KR100964719B1 - A SAW package having a wafer level sealing part and a manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 쏘 디바이스를 소형화하고 외부로부터 밀봉하여 이를 보호하며 동작중에 발생하는 반사파의 영향을 최소화하기 위하여, 본 발명에 따른 쏘 패키지는, 디바이스 기판 표면에 형성된 IDT(Inter Digital Transduce) 패턴; 상기 IDT 패턴을 덮는 실링부; 상기 IDT 패턴과 전기적으로 연결되며 상기 실링부로부터 소정 간격 이격된 적어도 둘 이상의 내측 솔더부; 상기 IDT 패턴과 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 IDT 패턴과 내측 솔더부를 둘러싸는 폐곡선 형태로 형성된 외측 솔더부; 상기 내측 솔더부와 외측 솔더부와 전기적으로 연결된 디바이스 기판; 및 전체적으로 하부가 개방된 캡 형상을 가지며, 상기 디바이스 기판의 외주를 따라 결합되어 상기 IDT 패턴, 실링부, 내측 솔더부 및 외측 솔더부를 내부 공간에 수용하며, 내부 공간에 다수개의 반사파 흡수 바들이 소정 간격으로 돌출 형성된 패키지 커버;를 포함한다.The present invention relates to a saw package having a wafer level sealing portion and a manufacturing method thereof, in order to miniaturize the saw device, to seal it from the outside to protect it, and to minimize the influence of the reflected wave generated during operation, the saw package according to the present invention, An Inter Digital Transduce (IDT) pattern formed on the surface of the device substrate; A sealing part covering the IDT pattern; At least two inner solder parts electrically connected to the IDT pattern and spaced apart from the sealing part by a predetermined distance; An outer solder part formed in a closed curve surrounding the IDT pattern and the inner solder part at a position spaced apart from the IDT pattern and the inner solder part by a predetermined distance; A device substrate electrically connected to the inner solder portion and the outer solder portion; And a cap shape having an open bottom portion as a whole, and coupled along an outer circumference of the device substrate to accommodate the IDT pattern, the sealing portion, the inner solder portion, and the outer solder portion in an inner space, and a plurality of reflected wave absorbing bars are defined in the inner space. And a package cover protruding at intervals.

웨이퍼, 쏘, DFR, 실링부, 반사파, 밀봉 Wafer, Saw, DFR, Sealing Part, Reflective Wave, Sealed

Description

웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지 및 이의 제조 방법{A SAW package having a wafer level sealing part and a manufacturing method therefor}A saw package having a wafer level sealing part and a method for manufacturing the same {A SAW package having a wafer level sealing part and a manufacturing method therefor}

본 발명은 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 쏘 디바이스를 소형화하고 외부로부터 밀봉하여 이를 보호하며 동작중에 발생하는 반사파의 영향을 최소화하기 위한 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a saw package having a wafer level sealing portion and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a technique for miniaturizing a saw device, sealing it from the outside, protecting it, and minimizing the influence of reflected waves generated during operation.

통신산업이 발달되면서 무선통신 제품은 점차 소형화, 고품질화 및 다기능화되어 가고 있다. 이러한 경향에 맞추어 무선통신 제품에 사용되는 부품, 예를 들어 필터, 듀플렉서 등에 대해서도 소형화 및 다기능화가 요구되고 있다. 이러한 부품의 일례로서, 쏘(SAW: surface acoustic wave) 디바이스(표면탄성파 소자)가 사용되고 있다. 특히, 휴대 전화기 등에 무선 주파수(RF: Radio Frequency)부에 사용되는 경우에는 수신 감도의 향상, 소비 전력의 저감 및 통과 대역 근방의 노이즈 레벨을 충분히 억제시킬 목적으로, 얇은 두께를 가지면서도 손실이 적은 쏘(SAW) 디바이스가 요구되고 있다. With the development of the telecommunications industry, wireless communication products are becoming smaller, higher quality and more versatile. In accordance with this trend, miniaturization and multifunctionality are also required for components used in wireless communication products such as filters and duplexers. As an example of such a component, a surface acoustic wave (SAW) device (surface acoustic wave element) is used. Particularly, when used in a radio frequency (RF) part of a cellular phone or the like, in order to improve reception sensitivity, reduce power consumption, and sufficiently suppress a noise level in the vicinity of a pass band, it has a thin thickness and low loss. There is a need for a SAW device.

이하에서 첨부된 도면 도1을 참조로 종래기술에 따른 쏘 디바이스를 설명한다.Hereinafter, a saw device according to the related art will be described with reference to FIG. 1.

도1은 종래기술에 따른 쏘 디바이스의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a saw device according to the prior art.

도1에 도시된 바와 같이, 쏘 디바이스(10)는 압전 기판(11) 상에 하나 이상의 IDT(Inter Digital Transducer) 전극(12)과 입출력 전극(13,14)이 형성되어 구성된다. IDT 전극(12)은 압전기판(11) 상에 빗살형태로 이루어진 두 개의 마주보는 전극으로 형성된다. As shown in FIG. 1, the saw device 10 is formed by forming at least one IDT (Inter Digital Transducer) electrode 12 and input / output electrodes 13 and 14 on the piezoelectric substrate 11. The IDT electrode 12 is formed on the piezoelectric substrate 11 with two opposing electrodes in the form of combs.

