KR100925761B1 - Fabrication method of printed circuit board - Google Patents

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Abstract

인쇄회로기판의 제작 방법이 개시된다. 본 발명의 실시예에 따르면, 기판에 전사시키고자 하는 조도(roughness)에 상응하는 미세 요철이 내면에 형성된 금형을 제작하는 단계; 상기 금형 안에 열가소성 소재를 충전하는 단계; 상기 금형 안에 충전된 열가소성 소재를 압축 성형시켜, 상기 미세 요철에 상응하는 조도가 표면 전사된 기판을 제작하는 단계; 및 상기 미세 조도가 전사된 기판의 표면 상에 회로 배선을 형성시키는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제작 방법이 제공된다. 본 발명에 의하면, 조화 처리를 위한 별도의 부가 공정 없이도 기판 표면에 미세 조도가 형성된 기판을 간단히 제작할 수 있는 이점이 있다.Disclosed is a method of manufacturing a printed circuit board. According to an embodiment of the present invention, manufacturing a mold having a fine concave-convex corresponding to the roughness (roughness) to be transferred to the substrate formed on the inner surface; Filling a thermoplastic material into the mold; Compressing and molding the thermoplastic material filled in the mold to prepare a substrate on which the roughness corresponding to the fine unevenness is surface-transferred; And forming a circuit wiring on the surface of the substrate to which the fine roughness is transferred. According to the present invention, there is an advantage in that a substrate having fine roughness formed on the surface of the substrate can be easily produced without an additional process for roughening.

인쇄회로기판, 조도(roughness), 금형, 압축 성형. Printed circuit board, roughness, mold, compression molding.

Description

인쇄회로기판의 제작 방법{Fabrication method of printed circuit board}Fabrication method of printed circuit board

본 발명은 인쇄회로기판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 표면에 미세 조도(roughness)가 형성된 기판의 제작 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed circuit board, and more particularly, to a manufacturing method of a substrate having fine roughness formed on a surface thereof.

인쇄회로기판(PCB, printed circuit board)은 절연성 물질로 이루어진 기재의 양면에 도전성 물질로 회로 배선을 형성한 것으로서, 전자 기기의 특성에 맞는 배선 패턴을 자유롭게 구현할 수 있기 때문에, 현재 다양한 전자 제품에 이용되고 있다.A printed circuit board (PCB) is a circuit wiring formed of a conductive material on both sides of a substrate made of an insulating material, and can be freely implemented wiring patterns suitable for the characteristics of electronic devices. It is becoming.

최근, 전자 제품의 소형화, 박형화에 따라 미세 회로가 구현된 박형 기판에 대한 요구가 날로 증가하고 있고, 이와 더불어 열적, 물리적 충격에도 안정적인 전기적 특성을 유지할 수 있는 신뢰성이 인쇄회로기판에 요구되고 있다. 따라서, 인쇄회로기판의 제조시 기판과 회로 배선 간의 접착력은 제품 신뢰성에 상당히 중요한 부분을 차지하게 된다. 특히, 내층 회로가 구현되는 내층 기판과 회로 배선 간의 접착력은 외층에서의 부품 납땜이나 혹은 칩 몰딩과 같은 열충격시 불규칙적인 산화에 의한 불량 발생 등을 방지하기 위하여도 중요한 요소이다.Recently, with the miniaturization and thinning of electronic products, there is an increasing demand for thin circuit boards in which microcircuits are implemented. In addition, reliability for maintaining stable electrical characteristics under thermal and physical shocks is required for printed circuit boards. Therefore, the adhesion between the substrate and the circuit wiring in the manufacture of the printed circuit board is an important part of the product reliability. In particular, the adhesive force between the inner layer substrate and the circuit wiring on which the inner layer circuit is implemented is also an important factor to prevent defects caused by irregular oxidation during thermal shock such as soldering parts or chip molding in the outer layer.

기존의 인쇄회로기판에서의 회로 배선은 절연재와 동박으로 구성된 동박 적층판(CCL, copper clad laminate)에 도금, 노광, 현상, 박리, 에칭 등의 과정을 거쳐 구현하여 왔다. 그러나, 최근 전자 기기의 경박 단소화 경향으로 인하여 신호 전송 속도의 향상을 위해 고기능 절연재의 개발과 함께 미세 회로의 구현이 요구되고 있으며, 이러한 미세 회로 구현의 요구에 맞추어 기존의 습식 공정의 한계를 극복하기 위한 SAP(semi-additive plating) 방식, 레이저 혹은 잉크젯 방식을 이용한 배선 형성 방법에 대한 연구가 진행 중이다. 이러한 SAP 방식, 레이저 혹은 잉크젯 방식을 이용한 배선 형성 방법은 기존의 방식에 비해 미세 회로를 구현하는데 보다 용이하게 혹은 보다 정확하게 형성할 수 있다는 공정상 편의 및 정확성을 갖추고 있어 최근 주목을 받고 있다.Circuit wiring in a conventional printed circuit board has been implemented through a process such as plating, exposure, development, peeling, etching on a copper clad laminate (CCL) consisting of an insulating material and a copper foil. However, in recent years, due to the light and thin shortening trend of electronic devices, it is required to implement a microcircuit along with the development of a high-performance insulating material in order to improve the signal transmission speed, and overcome the limitations of the conventional wet process to meet the demand of the microcircuit implementation. The research on the wiring forming method using a semi-additive plating (SAP), a laser or an inkjet method is being conducted. The wire forming method using the SAP method, the laser method, or the inkjet method has attracted attention recently because it has the convenience and accuracy in the process of forming a fine circuit more easily or more accurately than the conventional method.

그러나, 위와 같은 배선 형성 방법은 도금이나 전도성 잉크의 분사를 통해 기판 상에 회로 배선을 직접 형성시키기 때문에, 회로 밀착력이 기판과 도금 또는 기판과 잉크 간의 접착 강도에 의존적이다. 그러나, 상기 방법에 따른 기판과 회로 배선 간의 접착 강도는 기존과 같이 열압착에 의해 제작된 동박 적층판으로부터 구현되는 절연층과 동박 간의 접착 강도의 수준까지는 아직 못미치고 있는 실정이다.However, since the wiring forming method as described above directly forms the circuit wiring on the substrate through plating or spraying of conductive ink, the circuit adhesion depends on the adhesive strength between the substrate and the plating or the substrate and the ink. However, the adhesive strength between the substrate and the circuit wiring according to the method is still far below the level of the adhesive strength between the insulating layer and the copper foil, which is realized from the copper foil laminate produced by thermocompression bonding.

