KR100782540B1 - Apparatus for conveying substrate - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치를 포함하는 기판 처리 장치의 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus including a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일 실시에에 따른 기판 이송 장치의 개략적인 사시도이다. 2 is a schematic perspective view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 도 2의 기판 이송 장치의 종단면도이다. 3 is a longitudinal cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG. 2.
도 4는 제1 엔드 이펙터와 제2 엔드 이펙터의 형상을 설명하기 위한 도면이다.4 is a view for explaining the shapes of the first end effector and the second end effector.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 기판 이송 단계를 나타낸 평면도들이다. 5 and 6 are plan views illustrating the substrate transfer step of the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 7은 도 6의 단계에서의 종단면도이다.FIG. 7 is a longitudinal cross-sectional view at the stage of FIG. 6. FIG.
도 8은 도 7에 후속하는 기판 이송 단계를 나타낸 종단면도이다. 8 is a longitudinal cross-sectional view illustrating a substrate transfer step subsequent to FIG. 7.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 이송 장치를 설명하기 위한 구성도이다. 9 is a configuration diagram illustrating a substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
100: 기판 로드부 200: 기판 이송 장치100: substrate load portion 200: substrate transfer device
210: 챔버 220, 230, 250: 직선 구동 장치210:
222, 232: 수직 구동 장치 225, 235, 255, 256: 로봇암222, 232:
225E, 235E, 255E, 256E: 엔드 이펙터225E, 235E, 255E, 256E: End Effector
300: 프로세스 모듈300: process module
본 발명은 기판 이송 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 웨이퍼의 처리 장치에 적용되는 기판 이송 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer apparatus, and more particularly, to a substrate transfer apparatus applied to a processing apparatus for a semiconductor wafer.
반도체 소자나 디스플레이 장치의 제조는 증착, 식각, 세정, 에칭 등과 같은 다양한 공정을 요구한다. 하나의 반도체 소자 또는 디스플레이 장치가 완성되기 위해서는 프로세스 모듈에서 상기와 같은 다양한 공정이 수차례에 걸쳐 이루어진다. Fabrication of semiconductor devices or display devices requires a variety of processes, such as deposition, etching, cleaning, etching, and the like. In order to complete one semiconductor device or display device, various processes as described above may be performed several times in a process module.
아무리 집약적인 반도체 소자 또는 디스플레이 장치라도 기판은 서로 다른 2 이상의 프로세스 모듈로 운반되어야 하며, 이를 위하여 제조 설비는 하나 또는 다수개의 기판 이송 장치를 구비한다. No matter how intensive the semiconductor device or the display device, the substrate must be carried in two or more different process modules, for which the manufacturing facility is provided with one or more substrate transfer devices.
효율적인 기판의 이송을 위하여, 종래에 선호되었던 기판 이송 장치의 모델은 클러스터 툴이다. 클러스터 툴은 프로세스 모듈에 인접하게 트랜스퍼 모듈을 구비한다. 트랜스퍼 모듈에는 진공 로봇이 구비되어 각 프로세스 모듈로 기판을 공급한다. For efficient substrate transfer, a model of the substrate transfer apparatus that has been preferred in the past is a cluster tool. The cluster tool has a transfer module adjacent to the process module. The transfer module is equipped with a vacuum robot to supply a substrate to each process module.
그런데, 이와 같은 클러스트 툴은 프로세스 모듈의 공간적 제약, 설비 단가 등의 이유로 한정된 개수의 진공 로봇이 기판의 반입과 반출을 모두 담당하며, 다수개의 프로세스 모듈을 관할하기도 한다. 그러나, 진공 로봇은 기판의 반입 및 반 출 중 어느 하나만을 수행하기 때문에, 기판 반입과 반출은 각각 별개의 이송 공정이 되어 전체 공정 시간에 합산된다. 이는 전체 공정 시간의 증가를 유발한다. However, in such a cluster tool, a limited number of vacuum robots are responsible for both the loading and unloading of the substrate due to the space constraint of the process module, the unit cost of the process module, and the plurality of process modules. However, since the vacuum robot performs only one of the loading and unloading of the substrate, the loading and unloading of the substrate becomes a separate transfer process, and are added to the total process time. This causes an increase in the overall process time.
