KR100820775B1 - Reflection-penetration type liquid crystal display device and method for fabricating thereof - Google Patents

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KR100820775B1
KR100820775B1 KR20020026464A KR20020026464A KR100820775B1 KR 100820775 B1 KR100820775 B1 KR 100820775B1 KR 20020026464 A KR20020026464 A KR 20020026464A KR 20020026464 A KR20020026464 A KR 20020026464A KR 100820775 B1 KR100820775 B1 KR 100820775B1
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삼성전자주식회사
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Abstract

반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. Reflection-transmission type liquid crystal display device is disclosed, and the preparation method thereof. 컬러필터기판에서 외부광을 반사 또는 인공광이 투과되도록 광 반사/투과 부재가 형성됨은 물론 광 반사/투과 부재에서 반사 또는 투과된 광의 시야각을 향상시키기 위한 시야각 향상 부재가 함께 형성된다. The light reflection / transmission member is formed as well as the viewing angle improvement member for improving the viewing angle of reflected or transmitted light from the light reflecting / transmitting member is reflected or artificial light is transmitted through the outside light in the color filter substrate is formed with. 광 반사/투과 부재중 일부에는 동일한 두께를 갖는 컬러필터를 부분적으로 형성하여 고휘도 디스플레이 구현 및 원하는 색상이 구현되도록 한다. Some out-of-office optical reflection / transmission is to ensure that a high luminance and a desired color display implemented implemented by forming the color filter having the same thickness in part. 이로서, 보다 넓은 시야각 범위를 갖음은 물론 고휘도 디스플레이를 수행할 수 있는 효과를 갖는다. This allows, has the effect that can perform a wider gateum the viewing angle range as well as high-luminance display.
반사-투과형 액정표시장치, 컬러필터, 시야각 Reflection-transmission type liquid crystal display device, a color filter, and the view angle

Description

반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법{REFLECTION-PENETRATION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF} Reflection-transmission type liquid crystal display device and a method for their preparation {REFLECTION-PENETRATION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}

도 1은 종래 반사-투과형 액정표시장치의 단면도이다. Figure 1 is a conventional reflection-sectional view of a transmission type liquid crystal display device.

도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치를 전체적으로 도시한 개념도이다. Figure 2 is reflected in accordance with an embodiment of the present invention is a conceptual diagram showing the transmission type liquid crystal display device as a whole.

도 3은 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 단면도이다. 3 is reflected according to an embodiment of the present invention is a cross-sectional view of a transmission type liquid crystal display device.

도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 TFT 기판의 평면도이다. 4 is reflected by an embodiment of the present invention a top view of a TFT substrate of the transmission type liquid crystal display device.

도 5는 도 4에 형성된 전원공급장치 및 제 1 전극을 도시한 개념도이다. 5 is a conceptual diagram illustrating a power supply and a first electrode provided in FIG.

도 6은 도 4의 AA 단면도이다. Figure 6 is a sectional view AA of Figure 4;

도 7은 도 4의 BB 단면도이다. 7 is a sectional view BB of Figure 4;

도 8은 도 3의 A의 확대도이다. Figure 8 is an enlarged view of A in FIG. 3.

도 9는 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 컬러필터기판의 평면도이다. 9 is reflected by an embodiment of the present invention is a top plan view of the color filter substrate of the transmission type liquid crystal display device.

도 10은 도 9의 AA 단면도이다. 10 is a sectional view AA of FIG.

도 11a는 광 반사 박막에서의 휘도를 도시한 그래프이다. Figure 11a is a graph illustrating the luminance of the light reflecting film.

도 11b는 컬러필터에서의 휘도를 도시한 그래프이다. Figure 11b is a graph illustrating the luminance of the color filter.

도 11c는 도 11a 및 도 11b에 의하여 실제 사용자가 느끼는 휘도를 도시한 그래프이다. Figure 11c is a graph showing a real brightness felt by the user and in Figure 11a and Figure 11b.

도 12a 내지 도 12i는 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 TFT 기판을 제조하는 과정을 도시한 공정도이다. Figure 12a through 12i are reflected in accordance with an embodiment of the present invention is a process chart illustrating a process for producing a TFT substrate of the transmission type liquid crystal display device.

도 13a 내지 도 13j는 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 컬러필터기판을 제조하는 과정을 도시한 공정도이다. Figure 13a to Figure 13j is reflected in accordance with an embodiment of the present invention is a process chart illustrating a process of manufacturing a color filter substrate of the transmission type liquid crystal display device.

본 발명은 반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이 영상의 색 재현 특성을 극대화 및 고휘도 디스플레이가 가능토록 한 진보된 반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. The invention reflection-transmission type liquid crystal display device and its relates to a manufacturing method, and more particularly, to maximize and advanced reflecting the ever high-luminance display is available the color reproduction characteristics of the display image-on the transmission type liquid crystal display device and production method thereof will be.

일반적으로, 표시장치(display device)는 정보처리장치에서 처리되어 전기적 형태로 저장된 정보를 문자, 그림 또는 동영상으로 디스플레이 하여 사용자가 인식할 수 있도록 하는 장치이다. In general, a display, a display device (display device) is processed by the information processing device, the information stored in electrical form as a character, a picture or video is a device that enables the user to recognize.

액정표시장치(Liquid Crystal Display device; LCD)는 이와 같은 표시장치의 한 종류로 액정(Liquid Crystal, LC)을 제어하여 디스플레이를 수행한다. Liquid crystal display (Liquid Crystal Display device; LCD) carries out a display by controlling the LCD (Liquid Crystal, LC) as a kind of display apparatus such as this. 이때, 액정의 두께는 단지 수 ㎛로도 그 기능을 충분히 수행할 수 있기 때문에 다른 표시장치, 예를 들면, 동일 스크린 사이즈를 갖는 CRT 디스플레이 장치(Cathode Ray Tube type display device)에 비하여 부피 및 중량이 매우 작은 장점을 갖는다. At this time, since the liquid crystal thickness will be sufficient to perform its function also only be ㎛ other display device, for example, the volume and weight compared to the CRT display device (Cathode Ray Tube type display device) having the same screen size so It has a small advantage.

한편, 광은 액정과 함께 액정표시장치로부터 정보가 디스플레이 되도록 하는데 중요한 역할을 한다. On the other hand, the light plays an important role so that the display information from the liquid crystal display device with a liquid crystal. 이는 액정은 스스로 발광하지 못하고 단지 광의 투과도만을 조절하는 수광 소자이기 때문이다. This is because the liquid crystal light-receiving element which merely controlling only the light transmittance does not emit light by itself.

이때, 액정을 이용하여 정보를 표시하는 액정표시장치의 한 종류인 반사형 액정표시장치는 외부광, 예를 들면, 태양광, 실내 조명등 등에 의하여 획득된 광에 의하여 디스플레이를 수행한다. In this case, one kind of liquid crystal display device of a liquid crystal display device using a liquid crystal for displaying information performs the outside light, e.g., sunlight, the display by the light obtained by such an indoor lighting. 따라서, 반사형 액정표시장치는 스스로 광을 발생시키는데 필요한 광 발생 구조를 필요로 하지 않는다. Thus, the reflective liquid crystal display device does not require a light-generating structure required to self-generate light. 이에 따라 반사형 액정표시장치는 구조가 심플하며, 매우 낮은 소비전력으로 디스플레이를 구현할 수 있는 장점을 갖는다. Accordingly, the reflection type liquid crystal display apparatus has the advantage that the structure is simple and can be implemented to display a very low power consumption.

또한, 액정을 이용하여 정보를 표시하는 액정표시장치의 또 다른 종류 중 하나인 투과형 액정표시장치는 자체 충전된 전기 에너지를 소모하여 얻어진 광으로 디스플레이를 수행한다. In yet one other type of transmission-type liquid crystal display device of a liquid crystal display device using a liquid crystal for displaying information, and performs the display light is obtained by consuming a self-charging electric energy. 따라서, 투과형 액정표시장치는 주변 환경에 구애받지 않고 어느 곳에서나 정보를 표시할 수 있는 장점을 갖는다. Thus, the transmission type liquid crystal display apparatus has the advantage of being able to display the information at any place regardless of the surrounding environment.

또한, 액정을 이용하여 정보를 표시하는 액정표시장치의 또 다른 종류 중 하나인 반사-투과형 액정표시장치는 외부의 디스플레이 환경에 따라서 자체 충전된 전기 에너지를 소모하여 얻어진 광으로 디스플레이를 수행하거나, 외부광을 이용하여 디스플레이를 수행한다. Further, using a liquid crystal another type, one of the reflection of a liquid crystal display device for displaying information-transmission type liquid crystal display device to an external display environment thus perform display with light obtained by consuming a self-charging electric energy, or an external using light and performs display. 이와 같은 반사-투과형 액정표시장치는 외부 환경에 상관없이 어느 곳에서나 디스플레이가 가능한 투과형 액정표시장치의 장점 및 낮은 소비전력 특성을 갖는 반사형 액정표시장치의 장점을 모두 갖는다. Such a reflection-transmission-type liquid crystal display device has the advantages of a reflective liquid crystal display device having advantages, and low power consumption characteristics of the transmission type liquid crystal display device, the display is possible at any place regardless of the external environment.

첨부된 도 1에는 종래 반사-투과형 액정표시장치를 이루는 일부인 액정표시 패널의 내부 구조를 나타낸 단면도가 도시되어 있다. The accompanying Figure 1 shows a conventional reflection-is a cross-sectional view is shown showing the internal structure that is part of a liquid crystal display panel constituting a transmission type liquid crystal display device.

도 1을 참조하면, 종래 반사-투과형 액정표시장치(100)는 전체적으로 보아 컬러필터기판(110), 액정(120) 및 TFT 기판(130)으로 도시된다. 1, the conventional reflection-type liquid crystal display 100 is shown as a whole when viewed in a color filter substrate 110, liquid crystal 120 and the TFT substrate 130.

TFT 기판(130)은 다시 투명 기판(131), 박막 트랜지스터(132), 유기 절연막(133), 투명 전극(134), 반사 전극(135) 및 배향막(136)으로 구성된다. Is the TFT substrate 130 is again composed of a transparent substrate 131, the thin film transistor 132, the organic insulation film 133, a transparent electrode 134, the reflective electrode 135 and the orientation film 136. 미설명 도면부호 136a는 배향홈이다. Unexplained reference numeral 136a is an alignment groove.

