 로드 포트(210)에 안착된 풉과의 간섭을 방지한다.That is, when the first buffer port 320 is seated on the first load port 210, the unloaded seat loaded on the first buffer port 320 is seated on the sliding plate 211, and the first buffer port Stage 321 of 320 no longer supports the pool. Subsequently, the stage 321 moves backward by the rotation of the pinion gear 323a of the horizontal moving part 323 to prevent interference with the spool seated on the first load port 210 during the lifting.

다시, 도 1 및 도 4를 참조하면, 상기 제2 버퍼 포트(330)는 상기 제3 및 제4 로드 포트(230, 240) 중 어느 하나로부터 공정 완료된 풉을 픽업하거나, 상기 제2 버퍼 포트(330)에 적재된 공정 대기중인 풉을 상기 제3 및 제4 로드 포트(230, 240) 중 유휴 로드 포트에 적재한다.Referring back to FIGS. 1 and 4, the second buffer port 330 picks up a process-completed pool from one of the third and fourth load ports 230 and 240, or the second buffer port ( The process waiting pool loaded in 330 is loaded in the idle load port among the third and fourth load ports 230 and 240.

한편, 상기 버퍼 적재부(301)는 상기 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)가 지정된 로드 포트에 안착되도록 필요에 따라 상기 제1 및 제2 버퍼 포트(320, 330)의 수직 이동을 방지하는 이동 방지부(360)를 더 포함할 수 있다. 상기 이동 방지부(360)는 각 로드 포트에 대응하는 한 쌍의 서브 레일 중 어느 하나에 대응하여 설치되고, 상기 메인 레일(311)과 서브 레일이 연결되는 부분에 위치하며, 상기 파티션 베이(110)의 측벽에 결합된다. 상기 이동 방지부(360)는 제1 플레이트(361) 및 상기 제1 플레이트(361)의 상면에 슬라이딩 결합방식으로 결합된 제2 플레이트(362)를 구비한다. 상기 제2 플레이트(362)는 좌우 방향으로 이동하여 필요에 따라 상기 파티션 베이(110)의 개구부(111)를 부분적으로 차폐한다. 이에 따라, 각 버퍼 포트(320, 330)는 필요에 따라 상기 제2 플레이트(362)에 지지되어 상기 서브레일로 이동하지 않고 해당 서브 레일을 통과할 수도 있다.On the other hand, the buffer stacker 301 performs vertical movement of the first and second buffer ports 320 and 330 as necessary so that the first and second buffer ports 320 and 330 are seated in a designated load port. It may further include a movement preventing unit 360 to prevent. The movement preventing part 360 is installed to correspond to any one of a pair of sub rails corresponding to each load port, and is located at a portion where the main rail 311 and the sub rail are connected to each other, and the partition bay 110 ) Is coupled to the side wall. The movement preventing part 360 includes a first plate 361 and a second plate 362 coupled to the upper surface of the first plate 361 by a sliding coupling method. The second plate 362 moves in the left and right direction to partially shield the opening 111 of the partition bay 110 as necessary. Accordingly, each of the buffer ports 320 and 330 may be supported by the second plate 362 as needed and may pass through the corresponding sub rail without moving to the sub rail.

한편, 상기 버퍼 적재부(301)의 상부에는 물류이송장치(Overhead Hoist Transfer : OHT)(610)가 이동하는 설비 레일(620)이 설치된다. 일반적으로, 상기 설비 레일(620)은 상기 기판 처리장치(701)가 설치되는 반도체 라인의 천장에 설치된다. 상기 물류이송장치(610)는 상기 설비 레일(720)을 따라 이동하면서 외부로부터 공정 대기중인 풉(10)을 반입하여 상기 버퍼 포트들(320, 320)과 로드 포트들(210, ..., 240) 중 어느 하나에 적재한다. 또한, 상기 물류이송장치(610)는 상기 버퍼 포트들(320, 330)과 로드 포트들(210, ..., 240)에 적재된 풉들 공정 완료된 풉을 픽업하여 외부로 반출한다.Meanwhile, a facility rail 620 to which an overhead hoist transfer (OTT) 610 moves is installed at an upper portion of the buffer stacker 301. In general, the facility rail 620 is installed on the ceiling of the semiconductor line where the substrate processing apparatus 701 is installed. The logistic transfer device 610 moves along the facility rail 720 and imports the pool 10 waiting for processing from the outside to load the buffer ports 320 and 320 and the load ports 210, ..., 240). In addition, the logistic transfer device 610 picks up the unloaded pool completed in the buffer ports (320, 330) and the load ports (210, ..., 240) is carried out to the outside.

