KR101108156B1 - White organic light emitting device - Google Patents
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Abstract
백색 유기 발광 소자가 개시된다. 개시된 백색 유기 발광 소자는 제1발광층이 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나, 제2발광층이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나, 또는 제1발광층이 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하고 제2발광층이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함한다.A white organic light emitting device is disclosed. The disclosed white organic light emitting device comprises a first light emitting layer comprising a first hole transporting host material, a second light emitting layer comprising a second hole transporting host material, or a first light emitting layer comprising a first hole transporting host material and a second The light emitting layer comprises a second hole transport host material.
Description
백색 유기 발광 소자가 제공된다. 상기 백색 유기 발광 소자는 발광층의 호스트 물질의 종류와 함량을 조절함으로써 화이트 균형 특성이 개선되고 발광효율이 우수해진다.A white organic light emitting device is provided. The white organic light emitting device has improved white balance characteristics and excellent luminous efficiency by adjusting the type and content of the host material of the light emitting layer.
유기 발광 소자(OLED; Organic Light Emitting Device)는 애노드로부터 공급되는 정공(hole)과 캐소드로부터 공급되는 전자(electron)가 애노드와 캐소드 사이에 형성된 유기 발광층 내에서 결합하여 빛을 방출하는 현상을 이용한 능동 발광소자이다. 이러한 유기 발광 소자는 저전압 구동이 가능하고, 고휘도의 면 발광을 구현할 수 있으며, 응답속도가 매우 빠르고, 얇은 두께로 제작할 수 있는 장점이 있다. 또한, 우수한 색 재현성, 빠른 응답 속도, 자발광성(spontaneous emission), 얇은 두께, 높은 명암비, 넓은 시야각, 저 소비전력 같은 특성으로 인하여 TV, PC 모니터, 이동통신 단말기, MP3 플레이어 및 자동차 네비게이션 뿐만 아니라 실내외 조명이나 간판 등으로도 널리 이용될 수 있다.Organic Light Emitting Device (OLED) is an active light emitting device in which holes supplied from an anode and electrons supplied from a cathode are combined in an organic light emitting layer formed between the anode and the cathode to emit light. It is a light emitting element. Such an organic light emitting device is capable of driving a low voltage, it is possible to implement a high luminance surface emission, has a very fast response speed, there is an advantage that can be manufactured in a thin thickness. Furthermore, due to its excellent color reproducibility, fast response speed, spontaneous emission, thin thickness, high contrast ratio, wide viewing angle and low power consumption, it can be used not only for TV, PC monitor, mobile communication terminal, MP3 player and car navigation, but also for indoor and outdoor. It can also be widely used as lighting or signage.
유기 발광 소자의 구동 원리는 다음과 같다.The driving principle of the organic light emitting device is as follows.
애노드 및 캐소드 간에 전압을 인가하면, 애노드로부터 주입된 정공은 정공 수송층을 경유하여 발광층으로 이동하고, 캐소드로부터 주입된 전자는 전자수송층을 경유하여 발광층으로 이동한다. 상기 정공 및 전자 같은 캐리어들은 발광층 영역에서 재결합하여 엑시톤(exiton)을 생성하고, 이 엑시톤이 여기 상태에서 기저상태로 변하면서 광이 발생된다.When a voltage is applied between the anode and the cathode, holes injected from the anode move to the light emitting layer via the hole transport layer, and electrons injected from the cathode move to the light emitting layer via the electron transport layer. Carriers such as holes and electrons recombine in the emission layer to generate excitons, and light is generated as the excitons change from an excited state to a ground state.
최근에는 디스플레이용 유기 발광 소자의 개발이 활발하게 행해지고 있으며, 특히 백색 발광 소자의 개발이 활발하게 진행되고 있다. 백색 유기발광소자는 백색광을 방출하는 유기 발광 소자로서 박형 광원, 액정표시장치의 백라이트 또는 칼라필터를 채용한 풀칼라 표시장치에 사용할 수 있는 등 용도가 다양하다. Recently, development of organic light emitting diodes for displays has been actively conducted, and particularly, development of white light emitting diodes has been actively performed. The white organic light emitting diode is an organic light emitting diode that emits white light, and can be used for a thin light source, a backlight of a liquid crystal display, or a full color display employing a color filter.
백색 유기 발광 소자는 내부에 소정 색상의 발광층들이 적층된 구조를 가지고 있으며, 각 색상의 발광층들을 구성하는 물질이 서로 다르기 때문에 주입되는 전류가 변하게 되면 안정적인 색을 구현하는 데에 어려움이 생긴다. 또한, 백색 유기 발광 소자는 각 색상의 발광층으로부터 빛이 발생되기 때문에 단일 색상의 발광층을 구비하는 유기 발광 소자보다 발광효율이 낮다. 특히 청색, 녹색 및 적색 발광층을 구비한 백색 유기 발광 소자의 경우 적색 발광층은 발광 효율이 우수하지만 나머지 녹색 및 청색 발광층은 만족할만한 발광 효율이 얻어지지 않는다.The white organic light emitting device has a structure in which light emitting layers having a predetermined color are stacked therein, and since the materials constituting the light emitting layers of each color are different from each other, it is difficult to realize stable colors when the injected current changes. In addition, since the white organic light emitting device emits light from the light emitting layer of each color, the luminous efficiency is lower than that of the organic light emitting device having a single light emitting layer. In particular, in the case of the white organic light emitting device having the blue, green, and red light emitting layers, the red light emitting layer is excellent in light emitting efficiency, but the remaining green and blue light emitting layers do not obtain satisfactory light emitting efficiency.
발광효율이 개선된 백색 유기 발광 소자를 제공하는 것이다.It is to provide a white organic light emitting device having improved luminous efficiency.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따라, In order to achieve the above technical problem, according to an aspect of the present invention,
기판; 제1전극; 상기 제1전극과 대향된 제2전극; 상기 제1전극 및 제2전극 사이에 개재된 유기층을 포함하고,Board; A first electrode; A second electrode facing the first electrode; An organic layer interposed between the first electrode and the second electrode,
상기 제1전극이 정공 주입 전극이고 상기 제2전극이 전자 주입 전극이고,The first electrode is a hole injection electrode and the second electrode is an electron injection electrode,
상기 유기층은 상기 제1전극 측으로부터 제1발광층, 제2발광층 및 제3발광층 순으로 적층된 구조를 가지고,The organic layer has a structure laminated in the order of the first light emitting layer, the second light emitting layer and the third light emitting layer from the first electrode side,
a) 상기 제1발광층이 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나a) the first light emitting layer comprises a first hole transport host material
b) 상기 제2발광층이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나 또는b) the second light emitting layer comprises a second hole transport host material or
c) 상기 제1발광층이 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하고 상기 제2발광층이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함하는 백색 유기 발광 소자가 제공된다.c) A white organic light emitting device is provided wherein the first light emitting layer comprises a first hole transporting host material and the second light emitting layer comprises a second hole transporting host material.
상기 제1발광층은 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하고 상기 제2발광층은 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함할 수 있다.The first light emitting layer may include a first hole transporting host material and the second light emitting layer may include a second hole transporting host material.