이러한 구성을 갖는 쏘 디바이스(10)는, 입력 전극(13)을 통해 전기적인 신호를 인가하면 IDT 전극(12)간의 겹쳐지는 길이만큼 압전효과에 의한 압전왜곡이 발생되고, 압전왜곡에 의하여 압전기판(11)에 전달되는 탄성표면파가 발생되고, 이를 출력 전극(14)을 통해 전기신호로 변환하여 출력한다. 이때 IDT 전극(12)의 간격, 전극폭 또는 길이 등과 같은 여러 인자에 의해서 결정된 소정 주파수 대역의 전기신호만이 필터링된다. In the saw device 10 having such a configuration, when an electrical signal is applied through the input electrode 13, piezoelectric distortion due to the piezoelectric effect is generated by the overlapping length between the IDT electrodes 12, and the piezoelectric plate is caused by the piezoelectric distortion. The surface acoustic wave transmitted to (11) is generated, and is converted into an electrical signal through the output electrode 14 and output. At this time, only the electric signal of the predetermined frequency band determined by various factors such as the interval, the electrode width or the length of the IDT electrode 12 is filtered.

이와 같은 쏘(SAW) 디바이스(10)를 접속핀(도시되지 않음)이 저면에 형성된 절연기판(24) 상에 입출력 전극(13,14)에 접합된 범프볼(26)을 통해 플립칩 본딩(flip chip bonding)에 의하여 실장함과 동시에 전기적 접속을 구현한다.The SAW device 10 is flip-chip bonded through a bump ball 26 bonded to the input / output electrodes 13 and 14 on an insulating substrate 24 having connection pins (not shown) formed on the bottom thereof. flip chip bonding) to realize electrical connection.

그러나, 이러한 종래의 쏘(SAW) 디바이스(10)는 소형화와 저가격화에 한계가 있고, 범프볼(26)을 통해 플립칩 본딩하여 실장하는 과정에서 쏘(SAW) 디바이스(10)의 밀봉(sealing) 구조를 구현하는 것이 어렵다.However, the conventional SAW device 10 has a limitation in miniaturization and low cost, and sealing of the SAW device 10 in the process of flip chip bonding and mounting through the bump ball 26. It is difficult to implement the structure.

이와 같은 문제를 해결하기 위하여, 웨이퍼 레벨에서 캡(CAP) 웨이퍼와 디바 이스 웨이퍼의 두 개의 웨이퍼를 이용하여 쏘(SAW) 디바이스의 밀봉을 구현하고 소형화하는 방법이 등장하였지만, 이러한 방법은 캡 웨이퍼의 가공과 접합에 공정 비용이 비싸다는 단점이 있다.In order to solve this problem, a method of implementing and miniaturizing the sealing of a SAW device using two wafers of a cap wafer and a device wafer at the wafer level has emerged. The disadvantage is the high process cost for machining and joining.

한편, 쏘 디바이스는 동작중에 표면탄성파가 반사되는 문제가 발생한다. 이하에서 첨부된 도면 도2 및 도3을 참조로 이를 설명한다.On the other hand, the saw device has a problem that the surface acoustic wave is reflected during operation. Hereinafter, this will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

도2는 종래기술에 따른 쏘 패키지의 구조를 도시한 사시도이고, 도3은 도2에서 반사파의 영향을 설명하기 위한 도면이다.2 is a perspective view showing the structure of a saw package according to the prior art, Figure 3 is a view for explaining the effect of the reflected wave in FIG.

도시된 바와 같이, 쏘 패키지(50)는 쏘 디바이스(10)가 와이어(30)를 통해 몸체(35)의 접속핀(40)과 연결되고, 몸체(35)의 상부에 커버(45)가 씌워진 구성을 갖는다.As shown, the saw package 50 is the saw device 10 is connected to the connecting pin 40 of the body 35 through the wire 30, the cover 45 is covered on the top of the body 35 Has a configuration.

이와 같은 구성을 갖는 쏘 패키지(50)는 쏘 디바이스(10)의 동작중에 반사파가 발생하여 노이즈가 생성되는 문제가 발생한다. 이러한 문제를 해결하기 위하여, 커버(45)의 양단이나 표면에 흡음재를 도포하는 기술이 제안되었으나, 이 경우 제조 공정이 복잡하여 제조비의 상승, 제조시간의 연장이 발생되며, 패키지의 불량을 야기하는 문제가 발생한다.The saw package 50 having such a configuration causes a problem that noise is generated due to a reflected wave generated during the operation of the saw device 10. In order to solve this problem, a technique for applying a sound absorbing material to both ends or the surface of the cover 45 has been proposed, but in this case, the manufacturing process is complicated to increase the manufacturing cost, prolong the manufacturing time, causing a package failure A problem arises.

본 발명은 전술한 종래기술에 따른 문제점을 해결하기 위하여 도출된 것으로서, 하나의 웨이퍼만으로 밀봉이 가능한 쏘 패키지의 제공을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the problems according to the prior art described above, and an object of the present invention is to provide a saw package capable of sealing with only one wafer.

본 발명의 다른 목적은 쏘 디바이스의 동작중에 발생하는 반사파를 제거하여 정밀한 동작이 가능한 쏘 패키지를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a saw package capable of precise operation by removing reflected waves generated during operation of the saw device.

