KR101009989B1 - Substrate Holder - Google Patents

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Abstract

대면적 기판에 대응할 수 있도록 작은 면적을 갖는 복수개의 단위 홀더를 프레임에 결합하여 이루어진 기판 홀더가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 홀더(100)는 복수개의 기판을 동시에 열처리할 수 있는 배치식 열처리 장치에서 기판을 지지하는 기판 홀더로서, 기판(10)이 안착되는 복수개의 단위 홀더(200); 및 복수개의 단위 홀더(200)가 안착되는 홀더 프레임(300)으로 구성된다. Disclosed is a substrate holder formed by coupling a plurality of unit holders having a small area to a frame so as to correspond to a large area substrate. The substrate holder 100 according to the present invention is a substrate holder for supporting a substrate in a batch heat treatment apparatus capable of simultaneously heat treating a plurality of substrates, the plurality of unit holders 200 on which the substrate 10 is seated; And a holder frame 300 on which the plurality of unit holders 200 are seated.

기판, 열처리, 홀더 Board, Heat Treated, Holder

Description

기판 홀더{Substrate Holder}Board Holder {Substrate Holder}

본 발명은 기판 홀더에 관한 것이다. 대면적 기판에 대응할 수 있도록 작은 면적을 갖는 복수개의 단위 홀더를 프레임에 결합하여 이루어진 기판 홀더에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate holder. The present invention relates to a substrate holder formed by coupling a plurality of unit holders having a small area to a frame so as to correspond to a large area substrate.

반도체, 평판 디스플레이 및 태양전지 제조에 사용되는 어닐링(annealing) 장치는 실리콘 웨이퍼나 글래스와 같은 기판 상에 증착되어 있는 소정의 박막에 대하여 결정화, 상 변화 등의 공정을 위하여 필수적인 열처리 단계를 담당하는 장치이다. Annealing devices used in the manufacture of semiconductors, flat panel displays, and solar cells are responsible for the heat treatment steps necessary for processes such as crystallization and phase change for a predetermined thin film deposited on a substrate such as a silicon wafer or glass. to be.

대표적인 어닐링 장치로는 액정 디스플레이 또는 박막형 결정질 실리콘 태양전지를 제조하는 경우 기판 상에 증착된 비정질 실리콘을 폴리 실리콘으로 결정화시키는 실리콘 결정화 장치가 있다. Representative annealing apparatus is a silicon crystallization apparatus that crystallizes amorphous silicon deposited on a substrate into polysilicon when manufacturing a liquid crystal display or a thin film crystalline silicon solar cell.

이와 같은 결정화 공정(열처리 공정)을 수행하기 위해서는 소정의 박막이 형성되어 있는 기판의 히팅이 가능한 열처리 장치가 있어야 한다. 예를 들어, 비정질 실리콘의 결정화를 위해서는 최소한 550 내지 600℃의 온도가 필요하다.In order to perform such a crystallization process (heat treatment process), a heat treatment apparatus capable of heating a substrate on which a predetermined thin film is formed should be provided. For example, at least 550 to 600 ° C. temperature is required for the crystallization of amorphous silicon.

통상적으로 열처리 장치에는 하나의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 매엽식과 복수개의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 배치식이 있다. 매엽식은 장치의 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어서 최근의 대량 생산용으로는 배치식이 각광을 받고 있다. Typically, the heat treatment apparatus includes a sheet type that can perform heat treatment on one substrate and a batch type that can perform heat treatment on a plurality of substrates. Single leaf type has the advantage of simple configuration of the device, but the disadvantage of low productivity has been in the spotlight for the recent mass production.

최근 평판 디스플레이 및 태양전지용 글래스 기판의 사이즈가 점차 대면적화 되고 있다. 예를 들어, LCD의 경우 5.5 세대용 글래스 기판의 사이즈는 1300mm X 1500mm에 이르고 있다.In recent years, the size of flat panel displays and glass substrates for solar cells has gradually increased. For example, in the case of LCDs, the size of the 5.5 generation glass substrate reaches 1300mm x 1500mm.

