KR100969701B1 - Device for treating toxic gas and method for treating toxic gas - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A process apparatus and a process method of hazardous gas are provided to minimize the danger of the hazardous gas being leaked by simplifying the transfer path of the hazardous gas, and to reduce the processing cost. CONSTITUTION: A process apparatus of hazardous gas comprises the following: a first reactor pre-treating the hazardous gas by oxidizing Sox, Coy, and their compound contained in the hazardous gas, after being supplied with the hazardous gas and compressed air; and a second reactor neutralizing the hazardous gas by spraying a mixture including oxygen and sodium hydroxide solution. The second reactor includes a sodium hydroxide solution supply unit(114), an oxygen supply unit, a mixture sprayer(116) spraying the mixture of the oxygen and the sodium hydroxide solution, a water film generator(117), and a hazardous gas supply unit.

Description

유해 가스 처리 장치 및 유해 가스 처리 방법{ DEVICE FOR TREATING TOXIC GAS AND METHOD FOR TREATING TOXIC GAS }DEVICE FOR TREATING TOXIC GAS AND METHOD FOR TREATING TOXIC GAS}

본 발명은 유해 가스 처리 장치 및 유해 가스 처리 방법에 관한 것으로, 특히 SOx와 COy를 다량 함유하고 있는 유해 가스 처리 장치 및 유해 가스 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a noxious gas treatment apparatus and a noxious gas treatment method, and more particularly, to a noxious gas treatment apparatus and a noxious gas treatment method containing a large amount of SO x and CO y .

유해 가스는 눈에 띄는 독성은 없으나 농도에 따라서 위험이 따르는 가스, 이산화탄소나 메탄 등을 포함하는 배출 가스 등을 말하는 것으로, 화석 연료의 사용이 증가하고, 화학 산업이 발달함에 따라 그 발생량이 증가하고 있으며, 쓰레기 등을 소각하여 폐기할 때도 발생할 수 있다. 유해 가스는 대기를 오염시켜 오존층이 파괴, 지구 온난화, 이상 기후의 발현 및 예상하지 못했던 질병을 야기시키는 바, 대기 오염의 예방을 위한 다양한 형태의 연구 개발이 절실히 요구되고 있는 실정이다.Toxic gas refers to a gas that does not have noticeable toxicity but has a risk depending on the concentration, and an exhaust gas containing carbon dioxide or methane. The amount of fossil fuel increases and the amount of its generation increases as the chemical industry develops. It may also occur when incineration and disposal of waste. Hazardous gases contaminate the air, causing the ozone layer to be destroyed, global warming, abnormal weather, and unexpected diseases. Therefore, various forms of research and development are needed to prevent air pollution.

대기 오염을 최소화하기 위해서 대기를 정화하도록 녹지 공간을 확보하고, 다양한 형태로 정화 작업을 실시하는 동시에, 오염원에서 발생되는 유해 가스의 방 출을 최소화하는 처리 방법이 다양한 형태로 시도되고 있다.In order to minimize air pollution, various methods have been attempted to secure green spaces to purify the air, purify the work in various forms, and minimize the emission of harmful gases generated from the pollutant.

일반적으로 유해 가스의 처리 방법은 유해 가스를 유발시키는 각종 공장이나 아파트 단지 등에서 대기 오염 방지 시설을 갖춰 놓고 유해 가스의 유해 성분을 제거하여 배출하도록 하고 있으나, 이러한 방법은 주로 필터를 이용하여 유해 성분을 포집하는 정도에 불과하여, 유해 가스로 인한 대기 오염을 예방하기에는 미흡한 점이 있다.In general, the method of treating harmful gases is equipped with air pollution prevention facilities in various factories or apartment complexes that cause harmful gases, and the harmful components of the harmful gases are removed and discharged. However, these methods mainly use filters to remove harmful components. It is only collected, and it is insufficient to prevent air pollution from harmful gases.

유해 가스의 처리 효율을 향상시키기 위해서 유해 가스를 중화시킬 수 있는 처리제를 사용하여 처리제가 유해가스 내부에 유해 성분과 반응하여 침전물로 생성되게 한 다음, 그 침전물을 수집하여 매립하거나 폐기 처리하는 방법이 채택되고 있으나, 이 또한 매립으로 인한 수질 오염과 토양 오염을 동시에 유발하는 문제점이 있다.In order to improve the treatment efficiency of harmful gases, a treatment agent capable of neutralizing the harmful gas is used to react with the harmful components inside the harmful gas to form a precipitate, and then the precipitate is collected and landfilled or disposed of. Although it is adopted, this also has the problem of causing water pollution and soil pollution at the same time.

최근에는 침전물의 발생을 최소화하면서 유해 가스의 처리 효율을 상승시키는 기술로서, 대한민국 특허출원번호 제10-2001-0005020호가 개시된 바 있다. Recently, Korean Patent Application No. 10-2001-0005020 has been disclosed as a technique for increasing the treatment efficiency of harmful gases while minimizing the generation of sediment.

그러나, 대한민국 특허출원번호 제10-2001-0005020호는 유해 가스에 냉각 수단으로 냉각된 유해 성분 처리제를 분사하여 중화하고, 중화시 잔존 유해 성분을 고열에 의해 제거하는 것으로, 냉각 수단, 중화 수단 및 가열 수단이 필요하여 장치가 증대되어 설치 공간이 확대되는 문제점이 있고, 처리제를 냉각하고, 중화 시에 분사하며, 다시 고열로 가열하는 과정을 거침에 따라 처리 과정이 복잡하고, 공정이 증대되며, 냉각, 가열 및 분사에 따른 처리 비용이 증대되는 문제점이 있다.However, the Republic of Korea Patent Application No. 10-2001-0005020 is to neutralize by spraying the harmful component treatment agent cooled by the cooling means to the harmful gas, and to remove the residual harmful components by the high temperature during the neutralization, cooling means, neutralizing means and There is a problem in that the installation space is increased due to the need for heating means, and the installation space is increased, and the treatment process is complicated and the process is increased by cooling the treatment agent, spraying it upon neutralization, and heating it to high heat again. There is a problem that the processing cost due to cooling, heating and spraying is increased.

또한, 대한민국 특허출원번호 제10-2001-0005020호는 처리제를 보관하여 냉 각하는 탱크와, 1차 반응조, 2차 반응조 및 여과 수단을 구비하여야 하고, 각 공정 간에 연결되는 관을 형성하여야 함으로써, 가스 이송에 비용이 증대하고, 이송거리가 길어져 누출에 의한 안전 사고가 발생할 위험성이 증대되며, 공급된 유해 가스를 일차로 처리제를 통해서 처리하고, 이차로 고열로 가열하는 것으로 가열 중에 가스가 연소되면서 처리 오염 물질이 다시 발생함에 따라 유해 가스에 연소 오염물이 포함됨으로써, 처리 효율이 감소된다는 문제점이 있다.In addition, the Republic of Korea Patent Application No. 10-2001-0005020 should be provided with a tank for storing and cooling the treatment agent, the primary reactor, the secondary reactor and the filtering means, by forming a tube connected between each process, Increasing the cost of gas transfer, increasing the transport distance, and increasing the risk of a safety accident due to leakage, treating the supplied harmful gas through the treatment agent first, and heating it to a high temperature in the second time, thereby burning the gas during heating. As the treatment pollutants are generated again, combustion pollutants are included in the harmful gas, thereby reducing the treatment efficiency.

본 발명의 목적은 유해 가스의 이송 경로를 단순화하여 유해 가스의 유출 위험을 최소화하고, 공정을 단순화하여 처리비용을 감소시키면서도, 유해 가스의 처리 효율 및 여과 효율을 증대시키며, 특히 SOx 또는 COy를 다량으로 포함하는 유해 가스도 효율적으로 처리할 수 있는 유해 가스 처리 장치 및 유해 가스 처리 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to simplify the transport path of harmful gases to minimize the risk of leakage of harmful gases, and to simplify the process to reduce the treatment cost, while increasing the treatment efficiency and filtration efficiency of harmful gases, in particular SO x or CO y It is an object of the present invention to provide a noxious gas treatment device and a noxious gas treatment method capable of efficiently treating a noxious gas containing a large amount thereof.

본 발명의 일 실시예에 따른 유해 가스 처리 장치는 유해 가스와 압축 공기를 공급 받아, 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시켜 전처리하는 제1 반응기, 그리고 상기 제1 반응기에서 전처리된 유해 가스를 공급 받아, 수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물을 분사하여 유해 가스를 중화시키는 제2 반응기를 포함한다.An apparatus for treating hazardous gases according to an embodiment of the present invention is supplied with hazardous gases and compressed air, and includes SO x (x is an integer of 1 to 3) and CO y (y is an integer of 1 or 2) included in the hazardous gas. ), And a first reactor for oxidizing and pre-treating any one selected from the group consisting of these, and the harmful gas pretreated in the first reactor, and spraying a mixture of aqueous sodium hydroxide solution and oxygen to produce noxious gas. And a second reactor to neutralize.

상기 제1 반응기는 몸체, 상기 몸체의 상부에 위치하며, 상기 유해 가스를 공급하는 유해 가스 공급부, 상기 몸체의 상부에 위치하며, 상기 압축 공기를 공급하는 압축 공기 공급부, 그리고 상기 몸체 하부에 위치하며, 상기 전처리된 유해 가스를 배출하는 유해 가스 배출부를 포함할 수 있다. 상기 몸체는 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아질 수 있다.The first reactor is located in the body, the upper portion of the body, the harmful gas supply unit for supplying the harmful gas, located in the upper portion of the body, the compressed air supply unit for supplying the compressed air, and located in the lower body It may include a harmful gas discharge unit for discharging the pre-treated harmful gas. The body may be narrower from the top to the bottom.

