KR100893245B1 - 묘화 장치 및 묘화 방법 - Google Patents

Abstract

창틀 판정부는, 묘화하고자 하는 분할 영역이 창틀 영역에 들어간 것을 주편향 데이터와 스테이지 위치 정보에 기초하여 판정하고 판정 신호를 출력한다. 주편향 연산부는, 주편향 데이터를 입력받아 주편향 데이터에 기초하여 구동부를 구동하기 위한 연산 데이터를 연산한다. 전송 제어부는, 판정 신호가 출력된 것, 및 묘화 중인 분할 영역의 묘화가 종료된 것을 검지하여 주편향 데이터 연산부로부터 연산 데이터의 전송을 받아 해당 연산 데이터를 구동부에 전송한다.

창틀 판정부, 묘화, 판정 신호, 주편향 데이터, 부편향 데이터

Description

묘화 장치 및 묘화 방법{LITHOGRAPHY SYSTEM AND LITHOGRAPHY METHOD USING THE SAME}

<관련 출원>

본 출원은 2006년 7월 5일 출원된 일본 특허 출원 번호 제2006-185732호에 기초한 것으로 그 우선권을 주장하며, 그 전체 내용이 참조로서 본 명세서에 원용된다.

본 발명은, 묘화 장치 및 묘화 장치에서의 묘화 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 빔의 위치 결정에서의 주편향 데이터의 처리를 고속화하는 것이 가능한 묘화 장치 및 묘화 방법에 관한 것이다．

LSI 패턴은 최근 점점 미세화가 진행되고 있으며, 이 때문에, 종래의 광 노광 장치를 대신하여, 전자 빔 등의 하전 입자 빔으로 패턴을 묘화하는 하전 입자 빔 묘화 장치가 이용되고 있다.

전자 빔 묘화 기술의 묘화 속도를 고속화시키기 위해서, 다양한 제안이 이루어져, 실제의 장치로 이용되고 있다. 예를 들면, 가변 성형 빔 방식으로 불리는 방식이 이용되고 있다. 이 방식에서는, 제1 및 제2 사각형 어퍼쳐의 겹침을 이용 하여, 형성하고자 하는 패턴의 형상에 따른 다양한 형상의 가변 성형 빔을 투영한다. 이에 의해, 원형 빔을 이용하는 경우와 비하여, 노광 횟수를 대폭 적게 할 수 있다.

또한, 스테이지의 이동 시간의 단축에 의하여 묘화 속도를 향상시키는 방식으로서, 스테이지 연속 이동 방식으로 불리는 방식이 이용되고 있다. 이 방식은, 시료(마스크 등) 상의 묘화할 패턴을 단책 형상의 「프레임 영역」으로 분할하여 스테이지를 연속 이동시키면서 각 프레임을 묘화하는 것이다.

또한, 전자 빔의 편향 방식으로서 벡터 주사 방식이 제안되어 있다. 벡터 주사 방식이란, 「프레임 영역」을 더욱 「서브필드 영역」으로 불리는 소영역으로 분할하고, 그 내부를 필요한 부분만 가변 성형 빔을 편향하여 묘화하는 것이다(예를 들면, 일본 특개평1-152726호 공보 참조). 이 방식에서는, 주편향기·부편향기의 2개의 편향기를 이용하여, 서브필드 영역에의 위치 결정은 주편향기에 의해 행하고, 서브필드 영역 내에서의 묘화는 부편향기를 이용하여 행한다.

이 방식을 이용한 종래의 묘화 장치에서는, 주편향 데이터 처리 시간보다도 부편향 데이터 처리 시간쪽이 길어, 부편향 데이터 처리 시간의 단축이, 묘화 시간의 단축을 고려하는 경우에 있어서 과제이었다.

그러나 최근에는, 서브필드 영역의 크기가 축소화되어 서브필드 영역의 수가 증가하고 있으며, 이 때문에, 주편향 데이터 처리의 시간이 증가 경향에 있고, 부 편향 데이터의 처리 시간은 오히려 단축 경향이 있다. 이 때문에, 주편향 데이터 처리 시간이 스테이지 이동 속도에 영향을 주어, 묘화 장치의 스루풋이 저하되는 경향이 현저하게 되고 있다.