보다 구체적으로, 박막 트랜지스터(132)는 투명 기판(131)상에 매트릭스 형태로 배열된다. More specifically, the thin film transistor 132 is arranged in a matrix form on a transparent substrate 131. 이 박막 트랜지스터(132)는 외부에서 인가된 데이터 신호를 타이밍 신호에 의하여 외부로 출력하는 역할을 한다. The thin film transistor 132 serves to output to the outside by the data signal applied from the outside to the timing signal. 유기 절연막(133)은 앞서 박막 트랜지스터(132)가 덮이도록 투명 기판(131)의 전면적에 걸쳐 후박하게 형성된다. The organic insulating film 133 is formed above the thin film transistor 132 so as to cover the Magnolia over the entire area of ​​the transparent substrate 131. 이 유기 절연막(133)의 상면에는 도 1에 도시된 바와 같이 엠보싱 형태의 요철(133a) 및 박막 트랜지스터(132)의 출력단이 노출되도록 콘택홀(133b)이 형성된다. This contact hole (133b) such that an output terminal is exposed in the organic insulating layer 133 is concave-convex (133a) and a thin film transistor 132 in the embossed form, as the top surface shown in Figure 1 is formed of.

한편, 투명 전극(134)은 엠보싱 형태의 요철(133a)이 형성된 유기 절연막(133)의 상면 전체에 인듐 틴 옥사이드 박막을 소정 두께로 형성된 상태에서, 인듐 틴 옥사이드 박막이 각 박막 트랜지스터(132)의 출력단에 하나씩 연결되도록 패터닝되어 형성된다. On the other hand, the transparent electrode 134 is embossed in the form of concave-convex (133a) of the state given the indium tin oxide thin film on the entire upper surface formed to a thickness of the organic insulating film 133 is formed, an indium tin oxide thin film is the thin film transistor 132 It is formed by patterning so that the one connected to an output terminal.

또한, 반사 전극(135)은 투명 전극(134)의 상면에 형성된다. Further, the reflection electrode 135 is formed on the upper surface of the transparent electrode 134. 이때, 반사 전극(135)의 일부에 개구창(135a)을 형성함으로써 반사 전극(135)의 하부에 가려져 있던 투명 전극(134)의 일부가 노출되도록 형성된다. At this time, a portion of the reflective electrode by forming an opening window (135a) in a portion of 135, the reflection electrode 135, transparent electrode 134, which was hidden by the lower portion of the formation is exposed.

도 1에 도시된 배향막(136)은 반사 전극(135)을 덮도록 투명 기판(131)의 전 면적에 걸쳐 평탄하게 형성되고, 배향막(136)의 상면에는 러빙 롤러를 통하여 러빙이 수행되어 배향홈(136a)이 형성된다. The alignment layer 136 shown in Figure 1 is reflected and flatly formed all over the area of ​​the transparent substrate 131 so as to cover the electrode 135, the upper surface of the alignment film 136 is rubbed is performed by a rubbing roller alignment groove a (136a) is formed.

도면부호 110으로 도시된 부분은 종래 반사-투과형 액정표시장치(100)의 일부인 컬러필터기판이다. The part shown by reference numeral 110 is a conventional reflective-transmissive part is the color filter substrate of the liquid crystal display device 100. 컬러필터기판(110)은 다시 투명 기판(111), 블랙 매트릭스(112), 컬러필터(113), 공통 전극(114) 및 배향막(115)으로 구성된다. The color filter substrate 110 is again composed of a transparent substrate 111, a black matrix 112, a color filter 113, a common electrode 114 and the orientation film 115.

이때, 투명 기판(111)에 형성된 블랙 매트릭스(112)는 격자 형상을 갖으며, 앞서 설명한 TFT 기판(130)의 반사 전극(135)의 사이사이에 형성된 절연 공간(135c)과 대향하도록 형성된다. In this case, the black matrix 112 formed on the transparent substrate 111 was has a lattice shape, and is formed to face the insulating space (135c) formed in between the reflective electrode 135 in the above-described TFT substrate 130.

한편, 투명 기판(111)에는 각 반사 전극(135)에 대응하여 도 1에 도시된 바와 같이 컬러필터(113)가 매트릭스 형태로 형성된다. On the other hand, the transparent substrate 111 has a color filter 113 as shown in FIG. 1, corresponding to each reflective electrode 135 are formed in a matrix form. 컬러필터(113)는 광을 필터링 하여 레드 파장을 갖는 단색광을 발생시키는 레드 컬러필터, 광을 필터링 하여 그린 파장을 갖는 단색광을 발생시키는 그린 컬러필터, 광을 필터링 하여 블루 파장을 갖는 단색광을 발생시키는 블루 컬러필터로 구성된다. The color filter 113 is a green color filter for generating a monochromatic light having a green wavelength filter out the red color filter, the optical filters the light to generate monochromatic light having a red wavelength, and filters the light to generate monochromatic light having a blue wavelength It consists of a blue color filter.

공통 전극(114)은 컬러필터(113)의 상면을 덮도록 투명 기판(111)의 전면적에 걸쳐 형성된다. Common electrode 114 is formed over the entire area of ​​the transparent substrate 111 so as to cover the upper surface of the color filter 113.

배향막(115)은 공통 전극(114)이 덮이도록 투명 기판(111)의 상면에 형성되며, 배향막(115)의 상면에는 러빙 롤러에 의하여 배향홈(115a)이 형성된다. An alignment film 115 is formed on the upper surface of the transparent substrate 111 so that the common electrode 114 is covered, the upper surface of the alignment film 115 is formed with the alignment groove (115a) by a rubbing roller.

이와 같은 구성을 갖는 컬러필터기판(110) 및 TFT 기판(130)은 서로 포개어져 결합된다. The color filter substrate 110 and the TFT substrate 130 having the same configuration are coupled to each other becomes the overlaid. 이때, 컬러필터기판(110) 및 TFT 기판(130)의 결합은 셀 갭이 형성되도록 스페이서(미도시)가 산포 된 후 실런트(미도시)에 의하여 수행된다. In this case, the color filter of the combined substrate 110 and the TFT substrate 130 is carried out by a sealant (not shown) after the spacer (not shown) to form a cell gap variation.

한편, 액정(120)은 도 1에 도시된 바와 같이 어셈블리 된 컬러필터기판(110) 및 TFT 기판(130)의 사이에 형성된 공간으로 주입된다. On the other hand, the liquid crystal 120 is injected into the space formed between the color filter substrate 110 and the TFT substrate 130 assembly as shown in FIG.

이와 같은 구성을 갖는 종래 반사-투과형 액정표시장치(100)는 광량이 부족하여 투과 모드로 디스플레이를 진행할 때에는 자체 충전된 에너지를 소모하여 TFT 기판(130)의 후면으로부터 컬러필터기판(110)을 향하는 Ⅱ방향 광을 램프(미도시)로부터 발생시킨다. The conventional reflection has the same configuration-transmission type liquid crystal display device 100 when the light amount is insufficient advance the display to the transmission mode facing the color filter substrate 110 from the backside of the consume itself a charged energy to the TFT substrate 130, ⅱ the direction the light is generated from a lamp (not shown).

이때, Ⅱ 방향을 갖는 광은 도 1에 도시된 바와 같이 개구창(135a) - 액정(120) - 컬러필터(113) - 투명 기판(111)을 경유하여 사용자의 눈(140)에 입사된다. At this time, the light is an opening window (135a) as shown in Figure 1 having a Ⅱ direction is incident on the transparent substrate of the user's eye 140 via a 111-liquid crystal (120) - Color filter 113. 반면, 광량이 풍부하여 반사 모드로 디스플레이를 진행할 때에는 램프(미도시)를 소등하고 유리기판(111) - 컬러필터(113) - 액정(120) - 반사 전극(135)을 향하는 Ⅰ 방향을 갖는 외부광을 받아들인다. On the other hand, the light amount is abundant when proceed with the display in a reflection mode, turning off the lamp (not shown) and a glass substrate (111) external with Ⅰ direction toward the reflection electrode 135-color filter 113 - the liquid crystal (120) accept the light. 이때, 반사 전극(135)에서 반사된 외부광은 다시 액정 (120) - 컬러필터(113) - 투명 기판(111)을 경유하여 사용자의 눈(140)에 입사된다. At this time, the external light reflected by the reflection electrode 135 is again liquid crystal (120) is incident on the transparent substrate 111, the eyes of the user 140 by way of the - color filter 113.

그러나, 이와 같은 종래 반사-투과형 액정표시장치는 디스플레이의 품질을 좌우하는 휘도가 저하되어 고품질 디스플레이를 구현하기 어려운 문제점을 갖는다. However, such a conventional reflection same-transmission type liquid crystal display device has a luminance is reduced, which influences the quality of the display is difficult to implement high quality display problem.

이 문제점의 원인은 투과 영역 또는 반사 영역을 통과한 광은 모두 컬러 필터(113)를 통과해야만 하고, 컬러 필터(113)를 통과하는 과정에서 광량의 상당 부분이 손실되기 때문에 발생한다. The cause of this problem is caused because all have the light passing through the transmissive areas or the reflective region passes through the color filter 113, and a substantial amount of light loss in the course of passing through the color filter 113.

특히, 반사 영역으로 입사되는 광(Ⅰ)은 A 길이만큼 컬러필터(113)를 통과하고, 반사 전극(135)에 반사된 후 다시 B 길이만큼 컬러필터(113)를 통과한다. In particular, light (Ⅰ) incident on the reflective region passes through the color filter 113 by the length B again after being reflected on the A length by passing through the color filter 113, and a reflective electrode 135. The 반 면, 투과 영역으로 입사된 광(Ⅱ)은 C 길이만큼 컬러필터(113)를 통과한 후 사용자의 눈(140)으로 입사된다. The incident on the half plane, light transmission regions (Ⅱ) is incident to the user's eye (140) after passing through the color filter 113 by the length C.

