KR100949303B1 - High efficiency plasma reactor and stench removal system using it - Google Patents

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KR100949303B1 KR1020070138239A KR20070138239A KR100949303B1 KR 100949303 B1 KR100949303 B1 KR 100949303B1 KR 1020070138239 A KR1020070138239 A KR 1020070138239A KR 20070138239 A KR20070138239 A KR 20070138239A KR 100949303 B1 KR100949303 B1 KR 100949303B1
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Abstract

본 발명은 플라즈마를 이용한 악취제거 과정에서 오염가스가 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시킴과 동시에 반응시간을 충분히 길게 유지시킴으로써 유해물질의 제거효율을 높일 수 있는 고효율 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 고효율 플라즈마 악취제거 시스템에 관한 것이다.The present invention extends the plasma reaction region to which the pollutant gas is reacted in the process of removing odors using plasma, and maintains the reaction time long enough to increase the efficiency of removing harmful substances, and a high efficiency plasma odor removal using the same. It is about the system.
이를 위한 본 발명은 외부로부터 오염가스를 유입시키는 송풍기와; 상기 송풍기를 통해 유입된 오염가스 속에 포함된 먼지 등을 제거하는 전처리설비와; 상기 전처리설비를 거쳐 유입되는 오염가스의 산화반응을 유도하는 플라즈마 반응장치와; 상기 플라즈마 반응장치에 전원을 공급하는 전원공급부와; 상기 플라즈마 반응장치를 거쳐 나온 오염가스에 포함된 일부 불순물을 제거하는 후처리설비를 포함하여 이루어지되, 상기 플라즈마 반응장치는, 유입구와 배출구가 형성된 플라즈마 반응장치 본체와; 상기 본체 내부에 설치되며, 외부에서 공급되는 전원에 의해 플라즈마 아크가 발생되는 방전관과; 상기 방전관을 거쳐 플라즈마 상태로 변형된 오염가스를 산화시켜서 오염가스 중에 포함된 유해물질을 제거하는 반응촉진용필터와; 상기 방전관의 입구측에 근접하게 설치되는 분사노즐과; 상기 분사노즐로 에어를 공급하는 에어공급장치를 포함하여 이루어지고, 상기 분사노즐을 통해 방전관 내부로 일정속도의 제트에어를 분사시켜 오염가스가 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시킴과 동시에 반응시간을 길게 유지시킴으로써 유해물질 제거효율을 높이도록 한 것을 특징으로 한다.The present invention for this purpose is a blower for introducing a pollutant gas from the outside; A pretreatment facility for removing dust and the like contained in the polluted gas introduced through the blower; A plasma reactor for inducing an oxidation reaction of the polluted gas introduced through the pretreatment facility; A power supply unit supplying power to the plasma reactor; And a post-treatment facility for removing some impurities contained in the polluted gas from the plasma reactor, wherein the plasma reactor comprises: a plasma reactor main body having an inlet and an outlet; A discharge tube installed inside the main body and generating a plasma arc by power supplied from the outside; A reaction promoting filter for oxidizing the polluted gas transformed into a plasma state through the discharge tube to remove harmful substances contained in the polluted gas; A spray nozzle installed close to the inlet side of the discharge tube; It comprises an air supply device for supplying air to the injection nozzle, by injecting a jet air of a constant speed into the discharge tube through the injection nozzle to extend the plasma reaction region to react the polluted gas and at the same time lengthen the reaction time It is characterized by increasing the removal efficiency of harmful substances by maintaining.

Description

고효율 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 고효율 플라즈마 악취제거 시스템{High efficiency plasma reactor and stench removal system using it}High efficiency plasma reactor and stench removal system using it
본 발명은 플라즈마를 이용한 악취제거 과정에서 오염가스가 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시킴과 동시에 반응시간을 충분히 길게 유지시킴으로써 유해물질의 제거효율을 높일 수 있는 고효율 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 고효율 플라즈마 악취제거 시스템에 관한 것이다.The present invention extends the plasma reaction region to which the pollutant gas is reacted in the process of removing odors using plasma, and maintains the reaction time long enough to increase the efficiency of removing harmful substances, and a high efficiency plasma odor removal using the same. It is about the system.
최근까지 플라즈마를 이용한 악취 및 VOCs(Volatile Organic Compounds; 휘발성 유기화합물) 등의 오염가스를 제거하는 방법은 여러 가지 다양한 형태로 개발되어 왔다. Until recently, methods for removing odors and polluting gases such as VOCs (Volatile Organic Compounds) using plasma have been developed in various forms.
초기에 개발된 플라즈마 방식은 펄스 코로나 형태의 플라즈마를 이용하여 가스상의 오염물을 제거하는 방식으로서, 10kV 내지 25kV의 고전압을 이용하여 핀과 평판 형태의 전극에서 플라즈마를 생성하며 비활성가스를 넣어 플라즈마 상태를 안전하게 유지시켜 주는 방식이다. Initially developed plasma method is to remove gaseous contaminants using pulse corona type plasma, and generates plasma from pin and plate type electrodes using high voltage of 10kV to 25kV and adds inert gas to plasma. It keeps you safe.
그러나, 이와 같은 형태의 플라즈마 방식은 플라즈마의 형태가 불규칙하게 형성되어 악취 제거 효율이 떨어지고, 운영비용 및 처리용량에 한계가 있어 상용화 에 이르지는 못하였다. However, this type of plasma method has an irregular shape of the plasma to reduce the odor removal efficiency, there is a limit in the operating cost and processing capacity did not reach commercialization.
종래의 또 다른 형태의 플라즈마 탈취 장비는 유전체 장벽 방전 형태의 플라즈마를 이용하여 오염물을 제거하는 방식으로서, 이 장치는 평판 형태의 전극 사이에 유전체 장벽을 두어 7kV 내지 15kV의 원하는 고전압에서의 균일한 플라즈마를 형성시켜 악취 성분과 반응하게 된다. Another conventional type of plasma deodorization equipment is a method of removing contaminants using plasma in the form of dielectric barrier discharge, which is provided by a dielectric barrier between electrodes in the form of a flat plate, so that the plasma is uniform at a desired high voltage of 7 kV to 15 kV. It forms and reacts with the malodor component.