상기 제2 반응기는 상기 수산화나트륨 수용액을 공급하는 수산화나트륨 수용액 공급부, 상기 산소를 공급하는 산소 공급부, 상기 수산화 나트륨 수용액과 상기 산소의 혼합물을 상기 제2 반응기 내부로 분사하는 혼합 분사부, 상기 혼합 분사부에서 분사된 상기 혼합물이 수막을 형성하도록 하는 망을 포함하는 수막 형성부, 그리고 상기 수막 형성부 하부에서 상기 유해 가스를 공급하는 유해 가스 공급부를 포함할 수 있다.The second reactor is a sodium hydroxide aqueous solution supply unit for supplying the aqueous sodium hydroxide solution, an oxygen supply unit for supplying the oxygen, a mixed injection unit for injecting a mixture of the sodium hydroxide aqueous solution and the oxygen into the second reactor, the mixed powder It may include a water film forming unit including a network for forming the water film by the mixture injected from the sand, and a harmful gas supply unit for supplying the harmful gas from the lower portion of the water film forming unit.

상기 수막 형성부의 망의 그물코의 가로 및 세로 크기는 8 내지 12 mm일 수 있다.The horizontal and vertical sizes of the mesh of the water film forming unit may be 8 to 12 mm.

상기 유해 가스 처리 장치는 상기 제1 반응기와 상기 제2 반응기 사이에 위치하며, 상기 제1 반응기에서 전처리된 유해 가스와 산소를 공급 받아, 상기 전처리된 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시켜 산화 처리하는 제3 반응기를 더 포함할 수 있다.The noxious gas treatment device is located between the first reactor and the second reactor, receives the noxious gas and oxygen pretreated in the first reactor, SO x (x is 1 To an integer of 3 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2), and a combination thereof may further include a third reactor for oxidizing and oxidizing any one selected from the group.

상기 제3 반응기는 몸체, 상기 몸체 상부에 위치하며, 상기 전처리된 유해 가스를 공급하는 전처리 유해 가스 공급부, 상기 몸체 상부에 위치하며, 상기 산소를 공급하는 산소 공급부, 그리고 상기 몸체 하부에 위치하며, 산화 처리된 유해 가스를 배출하는 유해 가스 배출부를 포함할 수 있다. 상기 몸체는 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아질 수 있다.The third reactor is located in the body, the upper portion of the body, the pre-treatment harmful gas supply unit for supplying the pre-treated harmful gas, located in the upper portion of the body, the oxygen supply portion for supplying the oxygen, and is located in the lower body, It may include a noxious gas discharge portion for discharging the oxidized harmful gas. The body may be narrower from the top to the bottom.

상기 유해 가스 처리 장치는 상기 제2 반응기에서 중화된 유해 가스를 공급 받아, 여과망에 안치된 카본 필터를 통과시켜 유해 물질을 흡착시키는 제4 반응기를 더 포함할 수 있다.The harmful gas treatment device may further include a fourth reactor that receives the harmful gas neutralized in the second reactor and passes the carbon filter placed in the filter network to adsorb the harmful substances.

상기 카본 필터는 직경이 2.4 내지 4.7mm인 탄소 알갱이를 1 내지 1.5 m의 높이로 적층하여 이루어질 수 있다.The carbon filter may be formed by stacking carbon particles having a diameter of 2.4 to 4.7 mm at a height of 1 to 1.5 m.

본 발명의 다른 일 실시예에 따른 유해 가스 처리 방법은 제1 반응기에 유해 가스와 압축 공기를 공급하여, 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시키는 유해 가스 전처리 단계, 그리고 상기 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스를 제2 반응기에 공급하고, 수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물을 분사하여 유해 가스를 중화하는 유해 가스 정화 단계를 포함할 수 있다. According to another exemplary embodiment of the present invention, a method for treating harmful gases is provided by supplying harmful gases and compressed air to a first reactor, so that SO x (x is an integer of 1 to 3) and CO y (y is 1 or 2), and a toxic gas pretreatment step of oxidizing any one selected from the group consisting of these, and the toxic gas pretreated in the toxic gas pretreatment step are supplied to the second reactor, A harmful gas purification step may be included, which injects a mixture of oxygen to neutralize the noxious gas.

상기 유해 가스 전처리 단계에서 상기 압축 공기는 3 내지 5kg/cm2으로 압축되어 공급될 수 있다.In the noxious gas pretreatment step, the compressed air may be compressed and supplied at 3 to 5 kg / cm 2 .

상기 유해 가스 전처리 단계에서 상기 유해 가스와 상기 압축 공기는 1 : 1 내지 1.5 : 1의 부피비로 공급될 수 있다.In the noxious gas pretreatment step, the noxious gas and the compressed air may be supplied in a volume ratio of 1: 1 to 1.5: 1.

상기 유해 가스 처리 방법은 상기 유해 가스 전처리 단계와 상기 유해 가스 정화 단계 사이에 제3 반응기에 상기 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스와 산소를 공급하여, 전처리된 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어 느 하나를 산화시키는 유해 가스 산화 단계를 더 포함할 수 있다.To the toxic gases processing method supplies the noxious gas and the oxygen in the pre-treatment in the said hazardous gas pre-treatment step to the third reactor between said harmful gas purifying stage and the harmful gas pre-treatment step, SO that is included in the pre-treatment of hazardous gas x ( x may further comprise a noxious gas oxidation step of oxidizing any one selected from the group consisting of 1 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2), and combinations thereof.

상기 유해 가스 산화 단계에서 상기 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스와 산소는 1 : 1.5 내지 1 : 2의 부피비로 공급될 수 있다.The noxious gas and oxygen pretreated in the noxious gas pretreatment step in the noxious gas oxidation step may be supplied in a volume ratio of 1: 1.5 to 1: 2.

상기 유해 가스 정화 단계는 상기 수산화나트륨 수용액과 상기 산소가 혼합되어 혼합물이 되는 혼합 단계, 상기 혼합물이 상기 제2 반응기 내부에 설치된 복수의 혼합 분사부를 통하여 제2 반응기 내부로 분사되는 분사 단계, 상기 제2 반응기 내부로 분사된 혼합물이 상기 혼합 분사부의 상부에 망 형태로 구비된 수막 형성부에 의하여 수막을 형성하는 수막 형성 단계, 상기 유해 가스가 상기 제2 반응기 내부로 공급되는 공급 단계, 그리고 상기 제2 반응기 내부로 공급된 유해 가스가 상기 수막을 통과하면서 상기 유해 가스에 포함된 유해 성분이 중화되는 중화 단계를 포함할 수 있다.The harmful gas purifying step includes a mixing step in which the sodium hydroxide aqueous solution and the oxygen are mixed to form a mixture, the spraying step of injecting the mixture into the second reactor through a plurality of mixing injectors installed in the second reactor, 2 A water film forming step of forming a water film by the water film forming unit provided in the form of a net in the upper portion of the mixing spray unit in the reactor, the supplying step of supplying the harmful gas into the second reactor, and the second 2 may include a neutralization step of neutralizing the harmful components contained in the harmful gas while the harmful gas supplied into the reactor passes through the water film.

상기 혼합 단계에 제조된 상기 혼합물은 pH 8 내지 9일 수 있다.The mixture prepared in the mixing step may be pH 8 to 9.

상기 혼합 단계에서 상기 산소는 상기 유해 가스 100 부피부에 대하여 3 내지 4.5 부피부로 공급될 수 있다.In the mixing step, the oxygen may be supplied in 3 to 4.5 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the noxious gas.

상기 유해 가스 정화 단계는 상기 중화 단계에서 중화된 유해 가스가 제4 반응기에 공급되어, 제4 반응기 내부의 여과망에 안치된 카본 필터를 통과하며 여과될 수 되는 여과 단계를 더 포함할 수 있다.The noxious gas purification step may further include a filtration step in which the noxious gas neutralized in the neutralization step is supplied to the fourth reactor, and can be filtered while passing through a carbon filter placed in a filtration network inside the fourth reactor.

본 발명의 유해 가스 처리 장치 및 유해 가스 처리 방법은 유해 가스의 이송 경로를 단순화하여 유해 가스의 유출 위험을 최소화하고, 공정을 단순화하여 처리 비용을 감소시키면서도, 유해 가스의 처리 효율 및 여과 효율을 증대시킨다. 특히, 유해 가스 처리 방법은 SOx 또는 COy를 다량으로 포함하는 유해 가스도 효율적으로 처리할 수 있다.The harmful gas treatment apparatus and the harmful gas treatment method of the present invention simplify the transportation path of the harmful gas to minimize the risk of harmful gas leakage, and simplify the process to reduce the treatment cost and increase the treatment efficiency and filtration efficiency of the harmful gas. Let's do it. In particular, the harmful gas treatment method may handle efficiently even harmful gas containing SO x or y CO in a large amount.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. Like parts are designated by like reference numerals throughout the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유해 가스 처리 장치의 구성도이고, 도 2는 도 1의 유해 가스 처리 장치에서 중화 반응기와 여과 반응기를 나타내는 절단 사시도이다.1 is a block diagram of a hazardous gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a cut perspective view showing a neutralization reactor and a filtration reactor in the harmful gas treatment apparatus of FIG.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유해 가스 처리 장치(1)는 전처리 반응기(10)와 중화 반응기(110)를 포함하며, 선택적으로 전처리 반응기(10)와 중화 반응기(110) 사이에 산화 반응기(20)를 더 포함할 수 있고, 중화 반응기(110) 다음에 여과 반응기(120)를 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the noxious gas treatment device 1 according to an embodiment of the present invention includes a pretreatment reactor 10 and a neutralization reactor 110, and optionally a pretreatment reactor 10 and a neutralization reactor 110. An oxidation reactor 20 may be further included therebetween, and the neutralization reactor 110 may further include a filtration reactor 120.

