KR100876077B1 - Micro probe structure - Google Patents

Micro probe structure Download PDF

Info

Publication number
KR100876077B1
KR100876077B1 KR1020080034048A KR20080034048A KR100876077B1 KR 100876077 B1 KR100876077 B1 KR 100876077B1 KR 1020080034048 A KR1020080034048 A KR 1020080034048A KR 20080034048 A KR20080034048 A KR 20080034048A KR 100876077 B1 KR100876077 B1 KR 100876077B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
body portion
probe
probe structure
contact
base end
Prior art date
Application number
KR1020080034048A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20080039859A (en
Inventor
이억기
이정훈
구철환
Original Assignee
이억기
주식회사 파이컴
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=39647770&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR100876077(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 이억기, 주식회사 파이컴 filed Critical 이억기
Priority to KR1020080034048A priority Critical patent/KR100876077B1/en
Publication of KR20080039859A publication Critical patent/KR20080039859A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100876077B1 publication Critical patent/KR100876077B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • G01R1/06733Geometry aspects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2601Apparatus or methods therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips

Abstract

초소형 프로브 구조체는 몸체부, 기부단부, 접촉단부 및 팁부를 포함한다. 몸체부는 수평 블레이드 형상을 갖는다. 기부단부는 상기 몸체부의 일단부로부터 곡선부가 형성되도록 하방을 향해 연장된다. 접촉단부는 상기 몸체부의 타단부로부터 연장된다. 팁부는 상기 접촉단부로부터 상방을 향해 연장된다.The micro probe structure includes a body portion, a base end, a contact end and a tip. The body portion has a horizontal blade shape. The base end extends downwardly so that a curved portion is formed from one end of the body portion. The contact end extends from the other end of the body portion. The tip extends upwardly from the contact end.

Description

초소형 프로브 구조체{Micro probe structure}Micro probe structure

본 발명은 반도체 디바이스 및 플랫 패널 디스플레이 디바이스와 같은 전자부품의 전기적 특성을 검사하는 프로브 구조체에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to probe structures for inspecting electrical properties of electronic components such as semiconductor devices and flat panel display devices.

종래 기술로서는, 텅스텐 니들(W-needle)의 단부가 테이퍼져 있으며 에폭시로 몰딩하는 (1) 캔틸레버식(cantilever) 에폭시 타입과 약 1~2mil의 골드와이어를 와이어본더로 일정형의 마이크로 스프링 형태를 만들고 전해도금을 하여 그 단부에 접촉단자를 붙여 만드는 (2) 마이크로 스프링 타입 등이 있다. 최근에는 도 5에 도시 된 바와 같이 폴리 실리콘에 마스크를 사용하여 이방성 식각을 하고 그 식각부에 금속층(seed layer)을 만들어 전해도금을 하여 소정의 프로브를 형성하고 이들을 세라믹 주면(ceramic substrate)에 부착하여 만드는 (3) 마이크로 캔틸레버식(micro cantilever type)인 리소그래픽 컨택 스프링(lithographic contact spring)등이 거론되고 있다. In the prior art, a tungsten needle (W-needle) is tapered and epoxy molded (1) cantilever epoxy type and about 1 to 2 mils of gold wire with a wire bonder. (2) Micro spring type and the like that are made by electroplating and attaching contact terminals to their ends. Recently, as shown in FIG. 5, anisotropic etching is performed on a polysilicon using a mask, a metal layer is formed on the etching portion, and an electroplating is performed to form predetermined probes, and the ceramics are attached to a ceramic substrate. (3) A micro cantilever type lithographic contact spring is mentioned.

상기한 종래 기술에 있어서의 문제들은, (1)의 경우 1.5~2.5inch의 needle을 특정각으로 밴딩(bending)하고 에폭시 수지로 수평 조립하여 고정하게 되는데 수지의 열수축, 팽창으로 인한 멀티테스트가 어렵거나 불가능하고 특정 디바이스 경우 팁(tip) 길이가 각기 달라서 검사(probing) 진행 중에 불안정한 특성을 나타내게 되며 대부분의 공정이 수작업에 의존하므로 재현성이 미흡하다. 또한, 탐침의 교체 즉 수리(Repair)가 어렵거나 불가능한 실정이다. Problems in the above-described prior art, in the case of (1) is to be fixed by bending a needle of 1.5 ~ 2.5inch at a specific angle and assembled horizontally with epoxy resin, which is difficult to multi-test due to thermal shrinkage and expansion of the resin In the case of a specific device, the tip lengths are different, and thus, they are unstable during the probing process, and the reproducibility is insufficient because most processes are manual. In addition, it is difficult or impossible to replace the probe (Repair).

(2)의 경우 와이어 본더로 리드(lead)를 형성하는데 4~8밀(mil) 외경인 케필러리(capillary)의 한계 때문에 미세간격 배열(fine pitch array)인 경우 인접한 리드에 간섭이 발생한다. 또한 수리(Repair)가 불가능하며 제조공정이 복잡하여 제조단가가 비싸다.In the case of (2), the lead is formed by wire bonder, but due to the limitation of capillary having an outer diameter of 4 to 8 mils, in the case of fine pitch array, interference occurs in adjacent leads. . In addition, repair is impossible and the manufacturing cost is high due to the complicated manufacturing process.

(3)의 경우에는 대한민국 공개특허공보 10-1999-029048 (1999.04.15) '프로브 카드 및 프로브 카드의 제조 방법'이 있으며 내용을 설명하면 다음과 같다. 스프링 접촉 구조체들은 희생 기판 상에 한정된 개구 내로 금속 재료의 적어도 하나의 층을 증착시킴으로써 제조되었고 개구는 기판의 표면 내부에, 또는 희생 기판의 표면 상에 증착된 하나 이상의 층에 있을 수 있다. 각각의 스프링 접촉 요소는 기부 단부 부분, 접촉 단부 부분 및 중앙 본체부를 구비하였고 접촉 단부 부분은 중앙 본체부보다 z축으로 오프셋되었으며 기부 단부 부분은 중앙 본체부로부터 z축을 따라 대향 방향으로 오프셋되었다. 이러한 방식으로, 복수개의 스프링 접촉 요소들은 희생 기판 상에 서로 규정된 공간적 관계로 제조되었고 스프링 접촉 요소들은 기부 단부에 의해 공간 변환기 또는 반도체 장치 등의 전자 부품 상의 대응 단자에 장착되었다. In case of (3), there is a Republic of Korea Patent Publication No. 10-1999-029048 (1999.04.15) 'probe card and probe card manufacturing method' and the contents are as follows. The spring contact structures were made by depositing at least one layer of metal material into a defined opening on the sacrificial substrate and the opening can be in one or more layers deposited on the surface of the substrate or on the surface of the sacrificial substrate. Each spring contact element had a base end portion, a contact end portion and a central body portion with the contact end portion offset in the z axis than the central body portion and the base end portion in the opposite direction along the z axis from the central body portion. In this way, a plurality of spring contact elements were manufactured in a defined spatial relationship with each other on the sacrificial substrate and the spring contact elements were mounted to corresponding terminals on an electronic component such as a space converter or a semiconductor device by a base end.