따라서, 반사 영역에서의 디스플레이 되는 영상의 휘도는 투과 영역에서 디스플레이 되는 영상의 휘도와 다르게 되고, 색 특성 역시 다르게 발생된다. Therefore, the luminance of the image displayed in the reflection area is different from the luminance of the image displayed in the transmissive region, the color characteristic is also different from occurring.

이와 같은 문제점 외에도 종래 반사-투과형 액정표시장치(100)는 TFT 기판(130)에 형성된 유기 절연막(133)에 엠보싱 요철(133a)을 형성할 때, 유기 절연막(133)의 하부에 형성된 여러 가지 박막층에 의하여 엠보싱 요철(133a)의 형성 불량이 빈번하게 발생한다. These problems in addition to the conventional reflection-type liquid crystal display 100 includes a number of thin film layers formed on the lower portion for forming the embossing convex (133a) on the organic insulating layer 133 is formed on the TFT substrate 130, the organic insulation film 133, and the frequently poor formation of the embossed concave-convex (133a) generated by. 이와 같은 엠보싱 요철(133a) 불량에는 콘택홀(133b)과도 연관이 있는데, 주로 콘택홀(133b)의 주변에서 엠보싱 요철(133a)의 형성 불량이 빈번하게 발생된다. Thus there is such association embossing concave-convex (133a), the bad contact hole (133b) transient, mainly frequently form poor embossing concave-convex (133a) generated in the vicinity of the contact hole (133b).

이처럼 다양한 요인에 의하여 유기 절연막(133)에 형성되는 엠보싱 요철(133a)의 형성 불량이 발생할 경우, 휘도 균일도가 크게 저하되어 디스플레이 특성 및 시야각 특성이 크게 저하되는 문제점을 갖는다. Thus, if, by a number of factors result in poor formation of the embossed concave-convex (133a) formed on the organic insulating layer 133, and has a problem in that the brightness uniformity of the display characteristics and viewing angle characteristics are significantly lowered significantly lowered.

따라서, 본 발명은 이와 같은 종래 문제점을 감안한 것으로서, 본 발명의 제 1 목적은 엠보싱 요철의 형성 불량에 따른 시야각 불량을 극복 및 반사 영역 및 투과 영역에서의 고유한 특성에 의하여 발생하는 디스플레이 특성 저하 및 휘도 저하를 방지한 반사-투과형 액정표시장치를 제공함에 있다. Accordingly, the present invention taking into account the conventional problems, a first object of the present invention to decrease the display characteristics caused by a viewing angle defects according to the forming defect of the embossed concavo-convex on its own characteristics in overcoming and the reflection region and the transmission region, and is a transmission type liquid crystal display device to provide - a reflection preventing luminance degradation.

또한, 본 발명의 제 2 목적은 엠보싱 요철의 형성 불량에 따른 시야각 불량을 극복 및 반사 영역 및 투과 영역에서의 고유한 특성에 의하여 발생하는 디스플 레이 특성 저하 및 휘도 저하를 방지한 반사-투과형 액정표시장치의 제조 방법을 제공함에 있다. Further, a second object is preventing the display characteristic deterioration and luminance deterioration caused by the viewing angle defects according to the forming defect of the embossed concavo-convex on its own characteristics in overcoming and the reflection area and transmission area reflection of the present invention a transmission-type liquid crystal It is a method of manufacturing a display device to provide.

이와 같은 본 발명의 제 1 목적을 구현하기 위한 반사-투과형 액정표시장치는 제 1 투명 기판과, 제 1 투명 기판에 매트릭스 형태로 배열된 제 1 전극과, 각각의 제 1 전극에 전원을 공급하는 전원 공급수단을 포함하는 제 1 기판, 제 1 투명 기판과 대향하며, 시야각 향상 수단이 형성된 제 2 투명 기판, 제 2 투명기판으로부터 제 1 투명 기판으로 향하는 제 1 광은 투과시키고, 제 1 투명 기판으로부터 제 2 투명기판을 향하는 제 2 광은 제 1 광 방향으로 반사시키는 광 반사/투과 수단, 광 반사/투과 수단의 일부에 일정한 두께로 형성된 컬러필터, 컬러필터가 형성된 제 2 투명 기판의 전면에 형성된 제 2 전극을 포함하는 제 2 기판 및 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 주입된 액정을 포함한다. Such reflection for implementing the first object of the present invention a transmission type liquid crystal display device includes a first transparent substrate, a first and a first electrode arranged in a matrix form on the first transparent substrate, for supplying power to each of the first electrode power supply means, the first substrate facing the first transparent substrate and including a viewing angle improvement means is a second transparent substrate, first and second towards the first transparent substrate, the first light is transmitted from the second transparent substrate formed of a first transparent substrate, from the front surface of the second transparent substrate facing the second light is a color filter, a color filter formed at a predetermined thickness in a part of the light reflection / permeation means, the reflecting / transmitting means for reflecting the first light direction is formed a second transparent substrate and a second substrate and the first substrate and the liquid crystal injected between the second substrate and a second electrode is formed.

또한, 본 발명의 제 2 목적을 구현하기 위한 반사-투과형 액정표시장치의 제조 방법은 제 1 투명 기판에 미소 면적 단위로 전원을 공급하는 전원 공급장치를 형성 및 전원 공급장치에 연결되는 투명한 제 1 전극을 형성하여 제 1 기판을 제조하는 단계, 시야각 향상 수단이 형성된 제 2 투명 기판의 제 1 영역에서는 제 1 투명 기판으로 향하는 제 1 광은 투과시키고 제 1 영역을 감싸는 제 2 영역에서는 제 1 투명 기판으로부터 제 2 투명기판을 향하는 제 2 광을 제 1 광 방향으로 반사시키는 광 반사/투과 수단을 형성, 광 반사/투과 수단의 제 1 영역에 일정한 두께를 갖는 컬러필터를 형성, 컬러필터가 형성된 제 2 투명 기판의 전면에 제 2 전극을 형성하여 제 2 기판을 제조하는 제 2 단계, 제 1 기판 및 제 2 기판을 합착하는 단계 및 합착된 제 1 기판 및 제 2 기판 Further, the reflection for accomplishing the second object of the present invention transparent first being method of manufacturing a transmission type liquid crystal display device is connected to a power supply for supplying power to the micro-area unit on the first transparent substrate to form, and power supply a step of forming an electrode made of the first substrate, the first region of the second transparent substrate, a viewing angle improvement means formed claim towards the first transparent substrate 1, light is transmitted through and surrounding the first region, the second region the first transparent forming a light reflection / transmission means for reflecting the second light towards the second transparent substrate from the substrate to the first light direction, a color filter having a predetermined thickness in a first region of the light reflection / transmission means, a color filter is formed a second transparent substrate over the stage and attached to each other a first substrate and a second substrate attached to each other the second step, the first substrate and the second substrate for producing the second substrate by forming a second electrode on the 사이에 액정을 주입하는 단계를 포함한다. And a step of injecting liquid crystal in between.

이하, 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치 및 이의 제조 방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다. Or less, reflection in accordance with one embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, the transmission type liquid crystal display device and a method as follows.

먼저, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치를 설명하기로 한다. First, the reflection in accordance with one embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings - to be described the transmission type liquid crystal display device.

첨부된 도 3을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치(800)의 일부인 액정표시패널(700)은 다시 제 1 기판(200), 제 2 기판(300) 및 액정(400)으로 구성된다. Referring to the accompanying Figure 3, the reflection in accordance with one embodiment of the invention - which is part liquid crystal display panel 700 is again the first substrate 200 and second substrate 300 and the liquid crystal of the transmission type liquid crystal display device 800 It is composed of 400.

제 1 기판(200)은 다시 도 3 또는 도 4에 도시된 바와 같이 제 1 투명 기판(210), 전원 공급장치(220), 유기 절연막(230) 및 제 1 전극(240)으로 구성된다. Is the first substrate 200 is composed of the first transparent substrate 210, a power supply 220, the organic insulation film 230 and the first electrode 240, as shown again in Fig. 3 or 4. 이때, 미설명 도면부호 280은 배향막이고, 285는 배향홈이다. At this time, the unexplained reference numeral 280 is an alignment film, 285 is an alignment groove.

이때, 제 1 투명 기판(210)은 바람직한 일실시예로 광투과도가 뛰어난 유리 기판이 사용될 수 있다. In this case, the first transparent substrate 210 has a light transmittance in a preferred embodiment can be used with excellent glass substrate. 이와 같은 제 1 투명 기판(210)에 형성되는 전원 공급장치(220)는 다시 도 5에 보다 구체적으로 도시된 바와 같이 매트릭스 형태로 배열된 박막 트랜지스터(221, 222, 223, 224; 226) 및 신호선(229)으로 구성된다. This first transparent power supply formed in the substrate 210, device 220 is a five to more specifically, the are arranged in a matrix shape thin-film transistors as shown in the back (221, 222, 223, 224; 226) and the signal line It is composed of 229.

이때, 도 5를 참조하면, 각 박막 트랜지스터(226)는 다시 게이트 전극(221), 채널층(222), 소오스 전극(223) 및 드레인 전극(224)으로 구성된다. At this time, referring to Figure 5, each of the thin film transistor 226 is again composed of the gate electrode 221, channel layer 222, a source electrode 223 and drain electrode 224. The

구체적으로, 게이트 전극(221)은 도 6에 도시된 바와 같이 제 1 투명 기판(210)의 상면에 제 1 면적을 갖으며, 제 1 광반사율을 갖는 제 1 메탈(221a), 제 1 메탈(221a)보다 높은 제 2 광반사율을 갖는 제 2 메탈(221b)의 복층 구조를 갖는다. Specifically, the gate electrode 221 is a second first metal (221a) 1 was has a first area on an upper surface of the transparent substrate 210, having a first light reflectance, as shown in Figure 6, the first metal ( has a multi-layer structure of the second metal (221b) has a higher optical reflection coefficient than the second 221a).

일실시예로, 제 1 메탈(221a)은 크롬 산화막(CrO 2 film)이고, 제 2 메탈(221b)은 크롬 박막(Cr film)이다. In one embodiment, the first metal (221a) is a chromium oxide film (CrO 2 film), and the second metal (221b) is a chromium film (Cr film). 이처럼 게이트 전극(221)을 복층 방식으로 형성하는 이유는 외부로부터 게이트 전극(221)의 제 1 메탈(221a)을 향하는 광이 제 1 메탈(221a)로부터 반사되어 사용자의 눈으로 다시 입사되는 것을 최소화하기 위함이다. The reason for forming the gate electrode 221 as a multi-layer approach is that light toward the first metal (221a) of the gate electrode 221 from the outside is reflected from the first metal (221a) minimize the re-incident on the user's eye It is intended to.