또, 어느 하나의 프로세스 모듈에서의 프로세스 속도가 느릴 경우 다른 프로세스 모듈에서 프로세스가 끝나더라도 기판은 이송되지 못하고 대기하여야 하는 병목 현상이 발생할 수 있다. In addition, when the process speed is slow in one process module, even if the process is finished in another process module, a bottleneck may occur in which the substrate cannot be transferred and wait.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 공정 효율이 개선된 기판 이송 장치를 제공하고자 하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus with improved process efficiency.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치는 챔버, 상기 챔버의 바닥면에 상기 챔버의 일측을 따라 설치된 제1 사이드 직선 구동 장치, 및 상기 제1 사이드 직선 구동 장치를 따라 직선 운동이 가능하고, 상하 방향으로 직선 운동할 수 있도록 설치된 제1 사이드 로봇암을 포함하는 제1 사이드 기판 이송부, 상기 챔버의 바닥면에 상기 챔버의 상기 일측에 대향하는 타측을 따라 설치된 제2 사이드 직선 구동 장치, 및 상기 제2 사이드 직선 구동 장치를 따라 직선 운동이 가능하고, 상하 방향으로 직선 운동할 수 있도록 설치된 제2 사이드 로봇암을 포함하는 제2 사이드 기판 이송부, 및 상기 챔버의 바닥면에 상 기 제1 및 제2 사이드 직선 구동 장치와 평행하게 상기 챔버의 중앙을 가로 질러 설치된 중앙 직선 구동 장치, 및 상기 중앙 직선 구동 장치를 따라 직선 운동이 가능하도록 설치된 제1 및 제2 중앙 로봇암을 포함하는 중앙 기판 이송부를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer apparatus including a chamber, a first side linear drive device installed along one side of the chamber on a bottom surface of the chamber, and the first side linear drive device. A first side substrate transfer part including a first side robot arm installed to linearly move and linearly move upward and downward, and a second side disposed along the other side of the chamber opposite to the one side of the chamber; A second side substrate transfer part including a side linear drive device, and a second side robot arm installed to perform linear motion along the second side linear drive device and to linearly move in the vertical direction, and a bottom surface of the chamber A central linear drive device installed across the center of the chamber in parallel with the first and second side linear drive devices; A central transfer unit to the substrate including the first and second center robot arm is installed, the linear motion to be along the central linear drive device.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 도면에서 층 및 영역들의 크기 및 상대적인 크기는 설명의 명료성을 위해 과장된 것일 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. In the drawings, the sizes and relative sizes of layers and regions may be exaggerated for clarity. Like reference numerals refer to like elements throughout.
본 발명에 따른 기판 이송 장치에 의해 이송되는 기판은 예를 들어, 반도체 웨이퍼, 유리 기판이나 플라스틱 기판일 수 있다. 반도체 웨이퍼는 DRAM, SRAM, FRAM, 플래쉬 메모리 등과 같은 반도체 소자의 제조 공정에 적용된다. 유리 기판이나 플라스틱 기판은 LCD(Liquid crystal display), 유기 EL 표시 장치, PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emitting Display) 등과 같은 디스플레이에 적용된다. The substrate to be conveyed by the substrate transfer device according to the present invention may be, for example, a semiconductor wafer, a glass substrate or a plastic substrate. Semiconductor wafers are applied to the manufacturing process of semiconductor devices such as DRAM, SRAM, FRAM, flash memory and the like. Glass substrates and plastic substrates are applied to displays such as liquid crystal displays (LCDs), organic EL displays, plasma display panels (PDPs), field emitting displays (FEDs), and the like.