본 발명의 일 양태에 따른 묘화 장치는, 빔을 편향시켜 시료 상에 원하는 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서, 상기 빔을 편향시키는 편향기를 포함하는 빔 광학계와, 상기 편향기를 구동하는 구동부와, 묘화하고자 하는 패턴을 나타내는 묘화 데이터를 복수의 분할 영역으로 분할함과 함께 그 복수의 분할 영역의 1개에 상기 빔을 편향시키기 위한 주편향 데이터를 발생시키는 데이터 발생 회로와, 상기 시료를 재치 가능하게 구성된 스테이지와, 상기 스테이지의 위치를 검출하여 스테이지 위치 정보를 취득하는 위치 검출 회로와, 묘화하고자 하는 상기 분할 영역이 상기 빔을 주사 가능한 창틀 영역에 들어간 것을 상기 주편향 데이터와 상기 스테이지 위치 정보에 기초하여 판정하고 판정 신호를 출력하는 창틀 판정부와, 상기 창틀 판정부와 병렬로 상기 주편향 데이터를 입력받아 상기 주편향 데이터에 기초하여 상기 구동부를 구동하기 위한 연산 데이터를 연산하는 주편향 연산부와, 상기 판정 신호가 출력된 것 및 묘화 중인 상기 분할 영역의 묘화가 종료된 것을 검지하여 상기 주편향 연산부로부터 상기 연산 데이터의 전송을 받아 해당 연산 데이터를 상기 구동부에 전송하는 전송 제어부를 구비한 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 일 양태에 따른 묘화 방법은, 상기 빔을 편향시키는 편향기를 포함하는 빔 광학계와, 상기 편향기를 구동하는 구동부와, 상기 시료를 재치 가 능하게 구성된 스테이지를 적어도 구비한 묘화 장치에 의한 묘화 방법으로서, 묘화하고자 하는 패턴을 나타내는 묘화 데이터를 복수의 분할 영역으로 분할함과 함께 그 복수의 분할 영역의 1개에 상기 빔을 편향시키기 위한 주편향 데이터를 발생시키는 스텝과, 상기 스테이지의 위치를 검출하여 스테이지 위치 정보를 취득하는 스텝과, 묘화하고자 하는 상기 분할 영역이 상기 빔을 주사 가능한 창틀 영역에 들어간 것을 상기 주편향 데이터와 상기 스테이지 위치 정보에 기초하여 판정하고 판정 신호를 출력하는 스텝과, 상기 판정 신호를 출력하는 스텝과 병렬로 실행되며, 상기 주편향 데이터에 기초하여 상기 구동부를 구동하기 위한 연산 데이터를 연산하는 스텝과, 상기 판정 신호가 출력된 것 및 묘화 중인 상기 분할 영역의 묘화가 종료된 것을 검지하여 상기 연산 데이터를 상기 구동부에 전송하는 스텝을 구비한 것을 특징으로 한다.

이상, 본 발명에 따르면, 트랙킹 가능 시간을 단축하고 스테이지 속도를 빠르게 할 수 있어, 묘화 장치의 스루풋의 향상에 기여할 수 있다.

다음으로, 본 발명의 실시예에 따른 묘화 장치를, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 1은, 본 발명의 실시예에 따른 전자 빔 묘화 장치(1)의 개략 구성을 도시하는 모식도이다. 이 전자 빔 묘화 장치(1)는, 시료실(100)과, 전자 빔 광학계(200)와, 하드디스크 장치(300)와, 제어부(400)로 대략 구성되어 있다.

시료실(100) 내에는 마스크 등의 시료 W를 재치한 스테이지(11)가 수용되어 있다. 스테이지(11)는, 제어부(400)의 일부를 구성하는 스테이지 구동 회로(51)에 의하여 X 방향(지면 좌우 방향, 도 1 참조), 및 Y 방향(지면 수직 방향, 도 1 참조)으로 구동된다. 또한, 스테이지(11)의 이동 위치는, 제어부(400)의 일부를 구성하는 위치 검출 회로(52)에 의하여 측정된다.

전자 빔 광학계(200)는 시료실(100)의 상부에 설치되고, 전자총(21), 각종 렌즈(22, 23, 24, 25, 26), 블랭킹 편향기(31), 빔 치수 가변 편향기(32), 주편향기(33), 부편향기(34), 빔 성형용 어퍼쳐(35, 36) 등으로 구성되어 있다.