전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시형태에 따른 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지는, 디바이스 기판 표면에 형성된 IDT(Inter Digital Transduce) 패턴; 상기 IDT 패턴을 덮는 실링부; 상기 IDT 패턴과 전기적으로 연결되며 상기 실링부로부터 소정 간격 이격된 적어도 둘 이상의 내측 솔더부; 상기 IDT 패턴과 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 IDT 패턴과 내측 솔더부를 둘러싸는 폐곡선 형태로 형성된 외측 솔더부; 상기 내측 솔더부와 외측 솔더부와 전기적으로 연결된 디바이스 기판; 및 전체적으로 하부가 개방된 캡 형상을 가지며, 상기 디바이스 기판의 외주를 따라 결합되어 상기 IDT 패턴, 실링부, 내측 솔더부 및 외측 솔더부를 내부 공간에 수용하며, 내부 공간에 다수개의 반사파 흡수 바들이 소정 간격으로 돌출 형성된 패키지 커버;를 포함한다.In order to achieve the above object, the saw package having a wafer level sealing portion according to an embodiment of the present invention, the IDT (Inter Digital Transduce) pattern formed on the surface of the device substrate; A sealing part covering the IDT pattern; At least two inner solder parts electrically connected to the IDT pattern and spaced apart from the sealing part by a predetermined distance; An outer solder part formed in a closed curve surrounding the IDT pattern and the inner solder part at a position spaced apart from the IDT pattern and the inner solder part by a predetermined distance; A device substrate electrically connected to the inner solder portion and the outer solder portion; And a cap shape having an open bottom portion as a whole, and coupled along an outer circumference of the device substrate to accommodate the IDT pattern, the sealing portion, the inner solder portion, and the outer solder portion in an inner space, and a plurality of reflected wave absorbing bars are defined in the inner space. And a package cover protruding at intervals.

본 실시형태에서, 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물로 형성되며, 상기 IDT 패턴과 실링부 사이에 위치되어 상기 IDT 패턴을 덮는 보호막;을 추가로 포함할 수 있다.In the present exemplary embodiment, a protective layer formed of silicon oxide or silicon nitride and positioned between the IDT pattern and the sealing part to cover the IDT pattern may be further included.

본 실시형태에서, 상기 실링부는 DFR(Dry Film Resist)로 형성될 수 있다.In the present embodiment, the sealing part may be formed of a dry film resist (DFR).

본 실시형태에서, 상기 실링부는 상기 IDT 패턴의 상부 외주를 따라 형성된 벽면부와, 상기 벽면부의 상부를 덮는 상판부로 이루어진 컵 형태로 형성될 수 있다.In the present embodiment, the sealing portion may be formed in a cup shape consisting of a wall surface portion formed along the upper outer periphery of the IDT pattern, and an upper plate portion covering the upper portion of the wall surface portion.

본 실시형태에서, 상기 내측 솔더부와 외측 솔더부는, 각각 내측 솔더 UBM(solder Under-Bump Metallization)와 외측 솔더 UBM을 구비하고, 상기 내측 솔더 UBM의 상부에는 솔더 범프가 안착되고, 상기 외측 솔더 UBM의 상부에는 솔더 웰이 안착될 수 있다.In the present embodiment, the inner solder portion and the outer solder portion, each having an inner solder UBM (solder Under-Bump Metallization) and the outer solder UBM, a solder bump is seated on top of the inner solder UBM, the outer solder UBM The solder well may be mounted on the upper portion of the solder well.

전술된 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다른 실시형태에 따른 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법은, 디바이스 기판용 웨이퍼에 형성된 IDT 패턴을 덮는 보호막을 형성하는 단계; 상기 보호막과 디바이스 기판용 웨이퍼의 상부에 솔더부를 형성하는 단계; 상기 보호막의 상부에 실링부를 형성하는 단계; 및 전체적으로 하부가 개방된 캡 형상을 가지며, 상기 디바이스 기판의 외주를 따라 결합되어 상기 IDT 패턴, 실링부 및 솔더부를 내부 공간에 수용하며, 내부 공간에 다수개의 반사파 흡수 바들이 소정 간격으로 돌출 형성된 패키지 커버를 결합하는 단계;를 포함한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing portion according to another embodiment of the present invention, forming a protective film covering an IDT pattern formed on a wafer for a device substrate; Forming a solder portion on the passivation layer and a wafer for a device substrate; Forming a sealing part on the passivation layer; And a cap shape having an open bottom portion as a whole, and coupled along an outer circumference of the device substrate to accommodate the IDT pattern, the sealing portion, and the solder portion in an inner space, and a plurality of reflected wave absorption bars protruding at predetermined intervals in the inner space. And engaging the cover.

본 실시형태에서, 상기 보호막을 형성하는 단계는 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물을 사용하여 보호막을 형성할 수 있다.In the present embodiment, the forming of the passivation layer may form a passivation layer using silicon oxide or silicon nitride.

본 실시형태에서, 상기 실링부를 형성하는 단계는 DFR 재질을 사용하여 실링부를 형성할 수 있다.In the present embodiment, the forming of the sealing part may form a sealing part using a DFR material.

본 실시형태에서, 상기 실링부를 형성하는 단계는: 상기 보호막에 제1DFR을 접합하는 단계; 상기 제1DRF이 상기 IDT 패턴의 상부 외주를 따라 벽면부를 형성하도록 패터닝하는 단계; 상기 벽면부의 상부를 덮도록 제2DFR을 접합하는 단계; 및 상기 제2DFR이 상기 벽면부의 상부만 덮는 상판부를 형성하도록 패터닝하는 단계;를 포함할 수 있다.In the present embodiment, the forming of the sealing part may include: bonding a first DFR to the protective film; Patterning the first DRF to form a wall portion along an upper periphery of the IDT pattern; Bonding a second DFR to cover an upper portion of the wall portion; And patterning the second DFR to form an upper plate portion covering only an upper portion of the wall surface portion.