이러한 형태의 초소형 전자 접촉 구조체의 제조 방법을 개략적으로 설명을 하면 다음과 같다. 즉, 희생 기판에 에칭 등에 의해 홈과 같은 만입부를 형성하고 만입부 내에 (도금 등에 의해) 금속 재료를 증착시킴으로써 제조되며 그 후 생성된 스프링 접촉 구조체는 반도체 장치 등의 수동형 기판 또는 능동형 기판과 같은 다른 기판에 장착되고 난 후에, 희생 기판이 제거된다. 스프링 접촉 구조체가 제조될 수 있는 희생 기판은 일 실시예로서 실리콘 웨이퍼이며, 이 경우의 공정은 미세 기계 가공 공정에 사용되는 실리콘의 방향 선택 에칭을 이용하여, 최종 스프링 접촉 구조체를 도금하는데 사용되는 전기 주조품을 생성하도록 하는 것이다.The manufacturing method of the microelectronic contact structure of this type will be briefly described as follows. That is, by forming an indent such as a groove on the sacrificial substrate by etching or the like and depositing a metal material (by plating or the like) in the indent, the resulting spring contact structure is then made into another substrate such as a passive substrate such as a semiconductor device or an active substrate. After mounting on the substrate, the sacrificial substrate is removed. The sacrificial substrate from which the spring contact structure can be fabricated is a silicon wafer as an example, in which case the process is used to plate the final spring contact structure using a direction selective etching of silicon used in the micromachining process. To produce castings.

이러한 접촉 구조체는 탐침 대상인 전자 부품의 패드 형상에 맞추어 프로브 구조체를 제작할 수 밖에 없어 제작 수량에 한계가 있고 프로브 구조체의 수명을 늘리기 위해서는 역학적으로 곡선부등을 적용하여 응력 분산시키는 노력이 필요한 바 종래의 제조 방법으로는 용이하게 구현할 수 없으며 그 결과 상업화가 진전되지 않고 있는 상황이며 비교적 많은 단계의 제조 공정이 필요한 단점이 있다.Since the contact structure can only be manufactured in accordance with the pad shape of the electronic component to be probed, there is a limitation in the number of production, and in order to increase the life of the probe structure, an effort to disperse the stress by applying dynamic curves is required. The method cannot be easily implemented, and as a result, commercialization is not progressing, and there are disadvantages in that a relatively large number of steps are required.

또 다른 종래 기술로는, 대한민국 공개특허공보 10-1999-037422 (1999.05.25) '프로브 카드 및 프로브 카드의 제조방법'이 있으며 그 내용은 기판의 한 주면 상에 그 일부가 돌출부를 갖는 적절한 접촉단자가 형성되었고 리드(lead)의 일단이 상기 기판 및 프로브 사이에 설치되는 지지부를 통하여 장착되는데, 이 리드는 상기 주면으로부터 박리된 상태로 기판의 상기 주면을 따라 설치되어 있다. 이러한 프로브 구조체 역시 이러한 접촉 구조체는 탐침 대상인 전자 부품의 패드 형상에 맞추어 프로브 구조체를 제작할 수 밖에 없어 제작 수량에 한계가 있고 프로브 구조체의 수명을 늘리기 위해서는 역학적으로 곡선부 등을 적용하여 응력 분산시키는 노력이 필요한 바 종래의 제조 방법으로는 용이하게 구현할 수 없는 상황이며 비교적 많은 단계의 제조 공정이 필요한 단점이 있다.Another conventional technique is Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-1999-037422 (1999.05.25) 'Probe card and probe card manufacturing method', the contents of which is appropriate contact with a part of the projection on one main surface of the substrate A terminal is formed and one end of a lead is mounted through a support portion provided between the substrate and the probe, which lead is provided along the main surface of the substrate in a state of being peeled from the main surface. The probe structure is also limited to the number of production because the contact structure has to be manufactured according to the pad shape of the electronic component to be probed, and in order to increase the life of the probe structure, efforts to disperse the stress by applying curves or the like mechanically It is a situation that can not be easily implemented by the conventional manufacturing method bar has a disadvantage that requires a relatively large number of steps manufacturing process.

또 다른 종래 기술로는 미국 특허 6,268,015B1 (1998.12.2) '석판 인쇄식 접촉 스프링을 제작하는 방법 및 사용 방법'으로서 석판 인쇄술에 의한 스프링 접촉 요소를 포함하는 상호연결 형성 방법으로 제조되는 프로브 구조체에 관한 것이다. 실시예로서, 기판의 첫째면을 덮는 마스킹 재료를 공급하는 것을 포함하는 방법에 관한 것으로 마스킹 재료는 스프링 구조의 첫째면에 정의된 개구부를 가지고 있으며, 개구부에서 구조체(예를 들어 유전체)를 석출시키며, 구조체의 개구부를 과적시키고, 구조체의 일면을 제거하며, 마스킹 재료의 첫째면을 제거한다.Another prior art is US Pat. No. 6,268,015B1 (December 2, 1998) 'Methods and Methods of Making Lithographic Contact Springs' in probe structures made by interconnect formation methods comprising spring contact elements by lithography. It is about. In an embodiment, the present invention relates to a method comprising supplying a masking material covering a first side of a substrate, wherein the masking material has an opening defined on the first side of the spring structure and deposits a structure (eg, a dielectric) in the opening. Overload the openings of the structure, remove one side of the structure, and remove the first side of the masking material.

이 실시예에 있어서, 스프링 구조의 첫째면의 일면은 최소한 마스킹 재료에 구속되지 않는다. 발명에 있어서 일측면에서는, 그 방법이 구조체의 하나의 면을 제거하는 구조체와 마스킹 재료층을 평탄화하는 것을 포함한다. 또다른 측면에서는, 구성된 스프링 구조는 하나의 지지부와 몸체부 접촉 구조부를 포함한다. 지지부는 프로브 카드의 일면에 패터닝된 터미널에 부착되어 있고 타단의 터미널에 도전성 회로로 연결되어 있으며, 미국특허 6,255,126B1 (1998.12.2) '석판 인쇄술에 의한 접촉 요소'에 개시된 바와 같이 리소 그래피(lithography)와 도금(plating)을 하여 구현한 소형화된 캔틸레버식 프로브로서, 웨이퍼 전극배열(wafer pad array)이 직선형태가 아닌 QFP용 디바이스 경우처럼 사방 배열일 때는 Dual 이상의 멀티테스트가 용이하지 않게 되며, 미세 간격 배열일 때도 대응이 쉽지 않다. 특히, 다층(4층)이상의 포토 리지스트(Photo resist)가 적용되는 경우, 포토 리지스트 제거시 금속층간이나 주면과 프로브지지부 사이의 금속층의 결합력(adhision)이 약해 지거나 불안정할 수 밖에 없으며 프로브가 소형화 될 수록 검사중 웨이퍼 패드에 적정한 스크래치 양이 부족할 수 있고, 프로브 접속 접촉력(contact force)이 충분하지 않아 통전 문제등이 지적되고, 물리적 하중에 대하여 다층구조의 리드 지지부(50)에 응력이 가장 많이 발생하므로 쉽게 단락될 수 있다.In this embodiment, one side of the first side of the spring structure is at least not constrained to the masking material. In one aspect of the invention, the method includes planarizing the structure and masking material layer to remove one side of the structure. In another aspect, the constructed spring structure includes one support and body contact structure. The support is attached to a patterned terminal on one side of the probe card and connected to the other end by a conductive circuit, lithography as disclosed in US Pat. No. 6,255,126B1 (1998.12.2) 'Lithographic contact elements'. Miniaturized cantilever probe implemented by plating), and multi-test more than Dual is not easy when wafer pad array is all-round array like QFP device which is not linear type. Even in the case of spacing arrangements, the correspondence is not easy. In particular, when a photoresist of more than multiple layers (4 layers) is applied, when the photoresist is removed, the adhision of the metal layer between the metal layers or between the main surface and the probe support may be weakened or unstable. The smaller the size, the less adequate scratch amount may be in the wafer pad during inspection, the insufficient contact force of the probe contact point may cause a problem of energization, and the stress on the lead support 50 of the multi-layer structure against the physical load may be the most significant. Many occur and can easily be shorted.

