KR100983759B1 - Apparatus for cleaning substrate - Google Patents

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Abstract

배기효율을 향상시킨 매엽식 세정장치가 개시된다. 기판의 매엽식 세정장치는 세정공정 동안 기판에서 비산되는 세정액을 포집하는 복수의 회수컵이 구비된 챔버, 상기 챔버 내에 회전 가능하게 구비되고 상기 기판이 안착되는 복수의 척핀이 구비된 스핀척, 상기 각 회수컵 내부에서 상기 챔버 벽을 관통하여 구비되고 상기 챔버 내부의 배기가스를 외부로 배출시키는 배기부 및 상기 스핀척 상부에 구비되어 상기 배기가스를 상기 배기부로 안내하는 링 형태의 베인을 구비하는 배기 가이드부를 포함하여 이루어진다. 따라서, 스핀척 상부에 배기 가이드부를 구비함으로써 회수컵을 상기 챔버 내측 방향으로 실질적으로 연장시킴으로써 상기 배기부에서 배기가스의 배기량을 증가시키고 배기효율을 향상시킬 수 있다.Disclosed is a sheet type washing apparatus having improved exhaust efficiency. The single wafer cleaning apparatus for a substrate includes a chamber having a plurality of recovery cups for collecting the cleaning liquid scattered from the substrate during the cleaning process, a spin chuck rotatably provided in the chamber, and having a plurality of chuck pins on which the substrate is seated. Each recovery cup is provided through the chamber wall and provided with an exhaust portion for discharging the exhaust gas to the outside and a ring-shaped vane disposed above the spin chuck to guide the exhaust gas to the exhaust portion. It comprises an exhaust guide portion. Accordingly, by providing the exhaust guide portion on the spin chuck substantially, the recovery cup can be substantially extended in the chamber inward direction, thereby increasing the exhaust amount of the exhaust gas in the exhaust portion and improving the exhaust efficiency.
매엽식 세정장치, 배기 가이드 Single Sheet Washer, Exhaust Guide

Description

기판의 매엽식 세정장치{APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE}Single wafer cleaning device for substrates {APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE}
본 발명은 기판의 매엽식 세정장치에 관한 것으로서, 챔버 내의 배기효율을 향상시키는 매엽식 세정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a single sheet cleaning apparatus for a substrate, and more particularly, to a single sheet cleaning apparatus for improving exhaust efficiency in a chamber.
일반적으로, 반도체 소자는 기판, 예를 들어, 실리콘 웨이퍼를 이용하여 증착, 사진 및 식각 공정 등을 반복 수행함으로써 제조될 수 있다. 공정들을 거치는 동안 기판 상에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기 불순물 등과 같은 오염 물질이 잔존할 수 있다. 오염 물질은 반도체 소자의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에, 반도체 제조시에는 기판에 잔존하는 오염 물질을 제거하는 세정공정이 수행된다.In general, a semiconductor device may be manufactured by repeatedly performing deposition, photography, and etching processes using a substrate, for example, a silicon wafer. Contaminants such as various particles, metal impurities, organic impurities, and the like may remain on the substrate during the processes. Since the contaminants adversely affect the yield and reliability of the semiconductor device, a cleaning process for removing contaminants remaining on the substrate is performed during semiconductor manufacturing.
상기 세정공정을 위한 세정 방식은 크게 건식 세정 방식 및 습식(Wet) 세정 방식으로 구분될 수 있으며, 이 중에서 습식 세정 방식은 여러 가지 약액을 이용한 세정 방식으로서, 복수의 기판을 동시에 세정하는 배치식(batch type) 세정장치와 낱장 단위로 기판을 세정하는 매엽식(single wafer type) 세정장치로 구분된다.The cleaning method for the cleaning process may be largely classified into a dry cleaning method and a wet cleaning method. Among them, the wet cleaning method is a cleaning method using various chemical liquids, and a batch type for simultaneously cleaning a plurality of substrates ( batch type) It is divided into cleaning device and single wafer type cleaning device that cleans the substrate by sheet.
배치식 세정장치는 세정액이 수용된 세정조에 복수의 기판을 한꺼번에 침지시켜서 오염원을 제거한다. 그러나 기존의 배치식 세정장치는 기판의 대형화 추세 에 대한 대응이 용이하지 않고, 세정액의 사용이 많다는 단점이 있다. 또한 배치식 세정장치에서 세정공정 중에 기판이 파손될 경우 세정조 내에 있는 기판 전체에 영향을 미치게 되므로 다량의 기판 불량이 발생할 수 있는 위험이 있다.The batch type cleaning apparatus removes contaminants by immersing a plurality of substrates at once in a cleaning tank containing a cleaning liquid. However, the conventional batch cleaning apparatus has a disadvantage in that it is not easy to cope with the trend of large-sized substrate, and the use of the cleaning liquid is large. In addition, when the substrate is broken during the cleaning process in the batch type cleaning apparatus, the entire substrate in the cleaning tank is affected, so that a large amount of substrate defects may occur.
상기와 같은 이유들로 인해 최근에는 매엽식 세정장치가 선호되고 있다.For these reasons, a single sheet cleaning apparatus has recently been preferred.
매엽식 세정장치는 낱장의 기판 단위로 처리하는 방식으로서, 고속으로 회전시킨 기판 표면에 세정액을 분사함으로써, 기판의 회전에 의한 원심력과 세정액의 분사에 따른 압력을 이용하여 오염원을 제거하는 스핀 방식(spinning method)으로 세정이 진행된다.The single wafer type cleaning apparatus is a method of processing by a single substrate unit, by spraying the cleaning liquid on the substrate surface rotated at high speed, by using a centrifugal force caused by the rotation of the substrate and the pressure of the cleaning liquid to remove the contaminant source ( washing is performed by a spinning method.