본 실시형태에서, 상기 솔더부를 형성하는 단계는: 상기 실링부로부터 소정 간격 이격된 적어도 둘 이상의 영역에 내측 솔더부를 형성하는 단계; 및 상기 IDT 패턴과 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 IDT 패턴과 내측 솔더부를 둘러싸는 폐곡선 형태로 형성된 외측 솔더부를 형성하는 단계;를 포함할 수 있다.In the present embodiment, the forming of the solder part may include: forming an inner solder part in at least two or more regions spaced apart from the sealing part by a predetermined distance; And forming an outer solder part formed in a closed curve surrounding the IDT pattern and the inner solder part at a position spaced apart from the IDT pattern and the inner solder part by a predetermined distance.

본 실시형태에서, 상기 내측 솔더부를 형성하는 단계는: 상기 IDT 패턴과 전기적으로 연결된 내측 솔더 UBM을 형성하는 단계; 및 상기 내측 솔더 UBM의 상부에 솔더 범프를 안착시키는 단계;를 포함할 수 있다.In the present embodiment, the forming of the inner solder portion may include: forming an inner solder UBM electrically connected to the IDT pattern; And mounting a solder bump on an upper portion of the inner solder UBM.

본 실시형태에서, 상기 외측 솔더부를 형성하는 단계는: 상기 실링부와 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 이들을 둘러싸는 폐곡선 형태의 외측 솔더 UBM을 형성하는 단계; 및 상기 외측 솔더 UBM의 상부에 솔더 웰을 안착시키는 단계;를 포함할 수 있다.In the present embodiment, the forming of the outer solder portion may include: forming an outer solder UBM in the form of a closed curve surrounding the sealing portion at a position spaced apart from the inner solder portion by a predetermined distance; And mounting a solder well on an upper portion of the outer solder UBM.

본 발명에 따르면 별도의 캡 웨이퍼를 쓰지 않고, IDT 패턴에 실링부를 형성함으로써 밀봉이 가능한 쏘 패키지를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a saw package that can be sealed by forming a sealing portion in an IDT pattern without using a separate cap wafer.

또한 본 발명에 따르면 패키지 커버에 형성된 반사파 흡수 바에 의해 반사파의 제거가 가능하여 정밀한 동작이 가능한 쏘 패키지를 제공할 수 있다.In addition, according to the present invention it is possible to provide a saw package capable of precise operation by removing the reflected wave by the reflected wave absorption bar formed on the package cover.

이하에서, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예가 기술된다.In the following, embodiments of the present invention are described with reference to the accompanying drawings.

하기에서 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략될 것이다. 또한 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 설정된 용어들로서 이 용어들은 제품을 생산하는 생산자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있으며, 용어들의 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In the following description of the present invention, if it is determined that detailed descriptions of related known functions or configurations may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, the terms to be described later are terms set in consideration of functions in the present invention, and these terms may vary according to the intention or custom of the producer producing the product, and the definition of the terms should be made based on the contents throughout the present specification.

(쏘 패키지)(Saw package)

먼저 첨부된 도면 도4 내지 도13을 참조로 본 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지를 설명한다.First, a saw package having a wafer level sealing part according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4 to 13.

도4는 본 발명의 실시예에 따른 쏘 패키지의 평면도이고, 도5 내지 도12는 본 발명의 실시예에 따른 쏘 패키지의 제조 공정을 도시한 것이고, 도13은 본 발명의 실시예에 따른 쏘 패키지에서 반사파의 영향을 설명하기 위한 도면이다.Figure 4 is a plan view of a saw package according to an embodiment of the present invention, Figures 5 to 12 shows a manufacturing process of the saw package according to an embodiment of the present invention, Figure 13 is a saw according to an embodiment of the present invention A diagram for explaining the influence of reflected waves in a package.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지(100: 이하에서 설명의 편의를 위하여, 별다른 설명이 없는 한 '웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지'는 간략히 '쏘 패키지'라 한다)에서 IDT(Inter Digital Transduce) 패턴(120)은 디바이스 기판(110) 표면에 형성된다.As shown, the saw package 100 having a wafer level sealing portion according to the present embodiment (for convenience of description below), unless otherwise stated, a 'saw package having a wafer level sealing portion' is simply referred to as a 'saw package'. In FIG. 1, an inter digital transduce (IDT) pattern 120 is formed on the surface of the device substrate 110.

보호막(130)은 IDT 패턴(120)과 실링부(155) 사이에 위치되어 IDT 패턴(120)을 덮는다. 보호막(130)은 외부의 충격이나 불순물로부터 IDT 패턴(120)을 보호하며, 부식 방지를 위해 실리콘 산화물(SiO2) 또는 실리콘 질화물(Si3N4) 재질로 형성된다. 보호막(130)은 10~200Å의 두께를 갖는 것이 바람직하다.The passivation layer 130 is positioned between the IDT pattern 120 and the sealing part 155 to cover the IDT pattern 120. The passivation layer 130 protects the IDT pattern 120 from external impact or impurities, and is formed of silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (Si 3 N 4 ) to prevent corrosion. The protective film 130 preferably has a thickness of 10 to 200 kPa.