블랭킹 편향기(31)는, 전자총(21)으로부터의 전자 빔의 투과 또는 차단을 절환하는 기능을 갖는다. 빔 치수 가변 편향기(32)는, 빔 성형용 어퍼쳐(35, 36)에 의하여 전자 빔의 빔 단면 형상을 제어하는 기능을 갖는다.

또한, 주편향기(33)는, 주편향 데이터에 따라 소정의 서브필드 영역에의 위치 결정을 행하는 기능을 갖는다. 부편향기(34)는, 부편향 데이터에 따라, 부편향기(34)에 의하여 위치 결정된 서브필드 영역 내에서의 도형 묘화 위치의 위치 결정을 행하는 기능을 갖는다.

이들 편향기(32∼36)에 의한 묘화 동작을 도 2를 참조하여 간단히 설명한다. 빔 치수 가변 편향기(32) 및 빔 성형용 어퍼쳐(35, 36)에 의해, 샷 데이터 SD에 따른 빔 형상을 제어하면서, 스테이지(11)를 X 방향으로 연속 이동시킨다. 그리고, 이 이동에 추종하도록 주편향기(33)를 제어하면서 부편향기(34)를 제어하여, 1개의서브필드 영역 SF를 묘화 처리한다.

이와 같이 하여 1개의 서브필드 영역 SF의 묘화가 종료되면 다음 서브필드 영역, 예를 들면 Y의 정방향에 위치하는 서브필드 영역 SF의 묘화로 이행한다. 또한, 복수의 서브필드 영역 SF의 집합인 프레임 영역 F의 묘화가 종료되면, 스테이지(11)를 연속 이동 방향(X 방향)과 직교하는 방향(Y 방향)으로 스텝 이동시키고, 상기 처리를 반복하여 각 프레임 영역 F를 순차적으로 묘화하게 되어 있다. 여기에서, 프레임 영역 F는 주편향기(33)의 편향 폭으로 결정되는 단책 형상의 묘화 영역이며, 서브필드 영역 SF는 부편향기(34)의 편향 폭으로 결정되는 단위 묘화 영역이다.

도 1로 되돌아가서, 하드디스크 장치(300)에는, 묘화할 패턴에 따른 설계 패턴 데이터를 전자 빔 묘화 장치(1)에서의 묘화용으로 변환하여 생성된 묘화 데이터가 저장되어 있다.

제어부(400)는, CPU(41)와, 패턴 메모리(42)와, 제어 데이터 발생 회로(43)와, 데이터 처리 회로(45)와, DA 변환기(46∼49)와, 스테이지 구동 회로(51)(전술)와, 위치 검출 회로(52)(전술)를 구비하고 있다. CPU(41)는, 제어부(400)의 전체의 제어를 담당한다. 패턴 메모리(42)는, 하드디스크 장치(300)로부터 CPU(41)의 명령에 의하여 판독된 묘화 데이터를 프레임 영역 F 마다 일시적으로 저장한다.

제어 데이터 발생 회로(43)는, 패턴 메모리(42)에 저장된 프레임 영역 F마다의 묘화 데이터에 기초하여, 편향기(31∼34)를 제어하기 위한 각종 제어 데이터를 발생시키는 기능을 갖는다. 일례로서 이 제어 데이터 발생 회로(43)는, 주편향기(33)의 제어를 위한 주편향 데이터, 부편향기(34)의 제어를 위한 부편향 데이터, 빔 치수 가변 편향기(32)에 의하여 원하는 빔 치수를 얻기 위한 샷 데이터, 및 블랭킹 편향기(31)에 의한 블랭킹 동작을 제어하기 위한 블랭킹 데이터를 제어 데이터로서 생성한다. 이들 제어 데이터는 일례로서, 묘화 장치의 구성에 따라, 그 데이터의 종류 등은 적절히 변경하는 것이 가능하다. 즉, 제어 데이터는, 묘화하고자 하는 패턴을 나타내는 묘화 데이터에 기초하여 전자 빔 광학계(200)를 제어하기 위한 데이터이면, 그 명칭, 종별 등은 불문한다.