통상적으로 매엽식 세정장치는 기판이 수용되어 세정공정이 수행되는 챔버와 기판을 고정시킨 상태로 회전하는 스핀척 및 기판에 약액과 린스액 및 건조가스 등을 포함하는 세정액을 공급하기 위한 노즐 어셈블리를 포함한다.Generally, the single wafer cleaning apparatus includes a spin chuck rotating in a state in which a substrate is accommodated and a substrate in which a cleaning process is performed, and a nozzle assembly for supplying a cleaning liquid including chemical liquid, rinse liquid and dry gas to the substrate. Include.
기존의 매엽식 세정장치는 챔버 내에서 스핀척이 고속으로 회전하는 기판 표면으로 세정액을 분사함으로써 기판을 세정한다. 여기서, 세정공정 동안 기판으로 분사되어 기판 표면에서 비산하는 세정액은 챔버 측부로 포집되어 회수되고, 세정공정 동안 발생하는 흄(fume)을 포함하는 배기가스는 배기부를 통해 챔버 외부로 배출된다.Conventional single wafer cleaning apparatus cleans the substrate by spraying the cleaning liquid onto the substrate surface at which the spin chuck rotates at high speed in the chamber. Here, the cleaning liquid sprayed onto the substrate during the cleaning process and scattered from the surface of the substrate is collected and recovered to the chamber side, and the exhaust gas containing the fume generated during the cleaning process is discharged out of the chamber through the exhaust part.
그런데, 기존의 세정장치는 챔버 내벽을 따라 구비된 회수컵 내측에 배기부가 구비되므로 배기부와 기판 사이의 거리가 회수컵의 길이만큼 이격되어 있어서 배기가스를 배출시키기가 어려운 문제점이 있다. 이로 인해 배기부에서 기판에 고르게 흡입력을 작용시키지 못함으로써 배기가 불균일하고 배기효율이 저하되는 문 제점이 있다.However, the conventional cleaning device has a problem that the exhaust portion is provided inside the recovery cup provided along the inner wall of the chamber, so that the distance between the exhaust portion and the substrate is separated by the length of the recovery cup, which makes it difficult to discharge the exhaust gas. As a result, there is a problem in that the exhaust is not uniform and the exhaust force is not applied evenly to the substrate so that the exhaust is not uniform and the exhaust efficiency is lowered.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 배기량을 증가시키고 배기효율을 향상시킨 기판의 매엽식 세정장치를 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and to provide a single sheet cleaning apparatus for substrates having increased displacement and improved exhaust efficiency.
또한, 본 발명은 배기부의 추가 구조를 설치하지 않고 배기부 및 챔버의 구조를 단순화할 수 있는 기판의 매엽식 세정장치를 제공하기 위한 것이다.In addition, the present invention is to provide a sheet type cleaning apparatus for a substrate that can simplify the structure of the exhaust section and the chamber without providing an additional structure of the exhaust section.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따르면, 배기효율을 향상시킨 기판의 매엽식 세정장치는, 기판을 수용하여 세정공정이 수행되는 공간을 제공하며, 세정공정 동안 상기 기판에서 비산되는 세정액을 포집하는 복수의 회수컵을 구비하고 상기 기판의 출입이 가능하도록 상부가 개방 형성된 챔버, 상기 기판이 안착되고, 상기 챔버 내부에서 회전 및 상하 방향으로 승강 이동 가능하도록 구비된 스핀척, 상기 각 회수컵 내부에서 상기 챔버 벽을 관통하여 구비되어 상기 챔버 내부의 배기가스를 배출시키는 배기부 및 상기 스핀척 상부에 이격 구비되어 상기 배기가스를 상기 배기부로 안내하는 링 형태의 베인을 구비하고, 상기 스핀척과 일체로 회전 및 승강 이동 가능하도록 상기 스핀척에 고정 구비되는 배기 가이드부를 포함하여 구성된다. 여기서, 상기 챔버는 서로 다른 종류의 세정액을 각각 포집할 수 있도록 복수의 회수컵이 상하 방향으로 다단으로 구비되고, 기판이 안착된 스핀척이 상기 회수컵에 각각 대응되는 위치에서 세정 공정이 수행된다. 그리고 상기 베인은 상기 스핀척 상부에서 상기 배기가스를 효과적으로 상기 배기부로 안내함으로써 배기 효율을 향상시킬 수 있다.According to embodiments of the present invention for achieving the above object of the present invention, the single wafer cleaning apparatus of the substrate to improve the exhaust efficiency, to provide a space in which the cleaning process is carried out by receiving the substrate, A chamber having a plurality of recovery cups for collecting the cleaning liquid scattered from the substrate, the chamber having an upper portion open to allow entry and exit of the substrate, and a substrate on which the substrate is seated, and configured to be rotatable and liftable in the chamber; A chuck, an exhaust portion provided through the chamber wall in each of the recovery cups to discharge the exhaust gas inside the chamber, and a vane having a ring shape spaced apart from an upper portion of the spin chuck to guide the exhaust gas to the exhaust portion. And an exhaust guide part fixed to the spin chuck so as to be able to rotate and move up and down integrally with the spin chuck. It is configured to. Here, the chamber is provided with a plurality of recovery cups in multiple stages in the vertical direction to collect different types of cleaning liquids, and the cleaning process is performed at positions where the spin chuck on which the substrate is seated respectively corresponds to the recovery cup. . In addition, the vane may improve the exhaust efficiency by effectively guiding the exhaust gas to the exhaust unit in the upper portion of the spin chuck.