그러나, 이 장치는 압력강하 및 전극 위에 카본 등의 불순물 증착으로 효율이 떨어지며, 대용량 처리에 어려움이 있었고, 일부 상용화되어 근래에는 외국의 경우 축사, 사료공장악취 등에 활용되고 있으나 다양한 분야에 적용되지 못하고 있는 실정이다.However, this device is less efficient due to pressure drop and deposition of impurities such as carbon on the electrode, and it is difficult to treat large volumes. Recently, this device has been commercialized in some countries and used in barns and feed mills in foreign countries. There is a situation.
이 밖에 상기와 같은 플라즈마를 이용한 종래의 일부 탈취장비에서는 플라즈마 반응장치 전단에 오존을 발생시키는 오존 발생수단을 설치하여 플라즈마 반응장치 내부로 투입되는 오염가스를 오존에 의해 산화 분해하고, 오존에 의해 제거되지 않은 잔류 유해가스와 반응에 참여하지 않은 잔류 오존을 플라즈마 아크에서 발생되는 자외선에 의해 분해 처리되도록 구성한 방식도 있었다(한국 공개특허공보 제10-2006-0071691호). In addition, some of the conventional deodorization equipment using the plasma as described above by installing an ozone generating means for generating ozone in front of the plasma reactor, oxidatively decomposes the polluted gas introduced into the plasma reactor by ozone and removes it by ozone. There was also a method configured to decompose residual residual gas and the residual ozone not participating in the reaction by ultraviolet rays generated in the plasma arc (Korean Patent Publication No. 10-2006-0071691).
그러나, 상기한 종래의 방법은 오염가스를 이용하여 발생된 아크를 이동시킴으로 다음과 같은 문제가 있었다. 즉 유량 및 유관의 크기가 고정되어 있어 방전관에서 아크를 이동시키는 유속으로는 제거가 불가능하였으며, 아크 이동 영역을 확장시키기 위하여 악취 및 오염 가스의 유속을 증가시킬 경우, 반응시간이 짧아져서 유해가스가 충분히 처리되지 못하여 효율을 떨어뜨리게 되는 문제가 있었다. 반면, 반응시간을 길게 하기 위해서 유속을 감소시키게 되면 아크의 이동 영역이 좁아져 플라즈마에 의한 물질 분해 효율이 떨어지는 현상이 발생하였다. 또한 오염물질이 아크 발생부에 직접 접하게 됨으로써 먼지 등으로 인한 효율 저하도 발생되는 문제점이 있었다.However, the above conventional method has the following problems by moving the arc generated by using the polluted gas. That is, because the flow rate and the size of the oil pipe are fixed, it cannot be removed at the flow rate of moving the arc in the discharge tube. There was a problem that the efficiency is not enough to reduce the efficiency. On the other hand, if the flow rate is decreased in order to increase the reaction time, the movement region of the arc is narrowed, resulting in a decrease in material decomposition efficiency by plasma. In addition, since the pollutants come into direct contact with the arc generator, there is a problem in that efficiency is lowered due to dust.
이에, 본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 플라즈마 반응장치 내부의 방전관 입구측에 에어를 빠른 속도로 분사시킬 수 있는 분사노즐을 근접 설치함으로써, 상기 분사노즐로부터 분사되는 제트에어를 방전관 내부로 분사시켜 오염가스가 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시키고 반응시간을 충분히 길게 조절할 수 있게 되어 오염가스의 악취제거 효율을 크게 향상시킬 수 있고, 플라즈마 방전시 오염가스 내에 함유된 불순물에 의한 아크발생부 오염을 최소화할 수 있는 고효율 플라즈마 반응장치 및 이를 이용한 고효율 플라즈마 악취제거 시스템을 제공하는 데에 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an injection nozzle which can inject air at a high speed to the discharge tube inlet side of the plasma reactor in close proximity, By spraying the jet air into the discharge tube, the plasma reaction area to which the polluted gas is reacted can be expanded and the reaction time can be controlled sufficiently long, thereby greatly improving the odor removal efficiency of the polluted gas, and being contained in the polluted gas during plasma discharge. The present invention provides a high efficiency plasma reactor and a high efficiency plasma odor removal system using the same.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 반응장치는, 유입구와 배출구가 형성된 플라즈마 반응장치 본체와; 상기 본체 내부에 설치되며, 외부에서 공급되는 전원에 의해 플라즈마 아크가 발생되는 방전관과; 상기 방전관을 거쳐 플라즈마 상태로 변형된 오염가스를 산화시켜서 오염가스 중에 포함된 유해물질을 제거하는 반응촉진용필터와; 상기 방전관의 입구측에 근접하게 설치되는 분사노즐과; 상기 분사노즐로 에어를 공급하는 에어공급장치를 포함하여 이루어지되, 상기 분사노즐을 통해 방전관 내부로 일정속도의 제트에어를 분사시켜 오염가스가 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시킴과 동시에 반응시간을 길게 유지시킴으로써 유해물질 제거효율을 높이도록 한 것을 특징으로 한다.Plasma reactor according to the present invention for achieving the above object, the plasma reactor device body formed with an inlet and outlet; A discharge tube installed inside the main body and generating a plasma arc by power supplied from the outside; A reaction promoting filter for oxidizing the polluted gas transformed into a plasma state through the discharge tube to remove harmful substances contained in the polluted gas; A spray nozzle installed close to the inlet side of the discharge tube; It comprises an air supply device for supplying air to the injection nozzle, by injecting a jet air of a constant speed into the discharge tube through the injection nozzle to extend the plasma reaction region to react the polluted gas and at the same time long reaction time It is characterized by increasing the removal efficiency of harmful substances by maintaining.
이때, 본 발명의 플라즈마 반응장치는 상기 분사노즐과 방전관 및 반응촉진용필터를 포함하는 그룹이 2단 이상으로 구성될 수 있다.In this case, in the plasma reactor of the present invention, a group including the injection nozzle, the discharge tube, and the reaction promotion filter may be configured in two or more stages.