데이터 처리 회로(45)는, 제어 데이터 발생 회로(43)에서 발생된 각종 제어 데이터를, 소정의 타이밍에서 DA 변환기(46∼49)를 향하여 출력하는 기능을 갖는다.

도 3은, 데이터 처리 회로(45)의 구성예를 도시하는 블록도이다. 이 데이터 처리 회로(45)는, 입출력 제어부(61), 창틀 판정부(62), 주편향 연산부(63), 부편향 연산부(64), 샷 연산부(65), 블랭킹 연산부(66), 서브필드 묘화 종료 판정부(67), 전송 제어부(68), 및 연산 데이터 보정부(69)를 구비하고 있다.

입출력 제어부(61)는, 제어 데이터 발생부(43)로부터 입력된 블랭킹 데이터, 샷 데이터, 주편향 데이터, 부편향 데이터 등의 제어 데이터를, 지정된 타이밍에서 출력하는 기능을 갖는다.

창틀 판정부(62)는, 다음에 묘화하고자 하는 서브필드 영역이, 전자 빔을 주사 가능한 영역(창틀 영역)에 들어간 것을, 주편향 데이터, 및 스테이지(11)의 위치 정보로서의 스테이지 좌표(Xs, Ys)에 기초하여 판정하고 판정 플래그를 출력하는 기능을 갖는다.

연산부(63∼66)는, 각각 블랭킹 데이터, 샷 데이터, 주편향 데이터, 부편향 데이터에 기초하여 연산을 행하여, 편향기(31∼34)를 제어하기 위한 연산 데이터를 생성한다. 각 연산부(63∼66)는, 창틀 판정부(62)와 병렬로 데이터를 입력받아, 해당 데이터에 기초하여 DA 변환기(46)에 출력하기 위한 연산 데이터를 생성한다.

주편향 연산부(63)는, 스테이지 좌표(Xs, Ys)의 데이터를 이용하여, 임의의 스테이지 위치에서의 주편향 데이터의 연산 데이터를 생성한다. 스테이지(11)는 연속 이동하고 있기 때문에, 주편향 연산부(63)는, 소정의 타이밍에서 이 연산 데이터를, 그 시점에서의 스테이지 좌표(Xs, Ys)에 기초하여 산출한다.

서브필드 묘화 종료 판정부(67)는, 현재 묘화 중인 서브필드 영역의 묘화가 종료된 것을 판정한 경우에 종료 플래그를 출력하는 기능을 갖는다. 서브필드 영역의 묘화가 종료된 것의 판정은, 예를 들면 주편향 데이터에 관한 연산 데이터의 출력으로부터의 시간을 타이머로 관리함으로써 행하여도 되고, 혹은 묘화를 담당하는 회로로부터의 피드백를 받음으로써 행하여도 되므로, 다양한 판정 방법을 채용할 수 있다.

전송 제어부(68)는, 상기 창틀 판정부(62)로부터의 판정 플래그, 및 서브필드 묘화 종료 판정부(67)로부터 종료 플래그의 쌍방을 수신한 경우에서, 주편향 연산부(63)로부터 연산 데이터의 전송을 받아서 해당 연산 데이터를 연산 데이터 보정부(69)에 전송하는 기능을 갖는다. 즉 전송 제어부(68)는, 판정 플래그 및 종료 플래그의 쌍방의 수신을 확인하면, 이것에 대응하여 주편향 연산부(63)를 향하여 전송 요구를 출력한다. 주편향 연산부(63)는, 이 전송 요구를 받아, 최신의 연산 데이터를, 그 연산 데이터의 연산 시에서의 스테이지 좌표(Xs', Ys')의 데이터와 함께 전송 제어부(68)에 송신한다.

연산 데이터 보정부(69)는, 전송 제어부(68)로부터 전송되어 온 연산 데이터를, 그 연산 시의 스테이지 좌표(Xs', Ys')와 현재의 스테이지 좌표(Xs, Ys)의 차에 기초하여 보정하여 DA 변환기(48)에 출력하는 기능을 갖는다. 이러한 보정이 이루어짐으로써, 서브필드 영역에서의 트랙킹을 정확하게 행하는 것이 가능하게 된다.