실시예에서, 상기 배기 가이드부는, 상기 스핀척의 외주연부에 대응되는 직경을 갖는 링 형태의 베인, 상기 스핀척의 회전축에 결합되는 고정부 및 상기 고정부와 상기 베인을 결합시키고 상기 베인을 상기 스핀척 상부에 이격된 상태로 지지하는 지지부를 포함하여 구성된다.In some embodiments, the exhaust guide part may include a ring-shaped vane having a diameter corresponding to an outer periphery of the spin chuck, a fixing part coupled to a rotation shaft of the spin chuck, and a combination of the fixing part and the vane, and the vane being the spin chuck. It is configured to include a support for supporting in a spaced apart state.
실시예에서, 상기 스핀척은 상기 챔버 내부에서 상하로 승강 이동하면서 각 회수컵과 대응되는 높이에 위치하여 세정 공정이 수행되며, 상기 베인은 서로 인접하는 회수컵 사이의 거리에 대응되는 높이로 상기 스핀척 상부에 이격 구비된다. 즉, 상기 베인은 상기 스핀척에 안착된 상기 기판의 에지부에서 상기 회수컵의 단부 사이의 길이와 같거나 작은 너비를 갖는다. 예를 들어, 상기 베인과 상기 스핀척 표면 사이의 거리는 서로 이웃하는 2개의 회수컵 사이의 거리보다 같거나 작게 형성된다. 또한, 상기 베인은 상기 기판의 직접 상부에는 위치하지 않도록 상기 기판의 에지부 외측 상부에 위치하도록 형성된다. 즉, 상기 베인의 너비는 상기 스핀척에 고정된 기판의 에지부와 상기 회수컵의 단부 사이의 길이보다 작게 형성된다.In an embodiment, the spin chuck is positioned at a height corresponding to each recovery cup while moving up and down inside the chamber, and the vane is disposed at a height corresponding to a distance between adjacent recovery cups. Spacing is provided above the spin chuck. That is, the vanes have a width equal to or less than the length between the ends of the recovery cup at the edge portion of the substrate seated on the spin chuck. For example, the distance between the vane and the spin chuck surface is formed equal to or smaller than the distance between two adjacent recovery cups. In addition, the vane is formed to be located above the edge portion of the substrate so as not to be located directly above the substrate. That is, the width of the vane is formed to be smaller than the length between the edge portion of the substrate fixed to the spin chuck and the end of the recovery cup.
실시예에서, 상기 베인은 상기 스핀척 표면에 대해 수평으로 형성되거나, 외주연부를 향해 하향 경사지게 형성된다.In an embodiment, the vanes are formed horizontally with respect to the spin chuck surface or inclined downward toward the outer periphery.
실시예에서, 상기 고정부는 상기 스핀척 하부에 구비된 회전축에 결합되고, 상기 지지부는 상기 고정부와 상기 베인을 결합시키는 복수의 로드 형태를 갖는다.In an embodiment, the fixing part is coupled to a rotating shaft provided below the spin chuck, and the support part has a plurality of rod shapes for coupling the fixing part and the vane.
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본 발명에 따르면, 첫째, 배기 가이드부는 챔버가 기판 방향으로 실질적으로 연장되는 효과를 가지므로 챔버가 연장됨으로 인해 배기부에서의 배기량을 충분히 확보할 수 있으며, 챔버 내의 배기가스를 균일하게 배기시킬 수 있다.According to the present invention, firstly, the exhaust guide part has an effect that the chamber extends substantially in the direction of the substrate, and thus, the chamber can be extended to sufficiently secure the exhaust amount in the exhaust part, and the exhaust gas in the chamber can be uniformly exhausted. have.
둘째, 배기 가이드부는 스핀척과 같이 이동하므로 스핀척의 이동 및 기판의 로딩 언로딩 시 간섭이 발생하는 것을 방지한다.Second, since the exhaust guide part moves together with the spin chuck, interference is prevented when the spin chuck is moved and the substrate is unloaded.
셋째, 배기 가이드부는 스핀척에서 기판의 상부를 제외한 가장자리 부분에 구비되므로 배기 가이드부로 인해 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 세정 공정 동안 비산된 세정액이 배기 가이드부에 맺혔다가 기판으로 다시 떨어지거나 배기 가이드부에 발생할 수 있는 오염원이 기판으로 떨어지는 것으로 인해 기판이 오염되고 세정효율이 저하되는 것을 방지할 수 있다.Third, since the exhaust guide part is provided at the edge of the spin chuck except for the upper part of the substrate, the exhaust guide part can prevent the substrate from being contaminated. That is, it is possible to prevent the substrate from being contaminated and the cleaning efficiency is deteriorated due to the cleaning solution scattered during the cleaning process falling on the exhaust guide portion and falling back onto the substrate or the contamination source that may occur on the exhaust guide portion falling on the substrate.
첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다.Although the preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited or restricted by the embodiments.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 매엽식 세정장치를 설명하기 위한 단면도이다. 도 2는 도 1의 세정장치에서 배기 가이드부의 일 실시예를 설명하기 위한 사시도이고, 도 3은 도 1의 배기 가이드부의 상세 구조를 설명하기 위한 요부 단면도이다. 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배기 가이드부를 설명하기 위한 요부 단면도이다.1 is a cross-sectional view for explaining a sheet type cleaning apparatus for a substrate according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view illustrating an embodiment of an exhaust guide part in the cleaning apparatus of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view of main parts for describing a detailed structure of the exhaust guide part of FIG. 1. 4 is a cross-sectional view illustrating main parts of an exhaust guide unit according to another exemplary embodiment of the present invention.
이하에서는, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 매엽식 세정장치에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a single sheet cleaning apparatus for a substrate according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3.