전처리 반응기(10)는 유해 가스와 압축 공기를 공급 받아, 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시켜 유해 가스를 전처리한다.Pre-treatment reactor 10 when supplied with compressed air and noxious gases, SO x contained in the harmful gas (x is an integer of 1 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2), and combinations thereof The toxic gas is pretreated by oxidizing any one selected from the group consisting of:

전처리 반응기(10)는 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 몸체(11)를 포함한다. 즉, 상기 몸체(11)는 깔때기 형상일 수 있다. 또한, 전처리 반응기(10)는 몸체(11)의 상부로 유해 가스를 공급하는 유해 가스 공급부(12) 및 몸체(11)의 상부로 압축 공기를 공급하는 압축 공기 공급부(13)를 포함한다.The pretreatment reactor 10 includes a body 11 that becomes narrower from top to bottom. That is, the body 11 may be a funnel shape. In addition, the pretreatment reactor 10 includes a harmful gas supply unit 12 for supplying harmful gas to the upper portion of the body 11 and a compressed air supply unit 13 for supplying compressed air to the upper portion of the body 11.

전처리 반응기(10)의 몸체(11) 상부로 공급된 유해 가스와 압축 공기는 몸체(11) 하부로 내려가면서 혼합되고 반응한다. 이때, 전처리 반응기(10)의 몸체(11)가 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아져 유해 가스와 압축 공기가 회오리 치도록 하여 혼합 효율을 높일 수 있다.The harmful gas and compressed air supplied to the upper part of the body 11 of the pretreatment reactor 10 are mixed and reacted while descending to the lower part of the body 11. At this time, the body 11 of the pretreatment reactor 10 becomes narrower from the top to the bottom so that the noxious gas and the compressed air are twisted to improve the mixing efficiency.

전처리 반응기(10)에서 배출된 유해 가스는 선택적으로 산화 반응기(20)를 더 거칠 수 있다.The noxious gas discharged from the pretreatment reactor 10 may optionally pass further through the oxidation reactor 20.

산화 반응기(20)는 전처리 반응기(10)에서 배출된 유해 가스와 산소를 공급 받아, 전처리된 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시킨다.Oxidation reactor 20 receives the harmful gas and oxygen discharged from the pretreatment reactor 10, SO x (x is an integer of 1 to 3), CO y (y is 1 or 2 included in the pretreated harmful gas) Is an oxidized), and any one selected from the group consisting of a combination thereof.

산화 반응기(20)는 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 몸체(21)를 포함한다. 즉, 몸체(21)는 깔때기 형상일 수 있다. 또한, 산화 반응기(20)는 몸체(21)의 상부로 전처리된 유해 가스를 공급하는 전처리 유해 가스 공급부(22) 및 몸체(21)의 상부로 산소를 공급하는 산소 공급부(23)를 포함한다.The oxidation reactor 20 includes a body 21 that becomes narrower from top to bottom. That is, the body 21 may be a funnel shape. In addition, the oxidation reactor 20 includes a pretreatment harmful gas supply unit 22 for supplying the harmful gas pretreated to the upper portion of the body 21 and an oxygen supply unit 23 for supplying oxygen to the upper portion of the body 21.

산화 반응기(20)의 몸체(21) 상부로 공급된 유해 가스와 산소는 몸체(21) 하 부로 내려가면서 혼합되고 반응한다. 이때, 산화 반응기(20)의 몸체(21)가 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아져 유해 가스와 산소가 회오리 치도록 하여 혼합 효율을 높일 수 있다.The harmful gas and oxygen supplied to the upper portion of the body 21 of the oxidation reactor 20 are mixed and reacted while descending to the lower portion of the body 21. At this time, the body 21 of the oxidation reactor 20 is narrowed from the upper side to the lower side so that the harmful gas and oxygen tornoe can increase the mixing efficiency.

중화 반응기(110)는 전처리 반응기(10)에서 전처리된 유해 가스를 공급 받아, 수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물을 분사하여 유해 가스를 중화시킨다.The neutralization reactor 110 receives the harmful gas pretreated in the pretreatment reactor 10 and neutralizes the harmful gas by spraying a mixture of aqueous sodium hydroxide solution and oxygen.

중화 반응기(110)는 내측 하부에 수산화나트륨과 물이 혼합된 수산화나트륨 수용액(113)을 보관할 수 있다. 중화 반응기(110) 하부에 보관된 수산화나트륨 수용액(113)은 수산화나트륨 수용액 공급부(114)를 통해서 혼합 분사부(116)로 공급된다. 또한, 산소는 산소 공급부(115)를 통하여 혼합 분사부(116)로 공급된다.The neutralization reactor 110 may store an aqueous sodium hydroxide solution 113 in which sodium hydroxide and water are mixed in an inner lower portion thereof. The sodium hydroxide aqueous solution 113 stored under the neutralization reactor 110 is supplied to the mixing injection unit 116 through the sodium hydroxide aqueous solution supply unit 114. Oxygen is also supplied to the mixed injector 116 through the oxygen supply 115.

수산화나트륨 수용액 공급 장치(114)와 산소 공급 장치(115)의 관로는 혼합 분사부(116) 입구에서 합쳐져 수산화나트륨 수용액(113)과 산소는 혼합 분사부(116)로 공급됨과 동시에 혼합되어 수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물이 된다. 그러나 수산화나트륨 수용액과 산소는 혼합된 후 혼합 분사부(116)에 공급될 수도 있으며, 혼합 분사부(116)에 각각 공급된 후 혼합 분사부(116) 내에서 혼합될 수도 있고, 중화 반응기(110) 내부로 분사되며 혼합될 수도 있다.The pipelines of the sodium hydroxide aqueous solution supply device 114 and the oxygen supply device 115 are combined at the inlet of the mixing jetting unit 116 so that the sodium hydroxide aqueous solution 113 and the oxygen are supplied to the mixing jetting unit 116 and mixed at the same time. It is a mixture of aqueous solution and oxygen. However, the sodium hydroxide aqueous solution and oxygen may be mixed and then supplied to the mixing injecting unit 116, respectively, and then supplied to the mixing injecting unit 116, and then mixed in the mixing injecting unit 116, and the neutralization reactor 110. ) May be sprayed inside and mixed.

수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물은 중화 반응기(110) 내부에 설치된 복수의 혼합 분사부(116)를 통하여 중화 반응기(110) 내부로 분사되고, 중화 반응기(110) 내부로 분사된 혼합물은 혼합 분사부(116)의 상부에 망 형태로 구비된 수막 형성부(117)에 의하여 수막을 형성한다.The mixture of aqueous sodium hydroxide solution and oxygen is injected into the neutralization reactor 110 through a plurality of mixing injectors 116 installed in the neutralization reactor 110, and the mixture injected into the neutralization reactor 110 is mixed injector. A water film is formed by the water film forming unit 117 provided in the form of a net on the top of 116.

수막 형성부(117)의 망의 그물코의 가로 및 세로 크기는 8 내지 12 mm일 수 있다. 수막 형성부(117)의 망의 그물코의 가로 및 세로 크기가 8mm 미만이 되면 그물코의 크기가 너무 조밀하여 수막이 형성되지 않고 방울이 맺히게 되며, 12mm를 초과하면 간극이 넓어서 수막이 형성되지 못할 수 있다.The width and length of the mesh of the mesh of the water film forming unit 117 may be 8 to 12 mm. When the width and length of the mesh of the mesh of the water film forming portion 117 is less than 8 mm, the size of the mesh is too dense to form a water film without forming a water film, and when it exceeds 12 mm, the water film may not be formed due to a wide gap. .

수막이 형성되면, 중화 반응기(116) 하부에 설치된 유해 가스 공급부(112)로 유해 가스를 공급하여, 유해 가스가 수막을 통과하면서 유해 가스에 포함된 유해 성분이 중화되도록 한다.When the water film is formed, the harmful gas is supplied to the harmful gas supply unit 112 installed below the neutralization reactor 116, so that the harmful components contained in the harmful gas are neutralized while the harmful gas passes through the water film.

중화 반응기(110)에서 배출된 유해 가스는 선택적으로 여과 반응기(120)를 더 거칠 수 있다. The noxious gas discharged from the neutralization reactor 110 may optionally pass further through the filtration reactor 120.

중화 반응기 배출부(118)를 통하여 중화 반응기(110)에서 배출된 유해 가스는 여과 반응기 공급부(122)를 통하여 여과 반응기(120) 내부로 공급되고, 여과 반응기(120) 내부에 설치된 여과망(123) 위에 안치된 카본 필터(124)를 통과한다. 카본 필터(124)는 유해 가스에 포함된 유해 성분을 흡착시켜 제거한다. 여과된 유해 가스는 여과 반응기 배출부(125)를 통하여 여과 반응기(120)로부터 배출된다.The harmful gas discharged from the neutralization reactor 110 through the neutralization reactor discharge part 118 is supplied into the filtration reactor 120 through the filtration reactor supply part 122, and the filtering network 123 installed inside the filtration reactor 120. It passes through the carbon filter 124 settled above. The carbon filter 124 adsorbs and removes harmful components contained in the harmful gas. The filtered noxious gas is discharged from the filtration reactor 120 through the filtration reactor outlet 125.