한편, 이와 같은 구성을 갖는 게이트 전극(221)의 제 2 메탈(221b)은 신호선(229)의 하나인 도 4 또는 도 7에 도시된 게이트 라인(228)이 전기적으로 연결된다. On the other hand, the second metal, one of the 4 or the gate line 228 shown in Figure 7 of (221b) is a signal line 229 of the gate electrode 221 having such a configuration are electrically connected. 이때, 일실시예로 게이트 라인(228)은 투명한 도전성 물질로 구성된 박막을 패터닝하여 형성한다. At this time, in one embodiment the gate line 228 is formed by patterning a thin film composed of a transparent conductive material. 이때, 투명한 도전성 물질은 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide) 물질로 구성된다. In this case, the transparent conductive material is composed of indium tin oxide (Indium Tin Oxide) or indium zinc oxide (Indium Zinc Oxide) material.

한편, 도 6에 도시된 바와 같이 채널층(222)은 절연막(221c)을 매개로 게이트 전극(221)의 상면에 오버랩 되도록 형성된다. On the other hand, the channel layer 222 as shown in Figure 6 is formed so as to be overlapped on the upper surface of the gate electrode 221 as a medium an insulating film (221c). 이때, 채널층(222)의 면적은 게이트 전극(221)의 제 1 면적보다 작은 제 2 면적을 갖는다. At this time, the area of ​​the channel layer 222 has a smaller area than the second area of ​​the first gate electrode 221.

이처럼 채널층(222)의 면적을 게이트 전극(221)의 면적보다 작게 하는 이유는 채널층(222)을 이루는 물질이 광에 노출될 경우 전류의 흐름을 발생하여 전원공급장치의 오작동을 유발하기 때문이다. The reason for reducing the area of ​​the channel layer 222 than the area of ​​the gate electrode 221 to generate a flow of current when the material of the channel layer 222 is exposed to light due to cause the malfunction of the power supply to be. 이때, 채널층(222)은 아몰퍼스 실리콘 물질로 제작된 아몰퍼스 실리콘 박막 또는 아몰퍼스 실리콘 박막에 n + 이온이 도핑된 n + 아몰퍼스 실리콘 박막이 사용될 수 있다. At this time, the channel layer 222 may have an amorphous silicon thin film or an amorphous silicon thin film on the n + ion doped n + amorphous silicon thin film made of amorphous silicon material may be used.

한편, 도 5 또는 도 6에 도시된 바와 같이 채널층(222)의 상면에는 다시 상호 쇼트 되지 않도록 도전성 소오스 전극(223) 및 드레인 전극(224)이 형성된다. On the other hand, FIG. 5 or FIG. 6, as the upper surface of the source conductive back electrode 223 and the drain electrode 224 from being mutually short of the channel layer 222 is shown to be formed. 이때, 소오스 전극(223)에는 신호선(229)의 하나인 데이터 라인(227)이 연결된다. At this time, a source electrode 223, the one of the data lines 227, the signal line 229 is connected. 이 데이터 라인(227)은 소오스 전극(223)을 이루는 물질과 동일하거나 ITO 물질 또는 IZO물질로 이루어진 투명 박막을 패터닝하여 사용할 수 있다. The data line 227 may be used the same as the material of the source electrode 223 or patterning the transparent thin film made of ITO or IZO material substance.

한편, 도 6 또는 도 7에 도시된 바와 같이 이와 같은 구성을 갖는 전원 공급장치(220)의 상면에는 다시 평탄하면서 투명한 유기 절연막(230)이 형성된다. On the other hand, Fig. 6 or a transparent organic insulating layer 230 is also formed with an upper surface of the power supply device 220 having such a configuration as shown in Figure 7, the flat again. 이 유기 절연막(230)에는 박막 트랜지스터(226)의 드레인 전극(224)이 노출되도록 콘택홀(235)이 형성된다. The organic insulating layer 230, the contact hole 235 is formed to expose the drain electrode 224 of the thin film transistor 226. The

이 콘택홀(235)을 매개로 박막 트랜지스터(226)의 드레인 전극(224)에는 제 1 전극(240)이 형성된다. The drain electrode 224 to the contact holes 235, intermediate thin film transistor 226, the first electrode 240 is formed. 제 1 전극(240)은 투명하면서 도전성이 뛰어난 ITO 또는 IZO 물질로 이루어진 박막을 패터닝하여 사용한다. The first electrode 240 is transparent and is used to pattern the thin film made of a conductive material with excellent ITO or IZO.

한편, 도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시패널(700)의 또 다른 구성 요소 중 하나인 제 2 기판(300)은 다시 제 2 투명 기판(310), 광 반사/투과 부재(340), 컬러필터(350), 제 2 전극(360)으로 구성된다. On the other hand, the reflection in accordance with one embodiment of the invention, as shown in Figure 3 yet another configuration of the second substrate 300, one element of the transmission type liquid crystal display panel 700 includes a second transparent substrate (310) again, It is composed of the reflecting / transmitting member 340, a color filter 350, a second electrode (360).

이때, 첨부된 도 8에 도시된 바와 같이, 제 2 투명 기판(310)에는 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)가 형성된다. At this time, as shown in the accompanying Figure 8, a second transparent substrate 310 is formed with the embossing projection (315) for viewing angle improvement. 이 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)는 제 2 투명 기판(310)을 제작할 때 함께 형성할 수 있다. Embossing protrusions 315 for improving the viewing angle can be formed together when making the second transparent substrate 310.

이와 달리, 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)는 제 2 투명 기판(310)에 감광성 유기 절연막을 형성한 상태에서 감광성 유기 절연막의 상부에 정밀한 노광 공정 및 현상 공정을 통하여 형성하는 것 또한 무방하다. Alternatively, it is embossed protrusions 315 for improving the viewing angle is mubang also formed through the fine exposure process and a developing process on top of the photosensitive organic insulating film in a state of forming a photosensitive organic insulating film on the second transparent substrate 310.

본 발명에서는 바람직한 일실시예로 도 3 또는 도 8에 도시된 바와 같이 제 2 투명 기판(310)에 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)를 직접 가공된 것을 일실시예로 설명하기로 한다. In the present invention, it will be described in the preferred embodiment 3, or the processing of the second transparent substrate embossing protrusions 315 for improving the viewing angle 310 as shown in Figure 8 directly to an embodiment.

한편, 광 반사/투과 부재(340)는 제 2 투명 기판(310)에 형성된 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)가 덮여지도록 형성된다. On the other hand, the reflecting / transmitting member 340 is formed to be covered with a field of view embossing protrusions 315 for improving formed on the second transparent substrate 310. 따라서 광 반사/투과 부재(340) 역시 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)의 형상대로 요철을 갖는다. Therefore, the reflecting / transmitting member 340 also in the image of the embossing projection (315) for improving the viewing angle and has recesses and protrusions.

이때, 광 반사/투과 부재(340)는 일실시예로 2 개의 복층막으로 구성된다. At this time, the reflecting / transmitting member 340 is of a two layered film in one embodiment. 이때, 복층막으로 구성된 광 반사/투과 부재(340)는 다시 도 8에 도시된 바와 같이 광의 반사 및 투과가 모두 가능한 광 반사/투과 박막(320) 및 광의 반사만이 가능한 광 반사 박막(330)으로 구성된다. At this time, the light reflected consisting of multi-layer film / transparent member 340 is again of the light reflected and transmitted through both optical reflection / transmission films 320 and light reflected only the light reflecting films 330 as possible as shown in FIG. 8 It consists of a.

구체적으로, 광 반사/투과 박막(320)은 제 2 투명 기판(310)의 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)의 상면에 일실시예로 순수 알루미늄 또는 알루미늄에 다음에 열거한 물질로 알루미늄 합금을 형성하여 사용하여도 무방하다. Specifically, the light reflection / transmission films 320, the aluminum alloy is formed from any of the listed materials in the following to pure aluminum or aluminum in one embodiment the upper surface of the second transparent substrate 310, a viewing angle improving the embossing projection (315) for the and it is also mubang use.

이때, 알루미늄과 합금 되는 물질로는 Nd, Si, Cu, Zn, Ti, V, Co, Ni, Sn, Ag, Pd, Mo, Zr, Hs, Ta, W, Au 등이다. In this case, a material with an aluminum alloy is Nd, Si, Cu, Zn, Ti, V, Co, Ni, Sn, Ag, Pd, Mo, Zr, Hs, Ta, W, Au or the like. 이때, 광 반사/투과 박막(320)의 두께는 광반사율은 전체 광량의 30% ∼ 50% 이고, 투과율은 50% ∼ 90%의 조건을 만족하기에 충분한 두께를 갖도록 하는 것이 바람직하다. At this time, the thickness of the light reflection / transmission films 320, the light reflection factor is 30% to 50% of the total amount of light, the transmittance is preferably to have a thickness sufficient to satisfy the condition of 50% to 90%.

본 발명에서는 바람직한 일실시예로 알루미늄-네오디뮴 합금(Al-Nd)을 20Å∼ 800Å의 두께로 증착하여 형성한다. In the present invention, aluminum in the preferred embodiment - a neodymium alloy (Al-Nd) is formed by deposition to a thickness of 800Å 20Å~. 이처럼 광 반사/투과 박막(320)이 형성된 상태에서 광 반사/투과 박막(320)의 상면에는 다시 광 반사 박막(330)이 형성된다. Thus, the upper surface of the light reflection / transmission films 320 are formed in the light reflection / transmission films 320, the state is formed with a re-light reflecting thin film 330.

이때, 광 반사 박막(330)은 일실시예로 5000Å 정도의 두께를 갖는 은(Ag) 또는 은 합금으로 구성된 박막이다. At this time, the light reflecting thin film 330 has a thickness of about 5000Å to one embodiment, silver (Ag), or is a thin film made of an alloy. 이때, 광 반사 박막(330)은 광 반사/투과 박막(320)에 비하여 후박하게 형성된다. At this time, the reflecting films 330 are formed in the Magnolia than the light reflection / transmission films 320.