상술한 문제점을 극복하여 기판과 회로 배선 간의 접착력을 높이기 위한 일 방안으로서 기판의 표면에 미세 조도를 형성하는 방법이 이용되고 있다. 종래 기술에 따르면, 기판과 회로 배선 간의 접착력을 높이기 위한 조화 처리 방법으로는 약품 처리 등을 이용한 습식 방식과 플라즈마, 이온빔 처리 등을 이용한 건식 방식, 미세 필러의 도입 방식 등이 있었다. 습식 방식의 경우, 약품에 의한 표면 처리가 용이하기 때문에 주로 이용되고 있지만, 화학 약품에 의한 환경 오염의 문제 및 액관리가 어려운 문제가 있다. 그리고, 플라즈마 등을 이용하는 건식 방식의 경우, 약품이 이용되지 않고 이온화된 표면 처리 가스에 의한 표면 반응으로 접착력을 향상시킬 수 있는 친환경적인 방식이지만, 예측 불가능한 조도가 형성되기 때문에 미세 회로를 구현하기 위한 미세 조도의 조절에는 어려움이 있다. 특히 건식 방식은, 회로 배선의 형성을 위해 잉크젯 방식이 이용되는 경우, 배선용 도전성 잉크와의 혼화성에 문제가 있는 방식이다. 또한, 미세 필러의 도입 방식은 기판 표면에 미세 필러를 탈착시켜 조도를 형성하는 방식이지만, 조도 형성이 필러의 사이즈, 형태에 의존적이기 때문에 미세 조도의 조절에는 한계가 있다.In order to overcome the above-described problems and to increase the adhesion between the substrate and the circuit wiring, a method of forming fine roughness on the surface of the substrate is used. According to the related art, the roughening method for increasing the adhesive force between the substrate and the circuit wiring includes a wet method using a chemical treatment, a dry method using a plasma, an ion beam treatment, and a method of introducing a fine filler. In the wet method, since the surface treatment by chemicals is easy, it is mainly used, but there are problems of environmental pollution by chemicals and problems of liquid management. In the dry method using a plasma or the like, an environmentally friendly method for improving adhesion by surface reaction by an ionized surface treatment gas without chemicals is used, but an unpredictable roughness is formed to implement a fine circuit. There is a difficulty in controlling the fine roughness. In particular, the dry method is a method in which compatibility with the conductive ink for wiring is problematic when the inkjet method is used for forming the circuit wiring. In addition, the introduction method of the fine filler is a method of forming the roughness by detaching the fine filler on the surface of the substrate, but since the roughness formation depends on the size and shape of the filler, there is a limit to the control of the fine roughness.

아울러, 상술한 종래의 조도 형성 방법은 모두 별도의 부가 공정이 추가되는 것이므로, 인쇄회로기판의 제작 공정이 복잡해지고, 제작 비용도 상승하는 문제점이 있다.In addition, since the above-described conventional roughness forming method all adds an additional additional process, the manufacturing process of the printed circuit board becomes complicated and the manufacturing cost also increases.

따라서, 본 발명은 조도 처리를 위한 별도의 부가 공정 없이도 기판과 회로 배선 간의 접착력을 증대시킬 수 있는 인쇄회로기판의 제작 방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a method of manufacturing a printed circuit board that can increase the adhesive force between the substrate and the circuit wiring without any additional process for roughness treatment.

본 발명은 미세 요철이 형성된 금형 안에 열가소성 소재를 넣고 압축 성형 또는 사출 성형시키는 간단한 방법으로, 기판 제작과 동시에 그 기판 표면에 미세 조도를 형성시킬 수 있어 제작 공정의 단순화, 제작 비용의 절감이 가능한 인쇄회 로기판의 제작 방법을 제공한다.The present invention is a simple method of inserting a thermoplastic material into a mold having fine concavities and convexities, and compression molding or injection molding, and it is possible to form fine roughness on the surface of the substrate simultaneously with fabrication of the substrate, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the manufacturing cost. Provides a method of making a circuit board.

본 발명의 이외의 목적들은 하기의 설명을 통해 쉽게 이해될 수 있을 것이다.Other objects of the present invention will be readily understood through the following description.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판에 전사시키고자 하는 조도(roughness)에 상응하는 미세 요철이 내면에 형성된 금형을 제작하는 단계; 상기 금형 안에 열가소성 소재를 충전하는 단계; 상기 금형 안에 충전된 열가소성 소재를 압축 성형시켜, 상기 미세 요철에 상응하는 조도가 표면 전사된 기판을 제작하는 단계; 및 상기 미세 조도가 전사된 기판의 표면 상에 회로 배선을 형성시키는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제작 방법이 제공될 수 있다.According to an aspect of the invention, the step of manufacturing a mold having a fine concavo-convex corresponding to the roughness (roughness) to be transferred to the substrate formed on the inner surface; Filling a thermoplastic material into the mold; Compressing and molding the thermoplastic material filled in the mold to prepare a substrate on which the roughness corresponding to the fine unevenness is surface-transferred; And forming a circuit wiring on a surface of the substrate to which the fine roughness is transferred.

여기서, 상기 열가소성 소재는 분말 상태로 상기 금형 안에 충전될 수 있다.Here, the thermoplastic material may be filled into the mold in a powder state.

여기서, 상기 열가소성 소재는 액정 고분자(LCP, liquid crystal polymer), 폴리에테르이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에테르설폰(PES, polyethersulfone), 폴리에테르에테르케톤(PEEK, polyetheretherketone) 및 폴리테트라플루오르에틸렌(PTEE, polytetrafluoroethylene) 중 어느 하나일 수 있다.Here, the thermoplastic material is a liquid crystal polymer (LCP), polyetherimide (PEI, polyetherimide), polyethersulfone (PES, polyethersulfone), polyether ether ketone (PEEK, polyetheretherketone) and polytetrafluoroethylene (PTEE). , polytetrafluoroethylene).

여기서, 상기 열가소성 소재는 열가소성 고분자와 기능성 세라믹 필러의 복합체일 수 있다.Here, the thermoplastic material may be a composite of a thermoplastic polymer and a functional ceramic filler.

여기서, 상기 기능성 세라믹 필러는 결정질 실리카(crystalline SiO2), 용융 실리카(fused SiO2), 실리콘 나이트라이드(SiN, silicon nitride), 보론 나이트라이드(BN, boron nitride), 알루미늄 나이트라이드(AlN, aluminium nitride) 및 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나일 수 있다.Here, the functional ceramic filler may include crystalline silica (crystalline SiO 2 ), fused silica (fused SiO 2 ), silicon nitride (SiN, silicon nitride), boron nitride (BN), aluminum nitride (AlN, aluminum). nitride) and alumina (Al 2 O 3 ).

여기서, 상기 복합체는 상기 기능성 세라믹 필러가 70 중량퍼센트(wt%) 이하로 첨가될 수 있다.Here, the composite may be added to the functional ceramic filler 70% by weight (wt%) or less.