상기 제1발광층은 제1전자 수송성 호스트 물질을 더 포함하고, 상기 제2발광층은 제2전자 수송성 호스트 물질을 더 포함하며, 상기 제3발광층은 제3전자 수송성 호스트 물질을 포함할 수 있다.The first light emitting layer may further include a first electron transporting host material, the second light emitting layer may further include a second electron transporting host material, and the third light emitting layer may include a third electron transporting host material.
상기 제1발광층은 청색 발광층이고 상기 제2발광층은 녹색 발광층이며 상기 제3발광층은 적색 발광층일 수 있다.The first light emitting layer may be a blue light emitting layer, the second light emitting layer may be a green light emitting layer, and the third light emitting layer may be a red light emitting layer.
상기 제1정공 수송성 호스트 물질 및 상기 제2정공 수송성 호스트 물질은 서로 독립적으로 N,N´-비스(1-나프틸)-N,N´-비스(페닐)벤지딘 (NPB), 4,4´,4˝-트리스(N-카바졸릴)트리페닐아민 (TCTA) 및 4,4´-비스(카르바졸-9-일)비페닐 (CBP)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다.The first hole transporting host material and the second hole transporting host material are independently of each other N, N'-bis (1-naphthyl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine (NPB), 4,4 ' , 4′-tris (N-carbazolyl) triphenylamine (TCTA) and 4,4′-bis (carbazol-9-yl) biphenyl (CBP).
상기 제1전자 수송성 호스트 물질, 제2전자 수송성 호스트 물질 및 제3전자 수송성 호스트 물질은 서로 독립적으로 9,10-디(나프-2-틸)안트라센(ADN), 트리스(8-히드록시퀴놀린) 알루미늄 (Alq3), 10-벤조 [h] 퀴노리놀-베릴륨 착체 (Bebq2), ZnPBO, 및 비스-(2-메틸-8-퀴놀리놀레이트)-4-(페닐페놀레이토)-알루미늄 (BAlq)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다.The first electron transporting host material, the second electron transporting host material, and the third electron transporting host material are independently of each other 9,10-di (naph-2-tyl) anthracene (ADN), tris (8-hydroxyquinoline) Aluminum (Alq3), 10-benzo [h] quinolinol-beryllium complex (Bebq2), ZnPBO, and bis- (2-methyl-8-quinolinolate) -4- (phenylphenolrato) -aluminum (BAlq It may be one or more selected from the group consisting of.
상기 제1발광층은 상기 제1전자 수송성 호스트 물질 100 중량부당 상기 제1정공 수송성 호스트 물질을 20 내지 150 중량부 포함하고, 상기 제2발광층은 상기 제2전자 수송성 호스트 물질 100 중량부당 상기 제2정공 수송성 호스트 물질을 20 내지 150 중량부 포함할 수 있다.The first light emitting layer includes 20 to 150 parts by weight of the first hole transporting host material per 100 parts by weight of the first electron transporting host material, and the second light emitting layer comprises the second hole per 100 parts by weight of the second electron transporting host material. And 20 to 150 parts by weight of the transportable host material.
상기 제1정공 수송성 호스트 물질은 NPB이고, 상기 제2정공 수송성 호스트 물질은 TCTA일 수 있다.The first hole transporting host material may be NPB, and the second hole transporting host material may be TCTA.
상기 제1전자 수송성 호스트는 형광 호스트이고 상기 제2전자 수송성 호스트 및 제3전자 수송성 호스트는 인광 호스트일 수 있다.The first electron transport host may be a fluorescent host and the second electron transport host and the third electron transport host may be phosphorescent hosts.
상기 백색 유기 발광 소자는 발광존이 발광층 전체 영역에 퍼지고 백색 균형 이 개선된다.In the white organic light emitting diode, a light emitting zone spreads over an entire region of the light emitting layer and white balance is improved.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 의한 백색 유기 발광 소자에 대해 상세히 설명하고자 한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 각 구성요소의 크기는 설명을 위하여 과장되게 도시할 수 있음을 명심하여야 한다.Hereinafter, a white organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals refer to the same components, and it should be noted that the size of each component may be exaggerated for explanation.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 백색 유기 발광 소자(100)의 단면도를 개략적으로 도시한 것이다.1 schematically illustrates a cross-sectional view of a white organic
도 1을 참조하면, 백색 유기 발광 소자(100)는 기판(110); 제1전극(120); 상기 제1전극과 대향된 제2전극(130); 상기 제1전극 및 제2전극 사이에 개재된 유기층(140)을 포함하고, 상기 유기층(140)은 제1전극 측으로부터 제1발광층(141), 제2발광층(143) 및 제3발광층(145) 순으로 적층되어 있다. 제1전극(120)과 제1발광층(141) 사이에 정공 수송층(150) 또는 제3발광층(145)과 제2전극(130) 사이에 전자 수송층(160)이 형성될 수 있으나 생략될 수도 있다. 제1전극(120)은 정공 주입 전극이고 제2전극(130)은 전자 주입 전극이 된다.Referring to FIG. 1, the white organic
본 발명의 일 구현예에서, 백색 유기 발광 소자(100)는 기판(110); 제1전극(120); 상기 제1전극과 대향된 제2전극(130); 상기 제1전극 및 제2전극 사이에 개재된 유기층(140)을 포함하고, 상기 제1전극은 정공 주입 전극이고 상기 제2전극은 전자 주입 전극이고, 상기 유기층은 상기 제1전극 측으로부터 제1발광층(141), 제2발광층(143) 및 제3발광층(145) 순으로 적층된 구조를 가지고, a) 상기 제1발광 층(141)이 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나; b) 상기 제2발광층(143)이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나; 또는 c) 상기 제1발광층(141)이 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하고 상기 제2발광층(143)이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the white organic
기판(110)으로는, 통상적인 유기 발광 소자에서 사용되는 유리 기판, 석영 기판 또는 플라스틱 기판을 사용할 수 있는데, 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면 평활성, 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판을 사용할 수 있다.As the
상기 기판(110)의 상부에 증착법 또는 스퍼터링법 등으로 제1전극용 물질을 제공하여 제1전극(120)을 형성할 수 있다. 상기 제1전극(120)은 반사형 전극 또는 투과형 전극일 수 있다. 제1전극(120)은 정공을 주입하는 역할을 하는 정공 주입 전극이다. 따라서 제1전극(120)은 정공 주입이 용이하도록 전도도 및 일함수가 높은 물질로 형성될 수 있다. 구체적으로, 제1전극용 물질은 일함수가 대략 4.7eV 이상인 물질 중에서 선택될 수 있다. 제1전극용 물질로는 예를 들면 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2) 또는 산화아연(ZnO) 등을 이용할 수 있다. 제1전극(120)은 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등을 사용하여 반사형 전극으로 형성될 수도 있다. 상기 제1전극(120)은 일함수가 낮은 금속으로 이루어질 수도 있다. 예를 들면 알루미늄(Al), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 리튬(Li) 또는 칼슘(Ca) 등과 같은 금속, 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.The