한편, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 고효율 플라즈마 악취제거 시스템은, 외부로부터 오염가스를 유입시키는 송풍기와; 상기 송풍기를 통해 유입된 오염가스 속에 포함된 먼지 등을 제거하는 전처리설비와; 상기 전처리설비를 거쳐 유입되는 오염가스의 산화반응을 유도하는 플라즈마 반응장치와; 상기 플라즈마 반응장치에 전원을 공급하는 전원공급부와; 상기 플라즈마 반응장치를 거쳐 나온 오염가스에 포함된 일부 불순물을 제거하는 후처리설비를 포함하여 이루어지되, 상기 플라즈마 반응장치는, 유입구와 배출구가 형성된 플라즈마 반응장치 본체와; 상기 본체 내부에 설치되며, 외부에서 공급되는 전원에 의해 플라즈마 아크가 발생되는 방전관과; 상기 방전관을 거쳐 플라즈마 상태로 변형된 오염가스를 산화시켜서 오염가스 중에 포함된 유해물질을 제거하는 반응촉진용필터와; 상기 방전관의 입구측에 근접하게 설치되는 분사노즐과; 상기 분사노즐로 에어를 공급하는 에어공급장치를 포함하여 이루어지고, 상기 분사노즐을 통해 방전관 내부로 일정속도의 제트에어를 분사시켜 오염가스가 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시킴과 동시에 반응시간을 길게 유지시킴으로써 유해물질 제거효율을 높이도록 한 것을 특징으로 한다.On the other hand, high efficiency plasma odor removing system according to the present invention for achieving the above object, a blower for introducing a pollutant gas from the outside; A pretreatment facility for removing dust and the like contained in the polluted gas introduced through the blower; A plasma reactor for inducing an oxidation reaction of the polluted gas introduced through the pretreatment facility; A power supply unit supplying power to the plasma reactor; And a post-treatment facility for removing some impurities contained in the polluted gas from the plasma reactor, wherein the plasma reactor comprises: a plasma reactor main body having an inlet and an outlet; A discharge tube installed inside the main body and generating a plasma arc by power supplied from the outside; A reaction promoting filter for oxidizing the polluted gas transformed into a plasma state through the discharge tube to remove harmful substances contained in the polluted gas; A spray nozzle installed close to the inlet side of the discharge tube; It comprises an air supply device for supplying air to the injection nozzle, by injecting a jet air of a constant speed into the discharge tube through the injection nozzle to extend the plasma reaction region to react the polluted gas and at the same time lengthen the reaction time It is characterized by increasing the removal efficiency of harmful substances by maintaining.
이때, 본 발명의 플라즈마 악취제거 시스템은 상기 분사노즐과 방전관 및 반응촉진용필터를 포함하는 그룹이 2단 이상으로 구성될 수 있다.In this case, the plasma odor removing system of the present invention may be composed of two or more groups including the injection nozzle, the discharge tube, and the reaction promotion filter.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따르면, 플라즈마 반응장치 내부의 방전관 입구측에 에어(공기)를 빠른 속도로 분사시킬 수 있는 분사노즐을 근접 설치함으로써, 상기 분사노즐로부터 분사되는 제트에어를 방전관 내부로 분사시켜 오염가스가 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시키고 반응시간을 충분히 길게 조절할 수 있게 되어 오염가스의 악취제거 효율을 크게 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 아울러, 플라즈마 방전시 오염가스 내에 함유된 불순물(먼지, 점착성 물질 등)에 의한 아크발생부 오염을 최소화할 수 있는 효과도 얻을 수 있다. According to the present invention having the above-described configuration, the jet air injected from the injection nozzle is discharged inside the discharge tube by providing an injection nozzle capable of rapidly injecting air (air) at the discharge tube inlet side of the plasma reactor. It is possible to extend the plasma reaction region to which the polluted gas is reacted by controlling the reaction time and to sufficiently adjust the reaction time, thereby greatly improving the odor removal efficiency of the polluted gas. In addition, it is also possible to obtain an effect of minimizing the arc generation part contamination by impurities (dust, adhesive material, etc.) contained in the contaminated gas during plasma discharge.
또한, 본 발명은 분사노즐로부터 공급되는 제트에어를 통해 공기 중 산소 및 수분과 반응하여 강력한 산화물인 산화 라디컬(OH radical) 생성을 촉진함으로써, 기존과 같이 오존 투입을 위한 오존발생기 등의 불필요한 장비를 사용하지 않아도 되는 장점을 가진다.In addition, the present invention promotes the generation of oxidizing radicals (OH radicals), which are powerful oxides, by reacting with oxygen and moisture in the air through a jet air supplied from the injection nozzle, thus unnecessary equipment such as an ozone generator for ozone input as in the past. It has the advantage of not having to use.
또한, 본 발명은 반응촉진용필터를 통해 여기된 라디컬 및 이온 등의 체류시간을 증가시켜 미반응 물질을 완전 산화시킬 수 있으며, 원하지 않는 2차오염물질의 생성을 억제하여 안정되고 무해한 가스로의 산화반응을 유도시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In addition, the present invention can increase the residence time of the radicals and ions excited through the reaction promoting filter to completely oxidize the unreacted substances, to suppress the formation of unwanted secondary pollutants to a stable and harmless gas The effect of inducing an oxidation reaction can be obtained.
또한, 본 발명은 분사노즐과 방전관 및 반응촉진용필터를 포함하는 그룹을 2단 이상으로 적층 배열하여 구성함으로써, 오염가스 중에 포함된 유해물질의 제거효율을 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention is configured by stacking the group including the injection nozzle, the discharge tube and the reaction promotion filter in two or more stages, thereby maximizing the removal efficiency of harmful substances contained in the polluted gas.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 고효율 플라즈마 악취제거 시스템의 전체구성을 도시한 구성도이고, 도 2는 도 1의 플라즈마 반응장치의 구성을 상세하게 보여주는 상세도이며, 도 3은 도 2의 방전관 구성을 상세하게 보여주는 상세도이다.1 is a block diagram showing the overall configuration of a high efficiency plasma odor removal system according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a detailed view showing the configuration of the plasma reactor of Figure 1, Figure 3 is FIG. It is the detail which shows the structure of the discharge tube of in detail.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 고효율 플라즈마 악취제거 시트템은 플라즈마 방전을 이용하여 오염가스 중에 포함된 악취를 제거(탈취)하는 장치로써, 외부로부터 오염가스를 강제로 유입시키는 송풍기(110)와, 상기 송풍기(110)를 통해 유입된 오염가스 속에 포함된 수분 및 먼지 등을 제거하는 전처리설비(120)와, 상기 전처리설비(120)를 거쳐 유입되는 오염가스의 산화반응을 유도하는 플라즈마 반응장치(130)와, 상기 플라즈마 반응장치(130)에 전원을 공급하는 플라즈마 전원부(150) 및 상기 플라즈마 반응장치(130)를 거쳐 나온 가스에 포함된 일부 불순물을 제거하기 위한 후처리설비(140)로 구성된다.1 to 3, the high-efficiency plasma odor removal system according to the present invention is a device for removing (deodorizing) the odor contained in the polluted gas using a plasma discharge, a blower forcibly introducing the polluted gas from the outside 110, the pretreatment facility 120 for removing moisture and dust contained in the polluted gas introduced through the blower 110, and induces an oxidation reaction of the polluted gas introduced through the pretreatment facility 120 Post-processing equipment for removing some impurities contained in the plasma reactor 130, the plasma power supply unit 150 for supplying power to the plasma reactor 130 and the gas from the plasma reactor 130 140.