도 1을 참조하면, 세정장치(100)는 기판(W)의 세정 공간을 제공하는 챔버(110)와 상기 기판(W)을 고정시켜 회전하는 스핀척(120)과 상기 스핀척(120)의 회전 및 승강 이동시키는 구동부(130) 및 상기 챔버(110) 내의 배기가스를 배출시키기 위한 배기부(140)와 배기 가이드부(150)를 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 1, the cleaning apparatus 100 includes a chamber 110 providing a cleaning space for a substrate W and a spin chuck 120 and a spin chuck 120 rotating by fixing the substrate W. Referring to FIG. The driving unit 130 rotates and moves up and down, and an exhaust unit 140 and an exhaust guide unit 150 for discharging the exhaust gas in the chamber 110 are included.
상기 챔버(110)는 기판(W)에 대한 세정 공정이 진행되는 동안 상기 기판(W) 상으로 제공되는 세정액의 비산을 방지하고 비산된 세정액을 회수하는 역할을 한다. 예를 들어, 상기 챔버(110)는 상기 스핀척(120) 둘레를 둘러싸는 보울(bowl) 형태를 갖고 상기 기판(W)의 출입이 가능하도록 상부 또는 하부가 개방되게 형성된다.The chamber 110 serves to prevent scattering of the cleaning liquid provided on the substrate W and to recover the scattered cleaning liquid while the cleaning process for the substrate W is in progress. For example, the chamber 110 has a bowl shape surrounding the spin chuck 120 and is formed to have an upper portion or an lower portion open to allow the substrate W to enter and exit.
여기서, 상기 기판(W)은 반도체 기판이 되는 실리콘 웨이퍼일 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 기판(W)은 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용으로 사용하는 유리 따위의 투명 기판일 수 있다. 또한, 상기 기판(W)은 형상 및 크기가 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 원형 및 사각형 플레이트 등 실질적으로 다양한 형상과 크기를 가질 수 있다. 상기 기판(W)에 형상 및 크기에 따라 상기 챔버(110) 및 상기 스핀척(120)의 크기와 형상 역시 변경될 수 있다.Here, the substrate W may be a silicon wafer to be a semiconductor substrate. However, the present invention is not limited thereto, and the substrate W may be a transparent substrate such as glass used for a flat panel display device such as a liquid crystal display (LCD) and a plasma display panel (PDP). In addition, the substrate W is not limited in shape and size by drawing, and may have substantially various shapes and sizes, such as circular and rectangular plates. The size and shape of the chamber 110 and the spin chuck 120 may also be changed according to the shape and size of the substrate (W).
한편, 상기 챔버(110) 내부에는 상기 기판(W)에서 비산되는 세정액을 회수하는 회수컵(111)이 형성된다. 예를 들어, 상기 챔버(110)는 상기 기판(W)에 제공되는 서로 다른 종류의 세정액을 각각 회수할 수 있도록 복수의 회수컵(111)이 다단으로 형성된다. 그리고 상기 회수컵(111)은 상기 챔버(110) 내부에서 상하 방향으로 소정 높이 이격된다.Meanwhile, a recovery cup 111 for recovering the cleaning liquid scattered from the substrate W is formed in the chamber 110. For example, in the chamber 110, a plurality of recovery cups 111 are formed in multiple stages so as to recover different types of cleaning liquids provided to the substrate W, respectively. The recovery cup 111 is spaced a predetermined height in the vertical direction in the chamber 110.
여기서, 상기 스핀척(120)은 상기 기판(W)에 분사되는 세정액에 따라 상기 회수컵(111)의 높이에 대응되는 위치로 각각 승강 이동하고, 해당 높이에서 회전함에 따라 세정 공정이 수행되면서 상기 스핀척(120)의 높이에 해당하는 회수컵(111)으로 상기 기판(W)에서 비산되는 세정액이 포집된다.Here, the spin chuck 120 is moved up and down to a position corresponding to the height of the recovery cup 111 in accordance with the cleaning liquid sprayed on the substrate (W), and the cleaning process is performed as it rotates at the height The cleaning liquid scattered from the substrate W is collected by the recovery cup 111 corresponding to the height of the spin chuck 120.
상기 스핀척(120)은 상기 기판(W)을 고정시킨 상태에서 회전 가능하도록 상기 챔버(110) 내에 구비된다. 그리고 상기 스핀척(120)은 세정 공정이 수행됨에 따라 상기 챔버(110) 내부에서 상하 방향으로 승강 이동하도록 구비된다.The spin chuck 120 is provided in the chamber 110 to be rotatable in a state where the substrate W is fixed. In addition, the spin chuck 120 is provided to move up and down in the chamber 110 as the cleaning process is performed.
상기 스핀척(120)은 상기 기판(W)에 대응되는 원형 플레이트 형태를 갖고, 상기 스핀척(120) 상면에는 상기 기판(W)이 안착되고 상기 기판(W)을 선택적으로 고정시키는 척핀(121)과 상기 스핀척(120) 하부에는 상기 스핀척(120)을 회전시키기 위한 회전축(125)을 포함하여 이루어진다.The spin chuck 120 has a circular plate shape corresponding to the substrate W, and the chuck pin 121 is mounted on the upper surface of the spin chuck 120 to selectively fix the substrate W. ) And the lower portion of the spin chuck 120 includes a rotating shaft 125 for rotating the spin chuck 120.