이때, 광 반사 박막(330), 광 반사/투과 박막(320)중 광 반사 박막(330)의 일부는 도 9 또는 도 10에 도시된 바와 같이 개구창(335)이 형성된다. At this time, part of the light reflecting thin film 330 of the light reflecting thin film 330, the light reflection / transmission films 320, the opening window 335 is formed as shown in Figure 9 or Figure 10. 이로써 광 반사/투과 박막(320)의 일부는 광 반사 박막(330)에 형성된 개구창(335)을 통해 외부에 노출된다. This part of the light reflection / transmission films 320 is exposed to the outside through the opening window 335 formed in the reflecting films 330. 이때, 개구창(335)의 면적이 최대가 되도록 할 경우 전기 에너지를 소모하여 생성된 광이 광 반사 박막(330)에 의하여 차단되는 비율이 최소가 되도록 할 수 있다. At this time, if the opening area so that the maximum of the window 335, the rate at which the generated light by consuming the electrical energy blocked by the light reflecting thin film 330 can be minimized. 즉, 도시되지 않은 램프에서 발생한 광의 이용 효율이 최대가 되도록 할 수 있는 것이다. In other words, the light utilization efficiency can be called out by the not-shown lamp is maximized.

이와 같이 구조를 갖는 광 반사/투과 부재(340)를 기준으로 도 10에 도시된 "외부 영역"이 "내부 영역"보다 밝을 경우, 외부 영역으로부터 공급된 제 1 광(391)은 광 반사 박막(330)은 물론 광 반사/투과 부재(320)중 노출된 부분에도 도달된다. Thus, the "outer region" shows an optical reflection / transmission member 340 has a structure in Figure 10 based on the case lighter than "fill area", the first light 391 supplied from the outer region is the light reflection films ( 330) is reached, as well as to the partial illumination of the light reflecting / transmitting member (320).

즉, 외부 영역이 내부 영역보다 밝을 경우 제 1 광(391)은 광 반사 박막(330) 및 광 반사/투과 부재(320)중 광 반사 박막(330)에 의하여 가려지지 않고 노출된 부분에서 광의 반사를 일으킨다. That is, when the outer region brighter than the interior region a first light 391 is light reflected by the exposed portion without being blocked by the light reflecting thin film 330 of the light reflecting films 330 and the reflecting / transmitting member 320 It causes. 이와 같은 구성은 광 반사 박막(330) 뿐만 아니라 광 반사/투과 부재(320)의 일부에서도 외부광을 반사시키는 것이 가능케 되어 광의 이용 효율을 극대화시킬 수 있다. This configuration, as well as in some of the reflecting films 330, light reflection / transmission member 320 that is allows for reflecting the external light can maximize light use efficiency.

반면, 외부 영역이 내부 영역보다 어두울 경우 액정을 통과하는 광이 부족해져 디스플레이가 실질적으로 불가능하다. On the other hand, the display area is the external light passing through the liquid runs out if darker than the interior region is substantially impossible. 이를 극복하기 위해서 도시되지 않은 램프가 점등하여 내부 영역에서 외부 영역을 향하는 제 2 광(392)이 생성된다. The second light 392 by the not-shown lamp toward the outer region within the region in order to overcome this problem is generated. 이때, 제 2 광(392)은 광 반사/투과 부재(320)중 광 반사 박막(330)에 의하여 가려지지 않은 부분을 투과하여 액정으로 공급된다. At this time, the second light 392 is supplied to the liquid crystal then passes through the portion that is not blocked by the light reflecting thin film 330 of the light reflecting / transmitting member (320).

한편, 광 반사/투과 부재(340)중 도 앞서 설명한 제 1 기판(200)의 제 1 전극(240)의 사이사이와 대향하는 부분에는 광 흡수부(370)가 형성된다. On the other hand, the reflecting / transmitting member 340 is also formed of the above-described parts, the light absorbing portion 370 opposite to the between the first electrode 240 of the first substrate (200). 이는 제 1 전극(240)의 사이사이에 해당하는 부분에서는 액정(400)의 제어가 이루어지지 않는 부분임에도 불구하고 외부 영역에서 공급된 광을 차단할 수 없기 때문이다. This is because, even though part unfulfilled the control of the liquid crystal 400 in the portion corresponding to between the first electrode 240, and can block the light supplied from the outside area. 이때, 광 흡수부(370)는 광 반사 박막(330)을 오존(O 3 ) 또는 케미컬로 산화시켜 형성한다. At this time, the light absorbing portion 370 is formed by oxidizing the reflecting films 330 as ozone (O 3) or a chemical. 즉, 광 흡수부(370)는 광 반사 박막(330)이 산화된 은 산화막이다. In other words, the light absorption unit 370 is a light reflective thin film is an oxide film 330 is oxidized.

이와 같이 제 2 투명 기판(310)에 광 반사/투과 부재(340) 및 광 흡수부(370)가 형성된 상태에서 제 2 투명 기판(310)의 상면에는 도 3에 도시된 바와 같이 매트릭스 형태로 컬러필터(350)가 형성된다. Thus, the upper surface of the light reflecting / transmitting member 340 and the second transparent substrate at the light absorbing portion 370 is formed in the state 310 to the second transparent substrate 310, a color in the matrix form as shown in Figure 3 the filter 350 is formed.

이때, 각 컬러필터(350)는 앞서 설명한 제 1 전극(240)들과 1:1 매칭 되도록 형성된다. In this case, each color filter 350 includes a first electrode 240, and one described above: one is formed so as to be matched.

이때, 본 발명에서는 일실시예로 하나의 제 1 전극(240)에 대향하는 하나의 컬러필터(350)는 광 반사 박막(330)의 일부분인 개구창(335)의 상면에만 형성되며 두께는 균일하다. In this case, a color filter 350 according to the present invention in one embodiment opposite to the one of the first electrode 240 is formed only on the upper surface of the opening window 335, a portion of the reflecting films 330, the thickness is uniform Do.

보다 구체적으로, 컬러필터(350)는 다시 도 9에 도시된 바와 같이 레드 컬러필터(353), 그린 컬러필터(356) 및 블루 컬러필터(359)로 구성된다. More specifically, the color filter 350 is reconfigured into a red color filter 353, a green color filter 356 and a blue color filter 359, as shown in FIG. 레드 컬러필터(353)는 광을 필터링 하여 레드 파장을 갖는 단색광이 출사되도록 하고, 그린 컬러필터(356)는 광을 필터링 하여 그린 파장을 갖는 단색광이 출사되도록 하고, 블루 컬러필터(359)는 광을 필터링 하여 블루 파장을 갖는 단색광이 출사되도록 한다. A red color filter 353 filters the light and such that monochromatic light is emitted having a red wavelength, a green color filter 356 is to filter out the light and such that monochromatic light is emitted having a green wavelength, and a blue color filter 359. The optical to filter out such that monochromatic light is emitted having a blue wavelength.

한편, 첨부된 도 10에 도시된 바와 같이 컬러필터(350)가 광 반사 박막(330)의 개구창(335)에 균일한 두께로 형성될 경우, 광 반사 박막(330)중 컬러필터(350)가 형성되지 않은 곳에 도달한 광(Ⅲ)은 컬러필터(350)에 의한 광 손실이 없는 상태로 반사된다. On the other hand, the color filter 350 of the color filter 350, the light reflecting films 330, when formed in a uniform thickness to the opening window 335 of the light reflecting films 330 as shown in the accompanying Figure 10 the light (ⅲ) is reached where not formed is reflected in no light loss caused by the color filter 350, state.

이처럼 광 반사 박막(330)에서 손실 없이 반사된 광(Ⅲ)과 컬러필터(350)를 통과한 광(Ⅳ)은 서로 혼색되어 원하는 색의 광이 발생된다. Thus, the light (Ⅳ) having passed through the light (Ⅲ) and a color filter 350 without reflection loss by the light reflecting films 330 are mixed with each other are generated in a desired color light.

이때, 컬러필터(350)를 통과하지 않고 광 반사 박막(330)에서 반사된 광(Ⅲ)은 도 11a의 그래프 a에 도시된 바와 같이 균일하면서 고휘도를 갖고, 컬러필터(350)를 통과한 광(Ⅳ)은 도 11b의 그래프 b에 도시된 바와 같이 낮은 휘도를 갖는다. In this case, the color filter 350, light (Ⅲ) reflected by the light reflecting thin film 330 without passing through, while uniform, as illustrated in the graph a in Figure 11a has a high-luminance, light passing through the color filter 350, (ⅳ) has a low luminance, as shown in graph b of Figure 11b.

결국 사용자가 인식하는 광은 도 11c의 그래프 c에 도시된 바와 같이 도 11a의 그래프 a와 도 11b의 그래프 b를 합성한 것과 유사하게 혼색된 상태로 고휘도를 갖는 광이다. After the light is a light having a high brightness to a similarly color mixture as a composite graph b in Fig. 11b and a graph of Figure 11a, as the state shown in graph c of Figure 11c the user to recognize.

첨부된 도 12 및 도 13에는 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 제조 방법에 보다 구체적으로 도시되어 있다. The 12 and 13 attached, the reflection in accordance with one embodiment of the present invention is illustrated in more detail the method of manufacturing a transmission type liquid crystal display device.

첨부된 도 12에는 본 발명의 일실시예에 의한 반사-투과형 액정표시장치의 TFT 기판을 제조하는 방법이 보다 구체적으로 도시되어 있다. The accompanying Figure 12, the reflection in accordance with one embodiment of the present invention is illustrated in a more concrete method for producing the TFT substrate of the transmission type liquid crystal display device.

첨부된 도 12a에는 광투과도가 높은 제 1 투명 기판(210)이 도시되어 있다. The accompanying Figure 12a has a first transparent substrate 210 has high light transmittance are shown.

이 제 1 투명 기판(210)의 상면에는 도 12b 및 도 12c의 공정에 의하여 게이트 전극(221)이 형성된다. A first transparent top surface of the substrate 210, the gate electrode 221 by the procedure shown in FIG. 12b and 12c are formed.