또한，서브필드 묘화 종료 판정부(67)로부터 출력되는 종료 플래그는, 전송 제어부(68) 외에 입력 제어부(6l)에도 출력된다. 입력 제어부(61)는, 이 종료 플래그의 입력을 받으면, 창틀 판정부(62) 및 주편향 연산부(63)를 향하여, 다음에 묘화할 서브필드 영역에 대한 주편향 데이터를 송신하도록 되어 있다.

다음으로, 본 실시예의 전자 빔 묘화 장치(1)의 동작을, 도 4를 참조하여 설명한다. 1개의 서브필드 영역 SFi의 주편향 데이터가 취득되면(S1), 그 주편향 데이터는 입력 제어부(61)로부터 병렬로 창틀 판정부(62), 및 주편향 연산부(63)에 입력되어, 창틀 판정 처리(S2), 주편향 연산(S3)이 병행되어 실행된다.

주편향 연산(S3)에서는, 최신의 스테이지 좌표(Xs, Ys)의 데이터에 기초하고, 소정의 간격으로 연산 데이터가 생성되고, 오래된 연산 데이터는 폐기된다.

이들 스텝의 사이에, 전자 빔 광학계(200)에서는，서브필드 영역 SFi보다도 1개 전의 서브필드 영역 SFi-1에의 세틀링 및 묘화가 실행되고 있다(서브필드 영역SFi가 최초로 묘화되는 서브필드 영역인 경우를 제외함).

스텝 S5에서는，서브필드 묘화 종료 판정부(67)에 의해, 이 서브필드 영역 SFi-1의 묘화가 종료되었는지의 여부의 판정이 행해진다. 종료되었다고 판정된 경우에는, 서브필드 묘화 종료 판정부(67)가 종료 플래그를 출력하여 스텝 S7로 이행하고, 종료하지 않았다고 판정된 경우에는, 주편향 연산부(63)에서 연산된 연산 데이터는 폐기되고(S6), 스텝 S5가 반복하여 실행된다.

스텝 S7에서는, 종료 플래그를 수신한 전송 제어부(68)가, 주편향 연산부(63)에서 연산된 연산 데이터의 전송을 요구하는 전송 요구를 출력한다. 주편향 연산부(63)는, 이것을 받아 최신의 연산 데이터를, 그 연산 시의 스테이지 좌표(Xs', Ys')의 데이터와 함께 전송 제어부(68)에 전송한다.

전송된 연산 데이터는, 연산 데이터 보정부(69)에 의하여 보정되어 DA 변환기(48)에 출력되고, 서브필드 영역 SFi에 대한 주편향 세틀링(S8) 및 묘화(S9)가 개시된다. 이 S8, S9와 대략 동시에, 창틀 판정부(62), 및 주편향 연산부(63)에는, 다음에 묘화할 서브필드 영역 SFi+1의 주편향 데이터가, 전송 제어부(68)로부터의 전송 요구에 따라 공급되고(S1), 스텝 S8 및 스텝 S9와 병행하여 서브필드 영역 SFi+1에 대한 창틀 판정(S2), 주편향 연산(S3)이 실행된다. 이하, 마찬가지의 수순이 이어지는 서브필드 영역(N, N+1, N+2, …)에 대하여 반복된다.

이 도 4의 방법에 의하면, 도 5에 도시한 바와 같이, 서브필드 영역 SFi-1의 주편향 세틀링 및 묘화 동안에, 다음 서브필드 영역 SFi에 대한 창틀 판정, 및 주편향 연산을 실행할 수 있으며, 또한, 주편향 연산은 창틀 판정과 병행되어 실행된다. 이 때문에, 창틀 판정의 시간, 및 주편향 연산의 시간은 실질적으로 제로로 된다. 즉, 트랙킹 가능 시간 내에서는, 주편향 세틀링과 묘화 동작 외에는, 주편향 연산 데이터의 전송, 및 보정을 실행하면 된다.

이것에 대하여, 종래의 묘화 장치의 주편향 데이터 처리를 포함하는 묘화의 수순은, 도 6에 도시한 바와 같이, 이하와 같은 것이다.

(1) 묘화하고자 하는 서브필드 영역(SFi-1)이, 전자 빔을 주사 가능한 영역(이하, 「창틀 영역」이라고 함)에 들어간 것을, 주편향 데이터, 및 스테이지의 위치 정보에 기초하여 판정한다(창틀 판정).