상기 척핀(121)은 상기 기판(W)을 상기 스핀척(120) 표면과 소정 간격 이격 지지할 수 있도록 상기 스핀척(120) 상면에서 소정 높이 돌출 구비된다. 또한, 상기 스핀척(120)은 상기 기판(W)을 안정적으로 지지할 수 있도록 복수의 척핀(121)이 규칙적으로 배치된다. 예를 들어, 상기 척핀(121)은 상기 스핀척(120)에서 상기 기판(W)의 에지(edge)부에 대응되는 원주 상에 일정 간격 이격되어 배치된다. 또한, 상기 척핀(121)은 상기 기판(W)을 안정적으로 지지할 수 있도록 적어도 3개 이상 구비된다.The chuck pin 121 protrudes a predetermined height from an upper surface of the spin chuck 120 to support the substrate W spaced apart from the surface of the spin chuck 120 by a predetermined distance. In addition, the spin chuck 120 is regularly arranged with a plurality of chuck pins 121 to support the substrate (W) stably. For example, the chuck pins 121 may be spaced apart from each other on a circumference corresponding to an edge portion of the substrate W in the spin chuck 120. In addition, at least three chuck pins 121 may be provided to stably support the substrate W.
상기 배기부(140)는 상기 회수컵(111) 내부와 각각 연통되어 상기 챔버(110) 내에서 발생한 배기가스를 상기 챔버(110) 외부로 배출시킨다.The exhaust unit 140 is in communication with each of the recovery cup 111 to discharge the exhaust gas generated in the chamber 110 to the outside of the chamber 110.
상세하게는, 상기 배기부(140)는 상기 기판(W)이 수용되어 세정이 수행되는 상기 챔버(110) 공간의 외측에 구비되고, 상기 배기부(140)와 상기 챔버(110) 내부를 연통시키는 복수의 챔버 배기구(141)가 형성된다. 상기 챔버 배기구(141)는 상기 회수컵(111) 내에서 상기 챔버(110) 벽을 관통하여 형성되며, 상기 챔버(110) 벽을 따라 일정 간격으로 복수의 홀이 형성된다.In detail, the exhaust unit 140 is provided outside the space of the chamber 110 in which the substrate W is accommodated and the cleaning is performed, and the exhaust unit 140 communicates with the inside of the chamber 110. A plurality of chamber exhaust port 141 is formed. The chamber exhaust port 141 is formed through the wall of the chamber 110 in the recovery cup 111, and a plurality of holes are formed at regular intervals along the wall of the chamber 110.
상기 배기 가이드부(150)는 상기 스핀척(120) 상부에 구비되되 상기 스핀척(120)과 상기 회수컵(111) 사이에 구비되어 배기가스를 상기 배기부(140)로 유입시킨다.The exhaust guide part 150 is provided above the spin chuck 120 and is provided between the spin chuck 120 and the recovery cup 111 to introduce exhaust gas into the exhaust part 140.
이하, 도 2와 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 배기 가이드부(150)에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the exhaust guide unit 150 according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3.
도면을 참조하면, 상기 배기 가이드부(150)는 상기 스핀척(120) 상부에 구비되어 배기가스를 상기 배기부(140)로 안내하는 베인(vane)(151)과 상기 베인(151)을 고정시키는 지지부(152) 및 고정부(153)를 포함하여 이루어진다.Referring to the drawings, the exhaust guide part 150 is provided on the spin chuck 120 to fix the vane 151 and the vane 151 for guiding the exhaust gas to the exhaust part 140. It comprises a support portion 152 and the fixing portion 153 to.
상기 베인(151)은 상기 회수컵(111)을 상기 챔버(110) 내측을 향해 실질적으로 연장시키는 역할을 함으로써 상기 배기부(140)의 흡입력이 상기 기판(W)에 보다 효과적으로 작용하도록 한다. 상세하게는, 상기 베인(151)은 상기 회수컵(111)에서 상기 챔버(110) 내측을 향해 연장될 수 있도록 상기 스핀척(120)의 외주연부에 대응되는 위치에 구비되며, 플레이트 형태를 갖고 소정 너비의 링 형태를 갖는다.The vane 151 serves to substantially extend the recovery cup 111 toward the inside of the chamber 110 so that the suction force of the exhaust unit 140 acts more effectively on the substrate (W). In detail, the vane 151 is provided at a position corresponding to an outer circumference of the spin chuck 120 so as to extend from the recovery cup 111 toward the inside of the chamber 110, and has a plate shape. It has a ring shape of a predetermined width.
상기 배기 가이드부(150)에 의해 상기 기판(W)에서 비산되는 세정액이 상기 회수컵(111)으로 유입되는 것을 방해하지 않도록 상기 고정부(153)는 상기 회전축(125)에 결합된다.The fixing part 153 is coupled to the rotation shaft 125 so that the cleaning liquid scattered from the substrate W by the exhaust guide part 150 does not prevent the cleaning liquid from flowing into the recovery cup 111.
상기 지지부(152)는 상기 고정부(153) 사이에 구비되어 상기 베인(151)을 고정시킨다. 여기서, 상기 지지부(152)는 상기 고정부(153)에서 상기 베인(151)을 상기 스핀척(120) 표면과 일정 간격 이격된 상태로 지지하되 상기 스핀척(120)의 측부에서 비산되는 세정액이 상기 회수컵(111)으로 포집되는 것을 방해하지 않도록 최소의 단면적을 갖는 것이 바람직하다.The support part 152 is provided between the fixing parts 153 to fix the vane 151. Here, the support part 152 supports the vane 151 in the fixing part 153 spaced apart from the surface of the spin chuck 120 at a predetermined interval, but the cleaning liquid is scattered from the side of the spin chuck 120. It is preferable to have a minimum cross-sectional area so as not to prevent the collection cup 111 from being collected.