여기서, 상기 금형의 내면에는 상기 기판 표면 중 상기 회로 배선이 형성될 면에 해당하는 면의 전면(全面)에 조도가 전사될 수 있도록 상기 미세 요철이 형성될 수 있다.Here, the fine concavo-convex may be formed on the inner surface of the mold so that the roughness can be transferred to the entire surface of the surface of the substrate corresponding to the surface on which the circuit wiring is to be formed.

여기서, 상기 금형의 내면에는 상기 기판 표면 중 상기 회로 배선이 형성될 위치에 상응하는 부분에만 조도가 전사될 수 있도록 상기 미세 요철이 형성될 수 있다.Here, the fine concavo-convex may be formed on the inner surface of the mold so that the roughness can be transferred only to a portion of the substrate surface corresponding to the position where the circuit wiring is to be formed.

여기서, 상기 회로 배선을 형성시키는 단계는, 잉크젯 방식을 이용하여 미리 설계된 배선 위치에 상기 회로 배선을 직접 형성됨에 의할 수 있다.Here, the forming of the circuit wiring may be performed by directly forming the circuit wiring at a predesigned wiring position using an inkjet method.

여기서, 상기 열가소성 소재는 열가소성 고분자와 기능성 세라믹 필러의 복합체가 이용되되, 상기 열가소성 소재를 충전하는 단계 이전에, 상기 열가소성 고분자와 기능성 세라믹 필러의 복합체를 교반기에 넣어 교반시키는 단계가 더 포함될 수 있다.Here, the thermoplastic material is a composite of a thermoplastic polymer and a functional ceramic filler, but before the step of filling the thermoplastic material, the step of putting the composite of the thermoplastic polymer and the functional ceramic filler in an agitator may be further stirred.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판에 전사시키고자 하는 조도(roughness) 에 상응하는 미세 요철이 내면에 형성된 금형을 제작하는 단계; 상기 금형 안에 열가소성 소재를 주입하는 단계; 상기 금형 안에 주입된 열가소성 소재를 사출 성형시켜, 상기 미세 요철에 상응하는 조도가 표면 전사된 기판을 제작하는 단계; 및 상기 미세 조도가 전사된 기판의 표면 상에 회로 배선을 형성시키는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제작 방법이 제공될 수 있다.According to another aspect of the invention, the step of manufacturing a mold formed on the inner surface of the fine irregularities corresponding to the roughness (roughness) to be transferred to the substrate; Injecting a thermoplastic material into the mold; Injection molding the thermoplastic material injected into the mold to prepare a substrate on which the roughness corresponding to the fine unevenness is surface-transferred; And forming a circuit wiring on a surface of the substrate to which the fine roughness is transferred.

여기서, 상기 열가소성 소재는 용융 상태로 상기 금형 안에 주입될 수 있다.Here, the thermoplastic material may be injected into the mold in a molten state.

여기서, 상기 열가소성 소재는 액정 고분자(LCP, liquid crystal polymer), 폴리에테르이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에테르설폰(PES, polyethersulfone), 폴리에테르에테르케톤(PEEK, polyetheretherketone) 및 폴리테트라플루오르에틸렌(PTEE, polytetrafluoroethylene) 중 어느 하나일 수 있다.Here, the thermoplastic material is a liquid crystal polymer (LCP), polyetherimide (PEI, polyetherimide), polyethersulfone (PES, polyethersulfone), polyether ether ketone (PEEK, polyetheretherketone) and polytetrafluoroethylene (PTEE). , polytetrafluoroethylene).

여기서, 상기 열가소성 소재는 열가소성 고분자와 기능성 세라믹 필러의 복합체일 수 있다.Here, the thermoplastic material may be a composite of a thermoplastic polymer and a functional ceramic filler.

여기서, 상기 기능성 세라믹 필러는 결정질 실리카(crystalline SiO2), 용융 실리카(fused SiO2), 실리콘 나이트라이드(SiN, silicon nitride), 보론 나이트라이드(BN, boron nitride), 알루미늄 나이트라이드(AlN, aluminium nitride) 및 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나일 수 있다.Here, the functional ceramic filler may include crystalline silica (crystalline SiO 2 ), fused silica (fused SiO 2 ), silicon nitride (SiN, silicon nitride), boron nitride (BN), aluminum nitride (AlN, aluminum). nitride) and alumina (Al 2 O 3 ).

여기서, 상기 복합체는 상기 기능성 세라믹 필러가 70 중량퍼센트(wt%) 이하로 첨가될 수 있다.Here, the composite may be added to the functional ceramic filler 70% by weight (wt%) or less.

여기서, 상기 금형의 내면에는 상기 기판 표면 중 상기 회로 배선이 형성될 면에 해당하는 면의 전면(全面)에 조도가 전사될 수 있도록 상기 미세 요철이 형성될 수 있다.Here, the fine concavo-convex may be formed on the inner surface of the mold so that the roughness can be transferred to the entire surface of the surface of the substrate corresponding to the surface on which the circuit wiring is to be formed.

여기서, 상기 금형의 내면에는 상기 기판 표면 중 상기 회로 배선이 형성될 위치에 상응하는 부분에만 조도가 전사될 수 있도록 상기 미세 요철이 형성될 수 있다.Here, the fine concavo-convex may be formed on the inner surface of the mold so that the roughness can be transferred only to a portion of the substrate surface corresponding to the position where the circuit wiring is to be formed.

여기서, 상기 회로 배선을 형성시키는 단계는, 잉크젯 방식을 이용하여 미리 설계된 배선 위치에 상기 회로 배선을 직접 형성됨에 의할 수 있다.Here, the forming of the circuit wiring may be performed by directly forming the circuit wiring at a predesigned wiring position using an inkjet method.

본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제작 방법에 의하면, 조도 처리를 위한 별도의 부가 공정 없이도 기판과 회로 배선 간의 접착력을 증대시킬 수 있는 효과가 있다.According to the manufacturing method of the printed circuit board according to the present invention, there is an effect that can increase the adhesive force between the substrate and the circuit wiring without an additional process for roughness processing.

또한, 본 발명은 미세 요철이 형성된 금형 안에 열가소성 소재를 넣고 압축 성형 또는 사출 성형시키는 간단한 방법으로, 기판 제작과 동시에 그 기판 표면에 미세 조도를 형성시킬 수 있어 인쇄회로기판의 제작시 제작 공정의 단순화, 제작 비용의 절감이 가능한 효과가 있다.In addition, the present invention is a simple method of inserting a thermoplastic material into a mold having fine concavities and convexities, and compression molding or injection molding, and it is possible to form fine roughness on the surface of the substrate simultaneously with fabrication of the substrate, thereby simplifying the fabrication process during fabrication of a printed circuit board. Therefore, it is possible to reduce the production cost.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.As the invention allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the written description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In the following description of the present invention, if it is determined that the detailed description of the related known technology may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component. The term and / or includes a combination of a plurality of related items or any item of a plurality of related items.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art, and are not construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 압축 성형 방식을 이용할 경우, 표면에 미세 조도가 형성된 기판의 제작 방법을 대략적으로 나타낸 순서도이고, 도 2a 내지 도 2d는 도 1에 도시된 제작 단계에 각각 대응되는 도면이며, 도 3은 미세 조도가 형성된 기판에서 기판과 회로 배선 간의 접착 면적의 증가를 보여주기 위한 도면이다.1 is a flowchart schematically illustrating a method of manufacturing a substrate having fine roughness formed on a surface thereof when using a compression molding method according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2D are each a manufacturing step illustrated in FIG. 1. 3 is a view showing an increase in the adhesion area between the substrate and the circuit wiring in the substrate with fine roughness.