한편, 열처리 과정 중에 열처리 온도가 글래스 기판의 연화(softening) 온도에 도달하면 기판 자체의 무게 때문에 글래스 기판이 변형될 수 있으므로 이를 방지하기 위하여 글래스 기판을 기판 홀더에 안착되어 지지된 상태로 열처리 장치로 로딩하여 열처리를 진행하는 것이 일반적이다. Meanwhile, when the heat treatment temperature reaches the softening temperature of the glass substrate during the heat treatment process, the glass substrate may be deformed due to the weight of the substrate itself. Thus, the glass substrate is placed on the substrate holder and supported by the heat treatment apparatus to prevent this. It is common to carry out heat treatment by loading.

그러나, 글래스 기판이 대면적화 됨에 따라 글래스 기판을 지지하는 기판 홀더 역시 대면적화 되어 기판 홀더의 제조 비용이 상승하고 기판 홀더의 관리가 용이하지 않다는 문제점이 있었다.However, as the glass substrate becomes larger in area, the substrate holder for supporting the glass substrate also becomes larger in size, resulting in an increase in manufacturing cost of the substrate holder and inability to manage the substrate holder.

이에 본 발명의 목적은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 대면적 기판이 안착되도록 복수개의 단위 홀더로 이루어지는 기판 홀더를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a substrate holder consisting of a plurality of unit holder to be settled in order to solve the problems of the prior art as described above, a large area substrate.

또한, 본 발명은 대면적 기판이 안착되도록 복수개의 단위 홀더로 이루어지는 홀더에 기판을 안착 시킨 상태로 보트로의 로딩이 가능한 기판 홀더를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a substrate holder that can be loaded into the boat in a state in which the substrate is seated in a holder consisting of a plurality of unit holder so that the large area substrate is seated.

또한, 본 발명은 유지 및 관리가 용이하며 제조 비용이 저렴한 기판 홀더를 제공하는 것을 목적으로 한다. It is also an object of the present invention to provide a substrate holder which is easy to maintain and manage and which is low in manufacturing cost.

상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 기판 홀더는, 복수개의 기판을 동시에 열처리할 수 있는 배치식 열처리 장치에서 상기 기판을 지지하는 기판 홀더로서, 상기 기판이 안착되는 복수개의 단위 홀더; 및 상기 복수개의 단위 홀더가 안착되는 홀더 프레임을 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the substrate holder according to the present invention includes a substrate holder for supporting the substrate in a batch heat treatment apparatus capable of simultaneously heat treating a plurality of substrates, the plurality of unit holders on which the substrate is seated; And a holder frame on which the plurality of unit holders are seated.

상기 홀더 프레임은 기본 골격을 이루면서 상기 단위 홀더를 지지하는 제1 프레임과 상기 제1 프레임을 보조하여 상기 단위 홀더를 지지하는 제2 프레임을 포함할 수 있다. The holder frame may include a first frame supporting the unit holder while forming a basic frame, and a second frame supporting the unit holder by assisting the first frame.

상기 제1 프레임에는 상기 단위 홀더의 외주부를 지지하는 걸림단이 형성될 수 있다. A locking end supporting the outer circumference of the unit holder may be formed in the first frame.

상기 단위 홀더에는 제1 진공홀이 형성될 수 있다. A first vacuum hole may be formed in the unit holder.

상기 제2 프레임에는 상기 제1 진공홀에 대응하는 제2 진공홀이 형성될 수 있다. A second vacuum hole corresponding to the first vacuum hole may be formed in the second frame.

상기 단위 홀더와 상기 홀더 프레임의 소재는 석영일 수 있다. The material of the unit holder and the holder frame may be quartz.

상기 기판은 상기 기판 홀더에 안착된 상태로 트랜스퍼 암에 의하여 상기 배치식 열처리 장치에 로딩될 수 있다. The substrate may be loaded into the batch heat treatment apparatus by a transfer arm while seated on the substrate holder.

본 발명에 따르면, 대면적 기판이 안착될 수 있는 기판 홀더를 소면적으로 형성된 복수개의 단위 홀더를 조합하여 구성함으로써 기판 홀더의 제조 비용이 저렴하고 기판 홀더의 관리가 용이한 효과가 있다. According to the present invention, by combining a plurality of unit holders formed with a small area of the substrate holder on which the large-area substrate can be seated, the manufacturing cost of the substrate holder is low and the management of the substrate holder is easy.