실링부(155)는 IDT 패턴(120)과 보호막(130)을 덮는다. 실링부(155)는 레지스트 재질로 형성되며, 특히 DFR(Dry Film Resist)로 형성되는 것이 바람직하다. 실링부(155)는 벽면부와 상판부로 이루어지며, 벽면부는 IDT 패턴(120)의 상부 외주를 따라 형성되고, 상판부는 벽면부의 상부를 덮는 컵 형태로 형성된다. 실링부(155)는 IDT 패턴(120)을 밀봉하여 불순물로부터 보호한다.The sealing part 155 covers the IDT pattern 120 and the passivation layer 130. The sealing unit 155 is formed of a resist material, and particularly preferably formed of a dry film resist (DFR). The sealing part 155 is formed of a wall portion and an upper plate portion, the wall portion is formed along the upper outer periphery of the IDT pattern 120, the upper plate portion is formed in a cup shape covering the upper portion of the wall portion. The sealing part 155 seals the IDT pattern 120 to protect it from impurities.

내측 솔더부는 IDT 패턴(120)과 전기적으로 연결되며 실링부(155)로부터 소정 간격 이격된 위치에 적어도 둘 이상이 형성된다. 내측 솔더부는 내측 솔더 UBM(141: solder Under-Bump Metallization)와 이의 상부에 안착된 솔더 범프(160)로 구성된다. 내측 솔더부는 IDT 패턴(120)과 디바이스 기판(110) 사이의 전기적 신호 전송을 위해 사용된다.At least two inner solder parts are electrically connected to the IDT pattern 120 and are formed at positions spaced apart from the sealing part 155 by a predetermined interval. The inner solder part includes an inner solder UBM 141 and a solder bump 160 seated thereon. The inner solder portion is used for electrical signal transmission between the IDT pattern 120 and the device substrate 110.

외측 솔더부는 IDT 패턴(120)과 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에 서 이들을 둘러싸는 폐곡선 형태로 형성된다. 외측 솔더부는 외측 솔더 UBM(142)와 이의 상부에 안착된 솔더 웰(170)로 구성된다. 외측 솔더부는 쏘 패키지의 외부로부터 전자기적 노이즈가 인입되는 것을 방지하기 위해 사용된다. 도4에서 외측 솔더부는 장방형의 형상을 갖는 것으로 도시되었지만, 본 발명은 이에 특별히 한정될 필요는 없으며 원형 또는 타원형과 같은 다양한 폐곡선의 형태를 가질 수 있음에 유의한다.The outer solder portion is formed in the form of a closed curve surrounding the IDT pattern 120 and the predetermined spaced apart from the inner solder portion. The outer solder portion is composed of an outer solder UBM 142 and a solder well 170 seated thereon. The outer solder portion is used to prevent the introduction of electromagnetic noise from the outside of the saw package. Although the outer solder portion is shown as having a rectangular shape in FIG. 4, it is noted that the present invention need not be particularly limited thereto and may have various closed curve shapes such as circular or elliptical.

디바이스 기판(110)은 내측 솔더부와 전기적으로 연결된다. 디바이스 기판(110)의 하부에는 접속핀(320)이 형성되어, 외부의 인쇄 회로 기판과의 신호 전송을 수행한다.The device substrate 110 is electrically connected to the inner solder portion. The connection pin 320 is formed under the device substrate 110 to perform signal transmission with an external printed circuit board.

패키지 커버(310)는 전체적으로 하부가 개방된 캡 형상을 가지며, 디바이스 기판(110)의 외주를 따라 결합되어 IDT 패턴(120), 실링부(155), 내측 솔더부 및 외측 솔더부를 내부 공간에 수용한다. 패키지 커버(310)의 내부 공간에는 다수개의 반사파 흡수 바(315)들이 소정 간격으로 돌출 형성된다. 반사파 흡수 바(315)는 쏘 디바이스(100)의 동작에 따른 반사파를 흡수하여 정밀한 동작이 가능하도록 돕게 된다. 도13에서 반사파 흡수 바(315)는 바형을 갖는 것으로 도시되었지만, 본 발명은 이에 특별히 한정될 필요는 없으며, 필요에 따라 톱니 형상을 가질 수도 있음에 유의한다.The package cover 310 has a cap shape with an open bottom, and is coupled along the outer circumference of the device substrate 110 to accommodate the IDT pattern 120, the sealing part 155, the inner solder part, and the outer solder part in the inner space. do. In the inner space of the package cover 310, a plurality of reflected wave absorption bars 315 are formed to protrude at predetermined intervals. The reflected wave absorption bar 315 absorbs the reflected wave according to the operation of the saw device 100 to help precise operation. Although the reflected wave absorbing bar 315 is shown as having a bar shape in FIG. 13, it should be noted that the present invention is not particularly limited thereto, and may have a sawtooth shape as necessary.

(제조 방법)(Production method)

이하에서 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing part according to an exemplary embodiment of the present invention will be described.

본 실시예에 따른 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법(이하에서 설명의 편의를 위하여, 별다른 설명이 없는 한 '웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법'은 간략히 '제조 방법'이라 한다)은 크게 보호막을 형성하는 단계, 솔더부를 형성하는 단계, 실링부를 형성하는 단계 및 패키지 커버를 결합하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing part according to the present embodiment (hereinafter, for convenience of description, unless otherwise stated, the method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing part is referred to simply as a 'manufacturing method') This includes forming a protective film, forming a solder portion, forming a sealing portion, and bonding the package cover.