리소그래픽 컨텍 스프링(lithographic contact spring)경우에서 접촉단자가 피라미드 형태로 되어 있거나 긴 피라미드 형태인데, 자세히 분석해 보면 세라믹(Ceramic)주변으로부터 프로브 구조체를 형성시키는데 다층(3층 이상)이상의 포토레지스트(photoresist) 층을 만들어야 하고 각 층마다 금속도금을 하여 면을 평평하게 만들어야 한다. 이때 포토리지스트가 있는 상태에서 금속층을 그라인딩(grinding)하거나 샌딩(sanding)하게 되면 각 층간에 존재하는 몸체부의 정확한 두께 조정이 어려워 프로브 구조체의 몸체부 두께가 층에 따라 다소 달라 지게 되어 미세한 접속 접촉력(probing contact force)의 차이가 생기게 되며 장시간 검사 후에는 각각의 프로브의 물리적 특성이 달라 지게 된다. In the case of lithographic contact springs, the contact terminals are pyramidal or long pyramids. In detail, photoresist of more than three layers (more than three layers) is used to form the probe structure from the ceramic periphery. Layers must be made and each layer must be metal plated to make the face flat. At this time, when grinding or sanding the metal layer in the presence of photoresist, it is difficult to precisely adjust the thickness of the body between each layer, so the thickness of the body of the probe structure varies slightly depending on the layer. (probing contact force) is different and after a long time the physical properties of each probe will be different.

또한, 교체 수리문제에 있어서는, 반복적인 리소그래피와 도금공정 등을 통하여 세라믹 주면의 전극이나 지지부에 직접 프로브를 형성하게 하거나 베어(bare) 실리콘에 프로브를 형성하여 주면위 전극이나 지지부에 일괄 부착(bonding)후 화학적인 식각(주로 KOH etching)을 하거나 베어(bare) 실리콘의 기저층에 깔았던 금속 전극층(seed layer)을 제거 함으로서 분리 시키기 때문에, 결함이나 휴먼 에러(human error)로 인한 손상된 프로브 구조체는 교체(repair)가 사실상 곤란하게 된다.In addition, in the case of replacement and repair problems, it is possible to form a probe directly on an electrode or a support of a ceramic main surface through repeated lithography and plating processes, or to form a probe on bare silicon to bond the electrode to a support or a support on a major surface. Damaged probe structures due to defects or human errors can be replaced by chemical etching (usually KOH etching) or by removing the metal electrode layer laid on the bottom layer of bare silicon. Repair becomes virtually difficult.

도 11(a-d)은 상기 종래 기술에 의해 제조된 프로브 구조체가 부착된 프로브 카드의 예를 간단한 도해로 나타낸 것이다.Fig. 11 (a-d) shows a simple illustration of an example of a probe card with a probe structure manufactured according to the prior art.

번호 110, 120, 130, 140은 프로브 카드의 본체를 나타내며 번호 111, 121. 131, 141은 프로브 구조체를 나타낸다.Reference numerals 110, 120, 130, and 140 denote the main body of the probe card, and numerals 111, 121, 131, and 141 denote the probe structures.

도 12(e-g)는 상기 종래 기술에 의해 제조된 프로브 구조체가 부착된 프로브 카드의 예를 간단한 도해로 나타낸 것이다.Fig. 12 (e-g) shows a simple illustration of an example of a probe card with a probe structure manufactured according to the prior art.

번호 150, 160, 170은 프로브 카드의 본체를 나타내며 번호 151, 161. 171은 프로브 구조체를 나낸다.Numerals 150, 160 and 170 denote the main body of the probe card and numerals 151, 161 and 171 denote the probe structure.

상기한 종래기술에 있어서 해결되어야 할 문제들을 정리하면, To summarize the problems to be solved in the prior art,

첫째, 일본 특개평 97-295361 (1997.10.28) '프로브 카드 및 프로브 카드의 제조 방법'에 개시 된 바와 같은 프로브 규격으로는 전극이 매트릭스 배열로 배치된 LSI장치나 다른 IC의 테스트용 프로브를 제조하기 어렵거나 에 언급한 바와 같은 이유로 동일한 접속접촉력을 지속적으로 갖게 하기 어렵다는 것인데, 미세간격의 패드(pad)배열, 복열 패드배열 대응에 적합한 다양한 형태의 초소형 프로브 구조체가 필요하다. First, as a probe standard disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 97-295361 (October 28, 1997) 'Probe Card and Probe Card Manufacturing Method', a test probe for an LSI device or another IC in which electrodes are arranged in a matrix array is manufactured. It is difficult to do the same or it is difficult to continuously have the same contact contact force for the reasons mentioned in the above, there is a need for a variety of micro probe structures of various types suitable for the pad spacing of the micro-spaced, double-row pad array.

둘째, 그러한 이유에서 접촉단부가 수직 블레이드화 하면서도 전자 소자의 전극이나 접속 접촉이 상하 방향으로의 어느 정도의 변형이나 변위를 갖는 경우에도 각각에 대하여 신뢰성있는 접촉이 이루어지도록 적절한 정도의 탄성도를 갖게 하려면 몸체부에 수평 블레이드화가 요구 된다.Secondly, even if the contact end is vertically bladed, even if the electrode or the connecting contact of the electronic device has a certain deformation or displacement in the vertical direction, it has an appropriate degree of elasticity so that reliable contact is made with each other. This requires horizontal blades on the body.

셋째, 동일한 프로브 구조체의 접속 접촉력과 탄성력 및 반력이 생기도록 리소그래피 공정에서 마스크로 현상하여 프로브 구조체의 규격을 동일하게 하여, 동일 규격의 프로브 구조체를 구현하므로써 프로브 카드의 수명을 길게 한다. Third, by developing a mask in the lithography process so that the contact contact force, the elastic force and the reaction force of the same probe structure are generated, the standard of the probe structure is the same, and the life of the probe card is extended by implementing the probe structure of the same standard.

넷째, 결함(defect)이나 휴먼에러(human error)로 발생할 수 있는 프로브 교체 수리(repair)문제에 있어 종래 기술들에 있어서 제조 공정이 단위공정마다 원스텝(one step process)공정들이기 때문에 국부적인 교체 수리가 불가능한데, 실리콘에 삽설부를 식각하여 만든 프로브 임시 고정 다이를 사용하므로써 삽설부에 있는 손상된 프로브를 제거하고 새 프로브를 삽입하여 용재를 융착하는 형태의 국부적인 수리가 가능하도록 할 과제가 생긴다.Fourth, in the replacement problem of probe replacement that may occur due to defects or human errors, local replacement repair is performed because the manufacturing processes are one-step processes per unit process in the prior arts. However, the use of a probe temporary fixing die made by etching the insert in silicon creates a challenge to remove the damaged probe in the insert and insert a new probe to allow local repair in the form of fusion welding.