카본 필터(124)는 직경이 2.4 내지 4.7mm인 탄소 알갱이를 1 내지 1.5 m의 높이로 적층하여 이루어질 수 있다. 탄소 알갱이의 직경이 5mm 미만이면 유해 가스의 투과 효율이 저하되고, 10mm를 초과하면 여과 효율이 감소될 수 있다. 이러한 탄소 알갱이를 사용하는 경우 그 적층 높이가 1 내지 1.5 m 정도이면 충분한 여과 공간이 확보되어 여과 효율이 향상될 수 있다.The carbon filter 124 may be formed by stacking carbon particles having a diameter of 2.4 to 4.7 mm to a height of 1 to 1.5 m. If the diameter of the carbon grains is less than 5 mm, the permeation efficiency of the noxious gas is lowered, and if it exceeds 10 mm, the filtration efficiency may be reduced. In the case of using such carbon grains, if the stacking height is about 1 to 1.5 m, sufficient filtration space can be secured and the filtration efficiency can be improved.

도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 유해 가스 처리 방법을 나타내는 공정도이다.Figure 3 is a process chart showing a harmful gas treatment method according to another embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 유해 가스 처리 방법은 유해 가스 전처리 단계(S10)와 유해 가스 정화 단계(S20)를 포함한다.Referring to FIG. 3, the hazardous gas treatment method includes a hazardous gas pretreatment step S10 and a hazardous gas purification step S20.

유해 가스는 유해 가스 정화 단계(S20)에서 수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물에 의하여 중화되어 무해 가스가 된다. 그런데, 유해 가스에 SOx 또는 COy가 다량 혼합되어 있는 경우, 유해 가스 정화 단계(S20)에 의해서도 완전히 무해한 가스로 정화하는 것이 어려운 경우가 많다.The noxious gas is neutralized by a mixture of aqueous sodium hydroxide solution and oxygen in the noxious gas purifying step (S20) to become a harmless gas. By the way, if it is mixed in a large amount of harmful gas or the SO x CO y, in many cases it is difficult to purify a completely harmless gas by the harmful gas purifying step (S20).

이에 유해 가스를 유해 가스 정화 처리(S20)하기 전에 유해 가스에 포함된 SOx 또는 COy를 산화시키는 유해 가스 전처리 단계(S10)를 거치게 된다.Therefore, before the harmful gas purification process (S20), the hazardous gas pretreatment step (S10) of oxidizing SO x or CO y contained in the harmful gas is performed.

유해 가스 전처리 단계(S10)는 전처리 반응기에 유해 가스와 압축 공기를 공급하여, 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시킨다.Noxious gas pre-treatment step (S10) by the pre-treatment reactor feed the toxic gas and compressed air, SO x contained in the harmful gas (x is an integer of 1 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2), And any one selected from the group consisting of a combination thereof.

전처리 반응기에서는 주로 하기 화학식 1 내지 화학식 4와 같이 SOx 또는 COy의 산화 반응이 진행되며, 주로 화학식 1의 SO2의 산화 반응과 화학식 3의 CO의 산화 반응이 진행된다.In the pretreatment reactor, the oxidation reaction of SO x or CO y is mainly performed as in the following Chemical Formulas 1 to 4, and the oxidation of SO 2 of Chemical Formula 1 and the oxidation of CO of Chemical Formula 3 are mainly performed.

[화학식 1][Formula 1]

2SO2 + O2 → 2SO3 2SO 2 + O 2 → 2SO 3

[화학식 2][Formula 2]

2SO3 + O2 → 2SO4 2SO 3 + O 2 → 2SO 4

[화학식 3](3)

2CO + O2 → 2CO2 2CO + O 2 → 2CO 2

[화학식 4][Formula 4]

2CO2 + O2 → 2CO3 2CO 2 + O 2 → 2CO 3

유해 가스 전처리 단계(S10)에서 압축 공기는 3kg/cm2 이상으로 압축되어 공급될 수 있고, 3 내지 5kg/cm2로 압축되어 공급될 수 있다. 또한, 유해 가스와 압축 공기는 1 : 1 내지 1.5 : 1의 부피비로 공급할 수 있다.In the noxious gas pretreatment step (S10), the compressed air may be compressed and supplied to 3 kg / cm 2 or more, and compressed and supplied to 3 to 5 kg / cm 2 . In addition, the noxious gas and the compressed air can be supplied in a volume ratio of 1: 1 to 1.5: 1.

공기를 상기 범위로 압축하는 경우 유해 가스에 포함되어 있는 SOx와 COy와의 반응성을 최대화할 수 있으며, 압축 공기의 압축 정도는 유해 가스의 성분에 의하여 조절하는 것이 가능하고, 유해 가스가 SOx와 COy를 많이 함유하고 있을수록 압축 정도를 높이는 것이 바람직하다.When the air is compressed to the above range, it is possible to maximize the reactivity between SO x and CO y contained in the harmful gas, the degree of compression of the compressed air can be controlled by the composition of the harmful gas, the harmful gas is SO x It is preferable to increase the degree of compression as it contains more and CO y .

유해 가스와 압축 공기의 공급 부피비는 압축 공기의 압축 정도에 따라 적절하게 조절할 수 있으며, 상기 부피비로 유해 가스와 압축 공기를 공급할 경우 유해 가스의 전처리 효율을 최대화할 수 있다.The supply volume ratio of the noxious gas and the compressed air can be properly adjusted according to the degree of compression of the compressed air, and when the noxious gas and the compressed air are supplied at the volume ratio, the pretreatment efficiency of the noxious gas can be maximized.

유해 가스 전처리 단계(S10)에서 전처리된 유해 가스는 선택적으로 유해 가스 산화 단계(S15)를 더 거칠 수 있다. 즉, 유해 가스에 포함되어 있는 SOx 또는 COy의 함량이 많을 경우 유해 가스 전처리 단계(S10)에서의 압축 공기와의 반응만으 로 충분히 SOx 또는 COy를 제거할 수 없는 경우가 있다. 이런 경우 유해 가스 산화 단계(S15)를 더 거치도록 할 수 있다.The noxious gas pretreated in the noxious gas pretreatment step S10 may optionally be further subjected to the noxious gas oxidation step S15. That is, it may not be enough to remove the SO x or CO y as when the contents of SO x or CO y that is included in the harmful gas, only the reaction of the compressed air in the harmful gas pre-treatment step (S10) coming. In this case, it may be further subjected to the harmful gas oxidation step (S15).

유해 가스 산화 단계(S15)는 산화 반응기에 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스와 산소를 공급하여, 전처리된 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시킨다. Noxious gas oxidation step (S15) supplies a hazardous gas and oxygen pretreated in hazardous gas pre-treatment step in the oxidation reactor, SO x contained in the pre-treatment of hazardous gases (x is an integer of 1 to 3), CO y (y Oxidizes any one selected from the group consisting of 1 or 2), and combinations thereof.

산화 반응기에서는 상기 화학식 1 내지 화학식 4와 같은 SOx 또는 COy의 산화 반응이 진행되며, 주로 화학식 2의 SO3의 산화 반응과 화학식 4의 CO2의 산화 반응이 진행된다.In the oxidation reactor, the oxidation reaction of SO x or CO y as in Chemical Formulas 1 to 4 is performed, and the oxidation reaction of SO 3 of Chemical Formula 2 and the oxidation of CO 2 of Chemical Formula 4 are mainly performed.

유해 가스 산화 단계(S15)에서, 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스와 산소는 1 : 1.5 내지 1 : 2의 부피비로 공급될 수 있다. 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스와 산소의 공급 부피비가 상기 범위 미만인 경우 산소의 함량이 부족하여 남아 있는 SOx를 충분히 산화시킬 수 없으며, 상기 범위를 초과하는 경우 SOx 또는 COy를 충분히 산화시키고 남을 만큼의 산소가 공급되어 공정 비용을 낭비하게 될 수 있다.In the noxious gas oxidation step S15, the noxious gas and oxygen pretreated in the noxious gas pretreatment step may be supplied in a volume ratio of 1: 1.5 to 1: 2. The SO x remaining due to insufficient amount of oxygen can not be sufficiently oxidized if the supplying volume of the hazardous gas and the oxygen pretreated in hazardous gas pre-treatment step is below the above range, if it exceeds the above range, the oxidation of SO x or CO y enough As much oxygen can be supplied as possible, the process cost can be wasted.

유해 가스 정화 단계(S20)는 수산화나트륨 수용액과 산소가 혼합되어 혼합물이 되는 혼합 단계, 혼합물이 중화 반응기 내부에 설치된 복수의 혼합 분사부를 통하여 중화 반응기 내부로 분사되는 분사 단계, 중화 반응기 내부로 분사된 혼합물이 혼합 분사부의 상부에 망 형태로 구비된 수막 형성부에 의하여 수막을 형성하는 수막 형성 단계, 유해 가스가 중화 반응기 내부로 공급되는 공급 단계, 그리고 중화 반응기 내부로 공급된 유해 가스가 수막을 통과하면서 유해 가스에 포함된 유해 성분이 중화되는 중화 단계를 포함한다.Hazardous gas purification step (S20) is a mixing step in which the sodium hydroxide aqueous solution and oxygen are mixed to form a mixture, the injection step of the mixture is injected into the neutralization reactor through a plurality of mixing injectors installed in the neutralization reactor, injected into the neutralization reactor A water film forming step of forming a water film by a water film forming unit provided in a net form in the upper portion of the mixing spray unit, a supplying step in which harmful gas is supplied into the neutralization reactor, and a harmful gas supplied into the neutralization reactor passes through the water film. While neutralizing the harmful components contained in the harmful gas.