상기 제1전극(120) 상부에 진공 증착법, 스핀 코팅법, 캐스트법, LB법 등의 방법을 이용하여 유기층(140)을 형성할 수 있다.The
상기 유기층(140)은 하나 이상의 발광층들이 적층되어 백색 발광하도록 되며, 선택적으로 정공 수송층(150), 전자 수송층(160) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.The
먼저, 상기 제1전극의 상부에 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등의 다양한 방법을 이용하여 선택적으로 정공 수송층(150)을 형성할 수 있다. 진공 증착법에 의하여 정공 수송층(150)을 형성하는 경우, 증착 조건은 정공 수송층의 재료로 사용하는 화합물, 목적하는 정공 수송층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 증착 온도 100 내지 500℃, 진공도 10-8 내지 10-3torr, 증착 속도 0.01 내지 100Å/sec 범위에서 적절히 선택할 수 있다.First, the
스핀 코팅법에 의하여 정공 수송층(150)을 형성하는 경우, 코팅 조건은 정공 수송층의 재료로 사용하는 화합물, 목적하는 정공 수송층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 약 2000 내지 5000rpm의 코팅 속도, 코팅 후 용매 제거를 위한 열처리 온도 약 80 내지 200℃ 범위에서 적절히 선택할 수 있다.When the
정공 수송층 물질은 공지된 정공 수송 재료를 이용하여 형성할 수 있는데, 예를 들면, N-페닐카바졸, 폴리비닐카바졸 등의 카바졸 유도체, N,N´-비스(3-메틸페닐)-N,N´-디페닐-[1,1-비페닐]-4,4´-디아민(TPD), N,N´-디(나프탈렌-1-일)- N,N´-디페닐 벤지딘(α-NPD) 등의 방향족 축합환을 갖는 아민 유도체, TCTA(4,4´,4˝-트리스(N-카바졸일)트리페닐아민) 등과 같은 트리페닐아민계 물질을 사용할 수 있다. TCTA의 경우에는 정공 수송 역할 외에 후술하는 발광층으로부터 엑시톤의 확산을 방지하는 역할도 수행할 수 있다.The hole transport layer material can be formed using a known hole transport material, for example, carbazole derivatives such as N-phenylcarbazole, polyvinylcarbazole, N, N'-bis (3-methylphenyl) -N , N'-diphenyl- [1,1-biphenyl] -4,4'-diamine (TPD), N, N'-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl benzidine (α Amine derivatives having an aromatic condensed ring such as -NPD), and triphenylamine-based materials such as TCTA (4,4 ', 4'-tris (N-carbazolyl) triphenylamine). In the case of TCTA, in addition to the hole transport role, it may also play a role of preventing the diffusion of excitons from the light emitting layer described later.
정공 수송층(150)의 두께는 약 50 내지 1000Å, 예를 들어 100 내지 800Å일 수 있다. 정공 수송층의 두께가 이 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 증가 없이 만족스러운 수준의 정공 수송 특성을 얻을 수 있다.The
상기 정공 수송층(150)의 상부에 제1발광층(141)을 형성하고, 상기 제1발광층(141)의 상부에 제2발광층(143)을 형성하며, 상기 제2발광층(143)의 상부에 제3발광층(145)을 형성할 수 있다.A first
상기 제1발광층(141)은 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나, 상기 제2발광층(143)이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함하거나, 또는 상기 제1발광층(141)이 제1정공 수송성 호스트 물질을 포함하고 상기 제2발광층(143)이 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함할 수 있다.The first
제1발광층(141)은 정공 주입 전극인 제1전극(120)과 인접하거나 가까이 위치하므로 다른 발광층보다 발광층의 특성이 강하게 나타난다. 제1전극(120)에서 멀리 떨어진 제3발광층(145)은 발광 효율에 문제가 없지만 제1전극(120)에 가까이 위치 한 제1발광층(141)은 만족할만한 발광 효율을 얻을 수 없게 된다. 예를 들면 제1발광층(141), 제2발광층(143) 및 제3발광층(145)이 각각 청색, 녹색 및 적색 발광층인 경우 적색은 발광 효율이 우수하지만 청색은 발광 효율이 떨어지게 된다. 이러한 현상을 바로잡고 화이트 균형을 유지하기 위해서는 발광 영역이 발광층 전체에 널리 퍼져 있어야 한다. 이를 위해서 전자전달특성보다 정공전달특성이 우수하여 정공을 제3발광층(143) 쪽으로 원활하게 전달할 수 있는 제1정공 수송성 호스트 물질을 제1발광층(141)에 포함시킬 수 있다.Since the first
제1정공 수송성 호스트 물질은 N,N´-비스(1-나프틸)-N,N´-비스(페닐)벤지딘 (NPB), 4,4´,4˝-트리스(N-카바졸릴)트리페닐아민 (TCTA) 및 4,4´-비스(카르바졸-9-일)비페닐 (CBP)일 수 있다. 하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 제1발광층(141)은 대략 1 내지 20nm의 두께로 형성될 수 있다.The first hole transporting host material is N, N′-bis (1-naphthyl) -N, N′-bis (phenyl) benzidine (NPB), 4,4 ′, 4′-tris (N-carbazolyl) tree Phenylamine (TCTA) and 4,4′-bis (carbazol-9-yl) biphenyl (CBP). However, it is not limited thereto. The first
제2발광층(143)은 제2정공 수송성 호스트 물질을 포함할 수 있다. 제2발광층(143)은 제1발광층(141)과 마찬가지로 제1전극(120)에 가까워 발광층 특성이 강하게 나타나므로 발광 영역이 발광층에 널리 퍼지게 하기 위해 전자전달특성보다 정공전달특성이 우수하여 정공을 제3발광층(145) 쪽으로 원활하게 전달할 수 있는 호스트 물질을 포함할 수 있다.The second
제2정공 수송성 호스트 물질은 N,N´-비스(1-나프틸)-N,N´-비스(페닐)벤지딘 (NPB), 4,4´,4˝-트리스(N-카바졸릴)트리페닐아민 (TCTA) 및 4,4´-비스(카르바졸-9-일)비페닐 (CBP)일 수 있다. 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 제2발광층(143)은 대략 1 내지 20nm의 두께로 형성될 수 있다.The second hole transporting host material is N, N′-bis (1-naphthyl) -N, N′-bis (phenyl) benzidine (NPB), 4,4 ′, 4′-tris (N-carbazolyl) tree Phenylamine (TCTA) and 4,4′-bis (carbazol-9-yl) biphenyl (CBP). But it is not limited thereto. The second
제3발광층(145)은 제2전극(130) 쪽으로부터 주입된 전자들의 일부를 발광에 이용하고, 전자전달특성이 우수한 인광 호스트 물질에 의해 나머지 전자들을 제1발광층(141) 및 제2발광층(143) 쪽으로 전달한다. 제3발광층(145)은 대략 1 내지 20nm의 두께로 형성될 수 있다.The third
본 발명의 일 구현예에서, 상기 제1발광층(141)이 제1전자 수송성 호스트 물질을 더 포함하고, 상기 제2발광층(143)이 제2전자 수송성 호스트 물질을 더 포함하고, 상기 제3발광층(145)이 제3전자 수송성 호스트 물질을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first
상기 제1전자 수송성 호스트 물질, 제2전자 수송성 호스트 물질 및 제3전자 수송성 호스트 물질은 독립적으로 9,10-디(나프-2-틸)안트라센(AND), 트리스(8-히드록시퀴놀린) 알루미늄 (Alq3), 10-벤조 [h] 퀴노리놀-베릴륨 착체 (Bebq2), ZnPBO, 및 비스-(2-메틸-8-퀴놀리놀레이트)-4-(페닐페놀레이토)-알루미늄 (BAlq)로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.The first electron transporting host material, the second electron transporting host material and the third electron transporting host material are independently 9,10-di (naph-2-tyl) anthracene (AND), tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq3), 10-benzo [h] quinolinol-beryllium complex (Bebq2), ZnPBO, and bis- (2-methyl-8-quinolinolate) -4- (phenylphenolrato) -aluminum (BAlq) It may be selected from the group consisting of. But it is not limited thereto.