또한, 본 발명에 따르면, 복수개의 단위 홀더에 의해 이루어진 홀더의 일부 부위에 손상이 발생되었을 경우 손상 부위의 단위 홀더만을 교체할 수 있도록 하여 기판 홀더의 수리 및 교체가 용이한 효과가 있다.In addition, according to the present invention, when damage occurs to a portion of the holder made by the plurality of unit holders, it is possible to replace only the unit holder of the damaged portion, thereby making it easy to repair and replace the substrate holder.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성을 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 홀더(100)의 구성을 나타내는 사시도 및 분해 사시도이다1 and 2 are a perspective view and an exploded perspective view showing the configuration of the substrate holder 100 according to an embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 기판 홀더(100)는 기판(10)이 안착되는 복수개의 단위 홀더(200)와 복수개의 단위 홀더(200)가 안착되는 홀더 프레임(300)으로 이루어질 수 있다. As illustrated, the substrate holder 100 may include a plurality of unit holders 200 on which the substrate 10 is mounted and a holder frame 300 on which the plurality of unit holders 200 are mounted.

기판(10)은 평판 디스플레이나 태양전지에 채용되는 다양한 사이즈의 글래스 기판을 포함할 수 있다. 이하에서는 LCD나 OLED 제조시 사용되는 직사각형의 글래스 기판을 상정하여 설명하기로 한다. The substrate 10 may include glass substrates of various sizes employed in flat panel displays or solar cells. Hereinafter, a description will be given assuming a rectangular glass substrate used in LCD or OLED manufacturing.

기판(10)이 안착되는 기판 홀더(100)는 기판(10)과 면적이 동일하거나 기판(10)보다 면적이 더 크도록 형성된다. 그리고, 본 발명에서 기판 홀더(100)는 기판(10)보다 작은 면적을 갖는 평판 형상을 갖는 복수개의 단위 홀더(200)로 구성된다. 단위 홀더(200)의 재질은 석영인 것이 바람직하다.The substrate holder 100 on which the substrate 10 is seated is formed to have the same area as the substrate 10 or larger than the substrate 10. In the present invention, the substrate holder 100 includes a plurality of unit holders 200 having a flat plate shape having an area smaller than that of the substrate 10. The material of the unit holder 200 is preferably quartz.

단위 홀더(200)에는 향후 단위 홀더(200) 상에 안착되는 기판(10)이 이송 과정에서 단위 홀더(200)로부터 이탈되지 않도록 하는 제1 진공홀(210)이 형성되어 있다. 제1 진공홀(210)에 대해서는 후술하기로 한다.In the unit holder 200, a first vacuum hole 210 is formed to prevent the substrate 10 mounted on the unit holder 200 from being separated from the unit holder 200 in the transfer process. The first vacuum hole 210 will be described later.

또한, 단위 홀더(200)에는 열처리를 위해 기판이 열처리 장치 내에 설치된 보트에 로딩될 때 홀더에 안착되어 있는 기판(10)을 홀더에서 들어올리기 위해 로드가 삽입되는 삽입홀(220)이 형성될 수 있다. In addition, the unit holder 200 may be formed with an insertion hole 220 into which a rod is inserted to lift the substrate 10 seated in the holder from the holder when the substrate is loaded in a boat installed in the heat treatment apparatus. have.

기판 홀더(100)를 구성하는 단위 홀더(200)의 크기와 개수는 열처리 대상인 기판(10)의 크기에 따라 다양하게 변경될 수 있지만, 각각의 단위 홀더(200)는 면적과 두께를 서로 동일하게 하는 것이 바람직하다. The size and number of unit holders 200 constituting the substrate holder 100 may be variously changed according to the size of the substrate 10 to be heat treated, but each unit holder 200 may have the same area and thickness. It is desirable to.