본 발명에 따른 기판 이송 장치는 상기한 반도체 웨이퍼, 유리 기판, 플라스 틱 기판 등을 가공, 처리하기 위하여 이송하는 데에 적용될 수 있다. 예를 들면, 사진 공정, 식각 공정, 열처리 공정, 박막 공정, 세정 공정 등을 위하여 기판을 각각의 프로세스 모듈로 이송하는 데에 적용될 수 있을 것이다. The substrate transfer apparatus according to the present invention can be applied to transfer for processing and processing the above-described semiconductor wafer, glass substrate, plastic substrate and the like. For example, it may be applied to transfer substrates to respective process modules for a photo process, an etching process, a heat treatment process, a thin film process, a cleaning process, and the like.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 대해 설명한다. 이하의 실시예에서는 이송되는 기판으로서 반도체 웨이퍼가 적용된 경우가 예시될 것이다. 그러나, 본 발명이 이하의 예시에 제한되지 않음은 자명하다.Hereinafter, a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following embodiment, the case where the semiconductor wafer is applied as the substrate to be transferred will be illustrated. However, it is apparent that the present invention is not limited to the following examples.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치를 포함하는 기판 처리 장치의 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus including a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 기판 로드부(100), 기판 이송 장치(200) 및 프로세스 모듈(300)을 포함한다. Referring to FIG. 1, the
기판 로드부(100)는 프로세스 처리 대상이 되는 기판(w)을 제공하고, 프로세스 처리된 기판(w)을 회수한다. 기판 로드부(100)에는 예를 들어, 적어도 하나의 로봇암(110)이 구비될 수 있다. 기판 로드부(100)에 구비된 로봇암(110)은 회전 가능하도록 설치되며, 프로세스 이동 라인을 따라 이동하는 기판(w)을 로딩하여 인접하는 프로세스 모듈(300) 측으로 제공한다. 또한, 프로세스 모듈(300)로부터 프로세스 처리되어 회수된 기판(w)을 로딩하여 다시 프로세스 이동 라인 측으로 제공한다. 그러나, 이에 제한되지 않으며, 본 발명의 변형예는 기판 로드부가 로봇암을 구비하지 않거나, 기판 로드부 자체가 생략된 경우를 포함한다.The
기판 이송 장치(200)는 기판 로드부(100)와 프로세스 모듈(300) 사이에서 기 판(w)의 전달을 담당한다. 기판 이송 장치(200)는 적어도 하나의 기판 이송부를 포함하며, 기판 이송부에는 직선 구동 장치(220, 230, 250), 직선 구동 장치(220, 230, 250)를 따라 직선 운동이 가능한 로봇암(225, 235, 255, 256)이 구비된다. 기판 이송 장치(200)에 대한 더욱 상세한 설명은 후술된다. The
프로세스 모듈(300)은 기판 이송 장치(200)로부터 전달된 기판(w)을 프로세스 처리하고, 이를 다시 기판 이송 장치(200) 측으로 재전달한다. 프로세스 모듈(300)은 내부에 기판(w)의 위치를 상하 방향으로 조절하는 리프트부(미도시)를 구비할 수 있다. 따라서, 프로세스 모듈(300) 내에서 프로세스 처리 전 및 처리 후에 기판(w)의 수직 위치가 조절될 수 있다. 예를 들면, 리프트부의 제어에 의해 프로세스 처리 전에는 기판(w)이 상대적으로 아래쪽에 위치하지만, 프로세스 처리 후에는 기판(w)이 상대적으로 위쪽에 위치할 수 있다.The