구체적으로, 본 발명에 따른 플라즈마 악취제거 시스템은 도 2에서 보는 것과 같이, 유입구(250)와 배출구(270)가 형성된 플라즈마 반응장치(130) 본체와, 상기 본체 내부에 설치되며, 플라즈마 전원부(150)로부터 인가된 전원에 의해 플라즈마 아크가 발생되는 다수의 방전관(210)과, 상기 플라즈마 아크에서 발생되는 자외선을 흡수하여 강력한 산화력을 갖는 OH 라디컬(radical)을 발생시키는 반응촉진용필터(220)와, 상기 방전관(210) 내부로 일정속도의 제트에어(zet air)를 불어 넣어 플라즈마의 반응영역 및 반응시간을 높이도록 하는 다수의 분사노즐(240)과, 상기 분사노즐(240)로 에어를 공급하는 에어공급장치(230)를 포함하여 이루어져 있다. 여기서, 상기 전처리설비(120)와 후처리설비(140)는 스크린이나 필터를 포함하는 여과설비이다.Specifically, the plasma odor removing system according to the present invention, as shown in Figure 2, the inlet 250 and the outlet 270 is formed in the body of the plasma reactor 130, the inside of the body, the plasma power supply unit 150 A plurality of discharge tubes 210 for generating a plasma arc by the power applied from the) and the reaction-promoting filter 220 for generating OH radicals having strong oxidizing power by absorbing ultraviolet rays generated in the plasma arc And a plurality of injection nozzles 240 for blowing a jet air at a constant speed into the discharge tube 210 to increase the reaction region and the reaction time of the plasma, and air to the injection nozzles 240. It comprises an air supply device 230 for supplying. Here, the pretreatment facility 120 and the aftertreatment facility 140 is a filtration facility including a screen or a filter.
상기 플라즈마 전원부(150)는 일정전압 및 전류를 공급하는 변압기와, 상기 변압기의 규모를 최소화할 수 있도록 전원 주파수를 조절하는 주파수조절장치와, 안전 장치 및 제어장치로 구성되어 있다. The plasma power supply unit 150 is composed of a transformer for supplying a constant voltage and current, a frequency control device for adjusting the power frequency so as to minimize the scale of the transformer, a safety device and a control device.
상기 플라즈마 반응장치(130) 본체와 상기 방전관(210)의 재질은 바람직하게는 스테인리스 스틸 (stainless steel)재질로 구성되고, 오염가스의 부식성 여부에 따라 다양한 금속 재질을 적용하여 구성할 수 있다.The material of the body of the plasma reactor 130 and the discharge tube 210 is preferably made of stainless steel, and may be configured by applying various metal materials depending on whether the polluting gas is corrosive.
이때, 상기 적용되는 다양한 금속 재질의 하나의 형태로서, 예컨대 하스텔로이(hastelloy), 티타늄(titanium), 인코넬(inconel) 등의 특수 합금이 채용되거나, 스테인리스 스틸에 테프론(teflon)을 코팅하여 이를 이용하여 구성할 수 있다.In this case, as one form of the various metal materials to be applied, for example, a special alloy such as Hastelloy, titanium, Inconel, or the like is employed, or by using Teflon coated on stainless steel Can be configured.
오염가스가 통과되는 방전관(210) 내부는 나팔관 형태로 이루어져 있는바, 아크가 발생되는 최하단의 아크발생부(A)로부터 최상단의 아크소멸부(B)으로 갈수록 직경이 증가되는 구조로 이루어져 있다. 이러한 방전관(210)은 외주부에 배치된 지지대(260)를 통해 플라즈마 반응장치(130) 내부에 고정 설치된다.The discharge tube 210 inside which the pollutant gas passes is formed in the form of a fallopian tube, and has a structure in which a diameter increases from the arc generating unit A at the lowermost end to the arc extinguishing unit B at the highest end. The discharge tube 210 is fixedly installed in the plasma reactor 130 through the support 260 disposed on the outer peripheral portion.
이와 같은 구조로 된 본 발명의 플라즈마 반응장치(130) 내에서의 플라즈마 생성과정은 다음과 같다. The plasma generation process in the plasma reactor 130 of the present invention having such a structure is as follows.
먼저, 플라즈마 전원부(150)로부터 플라즈마 반응장치(130)의 방전관(210)에 5kV 내지 8kV의 전압을 일정하게 공급한다. First, a voltage of 5 kV to 8 kV is uniformly supplied from the plasma power supply unit 150 to the discharge tube 210 of the plasma reactor 130.
이때, 전류는 30mA내지 70mA를 유지하며, 주파수는 12,000Hz 내지 20,000Hz 를 유지하게 된다.At this time, the current is maintained at 30mA to 70mA, the frequency is maintained at 12,000Hz to 20,000Hz.
이렇게 상기 플라즈마 전원부(150)로부터 방전관(210)에 전기가 공급이 되면, 상기 방전관(210) 내부의 하단에 위치한 아크발생부(A)에서 플라즈마 아크가 발생한다. When electricity is supplied from the plasma power supply unit 150 to the discharge tube 210, a plasma arc is generated in the arc generator A located at the lower end of the discharge tube 210.
이때, 상기 아크발생부(A)의 전극 간격이 너무 좁으면 단락이 일어나 장비가 파손되고, 간격이 너무 넓으면 아크 발생이 어렵기 때문에 적절한 전극 간격을 유지하는 것이 중요하다.At this time, if the electrode spacing of the arc generating unit (A) is too narrow, a short circuit occurs, the equipment is damaged, if the spacing is too wide, it is important to maintain the proper electrode spacing because it is difficult to generate arc.