(2) 창틀 영역에 들어간 것이 검지되면, 그 시점에서의 스테이지의 위치 정보를 취득하고, 이 스테이지 위치 정보, 및 주편향 데이터에 기초하여 주편향 앰프 구동용의 연산 데이터를 연산한다(주편향 연산).

(3) 주편향 연산 데이터에 기초하여, 묘화하고자 하는 서브필드 영역에 전자 빔이 위치하도록 주편향 앰프를 제어한다(주편향 세틀링).

(4) 주편향 세틀링이 종료되는 대로, 부편향 데이터에 기초하여 서브필드 영역의 묘화를 개시한다(묘화).

(5) 묘화가 종료되면, 다음에 묘화할 서브필드 영역(SFi)의 창틀 판정을 행하고, 이하, 해당 서브필드 영역에 대하여 상기 (1)∼(4)를 반복한다.

이러한 수순의 경우, 창틀 판정이 행해진 후(1), 묘화가 종료될 때까지의 동안의 처리 시간(트랙킹 가능 시간)이, 전자 빔의 트랙킹이 가능한 거리(트랙킹 가능 거리)로 제한되며, 또한 이 처리 시간은, 스테이지의 이동 속도가 빨라질수록 짧게 해야한다(트랙킹 가능 시간=트랙킹 가능 거리÷스테이지의 이동 속도). 이 처리 시간, 특히 주편향 연산 처리의 시간을 짧게 할 수 있으면, 그만큼 스테이지의 이동 속도를 빠르게 할 수 있어, 묘화 장치의 스루풋을 향상시킬 수 있다.

본 실시예에 따르면, 도 6에 도시하는 종래의 경우와 비교하여, 트랙킹 가능 시간을 단축할 수 있다. 이것은 스테이지 속도를 빠르게 할 수 있는 것을 의미하며, 묘화 장치의 스루풋의 향상에 기여하는 것이다.

이상, 발명의 실시예를 설명했지만, 본 발명은 이것들에 한정되는 것은 아니고, 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변경, 치환, 추가, 삭제 등이 가능하다. 예를 들면, 도 3에 데이터 처리 회로(45)의 구성예를 도시했지만, 이것은 데이터 처리 회로(45)를 하드웨어에 의해 구성한 경우의 일례이며, 다른 하드웨어 구성이 채용 가능하다. 또한, 데이터 처리 회로(45)를 소프트웨어에 의해 구성하는 것도 가능하다.

또한, 상기한 실시예에서는, 가변 성형 빔 방식 및 스테이지 연속 이동 방식을 채용한 전자 빔 묘화 장치를 예시했지만, 이 방식 이외의 전자 빔 묘화 장치에도, 본 발명은 적용 가능하다. 또한, 전자 빔 묘화 장치뿐만 아니라, 레이저 등을 이용한 묘화 장치에도 본 발명은 적용 가능하다.

당 분야의 당업자라면, 추가의 장점 및 변경을 이룰 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 광의의 점에서 상술한 설명 및 실시예에 한정되지 않는다. 따라서, 첨부한 특허 청구 범위와 그의 등가물에 의하여 정의된 정신이나 범위를 일탈하지 않고 다양한 변경이 이루어질 수도 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 전자 빔 묘화 장치(1)의 개략 구성을 도시하는 모식도.

도 2는 도 1에 도시하는 편향기(32∼36)에 의한 묘화 동작을 설명하는 개념도.

도 3은 도 1에 도시하는 데이터 처리 회로(45)의 구성예를 도시하는 블록도.

도 4는 발명의 실시예에 따른 전자 빔 묘화 장치(1)의 동작을 도시하는 개념도.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 효과를 설명하는 도면.