수산화나트륨 수용액과 산소는 혼합되어 혼합물을 이루고(S20-1), 혼합 분사부로 공급된다. 수산화나트륨 수용액은 산도가 알칼리인 것이 바람직하며, 특히 pH가 8 내지 9로 유지될 때 유해 가스 분해 성능을 향상시킬 수 있다.The sodium hydroxide aqueous solution and oxygen are mixed to form a mixture (S20-1), and is supplied to the mixing jetting unit. The aqueous sodium hydroxide solution preferably has an acidity of alkali, and can improve the harmful gas decomposition performance, especially when the pH is maintained at 8 to 9.

수산화나트륨 수용액과 혼합되어 혼합물을 이루는 산소는 유해 가스 공급량 100 부피부에 대하여 3 내지 4.5 부피부로 공급될 수 있다. 산소의 공급량이 유해 가스 공급량 100 부피부에 대하여 3 부피부 미만인 경우 중화 속도가 저하되고, 4.5 부피부를 초과하여 공급되면 산소 포화도가 증대되어 수산화나트륨의 중화 효율이 감소될 수 있다.Oxygen mixed with the aqueous sodium hydroxide solution to form the mixture may be supplied in 3 to 4.5 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the harmful gas supply. When the supply amount of oxygen is less than 3 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the harmful gas supply, the neutralization rate is lowered. When the amount is supplied in excess of 4.5 parts by volume, the oxygen saturation may be increased to reduce the neutralization efficiency of sodium hydroxide.

수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물은 혼합 분사부를 통하여 중화 반응기 내부로 분사되고(S20-2), 중화 반응기 내부로 분사된 혼합물은 혼합 분사부의 상부에 망 형태로 구비된 수막 형성부에 의하여 수막을 형성한다(S20-3).The mixture of aqueous sodium hydroxide solution and oxygen is injected into the neutralization reactor through the mixing sprayer (S20-2), and the mixture injected into the neutralization reactor forms the water film by the water film forming unit provided in the form of a net on the mixing sprayer. (S20-3).

수막이 형성되면, 중화 반응기 하부로 공급된 유해 가스(S20-4)가 수막을 통과하면서 유해 가스에 포함된 유해 성분이 중화되도록 한다(S20-5).When the water film is formed, the harmful gas (S20-4) supplied to the lower portion of the neutralization reactor passes through the water film to neutralize the harmful components contained in the harmful gas (S20-5).

중화 단계(S20-5)에서 중화되는 유해 성분은 주로 F, Cl, NOx, SOx, CO, H2S 등이다. 이러한 유해 성분은 하기 화학식 5 내지 10과 같은 반응에 의하여 무해 성분으로 변화된다.The harmful components neutralized in the neutralization step (S20-5) are mainly F, Cl, NO x , SO x , CO, H 2 S and the like. These harmful components are changed into harmless components by a reaction such as the following Chemical Formulas 5 to 10.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

NaOH + HF → NaF + H2ONaOH + HF → NaF + H 2 O

[화학식 6][Formula 6]

NaOH + HCl → NaCl + H2ONaOH + HCl → NaCl + H 2 O

[화학식 7][Formula 7]

NaOH + HNO3 → Na2NO3 + H2ONaOH + HNO 3 → Na 2 NO 3 + H 2 O

[화학식 8][Formula 8]

2NaOH + H2SO4 → Na2SO4 + H2O2NaOH + H 2 SO 4 → Na 2 SO 4 + H 2 O

[화학식 9][Formula 9]

2NaOH + H2CO3 → Na2CO3 + H2O2NaOH + H 2 CO 3 → Na 2 CO 3 + H 2 O

[화학식 10][Formula 10]

2NaOH + H2S → Na2S + H2O2NaOH + H 2 S → Na 2 S + H 2 O

중화 반응기(110)에서 배출된 유해 가스는 선택적으로 여과 단계(S20-6)를 더 거칠 수 있다. 여과 단계(S20-6)에서는 유해 가스를 여과망에 안치된 카본 필터를 통과시켜 유해 성분을 흡착시켜 제거한다.The harmful gas discharged from the neutralization reactor 110 may optionally go through a filtration step (S20-6). In the filtration step (S20-6), the harmful gas is passed through a carbon filter placed in the filter network to remove the harmful components by adsorption.

이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들을 제시한다. 다만, 하기 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 것에 불과하며, 이로서 본 발 명이 제한되어서는 아니 된다. 또한, 여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are merely to illustrate or explain the present invention in detail, and thus the present invention is not limited thereto. In addition, the description is not described herein, so those skilled in the art that can be sufficiently technically inferred the description thereof will be omitted.

(참고예 1)(Reference Example 1)

내부에 혼합 분사부와 수막 형성부를 구비한 중화 반응기에 pH가 8.5인 수산화나트륨 수용액과 산소를 공급하되, 산소를 유해 가스 100 부피부에 대하여 3 부피부로 공급하여 수막을 형성하였다. 이 때, 수막 형성부의 망의 그물코의 가로 및 세로 길이는 10mm로 하였다.An aqueous sodium hydroxide solution having a pH of 8.5 and oxygen were supplied to a neutralization reactor having a mixing spray part and a water film forming part therein, and oxygen was supplied to 3 parts by volume with respect to 100 parts by volume of a harmful gas to form a water film. At this time, the horizontal and vertical lengths of the meshes of the network of the water film forming portion were 10 mm.

내부에 4.7 mm크기의 탄소 알갱이를 1.25m의 높이로 적층하여 형성된 카본 필터를 포함하는 여과 반응기를 준비하였다.A filtration reactor including a carbon filter formed by stacking 4.7 mm sized carbon grains at a height of 1.25 m was prepared.

유해 가스를 1273.8 mg/Sm3로 중화 반응기에 투입하여 유해 가스를 중화시킨 후, 여과 반응기에 투입하여 흡착시켜 처리하였다.Toxic gas was introduced into the neutralization reactor at 1273.8 mg / Sm 3 to neutralize the noxious gas, and then introduced into the filtration reactor to be adsorbed and treated.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 1에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 1 below.

[표 1]TABLE 1

성상 Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급전 측정치Pre-supply measurements 배출후 측정치Post discharge 비고Remarks 먼지dust 100(12) mg/Sm3 100 (12) mg / Sm 3 119.6 mg/Sm3 119.6 mg / Sm 3 3.2 mg/Sm3 3.2 mg / Sm 3 배출가스량
1273.8 mg/Sm3
Emissions
1273.8 mg / Sm 3
황산화물Sulfur oxide 300(12)ppm300 (12) ppm 23.4 ppm23.4 ppm 0 ppm0 ppm 질소화합물Nitrogen compounds 200 ppm200 ppm 129.0 ppm129.0 ppm 1.0 ppm1.0 ppm 일산화탄소carbon monoxide 600(12) ppm600 (12) ppm 5000.0 ppm5000.0 ppm 17.0 ppm17.0 ppm 염화수소Hydrogen chloride 50(12) ppm50 (12) ppm 3.763 ppm3.763 ppm 0.379 ppm0.379 ppm 암모니아ammonia 100100 불검출Not detected 불검출Not detected 페놀화합물Phenolic Compound 1010 불검출Not detected 불검출Not detected

상기 표 1을 참조하면, 유해 가스를 중화 반응기와 여과 반응기에 투입함으 로써 각종 유해 성분의 함량이 줄어들었음을 알 수 있다.Referring to Table 1, it can be seen that the content of various harmful components was reduced by introducing the harmful gas into the neutralization reactor and the filtration reactor.

(실시예 1)(Example 1)

유해 가스에 3kg/cm2로 압축된 압축 공기를 1.5 : 1의 부피비로 가하여 전처리하고, 전처리한 유해 가스에 산소를 1 : 1.5의 부피비로 가하여 산화 처리한 후, 중화 반응기와 여과 반응기한 것을 제외하고는 참고예 1과 동일하게 실시하여 유해 가스를 처리하였다.Compressed air compressed at 3 kg / cm 2 to the noxious gas was added at a volume ratio of 1.5: 1, and oxygenated was added to the pre-treated noxious gas at a volume ratio of 1.5: 1, except that the neutralization reactor and the filtration reactor were subjected to oxidation. Then, it carried out similarly to the reference example 1, and treated hazardous gas.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 2에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 2 below.

[표 2] TABLE 2

성상 Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급전 측정치Pre-supply measurements 배출후 측정치Post discharge measurement 비고Remarks 먼지dust 100(12) mg/Sm3 100 (12) mg / Sm 3 119.6 mg/Sm3 119.6 mg / Sm 3 2.1 mg/Sm3 2.1 mg / Sm 3 배출가스량
1273.8 mg/Sm3
Emissions
1273.8 mg / Sm 3
황산화물Sulfur oxide 300(12)ppm300 (12) ppm 23.4 ppm23.4 ppm 0 ppm0 ppm 질소화합물Nitrogen compounds 200 ppm200 ppm 129.0 ppm129.0 ppm 0.8 ppm0.8 ppm 일산화탄소carbon monoxide 600(12) ppm600 (12) ppm 5000.0 ppm5000.0 ppm 8.3 ppm8.3 ppm 염화수소Hydrogen chloride 50(12) ppm50 (12) ppm 3.763 ppm3.763 ppm 0.239 ppm0.239 ppm 암모니아ammonia 100100 불검출Not detected 불검출Not detected 페놀화합물Phenolic Compound 1010 불검출Not detected 불검출Not detected

상기 표 2를 참조하면, 실시예 1의 경우가 참고예 1의 경우에 비하여 전체적으로 유해 성분이 더 제거되었음을 알 수 있으며, 특히 황산화물과 일산화탄소의 함량이 크게 감소하였음을 알 수 있다.Referring to Table 2, it can be seen that the case of Example 1 was further removed more harmful components as compared to the case of Reference Example 1, in particular, it can be seen that the content of sulfur oxides and carbon monoxide significantly reduced.

