KR101078536B1 - 기판 건조 장치 - Google Patents

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KR101078536B1
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Abstract

본 발명의 기판 건조 장치는, 기체 상태의 이소프로필 알코올(IPA, Iso-Propyl Alcohol)과 세정 물질을 이용하여 웨이퍼에 대한 건조 작업이 진행되는 웨이퍼 건조부; 웨이퍼 건조부와 연결되며, 웨이퍼에 대한 건조 작업 완료 시 웨이퍼 건조부에 수용된 세정 물질이 배출되는 세정 물질 배출부; 및 세정 물질 배출부와 연통되게 결합되며, 웨이퍼 건조부에서 웨이퍼에 대한 건조 작업 결과 발생될 수 있는 흄(fume)을 제거하기 위하여, 흡입력을 발생시키는 흄 흡입력 발생부;를 포함한다. 본 발명에 따르면, 웨이퍼에 대한 건조 완료 후 웨이퍼 건조부 내에 있는 세정 물질, 예를 들면 순수를 완전히 배출할 수 있을 뿐만 아니라, 건조 결과 발생되는 흄(fume)을 완전히 제거할 수 있어 웨이퍼 건조부 내의 청정도를 우수하게 유지할 수 있으며, 이로 인해 흄에 의한 웨이퍼 오염이 발생되는 것을 완전히 차단할 수 있다.
웨이퍼, 건조, 이소프로필 알코올, 순수, 흄, 흡입

Description

기판 건조 장치{Apparatus to Dry Substrate}
본 발명은, 기판 건조 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기판의 건조 결과 발생되는 흄(fume)을 완전히 제거할 수 있는 기판 건조 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는, 리소그래피(lithography), 증착 및 에칭(etching) 등의 여러 공정을 반복적으로 수행한다. 이러한 공정들을 거치는 동안 기판(예를 들어 실리콘 재질의 웨이퍼) 상에는 파티클, 금속 불순물, 유기물 등이 잔존하게 된다. 이와 같은 오염 물질은 제품의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에 반도체 제조 공정에서는 기판에 잔존된 오염 물질을 제거하기 위한 세정 공정이 수행되고, 세정 공정 후에는 웨이퍼에 대한 건조 공정이 수행된다.
종래 알려진 건조 방식으로는 스핀 건조방식, 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol)에 의한 마란고니 효과(Marangoni effect)를 이용한 건조 방식 등이 있다. 그 중 이소프로필 알코올을 이용한 건조 방식은 웨이퍼를 순수(DIW, deionized water) 안에서 수직 방향으로 끌어올림과 동시에 이소프로필 알코올 및 질소가스(N2)를 웨이퍼 표면의 기액 계면 부근에 불어 넣는 것에 의해 마란고니 효과를 발생시켜 웨이퍼를 건조시키는 방식을 말한다.
일반적으로 건조 공정 시 사용되는 이소프로필 알코올은 이소프로필 알코올 공급장치로부터 기체 상태로 제공된다. 여기서, 이소프로필 알코올 공급장치는, 히터를 이용하는 직/간접 가열 방식 또는 가스를 공급함에 따른 버블링(bubbling)에 의해 액상 이소프로필 알코올이 기화될 수 있도록 구성되어 있다.
도 1은 종래의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 구성도를 개략적으로 도시단 도면이다.
이에 도시된 바와 같이, 종래의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치(1)는, 질소 가스(N2)와 액체 상태의 이소프로필 알코올(5a)을 반응시켜 기체 상태의 이소프로필 알코올(5b)을 발생시키는 공급부(30)와, 공급부(30)에 의해 생성된 기체 상태의 이소프로필 알코올(5b)에 의해 웨이퍼(W)를 건조하는 웨이퍼 건조부(10)와, 웨이퍼 건조부(10)와 연결되며 웨이퍼(W)를 세정하는 세정 물질, 즉 순수(103)를 배출시키는 순수 배출부(50)를 포함한다. 여기서 공급부(30)와 웨이퍼 건조부(10)는 이송관(40)에 의해 연결되어 기체 상태의 이소프로필 알코올(5b)이 웨이퍼 건조부(10)로 분사될 수 있다.