본 발명의 일 견지에 따른 초소형 프로브 구조체는 몸체부, 기부단부, 접촉단부 및 팁부를 포함한다. 몸체부는 수평하게 배치된 블레이드 형상을 갖는다. 기부단부는 상기 몸체부의 일단부로부터 곡선부가 형성되도록 하방을 향해 연장된다. 접촉단부는 상기 몸체부의 타단부로부터 연장된다. 팁부는 상기 접촉단부로부터 상방을 향해 연장된다.The micro probe structure according to one aspect of the present invention includes a body portion, a base end, a contact end, and a tip. The body portion has a blade shape arranged horizontally. The base end extends downwardly so that a curved portion is formed from one end of the body portion. The contact end extends from the other end of the body portion. The tip extends upwardly from the contact end.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 몸체부는 상기 몸체부의 길이 방향을 따라 변화하는 단면적들을 가질 수 있다. 상기 몸체부의 단면적은 상기 기부단부로부터 상기 접촉단부 방향을 따라 점진적으로 감소할 수 있다. 또한, 상기 몸체부는 상기 접촉단부의 폭보다 넓은 폭을 가질 수 있다. 상기 몸체부는 테이퍼진 상하부면들을 가질 수 있다.According to one embodiment of the invention, the body portion may have a cross-sectional area that changes in the longitudinal direction of the body portion. The cross-sectional area of the body portion may gradually decrease from the base end along the direction of the contact end. In addition, the body portion may have a width wider than the width of the contact end. The body portion may have tapered upper and lower surfaces.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 팁부는 절두된 형상의 첨단을 가질 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the tip portion may have a tip of a truncated shape.

본 발명의 다른 견지에 따른 초소형 프로브 구조체는 몸체부, 기부단부, 접촉단부 및 팁부를 포함한다. 기부단부는 상기 몸체부의 일단부로부터 곡선부가 형성되도록 하방을 향해 연장된다. 접촉단부는 상기 몸체부의 타단부로부터 연장되고, 상기 몸체부에 비하여 상대적으로 좁은 폭과 두꺼운 두께를 갖는다. 팁부는 상기 접촉단부로부터 수직 상방을 향해 연장되고, 절두된 형상의 첨단을 갖는다.The micro probe structure according to another aspect of the present invention includes a body portion, a base end, a contact end and a tip. The base end extends downwardly so that a curved portion is formed from one end of the body portion. The contact end extends from the other end of the body portion, and has a relatively narrow width and thicker thickness than the body portion. The tip extends vertically upward from the contact end and has a truncated tip.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 몸체부는 상기 몸체부의 길이 방향을 따라 변화하는 단면적들을 가질 수 있다. 상기 몸체부의 단면적은 상기 기부단부로부터 상기 접촉단부 방향을 따라 점진적으로 감소할 수 있다. 상기 몸체부는 상기 기부단부로부터 상기 접촉단부 방향을 따라 테이퍼진 형상을 가질 수 있다. 상기 몸체부는 테이퍼진 상하부면들을 가질 수 있다.According to one embodiment of the invention, the body portion may have a cross-sectional area that changes in the longitudinal direction of the body portion. The cross-sectional area of the body portion may gradually decrease from the base end along the direction of the contact end. The body portion may have a tapered shape along the contact end direction from the base end. The body portion may have tapered upper and lower surfaces.

본 발명의 또 다른 견지에 따른 초소형 프로브 구조체는 몸체부, 기부단부, 접촉단부 및 팁부를 포함한다. 몸체부는 수평 방향을 따라 배치되고, 폭보다 높이가 큰 단면을 가지며, 길이 방향을 따라 변화하는 단면적을 갖는다. 기부단부는 상기 몸체부의 일단부로부터 하방을 향해 연장된다. 접촉단부는 상기 몸체부의 타단부로부터 연장되고, 폭보다 높이가 작은 단면을 갖는다. 팁부는 상기 접촉단부로부터 상방을 향해 연장된다.The micro probe structure according to another aspect of the present invention includes a body portion, a base end, a contact end and a tip. The body portion is disposed along the horizontal direction, has a cross section having a height greater than the width, and has a cross-sectional area that varies along the length direction. The base end extends downward from one end of the body portion. The contact end extends from the other end of the body portion and has a cross section smaller in height than the width. The tip extends upwardly from the contact end.

본 발명의 또 다른 견지에 따른 초소형 프로브 구조체는 몸체부, 기부단부, 접촉단부 및 팁부를 포함한다. 몸체부는 수평판 형상을 갖는다. 기부단부는 상기 몸체부의 일단부로부터 곡선부를 형성하도록 하방을 향해 연장된다. 접촉단부는 상기 몸체부의 타단부로부터 연장된다. 팁부는 상기 접촉단부로부터 상방을 향해 연장된다. 상기 접촉단부와 상기 팁부는 전체적으로 수직 블레이드 형상을 갖는다.The micro probe structure according to another aspect of the present invention includes a body portion, a base end, a contact end and a tip. The body portion has a horizontal plate shape. The base end extends downward to form a curved portion from one end of the body portion. The contact end extends from the other end of the body portion. The tip extends upwardly from the contact end. The contact end and the tip have a vertical blade shape as a whole.

종래의 석판 인쇄술로 제조된 프로브 구조체는 프로브 카드에 장착시 자동화로 이루어 지는 장점이 있으나 탐침 대상인 전자 부품의 패드 형상에 맞추어 프로브 구조체를 제작할 수 밖에 없어 제작 수량에 한계가 있나. 본 발명의 프로브 구 조체는 낱개화되어 프로브 카드에 각기 조립되는 관계로 희생 기판내에 가능한 많은 수의 프로브 구조체를 배치할 수 있어 많은 수량을 제조할 수 있으며 프로브 구조체의 수명을 늘리기 위해서는 역학적으로 곡선부등을 적용하여 응력 분산시키는 노력이 필요한 바 종래의 제조 방법으로는 용이하게 구현할 수 없으며 그 결과 상업화가 진전되지 않고 있는 상황이나 본 프로브 구조체는 이러한 응력 분산을 위한 곡선부 적용이 무한대로 자유로운 장점이 있고 제조 방법 역시 종래의 프로브를 제조하기 위해서 필요한 많은 단계의 공정 중 상당한 공정의 생략이 가능하여 대폭적인 원가절감이 가능하다. 아울러 손상된 프로브 구조체에 대한 국부적인 수리가 가능하여 원가 절감이 가능하다.Probe structure manufactured by conventional lithography has an advantage of being automated when mounted on a probe card, but is there a limit to the number of production because the probe structure can only be manufactured according to the pad shape of the electronic component to be probed. Since the probe structure of the present invention is individualized and assembled on the probe card, it is possible to place as many probe structures as possible in the sacrificial substrate so that a large quantity can be manufactured. The effort to disperse the stress is required, which cannot be easily implemented by the conventional manufacturing method. As a result, commercialization is not progressed, but the present probe structure has the advantage that the application of the curved portion for stress dispersion is infinitely free. The manufacturing method can also omit a considerable process out of many of the steps required to manufacture a conventional probe, thereby enabling significant cost reduction. In addition, local repair of damaged probe structures is possible, resulting in cost savings.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 칩 적층 패키지 및 그 제조 방법에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a chip stack package and a manufacturing method according to an embodiment of the present invention. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the drawings, similar reference numerals are used for similar elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나 의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(04)의 투시도로서 전체 그림은 본 발명의 초소형 프로브 구조체(04)가 프로브 카드(02)의 기부면(02a)에 패터닝된 단자(03)에 접합된 상태를 나타낸다. 초소형 프로브 구조체는 기부단부(04a)와 접촉단부(04c)와 이 양자를 연결한 몸체부(04b)로 구성되었고 접 촉단부는 수직 블레이드(04f) 형태로 구성되어 인접 프로브와의 간섭을 배제코자 하였다. 1 is a perspective view of an ultra-small probe structure 04 according to an embodiment of the present invention. The overall figure shows a terminal 03 in which the ultra-small probe structure 04 of the present invention is patterned on the base surface 02a of the probe card 02. FIG. It shows the state joined to). The micro probe structure is composed of a base end portion 04a, a contact end portion 04c, and a body portion 04b connecting both thereof, and the contact end portion is formed in the form of a vertical blade 04f to exclude interference with adjacent probes. It was.