(참고예 2)(Reference Example 2)

내부에 혼합 분사부와 수막 형성부를 구비한 중화 반응기에 pH가 8.5인 수산화나트륨 수용액과 산소를 공급하되, 산소를 유해 가스 100 부피부에 대하여 4.4 부피부로 공급하여 수막을 형성하였다. 이 때, 수막 형성부의 망의 그물코의 가로 및 세로 길이는 10mm로 하였다. An aqueous sodium hydroxide solution having a pH of 8.5 and oxygen were supplied to a neutralization reactor having a mixing spray part and a water film forming part therein, and oxygen was supplied to 4.4 parts by volume with respect to 100 parts by volume of harmful gas to form a water film. At this time, The width and length of the mesh of the mesh of the water film forming part were 10 mm.

내부에 4.7 mm크기의 탄소 알갱이를 1.25m의 높이로 적층하여 형성된 카본 필터를 포함하는 여과 반응기를 준비하였다.A filtration reactor including a carbon filter formed by stacking 4.7 mm sized carbon grains at a height of 1.25 m was prepared.

유해 가스를 1518.5 mg/Sm3로 중화 반응기에 투입하여 유해 가스를 중화시킨 후, 여과 반응기에 투입하여 흡착시켜 처리하였다.The harmful gas was introduced into the neutralization reactor at 1518.5 mg / Sm 3 to neutralize the noxious gas, and then introduced into the filtration reactor to be adsorbed and treated.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 3에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 3 below.

[표 3][Table 3]

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 비고Remarks 먼지dust 100(12) mg/Sm3 100 (12) mg / Sm 3 402.3 mg/Sm3 402.3 mg / Sm 3 6.2 mg/Sm3 6.2 mg / Sm 3 배출가스량
1518.5 mg/Sm3
Emissions
1518.5 mg / Sm 3
황산화물Sulfur oxide 300(12) ppm300 (12) ppm 2000.0 ppm2000.0 ppm 2.0 ppm2.0 ppm 질소산화물Nitrogen oxide 200 ppm200 ppm 60.0 ppm60.0 ppm 1.0 ppm1.0 ppm 일산화탄소carbon monoxide 600(12) ppm600 (12) ppm 4000.0 ppm4000.0 ppm 40.0 ppm40.0 ppm

상기 표 3을 참조하면, 유해 가스를 중화 반응기와 여과 반응기에 투입함으로써 각종 유해 성분의 함량이 줄어들었음을 알 수 있다.Referring to Table 3, it can be seen that the content of various harmful components was reduced by introducing the harmful gas into the neutralization reactor and the filtration reactor.

(실시예 2)(Example 2)

유해 가스에 4kg/cm2로 압축된 압축 공기를 1.25 : 1의 부피비로 가하여 전처리하고, 전처리한 유해 가스에 산소를 1 : 1.75의 부피비로 가하여 산화 처리한 후, 중화 반응기와 여과 반응기한 것을 제외하고는 참고예 2와 동일하게 실시하여 유해 가스를 처리하였다.Compressed air compressed at 4 kg / cm 2 to the noxious gas was added at a volume ratio of 1.25: 1, and oxygenated was added to the pre-treated noxious gas at a volume ratio of 1: 1.75, and then neutralized and filtered. Then, it carried out similarly to the reference example 2, and treated hazardous gas.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 4에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 4 below.

[표 4][Table 4]

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 비고Remarks 먼지dust 100(12) mg/Sm3 100 (12) mg / Sm 3 402.3 mg/Sm3 402.3 mg / Sm 3 3.1 mg/Sm3 3.1 mg / Sm 3 배출가스량
1518.5 mg/Sm3
Emissions
1518.5 mg / Sm 3
황산화물Sulfur oxide 300(12) ppm300 (12) ppm 2000.0 ppm2000.0 ppm 0.93 ppm0.93 ppm 질소산화물Nitrogen oxide 200 ppm200 ppm 60.0 ppm60.0 ppm 0.81 ppm0.81 ppm 일산화탄소carbon monoxide 600(12) ppm600 (12) ppm 4000.0 ppm4000.0 ppm 23.0 ppm23.0 ppm

상기 표 4를 참조하면, 실시예 2의 경우가 참고예 2의 경우에 비하여 전체적으로 유해 성분이 더 제거되었음을 알 수 있으며, 특히 황산화물과 일산화탄소의 함량이 크게 감소하였음을 알 수 있다.Referring to Table 4, it can be seen that the case of Example 2 was removed more harmful components as a whole compared to the case of Reference Example 2, in particular, it can be seen that the content of sulfur oxides and carbon monoxide significantly reduced.

(참고예 3)(Reference Example 3)

내부에 혼합 분사부와 수막 형성부를 구비한 중화 반응기에 pH가 8.5인 수산화나트륨 수용액과 산소를 공급하되, 산소를 유해 가스 100 부피부에 대하여 4.6 부피부로 공급하여 수막을 형성하였다. 이 때, 수막 형성부의 망의 그물코의 가로 및 세로 길이는 10mm로 하였다.An aqueous sodium hydroxide solution having a pH of 8.5 and oxygen were supplied to a neutralization reactor having a mixing spray unit and a water film forming unit therein, and oxygen was supplied to 4.6 parts by volume based on 100 parts by volume of harmful gas to form a water film. At this time, The width and length of the mesh of the mesh of the water film forming part were 10 mm.

내부에 4.7 mm크기의 탄소 알갱이를 1.25m의 높이로 적층하여 형성된 카본 필터를 포함하는 여과 반응기를 준비하였다.A filtration reactor including a carbon filter formed by stacking 4.7 mm sized carbon grains at a height of 1.25 m was prepared.

유해 가스를 1537.2 mg/Sm3로 중화 반응기에 투입하여 유해 가스를 중화시킨 후, 여과 반응기에 투입하여 흡착시켜 처리하였다.The noxious gas was introduced into the neutralization reactor at 1537.2 mg / Sm 3 to neutralize the noxious gas, and then, the noxious gas was adsorbed into the filtration reactor and treated.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 5에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 5 below.

[표 5]TABLE 5

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 비고Remarks 먼지dust 100(12) mg/Sm3 100 (12) mg / Sm 3 396.0 mg/Sm3 396.0 mg / Sm 3 4.3 mg/Sm3 4.3 mg / Sm 3 배출가스량
1537.2 mg/Sm3
Emissions
1537.2 mg / Sm 3
황산화물Sulfur oxide 300(12) ppm300 (12) ppm 1980.0 ppm1980.0 ppm 4.0 ppm4.0 ppm 질소산화물Nitrogen oxide 200 ppm200 ppm 70.0 ppm70.0 ppm 4.0 ppm4.0 ppm 일산화탄소carbon monoxide 600(12) ppm600 (12) ppm 3600.0 ppm3600.0 ppm 3.0 ppm3.0 ppm

상기 표 5를 참조하면, 유해 가스를 중화 반응기와 여과 반응기에 투입함으로써 각종 유해 성분의 함량이 줄어들었음을 알 수 있다.Referring to Table 5, it can be seen that the content of various harmful components is reduced by introducing the harmful gas into the neutralization reactor and the filtration reactor.

(실시예 3)(Example 3)

유해 가스에 5kg/cm2로 압축된 압축 공기를 1 : 1의 부피비로 가하여 전처리하고, 전처리한 유해 가스에 산소를 1 : 2의 부피비로 가하여 산화 처리한 후, 중화 반응기와 여과 반응기한 것을 제외하고는 참고예 2와 동일하게 실시하여 유해 가스를 처리하였다.Compressed air compressed at 5 kg / cm 2 to the noxious gas was added at a volume ratio of 1: 1, and oxygenated was added to the pre-treated noxious gas at a volume ratio of 1: 2, except that it was neutralized and filtered. Then, it carried out similarly to the reference example 2, and treated hazardous gas.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 6에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 6 below.

[표 6]TABLE 6

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 비고Remarks 먼지dust 100(12) mg/Sm3 100 (12) mg / Sm 3 396.0 mg/Sm3 396.0 mg / Sm 3 2.1 mg/Sm3 2.1 mg / Sm 3 배출가스량
1537.2 mg/Sm3
Emissions
1537.2 mg / Sm 3
황산화물Sulfur oxide 300(12) ppm300 (12) ppm 1980.0 ppm1980.0 ppm 1.8 ppm1.8 ppm 질소산화물Nitrogen oxide 200 ppm200 ppm 70.0 ppm70.0 ppm 3.5 ppm3.5 ppm 일산화탄소carbon monoxide 600(12) ppm600 (12) ppm 3600.0 ppm3600.0 ppm 1.1 ppm1.1 ppm

상기 표 6을 참조하면, 실시예 2의 경우가 참고예 2의 경우에 비하여 전체적으로 유해 성분이 더 제거되었음을 알 수 있으며, 특히 황산화물과 일산화탄소의 함량이 크게 감소하였음을 알 수 있다.Referring to Table 6, it can be seen that the case of Example 2 was removed more harmful components as a whole compared to the case of Reference Example 2, it can be seen that the content of sulfur oxides and carbon monoxide in particular significantly reduced.

(실시예 4)(Example 4)

유해 가스에 3kg/cm2로 압축된 압축 공기를 1.5 : 1의 부피비로 가하여 전처리하고, 전처리한 유해 가스에 산소를 1 : 1.5의 부피비로 가하여 산화 처리하였다.Compressed air compressed at 3 kg / cm 2 was added to the noxious gas at a volume ratio of 1.5: 1, and oxygen was added to the pretreated noxious gas at a volume ratio of 1: 1.5 for oxidation.