보호막을 형성하는 단계는, 디바이스 기판(110)용 웨이퍼에 형성된 IDT 패턴(120)을 덮는 보호막(130)을 형성하는 단계이다. 보호막(130)은 예를 들어, PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 방법을 통해 증착막을 형성하고, 증착막의 상부에 포토레지스트 패턴을 사용하여 에칭하여 형성할 수 있다. 이때의 상태가 도5에 도시된다.The forming of the passivation layer is a step of forming the passivation layer 130 covering the IDT pattern 120 formed on the wafer for the device substrate 110. The passivation layer 130 may be formed by, for example, forming a deposition layer through a PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method, and etching the photoresist pattern on the deposition layer. The state at this time is shown in FIG.

솔더부를 형성하는 단계는, 보호막(130)과 디바이스 기판(110)용 웨이퍼의 상부에 솔더부를 형성하는 단계이다. 솔더부의 형성은 내측 솔더부를 형성하는 단계와 외측 솔더부를 형성하는 단계로 이루어진다.The forming of the solder portion may include forming the solder portion on the passivation layer 130 and the wafer for the device substrate 110. Formation of the solder portion consists of forming an inner solder portion and forming an outer solder portion.

내측 솔더부를 형성하는 단계는 실링부(155)로부터 소정 간격 이격된 적어도 둘 이상의 영역에 내측 솔더부를 형성하는 단계이다. 이 단계는 IDT 패턴(120)과 전기적으로 연결된 내측 솔더 UBM(141)을 형성하는 단계와, 내측 솔더 UBM(141)의 상부에 솔더 범프(160)를 안착시키는 단계로 이루어진다. 내측 솔더 UBM(141)은 PVD 방법을 통해 Ni, Cu, Ag 등의 금속을 증착하여 패터닝하여 형성될 수 있다. 이때의 상태가 도6에 도시된다. 솔더 범프(160)는 실링부(155)의 높이보다 높게 형성 되어, 패키징 과정에서 실링부(155)에 압력이나 충격이 가해지는 것을 방지하게 된다. 이때의 상태가 도11에 도시된다.The forming of the inner solder portion may include forming the inner solder portion in at least two or more regions spaced apart from the sealing portion 155 by a predetermined interval. This step includes forming an inner solder UBM 141 electrically connected to the IDT pattern 120, and seating the solder bumps 160 on the inner solder UBM 141. The inner solder UBM 141 may be formed by depositing and patterning a metal such as Ni, Cu, or Ag through a PVD method. The state at this time is shown in FIG. The solder bumps 160 are formed higher than the height of the sealing part 155 to prevent pressure or impact from being applied to the sealing part 155 during the packaging process. The state at this time is shown in FIG.

외측 솔더부를 형성하는 단계는 IDT 패턴(120)과 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 IDT 패턴(120)과 내측 솔더부를 둘러싸는 폐곡선 형태로 형성된 외측 솔더부를 형성하는 단계이다. 이 단계는 실링부(155)와 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 이들을 둘러싸는 폐곡선 형태의 외측 솔더 UBM(142)을 형성하는 단계와, 외측 솔더 UBM(142)의 상부에 솔더 웰(170)을 안착시키는 단계로 이루어진다. 외측 솔더 UBM(142)도 내측 솔더 UBM(141)과 동일한 방법에 의해 형성될 수 있다. 이때의 상태가 도6에 도시된다. 또한 솔더 웰(170)도 솔더 범프(160)와 마찬가지로 실링부(155)의 높이보다 높게 형성되어, 패키징 과정에서 실링부(155)에 압력이나 충격이 가해지는 것을 방지하는 것이 바람직하다. 이때의 상태가 도11에 도시된다.The forming of the outer solder portion may include forming an outer solder portion formed in a closed curve surrounding the IDT pattern 120 and the inner solder portion at a position spaced a predetermined distance from the IDT pattern 120 and the inner solder portion. This step is to form a closed curve outer solder UBM 142 surrounding the sealing portion 155 and a predetermined spaced apart from the inner solder portion, and the solder well 170 on top of the outer solder UBM 142 ) Is settled. The outer solder UBM 142 may also be formed by the same method as the inner solder UBM 141. The state at this time is shown in FIG. In addition, like the solder bumps 160, the solder well 170 may be formed higher than the height of the sealing portion 155 to prevent pressure or impact on the sealing portion 155 during the packaging process. The state at this time is shown in FIG.

실링부를 형성하는 단계는, 보호막(130)의 상부에 실링부(155)를 형성하는 단계이다. 실링부를 형성하는 단계는 먼저, 보호막(130)에 제1DFR(150)을 접합한다. 이때의 상태가 도7에 도시된다. 제1DFR(150)을 접합한 뒤, 노광 공정과 에칭 공정으로 이루어진 패터닝 공정을 통해 제1DRF(150)이 IDT 패턴(120)의 상부 외주를 따라 벽면부(151)를 형성하도록 한다. 이때의 상태가 도8에 도시된다. 이후, 벽면부(151)의 상부를 덮도록 제2DFR(152)을 접합한다. 이때의 상태가 도9에 도시된다. 이후 제2DFR(152)이 벽면부(151)의 상부만 덮는 상판부를 형성하도록 패터닝한다. 이때의 상태가 도10에 도시된다. 이상의 단계를 통해 제조된 쏘 디바이스(100) 는 인쇄회로 기판(200)에 솔더 범프(160)와 솔더 웰(170)을 사용하여 결합된다. 이때의 상태가 도12에 도시된다.The forming of the sealing part is to form the sealing part 155 on the passivation layer 130. In the forming of the sealing unit, first, the first DFR 150 is bonded to the passivation layer 130. The state at this time is shown in FIG. After bonding the first DFR 150, the first DRF 150 forms the wall surface 151 along the upper circumference of the IDT pattern 120 through a patterning process including an exposure process and an etching process. The state at this time is shown in FIG. Thereafter, the second DFR 152 is bonded to cover the top of the wall portion 151. The state at this time is shown in FIG. Thereafter, the second DFR 152 is patterned to form an upper plate portion covering only the upper portion of the wall surface portion 151. The state at this time is shown in FIG. The saw device 100 manufactured through the above steps is coupled to the printed circuit board 200 using the solder bumps 160 and the solder wells 170. The state at this time is shown in FIG.