제1발광층(141) 및 제2발광층(143)은 정공전달특성 및 전자수송특성이 모두 우수한 형광 호스트 물질들을 포함하고, 제3발광층(145)은 전자전달특성이 우수한 인광 호스트 물질을 포함하므로, 제1발광층(141)의 발광 영역이 제3발광층(145) 쪽으로 더 이동되어 발광존이 발광층 전체에 퍼지고 그 결과 백색 균형이 보다 개선될 수 있다.Since the first
본 발명의 일 구현예에서, 상기 제1발광층은 제1전자 수송성 호스트 물질 100 중량부당 상기 제1정공 수송성 호스트 물질을 20 내지 150 중량부, 예를 들면 30 내지 100 중량부를 포함하고, 상기 제2발광층은 상기 제2전자 수송성 호스트 물 질 100 중량부당 상기 제2정공 수송성 호스트 물질을 20 내지 150 중량부, 예를 들면 30 내지 100 중량부를 포함할 수 있다. 상기 층이 정공 수송성 호스트 물질을 20 중량부 미만으로 포함하는 경우에는 정공 수송 능력을 제대로 갖지 못하고 정공 수송성 호스트 물질을 150 중량부 초과로 포함하는 경우에는 오히려 전자 수송 능력이 떨어질 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first light emitting layer comprises 20 to 150 parts by weight, for example 30 to 100 parts by weight, of the first hole transporting host material per 100 parts by weight of the first electron transporting host material, and the second The emission layer may include 20 to 150 parts by weight, for example, 30 to 100 parts by weight, of the second hole transporting host material per 100 parts by weight of the second electron transporting host material. When the layer contains less than 20 parts by weight of the hole transporting host material, the electron transporting capacity may be deteriorated when the layer does not have the hole transporting capacity properly and includes more than 150 parts by weight of the hole transporting host material.
상기 범위 내에서 전자 수송성 호스트 물질과 정공 수송성 호스트 물질을 포함하는 백색 유기 발광 소자는 제1전극 또는 정공 수송층에 인접한 제1발광층은 정공 수송 특성이 강하고, 제2발광층은 본래의 특성을 가지며, 제2전극 또는 전자 수송층에 인접한 제3발광층은 전자 수송 특성을 갖게 된다. 제2발광층은 선택적으로 정공 수송 특성이 강할 수도 있다.In the white organic light emitting device including the electron transporting host material and the hole transporting host material within the above range, the first light emitting layer adjacent to the first electrode or the hole transporting layer has a strong hole transporting property, and the second light emitting layer has an original property. The third light emitting layer adjacent to the two electrodes or the electron transporting layer has electron transporting properties. The second light emitting layer may optionally have strong hole transport characteristics.
본 발명의 일 구현예에서, 상기 제1전자 수송성 호스트 물질은 형광 호스트 물질이고 상기 제2전자 수송성 호스트 물질 및 제3전자 수송성 호스트 물질은 인광 호스트 물질일 수 있다. 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, the first electron transporting host material may be a fluorescent host material and the second electron transporting host material and the third electron transporting host material may be phosphorescent host materials. But it is not limited thereto.
본 발명의 일 구현예에서, 상기 제1발광층(141)은 청색 발광층이고 상기 제2발광층(143)은 녹색 발광층이며, 상기 제3발광층(145)은 적색 발광층일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first
제1발광층(141)은 청색광을 방출하는 청색 발광층이 될 수 있다. 이러한 제1발광층(141)은 소정의 호스트 물질에 예를 들면 청색 도펀트(dopant)를 사용함으로써 형성될 수 있다. 청색 도펀트로서, F2Irpic, (F2ppy)2Ir(tmd), Ir(dfppz)3, ter-플루오렌, 4,4´-비스(4-디페닐아미노스타릴) 비페닐 (DPAVBi), 2,5,8,11-테트라-티-부틸 페릴렌 (TBPe) 등을 이용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The first
DPAVBi TBPeDPAVBi TBPe
제2발광층(143)은 녹색광을 방출하는 녹색 발광층일 수 있다. 제2발광층(143)은 소정의 호스트 물질에 예를 들면 녹색 도펀트를 사용함으로써 형성될 수 있다. 녹색 도펀트로서, Ir(ppy)3 (ppy = 페닐피리딘), Ir(ppy)2(acac), Ir(mpyp)3, C545T(10-(2-벤조티아졸릴)-2,3,6,7-테트라히드로-1,1,7,7-테트라메틸-1H,5H,11H-(1)-벤조피라노(6,7,8-ij) 퀴놀리진-11-온) 등을 이용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The second
제3발광층(145)은 예를 들면, 적색광을 방출하는 적색 발광층이 될 수 있다. 이러한 제3발광층(145)은 소정의 호스트 물질에 예를 들면, 적색 도펀트를 사용함으로써 형성될 수 있다. 적색 도펀트로서 PtOEP, Ir(piq)3, Btp2Ir(acac), DCJTB(4-(디시아노메틸렌)-2-tert-부틸-6-(1,1,7,7-테트라메틸유롤리딘-4-일-비닐)-4H-피란) 등을 이용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The third
도펀트와 호스트를 함께 사용하는 경우, 도펀트의 도핑 농도는 특별히 제한 되지 않으나 통상적으로 호스트 100 중량부를 기준으로 0.01 내지 15 중량부이다.When the dopant and the host are used together, the doping concentration of the dopant is not particularly limited but is usually 0.01 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the host.
상기 발광층의 두께는 약 100 내지 1000Å, 예를 들면 200 내지 600Å일 수 있다. 상기 발광층의 두께가 전술한 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 증가 없이 우수한 발광 특성을 나타낼 수 있다.The thickness of the light emitting layer may be about 100 to 1000 kPa, for example, 200 to 600 kPa. When the thickness of the light emitting layer satisfies the aforementioned range, the light emitting layer may exhibit excellent light emission characteristics without substantially increasing the driving voltage.
상기 제3발광층(145)의 상부에 진공 증착법, 또는 스핀 코팅법, 캐스트법 등의 다양한 방법을 이용하여 전자 수송층(160)을 형성한다. 진공 증착법에 의하여 전자 수송층(160)을 형성하는 경우, 증착 조건은 전자 수송층의 재료로 사용하는 화합물, 목적하는 전자 수송층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 증착 온도 100 내지 500℃, 진공도 10-8 내지 10-3torr, 증착 속도 0.01 내지 100Å/sec 범위에서 적절히 선택할 수 있다.The
스핀 코팅법에 의하여 전자 수송층(160)을 형성하는 경우, 코팅 조건은 전자 수송층의 재료로 사용하는 화합물, 목적하는 전자 수송층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 약 2000 내지 5000rpm의 코팅 속도, 코팅 후 용매 제거를 위한 열처리 온도 약 80 내지 200℃ 범위에서 적절히 선택할 수 있다.When the
전자 수송층 재료는 제2전극으로부터 주입된 전자를 안정하게 수송하는 기능을 하는 것으로서 전자 수송 물질을 이용할 수 있다. 그 예로는, 퀴놀린 유도체, 특히 트리스(8-퀴놀리노레이트)알루미늄(Alq3), TAZ, Balq 등과 같은 재료를 사용할 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.As the electron transporting material, the electron transporting material can be used as a function of stably transporting the electrons injected from the second electrode. Examples thereof may include, but are not limited to, quinoline derivatives, in particular tris (8-quinolinorate) aluminum (Alq 3), TAZ, Balq, and the like.