웨이퍼 건조부(10)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 하부 공간에는 순수(103)가 수용되어 있고, 상부 공간은 웨이퍼(W) 건조를 위한 공간으로 사용된다. 웨이 퍼(W)는 순수(103)에 잠긴 상태를 유지하다가 리프트(15)에 의해 상승되며 이때 기체 상태의 이소프로필 알코올(5b)이 웨이퍼(W)에 분사됨으로써 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업(보다 정확히는 마란고니 효과에 의한 세정 작업)이 실행될 수 있다.
그리고, 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업이 완료되면, 순수 배출부(50)로 순수(103)를 배출시켜 웨이퍼 건조부(W)의 내부 공간을 빈 상태로 유지해야 한다.
그런데, 이러한 종래의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치(1)에 있어서는, 순수 배출부(50)로 순수를 배출하더라도 건조 작업 결과 발생되는 흄(fume)이 웨이퍼 건조부(10)의 내부 공간에 잔존할 수 있으며, 이에 따라 웨이퍼 건조부(10)의 내부 공간의 청정도를 저하시킬 수 있으며, 또한 이후 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업이 재실행될 때 웨이퍼(W)를 오염시킬 수 있는 문제점이 있다.
따라서, 세정 물질인 순수(103)뿐만 아니라 세정 결과 발생되는 흄 역시 확실하게 제거할 수 있는 새로운 구조의 기판 건조 장치의 개발이 필요한 실정이다.
본 발명의 목적은, 웨이퍼에 대한 건조 완료 후 웨이퍼 건조부 내에 있는 세정 물질, 예를 들면 순수를 완전히 배출할 수 있을 뿐만 아니라, 건조 결과 발생되는 흄(fume)을 완전히 제거할 수 있어 웨이퍼 건조부 내의 청정도를 우수하게 유지할 수 있는 기판 건조 장치를 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 다른 목적은, 흄(fume)을 완전히 제거함으로써 웨이퍼 건조부 내에서 웨이퍼에 대한 건조 작업이 재실행될 때 흄에 의한 웨이퍼 오염이 발생되는 것을 완전히 차단할 수 있는 기판 건조 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치는, 기체 상태의 이소프로필 알코올(IPA, Iso-Propyl Alcohol)과 세정 물질을 이용하여 웨이퍼에 대한 건조 작업이 진행되는 웨이퍼 건조부; 상기 웨이퍼 건조부와 연결되며, 상기 웨이퍼에 대한 건조 작업 완료 시 상기 웨이퍼 건조부에 수용된 세정 물질이 배출되는 세정 물질 배출부; 및 상기 세정 물질 배출부와 연통되게 결합되며, 상기 웨이퍼 건조부에서 상기 웨이퍼에 대한 건조 작업 결과 발생될 수 있는 흄(fume)을 제거하기 위하여, 흡입력을 발생시키는 흄 흡입력 발생부;를 포함하며, 이러한 구성에 의해서, 웨이퍼에 대한 건조 완료 후 웨이퍼 건조부 내에 있는 세정 물질, 예를 들면 순수를 완전히 배출할 수 있을 뿐만 아니라, 건조 결과 발생되는 흄(fume)을 완전히 제거할 수 있어 웨이퍼 건조부 내의 청정도를 우수하게 유지할 수 있다.
여기서, 상기 웨이퍼 건조부로부터 상기 세정 물질 배출부로 상기 세정 물질이 배출될 수 있도록, 상기 웨이퍼 건조부와 상기 세정 물질 배출부는 적어도 하나의 배출관에 의해 연결되며, 상기 적어도 하나의 배출관에는 상기 세정 물질의 이동을 허용하고 상기 세정 물질의 이동량을 조절하는 조절 밸브가 장착될 수 있다.
상기 조절 밸브는 상기 세정 물질의 배출을 위한 퀵 드레인 밸브(QDV, Quick Drain Valve)이며, 따라서 세정 물질의 배출이 신속하게 이루어질 수 있다.
상기 흄 흡입력 발생부와 상기 세정 물질 배출부는 상기 흄의 이동을 위한 흡입관으로 연결되되, 상기 흡입관은 상기 세정 물질이 미수용되는 상기 세정 물질 배출부의 상단부에 연통되도록 결합되며, 따라서 세정 물질의 배출 작업과 흄 흡입 작업이 간섭 없이 발생될 수 있다.