패키지 커버를 결합하는 단계는 전체적으로 하부가 개방된 캡 형상을 가지며, 디바이스 기판(110)의 외주를 따라 결합되어 IDT 패턴(120), 실링부(155) 및 솔더부를 내부 공간에 수용하며, 내부 공간에 다수개의 반사파 흡수 바(315)들이 소정 간격으로 돌출 형성된 패키지 커버(310)를 결합하는 단계이다. 이때의 상태가 도13에 도시된다. 패키지 커버를 결합하는 단계는 쏘 디바이스(100)의 다이싱이 완료된 후에 이루어지는 것이 바람직하다.The step of combining the package cover has a cap shape with the bottom open as a whole, is coupled along the outer periphery of the device substrate 110 to accommodate the IDT pattern 120, the sealing portion 155 and the solder portion in the inner space, the inner space A plurality of reflection wave absorption bars 315 are coupled to the package cover 310 protruding at predetermined intervals. The state at this time is shown in FIG. Joining the package cover is preferably performed after the dicing of the saw device 100 is completed.

이상으로 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조로 기술하였다.The embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings.

그러나 본 발명은 전술된 실시예에만 특별히 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라, 당업자에 의해, 첨부된 청구범위의 정신과 사상 내에서 다양한 수정 및 변경이 가능함에 유의해야 한다.However, it is to be noted that the present invention is not particularly limited only to the above-described embodiments, and that various modifications and changes can be made by those skilled in the art within the spirit and spirit of the appended claims as necessary.

도1은 종래기술에 따른 쏘 디바이스의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a saw device according to the prior art.

도2는 종래기술에 따른 쏘 패키지의 구조를 도시한 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing the structure of a saw package according to the prior art.

도3은 도2에서 반사파의 영향을 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining the influence of the reflected wave in FIG.

도4는 본 발명의 실시예에 따른 쏘 패키지의 평면도이다.4 is a top view of a saw package according to an embodiment of the present invention.

도5 내지 도12는 본 발명의 실시예에 따른 쏘 패키지의 제조 공정을 도시한 것이다.5 to 12 illustrate a manufacturing process of a saw package according to an embodiment of the present invention.

도13은 본 발명의 실시예에 따른 쏘 패키지에서 반사파의 영향을 설명하기 위한 도면이다.13 is a view for explaining the influence of the reflected wave in the saw package according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 쏘 디바이스 110: 디바이스 기판100: saw device 110: device substrate

120: IDT 패턴 130: 보호막120: IDT pattern 130: protective film

155: 실링부 160: 솔더 범프155: sealing portion 160: solder bump

170: 솔더웰 300: 쏘 패키지170: solderwell 300: saw package

310: 패키지 커버 315: 반사파 흡수 바310: package cover 315: reflected wave absorption bar

320: 접속핀320: connection pin

Claims (12)