TAZTAZ
전자 수송층의 두께는 약 100 내지 1000Å, 예를 들어 150 내지 500Å일 수 있다. 전자 수송층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 증가 없이 만족스러운 정도의 전자 수송 특성을 얻을 수 있다.The thickness of the electron transport layer may be about 100 to 1000 kPa, for example 150 to 500 kPa. When the thickness of the electron transporting layer satisfies the above-described range, satisfactory electron transporting characteristics can be obtained without a substantial increase in driving voltage.
도면에는 나타나지 않았지만, 필요에 따라 제3발광층(145)과 전자 수송층(160)의 사이에 정공 억제층을 형성할 수 있다. Although not shown in the drawing, a hole suppression layer may be formed between the third
정공 억제층은 전자 수송층(160)을 형성하기 전에 제3발광층(145)의 상부에 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등의 다양한 방법을 이용하여 형성할 수 있다.The hole suppression layer may be formed on the third
진공 증착법에 의하여 정공 억제층을 형성하는 경우, 증착 조건은 정공 억제층의 재료로 사용하는 화합물, 목적하는 정공 억제층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 증착 온도 100 내지 500℃, 진공도 10-8 내지 10-3torr, 증착 속도 0.01 내지 100Å/sec 범위에서 적절히 선택할 수 있다.In the case of forming the hole suppression layer by the vacuum deposition method, the deposition conditions vary depending on the compound used as the material of the hole suppression layer, the structure and thermal properties of the desired hole suppression layer, and the like. It can select suitably from -8 to 10 -3 torr and a deposition rate of 0.01 to 100 mW / sec.
스핀 코팅법에 의하여 정공 억제층을 형성하는 경우, 코팅 조건은 정공 억제층의 재료로 사용하는 화합물, 목적하는 정공 억제층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 약 2000 내지 5000rpm의 코팅 속도, 코팅 후 용매 제거를 위한 열처리 온도 약 80 내지 200℃ 범위에서 적절히 선택할 수 있다.In the case of forming the hole suppression layer by spin coating, the coating conditions vary depending on the compound used as the material of the hole suppression layer, the structure and thermal properties of the desired hole suppression layer, and generally a coating speed of about 2000 to 5000 rpm, The heat treatment temperature for solvent removal after coating may be appropriately selected in the range of about 80 to 200 ° C.
정공 억제층의 재료의 예로는 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the material for the hole suppression layer include oxadiazole derivatives, triazole derivatives, phenanthroline derivatives, and the like.
상기 정공 억제층의 두께는 약 50 내지 1000Å, 예를 들어 100 내지 300Å일 수 있다. 상기 정공 억제층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 증가 없이 우수한 정공 억제 특성을 얻을 수 있다.The hole suppression layer may have a thickness of about 50 to 1000 kPa, for example, 100 to 300 kPa. When the thickness of the hole suppression layer satisfies the above-described range, excellent hole suppression characteristics may be obtained without a substantial increase in driving voltage.
또한, 도면에는 나타나지 않았지만, 필요에 따라 제1전극(120)과 정공 수송층(150) 사이에 정공 주입층을 형성하거나 전자 수송층(160)과 제2전극(130) 사이에 전자 주입층을 형성할 수 있다.Although not shown in the drawings, a hole injection layer may be formed between the
정공 주입층은 제1전극(120) 상부에 진공증착법, 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 다양한 방법을 이용하여 형성될 수 있다.The hole injection layer may be formed on the
진공 증착법에 의하여 정공 주입층을 형성하는 경우, 증착 조건은 정공 주입층의 재료로서 사용하는 화합물과 목적하는 정공 주입층의 구조 및 열적 특성 등에 따라 다르지만, 일반적으로 증착 온도 100 내지 500 ℃, 진공도 10-8 내지 10-3 torr, 증착 속도 0.01 내지 100 Å/sec의 범위에서 적절히 선택할 수 있다.When the hole injection layer is formed by vacuum deposition, the deposition conditions vary depending on the compound used as the material of the hole injection layer and the structure and thermal characteristics of the desired hole injection layer. It can select suitably in the range of -8 to 10 -3 torr and a deposition rate of 0.01 to 100 mW / sec.
스핀 코팅법에 의하여 정공 주입층을 형성하는 경우, 코팅 조건은 정공주입층 재료로서 사용하는 화합물과 목적하는 정공 주입층의 구조 및 열적 특성에 따라 상이하지만, 약 2000 내지 5000 rpm의 코팅 속도, 코팅 후 용매 제거를 위한 약 80 내지 200℃의 열처리 온도 범위에서 적절히 선택할 수 있다.In the case of forming the hole injection layer by spin coating, the coating conditions are different depending on the structure and thermal properties of the compound used as the hole injection layer material and the desired hole injection layer, but the coating speed of about 2000 to 5000 rpm, the coating It may be appropriately selected in the heat treatment temperature range of about 80 to 200 ℃ for the solvent removal after.
정공 주입층 물질로는 예를 들면 구리프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물, m-MTDATA [4,4´,4˝-tris (3-메틸페닐페닐아미노) 트리페닐아민], NPB(N,N´-디(1-나프틸)-N,N´-디페닐벤지딘), TDATA, 2T-NATA, Pani/DBSA (폴리아닐린/도데실벤젠술폰산), PEDOT/PSS(폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(4-스티렌술포네이트)), Pani/CSA (폴리아닐린/캠퍼술폰산) 또는 PANI/PSS((폴리아닐린)/폴리(4-스티렌술포네이트)) 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.Examples of the hole injection layer material include phthalocyanine compounds such as copper phthalocyanine, m-MTDATA [4,4 ', 4'-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine], NPB (N, N'-di ( 1-naphthyl) -N, N'-diphenylbenzidine), TDATA, 2T-NATA, Pani / DBSA (polyaniline / dodecylbenzenesulfonic acid), PEDOT / PSS (poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / Poly (4-styrenesulfonate)), Pani / CSA (polyaniline / camphorsulfonic acid) or PANI / PSS ((polyaniline) / poly (4-styrenesulfonate)), and the like, may be used, but is not limited thereto.
상기 정공 주입층의 두께는 약 100 내지 10000Å, 예를 들어 100 내지 1000Å일 수 있다. 상기 정공 주입층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압의 증가 없이 만족스러운 정도의 정공 주입 특성을 얻을 수 있다.The hole injection layer may have a thickness of about 100 to 10000 mm 3, for example, 100 to 1000 mm 3. When the thickness of the hole injection layer satisfies the above range, a satisfactory hole injection characteristic may be obtained without a substantial increase in driving voltage.