상기 물류이송장치(610)는 이송할 풉에 착탈가능하게 결합되는 그립부(611)를 포함하고, 상기 그립부(611)는 와이어에 의해 수직 위치가 조절된다.The logistic transfer device 610 includes a grip portion 611 detachably coupled to the pool to be transferred, the grip portion 611 is adjusted vertical position by a wire.

상술한 바와 같이, 상기 기판 처리장치(701)는 상기 로드 포트들(210, ..., 240) 이외에 공정 대기중인 풉 또는 공정 완료된 풉이 대기할 수 있는 별도의 버퍼 포트들(320, 330)을 구비한다. 또한, 버퍼 포트들(320, 330)은 로드 포트들(210, ..., 240)로부터 공정 완료된 풉을 픽업하거나 공정 대기중인 풉을 유휴 상태의 로드 포트에 적재한다. 이에 따라, 기판 처리장치(701)는 상기 물류 이송 장치(610)의 이송 속도에 의존하지 않고 풉(10)의 반입과 반출이 이루어질 수 있고, 기판을 공급하는 데 소요되는 시간을 단축시키고, 설비 유휴 시간을 감소시키고, 생산성을 향상시킬 수 있다.
As described above, the substrate processing apparatus 701 may have separate buffer ports 320 and 330 capable of waiting for a process-waiting process or a process-completed process in addition to the load ports 210,..., 240. It is provided. In addition, the buffer ports 320 and 330 pick up process-processed pools from the load ports 210,..., 240, or load pools waiting for process to load ports idle. Accordingly, the substrate processing apparatus 701 may be carried in and out of the pool 10 without depending on the transfer speed of the logistic transfer device 610, to shorten the time required to supply the substrate, equipment It can reduce idle time and improve productivity.

이하, 도면을 참조하여 상기 기판 처리장치(701)에서 공정 대기중이 풉이 이송되는 과정과 공정 완료된 풉을 외부로 이송하는 과정을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with reference to the drawings will be described in detail the process of transferring the pool in the process atmosphere in the substrate processing apparatus 701 and the process of transferring the completed pool to the outside.

도 1 및 도 7을 참조하면, 상기 물류 이송 장치(610)가 상기 로드 포트들(210, ..., 240)과 버퍼 포트들(320, 330) 중 유휴 상태인 포트에 공정 대기중인 풉(10)을 적재한다(단계 S110).1 and 7, the logistics transport apparatus 610 may unwind the process waiting for an idle port among the load ports 210,..., 240 and the buffer ports 320, 330. 10) is loaded (step S110).

각 버퍼 포트(320, 330)는 대응하는 로드 포트들 중 어느 하나가 유휴 상태가 되면, 공정 대기중인 풉을 적재한 상태에서 상기 메인 레일(311)을 따라 수평 이동하여 해당 로드 포트의 바로 위에 위치한 후, 상기 제1 및 제2 수직 구동부(340, 350)에 안착되고, 상기 제1 및 제2 수직 구동부(340, 350)에 의해 하강하여 해당 로드 포트에 안착된다. 이에 따라, 공정 대기중인 풉에 해당 로드 포트에 적재된다(단계 S120).When one of the corresponding load ports is idle, each of the buffer ports 320 and 330 moves horizontally along the main rail 311 in a state in which a pool waiting for the process is loaded and positioned directly above the load port. Thereafter, the first and second vertical driving units 340 and 350 are seated, and are lowered by the first and second vertical driving units 340 and 350 and seated in the corresponding load ports. Thereby, it is loaded in the load port corresponding to the process waiting pool (step S120).

상기 각 버퍼 포트(320, 330)는 로드 포트들 중 어느 하나에 적재된 풉이 공정 완료되면, 해당 로드 포트로 이동하여 공정 완료된 풉을 픽업한 후 대기 위치로 이동한다(단계 S130).Each of the buffer ports 320 and 330 moves to the corresponding load port when the pool loaded in any one of the load ports is completed, and picks up the processed pool and moves to the standby position (step S130).