디바이스 기판 표면에 형성된 IDT(Inter Digital Transduce) 패턴;An Inter Digital Transduce (IDT) pattern formed on the surface of the device substrate; 상기 IDT 패턴을 덮는 실링부;A sealing part covering the IDT pattern; 상기 IDT 패턴과 전기적으로 연결되며 상기 실링부로부터 소정 간격 이격된 적어도 둘 이상의 내측 솔더부;At least two inner solder parts electrically connected to the IDT pattern and spaced apart from the sealing part by a predetermined distance; 상기 IDT 패턴과 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 IDT 패턴과 내측 솔더부를 둘러싸는 폐곡선 형태로 형성된 외측 솔더부;An outer solder part formed in a closed curve surrounding the IDT pattern and the inner solder part at a position spaced apart from the IDT pattern and the inner solder part by a predetermined distance; 상기 내측 솔더부와 외측 솔더부와 전기적으로 연결된 디바이스 기판; 및A device substrate electrically connected to the inner solder portion and the outer solder portion; And 전체적으로 하부가 개방된 캡 형상을 가지며, 상기 디바이스 기판의 외주를 따라 결합되어 상기 IDT 패턴, 실링부, 내측 솔더부 및 외측 솔더부를 내부 공간에 수용하며, 내부 공간에 다수개의 반사파 흡수 바들이 소정 간격으로 돌출 형성된 패키지 커버;The cap has an overall open cap shape and is coupled along the outer circumference of the device substrate to accommodate the IDT pattern, the sealing portion, the inner solder portion, and the outer solder portion in an inner space, and a plurality of reflected wave absorbing bars are disposed in the inner space. A package cover formed to protrude into; 를 포함하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지.A saw package having a wafer level sealing portion comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물로 형성되며, 상기 IDT 패턴과 실링부 사이에 위치되어 상기 IDT 패턴을 덮는 보호막;A protective film formed of silicon oxide or silicon nitride and positioned between the IDT pattern and the sealing part to cover the IDT pattern; 을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키 지.The saw package having a wafer level sealing portion further comprises. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 실링부는 DFR(Dry Film Resist)로 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지.The saw package having a wafer level sealing portion, characterized in that the sealing portion is formed of a dry film resist (DFR). 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 실링부는 상기 IDT 패턴의 상부 외주를 따라 형성된 벽면부와, 상기 벽면부의 상부를 덮는 상판부로 이루어진 컵 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지.And the sealing portion is formed in a cup shape comprising a wall surface portion formed along an upper circumference of the IDT pattern and an upper plate portion covering an upper portion of the wall surface portion. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 내측 솔더부와 외측 솔더부는, 각각 내측 솔더 UBM(solder Under-Bump Metallization)와 외측 솔더 UBM을 구비하고,The inner solder portion and the outer solder portion include inner solder UBM and outer solder UBM, respectively. 상기 내측 솔더 UBM의 상부에는 솔더 범프가 안착되고, 상기 외측 솔더 UBM의 상부에는 솔더 웰이 안착되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지.A saw package having a wafer level sealing portion, wherein a solder bump is seated on an upper portion of the inner solder UBM, and a solder well is seated on an upper portion of the outer solder UBM. 디바이스 기판용 웨이퍼에 형성된 IDT 패턴을 덮는 보호막을 형성하는 단계;Forming a protective film covering an IDT pattern formed on the device substrate wafer; 상기 보호막과 디바이스 기판용 웨이퍼의 상부에 솔더부를 형성하는 단계;Forming a solder portion on the passivation layer and a wafer for a device substrate; 상기 보호막의 상부에 실링부를 형성하는 단계; 및Forming a sealing part on the passivation layer; And 전체적으로 하부가 개방된 캡 형상을 가지며, 상기 디바이스 기판용 웨이퍼의 외주를 따라 결합되어 상기 IDT 패턴, 실링부 및 솔더부를 내부 공간에 수용하며, 내부 공간에 다수개의 반사파 흡수 바들이 소정 간격으로 돌출 형성된 패키지 커버를 결합하는 단계;The cap has an open cap shape as a whole, and is coupled along the outer circumference of the wafer for the device substrate to accommodate the IDT pattern, the sealing portion, and the solder portion in an inner space, and a plurality of reflected wave absorbing bars protrude at predetermined intervals in the inner space. Combining the package cover; 를 포함하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법.Method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing portion comprising a. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 보호막을 형성하는 단계는 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물을 사용하여 보호막을 형성하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법.The forming of the passivation film may include forming a passivation film using silicon oxide or silicon nitride. 제 6 항에 있어서, 상기 솔더부를 형성하는 단계는:The method of claim 6, wherein the forming of the solder portion: 상기 실링부로부터 소정 간격 이격된 적어도 둘 이상의 영역에 내측 솔더부 를 형성하는 단계; 및Forming an inner solder portion in at least two regions spaced apart from the sealing portion by a predetermined distance; And 상기 IDT 패턴과 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 IDT 패턴과 내측 솔더부를 둘러싸는 폐곡선 형태로 형성된 외측 솔더부를 형성하는 단계;Forming an outer solder portion formed in a closed curve surrounding the IDT pattern and the inner solder portion at a position spaced a predetermined distance from the IDT pattern and the inner solder portion; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법.Method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing portion comprising a. 제 8 항에 있어서, 상기 내측 솔더부를 형성하는 단계는:The method of claim 8, wherein the forming of the inner solder portion: 상기 IDT 패턴과 전기적으로 연결된 내측 솔더 UBM을 형성하는 단계; 및Forming an inner solder UBM electrically connected with the IDT pattern; And 상기 내측 솔더 UBM의 상부에 솔더 범프를 안착시키는 단계;Mounting a solder bump on top of the inner solder UBM; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법.Method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing portion comprising a. 제 8 항에 있어서, 상기 외측 솔더부를 형성하는 단계는:The method of claim 8, wherein the forming of the outer solder portion: 상기 실링부와 내측 솔더부로부터 소정 간격 이격된 위치에서 이들을 둘러싸는 폐곡선 형태의 외측 솔더 UBM을 형성하는 단계; 및Forming an outer solder UBM having a closed curve surrounding the sealing portion and the inner solder portion at a predetermined distance from the sealing portion; And 상기 외측 솔더 UBM의 상부에 솔더 웰을 안착시키는 단계;Mounting a solder well on top of the outer solder UBM; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법.Method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing portion comprising a. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 실링부를 형성하는 단계는 DFR 재질을 사용하여 실링부를 형성하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법.The forming of the sealing part is a method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing part, characterized in that for forming a sealing part using a DFR material. 제 11 항에 있어서, 상기 실링부를 형성하는 단계는:The method of claim 11, wherein the forming of the sealing part comprises: 상기 보호막에 제1DFR을 접합하는 단계;Bonding a first DFR to the protective film; 상기 제1DRF이 상기 IDT 패턴의 상부 외주를 따라 벽면부를 형성하도록 패터닝하는 단계;Patterning the first DRF to form a wall portion along an upper periphery of the IDT pattern; 상기 벽면부의 상부를 덮도록 제2DFR을 접합하는 단계; 및Bonding a second DFR to cover an upper portion of the wall portion; And 상기 제2DFR이 상기 벽면부의 상부만 덮는 상판부를 형성하도록 패터닝하는 단계;Patterning the second DFR to form an upper plate portion covering only an upper portion of the wall surface portion; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 실링부를 갖는 쏘 패키지의 제조 방법.Method of manufacturing a saw package having a wafer level sealing portion comprising a.
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