게이트 전극(221)을 형성하기 위해서, 도 12b에 도시된 바와 같이 제 1 투명 기판(210)의 상면에는 제 1 광반사율을 갖는 제 1 메탈 박막(221e)이 형성되고, 제 1 메탈 박막(221e)의 상면에는 제1 광반사율보다 높은 제 2 광반사율을 갖는 제 2 메탈 박막(221d)이 형성된다. Gate to form the electrode 221, the first transparent first metal thin film (221e), the top surface having a first light reflectance of the substrate 210 as shown in Figure 12b is formed, a first metal thin film (221e ) of the upper surface of the second metal thin film (221d) having a second high light reflection factor than the first light reflectance it is formed. 이때, 제 1 메탈 박막(221e)은 크롬 산화막(CrO 2 )으로 구성되고, 제 2 메탈 박막(221d)은 크롬(Cr) 박막으로 구성된다. At this time, the first metal thin film (221e) is composed of chromium oxide (CrO 2), the second metal thin film (221d) is composed of chromium (Cr) thin film. 크롬 산화막 및 크롬 박막은 도 3 또는 도 4에 도시된 바와 같이 제 1 투명 기판(310)상에서 상호 일정 간격을 갖도록 패터닝되어 도 12c에 도시된 바와 같이 복층 게이트 전극(221a, 221b; 221)이 형성된다. Formation; (221 221a, 221b) chromium oxide and the chromium thin film is a multi-layer gate electrode as shown in Figure is patterned so as to have a mutually fixed intervals on the first transparent substrate 310 as shown in FIG. 3 or FIG. 4 12c do. 이때, 크롬 산화막은 외부에서 입사된 광의 반사를 억제하는 역할을 한다. At this time, the chromium oxide serves to inhibit the reflection of light incident from the outside.

이어서, 매트릭스 형태로 형성된 게이트 전극(221)들 중 도 4에 도시된 바와 같이 한 행(column)에 속한 모든 게이트 전극(221)의 사이에는 투명한 게이트 라인(도 4참조, 228)에 의하여 연결된다. Then, it is connected by the transparent gate line (cf. Fig. 4228), amongst all the gate electrodes (221) belonging to the gate electrode 221 in a row (column) A as shown in Figure 4 of the formed in a matrix form . 보다 구체적으로, 제 1 투명 기판(310)의 상면에는 도 12d에 도시된 바와 같이 투명한 도전성 물질, 예를 들면, 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide, IZO) 물질이 증착되어 투명한 도전성 박막(128a)이 형성된다. More specifically, the first transparent substrate 310, upper surface of the transparent conductive material as shown in Figure 12d of, for example, indium tin oxide (Indium Tin Oxide; ITO) or indium zinc oxide (Indium Zinc Oxide, IZO) the substance is deposited a transparent conductive thin film (128a) is formed.

이와 같은 상태에서 투명한 도전성 박막(128a)은 도 4에 도시된 바와 같이 동일 행에 속한 모든 게이트 전극이 연결되도록 패터닝되어 투명 게이트 라인(228)이 형성된다. A transparent conductive thin film in this state (128a) is a transparent gate line 228 is patterned such that all of the gate electrode is connected belongs to the same row is formed as shown in Fig.

이와 같이 게이트 전극(221)이 투명 게이트 라인(228)에 의하여 모두 연결된 상태에서, 도 12e에 도시된 바와 같이 제 1 투명 기판(210)에는 다시 전면적에 걸쳐 절연막(221c)이 형성된다. In this manner both by the gate electrode 221 is a transparent gate line 228 is connected, the first transparent substrate 210, the insulating film (221c) is formed over the entire area again as shown in Figure 12e.

이 절연막(221c)의 상면에는 다시 도 12f에 도시된 바와 같이 아몰퍼스 실리콘 박막(미도시), n + 아몰퍼스 실리콘 박막(미도시)이 순차적으로 형성되고, 이들의 패터닝이 수행되어 채널층(222)이 형성된다. The upper surface of the insulating film (221c) is again the amorphous silicon thin film (not shown), n + amorphous silicon thin film (not shown) are formed in sequence, their patterning is performed to the channel layer 222 as shown in Figure 12f It is formed.

이어서, 채널층(222)이 포함되도록 제 1 투명 기판(210)의 전면적에 걸쳐 소오스/드레인 메탈 박막(미도시)이 형성된다. Subsequently, the channel layer 222 is formed with a full source / drain metal thin film (not shown) over the first transparent substrate 210 to include. 이 소오스/드레인 메탈 박막은 도 12f에 도시된 바와 같이 다시 패터닝되어 소오스 전극(223)과 드레인 전극(224)이 형성되고, 도 4에 도시된 데이터 라인(227)까지도 함께 형성된다. Is again patterned as the source / drain metal film is shown in Figure 12f the source electrode 223 and drain electrode 224 are formed, it is formed with an even data line 227 shown in FIG. 이와 다르게 데이터 라인(227)은 ITO 물질 또는 IZO 물질로 형성하는 것 또한 무방하다. By contrast, data line 227 is also mubang to form an ITO material or IZO material.

이때, 데이터 라인(227)은 매트릭스 형태로 배열된 박막 트랜지스터 중 동일 열(row)에 속한 모든 박막 트랜지스터의 소오스 전극(223)에 공통적으로 연결된다. At this time, the data line 227 is commonly connected to the source electrode 223 of all of the thin film transistor that is part of a thin film In the same column (row) of the transistors arranged in a matrix form.

이어서, 도 12g에 도시된 바와 같이, 소오스 전극(223) 및 드레인 전극(224)이 덮이도록 제 1 투명 기판(210)에는 전면적에 걸쳐 후박한 유기 절연막(230)이 형성된다. Then, a, a source electrode 223 and drain electrode 224 such that the first transparent substrate 210, the organic insulating layer 230, the Magnolia over the entire area to cover as shown in Figure 12g is formed. 이 유기 절연막(230)은 평탄막이다. The organic insulating layer 230 is a flat film.

이와 같은 상태에서 유기 절연막(230)에는 도 12h에 도시된 바와 같이 다시 드레인 전극(224)이 노출되도록 콘택홀(235)이 형성된다. The organic insulating layer 230 in a state such as this, the contact hole 235 is formed such that a drain electrode 224 is exposed again as shown in Figure 12h. 이 상태에서 유기 절연막(230)의 전면적에 걸쳐 투명한 도전성 박막(미도시)이 형성된다. The transparent conductive thin film (not shown) is formed over the entire area in this state, the organic insulating layer 230. The 이후, 투명한 도전성 박막은 도 12h에 도시된 바와 같이 패터닝되어 제 1 전극(240)이 형성된다. Then, the transparent conductive thin film is formed is patterned is first electrode 240 as shown in Figure 12h. 이때, 패터닝된 제 1 전극(240)의 형상은 첨부된 도 4에 보다 구체적으로 도시되어 있다. At this time, the shape of the patterned first electrode 240 is shown in more detail in the attached Fig.

이어서, 제 1 전극(240)이 덮이도록 제 1 투명 기판(240)에는 도 12i에 도시된 바와 같이 배향막(280)이 평탄하게 형성되고, 배향막(280)의 상면에는 다시 배향홈(285)이 형성된다. Then, a first electrode (240) is covered so that the first transparent substrate 240 is also an orientation film 280 is formed to be flat as shown in 12i, the upper surface of the alignment film 280, the re-alignment groove 285 is It is formed.

한편, 첨부된 도 13 이하를 참조하여 제 2 기판(300)을 제조하는 방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다. On the other hand, the attached reference to Figure 13, below will be explained with reference to the accompanying drawings, a method of manufacturing the second substrate 300 as follows.

먼저, 도 13a에 도시된 바와 같이 제 2 투명 기판(310)의 상면에는 제 2 투명 기판(310)을 제작하는 과정에서 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)가 함께 제작된다. First, the second upper surface of the second transparent substrate 310 processes the viewing angle embossing protrusions 315 for improvement in that the manufacture of the transparent substrate 310 as shown in Figure 13a is made with.

이와 다른 실시예로, 도 13b에 도시된 시야각 향상용 엠보싱 돌기(317a)는 표면이 평탄하게 제작된 제 2 투명 기판(310)의 표면에 투명한 유기 절연막(317)을 형성하고, 유기 절연막의 표면 가공을 통하여 구현된다. In another embodiment, the embossed projection (317a) for viewing angle improvement shown in Figure 13b, and forming a transparent organic insulating layer 317 on the surface of the second transparent substrate 310 is made to face the flat surface of the organic insulating film It is realized through the process. 보다 구체적으로, 유기 절연막(317)의 상면에는 포토레지스트 박막이 형성된 상태에서 포토레지스트 박막에는 노광 - 현상 - 식각 공정을 연속적으로 수행됨으로써 유기 절연막(317)의 상면에 시야각 향상용 엠보싱 돌기(317a)가 형성된다. More specifically, the organic insulating layer 317, the upper surface has the photoresist film is a photoresist thin film is exposed in the formed state-of-the developer-embossing projections for viewing angle improvement on the upper surface of the organic insulation film 317, thereby performing an etching process in a row (317a) It is formed.

이처럼 어떠한 박막도 형성되지 않은 제 2 투명 기판(310)의 상면에 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)를 직접 형성하거나, 어떠한 박막도 형성되지 않은 제 2 투명 기판(310)의 상면에 유기 절연막(317)을 형성한 후, 시야각 향상용 엠보싱 돌기(317a)를 형성할 경우, 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315,317a)를 매우 정밀하게 형성할 수 있는 장점을 갖는다. Thus, any thin film is also not formed a second transparent substrate 310 is directly formed, or the embossing projection (315) for viewing angle improvement on the upper surface of, any thin film also organic insulating film (317 on the upper surface of the non-formed second transparent substrate (310) ) for the case of forming the formed later, a viewing angle improving the embossing protrusions (317a) for, has the advantage that can be very precisely formed in the embossing projections (315,317a) for viewing angle improvement.

한편, 제 2 투명 기판(310)에 도 13a에 도시된 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)가 형성된 상태에서 시야각 향상용 엠보싱 돌기(315)에는 도 13c에 도시된 바와 같이 광 반사/투과 박막(320) 및 광 반사 박막(330)이 형성된다. On the other hand, the second light reflection / transmission films as the transparent substrate 310, a viewing angle improving the embossing projection (315), the status embossing projection (315) for viewing angle improvement in formed for shown in Figure 13a is shown in Figure 13c (320 a) and the reflecting films 330 are formed.