이하, 도 2a 내지 도 2d, 도 3을 함께 참조하여 도 1의 인쇄회로기판의 제작 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing the printed circuit board of FIG. 1 will be described with reference to FIGS. 2A to 2D and 3.

먼저, 도 1의 단계 S110을 참조하면, 기판에 전사시키고자 하는 조도(roughness)에 상응하는 미세 요철이 내면에 형성된 금형을 제작한다.First, referring to step S110 of FIG. 1, a metal mold having fine irregularities corresponding to roughness to be transferred to a substrate is formed on an inner surface thereof.

금형(110)은 예를 들어, 도 2a를 통해 도시된 바와 같이 상부 금형(110a)의 내면 및 하부 금형(110b)의 내면 각각에 미세 요철(20, 제1 요철(20a) 및 제2 요철(20b) 참조)이 형성된 형태로 제작될 수 있다. 이는 기판의 양면에 모두 회로 배 선이 형성되는 형태인 양면 인쇄회로기판을 고려한 것이다. 따라서, 기판의 어느 일면에만 회로 배선이 형성되는 단면 인쇄회로기판을 고려하는 경우에는 그 일면에 대응되는 금형의 내면에만 미세 요철(20)이 형성될 수 있음은 자명하다.The mold 110 may include, for example, fine concavities and convexities 20, first concave and convexities 20, and second concave and convexities on the inner surface of the upper mold 110a and the inner surface of the lower mold 110b, as shown in FIG. 2A. 20b)) can be manufactured in the form formed. This considers a double-sided printed circuit board in which circuit wiring is formed on both sides of the board. Therefore, when considering a single-sided printed circuit board in which the circuit wiring is formed only on one surface of the substrate, it is apparent that the fine unevenness 20 may be formed only on the inner surface of the mold corresponding to the one surface.

즉, 미세 요철(20)은 기판 표면 중 회로 배선이 패턴 형성될 해당 표면에 대응되는 금형(110)의 내면에 형성되면 족하다. 이때, 미세 요철(20)은 기판 표면 중 회로 배선이 형성될 해당 표면의 전면(全面)에 조도가 전사될 수 있도록, 금형(110)의 해당 내면의 전부에 형성되어 있을 수 있다. 물론, 미세 요철(20)은 기판 표면 중 회로 배선이 실제 형성될 위치에 상응하는 부분에만 조도가 전사될 수 있도록, 금형(110)의 해당 내면의 일부에만 선택적으로 형성될 수도 있다.That is, the fine unevenness 20 is sufficient if the circuit wiring is formed on the inner surface of the mold 110 corresponding to the corresponding surface to be patterned on the substrate surface. At this time, the fine concave-convex 20 may be formed on all of the inner surface of the mold 110 so that the roughness can be transferred to the entire surface of the surface of the substrate surface to be formed circuit wiring. Of course, the fine concave-convex 20 may be selectively formed only on a portion of the inner surface of the mold 110 so that the roughness can be transferred only to a portion of the substrate surface corresponding to the position where the circuit wiring is actually formed.

전자의 형태(금형(110)의 해당 내면의 전부에 미세 요철(20)을 형성시킨 형태)로 제작된 금형(110)은 미세 조도가 형성된 기판의 제작시 범용적으로 활용할 수 있는 이점이 있으며, 후자의 형태(금형(110)의 해당 내면의 특정 부분에만 미세 요철(20)을 형성시킨 형태)로 제작된 금형(110)은 특정 제품의 기판의 제작에 활용됨으로써, 각 제품의 디자인 사양(기판 재질, 공정 조건, 요구되는 회로 배선의 폭, 두께, 이에 따른 요구 조도 등)에 따라 보다 적합하고 특성화된 기판을 제작할 수 있는 이점이 있다. 따라서, 금형(110)의 내면에 형성되는 미세 요철(20)은 상기와 같은 제품 특성 및 디자인 사양 등에 따라 그 크기가 결정될 것이다. 예를 들어, 미세 요철(20)은 기판 표면에 요구되는 조도의 크기에 상응하여 대략적으로 수 ㎛ ~ 수십 ㎛의 높이 및 간격을 가지고 금형(110)의 내면에 형성되어 있을 수 있다. 또한, 금형(110)의 내면에는 부분부분마다 미세 요철(20)이 다른 크기, 형태를 가지면서 형성되어 있을 수도 있다. 즉, 상술한 바와 같은 미세 요철(20)의 형성 위치, 형태, 크기 등에 관한 결정은 응용 제품을 고려한 설계자의 선택에 따라 다양히 변화, 변경될 수 있는 것인 것이다.The mold 110 manufactured in the form of the former (the form in which the fine concavo-convex 20 is formed on the entire inner surface of the mold 110) has an advantage that it can be used universally when manufacturing a substrate having fine roughness, The mold 110 manufactured in the latter form (a form in which the fine concavo-convex 20 is formed only on a specific portion of the inner surface of the mold 110) is utilized for the production of a substrate of a specific product, thereby designing a design specification (substrate) of each product. Material, process conditions, the width and thickness of the required circuit wiring, and thus the required roughness, etc.) has the advantage of manufacturing a more suitable and specialized substrate. Therefore, the size of the fine concavo-convex 20 formed on the inner surface of the mold 110 will be determined according to the product characteristics and design specifications as described above. For example, the fine concave-convex 20 may be formed on the inner surface of the mold 110 with a height and a spacing of approximately several μm to several tens of micrometers corresponding to the size of roughness required on the substrate surface. In addition, the inner surface of the mold 110 may be formed while having different sizes and shapes of the fine concavo-convex 20 for each part. That is, the determination regarding the formation position, shape, size, etc. of the fine concavo-convex 20 as described above may be variously changed and changed according to the selection of the designer considering the application.

도 1의 단계 S120을 참조하면, 상술한 바와 같이 미리 제작된 금형 안에 열가소성 소재(도 2b의 식별번호 120a 참조)를 충전한다. 위와 같이 본 발명에 있어서는 기판 재질로서 열가소성 소재가 이용된다.Referring to step S120 of FIG. 1, a thermoplastic material (see identification number 120a of FIG. 2B) is filled into a mold manufactured in advance as described above. As described above, in the present invention, a thermoplastic material is used as the substrate material.