본 발명에서 채용되는 아크발생부(A)의 바람직한 전극 간격(W1)은 1mm 내지 3mm로 형성되어 있다.The preferred electrode spacing W 1 of the arc generating unit A employed in the present invention is formed from 1 mm to 3 mm.
아울러 상기 아크발생부(A)로부터 아크소멸부(B)까지의 높이(H)는 8cm 내지 15cm로 형성된다.In addition, the height (H) from the arc generating portion (A) to the arc extinction portion (B) is formed of 8cm to 15cm.
또한, 상기 아크소멸부(B) 사이의 전극 간격(W2)은 5cm 내지 10cm으로 형성되어 있다.In addition, the electrode gap (W 2 ) between the arc extinction portion (B) is formed of 5cm to 10cm.
이때, 상기한 아크소멸부(B) 사이의 전극 간격(W2)은 상기 아크소멸부(B)로부터 상기 아크발생부(A)까지의 높이(H)에 따라 결정된다. At this time, the electrode spacing W 2 between the arc extinction portion (B) is determined according to the height (H) from the arc extinction portion (B) to the arc generating portion (A).
한편, 상기 아크발생부(A)에서 발생된 플라즈마 아크는 하부의 분사노즐(240)로부터 분사되는 제트에어에 의해서 방전관(210)의 아크소멸부(B) 지점으로 이동하게 된다. On the other hand, the plasma arc generated in the arc generating unit (A) is moved to the arc extinguishing portion (B) point of the discharge tube 210 by a jet air injected from the lower injection nozzle 240.
이때, 상기 분사노즐(240)에서 분사되는 제트에어의 공기압 및 공기유량은 500mmAq 내지 600mmAq의 높은 압력으로 2 liter/min 내지 200 liter/min의 소량으로 공급하도록 하는 것이 바람직하다.At this time, the air pressure and the air flow rate of the jet air injected from the injection nozzle 240 is preferably supplied to a small amount of 2 liter / min to 200 liter / min at a high pressure of 500mmAq to 600mmAq.
상기 분사노즐(240)은 상기 방전관(210)의 최하단의 아크발생부(A) 지점으로부터 5mm 내지 10mm 정도의 가까운 근접된 곳에 위치하도록 설치하는 것이 바람직하다.The injection nozzle 240 is preferably installed so as to be located in close proximity of about 5mm to 10mm from the arc generating portion (A) of the lowest end of the discharge tube (210).
또한, 상기 분사노즐(240)의 노즐 구멍은 1mm 내지 2mm 정도로 매우 작게 형성함으로써 방전관(210)의 아크발생부(A)에서 공기의 순간 속도가 10m/sec 내지 30m/sec로 빠르게 이동되도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 공기(제트에어)의 빠른 흐름에 따라 아크발생부(A)에서 생성된 아크가 상부로 이동하게 되어 오염가스에 대한 플라즈마 반응 영역을 확장시키게 된다. In addition, the nozzle hole of the injection nozzle 240 is formed so small as about 1mm to 2mm so that the instantaneous speed of the air in the arc generating portion (A) of the discharge tube 210 to move quickly from 10m / sec to 30m / sec. desirable. As a result of the rapid flow of air (jet air), the arc generated in the arc generating unit A moves upward to expand the plasma reaction region for the polluted gas.
한편, 악취 및 VOCs(휘발성 유기화합물) 등의 오염가스는 상기 방전관(210)에서 생성된 플라즈마 아크 영역을 통과하면서, 전자 이온 및 라디컬 형태, 즉 플라즈마 상태로 변형이 된다. On the other hand, pollutant gases such as odors and VOCs (volatile organic compounds) are transformed into electron ions and radical forms, that is, plasma states, while passing through the plasma arc region generated in the discharge tube 210.
그리고, 플라즈마 상태로 변형된 오염가스는 반응촉진용필터(220)에서 산화반응을 일으키게 되는데, 상기 반응촉진용필터(220)에서는 플라즈마 아크에서 발생되는 파장(자외선)에 의해 활성화되어 강력한 산화력을 갖는 OH 라디컬(radical)을 발생시켜서 강력한 탈취 및 살균효과를 일으키게 된다.In addition, the contaminated gas transformed into a plasma state causes an oxidation reaction in the reaction promotion filter 220. In the reaction promotion filter 220, the pollutant gas is activated by a wavelength (ultraviolet rays) generated in a plasma arc, and has a strong oxidation power. It generates OH radicals, resulting in a strong deodorizing and sterilizing effect.
이때, 상기 반응촉진용필터(2)는 TiO2 등으로 코팅된 세라믹필터, 또는 TiO2의 활성을 보조하는 Pt, Pd, V, Co, Mo, Fe 등의 전이금속과 함께 코팅된 TiO2 세라 믹필터, 또는 TiO2 등이 첨착된 제올라이트, 활성탄, 알루미나 등의 흡착필터로 이루어져 있으며, 이러한 상기 반응촉진용필터(2)는 플라즈마 아크에서 발생하는 파장에 의해 활성화된다. At this time, the reaction filter (2) for facilitating the TiO 2 coated with a ceramic filter, or a transition metal such as Pt, Pd, V, Co, Mo, Fe to assist the activity of the TiO 2 coated with TiO such as 2 Sera It consists of a adsorption filter such as a zeolite, activated carbon, alumina, etc., to which a mixed filter or TiO 2 is impregnated. The reaction promoting filter 2 is activated by a wavelength generated in a plasma arc.
이와 같이 반응촉진용필터(220)는 여기된 라디컬 및 이온 등의 체류시간을 증가시켜 미반응 물질을 완전 산화시키며, 원하지 않는 2차오염물질의 생성을 억제하여 원하는 안정되고 무해한 가스로의 산화반응을 유도하게 되는 것이다. As such, the reaction promoting filter 220 increases the residence time of excited radicals and ions, thereby completely oxidizing unreacted substances, and suppresses the formation of unwanted secondary pollutants, thereby oxidizing the desired stable and harmless gas. Will be induced.
