KR100851353B1 - 아크 억제 장치 및 교류 전압 가스 방전 여기 장치 - Google Patents
아크 억제 장치 및 교류 전압 가스 방전 여기 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (20)
- 교류 전압(U)으로 동작하는 가스 방전 장치(5)에서 아크들을 소멸시키기 위한 아크 억제 장치(23.1, 23.2, 23.3, 23.4)로서, 아크 억제 디바이스(18, 18.3)를 포함하고, 상기 아크 억제 디바이스(18, 18.3)는 교류 전압원으로부터 상기 가스 방전 장치(5)의 전극(3)으로 연장하는 전기 라인(17)에 직렬로 연결되는 하나 이상의 조절 저항을 가지며, 상기 하나 이상의 조절 저항은 아크 발생이 없는(arc free) 동작 동안에 아크 발생시의 저항값보다 더 낮은 저항값을 갖는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 아크 억제 디바이스(18, 18.3)를 조절하는 아크 식별 장치(22)가 제공되는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하나 이상의 조절 저항은 아크 발생이 없는 동작 동안은 1Ω보다 작은 저항값을 갖고, 아크가 식별될 때는 100kΩ보다 큰 저항값을 갖는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하나 이상의 조절 저항은 병렬로 연결된 다이오드(32, 33)를 가진 트랜지스터(30, 31)를 포함하는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 아크 억제 디바이스(18, 18.3)는 두 개의 반대로 연결된 트랜지스터(30, 31)를 가지며, 상기 두 개의 반대로 연결된 트랜지스터는 직렬로 연결되고, 각각 병렬로 연결되는 다이오드(32, 33)를 갖는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 트랜지스터(30, 31)에 각각 병렬로 연결되어 있는 상기 다이오드(32, 33)는 상기 트랜지스터(30, 31)의 도전 방향과 반대인 도전 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 아크 억제 장치(23.1, 23.2, 23.3, 23.4)는 하나 이상의 전압 제한 회로(35, 35.1, 35.2)를 갖는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 각 트랜지스터(30, 31)에 결합되는 전압 제한 회로(35, 35.1, 35.2)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 하나 이상의 전압 제한 회로(35, 35.1, 35.2)는 하나 이상의 다이오드(36.1, 37.1, 36.2, 37.2) 또는 직렬로 연결된 복수의 다이오드들을 갖는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 하나 이상의 전압 제한 회로(35, 35.1, 35.2)의 상기 다이오드(36.1, 37.1, 36.2, 37.2)는 제너 다이오드로서 구성되는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
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- 삭제
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 다른 전극들(3, 4)에 연장되는 두 라인들(17, 19) 사이에 배치되는 하나 이상의 조절 연결 장치(50, 51)를 더 포함하며, 상기 하나 이상의 조절 연결 장치(50, 51)는 하나 이상의 트랜지스터(52, 53)를 갖는 것인 아크 억제 장치.
- 교류 전압 가스 방전 여기 장치(1)로서, 교류 전압 발생기(7.1, 7.2)와, 제1항 또는 제2항에 따른 아크 억제 장치(23.1, 23.2, 23.3, 23.4)를 포함하고, 상기 교류 전압 발생기(7.1, 7.2)는 브릿지 회로를 포함하는 전압 변환기(10), 및 아크 식별 장치(22)에 연결되는 전압 변환기 제어 시스템(13)을 갖는 교류 전압 가스 방전 여기 장치.
- 제14항에 있어서, 상기 전압 변환기(10)는 출력 발진 회로(12)에 연결되는 것을 특징으로 하는 교류 전압 가스 방전 여기 장치.
- 제15항에 있어서, 상기 전압 변환기 제어 시스템(13)은 아크가 상기 아크 식별 장치(22)에 의해서 식별될 때 상기 전압 변환기(10)가 상기 출력 발진 회로(12)에 에너지를 제공하지 않는 방식으로 상기 전압 변환기(10)를 제어하는 것을 특징으로 하는 교류 전압 가스 방전 여기 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 트랜지스터(30, 31)에 각각 병렬로 연결되어 있는 상기 다이오드(32, 33)는 상기 트랜지스터(30, 31)의 도전 방향과 반대인 도전 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제8항에 있어서, 상기 전압 제한 회로(35, 35.1, 35.2)는 하나 이상의 다이오드(36.1, 37.1, 36.2, 37.2) 또는 직렬로 연결된 복수의 다이오드들을 갖는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제18항에 있어서, 상기 전압 제한 회로(35, 35.1, 35.2)의 상기 다이오드(36.1, 37.1, 36.2, 37.2)는 제너 다이오드로서 구성되는 것을 특징으로 하는 아크 억제 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 아크 억제 디바이스(18, 18.3)의 양측에 각각 제공되는 조절 연결 장치(50, 51)를 더 포함하며, 상기 조절 연결 장치(50, 51)는 하나 이상의 트랜지스터(52, 53)를 갖는 것인 아크 억제 장치.