열가소성 소재를 기판 재질로서 사용하는 경우에는 다음과 같은 이점이 있다. 먼저, 열가소성 소재를 기판 재질로서 사용하는 경우 기판을 얇고 길게 제작하는 것이 가능하다. 이는 열가소성 소재에 의한 기판은 얇고 길게 제작하는 경우에도 크랙(crack)이 발생할 가능성이 다른 재질의 기판(예를 들어, 세라믹 재질의 기판 등)에 비해 훨씬 작기 때문이다. 또한, 열가소성 소재를 기판 재질로서 사용하는 경우에는 압축 성형(compression molding) 또는 사출 성형(injection molding)의 방법을 이용하여 기판을 제작할 수 있는 이점이 있다. 이러한 압축 성형 또는 사출 성형 방식은 미리 제작된 금형 안에 재료를 넣어 기판 일체를 단번에 성형(제작)할 수 있는 이점이 있어, 대량 생산에 따른 기판 제작 비용의 절감에 크게 기여할 수 있는 방법이다. 또한, 압축 성형 또는 사출 성형 방식은 미리 설계 제작된 금형의 형태에 따라 다양한 디자인을 갖는 제품을 제작할 수 있다는 점에서 디자인적인 유연성을 갖는 방법이다.When using a thermoplastic material as a substrate material, there are the following advantages. First, when the thermoplastic material is used as the substrate material, it is possible to manufacture the substrate thin and long. This is because a substrate made of a thermoplastic material is much smaller than a substrate made of another material (eg, a substrate made of a ceramic material) even when a thin and long substrate is formed. In addition, when a thermoplastic material is used as the substrate material, there is an advantage in that the substrate can be manufactured by a method of compression molding or injection molding. The compression molding or injection molding method has an advantage of molding (manufacturing) the substrate integrally by inserting a material into a prefabricated mold, thereby greatly contributing to the reduction of the substrate manufacturing cost according to mass production. In addition, compression molding or injection molding is a method having design flexibility in that a product having various designs can be manufactured according to a shape of a mold designed in advance.

따라서, 열가소성 소재를 기판 재질로서 사용하는 경우에는 상술한 바에 따라 기판 제작 공정의 단순화, 제작 비용의 절감, 디자인적 유연성 등의 다양한 이 점을 확보할 수 있게 된다. 다만, 열가소성 소재를 기판 재질로서 기능하는데 필요한 몇가지 요구 사양이 있다. 예를 들어, 기판 재질로서 사용되는 열가소성 소재는 기반체, 지지체로서 기능하기 위해 요구되는 적정 수준의 기계적 강도, 방열 특성을 고려할 때의 적정 수준의 열전도성, 고온에서의 내열성 등을 갖출 필요가 있는 것이다.Accordingly, when the thermoplastic material is used as the substrate material, various advantages, such as the simplification of the substrate manufacturing process, the reduction of the manufacturing cost, and the design flexibility, can be secured as described above. However, there are some requirements that are required to function the thermoplastic material as the substrate material. For example, the thermoplastic material used as the substrate material needs to have an appropriate level of mechanical strength required to function as a substrate, a support, an appropriate level of thermal conductivity in consideration of heat dissipation characteristics, heat resistance at high temperatures, and the like. will be.

이와 같은 내열성 및 기계적 강도를 갖춘 열가소성 소재로는 고기능성 엔지니어링 플라스틱으로서 알려진 폴리에테르이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에테르설폰(PES, Polyethersulfone), 폴리에테르에테르케톤(PEEK, Polyetheretherketone), 폴리테트라플루오르에틸렌(PTFE, polytetrafluoroethylene), 액정 고분자(LCP, liquid crystal polymer) 등의 열가소성 고분자 물질이 이용될 수 있을 것이다. 특히, 액정 고분자(LCP)는 내열성과 강성, 치수 안정성, 성형 가공성 등이 우수한 특징을 갖고 있으며, 가격면에서도 저렴하여 고기능성 엔지니어링 플라스틱 중에서도 전자부품분야에서 대단히 각광받고 있다.Thermoplastic materials with such heat resistance and mechanical strength include polyetherimide (PEI, polyetherimide), polyethersulfone (PES, polyethersulfone), polyetheretherketone (PEEK, polyetheretherketone), and polytetrafluoroethylene. Thermoplastic polymer materials such as (PTFE, polytetrafluoroethylene) and liquid crystal polymer (LCP) may be used. In particular, the liquid crystal polymer (LCP) has excellent features such as heat resistance, rigidity, dimensional stability, molding processability, etc., and is inexpensive in terms of price, and is highly regarded in the electronic component field among high-functional engineering plastics.

또는 열가소성 소재로서 상기 열거한 열가소성 고분자 물질과 기능성 세라믹 필러의 복합체가 이용될 수 있음은 물론이다. 기능성 세라믹 필러를 열가소성 고분자 물질에 첨가하게 되면, 열전도성이 개선되어 제작된 기판에서 방열 특성의 향상을 기대할 수 있게 된다. 이러한 기능성 세라믹 필러로는 열전도성이 우수하고 낮은 열팽창성을 갖는 물질인 예를 들어, 결정질 실리카(crystalline SiO2), 용융 실 리카(fused SiO2), 실리콘 나이트라이드(SiN, silicon nitride), 보론 나이트라이드(BN, boron nitride), 알루미늄 나이트라이드(AlN, aluminium nitride), 알루미나(Al2O3) 등이 이용될 수 있다.Alternatively, a composite of the above-mentioned thermoplastic polymer and functional ceramic filler may be used as the thermoplastic material. When the functional ceramic filler is added to the thermoplastic polymer, the thermal conductivity is improved, and thus the heat dissipation characteristics can be expected to be improved in the manufactured substrate. These functional ceramic fillers include, for example, the thermal conductive material having an excellent low thermal expansion, the crystalline silica (crystalline SiO 2), molten silica (fused SiO 2), silicon nitride (SiN, silicon nitride), boron Nitride (BN), aluminum nitride (AlN), alumina (Al 2 O 3 ), or the like may be used.

따라서 이때, 열가소성 고분자 물질 내에 기능성 세라믹 필러가 골고루 분산 혼합될 수 있도록 교반기에 넣어 일정 시간 교반시키는 과정이 본 단계(금형 안에 열가소성 소재를 충전하는 단계) 이전에 선행될 수 있음은 물론이다. 다만, 열가소성 고분자 물질에 첨가되는 기능성 세라믹 필러의 비율은 70 중량퍼센트(wt%)인 것이 바람직하다. 기능성 세라믹 필러를 그 이상의 비율로 첨가하는 경우에는 복합체의 열가소 특성에 좋지않은 영향을 미칠 수 있기 때문이다.Therefore, at this time, the process of stirring in a stirrer for a predetermined time so that the functional ceramic filler in the thermoplastic polymer material can be evenly dispersed and mixed may be preceded before this step (filling the thermoplastic material in the mold). However, the ratio of the functional ceramic filler added to the thermoplastic polymer is preferably 70% by weight (wt%). If the functional ceramic filler is added at a higher ratio, it may adversely affect the thermoplastic properties of the composite.