상기 흄 흡입력 발생부는, 상기 흄이 발생 가능한 상기 웨이퍼 건조부에 비해 저압을 가짐으로써 상기 흄을 흡입할 수 있도록, 압력을 감소시킬 수 있는 감압 장치로 마련되는 것이 바람직하다.
상기 웨이퍼 건조부 내에 장착되어 상기 웨이퍼 건조부 내에 발생 가능한 상기 흄의 양을 감지하는 감지 센서; 및 상기 감지 센서의 정보에 기초하여 상기 흄 흡입력 발생부의 작동을 제어하는 제어부를 더 포함하며, 이에 따라 흄 제거 작업의 효율성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 웨이퍼에 대한 건조 완료 후 웨이퍼 건조부 내에 있는 세정 물질, 예를 들면 순수를 완전히 배출할 수 있을 뿐만 아니라, 건조 결과 발생되는 흄(fume)을 완전히 제거할 수 있어 웨이퍼 건조부 내의 청정도를 우수하게 유지할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 따르면, 흄(fume)을 완전히 제거함으로써 웨이퍼 건조부 내에서 웨이퍼에 대한 건조 작업이 재실행될 때 흄에 의한 웨이퍼 오염이 발생되는 것을 완전히 차단할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 적용에 관하여 상세히 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 태양(aspects) 중 하나이며, 하기의 기술(description)은 본 발명에 대한 상세한 기술(detailed description)의 일부를 이룬다.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 구성을 도시한 도면이고, 도 3은 도 2에 도시된 기판 건조 장치 중 일부를 확대한 도면이다.
도 2 를 참조하면, 세정 장치로 적용될 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 기판 건조 장치(100)는, 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업(마란고니 효과에 의 한 세정 작업)을 실행하는 웨이퍼 건조부(110)와, 액체 상태의 이소프로필 알코올(105a)을 기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)로 변환시키는 공급부(130)와, 웨이퍼 건조부(110)와 이송관(140)에 의해 연결되며 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업 완료 시 웨이퍼 건조부(110)에 수용된 세정 물질(103), 즉 본 실시예의 순수(103, DIW, Denoized Water)가 배출되는 세정 물질 배출부(150), 즉 본 실시예의 순수 배출부(150)와, 순수 배출부(150)와 연통되게 결합되며 웨이퍼 건조부(110)에서 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업 결과 발생될 수 있는 흄(fume)을 흡입하여 제거하는 흄 흡입력 발생부(170)를 포함한다.
먼저 웨이퍼 건조부(110)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 순수(103)가 수용되는 하부 공간을 형성하는 세정 하우징(111)과, 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업이 실행되는 건조 하우징(120)을 포함한다.
세정 하우징(111)은, 웨이퍼(W)를 수용하기에 적합한 크기로 형성되며, 형태 및 구조는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 또한 세정 하우징(111)은 세정 물질과 반응하지 않는 재질로 마련되며, 이러한 세정 하우징(111)의 재질은 요구되는 조건에 따라 적절히 변경될 수 있다. 예를 들어 본 실시예의 세정 하우징(111)은 석영(quartz)으로 마련될 수 있으며, 이외에도 다른 재질이 적용될 수 있음은 물론이다.
한편, 건조 하우징(120)은 세정 하우징(111)의 상부에 선택적으로 분리 가능하게 배치되며, 세정 공정이 완료된 웨이퍼(W)를 건조시키기 위한 건조 공간(120S)이 형성되어 있다. 이러한 건조 하우징(120)의 내측 상부에는 이송관(140) 의 단부와 연결된 노즐(149)이 장착되어 이송관(140)을 따라 이송된 기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)이 건조 하우징(120)의 건조 공간(120S)으로 균일하게 분사될 수 있다.
또한, 세정 하우징(111)에서 세정된 웨이퍼(W)를 건조 처리하기 위해 웨이퍼(W)를 건조 하우징(120)의 건조 공간(120S)으로 상승시켜야 하는데, 본 실시예에서는 이러한 역할이 도 2에 도시된 리프트부재(115)에 의해 수행된다.
도 2의 웨이퍼(W)를 그에 가로 되는 방향(화살표 'A' 방향)으로 보면, 수십 개의 웨이퍼(W)가 상호 나란하게 배치되는데, 이러한 웨이퍼(W)들은 리프트부재(115)에 로딩(loading)된 상태를 유지한다. 리프트부재(115)는 웨이퍼(W)의 세정이 완료되면 상승되어, 세정된 웨이퍼(W) 전체가 건조 하우징(120)의 건조 공간(120S)으로 이송될 수 있도록 한다.