이하, 도 2 내지 도 4를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치를 더욱 상세히 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시에에 따른 기판 이송 장치의 개략적인 사시도이다. 도 3은 도 2의 기판 이송 장치의 종단면도이다. 도 4는 제1 엔드 이펙터와 제2 엔드 이펙터의 형상을 설명하기 위한 도면이다. Hereinafter, a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 2 to 4. 2 is a schematic perspective view of a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a longitudinal cross-sectional view of the substrate transfer apparatus of FIG. 2. 4 is a view for explaining the shapes of the first end effector and the second end effector.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 기판 이송 장치(200)는 전체적으로 장방형 챔버 형상을 갖는다. 기판(w)의 이송 방향 측에 위치하는 챔버(210)의 측벽에는 기판(w)을 챔버(210) 내부로 반입하고, 챔버(210) 내의 기판(w)을 외부로 반출하는 도어(211)가 구비될 수 있다. As shown in FIGS. 2 and 3, the
기판 이송 장치(200)의 챔버(210)의 내부에는 제1 사이드 기판 이송부(241), 제2 사이드 기판 이송부(242), 및 중앙 기판 이송부(260)가 설치되어 있다. 기판 이송부(241, 242, 260)는 챔버(210)의 바닥면에 고정 설치되어 있다. The first side
제1 사이드 기판 이송부(241)는 제1 사이드 직선 구동 장치(220)와, 제1 사이드 직선 구동 장치(220)에 설치된 제1 수직 구동 장치(222), 및 제1 수직 구동 장치(222)에 설치된 제1 사이드 로봇암(225)을 포함한다.The first side
제1 사이드 직선 구동 장치(220)는 챔버(210) 바닥면에 챔버(210)의 일측을 따라 연장되어 설치되어 있다. The first side
제1 사이드 직선 구동 장치(220)에는 수직 방향으로 직선 운동을 구동할 수 있는 제1 수직 구동 장치(222)가 설치되어 있다. 제1 수직 구동 장치(222)는 제1 사이드 직선 구동 장치(220)의 구동에 의해 챔버(210)의 일측을 따라 직선 운동할 수 있다. The first side
제1 사이드 직선 구동 장치(220) 및 제1 수직 구동 장치(222)는 각각 리니어 모터, 실린더, 볼스크류, 또는 벨트를 포함할 수 있다. 이중 챔버 내부의 오염을 감소시키기 위해 리니어 모터나 실린더가 선호될 수 있다. 그러나, 이에 제한되는 것은 아니다.The first side
제1 수직 구동 장치(222)에는 선단에 기판을 안착할 수 있는 제1 엔드 이펙터(end effector)(225E)를 구비하는 제1 사이드 로봇암(225)이 설치되어 있다. 제1 사이드 로봇암(225)은 챔버(210)의 중앙부를 향하여 비스듬하게 또는 수직하게 뻗어 있다. 제1 사이드 로봇암(225)은 제1 수직 구동 장치(222)를 따라 수직 방향으로 이동될 수 있다. 제1 수직 구동 장치(222)는 상술한 바와 같이 제1 사이드 직선 구동 장치(220)에 설치되어 있기 때문에, 제1 사이드 직선 구동 장치(220)와 제1 수직 구동 장치(222)를 선택적 또는 모두 구동하게 되면, 제1 사이드 로봇암(225)은 챔버(210)의 일측을 따라가는 직선 운동과 수직 운동을 선택적 또는 동시에 할 수 있다. The first
제2 사이드 기판 이송부(242)의 경우에도 제1 사이드 기판 이송부(241)와 실질적으로 동일한 구성을 갖는다. 즉, 제2 사이드 기판 이송부(242)는 챔버(210)의 타측을 따라 제1 사이드 직선 구동 장치(220)와 평행하게 연장되어 있는 제2 사이드 직선 구동 장치(230), 제2 사이드 직선 구동 장치(230)에 설치된 제2 수직 구동 장치(232), 및 제2 수직 구동 장치(232)에 설치된 제2 사이드 로봇암(235)을 포함한다. 그리고, 제2 사이드 로봇암(235)은 선단에 제1 엔드 이펙터(235E)를 구비하는 점도 유사하다. The second side
제2 사이드 기판 이송부(242)의 제2 사이드 로봇암(235)은 제1 사이드 기판 이송부(241)와는 별도로 독립적으로 직선 구동 및 수직 구동된다. 따라서, 제2 사이드 로봇암(235)은 제1 사이드 로봇암(225)과는 별도의 높이 및 직선상 위치를 가질 수 있다. 예를 들면, 제1 사이드 로봇암(225)은 대체로 챔버(210)의 하부 영역에 위치하면서 수직 이동할 수 있고, 제2 사이드 로봇암(235)은 대체로 챔버(210)의 상부 영역에 위치하면서 수직 이동할 수 있도록 설정될 수 있다. 특히, 프로세스 모듈에 구비된 스테이지가 프로세스 이전에는 하부에 위치하지만, 프로세스 이후에는 리프트부에 의해 상부로 상승되는 경우, 제1 사이드 로봇암(225)은 프로세스 모듈에 기판을 투입하는 것을 전담하게 하고, 제2 사이드 로봇암(235)은 프로세 스된 기판을 회수하는 것을 전담하게 함으로써, 공정상 효율을 증진시킬 수 있다. 이와 같이 제1 사이드 로봇암(225)과 제2 사이드 로봇암(235)의 역할을 분담하게 되면, 이들의 수직 이동 거리가 단축될 수 있어, 공정 속도가 증가할 수 있을 것이다.The second