본 실시예에서 기판(10)이 복수개의 단위 홀더(200) 상에 수평을 유지하면서 안착되기 위하여 각 단위 홀더(200)의 두께를 실질적으로 동일하게 조절하는 것이 바람직하다. 각 단위 홀더(200)의 두께가 모두 동일하면 각 단위 홀더(200)의 상부면은 서로 일치하게 되고 그 결과 홀더 상에 안착되는 기판(10)은 전체적으로 수 평을 유지할 수 있다. In the present embodiment, it is preferable that the thickness of each unit holder 200 is adjusted to be substantially the same so that the substrate 10 is mounted on the plurality of unit holders 200 while being horizontal. When the unit holders 200 have the same thickness, the upper surfaces of the unit holders 200 may coincide with each other, and as a result, the substrate 10 seated on the holders may be kept horizontal.

복수개의 단위 홀더(200)가 안착되는 홀더 프레임(300)은 사각형의 기본 골격을 이루면서 복수개의 단위 홀더(200)가 안착되어 지지할 수 있도록 하는 제1 프레임(310), 제1 프레임(310)의 내측으로 설치되어 제1 프레임(310)에 의해 안착되어 지지되고 있는 단위 홀더(200)를 보조적으로 지지하는 제2 프레임(350)으로 구성될 수 있다. The holder frame 300, on which the plurality of unit holders 200 are seated, forms a basic skeleton, and includes a first frame 310 and a first frame 310 that allow the plurality of unit holders 200 to be seated and supported. It may be configured as a second frame 350 which is installed inward to support the unit holder 200 which is seated and supported by the first frame 310.

도 3 및 도 4를 참조하여 홀더 프레임(300)을 구성하는 제1 및 제2 프레임의 구성을 살펴보기로 한다. 도 3 및 도 4는 홀더 프레임(300)의 구성을 나타내는 평면도 및 사시도이다.3 and 4, the configuration of the first and second frames constituting the holder frame 300 will be described. 3 and 4 are a plan view and a perspective view showing the configuration of the holder frame 300.

도시한 바와 같이, 홀더 프레임(300)은 기본 골격을 이루는 제1 프레임(310)을 포함하여 구성된다. 제1 프레임(310)은 소정의 폭을 갖는 평판 형태의 로드(rod)를 이용하여 제작함으로써 제1 프레임(310)의 내측에는 사각형의 공간이 형성될 수 있다. 이때, 형성된 공간의 크기는 단위 홀더(200)의 크기와 실질적으로 동일하게 설정하는 것이 바람직하다. As shown, the holder frame 300 is configured to include a first frame 310 forming a basic skeleton. The first frame 310 may be formed using a flat rod having a predetermined width so that a rectangular space may be formed inside the first frame 310. At this time, the size of the formed space is preferably set to be substantially the same as the size of the unit holder 200.

본 실시예에서는 제1 프레임(310)을 각각 별도로 형성한 후 용접에 의해 결합할 수도 있으나, 단위 홀더(200) 면적의 수배의 면적을 갖는 사각형의 프레임 외형을 제작한 후 로드를 이용하여 프레임 외형의 내측 공간을 분할함으로써 복수개의 단위 홀더(200)가 안착될 수 있는 제1 프레임(310)을 형성할 수도 있다. In the present embodiment, the first frame 310 may be separately formed and then joined by welding. However, after fabricating a rectangular frame outline having an area several times the area of the unit holder 200, the frame outline may be formed using a rod. The first frame 310 to which the plurality of unit holders 200 may be seated may be formed by dividing an inner space of the second holder 200.

제1 프레임(310)의 가로 세로 비는 기판(10)의 가로 세로 비와 실질적으로 동일하게 형성되는 것이 바람직하다. 제1 프레임(310)의 재질은 석영이며, 정삭 가공 및 연삭 가공을 통해 (∇∇∇)의 표면 가공도를 갖는 것이 바람직하다. The aspect ratio of the first frame 310 is preferably formed to be substantially the same as the aspect ratio of the substrate 10. The material of the first frame 310 is quartz and preferably has a surface finish of (i) through finishing and grinding.