한편 공급부(130)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 액체 상태의 이소프로필 알코올(105a)이 저장되는 저장조(131)를 구비하며, 이러한 저장조(131)에 질소 가스(N2)를 공급하는 질소 가스 공급관(133)과, 웨이퍼 건조부(110)와 연결된 이송관(140)의 단부가 배치되어 있다.
저장조(131)에는 본 실시예에서 웨이퍼(W)를 건조시키는 건조제로 사용되는 이소프로필 알코올(105a)이 액체 상태로 수용되어 있다. 이러한 액체 상태의 이소프로필 알코올(105a)에 질소 가스 공급관(133)을 통하여 질소 가스(N2)를 공급하면, 액체 상태의 이소프로필 알코올(105a)과 질소 가스(N2) 간의 버블링(bubbling) 작용이 활발하게 발생되어, 기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)이 발생되며, 발 생된 기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)은 액체 상태의 이소프로필 알코올(105a)로부터 이탈되어 이송관(140)으로 인입된다.
다만, 이러한 버블링 작용이 활발하게 이루어지기 위해서는, 액체 상태의 이소프로필 알코올(105a)이 일정 수준의 고온을 유지하는 것이 좋은데, 이를 위해, 도시하지는 않았지만, 저장조(131)는 중탕의 증류수에 소정 부분 잠기게 마련될 수 있으며, 중탕의 주변에는 중탕의 증류수를 가열하기 위한 히팅 장치(미도시)가 마련될 수 있다.
한편, 이송관(140)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 공급부(130)와 웨이퍼 건조부(110) 간을 연결하여 공급부(130)에서 생성된 기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)이 웨이퍼 건조부(110)로 공급될 수 있도록 한다.
이러한 이송관(140)에는, 도 2에 도시된 바와 같이, 일단부가 공급부(130)에 배치되는 일체관(141)과, 일체관(141)으로부터 분기되며 웨이퍼 건조부(110)의 내측 상부에 마련된 두 개의 노즐(149)과 각각 연결되는 두 개의 분기관(145)을 포함한다.
이러한 이송관(140)의 구조에 의해, 일체관(141)의 초입 부분으로 유입된 기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)이 분기관(145)으로 분기된 후, 두 개의 분기관(145)의 단부에 결합된 노즐(149)을 통해 웨이퍼 건조부(110)의 건조 공간(120S)으로 균일하게 분사될 수 있다.
한편, 순수 배출부(150)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 건조부(110)에서의 건조 작업이 완료된 후, 세정 하우징(111)에 있는 순수(103)가 배 출되는 부분으로서, 이러한 순수 배출부(150)와, 웨이퍼 건조부(110)의 세정 하우징(111)은 한 쌍의 배출관(160)에 의해 연결된다.
한 쌍의 배출관(160)은 상호 나란하게 마련되며, 이러한 배출관(160) 각각에는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 이동 통로를 개폐할 뿐만 아니라 이동되는 순수(103)의 양을 조절하는 조절 밸브(165)가 장착된다.
이러한 조절 밸브(165)는 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업(보다 정확히는 마란고니 효과에 의한 세정 작업)이 진행될 때는 완전히 닫혀 웨이퍼 건조부(110)의 내부 공간이 순수 배출부(150)를 포함한 외부와 완전히 차단되도록 하며, 이로 인해 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업이 청정한 환경에서 진행될 수 있도록 한다.
한편, 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업이 완료되면, 조절 밸브(165)는 개방되며, 따라서 웨이퍼(W)의 세정을 통해 더러워진 순수(103)가 순수 배출부(150)로 배출될 수 있도록 한다.
본 실시예에서, 조절 밸브(165)는, 순수(103)의 배출이 신속하게 이루어질 수 있도록 하기 위하여, 퀵 드레인 밸브(Quick Drain Valve)로 마련될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 종류의 밸브가 조절 밸브로 적용될 수 있을 것이다.
그리고, 순수 배출부(150)에는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 순수 배출부(150)에 수용된 순수(103)를 외부로 배출하기 위한 배출구(157)가 마련되어 있으며, 따라서 순수 배출부(150)에 어느 정도의 순수(103)가 차면 배출구(157)를 개방하여 순수(103)를 외부로 배출할 수 있다.