이를 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. If it described in more detail below. 먼저, 광 반사/투과 박막(320)은 일실시예로 약 20Å∼ 800Å의 매우 얇은 두께를 갖는 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는데, 본 발명에서는 바람직한 일실시예로 알루미늄-네오디뮴 합금 박막이 사용된다. First, a light reflection / transmission films 320 makin made of aluminum or an aluminum alloy having a very small thickness of about 800Å 20Å~ In one embodiment, the aluminum in the present invention, in one preferred embodiment - is neodymium alloy thin film is used. 광 반사/투과 박막(320)의 상면에는 전체 면적에 걸쳐 약 5000Å 정도로 광 반사/투과 박막(320)에 비하여 매우 후박한 광 반사 박막층(332)이 형성된다. The upper surface of the light reflection / transmission films 320, the light reflective thin film layer 332 is a very Magnolia than the light reflection / transmission films 320 are formed to about 5000Å over the entire area. 이때, 광 반사 박막층(332)은 일실시예로 은(Ag) 또는 은 합금으로 이루이진 은 박막이다. At this time, the light reflecting thin film layer 332 is in one embodiment, silver (Ag), or is made of an alloy thin film is binary.

이와 같이, 광 반사/투과 박막(320) 및 광 반사 박막층(332)이 순차적으로 형성된 상태에서 광 반사 박막층(332)의 상면에는 도 13d에 도시된 바와 같이 전면적에 걸쳐 포토레지스트 박막(331)이 형성된다. In this way, the light reflection / transmission films 320, and the light reflecting thin film layer 332, the photoresist thin film 331 over the entire area as shown in Figure 13d upper face of the light reflective thin film layer 332 in the state formed in sequence the It is formed. 이 포토레지스트 박막은 네거티브형 포토레지스트 박막이 사용된다. The photoresist film is a negative-type photoresist films are used.

이 포토레지스트 박막(331)은 광 반사 박막층(332)의 상면에 상세하게 후술될 광 흡수층 및 광 투과창을 형성하기 위함이다. The photo resist thin film 331 is to form a light absorption layer and the light transmission window to be described later in detail on the upper surface of the light reflective thin film layer (332).

보다 구체적으로, 도 13d에 도시된 바와 같이 광 투과창을 형성하기 위해서 이미 형성된 포토레지스트 박막(331)의 상부에는 패턴 마스크(344)가 얼라인 된다. More specifically, Fig. 13d, the pattern of the upper mask 344, the photoresist previously formed thin film 331 to form a light transmission window is aligned as shown in Fig.

이 패턴 마스크(344)는 포토레지스트 박막(331)의 위치에 따라서 서로 다른 노광량이 도달되도록 하는 역할을 한다. The mask pattern 344 according to the position of the photo resist thin film 331 serves to ensure that a different amount of exposure is reached. 이때, 포토레지스트 박막(331) 중 노광량이 많은 위치는 광 반사 박막층(332) 중 도 9에 도시된 바와 같이 개구부(335)가 형성될 곳이고, 노광량이 적은 위치는 도 4에 도시된 게이트 라인(228) 및 데이터 라인(227)과 대향되는 곳이다. At this time, the photoresist thin film 331 is much the amount of exposure position of a light reflective thin film layer 332, as in shown in Figure 9 is where is an opening 335 is formed, the amount of exposure is less position shown in Figure 4 the gate line 228 and the area where a data line 227 and the counter.

따라서, 이와 같은 패턴 마스크(344)를 매개로 노광 공정이 진행됨에 따라 포토레지스트 박막(331)에는 도 13d에 도시된 바와 같이 광 투과창이 형성될 부분은 완전히 외부에 노출되고, 광 흡수층이 형성될 부분은 부분적으로만 노광이 수행된다. Therefore, this part is light-transmitting window is formed as in the same pattern mask 344, parameters shown in the photo resist thin film 331. In Figure 13d, depending on the progress of the exposure process is completely exposed to the outside, the light absorption layer to be formed part is only partially performed exposure.

이와 같은 상태에서, 포토레지스트 박막(331)은 도 13e에 도시된 바와 같이 에치-백(etch back) 공정에 의해서 전체가 식각 된다. In such a state, the photoresist thin film 331 is etched as shown in Figure 13e - a whole is etched by the back (etch back) process. 이 에치-백 공정이 진행되는 과정에서 포토레지스트 박막(331)에 의하여 가려지지 않는 부분의 광 반사 박막층(332)은 식각 되어 개구창(335)이 형성된다. This etch-back process, the light reflective thin film layer 332 of the portion that is obstructed by the photo resist thin film 331 in the process of progress is etched is formed in the opening window (335).

이하, 개구창(335)이 형성된 광 반사 박막에 새로운 도면번호 330을 부여하기로 하며, "광 반사 박막"이라 명명하기로 한다. Hereinafter, the opening window 335, given a new reference numeral 330, the light reflection film is formed, and will be named as "light reflecting thin film." 이에 따라서 광 반사 박막층(332)의 하부에 위치하던 광 반사/투과 박막(320)은 개구창(335)을 갖는 광 반사 박막(330)에 의하여 외부에 대하여 노출된다. Accordingly the light reflection / transmission films 320 was located below the light reflecting thin film layer 332 is exposed to the outside by the light reflecting thin film 330 having the opening window 335. 한편, 포토레지스트 박막(331)의 에치-백 공정에 의하여 포토레지스트 박막(331)에 가려진 부분 중 광 흡수층이 형성될 부분이 도 13e에 도시된 바와 같이 외부에 대하여 노출된다. On the other hand, picture etch the resist thin film 331, - the part to be the light absorption layer of the part hidden by the photo resist thin film 331 by bag forming process may be exposed to the outside as shown in 13e.

이어서, 도 13f에 도시된 바와 같이 에치-백 공정에 의하여 포토레지스트 박막(331)으로부터 노출된 광 반사 박막(330)에는 광 흡수부인 은 산화막(370)이 형성된다. Then, the degree of etch as shown in 13f - light reflected thin film 330 exposed from the photo resist thin film 331 by the back process, the light absorbing mrs the oxide film 370 is formed. 광 반사 박막(330)의 산화는 오존 또는 은(Ag)만을 선택적으로 산화시키는 케미컬에 의하여 수행된다. Oxidation of the reflecting films 330 is performed by a chemical to selectively oxidize only ozone or silver (Ag).

이처럼 광 반사 박막(330)에 은 산화막(370)이 형성된 상태에서 남은 포토레지스트 박막이 제거된 상태에서 제 2 투명 기판(310)에는 컬러필터(350)가 형성된다. Thus, the light reflecting films 330 are formed, the second color filter 350, transparent substrate 310 in the oxide film 370. The remaining photo resist thin film is formed in a state removed. 이때, 컬러필터(350)는 레드 컬러필터, 그린 컬러필터, 블루 컬러필터로 구성된다. In this case, the color filter 350 is composed of a red color filter, a green color filter, a blue color filter. 본 발명에서는 일실시예로 레드 컬러필터를 형성하는 과정을 설명하기로 한다. According to the present invention will be described the process for forming the red color filter in one embodiment.

이때, 일실시예로 레드 컬러필터(353)를 패터닝하는 공정이 도 13g 내지 도 13i에 도시되어 있다. In this case, the step of patterning a red color filter 353, in one embodiment is shown in Figure 13g through 13i. 먼저, 도 13g에 도시된 바와 같이 제 2 투명 기판(310)의 전면적에 걸쳐 제 1 높이(h1)를 갖는 레드 컬러필터 물질로 레드 컬러필터 박막(353a)을 형성한다. First, also in red color filter material having a first height (h1) throughout the entire area of ​​the second transparent substrate 310 as shown in 13g form a red color filter films (353a). 이때, 레드 컬러필터 박막(353a)은 광을 필터링 하여 레드 파장을 갖는 단색광을 발생시킨다. At this time, the red color filter films (353a) is to filter the light to generate a monochromatic light having a red wavelength. 이때, 레드 컬러필터 물질은 감광성 물질이다. At this time, the red color filter material is a photosensitive material. 또한, 이 레드 컬러필터 물질은 노광 되는 광량이 많을수록 반응성이 적은 네거티브형 감광물질이다. In addition, the red color filter material is the greater the amount of light to be exposed little reactivity negative-type photosensitive material.

이와 같이 레드 컬러필터 물질이 제 2 투명 기판(310)의 전면적에 걸쳐 형성된 상태에서 레드 컬러필터 물질의 상면에는 도 13h에 도시된 바와 같은 패턴 마스크(353b)가 올려진다. Thus, the red color filter material is raised to the second transparent substrate a mask pattern (353b) as shown in Figure 13h, the upper surface of the red color filter material formed in a state over the entire area of ​​310.

이때, 도 13h 및 도 9를 참조하면 패턴 마스크(353b)는 광 투과창이 형성될 A 영역을 통과하는 광량이 가장 작고, A 영역을 제외한 나머지 영역에서는 상대적으로 많은 광이 공급된다. In this case, Fig. 13h and Referring to Figure 9 the pattern mask (353b) is the amount of light passing through the area A is light transmitting window is formed in the smallest and, in the remaining region except for the region A is supplied with a relatively large amount of light.

이와 같은 환경에서 현상이 진행됨으로써 A 영역에서의 레드 컬러필터 박막의 두께는 제 1 두께(h1)로 가장 두껍고, 두께는 일정한 두께를 갖는다. The thickness of the red color filter in a thin film of the developer in the environmental progress as being the region A is the most thick, the thickness of a first thickness (h1) has a constant thickness.

이와 같은 공정은 레드 컬러필터(353)의 인접한 곳에 동일한 과정을 거쳐 A 영역에 근접한 C 영역에 그린 컬러필터(356)를 형성 및 다시 그린 컬러필터의 인접한 곳에 블루 컬러필터(미도시)에 공통적으로 적용된다. Such a process is common to the red color filter 353, adjacent same the through blue color filter for the green color filter 356 in the adjacent region C to the region A is formed, and where the back adjacent to the green color filter process (not shown) where the It shall apply.