도 3 및 도 4를 참조하면, 제1 프레임(310)은 4개의 단위 홀더(200)가 배열될 수 있도록 2 X 2의 매트릭스 형태로 제작되어 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 제1 프레임(310)에 안착되는 단위 홀더(200)의 개수에 따라 다양하게 변경될 수 있다.3 and 4, the first frame 310 is manufactured in a matrix form of 2 × 2 so that four unit holders 200 may be arranged, but is not necessarily limited thereto, and the first frame 310 is not limited thereto. It may be variously changed according to the number of unit holder 200 seated on.

또한, 단위 홀더(200)가 안착되는 제1 프레임(310)의 내주면을 따라서는 단위 홀더(200)의 외주부가 걸리는 걸림단(320)이 돌출 형성되어 있다. 이때, 걸림단(320)은 제1 프레임(310)의 내주를 따라 연속적으로 형성될 수 있지만, 일정한 간격으로 복수개로 형성될 수도 있다. In addition, along the inner circumferential surface of the first frame 310 on which the unit holder 200 is seated, a locking end 320 is formed to protrude from the outer circumferential portion of the unit holder 200. In this case, the locking end 320 may be continuously formed along the inner circumference of the first frame 310, but may be formed in plural at regular intervals.

한편, 제1 프레임(310)과 걸림단(320)의 경계 부근에는 제1 프레임(310)에 안착되어 있는 단위 홀더(200)를 제1 프레임(310)에서 이탈시킬 수 있는 이탈홀(330)을 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 제1 프레임(310) 상에는 소정의 간격으로 이탈 방지핀(340)을 돌출 형성함으로써 기판(10)이 안착된 상태에서 기판 홀더(100)를 이송할 때 기판 홀더(100) 상에서 기판(10)이 갑작스럽게 이탈되는 것이 방지되도록 하는 것이 바람직하다. On the other hand, in the vicinity of the boundary between the first frame 310 and the locking end 320, the separation hole 330 that can be separated from the first frame 310, the unit holder 200 seated on the first frame 310 It is preferable to form In addition, the protrusion prevention pins 340 are protruded on the first frame 310 at predetermined intervals to transfer the substrate holder 100 in a state where the substrate 10 is seated. ) Is preferably prevented from abrupt departure.

도 3 및 도 4를 참조하면, 홀더 프레임(300)은 제1 프레임(310)의 내측에 소정의 길이와 폭을 갖도록 형성되어 단위 홀더(200)를 지지할 수 있는 제2 프레임(350)을 포함하여 구성된다. 제2 프레임(350)은 제1 프레임(310)에 의해 지지되는 단위 홀더(200)가 자중에 의해 처짐이 발생하는 것을 방지하는 역할을 한다. 즉, 본 발명에서 단위 홀더(200)는 홀더 프레임(300)의 제1 프레임(310)과 제2 프 레임(250) 모두에 의해 지지되도록 하는 것이 바람직하다. 이를 위해서는 걸림단(320)의 상부면과 제2 프레임(350)의 상부면이 실질적으로 평행하도록 제2 프레임(350)을 설치하는 것이 좋다. 물론 제2 프레임(350)에 의해 홀더 프레임(300)의 전체적인 내구성이 향상되는 효과도 얻을 수 있다. 3 and 4, the holder frame 300 is formed to have a predetermined length and width inside the first frame 310 to support the second frame 350 that can support the unit holder 200. It is configured to include. The second frame 350 serves to prevent the unit holder 200 supported by the first frame 310 from sagging due to its own weight. That is, in the present invention, the unit holder 200 may be supported by both the first frame 310 and the second frame 250 of the holder frame 300. To this end, it is preferable to install the second frame 350 so that the upper surface of the locking end 320 and the upper surface of the second frame 350 are substantially parallel. Of course, the overall durability of the holder frame 300 may be improved by the second frame 350.

제2 프레임(350)은 단위 홀더(200)가 안착되는 공간에 각각에 가로와 세로로 각각 1개씩 설치되어 '+' 형태로 교차 형성되어 있음을 알 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 그 이상의 개수로 설치되어 격자 형태로 형성될 수도 있다. 제2 프레임(350)의 재질은 석영이며, 정삭 가공 및 연삭 가공을 통해 (∇∇∇)의 표면 가공도를 갖는 것이 바람직하다.The second frame 350 is installed in the space in which the unit holder 200 is seated, each one horizontally and vertically, so that the second frame 350 is formed crosswise in the form of '+', but is not necessarily limited thereto. It may be installed in the form of a lattice. The material of the second frame 350 is quartz and preferably has a surface finish of (i) through finishing and grinding.