구체적으로, 초소형 프로브 구조체(04)는 수평 방향을 따라 연장된 몸체부(04b), 상기 몸체부(04b)의 일단부로부터 수직 하방을 향해 연장된 기부단부(04a), 상기 몸체부(04b)의 타단부로부터 연장된 접촉단부(04c), 및 접촉단부(04c)로부터 수직 상방을 향해 연장된 팁부(04g)를 포함한다. 또한, 상기 몸체부(04b)의 폭은 상기 접촉단부(04c)의 폭보다 넓다. 아울러, 몸체부(04b)는 높이보다 폭이 넓은 직육면체 형상을 갖는다. 또한 접촉단부(04c)의 팁부(04g)에 가압(05) 작용시 프로브로서 당연히 갖추어야 할 탄성력과 복원력을 갖도록 하기 위하여 몸체부(04b)는 수평하게 배치된 블레이드 형상(04e)으로 구성되었다. 반면에, 접촉단부(04c)와 팁부(04g)는 수직하게 배치된 블레이드 형상으로 구성된다. 부가적으로, 몸체부(04b)는 몸체부(04b)의 길이 방향을 따라 변화하는 단면적들을 가질 수 있다. 구체적으로, 몸체부(04b)의 단면적은 기부단부(04c)로부터 접촉단부(04c) 방향으로 감소될 수 있다. 또한, 몸체부(04b)는 테이퍼진 상하부면들을 가질 수 있다.Specifically, the micro probe structure 04 includes a body portion 04b extending along a horizontal direction, a base end portion 04a extending downwardly from one end of the body portion 04b, and the body portion 04b. And a tip end portion 04g extending from the other end portion thereof, and a tip portion 04g extending vertically upward from the contact end portion 04c. In addition, the width of the body portion (04b) is wider than the width of the contact end portion (04c). In addition, the body portion 04b has a rectangular parallelepiped shape that is wider than its height. In addition, in order to have elastic force and restoring force which must be naturally provided as a probe when the pressure 05 acts on the tip portion 04g of the contact end portion 04c, the body portion 04b has a horizontal blade shape 04e. On the other hand, the contact end portion 04c and the tip portion 04g have a blade shape arranged vertically. In addition, the body portion 04b may have cross-sectional areas that vary along the length of the body portion 04b. Specifically, the cross-sectional area of the body portion 04b can be reduced from the base end portion 04c toward the contact end portion 04c. In addition, the body portion 04b may have tapered upper and lower surfaces.

기부단부(04a)는 가압(05) 작용시 오버 드라이브(OD)의 접촉 간섭을 방지하기 위하여 접합부(04d)가 하방으로 돌출되어 있다. 상기 블레이드 형태들은 직사각형 타입도 가능하다. 이와 같은 프로브 구조체는 미세 간격 배열의 패드나 QFD용 디바이스와 같은 사방 배열 패드의 탐침 검사에 용이하게 적용할 수가 있다. 오버 드라이브 작용시 치수 변화 등의 기술적 사항은 주지의 사실이므로 자세한 설명을 생략하기로 한다.The base end portion 04a has a joint portion 04d projecting downward in order to prevent contact interference of the overdrive OD when the pressure 05 acts. The blade shapes may also be rectangular types. Such a probe structure can be easily applied to probe inspection of four-sided array pads such as pads of finely spaced arrays and QFD devices. Technical matters such as dimensional change during overdrive are well known and will not be described in detail.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(14)의 투시도로서 몸체부, 기부단부(14a), 접촉단부(14c) 및 팁부(14d)로 구성된 프로브 구조체(14)가 기판(12)의 기부면(12a)에 패터닝된 단자(13)에 접합된 상태를 나타낸다. 주요 특징으로는 도 1의 실시예는 기부단부(14a)와 접촉단부(14c)간의 수평 길이가 비교적 긴 경우에 대응하는 프로브 구조체인 반면에, 본 일 실시예는 짧은 길이에도 대응하면서 고유의 탄성력과 복원력을 발휘할 수 있도록한 'U'자형 몸체부가 구비된 초소형 프로브 구조체를 나타낸다. 구체적으로, 상기 몸체부의 타단부와 상기 접촉단부(14c)는 상기 기부단부(14a)의 양측에 위치한다. 따라서, 접촉단부(14c)의 수직축과 상기 기부단부(14a)의 수직축은 서로 어긋나게 위치하게 된다. 또한, 상기 몸체부의 타단부와 상기 접촉단부(14c)는 대략 U자형의 만곡부(14b)에 의해 서로 연결된다. 즉, 형상에 있어서는 다소 복잡하다고 할 수 있으나 가압(15)이 작용시 보다 우수한 탄성력 및 복원력이 발휘될 수 있는 것이다.2 is a perspective view of the micro probe structure 14 according to an embodiment of the present invention, in which a probe structure 14 including a body portion, a base end portion 14a, a contact end portion 14c, and a tip portion 14d is provided with a substrate 12. The state joined to the terminal 13 patterned by the base surface 12a of (). As a main feature, the embodiment of FIG. 1 is a probe structure corresponding to the case where the horizontal length between the base end portion 14a and the contact end portion 14c is relatively long, whereas the present embodiment corresponds to a short length and has an inherent elastic force. Represents a micro probe structure having a 'U' shaped body portion that can exert the restoring force. Specifically, the other end portion and the contact end portion 14c of the body portion are located at both sides of the base end portion 14a. Therefore, the vertical axis of the contact end 14c and the vertical axis of the base end 14a are positioned to be offset from each other. Further, the other end of the body portion and the contact end portion 14c are connected to each other by a substantially U-shaped curved portion 14b. That is, it may be said that the shape is somewhat complicated, but when the pressure 15 acts, superior elastic force and restoring force can be exhibited.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(22)의 정면도로서 초소형 프로브 구조체(22)가 프로브 카드에 접합된 상태(21)를 나타낸다. 초소형 프로브 구조체(22)는 기부단부(22a)와 접촉단부(22c), 몸체부(22b) 및 팁부(22f)로 구성되었으며 세분화하면 기부단부(22a)와 몸체부(22b)를 연결하는 연결부(22d)와 몸체부(22b)와 접촉단부(22c)를 연결하는 연결부(22e)가 추가된다. 기부단부(22a)와 몸체부(22b)를 연결하는 연결부(22d)에는 필렛 형태의 곡선부(24)가 구비되어 응력 분산을 도모하였고 주목적은 제품 장수명화가 될 것이다. 이외에도 프로브 구 조체의 여타 평면과 평면이 만나는 부위는 곡선부 처리를 함을 통하여 물리적 특성을 개선할 수 있는 것이다.3 is a front view of the micro probe structure 22 according to an embodiment of the present invention, and shows the state 21 in which the micro probe structure 22 is bonded to the probe card. The micro probe structure 22 is composed of a base end portion 22a, a contact end portion 22c, a body portion 22b, and a tip portion 22f, and, when subdivided, connects the base end portion 22a and the body portion 22b. 22d), a connecting portion 22e for connecting the body portion 22b and the contact end portion 22c is added. The connection part 22d connecting the base end part 22a and the body part 22b is provided with a curved portion 24 in the form of a fillet for stress dispersion, and its main purpose will be product longevity. In addition, the area where the plane meets other planes of the probe structure can be improved through physical treatment.