내부에 혼합 분사부와 수막 형성부를 구비한 중화 반응기에 pH가 8.5인 수산화나트륨 수용액과 산소를 공급하되, 산소를 유해 가스 100 부피부에 대하여 3 부피부로 공급하여 수막을 형성하였다. 이 때, 수막 형성부의 망의 그물코의 가로 및 세로 길이는 10mm로 하였다.An aqueous sodium hydroxide solution having a pH of 8.5 and oxygen were supplied to a neutralization reactor having a mixing spray part and a water film forming part therein, and oxygen was supplied to 3 parts by volume with respect to 100 parts by volume of a harmful gas to form a water film. At this time, the horizontal and vertical lengths of the meshes of the network of the water film forming portion were 10 mm.

내부에 4.7 mm크기의 탄소 알갱이를 1.25m의 높이로 적층하여 형성된 카본 필터를 포함하는 여과 반응기를 준비하였다.A filtration reactor including a carbon filter formed by stacking 4.7 mm sized carbon grains at a height of 1.25 m was prepared.

전처리 및 산화 처리한 유해 가스를 1537.2 mg/Sm3로 중화 반응기에 투입하여 유해 가스를 중화시킨 후, 여과 반응기에 투입하여 흡착시켜 처리하였다.Hazardous gases pretreated and oxidized were added to the neutralization reactor at 1537.2 mg / Sm 3 to neutralize the hazardous gases and then adsorbed to the filtration reactor for treatment.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 7에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 7 below.

[표 7]TABLE 7

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부 측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 포르말린formalin 20 ppm20 ppm 525.51 ppm525.51 ppm 0.079 ppm0.079 ppm 톨투엔Toltoen 현재기준없음No current standard 1245.5 ppm1245.5 ppm 불검출Not detected 암모니아ammonia 100 ppm100 ppm 650.45 ppm650.45 ppm 0.85 ppm0.85 ppm 염화수소Hydrogen chloride 50(12) ppm50 (12) ppm 8.257 ppm8.257 ppm 0.433 ppm0.433 ppm 벤젠benzene 50 ppm50 ppm 315.05 ppm315.05 ppm 0.08 ppm0.08 ppm

(실시예 5)(Example 5)

상기 실시예 4에서 유해 가스에 3kg/cm2로 압축된 압축 공기를 1.5 : 1의 부피비로 가하여 전처리한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일하게 실시하여 유해 가스를 처리하였다.In Example 4, the harmful gas was treated in the same manner as in Example 4 except that the compressed air compressed at 3 kg / cm 2 was added to the noxious gas at a volume ratio of 1.5: 1.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 8에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 8 below.

[표 8][Table 8]

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부 측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 포르말린formalin 20 ppm20 ppm 525.51 ppm525.51 ppm 0.054 ppm0.054 ppm 톨투엔Toltoen 현재기준없음No current standard 1245.5 ppm1245.5 ppm 불검출Not detected 암모니아ammonia 100 ppm100 ppm 650.45 ppm650.45 ppm 0.79 ppm0.79 ppm 염화수소Hydrogen chloride 50(12) ppm50 (12) ppm 8.257 ppm8.257 ppm 0.321 ppm0.321 ppm 벤젠benzene 50 ppm50 ppm 315.05 ppm315.05 ppm 0.06 ppm0.06 ppm

(실시예 6)(Example 6)

상기 실시예 4에서 유해 가스에 3kg/cm2로 압축된 압축 공기를 0.5 : 1의 부피비로 가하여 전처리한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일하게 실시하여 유해 가스를 처리하였다.In Example 4, the harmful gas was treated in the same manner as in Example 4 except that the compressed air compressed at 3 kg / cm 2 was added to the noxious gas at a volume ratio of 0.5: 1.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 9에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 9 below.

[표 9]TABLE 9

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부 측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 포르말린formalin 20 ppm20 ppm 525.51 ppm525.51 ppm 0.061 ppm0.061 ppm 톨투엔Toltoen 현재기준없음No current standard 1245.5 ppm1245.5 ppm 불검출Not detected 암모니아ammonia 100 ppm100 ppm 650.45 ppm650.45 ppm 0.65 ppm0.65 ppm 염화수소Hydrogen chloride 50(12) ppm50 (12) ppm 8.257 ppm8.257 ppm 0.357 ppm0.357 ppm 벤젠benzene 50 ppm50 ppm 315.05 ppm315.05 ppm 0.04 ppm0.04 ppm

(실시예 7)(Example 7)

상기 실시예 4에서 유해 가스에 3kg/cm2로 압축된 압축 공기를 2 : 1의 부피비로 가하여 전처리한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일하게 실시하여 유해 가스를 처리하였다.In Example 4, the harmful gas was treated in the same manner as in Example 4 except that the compressed air compressed at 3 kg / cm 2 was added to the noxious gas at a volume ratio of 2: 1.

유해 가스를 처리한 결과를 하기 표 10에 정리하였다.The results of treating the noxious gas are summarized in Table 10 below.

[표 10]TABLE 10

성상Constellation 배출허용기준Emission allowance standard 공급부 측정치Supply measurement 배출부 측정치Outlet measurement 포르말린formalin 20 ppm20 ppm 525.51 ppm525.51 ppm 0.088 ppm0.088 ppm 톨투엔Toltoen 현재기준없음No current standard 1245.5 ppm1245.5 ppm 불검출Not detected 암모니아ammonia 100 ppm100 ppm 650.45 ppm650.45 ppm 0.83 ppm0.83 ppm 염화수소Hydrogen chloride 50(12) ppm50 (12) ppm 8.257 ppm8.257 ppm 0.513 ppm0.513 ppm 벤젠benzene 50 ppm50 ppm 315.05 ppm315.05 ppm 0.07 ppm0.07 ppm

상기 표 7 내지 10을 참조하면, 상기 실시예 5 및 실시예 6의 유해 가스 처리 결과가 실시예 4 및 실시예 7의 유해 가스 처리 결과 보다 우수한 것을 알 수 있다. 이것은 실시예 5 및 실시예 6의 경우 유해 가스와 압축 공기의 부피비가 1 : 1 내지 1.5 : 1 이내인 반면, 실시예 4 및 실시예 7의 경우 유해 가스와 압축 공기의 부피비가 1 : 1 내지 1.5 : 1을 벗어나기 때문인 것으로 생각된다. Referring to Tables 7 to 10, it can be seen that the harmful gas treatment results of Examples 5 and 6 are superior to the harmful gas treatment results of Examples 4 and 7. This means that in the case of Examples 5 and 6, the volume ratio of the noxious gas and the compressed air is within 1: 1 to 1.5: 1, while in the case of Examples 4 and 7, the volume ratio of the noxious gas and the compressed air is 1: 1 to 1. It seems to be because the deviation is 1.5: 1.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유해 가스 처리 장치의 구성도이다.1 is a block diagram of an apparatus for treating hazardous gas according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 유해 가스 처리 장치에서 중화 반응기와 여과 반응기를 나타내는 절단 사시도이다.FIG. 2 is a cut perspective view illustrating a neutralization reactor and a filtration reactor in the apparatus for treating harmful gas of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 유해 가스 처리 방법을 나타내는 공정도이다.Figure 3 is a process chart showing a harmful gas treatment method according to another embodiment of the present invention.

<도면 부호의 설명> &Lt; Description of reference numerals &

1 : 유해 가스 처리 장치 10 : 전처리 반응기1: hazardous gas treatment device 10: pretreatment reactor

11 : 몸체 12 : 유해 가스 공급부11 body 12 harmful gas supply unit

13 : 압축 공기 공급부 20 : 산화 반응기13 compressed air supply 20 oxidation reactor

21 : 산소 공급부 22 : 전처리 유해 가스 공급부21: oxygen supply unit 22: pretreatment harmful gas supply unit

23 : 몸체 110 : 중화 반응기23 body 110: neutralization reactor

112 : 중화 공급부 113 : 수산화나트륨 수용액112: neutralization supply section 113: sodium hydroxide aqueous solution

114 : 수용액 공급 장치 115 : 산소 공급 장치114: aqueous solution supply device 115: oxygen supply device

116 : 혼합 분사부 117 : 수막 형성부116: mixed jetting portion 117: water film forming portion

118 : 정화 반응기 배출부 120 : 여과 반응기118: purification reactor outlet 120: filtration reactor

122 : 여과 반응기 공급부 123 : 여과망 122: filtration reactor supply unit 123: filtration network

124 : 카본 필터 125 : 여과 반응기 배출부124 carbon filter 125 filtration reactor outlet

Claims (17)