한편, 전술한 바와 같이, 웨이퍼 건조부(110)에서 마란고니 효과에 의해 웨이퍼(W)를 건조할 때 세정 물질(103), 즉 순수(103)에 의해 흄(fume)이 발생될 수 있다. 이러한 흄은 웨이퍼 건조부(110) 내의 청정도를 저하시킬 수 있으며, 또한 웨이퍼 건조부(110) 내에서 웨이퍼(W) 건조를 재실행할 때 웨이퍼(W)의 표면에 불순물로 작용할 수 있다. 따라서, 웨이퍼(W) 건조 작업의 신뢰성을 저하시킬 수 있다.
이에, 본 실시예에서는, 이러한 문제점을 해결하기 위해, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 순수 배출부(150)와 연통되게 연결되며 웨이퍼 건조부(110)에서 웨이퍼(W)에 대한 건조 작업 결과 발생되는 흄을 흡입하여 제거하는 흄 흡입력 발생부(170)를 더 포함한다.
본 실시예의 흄 흡입력 발생부(170)는, 감압 장치로 마련된다. 따라서, 웨이퍼 건조부(110) 내의 압력에 비해 흄 흡입력 발생부(170)에서의 압력이 저압이 될 수 있도록 압력을 조절할 수 있고, 이로 인해 웨이퍼 건조부(110) 내의 흄이 흄 흡입력 발생부(170) 방향으로 배출되어 제거될 수 있다.
즉, 도 3의 화살표(B) 경로와 같이, 흄 흡입력 발생부(170)를 작동시키면, 웨이퍼 건조부(110) 내의 흄이 배출관(160)을 통과한 후, 순수 배출부(150)를 지나고, 흄 흡입력 발생부(170)와 순수 배출부(150)를 잇는 흡입관(175)을 지나 흄 흡입력 발생부(170)로 흡입되어 제거되는 것이다.
여기서, 순수 배출부(150)와 연통되게 연결되는 흡입관(175)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 순수(103)가 미수용되는 순수 배출부(150)의 상단부 영역과 결합 된다.
이는, 흄이 아닌 순수(103)가 흡입관(175)을 지난 흄 흡입력 발생부(170)로 배출되는 것을 저지하기 위함이며, 또한 순수 배출부(150)의 작동과 흄 흡입력 발생부(170)의 작동을 동시에 하기 위함이다. 즉, 배출관(160)에 장착된 조절 밸브(165)를 개방하여 순수(103)를 배출할 때, 동시에 흄 흡입력 발생부(170)를 작동시켜 웨이퍼 건조부(110) 내에 잔존하는 흄을 흡입하여 제거할 수 있는데, 이때, 전술한 바와 같이, 흄 흡입력 발생부(170)가 순수 배출부(150)의 상단부(순수(103)가 미수용된 부분)와 연결됨으로써 순수(103)의 배출 작업과 흄 흡입 작업이 간섭 없이 밸생될 수 있는 것이다.
한편, 본 실시예의 기판 건조 장치(100)는, 웨이퍼 건조부(110) 내에 장착되어 웨이퍼 건조부(110) 내에 발생 가능한 흄의 양을 감지하는 감지 센서(미도시)와, 감지 센서의 정보에 기초하여 흄 흡입력 발생부(170)의 작동을 제어하는 제어부(미도시)를 더 포함할 수 있다.
이러한 구성에 의해서, 일정량 이상의 흄이 발생하였을 때에 한하여 흄 흡입력 발생부(170)를 구동시킬 수 있으며, 이에 따라 작업의 효율성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 전력 소비량을 어느 정도 줄일 수 있다.
이하에서는, 이러한 구성을 갖는 기판 건조 장치(100)의 작동 방법에 대해서 설명하기로 한다.
먼저, 공급부(130)에서 액체 상태의 이소프로필 알코올(105a)을 기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)로 변환한 후, 변환된 기체 상태의 이소프로필 알코 올(105b)을 웨이퍼 건조부(110)로 공급한다.