예를 들어, 상기 베인(151)은 상기 스핀척(120)의 외주연부에 대응되는 링 형태를 갖고, 상기 지지부(152)는 상기 고정부(153)에서 외측으로 연장되어 상기 베인(151)까지 연장되도록 ‘L’자 형태를 갖는다. 그리고 상기 지지부(152)는 상기 베인(151)을 안정적으로 지지할 수 있도록 3개 이상의 로드가 일정 간격으로 구 비된다.For example, the vane 151 has a ring shape corresponding to the outer periphery of the spin chuck 120, and the support part 152 extends outwardly from the fixing part 153 to the vane 151. It has an 'L' shape to extend. In addition, the support part 152 is provided with three or more rods at regular intervals to stably support the vanes 151.
도 3에 도시한 바와 같이, 상기 베인(151)이 상기 기판(W)에서 비산되는 세정액이 상기 회수컵(111)으로 유입되는 것을 방해하지 않도록 상기 베인(151)은 상기 스핀척(120) 표면에서 일정 높이 상부에 구비된다. 또한, 상기 스핀척(120) 표면으로부터 상기 베인(151)까지의 높이(h)는 상기 2개의 회수컵(111) 사이의 거리(d2)보다 같거나 낮게 형성된다.As shown in FIG. 3, the vane 151 has a surface on the spin chuck 120 so that the vane 151 does not prevent the cleaning liquid scattered from the substrate W from flowing into the recovery cup 111. At a certain height is provided at the top. In addition, the height h from the surface of the spin chuck 120 to the vane 151 is formed equal to or lower than the distance d2 between the two recovery cups 111.
한편, 상기 스핀척(120)이 상기 챔버(110) 내에서 회전 및 승강 이동할 수 있도록 상기 스핀척(120)과 상기 회수컵(111) 사이는 일정 간격 이격된다. 그리고 상기 스핀척(120)의 회전 및 승강 이동시 상기 기판(W)의 에지 부분이 주변 구조물에 부딪혀서 파손되는 것을 방지하기 위해서 상기 스핀척(120)은 상기 기판(W)보다 큰 직경을 갖는다.On the other hand, the spin chuck 120 is spaced apart from the spin chuck 120 and the recovery cup 111 so that the spin chuck 120 can rotate and move up and down within the chamber 110. In addition, the spin chuck 120 has a diameter larger than that of the substrate W to prevent the edge portion of the substrate W from colliding with a peripheral structure during rotation and lifting of the spin chuck 120.
그리고 상기 베인(151)은 상기 스핀척(120)과 상기 회수컵(111)의 단부 사이에 대응되는 너비(t)를 갖는다. 바람직하게는, 상기 베인(151)은 상기 척핀(121)에서 상기 회수컵(111)의 단부까지의 거리(d1)보다 작거나 같은 너비(t)를 갖는다.The vane 151 has a width t corresponding between the spin chuck 120 and the end of the recovery cup 111. Preferably, the vane 151 has a width t less than or equal to a distance d1 from the chuck pin 121 to an end portion of the recovery cup 111.
상기 배기 가이드부(150)는 상기 스핀척(120)의 회전 및 승강 이동 시 상기 스핀척(120)과 일체로 움직이므로, 상기 배기 가이드부(150)가 상기 회수컵(111) 및 다른 구성요소들과 충돌이 발생하는 것을 방지할 수 있도록 상기 배기 가이드(150)는 상기 회수컵(111) 단부에서 일정 간격 이격되어 구비된다.Since the exhaust guide unit 150 moves integrally with the spin chuck 120 when the spin chuck 120 rotates and moves up and down, the exhaust guide unit 150 moves to the recovery cup 111 and other components. The exhaust guide 150 may be spaced apart from the end of the recovery cup 111 so as to prevent a collision with the field.
본 실시예에 따르면, 상기 베인(151)이 상기 스핀척(120)과 상기 회수컵(111) 사이에 구비됨으로써 상기 기판(W)에서 상기 회수컵(111)을 통해 상기 배기부(140)로 유입되는 배기가스의 기류를 효과적으로 형성할 수 있으며 배기효율을 향상시킨다. 또한, 상기 베인(151)이 상기 스핀척(120) 상부에서 상기 기판(W)의 직접 상부에는 위치하지 않으므로 상기 베인(151)으로 인한 오염이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 세정 공정 동안 상기 기판(W)에서 비산된 세정액이 상기 베인(151)에 맺혔다가 상기 기판(W)으로 다시 떨어져서 세정이 완료된 기판(W)을 재오염시키는 것을 방지할 수 있다.According to the present exemplary embodiment, the vane 151 is provided between the spin chuck 120 and the recovery cup 111 to pass through the recovery cup 111 from the substrate W to the exhaust unit 140. The airflow of the incoming exhaust gas can be effectively formed, and the exhaust efficiency is improved. In addition, since the vanes 151 are not positioned directly above the substrate W above the spin chuck 120, contamination due to the vanes 151 may be prevented. That is, during the cleaning process, the cleaning liquid scattered from the substrate W may form on the vane 151 and fall back to the substrate W to prevent re-contamination of the cleaned substrate W.
그러나 상기 배기 가이드부(150)가 상술한 실시예에 의해 한정되는 것은 아니며, 상기 스핀척(120) 상부에 구비되어 배기가스를 상기 배기부(140)로 안내할 수 있는 실질적으로 다양한 형태를 가질 수 있다.However, the exhaust guide part 150 is not limited to the above-described embodiment, and may be provided on the spin chuck 120 to have substantially various shapes capable of guiding exhaust gas to the exhaust part 140. Can be.
한편, 상술한 실시예의 변형된 실시예로서 도 4에 도시한 바와 같이 베인(251)을 소정 각도 경사지게 형성할 수 있다.Meanwhile, as a modified embodiment of the above-described embodiment, the vane 251 may be formed to be inclined at a predetermined angle as shown in FIG. 4.