아울러, 팁부(22f)의 형태는 첨단이 좁아지는 'V'자 형을 나타내고 있고 팁부(22f)의 첨단은 미세한 평탄면(22g)을 얻기 위하여 절두된 형태인 것이 바람직하다.In addition, the tip portion 22f has a 'V' shape in which the tip is narrowed, and the tip of the tip portion 22f is preferably truncated to obtain a fine flat surface 22g.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체의 응력 분포도를 나타내며 일반적으로 취약한 기부단부와 몸체부의 '연결부'보다 몸체부 중심에 응력이 많이 분포됨을 알 수 있으며 이는 노란색으로 표시된 것을 통하여 알 수 있다.본 그림은 하나의 사례를 해석한 것으로서 구조체 전체에 걸쳐 응력이 양호하도록 설계하는 것은 당업자라면 용이하게 실행할 수 있을 것이다. Figure 4 shows the stress distribution of the micro probe structure according to an embodiment of the present invention and it can be seen that the stress is distributed more in the center of the body than the 'connection portion' of the generally weak base end and the body portion, which is shown through the yellow This figure is an example analysis, and it is easy for a person skilled in the art to design a good stress throughout the structure.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(31)가 프로브 카드에 접합된 상태의 정면도를 나타내며 기부단부와 몸체부를 연결하는 연결부에 필렛 형상의 곡선부(32)가 구비되어 있고 접촉단부와 몸체부를 연결하는 연결부에 역시 곡선부(33)가 구비되어 응력 분산을 통한 장수명화를 도모하고 있다. 이러한 곡선부는 본 발명의 실시예의 제조 공정을 통하여 용이하게 실현할 수 있으며 이외에도 정면 방향에 있어서는 어떠한 곡선부도 용이하게 제조할 수 있다는 것이 장점이라고 볼 수 있다. 기부단부 중심과 접촉단부 팁부까지의 수평 거리는 '0'보다 긴 것이 권장되며 탐침시 적정한 스크래치가 발생하기에 충분한 거리 확보가 요망된다. 팁부의 형태는 도 3의 실시예와 동일하다. FIG. 5 is a front view showing a state in which the micro probe structure 31 is bonded to a probe card according to an embodiment of the present invention, and has a fillet-shaped curved portion 32 provided at a connection portion connecting the base end and the body part. A curved portion 33 is also provided at the connection portion connecting the end portion and the body portion to achieve long life through stress dispersion. Such a curved portion can be easily realized through the manufacturing process of the embodiment of the present invention, and in addition, any curved portion can be easily manufactured in the front direction. It is recommended that the horizontal distance between the center of the base end and the tip of the contact end be longer than '0' and that there is a sufficient distance for proper scratching during the probe. The shape of the tip portion is the same as in the embodiment of FIG.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(41)의 정면도를 나타내며 기부단부(42)의 접합부(42a)가 상기 실시예와는 달리 돌출부가 없고 평탄한 상태를 나타내며 이는 기판 기부에 범프가 구비되어 있을 경우에 적용될 수 있다.6 shows a front view of the micro probe structure 41 according to an embodiment of the present invention, and the junction 42a of the base end portion 42 shows a flat state without a protrusion unlike the above embodiment, which bumps the substrate base. It can be applied when is provided.

도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(51)의 정면도를 나타내며 기부단부(52)의 접합부(52a)가 상기 실시예와는 달리 돌출부가 없고 평탄한 상태를 나타내며 이는 기판 기부에 범프가 구비되어 있을 경우에 적용될 수 있다.7 shows a front view of the micro probe structure 51 according to an embodiment of the present invention, and the junction 52a of the base end 52 shows a flat state without a protrusion unlike the above embodiment, which bumps the substrate base. It can be applied when is provided.

도 8은 도 6의 프로브 구조체(61)의 측면 확대도를 나타내며 가압(65)이 접촉단부(63)에 작용시 몸체부(62)의 뒤틀림(66) 변형을 감소시키코자 몸체 저면(67)에 테이퍼부(64)를 구비한 것을 나타낸다. FIG. 8 shows an enlarged side view of the probe structure 61 of FIG. 6 and the body bottom 67 to reduce distortion 66 deformation of the body portion 62 when the pressure 65 acts on the contact end 63. It shows that the taper part 64 was provided in this.

도 9a 내지 9c는 도 6의 프로브 구조체(61)의 부분 정면 확대도를 나타내는 것으로서, 상기 몸체부와 상기 접촉단부 사이에 형성된 보강부를 더 포함하는 프로브 구조체(61)를 나타낸다.9A to 9C show a partial front enlarged view of the probe structure 61 of FIG. 6, which further includes a reinforcement formed between the body portion and the contact end.

보강부의 구체적인 예로서는, 도 9a는 프로브 구조체(71)의 몸체부(73)와 접촉단부(72)의 연결부(75)에 계단(74) 형상의 복단 직사각형 형태 내지는 블레이드 형태를 구비하여 변형 방지 및 응력 분산을 도모한 것이다. As a specific example of the reinforcement part, FIG. 9A shows a double-sided rectangular shape or a blade shape in the shape of a staircase 74 in the connection portion 75 of the body portion 73 and the contact end portion 72 of the probe structure 71 to prevent deformation and stress. Dispersion is intended.

도 9b는 프로브 구조체(81)의 몸체부(83)와 접촉단부(82)의 연결부(85)에 필렛형 곡선부(84) 복단 직사각형 형태 내지는 블레이드 형태를 구비하여 변형 방지 및 응력 분산을 도모한 것이다. FIG. 9B includes a fillet-shaped curved portion 84 double-ended rectangular shape or a blade shape in the connection portion 85 of the body portion 83 and the contact end 82 of the probe structure 81 to prevent deformation and stress distribution. will be.