상기와 같이 방전관(210) 및 반응촉진용필터(220)를 거쳐 유해물질이 제거된 상태의 무해한 정화가스는 후처리설비(140)인 스크러버(scrubber)를 거치면서 무해한 가스 중에 포함된 일부 불순물이 최종적으로 제거된다. 즉, 상기 반응촉진용필터(220)에서 산화반응을 통해 생성된 미량의 불순물은 상기 스크러버 내에서 수용성 물질로 형성됨으로 물을 통과함으로 완벽하게 제거된다. Harmful purge gas in which noxious substances are removed through the discharge tube 210 and the reaction promotion filter 220 as described above may have some impurities contained in the harmless gas while passing through a scrubber. Finally removed. That is, the trace impurities generated through the oxidation reaction in the reaction promotion filter 220 are completely removed by passing through water because they are formed of a water-soluble material in the scrubber.
위와 같은 본 발명의 플라즈마 악취제거 시스템은 분사노즐(240)과 방전관(210) 및 반응촉진용필터(220)를 포함하는 그룹이 상하방향으로 2단으로 적층 배열되도록 구성될 수 있으며, 또한, 본 발명의 전처리설비(120)와 후처리설비(140)는 처리대상인 오염가스의 특징에 따라서 2단 이상으로 선택적으로 사용될 수 있다.Plasma odor removal system of the present invention as described above may be configured such that the group including the injection nozzle 240 and the discharge tube 210 and the reaction promoting filter 220 is stacked in two stages in the vertical direction, also, the present The pretreatment facility 120 and the aftertreatment facility 140 of the present invention may be selectively used in two or more stages depending on the characteristics of the polluting gas to be treated.
이와 같이, 본 발명은 방전관(210) 하부의 분사노즐(240)로부터 분사되는 제트에어에 의해 플라즈마 반응영역을 확장시키고, 아울러 반응영역의 확장에 따라 반응시간이 충분히 길게 조절됨으로써 오염가스 중에 포함된 유해물질(악취)의 제 거 효율을 향상시킬 수 있게 된다. 또한, 처리대상 가스 내에 함유되어 있는 먼지, 점착성 물질 등과 같은 불순물에 의해 아크발생부(A)가 오염되는 것을 최소화할 수 있다.As described above, the present invention extends the plasma reaction region by jet air injected from the injection nozzle 240 under the discharge tube 210, and furthermore, the reaction time is controlled to be sufficiently long according to the expansion of the reaction region, thereby being included in the polluted gas. It is possible to improve the removal efficiency of harmful substances (odors). In addition, it is possible to minimize the contamination of the arc generating unit (A) by impurities such as dust, adhesive material, etc. contained in the gas to be treated.
또한, 본 발명의 고효율 플라즈마 악취제거 시스템은 분사노즐(240)을 통한 공기 공급을 통해 공기 중 산소 및 수분과 반응하여 산화 라디컬 생성을 촉진함으로써, 오존 투입과 플라즈마를 함께 이용하는 기존의 탈취장비처럼 오존투입을 위한 별도의 불필요한 장비를 사용하지 않아도 되는 장점을 가진다.In addition, the high-efficiency plasma odor removal system of the present invention promotes oxidation radicals by reacting with oxygen and moisture in the air through the air supply through the injection nozzle 240, as in the existing deodorization equipment using both ozone input and plasma. It has the advantage of not having to use extra equipment for ozone injection.
이하에서는 본 발명의 고효율 플라즈마 악취제거 시스템을 이용하여 오염가스 중의 유해물질을 제거하는 실험결과를 설명하기로 한다.Hereinafter, the experimental results of removing the harmful substances in the polluted gas using the high efficiency plasma odor removal system of the present invention will be described.
실험예 1Experimental Example 1
본 실험에서는 본 발명의 고효율 플라즈마 악취제거 시스템을 이용하여 5m3/min의 오염가스를 처리하였다. In this experiment, 5m 3 / min pollutant gas was treated using the high efficiency plasma odor removal system of the present invention.
상기 플라즈마 악취제거 시스템으로부터 처리된 오염가스의 조성은 아래의 <표 1>과 같다.The composition of the polluted gas treated from the plasma odor removal system is shown in Table 1 below.
성분ingredient 암모니아ammonia 황화수소Hydrogen sulfide 트리메틸아민Trimethylamine TVOCTVOC
농도(ppm)Concentration (ppm) 100100 100100 100100 200200
<표 1>TABLE 1
여기서, TVOC는 톨루엔, 자일렌, 알데히드 등으로 구성되었다.Here, TVOC is composed of toluene, xylene, aldehyde and the like.
한편, 플라즈마 전원부(150)에서 공급하는 전압과 전류에 따른 오염물질 처리 결과를 아래의 <표 2>에 명시하였다.On the other hand, the pollutant treatment results according to the voltage and current supplied from the plasma power supply unit 150 is specified in Table 2 below.
전압 (kV)Voltage (kV) 전류 (mA)Current (mA) 암모니아 (ppm)Ammonia (ppm) 황화수소 (ppm)Hydrogen sulfide (ppm) 트리메틸아민(ppm)Trimethylamine (ppm) TVOC (ppm)TVOC (ppm) NOx (ppm)NOx (ppm)
44 8888 9595 9898 9797 181181 00
55 5757 4949 5252 5555 122122 00
66 4646 44 44 55 1616 0.10.1
77 4141 44 44 55 1313 0.10.1
88 3838 33 44 44 1212 0.40.4
99 3636 33 33 33 1010 1111
1010 3535 22 22 33 1010 2626
<표 2>TABLE 2
상기 실험예 1에 의하면 전압이 5kV 미만에서는 플라즈마 발생이 안되었고, 반응촉진용필터(220)에 흡착에 의해 일부 오염물질만 흡착되고 대부분의 물질이 배출되었다. 반면, 전압이 5kv 이상에서는 정상적으로 플라즈마가 발생하였으며, 전압이 8kV 초과하면서 NOx의 발생량이 증가하게 되는데, 이는 에너지 과잉공급으로 인한 공기 중 질소의 파괴에 의해서 발생하는 것으로 보여진다. 따라서, 본 발명에서는 상기와 같은 2차 오염 물질 생성 방지를 위해서 전압을 5kV 내지 8kV으로 설정하여 공급하였다.According to Experimental Example 1, plasma was not generated when the voltage was less than 5 kV, and only some contaminants were adsorbed by adsorption to the reaction promotion filter 220 and most of the materials were discharged. On the other hand, when the voltage is above 5kv, plasma is generated normally, and the voltage exceeds 8kV, and the amount of NOx is increased, which is caused by the destruction of nitrogen in the air due to the oversupply of energy. Therefore, in the present invention, in order to prevent the generation of secondary pollutants as described above, the voltage was set to 5 kV to 8 kV.