상술한 제1 및 제2 사이드 기판 이송부(241, 242)와는 달리 중앙 기판 이송부(260)는 수직 방향 운동을 제공하지 않는 등, 이들과 구조적, 기능적 차이가 있다. Unlike the first and second side
더욱 상세히 설명하면, 중앙 기판 이송부(260)는 중앙 직선 구동 장치(250), 중앙 직선 구동 장치에 설치된 수직 지지대(252) 및 수직 지지대(252)에 고정 설치된 제1 및 제2 중앙 로봇암(255, 256)을 포함한다. In more detail, the central
중앙 직선 구동 장치(250)는 챔버(210)의 바닥면에 설치되며, 챔버(210)의 중앙을 가로질러 제1 및 제2 사이드 직선 구동 장치(220, 230)와 평행하게 연장되어 있다. 중앙 직선 구동 장치(250)에는 수직 지지대(250)가 설치되어 있다. 수직 지지대(250)는 중앙 직선 구동 장치(250)의 구동에 의해 직선 운동이 가능하지만, 그 자체로 수직 구동을 제공하지는 않는 점이 수직 구동 장치(222, 232)와 다르다. The central
수직 지지대(250)에는 제1 및 제2 중앙 로봇암(255, 256)이 고정 설치되어, 수직 지지대(250)의 직선 운동에 따라 함께 직선 운동을 한다. 제1 중앙 로봇암(255)은 제1 사이드 기판 이송부(241) 측으로 비스듬하게 또는 수직하게 뻗어 있다. 제2 중앙 로봇암(256)은 제2 사이드 기판 이송부(242) 측으로 비스듬하게 또는 수직으로 뻗어 있다. The first and second
수직 지지대(250)에 고정 설치되는 제1 중앙 로봇암(255)과 제2 중앙 로봇암(256)은 챔버(210)의 바닥면으로부터 서로 다른 높이를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 중앙 로봇암(255)은 챔버(210)의 하부에 위치하도록 상대적으로 아래쪽에 고정 설치되고, 제2 중앙 로봇암(256)은 챔버(210)의 상부에 위치하도록 상대적으로 위쪽에 고정 설치될 수 있다.The first
한편, 제1 및 제2 중앙 로봇암(255, 256)의 높이에 따라 상술한 제1 사이드 로봇암(225) 및 제2 사이드 로봇암(235)의 초기 높이가 결정될 수 있다. 예를 들면, 제1 사이드 로봇암(225)의 초기 높이는 제1 중앙 로봇암(255)의 높이보다 낮고, 제2 사이드 로봇암(235)의 초기 높이는 제2 중앙 로봇암(256)의 높이보다 낮도록 설정될 수 있다.Meanwhile, initial heights of the first
제1 중앙 로봇암(255)과 제2 중앙 로봇암(256)의 선단에는 각각 동일한 형상의 제2 엔드 이펙터(255E, 256E)가 구비되어 있다. 도 4에 도시된 바와 같이 제2 엔드 이펙터(255E, 256E)는 제1 엔드 이펙터(225E, 235E)와 맞물리는 형상을 가질 수 있다. 따라서, 제1 엔드 이펙터(225E, 235E)와 제2 엔드 이펙터(255E, 256E)는 서로 오버랩된 상태에서 서로에게 부딪히지 않은 채 수직 방향으로 교차될 수 있다. At the front end of the first
직선 구동 장치(220, 230, 250)의 상대적인 운동에 따라서는 제1 사이드 로봇암(225)의 제1 엔드 이펙트(225E)과 제1 중앙 로봇암(255)의 제2 엔드 이펙트(255E) 영역이 서로 다른 평면 상에서 오버랩될 수 있다. 여기서 제1 엔드 이펙트(225E)와 제2 엔드 이펙트(255E)가 오버랩된다고 함은, 상술한 바와 같이 제1 엔 드 이펙트(225E)와 제2 엔드 이펙트(255E)의 맞물리는 형상에 의해 엄밀하게는 오버랩되는 부분이 없을 경우에도 제1 엔드 이펙트(225E)의 영역과 제2 엔드 이펙터(255E)의 영역이 대체로 오버랩되었다면 오버랩된 것으로 해석되어야 한다. According to the relative movement of the
또한, 서로 다른 평면 상에서 오버랩된다고 함은 상술한 바와 같이 제1 사이드 로봇암(225)과 제1 중앙 로봇암(255)의 높이가 다른 경우에 기인되는 것이며, 만약 제1 사이드 로봇암(225)의 수직 이동에 따라서는 동일 평면 상에서 오버랩될 수도 있음은 물론이다. In addition, overlapping on different planes is caused when the heights of the first