한편, 기판 홀더(100)의 사용 도중에 단위 홀더(200)가 홀더 프레임(300)으로부터 이탈하지 않도록 용접 등을 통하여 단위 홀더(200)는 홀더 프레임(300) 상에 완전히 고정될 수 있다.Meanwhile, the unit holder 200 may be completely fixed on the holder frame 300 by welding or the like so that the unit holder 200 may not be separated from the holder frame 300 during the use of the substrate holder 100.

도 3 및 도 4를 참조하면, 제2 프레임(350)에는 제2 진공홀(360)이 형성되어 있다. 제2 진공홀(360)은 제1 진공홀(210)과 같이 기판(10)을 단위 홀더(200)와 홀더 프레임(300)으로 구성되는 기판 홀더(100) 상에 안착시킨 상태에서 트랜스퍼 암과 같은 이송 기구로 이송할 때 기판 홀더(100)로부터 기판(10)이 이탈되지 못하도록 단위 홀더(200) 상에 기판(10)이 고정되도록 하는 역할을 한다. 이를 위하여, 트랜스퍼 암에는 진공 발생 수단(미도시)이 연결되어 있으며, 상기 진공 발생 수단에 의해 발생한 진공 상태가 제1 및 제2 진공홀(210, 360)을 통하여 기판(10)까지 유지됨으로써 기판(10)이 단위 홀더(200) 상에 흡착되어 고정된다. 3 and 4, a second vacuum hole 360 is formed in the second frame 350. The second vacuum hole 360 and the transfer arm in a state in which the substrate 10 is mounted on the substrate holder 100 composed of the unit holder 200 and the holder frame 300 like the first vacuum hole 210. The substrate 10 is fixed to the unit holder 200 to prevent the substrate 10 from being separated from the substrate holder 100 when transferring to the same transfer mechanism. To this end, a vacuum generating means (not shown) is connected to the transfer arm, and the vacuum state generated by the vacuum generating means is maintained up to the substrate 10 through the first and second vacuum holes 210 and 360, thereby providing a substrate. 10 is sucked onto the unit holder 200 and fixed.

제1 및 제2 진공홀(210, 360)의 중심축은 서로 일치되게 하는 것이 바람직하다. 제1 및 제2 진공홀(210, 360)의 크기 및 개수는 기판(10) 사이즈에 따라 다양하게 변경 가능하다. It is preferable that the central axes of the first and second vacuum holes 210 and 360 coincide with each other. The size and number of the first and second vacuum holes 210 and 360 may be variously changed according to the size of the substrate 10.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 홀더(100)에 기판(10)이 안착되는 상태를 나타내는 분해 사시도이다. 도시한 바와 같이, 본 발명에서는 복수개의 단위 홀더(200)와 이를 지지하는 홀더 프레임(300)으로 구성된 기판 홀더(100) 상에 기판(10)이 안착된다. 또한, 트랜스퍼 암에 의하여 기판(10)이 기판 홀더(100) 상에 안착된 상태에서 열처리 장치의 열처리 공간을 제공하는 챔버 내에 설치된 보트에 로딩되어 기판(10)에 대한 소정의 열처리 공정이 진행된다.5 is an exploded perspective view showing a state in which the substrate 10 is seated on the substrate holder 100 according to an embodiment of the present invention. As shown, in the present invention, the substrate 10 is mounted on the substrate holder 100 including a plurality of unit holders 200 and a holder frame 300 supporting the unit holders 200. In addition, the transfer arm is loaded on a boat installed in a chamber providing a heat treatment space of the heat treatment apparatus in a state where the substrate 10 is seated on the substrate holder 100, and a predetermined heat treatment process is performed on the substrate 10. .