또한 이때, 금형 안에 충전되는 열가소성 소재는 분말 상태일 수 있다. 예를 들어, 분말 상태의 열가소성 소재를 330℃로 가열된 금형 안에 충전시킬 수 있다. 다만 이는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 제작 공정이 압축 성형 방식에 따라 진행되기 때문이다. 따라서, 이는 기판 제작에 이용되는 성형 방식에 따라서 달라질 수 있음(예를 들어, 도 4에서는 사출 성형 방식에 의하므로 용융 상태의 열가소성 소재를 금형 안에 충전함)은 물론이다.In this case, the thermoplastic material filled in the mold may be in a powder state. For example, a powdered thermoplastic material can be filled into a mold heated to 330 ° C. However, this is because the substrate fabrication process according to the embodiment of the present invention is performed according to the compression molding method. Therefore, this may vary depending on the molding method used for fabricating the substrate (for example, in FIG. 4, the injection molding method is used to fill the molten thermoplastic material into the mold).

도 1의 단계 S130을 참조하면, 금형 안에 충전된 열가소성 소재를 압축 성형시켜, 표면에 미세 조도(30, 도 2c의 식별번호 30a, 30b 참조)가 형성된 기판(도 2c의 식별번호 120 참조)을 제작한다.Referring to step S130 of FIG. 1, a thermoplastic material filled in a mold is compression molded to form a substrate (see identification number 120 of FIG. 2C) having a fine roughness (refer to identification numbers 30a and 30b of FIG. 2C) on a surface thereof. To make.

압축 성형 방식은 분말 상태의 소재를 미리 가열시킨 금형에 넣어 압축 기(press)로 압착시킴과 동시에 열을 가하는 방식으로서, 특히 다른 성형 방식에 비해 공정 비용이 저렴함은 물론 그 성형 과정이 압축기를 이용하여 고온, 고압 하에서 이루어진다는 점에서, 분말의 분자 간을 치밀히 결합(necking)시켜 보다 우수한 기계적 강도 및 내열성을 갖춘 기판의 제작을 가능하게 한다. 따라서, 압축 성형 방식에 의하면, 종래와 달리 기판의 기계적 강도를 적정 수준으로 확보하기 위해 기판 재질에 유리 섬유(glass clothes) 등을 첨가시킬 필요가 없다. 이에 따라 재료비 절감의 효과도 기대할 수 있다. 이러한 압축 성형 과정을 통하여 금형의 내면에 형성되어 있던 미세 요철은 기판 표면에 전사됨으로써, 기판 표면에는 그 미세 요철에 상응하는 미세 조도가 형성되게 된다.The compression molding method is a method in which a powder material is put in a preheated mold, pressed with a press, and heated at the same time. In particular, the process cost is lower than that of other molding methods, and the molding process uses a compressor. Therefore, since it is made under high temperature and high pressure, the molecular molecules of the powder are tightly bound, thereby making it possible to manufacture a substrate having better mechanical strength and heat resistance. Therefore, according to the compression molding method, it is not necessary to add glass cloth or the like to the substrate material in order to secure the mechanical strength of the substrate to an appropriate level unlike the conventional art. Accordingly, the effect of reducing material costs can be expected. Fine concavities and convexities formed on the inner surface of the mold through the compression molding process are transferred to the surface of the substrate, whereby fine roughness corresponding to the fine concavities and convexities is formed on the substrate surface.

도 1의 단계 S140을 참조하면, 미세 조도가 전사된 기판 표면에 회로 배선을 형성함으로써 인쇄회로기판을 제작한다.Referring to step S140 of FIG. 1, a printed circuit board is manufactured by forming circuit wiring on a surface of a substrate to which fine roughness is transferred.

회로 배선은 미리 설계된 위치에 미리 설계된 선폭에 따라 기판 표면에 형성될 수 있으며, 이때 회로 배선의 형성을 위한 방법으로는 예를 들어 SAP(semi-additive plating) 방식, 레이저 프린팅 방식, 잉크젯 프린팅 방식 등 다양한 방법이 특별한 제한없이 이용될 수 있음은 물론이다. 다만, 도 2d는 잉크젯 방식에 따라 잉크젯 노즐(200)이 기판 표면 중 배선 형성할 위치에 전도성 잉크(40)를 분사시켜 회로 배선(130)을 직접(바로) 형성시키는 방법이 이용되는 경우를 특별히 가정하여 도시한 것이다. 잉크젯 방식은 배선이 형성될 위치에 전도성 잉크를 분사하여 회로 배선을 직접 형성시키게 되므로, 도금, 마스킹, 에칭 등의 여러 단계를 거쳐 회로 배선을 형성하던 고전적인 배선 방식에 비하여 공정상의 간편성이 있음은 물론, 보다 정밀하고 미세한 회로 배선을 형성시킬 수 있는 이점을 가지고 있다.The circuit wiring may be formed on the surface of the substrate at a predesigned line width at a predesigned position, and the method for forming the circuit wiring may be, for example, a semi-additive plating method, a laser printing method, an inkjet printing method, or the like. Of course, various methods can be used without particular limitation. However, FIG. 2D specifically illustrates a case in which the method of directly forming the circuit wiring 130 by directly spraying the conductive ink 40 at the position where the inkjet nozzle 200 is to be formed on the surface of the substrate according to the inkjet method is used. It is assumed and shown. Since the inkjet method directly forms the circuit wiring by spraying conductive ink at the position where the wiring is to be formed, there is simplicity in process compared to the classical wiring method in which the circuit wiring is formed through various steps such as plating, masking, and etching. Of course, there is an advantage that can form a more precise and fine circuit wiring.

이때, 기판과 회로 배선 간의 접착 강도는 기판 표면에 형성된 미세 조도에 의하여 크게 향상된다. 이는 기판 표면에 형성된 미세 조도에 따라 기판과 회로 배선 간의 접착 면적이 크게 증가하기 때문이다. 이는 도 3을 통해 쉽게 확인할 수 있다. 기판 표면에 미세 조도가 형성된 도 3의 (b)의 경우에는 기판 표면에 조도가 형성되어 있지 않은 도 3의 (a)에 비해 기판과 회로 배선 간의 접착 면적이 배이상 증가하고 있음이 바로 그것이다. 이러한 접착 면적의 증가와 더불어, 기판 표면에 미세 조도가 형성된 경우에는 그 미세 조도에 의한 앵커 효과(anchor effect)로 인해 회로 배선의 밀착력(즉, 회로 배선인 도전성 재료와 조도 형성된 기판 표면 간의 밀착력)을 상당히 증가시킬 수 있게 된다.At this time, the adhesive strength between the substrate and the circuit wiring is greatly improved by the fine roughness formed on the substrate surface. This is because the adhesion area between the substrate and the circuit wiring increases greatly with the fine roughness formed on the surface of the substrate. This can be easily confirmed through FIG. 3. In the case of FIG. 3 (b) having fine roughness formed on the surface of the substrate, the adhesive area between the substrate and the circuit wiring is more than doubled compared to FIG. 3 (a) in which roughness is not formed on the substrate surface. . In addition to the increase in the adhesion area, when the fine roughness is formed on the surface of the substrate, the adhesion of the circuit wiring (that is, the adhesion between the conductive material as the circuit wiring and the surface of the roughened substrate) due to the anchor effect caused by the fine roughness. Can be increased significantly.