한편, 상기 메인 이송 장치(610)는 상기 로드 포트들(210, ..., 240)과 버퍼 포트들(320, 330) 중 공정 완료된 풉이 적재된 포트로부터 상기 공정 완료된 풉을 픽업하여 외부로 반출한다(단계 S140).Meanwhile, the main transport device 610 picks up the process-completed pool from the port in which the process-completed pool among the load ports 210,..., 240 and the buffer ports 320, 330 is loaded to the outside. It carries out (step S140).

이와 같이, 기판 처리 장치(701)는 로드 포트들(210, ..., 240)에 공정 대기중인 풉을 적재하고 공정 완료된 풉의 반출이 상기 물류 이송 장치(610) 뿐만 아니라 상기 버퍼 포트(320, 330)에 의해서도 이루어진다. 이에 따라, 각 로드 포트(210, ..., 240)에 풉을 연속하여 공급할 수 있으므로, 공정 시간을 단축시고, 생산성을 향상시킬 수 있다.As described above, the substrate processing apparatus 701 loads the pools waiting for the process into the load ports 210,..., 240, and the carrying out of the process-completed pools is not only the logistics transfer device 610 but also the buffer port 320. 330). As a result, the pull can be continuously supplied to each load port 210, ..., 240, so that the process time can be shortened and the productivity can be improved.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 부분 사시도이다.8 is a partial perspective view showing a substrate processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명의 기판 처리 장치(702)는 웨이퍼의 처리 공정이 이루어지는 공정 모듈(102), 및 상기 공정 모듈(102) 전단에 설치된 기판 공급 모듈을 포함할 수 있다. 상기 기판 공급 모듈은 메인 적재부(200) 및 버퍼 적재부(302)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 8, the substrate processing apparatus 702 of the present invention may include a process module 102 in which a wafer processing process is performed, and a substrate supply module installed in front of the process module 102. The substrate supply module may include a main loader 200 and a buffer loader 302.

상기 공정 모듈(102)은 파티션 베이(120)를 제외하고는 도 1에 도시된 공정 모듈(102)과 동일하고, 상기 버퍼 적재부(302)는 이송 레일(370)을 제외하고는 도 1에 도시된 버퍼 적재부(301)와 동일하며, 상기 메인 적재부(200)는 도 1에 도시된 메인 적재부(200)와 동일하다. 따라서, 이하, 도 1에 도시된 기판 처리 장치(702)와 동일한 구성에 대해서는 참조 부호를 병기하고, 그 중복된 설명은 생략한다.The process module 102 is the same as the process module 102 shown in FIG. 1 except for the partition bay 120, and the buffer stack 302 is shown in FIG. 1 except the transfer rail 370. It is the same as the buffer loading unit 301 shown, and the main loading unit 200 is the same as the main loading unit 200 shown in FIG. Therefore, hereinafter, the same components as in the substrate processing apparatus 702 shown in FIG. 1 are denoted by the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

상기 버퍼 적재부(302)의 상기 이송 레일(370)은 메인 레일(371) 및 상기 메인 레일(371)에 연결된 다수의 서브 레일(372)을 포함한다. 상기 메인 레일(371)은 상기 메인 적재부(200)의 로드 포트들(210, ..., 240)이 배치된 방향으로 연장되고, 상기 로드 포트들(210, ..., 240)이 배치된 영역의 길이보다 더 길게 형성되어 양 단부가 상기 파티션 베이(120)의 외측으로 돌출된다. 상기 메인 레일(371)은 상기 파티션 베이(120)의 측벽보다 돌출된 부분 상기 로드 포트들(210, ..., 240)과 중첩되지 않는 영역에 위치한다.The transfer rail 370 of the buffer stacker 302 includes a main rail 371 and a plurality of sub rails 372 connected to the main rail 371. The main rail 371 extends in a direction in which the load ports 210,..., 240 of the main loading part 200 are disposed, and the load ports 210,..., 240 are disposed. It is formed longer than the length of the recessed area so that both ends protrude out of the partition bay 120. The main rail 371 is located in an area which does not overlap with the load ports 210,..., 240 protruding from the sidewall of the partition bay 120.