이와 같이, 본 발명의 기판 홀더는 기판 사이즈보다 작은 복수개의 단위 홀더로 이루어짐으로써 기판 사이즈가 대면적화 되더라도 단위 홀더 사이즈는 대면적화 될 필요가 없어서 기판 홀더의 제조 비용이 저렴하고 기판 홀더의 관리가 용이한 이점이 있다. 아울러, 복수개의 단위 홀더 중 일부 부위에 손상이 발생되었을 경우 손상 부위의 단위 홀더만을 교체할 수 있어서 기판 홀더의 수리 및 교체가 용이한 이점이 있다.As described above, the substrate holder of the present invention is composed of a plurality of unit holders smaller than the substrate size, so that even if the substrate size is large, the unit holder size does not need to be large, so the manufacturing cost of the substrate holder is low and the management of the substrate holder is easy. There is one advantage. In addition, when damage occurs to a portion of the plurality of unit holders, only the unit holder of the damaged portion may be replaced, so that the substrate holder may be easily repaired and replaced.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken in conjunction with the present invention. Variations and changes are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 홀더의 구성을 나타내는 사시도.1 is a perspective view showing the configuration of a substrate holder according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 홀더의 구성을 나타내는 분해 사시도. Figure 2 is an exploded perspective view showing the configuration of a substrate holder according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명에서 사용하는 홀더 프레임의 구성을 나타내는 평면도. 3 is a plan view showing the structure of a holder frame used in the present invention.

도 4는 본 발명에서 사용하는 홀더 프레임의 구성을 상세하게 나타내는 사시도. 4 is a perspective view showing in detail the configuration of a holder frame used in the present invention.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 홀더에 기판이 안착되는 상태를 나타내는 분해 사시도. 5 is an exploded perspective view illustrating a state in which a substrate is seated in a substrate holder according to an exemplary embodiment of the present invention.

-도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 -Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100: 기판 홀더100: substrate holder

200: 단위 홀더200: unit holder

210: 제1 진공홀210: first vacuum hole

220: 삽입홀220: insertion hole

300: 홀더 프레임300: holder frame

310: 제1 프레임310: first frame

320: 걸림단 320: hang end

330: 이탈홀330: exit hole

340: 이탈 방지핀340: release prevention pin

350: 제2 프레임350: second frame

360: 제2 진공홀360: second vacuum hole

Claims (7)

복수개의 기판을 동시에 열처리할 수 있는 배치식 열처리 장치에서 상기 기판을 지지하는 기판 홀더로서,A substrate holder for supporting the substrate in a batch heat treatment apparatus capable of simultaneously heat treating a plurality of substrates, 상기 기판이 안착되는 복수개의 단위 홀더; 및A plurality of unit holders on which the substrate is mounted; And 상기 복수개의 단위 홀더가 안착되는 홀더 프레임을 포함하고,A holder frame on which the plurality of unit holders are seated, 상기 홀더 프레임은 기본 골격을 이루면서 상기 단위 홀더를 지지하는 제1 프레임과 상기 제1 프레임을 보조하여 상기 단위 홀더를 지지하는 제2 프레임을 포함하고,The holder frame may include a first frame supporting the unit holder while forming a basic frame, and a second frame supporting the unit holder by assisting the first frame. 상기 단위 홀더에는 제1 진공홀이 형성되며, A first vacuum hole is formed in the unit holder, 상기 제2 프레임에는 상기 제1 진공홀에 대응하는 제2 진공홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 홀더.And a second vacuum hole corresponding to the first vacuum hole is formed in the second frame. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 프레임에는 상기 단위 홀더의 외주부를 지지하는 걸림단이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 홀더.The first frame is a substrate holder, characterized in that the engaging end for supporting the outer peripheral portion of the unit holder is formed. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 단위 홀더와 상기 홀더 프레임의 소재는 석영인 것을 특징으로 하는 기판 홀더.And the material of the unit holder and the holder frame is quartz. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판은 상기 기판 홀더에 안착된 상태로 트랜스퍼 암에 의하여 상기 배치식 열처리 장치에 로딩되는 것을 특징으로 하는 기판 홀더.And the substrate is loaded into the batch heat treatment apparatus by a transfer arm while seated on the substrate holder.
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