이와 같이 본 발명의 일 실시예에 의하면, 미세 요철이 내면에 형성된 형태로 미리 제작된 금형을 이용하여 열가소성 소재를 압축 성형시키는 방법으로, 기판의 제작 과정에서 이와 동시에 기판의 표면에 미세 조도를 전사 형성시킬 수 있어, 종래의 습식, 건식 방식에서와 같이 기판 표면의 조화 처리를 위한 별도의 부가 공정을 거칠 필요가 없다. 따라서, 본 발명에 의하면, 부가적인 조화 처리 공정에 의하지 않더라도 기판 제작과 동시에 기판 표면에 미세 조도를 형성시킬 수 있어, 인쇄회로기판의 전체 제작 공정을 단순화함은 물론 그 제작 비용을 절감할 수 있는 이점이 있다. 또한, 금형의 형태, 크기, 면적 그리고 미세 요철의 크기, 형태, 형성 위치를 다양히 변화시킴으로써, 제품별로 요구되는 다양한 설계 사양(특히, 제 품별로 요구되는 회로 선폭, 간격)에 따라 기판 표면에 다양한 크기, 간격, 위치 범위, 형태를 갖는 미세 조도가 형성된 기판의 제작을 손쉽게 할 수 있다.As described above, according to an exemplary embodiment of the present invention, a method of compressing and molding a thermoplastic material using a mold manufactured in advance in a form in which fine unevenness is formed on an inner surface thereof, and simultaneously transfers fine roughness to the surface of the substrate during the manufacturing process of the substrate. It can be formed, and does not need to go through an additional process for roughening the surface of the substrate as in conventional wet and dry methods. Therefore, according to the present invention, it is possible to form fine roughness on the surface of the substrate simultaneously with fabrication of the substrate even without using an additional roughening process, thereby simplifying the entire manufacturing process of the printed circuit board and reducing the production cost thereof. There is an advantage. In addition, by varying the shape, size, area of the mold, and the size, shape, and formation position of the fine concavities and convexities, the surface of the substrate may be changed according to various design specifications (particularly, circuit line width and spacing required for each product). It is easy to manufacture a substrate having a fine roughness having various sizes, intervals, position ranges, and shapes.

상술한 바와 같이 미세 조도가 기판 표면에 전사 형성되는 방식으로 제작된 인쇄회로기판은 기판과 회로 배선 간의 접착력이 크게 개선되기 때문에, 이를 포함하는 전자기기, 전자제품에서 보다 높은 안정성 및 동작 신뢰성을 기대할 수 있게 된다.As described above, the printed circuit board manufactured in such a manner that the fine roughness is transferred to the surface of the substrate is greatly improved in adhesion between the substrate and the circuit wiring, and thus, higher stability and operational reliability may be expected in electronic devices and electronic products including the same. It becomes possible.

이하, 도 4를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따라 표면에 미세 조도가 형성된 기판의 제작 방법을 설명한다. 다만, 도 4의 실시예를 설명함에 있어서, 앞서 설명한 도 1 내지 도 3에서와 중복될 수 있는 내용에 관한 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a substrate having fine roughness formed on a surface thereof according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4. However, in describing the exemplary embodiment of FIG. 4, description of contents that may overlap with those of FIGS. 1 to 3 described above will be omitted.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따라 사출 성형 방식을 이용할 경우, 표면에 미세 조도가 형성된 기판의 제작 방법을 대략적으로 나타낸 순서도이다.4 is a flowchart schematically illustrating a method of manufacturing a substrate having fine roughness formed on a surface thereof when using an injection molding method according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 4에는 본 발명의 다른 실시예에 따른 미세 조도가 형성된 기판의 제작 방법으로서 단계 S410 내지 단계 S440까지의 순서도가 도시되어 있으나, 단계 S410(미세 요철이 형성된 금형의 제작 단계)은 도 1의 단계 S110과, 단계 S440(회로 배선 형성 단계)은 도 1의 단계 S140과 본질적으로 동일한 제작 단계에 해당한다. 또한, 도 4의 단계 S420 및 단계 S430의 내용도 도 1의 단계 S120 및 단계 S130과 상당부분(즉, 기판 재질로서 열가소성 소재 이용)이 일치한다.4 is a flowchart showing steps S410 to S440 as a method of manufacturing a substrate having fine roughness according to another embodiment of the present invention, but step S410 (manufacturing step of a mold having fine unevenness) is performed in FIG. 1. S110 and step S440 (circuit wiring forming step) correspond to essentially the same manufacturing steps as step S140 of FIG. In addition, the contents of steps S420 and S430 of FIG. 4 also correspond substantially to those of steps S120 and S130 of FIG. 1 (that is, using a thermoplastic material as the substrate material).

다만, 본 발명의 다른 실시예는 표면에 미세 조도가 형성된 기판의 제작을 위하여, 도 1(압축 성형 방식을 이용)에서와 달리 사출 성형(injection molding) 방식을 이용한다. 이러한 이유로, 도 4의 단계 S420를 통해서 금형 안에 열가소성 소재를 주입한 후, 도 4의 단계 S430을 통해서 금형 안에 주입된 열가소성 소재를 사출 성형시키는 방법으로 표면에 미세 조도가 형성된 기판을 제작하게 되는 것이다.However, another embodiment of the present invention uses an injection molding method, unlike in FIG. 1 (using a compression molding method), for manufacturing a substrate having fine roughness formed on a surface thereof. For this reason, after injecting a thermoplastic material into the mold through step S420 of FIG. 4, a substrate having fine roughness formed on the surface is manufactured by injection molding the thermoplastic material injected into the mold through step S430 of FIG. 4. .

본 실시예에서와 같이 미세 조도가 형성된 기판의 제작시 사출 성형 방식을 이용하는 경우에는 먼저 열가소성 소재를 가열하여 용융 상태로 만든 다음, 미리 제작된 금형에 용융 상태의 열가소성 소재를 주입시켜 경화시키는 방법으로, 원하는 미세 조도가 표면에 전사된 기판을 제작할 수 있다.In the case of using the injection molding method when manufacturing a substrate having fine roughness as in the present embodiment, first, a thermoplastic material is heated to a molten state, and then a thermoplastic material in a molten state is injected into a previously manufactured mold and cured. The substrate obtained by transferring the desired fine roughness to the surface can be produced.