상기 전자 수송층(160) 상부에 음극으로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 전자 주입층이 적층될 수 있으며 이는 특별히 재료를 제한하지 않는다.An electron injection layer may be stacked on the
상기 전자 주입층 형성 재료로는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO 등과 같은 물질을 이용할 수 있다. 상기 전자 주입층의 증착 조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공 주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위에서 선택된다.As the electron injection layer forming material, a material such as LiF, NaCl, CsF, Li 2 O, BaO, or the like may be used. Although the deposition conditions of the electron injection layer are different depending on the compound used, they are generally selected in the same range of conditions as the formation of the hole injection layer.
상기 전자 주입층의 두께는 약 1 내지 100Å, 예를 들어 5 내지 90Å일 수 있다. 상기 전자 주입층의 두께가 이 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 증가 없이 만족스러운 정도의 전자 주입 특성을 얻을 수 있다.The electron injection layer may have a thickness of about 1 to 100 kPa, for example, 5 to 90 kPa. When the thickness of the electron injection layer satisfies this range, satisfactory electron injection characteristics may be obtained without a substantial increase in driving voltage.
유기층(140) 상부에는 제2전극(130)이 구비되어 있다. 상기 제2전극 형성용 금속으로는 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금, 전기 전도성 화합물 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로서는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag)등을 박막으로 형성하여 전극을 얻을 수 있다. 한편, 전면 발광 소자를 얻기 위하여 ITO, IZO를 이용한 투과형 전극을 형성할 수 있는 등 다양한 변형이 가능하다.The
이하, 실시예를 들어 본 발명의 제조방법을 더욱 구체적으로 설명한다. 다만, 이는 어디까지나 본 발명의 제조방법을 예시하기 위한 것으로서 본 실시예에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것이 아닌 것은 물론이다.Hereinafter, the production method of the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, this is only to illustrate the manufacturing method of the present invention as a matter of course that the scope of the present invention is not limited by this embodiment.
실시예 1Example 1
기판 상부에 애노드로는 코닝사(Corning)의 15Ω/㎠ (1200Å) ITO 유리 기판을 50mmㅧ50mmㅧ0.7mm 크기로 잘라 이소프로필 알콜과 순수에서 각각 5분간 초음파 세정한 후 30분간 UV 오존 세정하여 사용하였다. 상기 애노드 상부에 α-NPD를 진공 증착하여 150Å 두께의 정공 수송층을 형성하였다.As an anode on the top of the substrate, Corning's 15Ω / ㎠ (1200Å) ITO glass substrate was cut into 50mm ㅧ 50mm 크기 0.7mm and ultrasonically cleaned for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV ozone cleaning for 30 minutes. It was. A-NPD was vacuum deposited on the anode to form a hole transport layer having a thickness of 150 kHz.
상기 정공 수송층 상부에 제1전자 수송성 호스트 물질로서 ADN, 제1정공 수송성 호스트 물질로서 NPB, 청색 도펀트서 F2Irpic를 1:1:0.1의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제1발광층을 형성하였다.ADN as a first electron transporting host material, NPB as a first hole transporting host material, and F2Irpic as a blue dopant were co-deposited at a weight ratio of 1: 1: 0.1 to form a first light emitting layer having a thickness of 10 nm on the hole transporting layer.
상기 제1발광층의 상부에 제2전자 수송성 호스트 물질로서 Alq3, 녹색 도펀트서 Ir(ppy)3를 1:0.1의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제2발광층을 형성하고, 상기 제2발광층의 상부에 제3전자 수송성 호스트 물질로서 Bebq2, 적색 도펀트서 Ir(piq)3를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제3발광층을 형성하였다.Alq3 and green dopant Ir (ppy) 3 are co-deposited at a weight ratio of 1: 0.1 as a second electron transporting host material on the first light emitting layer to form a second light emitting layer having a thickness of 10 nm, and an upper portion of the second light emitting layer. Bebq2 and red dopant Ir (piq) 3 were co-deposited at a weight ratio of 1: 0.05 as a third electron transporting host material to form a third light emitting layer having a thickness of 10 nm.
상기 제3발광층 상부에 Alq3를 진공 증착하여 200Å 두께의 전자 수송층을 형성한 다음, Al을 진공 증착하여 3000Å 두께의 캐소드를 형성하였다.Alq3 was vacuum deposited on the third light emitting layer to form an electron transport layer having a thickness of 200 μs, and Al was vacuum deposited to form a cathode having a thickness of 3000 μm.
얻어진 유기 발광 소자에 대하여 Spectrometer PR650을 사용하여 스펙트럼을 측정한 결과를 도 2에 나타내었다.The spectrum of the obtained organic light emitting device using the Spectrometer PR650 is shown in Figure 2 the results.
실시예 2Example 2
기판 상부에 애노드로는 코닝사(Corning)의 15Ω/㎠ (1200Å) ITO 유리 기판을 50mmㅧ50mmㅧ0.7mm 크기로 잘라 이소프로필 알콜과 순수에서 각각 5분간 초음파 세정한 후 30분간 UV 오존 세정하여 사용하였다. 상기 애노드 상부에 m-MTDATA를 진공 증착하여 750Å두께의 정공 주입층을 형성하였다. 상기 정공 주입층 상부에 α-NPD를 진공 증착하여 150Å 두께의 정공 수송층을 형성하였다.As an anode on the top of the substrate, Corning's 15Ω / ㎠ (1200Å) ITO glass substrate was cut into 50mm ㅧ 50mm 크기 0.7mm and ultrasonically cleaned for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV ozone cleaning for 30 minutes. It was. M-MTDATA was vacuum deposited on the anode to form a hole injection layer having a thickness of 750 mm3. A-NPD was vacuum deposited on the hole injection layer to form a hole transport layer having a thickness of 150 kHz.
상기 정공 수송층 상부에 제1전자 수송성 호스트 물질로서 ADN, 제1정공 수송성 호스트 물질로서 NPB, 청색 도펀트서 F2Irpic를 2:1:0.1의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제1발광층을 형성하였다.ADN as a first electron transporting host material, NPB as a first hole transporting host material, and F2Irpic as a blue dopant were co-deposited at a weight ratio of 2: 1: 0.1 on the hole transport layer to form a first light emitting layer having a thickness of 10 nm.
상기 제1발광층의 상부에 제2전자 수송성 호스트 물질로서 Alq3, 녹색 도펀트서 Ir(ppy)3를 1:0.1의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제2발광층을 형성하고, 상기 제2발광층의 상부에 제3전자 수송성 호스트 물질로서 Bebq2, 적색 도펀트서 Ir(piq)3를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제3발광층을 형성하였다.Alq3 and green dopant Ir (ppy) 3 are co-deposited at a weight ratio of 1: 0.1 as a second electron transporting host material on the first light emitting layer to form a second light emitting layer having a thickness of 10 nm, and an upper portion of the second light emitting layer. Bebq2 and red dopant Ir (piq) 3 were co-deposited at a weight ratio of 1: 0.05 as a third electron transporting host material to form a third light emitting layer having a thickness of 10 nm.