이하에서는 도 4를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 배기 가이드부(250)에 대해 상세하게 설명하며, 상술한 실시예와 상기 배기 가이드부(250)를 제외한 다른 구성요소들은 실질적으로 동일하며, 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하고 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the exhaust guide unit 250 according to another embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 4, and other components except for the above-described embodiment and the exhaust guide unit 250 are substantially the same. Like reference numerals designate like elements and duplicate descriptions will be omitted.
상기 배기 가이드부(250)는 배기가스를 상기 회수컵(111)으로 안내하는 베인(251)과 상기 베인(251)을 고정하는 지지부(252)와 고정부(153; 도 2 참조)를 포함한다.The exhaust guide part 250 includes a vane 251 for guiding exhaust gas to the recovery cup 111, a support part 252 for fixing the vane 251, and a fixing part 153 (see FIG. 2). .
상기 고정부(252)는 상기 회전축(125)에 결합되고, 상기 지지부(252)는 상기 고정부(253)에 일단부가 결합되고 타단부는 상기 베인(251)에 결합된다. 상기 지지부(252)는 상기 베인(251)을 상기 스핀척(120)으로부터 일정 간격 이격되게 지지하고 상기 스핀척(120)의 측부에서 상기 기판(W)에서 비산되는 세정액이 상기 회수컵(111)으로 포집되는 것을 방해하지 않도록 상기 베인(251)의 외주연부를 따라 일정 간격으로 구비된 3개 이상의 로드이다.The fixing part 252 is coupled to the rotation shaft 125, the support part 252 is coupled to one end of the fixing part 253 and the other end is coupled to the vane 251. The support part 252 supports the vane 251 spaced apart from the spin chuck 120 at a predetermined interval, and the cleaning liquid scattered from the substrate W at the side of the spin chuck 120 is the recovery cup 111. At least three rods are provided at regular intervals along the outer circumference of the vane 251 so as not to prevent them from being collected.
상기 베인(251)은 상기 스핀척(120) 표면에서 일정 높이 상부에 구비되고, 상기 회수컵(111) 단부에서 상기 챔버(110) 내측으로 연장되어 상기 챔버(110) 내의 배기가스를 상기 배기부(140)로 안내한다.The vane 251 is provided at a predetermined height above the surface of the spin chuck 120 and extends into the chamber 110 from an end of the recovery cup 111 to exhaust the exhaust gas in the chamber 110. Guide 140.
여기서, 상기 베인(251)은 배기가스를 상기 회수컵(111) 내부로 유입시키는 기류를 효과적으로 형성할 수 있도록, 상기 베인(251)의 외주연부를 향해 상기 스핀척(120)의 표면에 대해 소정 각도 하향 경사지게 형성된다. 예를 들어, 상기 베인(251)의 경사는 상기 회수컵(111) 단부의 경사에 대응되게 형성된다.Here, the vane 251 is predetermined with respect to the surface of the spin chuck 120 toward the outer periphery of the vane 251 so as to effectively form an air flow for introducing exhaust gas into the recovery cup 111. The angle is formed to be inclined downward. For example, the inclination of the vane 251 is formed to correspond to the inclination of the end of the recovery cup 111.
또한, 상기 베인(251)은 상기 스핀척(120) 상부에서 배기가스를 상기 배기부(140)로 유입시키되, 상기 스핀척(120)의 회전 및 승강 이동시 상기 회수컵(111)에 충돌하지 않도록 형성된다.In addition, the vane 251 allows the exhaust gas to flow into the exhaust unit 140 from the upper portion of the spin chuck 120, so that the vane 251 does not collide with the recovery cup 111 when the spin chuck 120 rotates and moves up and down. Is formed.
상세하게는, 상기 베인(251)의 너비(t)는 상기 척핀(121)에서 상기 회수컵(111)의 단부까지의 거리(d1)보다 작거나 같은 너비를 갖는다.In detail, the width t of the vane 251 has a width smaller than or equal to the distance d1 from the chuck pin 121 to the end of the recovery cup 111.
그리고, 상기 베인(251)은 배기가스가 상기 회수컵(111) 내부로 유입되는 기류를 효과적으로 형성할 수 있도록 상기 스핀척(120) 표면에서 상기 베인(251)까지의 거리가 상기 2개의 회수컵(111) 사이의 거리(d2)보다 작거나 같도록 상기 스핀 척(120) 상부에 지지된다. 예를 들어, 상기 경사진 베인(251)에서 상기 챔버(110) 내측을 향한 단부의 높이를 h1이라 하고 상기 챔버(110) 외측을 향한 단부의 높이를 h2라 할 때, 상기 베인(251)은 h2의 높이가 상기 회수컵(111) 사이의 거리(d2)보다 작거나 같게 형성된다.In addition, the vanes 251 may have a distance from the surface of the spin chuck 120 to the vanes 251 to effectively form an air flow in which exhaust gas flows into the recovery cup 111. It is supported on the spin chuck 120 to be less than or equal to the distance (d2) between (111). For example, when the height of the end portion toward the inside of the chamber 110 in the inclined vane 251 is h1 and the height of the end portion toward the outside of the chamber 110 is h2, the vane 251 is The height of h2 is smaller than or equal to the distance d2 between the recovery cups 111.