  1. 유해 가스와 압축 공기를 공급 받아, 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시켜 전처리하는 제1 반응기, 그리고Any one selected from the group consisting of SO x (x is an integer of 1 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2), and a combination thereof contained in the noxious gas, supplied with noxious gas and compressed air. A first reactor for oxidizing and pretreating one, and
    상기 제1 반응기에서 전처리된 유해 가스를 공급 받아, 수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물을 분사하여 유해 가스를 중화시키는 제2 반응기를 포함하며,A second reactor that receives the harmful gas pretreated in the first reactor and injects a mixture of aqueous sodium hydroxide solution and oxygen to neutralize the harmful gas,
    상기 제2 반응기는The second reactor
    상기 수산화나트륨 수용액을 공급하는 수산화나트륨 수용액 공급부,Sodium hydroxide aqueous solution supply unit for supplying the aqueous sodium hydroxide solution,
    상기 산소를 공급하는 산소 공급부,An oxygen supply unit for supplying the oxygen,
    상기 수산화 나트륨 수용액과 상기 산소의 혼합물을 상기 제2 반응기 내부로 분사하는 혼합 분사부,A mixing injector for injecting a mixture of the aqueous sodium hydroxide solution and the oxygen into the second reactor;
    상기 혼합 분사부에서 분사된 상기 혼합물이 수막을 형성하도록 하는 망을 포함하는 수막 형성부, 그리고A water film forming unit including a net for allowing the mixture sprayed from the mixing spray unit to form a water film; and
    상기 수막 형성부 하부에서 상기 유해 가스를 공급하는 유해 가스 공급부Hazardous gas supply unit for supplying the harmful gas under the water film forming portion
    를 포함하는 것인 유해 가스 처리 장치.Toxic gas treatment device comprising a.
  2. 제1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 제1 반응기는 The first reactor
    몸체,Body Part,
    상기 몸체의 상부에 위치하며, 상기 유해 가스를 공급하는 유해 가스 공급부,Located in the upper portion of the body, harmful gas supply unit for supplying the harmful gas,
    상기 몸체의 상부에 위치하며, 상기 압축 공기를 공급하는 압축 공기 공급부, 그리고Located in the upper portion of the body, the compressed air supply for supplying the compressed air, and
    상기 몸체 하부에 위치하며, 상기 전처리된 유해 가스를 배출하는 유해 가스 배출부를 포함하며,Located below the body, including a harmful gas discharge unit for discharging the pre-treated harmful gas,
    상기 몸체는 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 것인The body is narrower in width from top to bottom
    유해 가스 처리 장치.Hazardous Gas Treatment Devices.
  3. 삭제delete
  4. 제1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 수막 형성부의 망의 그물코의 가로 및 세로 크기는 8 내지 12 mm인 것인 유해가스 처리 장치.The horizontal and vertical size of the mesh of the network of the water film forming unit is 8 to 12 mm harmful gas treatment device.
  5. 제1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 유해 가스 처리 장치는The hazardous gas treatment device
    상기 제1 반응기와 상기 제2 반응기 사이에 위치하며, Located between the first reactor and the second reactor,
    상기 제1 반응기에서 전처리된 유해 가스와 산소를 공급 받아, 상기 전처리된 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시켜 산화 처리하는 제3 반응기SO x (x is an integer of 1 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2) included in the pretreated hazardous gas, and these are supplied with the harmful gas and oxygen pretreated in the first reactor. A third reactor for oxidizing and oxidizing any one selected from the group consisting of
    를 더 포함하는 것인 유해 가스 처리 장치.It further comprises a harmful gas processing device.
  6. 제5 항에 있어서,6. The method of claim 5,
    상기 제3 반응기는 The third reactor
    몸체,Body Part,
    상기 몸체 상부에 위치하며, 상기 전처리된 유해 가스를 공급하는 전처리 유해 가스 공급부,Located in the upper portion of the body, the pre-treatment harmful gas supply unit for supplying the pre-treated harmful gas,
    상기 몸체 상부에 위치하며, 상기 산소를 공급하는 산소 공급부, 그리고An oxygen supply unit positioned above the body and supplying the oxygen, and
    상기 몸체 하부에 위치하며, 산화 처리된 유해 가스를 배출하는 유해 가스 배출부를 포함하며,Located under the body, and includes a harmful gas discharge unit for discharging the harmful gas oxidized,
    상기 몸체는 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 것인The body is narrower in width from top to bottom
    유해 가스 처리 장치.Hazardous Gas Treatment Devices.
  7. 제1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 유해 가스 처리 장치는 The hazardous gas treatment device
    상기 제2 반응기에서 중화된 유해 가스를 공급 받아, 여과망에 안치된 카본 필터를 통과시켜 유해 물질을 흡착시키는 제4 반응기를 더 포함하는 것인Further comprising a fourth reactor for receiving the neutralized harmful gas in the second reactor, passing through the carbon filter placed in the filter network to adsorb the harmful substances
    유해 가스 처리 장치.Hazardous Gas Treatment Devices.
  8. 제7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein
    상기 카본 필터는 직경이 2.4 내지 4.7mm인 탄소 알갱이를 1 내지 1.5 m의 높이로 적층하여 이루어지는 것인 유해 가스 처리 장치.The carbon filter is a harmful gas treatment device that is formed by laminating carbon particles having a diameter of 2.4 to 4.7mm to a height of 1 to 1.5 m.
  9. 제1 반응기에 유해 가스와 압축 공기를 공급하여, 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시키는 유해 가스 전처리 단계, 그리고A group consisting of SO x (x is an integer of 1 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2), and a combination thereof contained in the noxious gas by supplying harmful gas and compressed air to the first reactor Hazardous gas pretreatment step of oxidizing any one selected from, and
    상기 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스를 제2 반응기에 공급하고, 수산화나트륨 수용액과 산소의 혼합물을 분사하여 유해 가스를 중화하는 유해 가스 정화 단계를 포함하며,Supplying a harmful gas pretreated in the harmful gas pretreatment step to the second reactor, and a harmful gas purification step of neutralizing the harmful gas by spraying a mixture of aqueous sodium hydroxide solution and oxygen,
    상기 유해 가스 정화 단계는 The hazardous gas purification step
    상기 수산화나트륨 수용액과 상기 산소가 혼합되어 혼합물이 되는 혼합 단계,A mixing step in which the sodium hydroxide aqueous solution and the oxygen are mixed to form a mixture,
    상기 혼합물이 상기 제2 반응기 내부에 설치된 복수의 혼합 분사부를 통하여 제2 반응기 내부로 분사되는 분사 단계,An injection step in which the mixture is injected into the second reactor through a plurality of mixed injection units installed in the second reactor,
    상기 제2 반응기 내부로 분사된 혼합물이 상기 혼합 분사부의 상부에 망 형태로 구비된 수막 형성부에 의하여 수막을 형성하는 수막 형성 단계,A water film forming step of forming a water film by the water film forming portion provided in the form of a net on the mixture injection portion of the mixture injected into the second reactor,
    상기 유해 가스가 상기 제2 반응기 내부로 공급되는 공급 단계, 그리고A supplying step in which the harmful gas is supplied into the second reactor, and
    상기 제2 반응기 내부로 공급된 유해 가스가 상기 수막을 통과하면서 상기 유해 가스에 포함된 유해 성분이 중화되는 중화 단계Neutralization step of neutralizing the harmful components contained in the harmful gas while the harmful gas supplied into the second reactor passes through the water film
    를 포함하는 것인 유해 가스 처리 방법.Toxic gas treatment method comprising a.
  10. 제9 항에 있어서, The method of claim 9,
    상기 유해 가스 전처리 단계에서 상기 압축 공기는 3 내지 5kg/cm2으로 압축되어 공급되는 것인 유해 가스 처리 방법.In the noxious gas pretreatment step, the compressed air is compressed to 3 to 5kg / cm 2 is supplied to the noxious gas treatment method.
  11. 제9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 유해 가스 전처리 단계에서 상기 유해 가스와 상기 압축 공기는 1 : 1 내지 1.5 : 1의 부피비로 공급되는 것인 유해 가스 처리 방법.In the harmful gas pretreatment step, the harmful gas and the compressed air is supplied in a volume ratio of 1: 1 to 1.5: 1.
  12. 제9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 유해 가스 처리 방법은 The hazardous gas treatment method
    상기 유해 가스 전처리 단계와 상기 유해 가스 정화 단계 사이에Between the noxious gas pretreatment step and the noxious gas purification step
    제3 반응기에 상기 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스와 산소를 공급하여, 전처리된 유해 가스에 포함되어 있는 SOx(x는 1 내지 3의 정수), COy(y는 1 또는 2의 정수), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 산화시키는 유해 가스 산화 단계를 더 포함하는 것인 유해 가스 처리 방법.Supplying the harmful gas and oxygen pretreated in the harmful gas pretreatment step to the third reactor, SO x (x is an integer of 1 to 3), CO y (y is an integer of 1 or 2) included in the pretreated harmful gas ), And a noxious gas oxidation step of oxidizing any one selected from the group consisting of a combination thereof.
  13. 제12 항에 있어서,The method of claim 12,
    상기 유해 가스 산화 단계에서 상기 유해 가스 전처리 단계에서 전처리된 유해 가스와 산소는 1 : 1.5 내지 1 : 2의 부피비로 공급되는 것인 유해 가스 처리 방법.The harmful gas and oxygen pre-treated in the noxious gas pre-treatment step in the noxious gas oxidation step is supplied in a volume ratio of 1: 1.5 to 1: 2.
  14. 삭제delete
  15. 제9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 혼합 단계에 제조된 상기 혼합물은 pH 8 내지 9인 것인 유해 가스 처리 방법.The mixture prepared in the mixing step is a hazardous gas treatment method that is pH 8 to 9.
  16. 제9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 혼합 단계에서 상기 산소는 상기 유해 가스 100 부피부에 대하여 3 내지 4.5 부피부로 공급되는 것인 유해 가스 처리 방법.In the mixing step, the oxygen is supplied to the harmful gas 3 to 4.5 parts by volume relative to 100 parts by volume of the noxious gas.
  17. 제9 항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 유해 가스 정화 단계는 The hazardous gas purification step
    상기 중화 단계에서 중화된 유해 가스가 제4 반응기에 공급되어, 제4 반응기 내부의 여과망에 안치된 카본 필터를 통과하며 여과되는 여과 단계Filtration step in which the harmful gas neutralized in the neutralization step is supplied to the fourth reactor, and passed through a carbon filter placed in the filter network inside the fourth reactor.
    를 더 포함하는 것인To include more
    유해 가스 처리 방법.Hazardous Gas Treatment Methods.
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