도 9c는 프로브 구조체(91)의 몸체부(93)와 접촉단부(92)의 연결부(95)에 단일 직사각형 형태 혹은 블레이드 형태가 아닌 직사각형 형태 혹은 블레이드 형태로 서 전구간 혹은 일부 구간이 테이퍼 형태인 것(94)을 구비하여 변형 방지 및 응력 분산을 도모한 것이다.FIG. 9C is a tapered shape of the entire body or a portion of the body portion 93 and the connection portion 95 of the contact end portion 92 of the probe structure 91 in the form of a rectangular shape or a blade rather than a single rectangular shape or a blade shape. (94) is provided to prevent deformation and to distribute stress.

도 10은 본 발명의 일실시예로서 접촉단부의 팁부(100)의 부분 상세도를 나타내며 팁부의 첨단부(101) 사방 모서리를 필렛처리하여 형성된 필렛부(102)가 형성됨으로써, 탐침 접촉성을 향상시키고자 하는 것이다. FIG. 10 shows a partial detailed view of the tip portion 100 of the contact end portion as an embodiment of the present invention, and the fillet portion 102 formed by filleting the four corners of the tip portion 101 of the tip portion is formed, whereby It is to improve.

즉, 종래의 기술에 개시 된 바와 같은 프로브 규격으로는 전극이 매트릭스 배열로 배치된 LSI장치나 다른 IC의 테스트용 프로브를 제조하기 어렵거나 에 언급한 바와 같은 이유로 동일한 접속접촉력을 지속적으로 갖게 하기 어렵고, 미세간격의 패드(pad)배열, 복열 패드배열에의 대응이 용이하지 않으나 본 발명의 초소형 프로브 구조체는 기부단부와 접촉단부간의 길이를 다양화함과 아울러 접촉단부를 블레이드화함으로써 이러한 문제를 해결하였다. That is, it is difficult to manufacture a test probe of an LSI device or another IC in which electrodes are arranged in a matrix arrangement, or to have the same connection contact force continuously for the reasons described in the prior art. The micro probe structure of the present invention solves this problem by varying the length between the base end and the contact end and blades the contact end. .

접촉단부가 수직 블레이드화 하면서도 전자 소자의 전극이나 접속 접촉이 상하 방향으로의 어느 정도의 변형이나 변위를 갖는 경우에도 각각에 대하여 신뢰성있는 접촉이 이루어져 하므로 몸체부를 수평 블레이드화하여 이 문제를 해결하였다.Even when the contact end is vertically bladed, even when the electrode or the connecting contact of the electronic element has a certain deformation or displacement in the vertical direction, reliable contact is made to each of them, thereby solving the problem by horizontally bladed the body.

동일한 프로브 구조체의 접속 접촉력과 탄성력및 반력이 생기도록 리소그래피 공정에서 마스크로 현상하여 프로브 구조체의 규격을 동일하게 하여, 동일 규격의 프로브 구조체를 구현하므로써 프로브 구조체의 수명을 연장함과 아울러 동시에 프로브 카드의 수명을 연장하였다.In the lithography process, the dimensions of the probe structures are the same, and the probe structures of the same size can be implemented to extend the life of the probe structures and at the same time Extended life.

이는, 종래의 기술로 제조되는 프로브 구조체는 가압에 의해 응력을 받는 몸 체부의 상하 두께가 제조공정의 특성으로 산포가 유발될 가능성이 많으나 본 발명의 초소형 구조체는 이의 산포를 최소화한 것이다.This is because the probe structure manufactured by the conventional technology is likely to cause dispersion due to the characteristics of the manufacturing process in the upper and lower thicknesses of the body portion stressed by the pressurization, but the microstructure of the present invention minimizes the dispersion thereof.

또한, 결함(defect)이나 휴먼에러(human error)로 발생할 수 있는 프로브 교체 수리(repair)문제에 있어 종래 기술들에 있어서 제조 공정이 단위공정마다 원스텝(one step process)공정들이기 때문에 국부적인 교체 수리가 불가능한데, 본 발명의 프로브 구조체는 실리콘에 삽설부를 식각하여 만든 프로브 임시 고정 지그를 사용하므로써 삽설부에 있는 손상된 프로브를 제거하고 새 프로브를 삽입하여 용재를 융착하는 형태의 국부적인 수리가 가능한 것이다.In addition, in the replacement of probes, which may occur due to defects or human errors, in the prior art, since the manufacturing process is one-step process per unit process, local replacement repair Although the probe structure of the present invention uses a probe temporary fixing jig made by etching the insert into silicon, it is possible to perform local repair in the form of removing the damaged probe in the insert and inserting a new probe to fuse the material. will be.

한편, 앞에서 개시한 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어 나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허 등록 청구범위뿐만 아니라 이 특허 청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.On the other hand, in the above detailed description of the present invention has been described with respect to specific embodiments, various modifications are possible without departing from the scope of the invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined not only by the claims below but also by the equivalents of the claims.

종래의 석판 인쇄술로 제조된 프로브 구조체는 프로브 카드에 장착시 자동화로 이루어 지는 장점이 있으나 탐침 대상인 전자 부품의 패드 형상에 맞추어 프로브 구조체를 제작할 수 밖에 없어 제작 수량에 한계가 있나. 본 발명의 프로브 구조체는 낱개화되어 프로브 카드에 각기 조립되는 관계로 희생 기판내에 가능한 많은 수의 프로브 구조체를 배치할 수 있어 많은 수량을 제조할 수 있으며 프로브 구조체의 수명을 늘리기 위해서는 역학적으로 곡선부등을 적용하여 응력 분산시키는 노력이 필요한 바 종래의 제조 방법으로는 용이하게 구현할 수 없으며 그 결과 상업화가 진전되지 않고 있는 상황이나 본 프로브 구조체는 이러한 응력 분산을 위한 곡선부 적용이 무한대로 자유로운 장점이 있고 제조 방법 역시 종래의 프로브를 제조하기 위해서 필요한 많은 단계의 공정 중 상당한 공정의 생략이 가능하여 대폭적인 원가절감이 가능하다. 아울러 손상된 프로브 구조체에 대한 국부적인 수리가 가능하여 원가 절감이 가능하다.Probe structure manufactured by conventional lithography has an advantage of being automated when mounted on a probe card, but is there a limit to the number of production because the probe structure can only be manufactured according to the pad shape of the electronic component to be probed. Since the probe structures of the present invention are individualized and assembled on the probe card, as many probe structures as possible can be placed in the sacrificial substrate, so that a large quantity can be manufactured. The effort to disperse stress by applying it is not easily realized by the conventional manufacturing method, and as a result, the commercialization is not progressed, but the present probe structure has the advantage that the application of the curved portion for stress dispersion is infinitely free. The method is also possible to omit a significant step out of many of the steps required to manufacture a conventional probe, thereby enabling significant cost savings. In addition, local repair of damaged probe structures is possible, resulting in cost savings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(04)의 투시도.1 is a perspective view of a micro probe structure 04 according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(14)의 투시도.2 is a perspective view of a micro probe structure 14 according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(22)의 정면도.3 is a front view of the micro probe structure 22 according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체의 응력 분포도.Figure 4 is a stress distribution of the micro probe structure according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(31)가 프로브 카드에 접합된 상태의 정면도.5 is a front view of a state in which the micro probe structure 31 is bonded to a probe card according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(41)의 정면도.6 is a front view of the micro probe structure 41 according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 초소형 프로브 구조체(51)의 정면도.7 is a front view of the micro probe structure 51 according to an embodiment of the present invention.