본 실시예에 따르면, 상기 배기 가이드부(250)는 상기 회수컵(111)을 상기 챔버(110) 내측으로 실질적으로 연장시킴으로써 상기 배기부(140)에서의 배기량을 증가시키고 배기효율을 향상시킨다. 또한, 상기 배기 가이드부(250)는 경사진 베인(251)을 구비함으로써 상기 회수컵(111) 및 상기 배기부(140)로 유입되는 배기가스의 기류를 효과적으로 형성할 수 있다.According to the present exemplary embodiment, the exhaust guide part 250 substantially extends the recovery cup 111 to the inside of the chamber 110, thereby increasing the exhaust amount in the exhaust part 140 and improving the exhaust efficiency. In addition, the exhaust guide part 250 may include an inclined vane 251 to effectively form an air flow of the exhaust gas flowing into the recovery cup 111 and the exhaust part 140.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.As described above, although described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 매엽식 세정장치의 단면도;1 is a cross-sectional view of a sheet type cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention;
도 2는 도 1의 세정장치에서 배기 가이드부의 일 예를 설명하기 위한 사시도;2 is a perspective view for explaining an example of the exhaust guide unit in the cleaning device of FIG.
도 3은 도 1의 세정장치에서 배기 가이드부의 상세 구조를 설명하기 위한 요부 단면도;3 is a cross-sectional view of a main portion for explaining a detailed structure of the exhaust guide unit in the cleaning device of FIG. 1;
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배기 가이드부의 상세 구조를 설명하기 위한 요부 단면도이다.4 is a sectional view showing the main parts of a detailed structure of an exhaust guide unit according to another exemplary embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100: 세정장치 110: 챔버100: cleaning device 110: chamber
111: 회수컵 120: 스핀척111: recovery cup 120: spin chuck
121: 척핀 125: 회전축121: chuck pin 125: axis of rotation
130: 구동부 140: 배기부130: drive unit 140: exhaust unit
141: 챔버 배기구 150: 배기 가이드부141: chamber exhaust port 150: exhaust guide portion
151: 베인(vane) 152: 지지부151: vane 152: support
153: 고정부 W: 기판153: fixing portion W: substrate

Claims (8)

  1. 기판에서 비산되는 세정액을 포집하는 복수의 회수컵이 상하 방향으로 다단으로 구비되고, 상부가 개방된 챔버;A chamber in which a plurality of recovery cups collecting the cleaning liquid scattered from the substrate are provided in multiple stages in the vertical direction and having an upper portion open;
    상기 기판이 안착되고, 상기 챔버 내부에서 회전 및 상하 방향으로 승강 이동 가능하도록 구비된 스핀척;A spin chuck on which the substrate is seated, the spin chuck being rotatably moved up and down in the chamber;
    상기 각 회수컵 내부에서 상기 챔버 벽을 관통하여 구비되어 상기 챔버 내부의 배기가스를 배출시키는 배기부; 및An exhaust unit provided through the chamber wall in each of the recovery cups to discharge exhaust gas in the chamber; And
    상기 스핀척 상부에 이격 구비되어 상기 배기가스를 상기 배기부로 안내하는 링 형태의 베인을 구비하고, 상기 스핀척과 일체로 회전 및 승강 이동 가능하도록 상기 스핀척에 고정 구비되는 배기 가이드부;An exhaust guide part disposed at an upper portion of the spin chuck and having a ring-shaped vane for guiding the exhaust gas to the exhaust part, the exhaust guide part being fixed to the spin chuck so as to be able to rotate and move up and down integrally with the spin chuck;
    를 포함하는 기판의 매엽식 세정장치.Single sheet type cleaning apparatus including a substrate.
  2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 배기 가이드부는,The exhaust guide unit,
    상기 스핀척의 외주연부에 대응되는 직경을 갖는 링 형태의 베인;Ring-shaped vanes having a diameter corresponding to the outer periphery of the spin chuck;
    상기 스핀척의 회전축에 결합되는 고정부; 및A fixed part coupled to the rotating shaft of the spin chuck; And
    상기 고정부와 상기 베인을 결합시키고, 상기 베인을 상기 스핀척 상부에 이격된 상태로 지지하는 지지부;A support unit for coupling the fixing unit and the vane to support the vane while being spaced apart from the upper portion of the spin chuck;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 매엽식 세정장치.Single sheet cleaning apparatus for a substrate comprising a.
  3. 삭제delete
  4. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 스핀척은 상기 챔버 내부에서 상하로 승강 이동하면서 각 회수컵과 대응되는 높이에 위치하여 세정 공정이 수행되며,The spin chuck is positioned at a height corresponding to each recovery cup while moving up and down inside the chamber, and a cleaning process is performed.
    상기 베인은 서로 인접하는 회수컵 사이의 거리에 대응되는 높이로 상기 스핀척 상부에 이격 구비된 것을 특징으로 하는 기판의 매엽식 세정장치.The vane is single wafer cleaning apparatus, characterized in that spaced above the spin chuck at a height corresponding to the distance between the recovery cups adjacent to each other.
  5. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 베인의 너비는 상기 스핀척에 고정된 기판의 에지부와 상기 회수컵의 단부 사이의 길이보다 작은 것을 특징으로 하는 기판의 매엽식 세정장치.And the width of the vane is smaller than a length between an edge of the substrate fixed to the spin chuck and an end of the recovery cup.
  6. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 베인은 상기 스핀척 표면에 대해 평행하게 형성되거나 외주연부를 향해 하향 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 기판의 매엽식 세정장치.And the vanes are formed parallel to the surface of the spin chuck or inclined downward toward the outer periphery.
  7. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 고정부는 상기 스핀척 하부에 구비된 회전축에 결합되고, 상기 지지부는 상기 고정부와 상기 베인을 결합시키는 복수의 로드 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 기판의 매엽식 세정장치.The fixing unit is coupled to the rotating shaft provided on the lower portion of the spin chuck, the support unit is a single wafer cleaning apparatus, characterized in that the plurality of rods for coupling the fixing portion and the vane.
  8. 삭제delete
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