상기 제3발광층 상부에 Alq3를 진공 증착하여 200Å 두께의 전자 수송층을 형성한 다음, Al을 진공 증착하여 3000Å 두께의 캐소드를 형성하였다.Alq3 was vacuum deposited on the third light emitting layer to form an electron transport layer having a thickness of 200 μs, and Al was vacuum deposited to form a cathode having a thickness of 3000 μm.
얻어진 유기 발광 소자에 대하여 Spectrometer PR650을 사용하여 스펙트럼을 측정한 결과를 도 3에 나타내었다.The spectrum of the obtained organic light emitting device using the Spectrometer PR650 is shown in Figure 3 the results.
비교예 1Comparative Example 1
기판 상부에 애노드로는 코닝사(Corning)의 15Ω/㎠ (1200Å) ITO 유리 기판을 50mmㅧ50mmㅧ0.7mm 크기로 잘라 이소프로필 알콜과 순수에서 각각 5분간 초음파 세정한 후 30분간 UV 오존 세정하여 사용하였다. 상기 애노드 상부에 α-NPD를 진공 증착하여 150Å 두께의 정공 수송층을 형성하였다.As an anode on the top of the substrate, Corning's 15Ω / ㎠ (1200 I) ITO glass substrate was cut into 50mm ㅧ 50mm 크기 0.7mm and ultrasonically cleaned for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV ozone cleaning for 30 minutes. It was. A-NPD was vacuum deposited on the anode to form a hole transport layer having a thickness of 150 kHz.
상기 정공 수송층 상부에 제1전자 수송성 호스트 물질로서 ADN, 청색 도펀트 서 F2Irpic를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제1발광층을 형성하고, 상기 제1발광층의 상부에 제2전자 수송성 호스트 물질로서 Alq3, 녹색 도펀트서 Ir(ppy)3를 1:0.1의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제2발광층을 형성하고, 상기 제2발광층의 상부에 제3전자 수송성 호스트 물질로서 Bebq2, 적색 도펀트서 Ir(piq)3를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제3발광층을 형성하였다.ADN and a blue dopant standing F2 Irpic as a first electron transporting host material were co-deposited at a weight ratio of 1: 0.05 on the hole transport layer to form a first light emitting layer having a thickness of 10 nm, and a second electron transporting host on the first light emitting layer. Alq3 as a material and Ir (ppy) 3 as a green dopant are co-deposited at a weight ratio of 1: 0.1 to form a second light emitting layer having a thickness of 10 nm, and Bebq2 as a third electron transporting host material and a red dopant on the second light emitting layer. Ir (piq) 3 was co-deposited at a weight ratio of 1: 0.05 to form a third light emitting layer having a thickness of 10 nm.
상기 제3발광층 상부에 Alq3를 진공 증착하여 200Å 두께의 전자 수송층을 형성한 다음, Al을 진공 증착하여 3000Å 두께의 캐소드를 형성하였다.Alq3 was vacuum deposited on the third light emitting layer to form an electron transport layer having a thickness of 200 μs, and Al was vacuum deposited to form a cathode having a thickness of 3000 μm.
얻어진 유기 발광 소자에 대하여 Spectrometer PR650을 사용하여 스펙트럼을 측정한 결과를 도 4에 나타내었다.The spectrum of the obtained organic light emitting device was measured using a Spectrometer PR650.
실시예 3Example 3
기판 상부에 애노드로는 코닝사(Corning)의 15Ω/㎠ (1200Å) ITO 유리 기판을 50mmㅧ50mmㅧ0.7mm 크기로 잘라 이소프로필 알콜과 순수에서 각각 5분간 초음파 세정한 후 30분간 UV 오존 세정하여 사용하였다. 상기 애노드 상부에 m-MTDATA를 진공 증착하여 750Å두께의 정공 주입층을 형성하였다. 상기 정공 주입층 상부에 α-NPD를 진공 증착하여 150Å 두께의 정공 수송층을 형성하였다.As an anode on the top of the substrate, Corning's 15Ω / ㎠ (1200Å) ITO glass substrate was cut into 50mm ㅧ 50mm 크기 0.7mm and ultrasonically cleaned for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV ozone cleaning for 30 minutes. It was. M-MTDATA was vacuum deposited on the anode to form a hole injection layer having a thickness of 750 mm3. A-NPD was vacuum deposited on the hole injection layer to form a hole transport layer having a thickness of 150 kHz.
상기 정공 수송층 상부에 제1전자 수송성 호스트 물질로서 ADN, 제1정공 수송성 호스트 물질로서 NPB, 청색 도펀트서 F2Irpic를 1:1:0.1의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제1발광층을 형성하고, 상기 제1발광층의 상부에 제2전자 수송성 호스트 물질로서 Alq3, 제2정공 수송성 호스트 물질로서 TCTA 및 녹색 도펀트서 Ir(ppy)3를 1:1:0.2의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제2발광층을 형성하였다.ADN as a first electron transporting host material, NPB as a first hole transporting host material, and F2Irpic as a blue dopant in a weight ratio of 1: 1: 0.1 are co-deposited to form a first light emitting layer having a thickness of 10 nm on the hole transporting layer. 10 nm thick second light emitting layer by co-depositing Alq3 as the second electron transporting host material, TCTA and the green dopant Ir (ppy) 3 in the weight ratio of 1: 1: 0.2 on top of the first light emitting layer Formed.
상기 제2발광층의 상부에 제3전자 수송성 호스트 물질로서 Bebq2, 적색 도펀트서 Ir(piq)3를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제3발광층을 형성하였다.Bebq2 and red dopant Ir (piq) 3 were co-deposited at a weight ratio of 1: 0.05 as a third electron transporting host material on the second emission layer to form a third emission layer having a thickness of 10 nm.
상기 제3발광층 상부에 Alq3를 진공 증착하여 200Å 두께의 전자 수송층을 형성한 다음, Al을 진공 증착하여 3000Å 두께의 캐소드를 형성하였다.Alq3 was vacuum deposited on the third light emitting layer to form an electron transport layer having a thickness of 200 μs, and Al was vacuum deposited to form a cathode having a thickness of 3000 μm.
얻어진 유기 발광 소자에 대하여 Spectrometer PR650을 사용하여 스펙트럼을 측정한 결과를 도 5에 나타내었다.The spectrum of the obtained organic light emitting device using the Spectrometer PR650 is shown in Figure 5 the results.
실시예 4Example 4
기판 상부에 애노드로는 코닝사(Corning)의 15Ω/㎠ (1200Å) ITO 유리 기판을 50mmㅧ50mmㅧ0.7mm 크기로 잘라 이소프로필 알콜과 순수에서 각각 5분간 초음파 세정한 후 30분간 UV 오존 세정하여 사용하였다. 상기 애노드 상부에 m-MTDATA를 진공 증착하여 750Å두께의 정공 주입층을 형성하였다. 상기 정공 주입층 상부에 α-NPD를 진공 증착하여 150Å 두께의 정공 수송층을 형성하였다.As an anode on the top of the substrate, Corning's 15Ω / ㎠ (1200Å) ITO glass substrate was cut into 50mm ㅧ 50mm 크기 0.7mm and ultrasonically cleaned for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV ozone cleaning for 30 minutes. It was. M-MTDATA was vacuum deposited on the anode to form a hole injection layer having a thickness of 750 mm3. A-NPD was vacuum deposited on the hole injection layer to form a hole transport layer having a thickness of 150 kHz.