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---|---|---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101325137B1 (ko) * | 2011-05-31 | 2013-11-06 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 아크 방지 기능을 갖는 플라즈마 전원공급 시스템 및 이를 갖는 플라즈마 처리 장치 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004015090A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
ATE421791T1 (de) | 2005-12-22 | 2009-02-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur arcerkennung in einem plasmaprozess |
ATE448562T1 (de) | 2006-11-23 | 2009-11-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren zum erkennen einer bogenentladung in einem plasmaprozess und bogenentladungserkennungsvorrichtung |
US7795817B2 (en) | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
EP1928009B1 (de) | 2006-11-28 | 2013-04-10 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
EP1933362B1 (de) | 2006-12-14 | 2011-04-13 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
ATE493749T1 (de) | 2007-03-08 | 2011-01-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum unterdrücken von bogenentladungen beim betreiben eines plasmaprozesses |
ATE547804T1 (de) | 2007-12-24 | 2012-03-15 | Huettinger Electronic Sp Z O O | Stromänderungsbegrenzungsvorrichtung |
EP2219205B1 (en) | 2009-02-17 | 2014-06-04 | Solvix GmbH | A power supply device for plasma processing |
US9287092B2 (en) * | 2009-05-01 | 2016-03-15 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for controlling ion energy distribution |
GB0921791D0 (en) * | 2009-12-14 | 2010-01-27 | Aviza Technologies Ltd | Ion beam source |
US8619395B2 (en) | 2010-03-12 | 2013-12-31 | Arc Suppression Technologies, Llc | Two terminal arc suppressor |
DE102010031568B4 (de) | 2010-07-20 | 2014-12-11 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Arclöschanordnung und Verfahren zum Löschen von Arcs |
DE202012100160U1 (de) | 2012-01-17 | 2012-02-17 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Arclöschanordnung |
US20140015523A1 (en) * | 2012-07-10 | 2014-01-16 | Infineon Technologies Ag | Sensor device, a detector arrangement and a method for detecting arcing |
DE102013110883B3 (de) | 2013-10-01 | 2015-01-15 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Entladung in einem Plasmaprozess |
EP2905801B1 (en) | 2014-02-07 | 2019-05-22 | TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. | Method of monitoring the discharge in a plasma process and monitoring device for monitoring the discharge in a plasma |
CN105044413B (zh) * | 2015-09-08 | 2018-06-12 | 苏州泰思特电子科技有限公司 | 长尾波冲击电流发生装置 |
EP3648552B1 (en) * | 2017-06-27 | 2022-04-13 | Canon Anelva Corporation | Plasma treatment device |
SG11201912567RA (en) | 2017-06-27 | 2020-01-30 | Canon Anelva Corp | Plasma processing apparatus |
WO2019003312A1 (ja) | 2017-06-27 | 2019-01-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | プラズマ処理装置 |
CN109256759B (zh) | 2017-07-14 | 2021-04-16 | 台达电子工业股份有限公司 | 电弧抑制装置与电弧抑制方法 |
TWI643227B (zh) * | 2017-07-14 | 2018-12-01 | 台達電子工業股份有限公司 | 電弧抑制裝置與電弧抑制方法 |
WO2020003557A1 (ja) * | 2018-06-26 | 2020-01-02 | キヤノンアネルバ株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体 |
US11859878B2 (en) * | 2018-10-23 | 2024-01-02 | Carrier Corporation | Electrocaloric heat transfer system |
JP7111407B2 (ja) | 2019-01-29 | 2022-08-02 | アーク サプレッション テクノロジーズ | 多相ac電源接点アーク抑制装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000021916A (ko) * | 1998-09-30 | 2000-04-25 | 윤종용 | 중전류 이온 주입설비의 아크전압 조절장치 |
JP2005012950A (ja) | 2003-06-20 | 2005-01-13 | Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial System Corp | 半導体交流スイッチ装置 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55145170A (en) | 1979-04-28 | 1980-11-12 | Tokuda Seisakusho Ltd | Arc-breaking method of direct current electric discharge unit and its circuit |
JPS5845379A (ja) * | 1981-11-09 | 1983-03-16 | Anelva Corp | 高速スパッタ装置 |
ATE102430T1 (de) * | 1989-10-09 | 1994-03-15 | Siemens Ag | Elektronisches vorschaltgeraet. |
DE9109503U1 (ko) * | 1991-07-31 | 1991-10-17 | Magtron Magneto Elektronische Geraete Gmbh, 7583 Ottersweier, De | |
US5281321A (en) * | 1991-08-20 | 1994-01-25 | Leybold Aktiengesellschaft | Device for the suppression of arcs |
DE4127504A1 (de) * | 1991-08-20 | 1993-02-25 | Leybold Ag | Einrichtung zur unterdrueckung von lichtboegen |
DE4127505C2 (de) | 1991-08-20 | 2003-05-08 | Unaxis Deutschland Holding | Einrichtung zur Unterdrückung von Lichtbögen in Gasentladungsvorrichtungen |
JPH0732077B2 (ja) * | 1992-10-07 | 1995-04-10 | 株式会社京三製作所 | 高周波発生装置 |