도 6은 종래의 전자 빔 묘화 장치의 묘화 동작을 설명하는 도면．

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 전자 빔 묘화 장치

11 : 스테이지

31 : 블랭킹 편향기

32 : 빔 치수 가변 편향기

33 : 주편향기

34 : 부편향기

100 : 시료실

200 : 전자빔 광학계

300 : 하드디스크 장치

400 : 제어부

Claims (6)

1. 빔을 편향시켜서 시료 상에 원하는 패턴을 묘화하는 묘화 장치에 있어서,

   상기 빔을 편향시키는 편향기를 포함하는 빔 광학계와,

   상기 편향기를 구동하는 구동부와,

   묘화하고자 하는 패턴을 나타내는 묘화 데이터를 복수의 분할 영역으로 분할함과 함께 그 복수의 분할 영역의 1개에 상기 빔을 편향시키기 위한 주편향 데이터를 발생시키는 데이터 발생 회로와,

   상기 시료를 재치 가능하게 구성된 스테이지와,

   상기 스테이지의 위치를 검출하여 스테이지 위치 정보를 취득하는 위치 검출 회로와,

   묘화하고자 하는 상기 분할 영역이 상기 빔을 주사 가능한 창틀 영역에 들어 간 것을 상기 주편향 데이터와 상기 스테이지 위치 정보에 기초하여 판정하고 판정 신호를 출력하는 창틀 판정부와,

   상기 창틀 판정부와 병렬로 상기 주편향 데이터를 입력받아 상기 주편향 데이터에 기초하여 상기 구동부를 구동하기 위한 연산 데이터의 연산을, 상기 창틀 판정부에서의 판정과 병행하여 실행하는 주편향 연산부와,

   상기 판정 신호가 출력된 것 및 묘화 중인 상기 분할 영역의 묘화가 종료된 것을 검지하여 상기 주편향 연산부로부터 상기 연산 데이터의 전송을 받아서 해당 연산 데이터를 상기 구동부에 전송하는 전송 제어부

   를 구비한 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 창틀 판정부 및 상기 주편향 연산부는, 상기 주편향 연산부로부터 상기 전송 제어부에 상기 연산 데이터가 전송된 후, 다음에 묘화될 상기 분할 영역에 관한 상기 주편향 데이터의 입력을 받도록 구성된 묘화 장치.
3. 제1항에 있어서,

   상기 전송 제어부는, 상기 연산 데이터의 보정을 위하여, 상기 연산 데이터와 함께 상기 연산 데이터의 연산 시에서의 상기 스테이지 위치 정보를 상기 주편향 연산부로부터 취득하도록 구성된 묘화 장치.
4. 빔을 편향시키는 편향기를 포함하는 빔 광학계와, 상기 편향기를 구동하는 구동부와, 상기 시료를 재치 가능하게 구성된 스테이지를 적어도 구비한 묘화 장치에 의한 묘화 방법에 있어서,

   묘화하고자 하는 패턴을 나타내는 묘화 데이터를 복수의 분할 영역으로 분할함과 함께 그 복수의 분할 영역의 1개에 상기 빔을 편향시키기 위한 주편향 데이터를 발생시키는 스텝과,

   상기 스테이지의 위치를 검출하여 스테이지 위치 정보를 취득하는 스텝과,

   묘화하고자 하는 상기 분할 영역이 상기 빔을 주사 가능한 창틀 영역에 들어 간 것을 상기 주편향 데이터와 상기 스테이지 위치 정보에 기초하여 판정하고 판정 신호를 출력하는 스텝과,

   상기 판정 신호를 출력하는 스텝과 병렬로 실행되며, 상기 주편향 데이터에 기초하여 상기 구동부를 구동하기 위한 연산 데이터의 연산을, 상기 창틀 영역에 들어간 것의 판정과 병행하여 실행하는 스텝과,

   상기 판정 신호가 출력된 것 및 묘화 중인 상기 분할 영역의 묘화가 종료된 것을 검지하여 상기 연산 데이터를 상기 구동부에 전송하는 스텝

   을 구비한 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
5. 제4항에 있어서,

   상기 연산 데이터가 전송된 후, 그 연산 데이터에 의한 묘화 동작과 병행하여, 다음에 묘화될 상기 분할 영역에 대한 상기 주편향 데이터에 기초하여 상기 판정 신호를 출력하는 스텝 및 상기 연산하는 스텝의 실행이 개시되는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
6. 제4항에 있어서,

   상기 전송하는 스텝에서 전송된 상기 연산 데이터를, 그 연산이 이루어진 시점의 상기 스테이지 위치 정보와, 현재의 스테이지 위치 정보와의 차에 기초하여 보정하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.

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