상기 버퍼 적재부(302)의 버퍼 포트들(320, 330)은 상기 메인 레일(371)이 외부로 돌출된 부분에 대기한다. 이에 따라, 상기 기판 처리 장치(702)는 물류 이송 장치(610)가 상기 메인 적재부(200)에 접근시, 상기 버퍼 포트들(320, 330)과의 간섭을 방지할 수 있다.
The buffer ports 320 and 330 of the buffer stacker 302 wait in a portion where the main rail 371 protrudes to the outside. Accordingly, the substrate processing apparatus 702 may prevent interference with the buffer ports 320 and 330 when the logistics transport apparatus 610 approaches the main loading part 200.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the embodiments above, those skilled in the art will understand that the present invention can be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

101, 102 : 공정 모듈 200 : 메인 적재부
301, 302 : 버퍼 적재부 610 : 물류 이송 장치
701, 702 : 기판 처리 장치
101, 102: process module 200: main loading part
301, 302: buffer loading unit 610: logistics transport device
701, 702: substrate processing apparatus

Claims (11)

기판의 처리가 이루어지는 공정 모듈;
상기 공정 모듈의 전단에 설치되고, 기판들을 수납하는 수납용기를 각각 적재하는 다수의 로드 포트를 포함하며, 적재된 수납용기와 상기 공정 모듈 간에 기판의 이송이 이루어지는 메인 적재부; 및
상기 공정 모듈의 전단에서 상기 메인 적재부의 상부에 설치되고, 상기 메인 적재부에 적재된 수납 용기를 픽업하거나 대기 중인 수납 용기를 상기 메인 적재부에 적재하는 버퍼 포트 및 상기 로드 포트들이 배치된 방향으로 연장된 메인 레일로부터 상기 메인 레일의 길이 방향과 직교하는 방향으로 연장되어 형성되고 상기 로드 포트의 상면에 대해 수직하게 배치된 다수의 서브 레일을 갖는 이송 레일을 포함하며, 상기 버퍼 포트와 상기 메인 적재부 간에 적재된 수납용기를 이송하는 버퍼 적재부를 포함하되,
상기 버퍼 포트는
일단이 상기 이송 레일에 결합되어 상기 이송 레일을 따라 이동하고,
상기 버퍼 포트는,
상기 로드 포트와 마주하고, 상기 수납용기가 적재되는 스테이지;
상기 스테이지의 서로 마주하는 양단부와 결합하고, 일 단부가 상기 이송 레일에 결합된 가이드부; 및
상기 가이드부의 상면에 설치되고, 상기 가이드부는 고정된 상태에서 상기 스테이지만 전방 및 후방으로 수평 이동시키는 수평 이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
A process module in which a substrate is processed;
A main loading part installed at a front end of the process module and including a plurality of load ports for respectively storing storage containers for storing the substrates, and transferring the substrate between the loaded storage container and the process module; And
The buffer port and the load ports which are installed in the upper part of the main loading section at the front end of the process module and pick up the storage container loaded on the main loading unit or load the storage container waiting to the main loading unit A transfer rail having a plurality of sub-rails extending from an extended main rail in a direction orthogonal to a longitudinal direction of the main rail and disposed perpendicularly to an upper surface of the load port, wherein the buffer port and the main stack Includes a buffer stack for transferring the storage container loaded between the sections,
The buffer port is
One end is coupled to the transfer rail and moves along the transfer rail,
The buffer port is,
A stage facing the load port and loaded with the storage container;
A guide part coupled to both ends of the stage facing each other, and having one end coupled to the transfer rail; And
It is installed on the upper surface of the guide portion, the substrate processing apparatus characterized in that it comprises a horizontal moving unit for horizontally moving only the stage forward and rearward in a fixed state.
제1항에 있어서, 상기 버퍼 포트는 두 개의 로드 포트에 대응하여 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.The apparatus of claim 1, wherein the buffer port is located corresponding to two load ports. 제1항에 있어서,
상기 기판 처리 장치는
외부로부터 상기 수납 용기를 반입하여 상기 버퍼 포트 및 상기 로드 포트들 중 적어도 어느 하나에 적재하고, 상기 버퍼 포트 및 상기 로드 포트들 중 어느 하나에 적재된 상기 수납용기를 외부로 반송하는 물류 이송 유닛을 더 포함하고,
상기 물류 이송 유닛은 상기 버퍼 포트 또는 상기 로드 포트들 각각에 상기 수납 용기를 로딩 또는 언로딩할 수 있도록 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 1,
The substrate processing apparatus
A logistics transfer unit carrying the storage container from the outside and loading the storage container into at least one of the buffer port and the load ports and conveying the storage container loaded in any one of the buffer port and the load ports to the outside; Including more,