이어서, 도 13j에 도시된 바와 같이 컬러필터(350)의 상면에는 다시 평탄한 오버 코팅 박막(355)이 형성되고, 오버 코팅 박막(355)의 상면에는 투명한 도전성 물질인 인듐 틴 옥사이드 또는 인듐 징크 옥사이드 물질로 구성된 제 2 전극(360)이 형성된다. Next, FIG. The color filter 350, the upper surface has again a flat overcoat the thin film 355, the upper surface has a transparent conductive material is indium tin oxide or indium zinc oxide material is formed and, overcoat the thin film 355 as shown in 13j the second electrode 360 ​​is composed is formed.

이와 같은 과정을 거쳐 제작된 제 1 기판(200) 및 제 2 기판(300)은 모두 합착된 상태에서 제 1 기판(200) 및 제 2 기판(300)의 사이에는 액정이 주입되어 액정표시장치가 제조된다. In between the cost through the same process, making the first substrate 200 and second substrate 300 includes a first substrate 200 and second substrate 300 in both the seated state, the liquid crystal is injected into the liquid crystal display device It is prepared.

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 반사형 또는 반사 투과형 액정표시장치에서 시야각 및 휘도 균일성을 향상시키기 위해 필요한 시야각 향상 돌기의 형성 과정에서 발생하는 문제점을 극복할 수 있도록 함은 물론 반사 투과형 액정표시장치의 큰 문제점 중 하나인 휘도 저하 문제를 해결할 수 있다. From what specifically described above, the reflective or also to overcome the problems arising from the formation of a viewing angle improvement projections need to improve the viewing angle and brightness uniformity in the reflection type liquid crystal display as well as the reflection type liquid crystal display It can solve one of the luminance degradation of the biggest problems.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. In the description of the present invention described above it has been described with reference to a preferred embodiment of the invention, the scope of the invention as set forth in the claims which will be described later Those of ordinary skill in the skilled in the art or the art of the art and will be in the range without departing from the described region can be appreciated that various changes and modifications of the present invention.

Claims (9)

  1. 제 1 투명 기판과, 상기 제 1 투명 기판에 매트릭스 형태로 배열된 제 1 전극과, 각각의 상기 제 1 전극에 전원을 공급하는 전원 공급수단을 포함하는 제 1 기판; A first transparent substrate, the first substrate including the first of the first electrode arranged in a matrix form on the first transparent substrate, each of the power supply means for supplying power to the first electrode;
    상기 제 1 투명 기판과 대향하며, 시야각 향상 수단이 형성된 제 2 투명 기판, 상기 제 2 투명기판으로부터 상기 제 1 투명 기판으로 향하는 제 1 광은 투과시키고, 상기 제 1 투명 기판으로부터 상기 제 2 투명기판을 향하는 제 2 광은 상기 제 1 광 방향으로 반사시키는 광 반사/투과 수단, 상기 광 반사/투과 수단의 일부에 일정한 두께로 형성된 컬러필터, 상기 컬러필터가 형성된 상기 제 2 투명 기판의 전면에 형성된 제 2 전극을 포함하는 제 2 기판; The first transparent substrate and the counter, and the second transparent substrate the second transparent substrate, the first light from the second transparent substrate facing the first transparent substrate, a viewing angle improvement means for the formed and transmitting, from the first transparent substrate, toward the second light is formed on the entire surface of the second transparent substrate on which an optical reflection / transmission means, a color filter, the color filter formed at a constant thickness to a portion of the light reflection / transmission means for the first reflected first light direction formed a a second substrate including a second electrode; And
    상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 주입된 액정을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. A reflection / transmission-type liquid crystal display device comprising the liquid crystal injected between the first substrate and the second substrate.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 시야각 향상 수단은 상기 제 1 투명 기판과 마주보는 상기 제 2 투명 기판의 표면에 형성된 시야각 향상용 요철들인 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the viewing angle improvement means has a reflection / transmission-type liquid crystal display device, characterized in that, which are uneven for improving the viewing angle formed on the surface of the second transparent substrate facing the first transparent substrate.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 시야각 향상 수단은 상기 제 2 투명 기판을 덮은 상태에서 표면에 시야각 향상용 요철들이 형성된 유기 절연막인 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the viewing angle improvement means has a reflection / transmission-type liquid crystal display device, characterized in that the second organic insulating film in a state covered with the second transparent substrate is formed to increase a viewing angle for irregularities on the surface.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 광 반사/투과 수단은 상기 제 1 투명 기판 쪽이 상기 제 2 투명 기판 쪽보다 밝을 때에는 상기 제 2 광을 반사시키고, 상기 제 2 투명 기판 쪽이 상기 제 1 투명 기판 쪽보다 밝을 때에는 상기 제 1 광을 투과시키는 광 반사/투과 박막인 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the light reflection / transmission means reflects the second light when the first transparent substrate side brighter than the second transparent substrate side, and the second transparent substrate side of the first transparent substrate side when more bright reflection / transmission-type liquid crystal display device, characterized in that the light reflection / transmission films for transmitting the first light.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 광 반사/투과 박막은 20Å∼ 800Å의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. The method of claim 4, wherein the light reflective / transmissive film is a reflection / transmission-type liquid crystal display device, characterized in that a thickness of 800Å 20Å~.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 광 반사/투과 수단은 상기 제 1 투명 기판 쪽이 상기 제 2 투명 기판 쪽보다 밝을 때에는 상기 제 2 광을 반사시키고, 상기 제 2 투명 기판 쪽이 상기 제 1 투명 기판 쪽보다 밝을 때에는 상기 제 1 광을 투과시키는 광 반사/투과 박막, 상기 광 반사/투과 박막의 일부가 노출되도록 개구된 광 투과 영역 및 상기 광 투과 영역을 감싸며 상기 제 2 광을 반사시키는 광 반사 박막을 포함하며, 상기 컬러필터는 상기 광 투과 영역에 형성된 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the light reflecting / transmitting means reflects the second light when the said first substantially transparent substrate side is light than the second transparent substrate side, and the second transparent substrate side of the first transparent base board side when more bright light reflection / transmission film, the light reflecting films of the optical reflection / transmission part has an opening to expose the light-transmitting of the thin film region and surrounding the light transmitting region reflects the second light which transmits the first optical the color filter, comprising: a reflection / transmission-type liquid crystal display device, characterized in that formed in the light transmission region.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 전원 공급수단은 매트릭스 형태로 상기 제 1 투명 기판에 배치된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터를 구동하기 위한 게이트 라인 및 데이터 라인으로 구성된 신호선으로 구성되며, According to claim 1, wherein said power supply means is composed of a signal line consisting of a gate line and a data line for driving a thin film transistor and the thin-film transistor disposed on said first transparent substrate in a matrix form,
    박막 트랜지스터는 제 1 투명 기판에 제 1 면적으로 형성되며, 제 1 광반사율을 갖는 제 1 메탈 및 상기 제 1 광반사율보다 높은 제 2 광반사율을 갖는 제 2 메탈로 구성된 게이트 전극, 상기 게이트 전극과 절연되도록 형성되며 상기 제 1 면적 보다 작은 제 2 면적으로 형성된 채널층, 상기 채널층에 상호 쇼트 되지 않도록 형성된 소오스 전극 및 드레인 전극으로 구성되며, 상기 게이트 전극에 연결되는 게이트 라인은 투명한 도전성 물질로 구성된 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. Thin film transistors are formed in a first area of ​​the first transparent substrate, a first metal and a gate electrode, the gate electrode consisting of a second metal having a second light reflectance wherein the higher than first light reflectance having light reflectivity and is formed so as to be insulated consisting of the first transparent conductive material first area is configured than as a source electrode and a drain electrode formed mutually not to short a smaller second area of ​​the channel layer, the channel layer is formed, the gate lines connected to said gate electrode a reflection / transmission-type liquid crystal display device, characterized in that.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 메탈은 제 1 광반사율을 갖는 크롬 산화막이고, 상기 제 2 메탈은 제 1 광반사율보다 큰 제 2 광반사율을 갖는 크롬 박막인 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치. The method of claim 7, wherein the first metal has a first and chromium oxide film having a light reflection factor, said second metal is shown the reflection / transmission-type liquid crystal, characterized in that the chromium thin film having a large second optical reflectivity than the first light reflectance Device.
  9. 제 1 투명 기판에 미소 면적 단위로 전원을 공급하는 전원 공급장치를 형성 및 상기 전원 공급장치에 연결되는 투명한 제 1 전극을 형성하여 제 1 기판을 제조하는 단계; Comprising the steps of: forming a transparent first electrode connected to the first transparent substrate, the micro-area unit formed a power supply for supplying power and the power supplied to the device producing the first substrate;
    시야각 향상 수단이 형성된 제 2 투명 기판의 제 1 영역에서는 상기 제 1 투명 기판으로 향하는 제 1 광은 투과시키고 상기 제 1 영역을 감싸는 제 2 영역에서는 상기 제 1 투명 기판으로부터 상기 제 2 투명기판을 향하는 제 2 광을 상기 제 1 광 방향으로 반사시키는 광 반사/투과 수단을 형성, 상기 광 반사/투과 수단의 제 1 영역에 일정한 두께를 갖는 컬러필터를 형성, 상기 컬러필터가 형성된 상기 제 2 투명 기판의 전면에 제 2 전극을 형성하여 제 2 기판을 제조하는 제 2 단계; In the first area of ​​the second transparent substrate, a viewing angle improvement means formed of the first transparent substrate facing the first light is transmitted to and surrounding the first region, the second region from the first transparent substrate facing a second transparent substrate, the second transparent substrate, a light reflection / permeation means formed, a color filter having a predetermined thickness on the first region of the light reflection / transmission means, the color filter for reflecting second light with the first light direction is formed a second step to form a second electrode in the front of preparing a second substrate;
    상기 제 1 기판 및 제 2 기판을 합착하는 단계; The step of laminating the first substrate and the second substrate; And
    합착된 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 액정을 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사/투과형 액정표시장치의 제조 방법. The method of the reflection / transmission-type liquid crystal display device comprising the step of injecting the liquid crystal between the laminating the first substrate and the second substrate.
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