상술한 사출 성형 방법도 대량 생산이 용이하여 제작 비용을 절감할 수 있고, 그 금형의 형태에 따라 다양한 디자인, 조도의 기판을 제작할 수 있는 이점이 있음은 앞서 설명한 압축 성형 방법에서와 다르지 않다.The above-mentioned injection molding method can also be easily mass-produced to reduce the manufacturing cost, and there is an advantage in that a substrate of various designs and roughnesses can be manufactured according to the shape of the mold.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 쉽게 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art to which the present invention pertains without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below It will be readily understood that modifications and variations are possible.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 압축 성형 방식을 이용할 경우, 표면에 미세 조도가 형성된 기판의 제작 방법을 대략적으로 나타낸 순서도.1 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a substrate having fine roughness formed on a surface when using a compression molding method according to an embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2d는 도 1에 도시된 제작 단계에 각각 대응되는 도면.2a to 2d respectively correspond to the fabrication steps shown in FIG.

도 3은 미세 조도가 형성된 기판에서 기판과 회로 배선 간의 접착 면적의 증가를 보여주기 위한 도면.3 is a view for showing the increase in the adhesion area between the substrate and the circuit wiring in the substrate formed with fine roughness.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따라 사출 성형 방식을 이용할 경우, 표면에 미세 조도가 형성된 기판의 제작 방법을 대략적으로 나타낸 순서도.4 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a substrate having fine roughness formed on a surface thereof when using an injection molding method according to another exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

110 : 금형 120a : 열가소성 소재110: mold 120a: thermoplastic material

120 : 기판 130 : 회로 배선120: substrate 130: circuit wiring

20 : 미세 요철 30 : 미세 조도20: fine unevenness 30: fine roughness

Claims (12)

기판에 전사시키고자 하는 조도(roughness)에 상응하는 미세 요철이 내면에 형성된 금형을 제작하는 단계;Manufacturing a mold having fine unevenness formed on an inner surface corresponding to roughness to be transferred to a substrate; 상기 금형 안에 열가소성 소재를 충전하는 단계;Filling a thermoplastic material into the mold; 상기 금형 안에 충전된 열가소성 소재를 충전시켜, 상기 미세 요철에 상응하는 조도가 표면 전사된 기판을 제작하는 단계; 및Filling the thermoplastic material filled in the mold to prepare a substrate on which surface roughness corresponding to the unevenness is transferred; And 상기 미세 조도가 전사된 기판의 표면 상에 회로 배선을 형성시키는 단계를 포함하며,      Forming circuit wiring on a surface of the substrate to which the fine roughness is transferred; 상기 열가소성 소재는 열가소성 고분자와 기능성 세라믹 필러의 복합체이며,       The thermoplastic material is a composite of a thermoplastic polymer and a functional ceramic filler, 상기 금형의 내면에는 상기 기판 표면 중 상기 회로 배선이 형성될 면에 해당하는 면의 전면(全面)에 조도가 전사될 수 있도록 상기 미세 요철이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제작 방법.       And the fine unevenness is formed on an inner surface of the mold so that illuminance can be transferred to an entire surface of a surface of the substrate corresponding to a surface on which the circuit wiring is to be formed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열가소성 소재는 분말 상태로 상기 금형 안에 충전되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제작 방법.And the thermoplastic material is filled into the mold in a powder state. 제1항에 있어서,      The method of claim 1, 상기 기판을 제작하는 단계는      Producing the substrate 상기 금형 안에 상기 열가소성 소재를 압축 성형시키는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제작 방법.     Printed circuit board manufacturing method characterized in that the compression molding of the thermoplastic material in the mold. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판을 제작하는 단계는Producing the substrate 상기 금형 안에 상기 열가소성 소재를 사출 성형시키는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제작 방법.Printed circuit board manufacturing method, characterized in that for injection molding the thermoplastic material in the mold. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열가소성 소재는 용융 상태로 상기 금형 안에 주입되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제작 방법.Printed circuit board manufacturing method, characterized in that the thermoplastic material is injected into the mold in a molten state. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열가소성 소재는 액정 고분자(LCP, liquid crystal polymer), 폴리에테르이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에테르설폰(PES, polyethersulfone), 폴리에테르에테르케톤(PEEK, polyetheretherketone) 및 폴리테트라플루오르에틸렌(PTEE, polytetrafluoroethylene) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제작 방법.The thermoplastic material is liquid crystal polymer (LCP), polyetherimide (PEI, polyetherimide), polyethersulfone (PES, polyethersulfone), polyetheretherketone (PEEK, polyetheretherketone) and polytetrafluoroethylene (PTEE, polytetrafluoroethylene) A printed circuit board manufacturing method, characterized in that any one of). 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기능성 세라믹 필러는 결정질 실리카(crystalline SiO2), 용융 실리카(fused SiO2), 실리콘 나이트라이드(SiN, silicon nitride), 보론 나이트라이드(BN, boron nitride), 알루미늄 나이트라이드(AlN, aluminium nitride) 및 알루미나(Al2O3) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제작 방법.The functional ceramic filler may include crystalline silica (crystalline SiO 2 ), fused silica (fused SiO 2 ), silicon nitride (SiN, silicon nitride), boron nitride (BN), aluminum nitride (AlN) And alumina (Al 2 O 3 ). 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 금형의 내면에는 상기 기판 표면 중 상기 회로 배선이 형성될 위치에 상응하는 부분에만 조도가 전사될 수 있도록 상기 미세 요철이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제작 방법.The inner surface of the mold is the manufacturing method of the printed circuit board, characterized in that the fine concavo-convex is formed so that the roughness can be transferred only to the portion of the substrate surface corresponding to the position where the circuit wiring is to be formed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 회로 배선을 형성시키는 단계는,Forming the circuit wiring, 잉크젯 방식을 이용하여 미리 설계된 배선 위치에 상기 회로 배선을 직접 형성하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제작 방법.A method of manufacturing a printed circuit board, wherein the circuit wiring is directly formed at a predesigned wiring position using an inkjet method. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열가소성 소재는 열가소성 고분자와 기능성 세라믹 필러의 복합체가 이용되되, 상기 열가소성 소재를 충전하는 단계 이전에,The thermoplastic material is a composite of a thermoplastic polymer and a functional ceramic filler, but before the step of filling the thermoplastic material, 상기 열가소성 고분자와 기능성 세라믹 필러의 복합체를 교반기에 넣어 교반시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제작 방법.The method of manufacturing a printed circuit board further comprising the step of stirring the composite of the thermoplastic polymer and the functional ceramic filler in a stirrer.
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