실험예 2Experimental Example 2
본 실험에서는 전술된 실험예 1의 조건 중에서 공급전압이 7kV 조건에서 실험을 실시하였으며, 본 실험을 통해 방전관 조건에 따른 오염물질 처리효율의 변화를 확인하였다. In this experiment, the experiment was performed under the supply voltage of 7kV condition of the above Experimental Example 1, the change of pollutant treatment efficiency according to the discharge tube conditions was confirmed through this experiment.
아크발생부(A)에서의 전극간격(W1)에 따른 플라즈마 발생 여부를 아래의 <표 3>에 나타내었다.Plasma generation according to the electrode spacing (W 1 ) in the arc generating unit (A) is shown in Table 3 below.
A지점에서의 전극간격(mm)Electrode spacing at point A (mm) 0.50.5 1One 22 33 44
플라즈마 발생 여부Plasma occurrence × (단락) × (paragraph) ××
<표 3>TABLE 3
위의 <표 3>을 통해서 방전관(210)의 아크발생부(A)에서의 전극간격(W1)에 따라 플라즈마 생성 및 형태의 변화를 확인하였다. 실험 결과, 아크발생부(A)의 전극간격이 1mm이하 간격에서는 7 kV 전압에서 단락이 발생하여 전극부위가 일부 녹아 내렸으며, 3mm 이상에서는 전극 간의 가스물질의 절연파괴가 이루어지지 않아 플라즈마가 발생하지 않았다. Through the above <Table 3> it was confirmed that the plasma generation and the shape change according to the electrode spacing (W 1 ) in the arc generator (A) of the discharge tube (210). As a result of the experiment, when the electrode spacing of the arc generating unit A is 1 mm or less, a short circuit occurs at a voltage of 7 kV, and the electrode part is partially melted. Did not do it.
실험예 3Experimental Example 3
본 실험에서는 전술된 실험예 2에 있어서, 아크발생부(A)인 A지점의 전극간격(W1)이 2mm 일 때의 방전관(210)의 전극길이(A지점-B지점;H)에 따른 제거효율을 아래의 <표 4>에 나타내었다.In this experiment, in Experimental Example 2 described above, according to the electrode length (point A-B; H) of the discharge tube 210 when the electrode spacing W 1 at the point A, which is the arc generating unit A, was 2 mm. Removal efficiency is shown in Table 4 below.
전극길이 (cm)Electrode length (cm) 암모니아 (ppm)Ammonia (ppm) 황화수소 (ppm)Hydrogen sulfide (ppm) 트리메틸아민 (ppm)Trimethylamine (ppm) TVOC (ppm)TVOC (ppm) 전력사용량 (W)Power Consumption (W)
3~73 ~ 7 3232 3333 3939 5151 700700
8-158-15 44 44 55 1313 950950
16~2516-25 44 44 44 1111 12001200
<표 4>TABLE 4
위의 <표 4>에서 볼 수 있듯이 방전관의 전극길이(A지점-B지점), 즉 전극높이(H)에 따른 오염물질 처리결과, 전극길이가 8cm 미만에서 효율이 급격히 감소하였고, 8cm 이상에서 처리효율의 변화가 없었으며, 15cm이상에서 전력사용량이 증가 하여 에너지 대비 효과가 떨어짐을 확인하였다. 8cm에서 15cm에서의 전력사용량의 차이는 별로 나지 않으나 전극길이가 15cm이상으로 늘어나면서 전력사용량이 급격히 증가하는 현상을 보였다. 이와 같은 현상은 아크소멸부(B지점)에서의 전극간격과 관련된 것으로 보여진다. B지점의 전극간격이 10cm 이상으로 벌어지면서 과잉전류가 공급되면서 플라즈마의 영역은 확장되지 않고 전력사용량만 증가한 것으로 보인다.As shown in Table 4 above, as a result of the contaminant treatment according to the electrode length (point A-B) of the discharge tube, that is, the electrode height (H), the efficiency decreased rapidly when the electrode length was less than 8 cm, and at more than 8 cm. There was no change in treatment efficiency, and it was confirmed that the efficiency of energy was lowered due to the increase in the amount of power used above 15 cm. The difference in power consumption from 8cm to 15cm is not much, but as the electrode length is increased to more than 15cm, the power usage is rapidly increased. This phenomenon is considered to be related to the electrode spacing at the arc extinction portion (B point). As the electrode spacing at point B is more than 10cm, excess current is supplied and the area of the plasma does not expand, but only the power consumption is increased.
실험예 4Experimental Example 4
본 실험에서는 분사노즐(240)를 통해 공급된 공기(제트에어) 유속에 따른 오염물질 제거 실험을 수행하였다. 실험결과는 아래의 <표 5>와 같다.In this experiment, the pollutant removal experiment was performed according to the air (jet air) flow rate supplied through the injection nozzle (240). The experimental results are shown in Table 5 below.
공기유속 (m/sec)Air flow rate (m / sec) 55 1010 2020 3030 4040
오염물질 제거 효율(%)Pollutant removal efficiency (%) 81.2%81.2% 94.8%94.8% 97.6%97.6% 85.5%85.5% 12.1%12.1%
<표 5>TABLE 5
본 발명에 따른 분사노즐(240)은 플라즈마 발생영역을 확장시키고 산소 및 수분을 공급하여 산화반응에 도움을 주며, 안정적인 플라즈마 반응을 일으키는데 영향을 준다. 실험 결과, 상기 분사노즐(240)을 통해 유입되는 공기(제트에어)는 유속이 빠를수록 플라즈마의 영역을 증가시켜 오염물질 제거효율이 향상되나, 20m/sec 내지 30m/sec의 유속을 초과하면서 효율이 떨어지기 시작한다. 30m/sec 이후로는 효율이 급격히 떨어지는데, 이는 유속이 너무 빨라 생성된 아크가 전이되어 플라즈마 영역을 확장하지 못하고 아크가 일찍 소멸되기 때문이라 추측된다.The injection nozzle 240 according to the present invention expands the plasma generating region, supplies oxygen and moisture to assist the oxidation reaction, and affects the stable plasma reaction. As a result of the experiment, the air (jet air) introduced through the injection nozzle 240 increases the area of the plasma as the flow rate increases, but the contaminant removal efficiency is improved, but the efficiency exceeds the flow rate of 20m / sec to 30m / sec It starts to fall. After 30 m / sec, the efficiency drops drastically, because it is assumed that the flow rate is so fast that the generated arcs do not transition to expand the plasma region and the arcs die out early.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 고효율 플라즈마 악취제거 시스템의 전체구성을 도시한 구성도.1 is a block diagram showing the overall configuration of a high-efficiency plasma odor removal system according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 플라즈마 반응장치의 구성을 상세하게 보여주는 상세도.Figure 2 is a detailed view showing the configuration of the plasma reactor of Figure 1 in detail.