US5698082A (en) * | 1993-08-04 | 1997-12-16 | Balzers Und Leybold | Method and apparatus for coating substrates in a vacuum chamber, with a system for the detection and suppression of undesirable arcing |
DE4326100B4 (de) * | 1993-08-04 | 2006-03-23 | Unaxis Deutschland Holding Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer, mit einer Einrichtung zur Erkennung und Unterdrückung von unerwünschten Lichtbögen |
DE19537212A1 (de) * | 1994-10-06 | 1996-04-11 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten im Vakuum |
DE4441206C2 (de) * | 1994-11-19 | 1996-09-26 | Leybold Ag | Einrichtung für die Unterdrückung von Überschlägen in Kathoden-Zerstäubungseinrichtungen |
US5584972A (en) * | 1995-02-01 | 1996-12-17 | Sony Corporation | Plasma noise and arcing suppressor apparatus and method for sputter deposition |
US5576939A (en) * | 1995-05-05 | 1996-11-19 | Drummond; Geoffrey N. | Enhanced thin film DC plasma power supply |
US5584974A (en) * | 1995-10-20 | 1996-12-17 | Eni | Arc control and switching element protection for pulsed dc cathode sputtering power supply |
DE19605314C2 (de) | 1996-02-14 | 2002-01-31 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum Bearbeiten von Substraten in einem bipolaren Niederdruck-Glimmprozeß |
US5682067A (en) * | 1996-06-21 | 1997-10-28 | Sierra Applied Sciences, Inc. | Circuit for reversing polarity on electrodes |
US5882492A (en) * | 1996-06-21 | 1999-03-16 | Sierra Applied Sciences, Inc. | A.C. plasma processing system |
DE19651811B4 (de) * | 1996-12-13 | 2006-08-31 | Unaxis Deutschland Holding Gmbh | Vorrichtung zum Belegen eines Substrats mit dünnen Schichten |
US5910886A (en) * | 1997-11-07 | 1999-06-08 | Sierra Applied Sciences, Inc. | Phase-shift power supply |
US6011704A (en) * | 1997-11-07 | 2000-01-04 | Sierra Applied Sciences, Inc. | Auto-ranging power supply |
DE19834719A1 (de) * | 1998-07-31 | 2000-02-10 | Eurosafe Electronic Gmbh | Sicherheitsvorrichtung zur Steuerung und/oder Überwachung von vorbestimmten Räumen |
DE19937859C2 (de) * | 1999-08-13 | 2003-06-18 | Huettinger Elektronik Gmbh | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen |
DE10018879B4 (de) * | 2000-04-17 | 2013-02-28 | Melec Gmbh | Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung |
WO2003030345A1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-10 | Shibaura Mechatronics Corporation | Power supply for sputtering |
WO2003037047A1 (fr) * | 2001-10-22 | 2003-05-01 | Shibaura Mechatronics Corporation | Procede permettant d'evaluer un arc de dispositif de decharge luminescente et suppresseur de decharge d'arc haute frequence |
JP4100938B2 (ja) | 2002-03-14 | 2008-06-11 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | アーク遮断回路、スパッタ用電源及びスパッタ装置 |
DE10306347A1 (de) * | 2003-02-15 | 2004-08-26 | Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG | Leistungszufuhrregeleinheit |
US6967305B2 (en) | 2003-08-18 | 2005-11-22 | Mks Instruments, Inc. | Control of plasma transitions in sputter processing systems |
US7586099B2 (en) * | 2005-03-30 | 2009-09-08 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Vacuum plasma generator |
US7305311B2 (en) * | 2005-04-22 | 2007-12-04 | Advanced Energy Industries, Inc. | Arc detection and handling in radio frequency power applications |
-
2005
- 2005-05-06 EP EP05009875A patent/EP1720195B1/de active Active
-
2006
- 2006-05-04 KR KR1020060040279A patent/KR100851353B1/ko active IP Right Grant
- 2006-05-05 US US11/381,842 patent/US8033246B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-05 TW TW095116099A patent/TWI327741B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-05-08 JP JP2006129601A patent/JP4589264B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000021916A (ko) * | 1998-09-30 | 2000-04-25 | 윤종용 | 중전류 이온 주입설비의 아크전압 조절장치 |
JP2005012950A (ja) | 2003-06-20 | 2005-01-13 | Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial System Corp | 半導体交流スイッチ装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101325137B1 (ko) * | 2011-05-31 | 2013-11-06 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 아크 방지 기능을 갖는 플라즈마 전원공급 시스템 및 이를 갖는 플라즈마 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080216745A1 (en) | 2008-09-11 |
JP2006313752A (ja) | 2006-11-16 |
EP1720195A1 (de) | 2006-11-08 |
TW200705497A (en) | 2007-02-01 |
US8033246B2 (en) | 2011-10-11 |
EP1720195B1 (de) | 2012-12-12 |
TWI327741B (en) | 2010-07-21 |
JP4589264B2 (ja) | 2010-12-01 |
KR20060115650A (ko) | 2006-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
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