기체 상태의 이소프로필 알코올(105b)이 웨이퍼 건조부(110) 내의 건조 공간으로 균일하게 분사될 때, 세정 하우징(111)의 순수(103)에 잠긴 웨이퍼(W)를 리프트부재(115)에 의해 상승시켜, 마란고니 효과에 의한 웨이퍼(W) 건조 작업이 실행되도록 한다.
웨이퍼(W) 건조 작업을 완료한 후, 웨이퍼(W)를 다음 공정으로 이송시키고, 이와 더불어 세정 하우징(111) 내에 수용된 순수(103, 웨이퍼(W)를 세정한 순수)를 외부로 배출시킨다.
이를 위해, 세정 하우징(111)과 순수 배출부(150)를 연결하는 배출관(160)에 장착된 조절 밸브(165)를 개방하며, 이에 따라 세정 하우징(111)의 순수(103)가 순수 배출부(150)로 완전히 배출될 수 있다.
이와 동시에, 전술한 흄 흡입력 발생부(170)를 작동시켜 웨이퍼 건조부(110) 내의 흄을 흡입할 수 있는 흡입력을 발생시키고, 이러한 흡입력에 의해 웨이퍼 건조부(110) 내의 흄을 완전히 제거한다.
이와 같이, 본 실시예에 의하면, 웨이퍼(W)에 대한 건조 완료 후 웨이퍼 건조부(110) 내에 있는 세정 물질(103), 예를 들면 순수(103)를 완전히 배출할 수 있을 뿐만 아니라, 건조 결과 발생되는 흄(fume)을 완전히 제거할 수 있어 웨이퍼 건조부(110) 내의 청정도를 우수하게 유지할 수 있으며, 이로 인해 흄에 의한 웨이퍼(W) 오염이 발생되는 것을 완전히 차단할 수 있는 효과가 있다.
한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
도 1은 종래의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 구성도를 개략적으로 도시단 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 기판 건조 장치 중 일부를 확대한 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
100 : 기판 건조 장치 110 : 웨이퍼 건조부
130 : 공급부 140 : 이송관
150 : 세정 물질 배출부 160 : 배출관
165 : 조절 밸브 170 : 흄 흡입력 발생부

Claims (6)

  1. 기체 상태의 이소프로필 알코올(IPA, Iso-Propyl Alcohol)과 세정 물질을 이용하여 웨이퍼에 대한 건조 작업이 진행되는 웨이퍼 건조부;
    상기 웨이퍼 건조부와 연결되며, 상기 웨이퍼에 대한 건조 작업 완료 시 상기 웨이퍼 건조부에 수용된 세정 물질이 배출되는 세정 물질 배출부; 및
    상기 세정 물질 배출부와 연통되게 결합되며, 상기 웨이퍼 건조부에서 상기 웨이퍼에 대한 건조 작업 결과 발생될 수 있는 흄(fume)을 제거하기 위하여, 흡입력을 발생시키는 흄 흡입력 발생부;
    를 포함하며,
    상기 흄 흡입력 발생부와 상기 세정 물질 배출부는 상기 흄의 이동을 위한 흡입관으로 연결되되, 상기 흡입관은 상기 세정 물질이 미수용되는 상기 세정 물질 배출부의 상단부에 연통되도록 결합되고,
    상기 흄 흡입력 발생부는, 상기 흄이 발생 가능한 상기 웨이퍼 건조부에 비해 저압을 가짐으로써 상기 흄을 흡입할 수 있도록, 압력을 감소시킬 수 있는 감압 장치로 마련되는 기판 건조 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 건조부로부터 상기 세정 물질 배출부로 상기 세정 물질이 배출될 수 있도록, 상기 웨이퍼 건조부와 상기 세정 물질 배출부는 적어도 하나의 배출관에 의해 연결되며,
    상기 적어도 하나의 배출관에는 상기 세정 물질의 이동을 허용하고 상기 세정 물질의 이동량을 조절하는 조절 밸브가 장착되는 기판 건조 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 조절 밸브는 상기 세정 물질의 배출을 위한 퀵 드레인 밸브(QDV, Quick Drain Valve)인 기판 건조 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 웨이퍼 건조부 내에 장착되어 상기 웨이퍼 건조부 내에 발생 가능한 상기 흄의 양을 감지하는 감지 센서; 및
    상기 감지 센서의 정보에 기초하여 상기 흄 흡입력 발생부의 작동을 제어하는 제어부를 더 포함하는 기판 건조 장치.
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