상기 정공 수송층 상부에 제1전자 수송성 호스트 물질로서 ADN, 제1정공 수송성 호스트 물질로서 NPB, 청색 도펀트서 F2Irpic를 3:1:0.2의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제1발광층을 형성하고, 상기 제1발광층의 상부에 제2전자 수송성 호스트 물질로서 Alq3, 제2정공 수송성 호스트 물질로서 TCTA 및 녹색 도펀트서 Ir(ppy)3를 3:1:0.4의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제2발광층을 형성하였다.ADN as a first electron transporting host material, NPB as a first hole transporting host material, and F2Irpic as a blue dopant material are co-deposited at a weight ratio of 3: 1: 0.2 on the hole transport layer to form a first light emitting layer having a thickness of 10 nm. 10 nm thick second light emitting layer by co-depositing Alq3 as a second electron transporting host material, TCTA and a green dopant Ir (ppy) 3 as a 2: 1: 0.4 weight ratio on top of the first light emitting layer Formed.
상기 제2발광층의 상부에 제3전자 수송성 호스트 물질로서 Bebq2, 적색 도펀트서 Ir(piq)3를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제3발광층을 형성하였 다.Bebq2 and a red dopant Ir (piq) 3 were co-deposited at a weight ratio of 1: 0.05 as a third electron transporting host material on the second emission layer to form a third emission layer having a thickness of 10 nm.
상기 제3발광층 상부에 Alq3를 진공 증착하여 200Å 두께의 전자 수송층을 형성한 다음, Al을 진공 증착하여 3000Å 두께의 캐소드를 형성하였다.Alq3 was vacuum deposited on the third light emitting layer to form an electron transport layer having a thickness of 200 μs, and Al was vacuum deposited to form a cathode having a thickness of 3000 μm.
얻어진 유기 발광 소자에 대하여 Spectrometer PR650을 사용하여 스펙트럼을 측정한 결과를 도 6에 나타내었다.The spectrum of the obtained organic light emitting device using the Spectrometer PR650 is shown in Figure 6 the results.
비교예 2Comparative Example 2
기판 상부에 애노드로는 코닝사(Corning)의 15Ω/㎠ (1200Å) ITO 유리 기판을 50mmㅧ50mmㅧ0.7mm 크기로 잘라 이소프로필 알콜과 순수에서 각각 5분간 초음파 세정한 후 30분간 UV 오존 세정하여 사용하였다. 상기 애노드 상부에 m-MTDATA를 진공 증착하여 750Å두께의 정공 주입층을 형성하였다. 상기 정공 주입층 상부에 α-NPD를 진공 증착하여 150Å 두께의 정공 수송층을 형성하였다. As an anode on the top of the substrate, Corning's 15Ω / ㎠ (1200Å) ITO glass substrate was cut into 50mm ㅧ 50mm 크기 0.7mm and ultrasonically cleaned for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV ozone cleaning for 30 minutes. It was. M-MTDATA was vacuum deposited on the anode to form a hole injection layer having a thickness of 750 mm3. A-NPD was vacuum deposited on the hole injection layer to form a hole transport layer having a thickness of 150 kHz.
상기 정공 수송층 상부에 제1전자 수송성 호스트 물질로서 ADN, 청색 도펀트서 F2Irpic를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제1발광층을 형성하고, 상기 제1발광층의 상부에 제2전자 수송성 호스트 물질로서 Alq3, 녹색 도펀트서 Ir(ppy)3를 1:0.1의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제2발광층을 형성하고, 상기 제2발광층의 상부에 제3전자 수송성 호스트 물질로서 Bebq2, 적색 도펀트서 Ir(piq)3를 1:0.05의 중량비로 공증착하여 10nm 두께의 제3발광층을 형성하였다.ADN and a blue dopant F2 Irpic as a first electron transporting host material are co-deposited on the hole transport layer in a weight ratio of 1: 0.05 to form a first light emitting layer having a thickness of 10 nm, and a second electron transporting host on the first light emitting layer. Alq3 as a material and Ir (ppy) 3 as a green dopant are co-deposited at a weight ratio of 1: 0.1 to form a second light emitting layer having a thickness of 10 nm, and Bebq2 as a third electron transporting host material and a red dopant on the second light emitting layer. Ir (piq) 3 was co-deposited at a weight ratio of 1: 0.05 to form a third light emitting layer having a thickness of 10 nm.
상기 제3발광층 상부에 Alq3를 진공 증착하여 200Å 두께의 전자 수송층을 형성한 다음, Al을 진공 증착하여 3000Å 두께의 캐소드를 형성하였다.Alq3 was vacuum deposited on the third light emitting layer to form an electron transport layer having a thickness of 200 μs, and Al was vacuum deposited to form a cathode having a thickness of 3000 μm.
얻어진 유기 발광 소자에 대하여 Spectrometer PR650을 사용하여 스펙트럼을 측정한 그 결과를 도 7에 나타내었다.The spectrum of the obtained organic light emitting device was measured using a Spectrometer PR650. The results are shown in FIG. 7.
도 2 내지 4로부터 실시예 1 및 2의 백색 유기 발광 소자는 비교예 1의 백색 유기 발광 소자에 비해 제1발광층(청색 발광층)에서 청색 피크의 비중이 감소함을 확인할 수 있다.From 2 to 4 it can be seen that the white organic light emitting device of Examples 1 and 2 has a reduced specific gravity of the blue peak in the first light emitting layer (blue light emitting layer) compared to the white organic light emitting device of Comparative Example 1.
도 5 내지 7로부터 실시예 3 및 4의 백색 유기 발광 소자는 비교예 2의 백색 유기 발광 소자에 비해 제2발광층(녹색 발광층)에서 녹색 피크의 비중이 감소함을 확인할 수 있다.5 to 7, the white organic light emitting diodes of Examples 3 and 4 may reduce the specific gravity of the green peak in the second light emitting layer (green light emitting layer) compared to the white organic light emitting diode of Comparative Example 2.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따르는 백색 유기 발광 소자의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing a structure of a white organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시예 1에 따라 얻어진 유기 발광 소자에 대한 EL 그래프이다.2 is an EL graph of an organic light emitting device obtained according to Example 1 of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시예 2에 따라 얻어진 유기 발광 소자에 대한 EL 그래프이다.3 is an EL graph of an organic light emitting device obtained according to Example 2 of the present invention.
도 4는 본 발명의 비교예 1에 따라 얻어진 유기 발광 소자에 대한 EL 그래프이다.4 is an EL graph of an organic light emitting device obtained according to Comparative Example 1 of the present invention.
도 5는 본 발명의 실시예 3에 따라 얻어진 유기 발광 소자에 대한 EL 그래프이다.5 is an EL graph of an organic light emitting device obtained according to Example 3 of the present invention.
도 6은 본 발명의 실시예 4에 따라 얻어진 유기 발광 소자에 대한 EL 그래프이다.6 is an EL graph of an organic light emitting device obtained according to Example 4 of the present invention.
도 7은 본 발명의 비교예 2에 따라 얻어진 유기 발광 소자에 대한 EL 그래프이다.7 is an EL graph of an organic light emitting device obtained according to Comparative Example 2 of the present invention.
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