And the logistic transfer unit is provided to load or unload the storage container to each of the buffer port or the load ports.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 버퍼 적재부는,
상기 공정 모듈 전면에 설치되고, 상기 버퍼 포트를 수직 이동시키는 다수의 수직 이동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 1, wherein the buffer loading unit,
And a plurality of vertical moving parts installed on the front surface of the process module and vertically moving the buffer ports.
제1항에 있어서,
상기 메인 레일은 상기 공정 모듈의 전단 측벽의 길이보다 짧거나 동일한 길이를 갖고,
상기 버퍼 포트는 상기 로드 포트들 중 어느 하나와 마주하게 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 1,
The main rail has a length shorter or equal to the length of the front side wall of the process module,
And the buffer port is positioned facing one of the load ports.
제1항에 있어서,
상기 메인 레일은 공정 모듈의 전단 측벽의 길이보다 긴 길이를 갖고,
상기 버퍼 포트는 상기 메인 레일의 일 단부에 위치하여 상기 로드 포트들과 중첩되지 않게 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
The method of claim 1,
The main rail has a length longer than the length of the shear side wall of the process module,
And the buffer port is disposed at one end of the main rail so as not to overlap with the load ports.
청구항 제3항의 상기 기판 처리장치에서 기판을 이송하는 방법에 있어서:
외부로부터 공정 대기중인 수납용기를 이송한 상기 물류 이송 유닛으로부터 상기 로드 포트들 및 상기 버퍼 포트들 중 유휴 상태의 포트들 중 적어도 하나에 공정 대기 중인 상기 수납 용기를 적재하는 단계;
상기 수납 용기가 적재된 포트가 버퍼 포트인 경우 상기 버퍼 포트에 대응하는 로드 포트가 유휴 상태이면 상기 버퍼 포트를 하강하여 상기 로드 포트로 수납 용기를 이송하여 적재하는 단계;
상기 수납 용기가 적재된 로드 포트의 기판의 공정이 완료되면 대응하는 유휴 상태의 버퍼 포트로 상기 수납 용기를 픽업하여 이송하는 단계;
상기 버퍼 포트에 수납된 상기 수납 용기 또는 상기 버퍼 포트에 수납되지 못한 경우 상기 로드 포트에 적재된 상기 수납 용기를 상기 물류 이송 유닛으로 외부로 반출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
A method of transferring a substrate in the substrate processing apparatus of claim 3, comprising:
Loading the storage container waiting for processing from at least one of the load ports and the idle ports among the buffer ports from the logistics transport unit which transports the storage container waiting for processing from the outside;
When the port in which the storage container is loaded is a buffer port, if the load port corresponding to the buffer port is idle, moving the storage container to the load port by lowering the buffer port;
Picking up and transporting the storage container to a corresponding idle buffer port when the process of the substrate of the load port on which the storage container is loaded is completed;
And carrying out the storage container accommodated in the buffer port or the storage container loaded in the load port to the logistics transport unit when the storage container is not accommodated in the buffer port.
제8항에 있어서,
상기 버퍼 포트는 다수로 이루어지며,
각 버퍼 포트는 서로 인접한 두 개의 로드 포트를 전담하여 해당 로드 포트들부터 수납용기를 픽업 또는 적재하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
9. The method of claim 8,
The buffer port is made of a plurality,
Wherein each buffer port is dedicated to two load ports adjacent to each other and picks up or loads the storage container from the load ports.
제9항에 있어서, 상기 버퍼 포트는 상기 공정 모듈 상단 전면에 설치되어 상기 로드 포트들 중 어느 하나와 마주하게 배치된 상태로 대기하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.The method of claim 9, wherein the buffer port is installed at an upper surface of the upper end of the process module, and waits in a state in which the buffer port is disposed facing the one of the load ports. 제9항에 있어서,
상기 버퍼 포트는 상기 공정 모듈 상단 전면에 설치되어 평면상에서 볼 때 상기 로드 포트들이 배치된 영역과 중첩되지 않는 영역에서 대기하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 방법.
10. The method of claim 9,
The buffer port is installed on the top surface of the process module substrate transfer method, characterized in that waiting in an area that does not overlap with the region in which the load port is disposed in plan view.
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