도 8은 도6의 프로브 구조체(61)의 측면 확대도.8 is an enlarged side view of the probe structure 61 of FIG.

도 9a-c는 도6의 프로브 구조체(61)의 부분 정면 확대도.9A-C are partially enlarged front views of the probe structure 61 of FIG. 6.

도 10은 본 발명의 일 실시예로서 접촉단부의 팁부(100)의 부분 상세도.10 is a partial detailed view of the tip portion 100 of the contact end as an embodiment of the present invention.

도 11(a-d)은 종래 기술에 의해 제조된 프로브 구조체가 부착된 프로브 카드의 개략도.11 (a-d) are schematic views of a probe card with a probe structure prepared by the prior art.

도 12(e-g)는 종래 기술에 의해 제조된 프로브 구조체가 부착된 프로브 카드의 개략도.12 (e-g) is a schematic diagram of a probe card with a probe structure prepared by the prior art.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

02: 기판 04: 초소형 프로브 구조체02: substrate 04: micro probe structure

04a: 기부단부 04b: 몸체부04a: base portion 04b: body portion

04c: 접촉단부 04g: 팁부 04c: contact end 04g: tip end

24: 곡선부24: curved portion

Claims (9)

기판에 접합되는 기부단부;A base end bonded to the substrate; 상기 기부단부로부터 탄성 변형이 가능하도록 누운 U자 형태로 연장되는 몸체부; 및A body portion extending from the base end in a U-shape laid to allow elastic deformation; And 상기 몸체부의 한쪽 끝에 결합된 접촉단부를 포함하고,A contact end coupled to one end of the body portion, 상기 기부단부, 상기 몸체부, 상기 접촉단부를 동일 평면에 투영한 경우 상기 기부단부는 상기 몸체부의 중앙부와 상기 접촉단부 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 초소형 프로브 구조체. When the base end, the body portion, and the contact end projected on the same plane, the base end is located between the center portion and the contact end of the micro probe structure, characterized in that the. 청구항 1에 있어서, 몸체부는 블레이드 형태 또는 직사각형 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 초소형 프로브 구조체. The micro probe structure of claim 1, wherein the body portion has a blade shape or a rectangular cross section. 청구항 1에 있어서, 접촉단부는 블레이드 형태 또는 직사각형 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 초소형 프로브 구조체. The micro probe structure of claim 1, wherein the contact end has a blade shape or a rectangular cross section. 청구항 1에 있어서, 기부단부와 몸체부는 곡선부로 연결된 것을 특징으로 하는 초소형 프로브 구조체. The micro probe structure of claim 1, wherein the base end portion and the body portion are connected by a curved portion. 청구항 1에 있어서, 몸체부와 접촉단부는 곡선부로 연결된 것을 특징으로 하는 초소형 프로브 구조체. The micro probe structure of claim 1, wherein the body portion and the contact end portion are connected by a curved portion. 청구항 1에 있어서, 접촉단부는 팁부를 포함하는 초소형 프로브 구조체. The micro probe structure of claim 1, wherein the contact end comprises a tip. 청구항 1에 있어서, 몸체부는 연장방향을 따라 단면적이 동일하지 않은 것을 특징으로 하는 초소형 프로브 구조체. The micro probe structure according to claim 1, wherein the body portion does not have the same cross-sectional area along the extending direction. 삭제delete 기판에 접합되는 기부단부; A base end bonded to the substrate; 상기 기부단부에 탄성 변형이 가능하도록 연결된 몸체부; 및A body part connected to the base end to be elastically deformable; And 상기 몸체부의 한쪽 끝에 결합되며, 블레이드 형상인 접촉단부;를 포함하고,It is coupled to one end of the body portion, and comprises a blade-shaped contact end; 상기 기부단부에는 상기 접촉단부 방향으로 연장된 연장부가 형성되며,The base end is formed with an extension extending in the direction of the contact end, 상기 접촉단부는 상기 기부단부의 연장부 보다 상기 기부단부와 상기 몸체부의 연결부에서 더 멀리 위치하는 것을 특징으로 하는 초소형 프로브 구조체.And the contact end is located farther from the connection portion of the base end and the body than the extension part of the base end.
KR1020080034048A 2008-04-14 2008-04-14 Micro probe structure KR100876077B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080034048A KR100876077B1 (en) 2008-04-14 2008-04-14 Micro probe structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080034048A KR100876077B1 (en) 2008-04-14 2008-04-14 Micro probe structure

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080013815A Division KR100825266B1 (en) 2008-02-15 2008-02-15 Micro probe structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080039859A KR20080039859A (en) 2008-05-07
KR100876077B1 true KR100876077B1 (en) 2008-12-26

Family

ID=39647770

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080034048A KR100876077B1 (en) 2008-04-14 2008-04-14 Micro probe structure

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100876077B1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100959797B1 (en) * 2008-06-16 2010-05-28 윌테크놀러지(주) Method for manufacturing contact structure
KR101363485B1 (en) * 2013-08-12 2014-02-18 주식회사 프로이천 Test needle and probe block having the same and method for manufacturing test needle
JP7393873B2 (en) * 2019-03-29 2023-12-07 株式会社日本マイクロニクス Electrical contacts and probe cards

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080039859A (en) 2008-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100580008B1 (en) Contactor, method for manufacturing the same, and probe card using the same
CN1762050B (en) Probe and method of making same
US20100176831A1 (en) Probe Test Card with Flexible Interconnect Structure
US11204369B2 (en) Semiconductor device test socket
KR100980369B1 (en) Probe Needle Structure and Manufacturing Method of The Same
US20010054906A1 (en) Probe card and a method of manufacturing the same
KR20070060094A (en) Stacked tip cantilever electrical connector
JP2010505130A (en) Probe group of single support structure with staggered mounting pattern
EP1616353A2 (en) Layered microelectronic contact and method for fabricating same
KR101019554B1 (en) Probe and menufacturing method of the same
KR100825266B1 (en) Micro probe structure
KR100876077B1 (en) Micro probe structure
KR101209068B1 (en) Probe needle and probe card using the same
KR20030033206A (en) Probe micro-structure
US6660541B2 (en) Semiconductor device and a manufacturing method thereof
US8115504B2 (en) Microspring array having reduced pitch contact elements
US20060125503A1 (en) Interleaved MEMS-based probes for testing integrated circuits
JP2005156365A (en) Probe for measuring electrical characteristics, and manufacturing method therefor
KR100980002B1 (en) Probe and method for fabricating the same
KR100852514B1 (en) Perpendicular Type Probe for Test of Semiconductor, Probe Card with the Probes and Methods for Manufacturing the Probe Card
KR100638087B1 (en) Manufacturing method and structure of tensible beam for probe card
KR101420170B1 (en) Contactor of test socket for semiconductor device and method of manufacturing the same
KR101066551B1 (en) Pin Array Frame Used for Manufacture of Probe Card
KR101785428B1 (en) Test Socket of Semiconductor Device
KR100519658B1 (en) Probe card

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110802

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121212

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
J204 Request for invalidation trial [patent]