도 3은 도 2의 방전관 구성을 상세하게 보여주는 상세도.3 is a detailed view showing in detail the discharge tube configuration of FIG.
*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *** *** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***
110 : 송풍기 120 : 전처리설비(전처리여과설비)110: blower 120: pretreatment facility (pretreatment filtration facility)
130 : 플라즈마 반응장치 140 : 후처리설비(후처리여과설비)130: plasma reactor 140: post-treatment equipment (post-treatment filtration equipment)
150 : 플라즈마 전원부 210 : 방전관150: plasma power supply unit 210: discharge tube
220 : 반응촉진용필터 230 : 에어공급장치220: filter for promoting reaction 230: air supply device
240 : 분사노즐 250 : 유입구240: injection nozzle 250: inlet
260 : (방전관)지지대 270 : 배출구260: (discharge tube) support 270: outlet
A : 아크발생부 B : 아크소멸부A: arc generating part B: arc extinguishing part

Claims (4)

  1. 유입구와 배출구가 형성된 플라즈마 반응장치 본체와;A plasma reactor main body formed with an inlet and an outlet;
    상기 본체 내부에 설치되며, 외부에서 공급되는 전원에 의해 플라즈마 아크가 발생되는 방전관과;A discharge tube installed inside the main body and generating a plasma arc by power supplied from the outside;
    상기 방전관을 거쳐 플라즈마 상태로 변형된 악취물질 및 휘발성 유기화합물을 산화시켜서 제거하는 반응촉진용필터와;A reaction promoting filter for oxidizing and removing odorous substances and volatile organic compounds transformed into a plasma state through the discharge tube;
    상기 방전관의 입구측에 근접하게 설치되는 분사노즐과;A spray nozzle installed close to the inlet side of the discharge tube;
    상기 분사노즐로 에어를 공급하는 에어공급장치를 포함하여 이루어지되,Including the air supply device for supplying air to the injection nozzle,
    상기 분사노즐을 통해 방전관 내부로 일정속도의 제트에어를 분사시켜 악취물질 및 휘발성 유기화합물이 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시킴과 동시에 반응시간을 길게 유지시킴으로써 유해물질 제거효율을 높이도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치.The jet nozzle is sprayed into the discharge tube through the injection nozzle to expand the plasma reaction zone where odorous substances and volatile organic compounds are reacted and to maintain the reaction time to increase the efficiency of removing harmful substances. Plasma reactor.
  2. 제1항에 있어서, 상기 분사노즐과 방전관 및 반응촉진용필터를 포함하는 그룹이 2단 이상으로 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치.The plasma reactor according to claim 1, wherein the group including the injection nozzle, the discharge tube, and the reaction promotion filter is composed of two or more stages.
  3. 외부로부터 악취물질 및 휘발성 유기화합물을 유입시키는 송풍기와;A blower for introducing malodorous substances and volatile organic compounds from the outside;
    상기 송풍기를 통해 유입된 악취물질 및 휘발성 유기화합물 속에 포함된 먼지를 제거하는 전처리여과설비와;A pre-treatment filtration system for removing dust contained in odorous substances and volatile organic compounds introduced through the blower;
    상기 전처리설비를 거쳐 유입되는 악취물질 및 휘발성 유기화합물의 산화반응을 유도하는 플라즈마 반응장치와;A plasma reactor for inducing oxidation of malodorous substances and volatile organic compounds introduced through the pretreatment facility;
    상기 플라즈마 반응장치에 전원을 공급하는 전원공급부와;A power supply unit supplying power to the plasma reactor;
    상기 플라즈마 반응장치를 거쳐 나온 악취물질 및 휘발성 유기화합물에 포함된 불순물을 제거하는 후처리여과설비를 포함하여 이루어지되,It comprises a post-treatment filtration equipment for removing impurities contained in the odorous substances and volatile organic compounds from the plasma reactor,
    상기 플라즈마 반응장치는,The plasma reactor,
    유입구와 배출구가 형성된 플라즈마 반응장치 본체와;A plasma reactor main body formed with an inlet and an outlet;
    상기 본체 내부에 설치되며, 외부에서 공급되는 전원에 의해 플라즈마 아크가 발생되는 방전관과;A discharge tube installed inside the main body and generating a plasma arc by power supplied from the outside;
    상기 방전관을 거쳐 플라즈마 상태로 변형된 악취물질 및 휘발성 유기화합물을 산화시켜서 제거하는 반응촉진용필터와;A reaction promoting filter for oxidizing and removing odorous substances and volatile organic compounds transformed into a plasma state through the discharge tube;
    상기 방전관의 입구측에 근접하게 설치되는 분사노즐과;A spray nozzle installed close to the inlet side of the discharge tube;
    상기 분사노즐로 에어를 공급하는 에어공급장치를 포함하여 이루어지고,It comprises an air supply device for supplying air to the injection nozzle,
    상기 분사노즐을 통해 방전관 내부로 일정속도의 제트에어를 분사시켜 악취물질 및 휘발성 유기화합물이 반응되는 플라즈마 반응영역을 확장시킴과 동시에 반응시간을 길게 유지시킴으로써 유해물질 제거효율을 높이도록 한 것을 특징으로 하는 고효율 플라즈마 악취제거 시스템.The jet nozzle is sprayed into the discharge tube through the injection nozzle to expand the plasma reaction zone where odorous substances and volatile organic compounds are reacted and to maintain the reaction time to increase the efficiency of removing harmful substances. High efficiency plasma odor removal system.
  4. 제3항에 있어서, 상기 분사노즐과 방전관 및 반응촉진용필터를 포함하는 그룹이 2단 이상으로 구성된 것을 특징으로 하는 고효율 플라즈마 악취제거 시스템.4. The high efficiency plasma odor removing system according to claim 3, wherein the group including the injection nozzle, the discharge tube, and the reaction promotion filter is composed of two or more stages.
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