한편, 후에 다시 설명되겠지만, 제1 사이드 로봇암(225)을 더욱 수직 이동 시키면 제1 사이드 로봇암(225)의 제1 엔드 이펙트(225E)와 제1 중앙 로봇암(255)의 제2 엔드 이펙트(255E)가 교차되면서 기판이 로딩되는 엔드 이펙트가 바뀔 수도 있다. 예를 들어 제1 중앙 로봇암(255)의 제2 엔드 이펙트(255E)에 기판이 로딩되어 있는 상태에서 제1 사이드 로봇암(225)의 수직 이동을 통해 제1 사이드 로봇암(225)의 제1 엔드 이펙트(225E)을 제1 중앙 로봇암(255)의 제2 엔드 이펙트(255E)와 교차시키는 경우, 제1 중앙 로봇암(255)의 제2 엔드 이펙트(255E)에 로딩된 기판이 제1 사이드 로봇암(225)의 제1 엔드 이펙트(225E)로 전달될 수 있다. Meanwhile, as will be described later, when the first
이상에서 설명한 바와 동일한 관계가 제2 사이드 로봇암(235)의 제1 엔드 이펙트(235E)와 제2 중앙 로봇암(256)의 제2 엔드 이펙트(256E) 간에도 성립한다. The same relationship as described above also holds between the
이하, 도 5 내지 도 8을 참조하여 상기한 바와 같은 기판 이송 장치의 동작에 대해 설명하기로 한다. 이하에서는 제1 사이드 로봇암이 챔버의 하부에 위치하여 프로세스 모듈로 프로세스 대상이 되는 기판을 제공하는 역할을 담당하고, 제2 사이드 로봇암이 상부에 위치하여 프로세스 모듈로부터 프로세스된 기판을 회수하는 역할을 담당하는 경우를 예로 하여 설명하기로 한다. 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 기판 이송 단계를 나타낸 평면도들이다. 도 7은 도 6의 단계에서의 종단면도이고, 도 8은 도 7에 후속하는 기판 이송 단계를 나타낸 종단면도이다. Hereinafter, the operation of the substrate transfer apparatus as described above will be described with reference to FIGS. 5 to 8. Hereinafter, the first side robot arm is located at the bottom of the chamber to serve as a process module to provide a substrate to be processed, and the second side robot arm is located at the top to recover the processed substrate from the process module. This case will be described as an example. 5 and 6 are plan views illustrating the substrate transfer step of the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 7 is a longitudinal cross-sectional view at the stage of FIG. 6, and FIG. 8 is a longitudinal cross-sectional view illustrating a substrate transfer step subsequent to FIG. 7.
도 5는 제1 사이드 로봇암(225)은 프로세스 대상 기판을 프로세스 모듈(300) 측으로 언로딩하였고, 제2 사이드 로봇암(235)은 프로세스 모듈(300) 측으로부터 프로세스된 기판(w')을 로딩한 상태이며, 또한, 제1 중앙 로봇암(255)은 프로세스 대상 기판(w)을 기판 로드부(100) 측으로부터 다시 로딩하였고, 제2 중앙 로봇암(256)은 프로세스된 기판을 기판 로드부(100) 측으로 언로딩한 상태를 나타낸다. 5 shows that the first
이어서, 도 6 및 도 7을 참조하면, 중앙 직선 구동 장치(250)를 구동하여 대상 기판(w)을 로딩한 제1 중앙 로봇암(255) 및 제2 엔드 이펙터(256E)가 비어 있는 제2 중앙 로봇암(256)을 프로세스 모듈(300) 측으로 이동시킨다. 동시에, 제1 사이드 직선 구동 장치(220)와 제2 사이드 직선 구동 장치(230)를 각각 구동하여 제1 및 제2 사이드 로봇암(225, 226)을 기판 로드부(100) 측으로 이동시키되, 제1 사이드 로봇암(225)의 제1 엔드 이펙터(225E)와 제2 사이드 로봇암(235)의 제1 엔드 이펙터(235E)가 각각 제1 중앙 로봇암(255)의 제2 엔드 이펙터(255E) 및 제2 중앙 로봇암(256)의 제2 엔드 이펙터(256E)와 서로 다른 평면에서 오버랩되는 지점에서 정지시킨다. 6 and 7, the second
이어서, 도 8을 참조하면, 제1 수직 구동 장치(222)를 구동하여 제1 사이드 로봇암(225)을 상승시킨다. 그러면, 제1 사이드 로봇암(225)의 제1 엔드 이펙터(225E)가 제1 중앙 로봇암(255)의 제2 엔드 이펙터(255E)와 맞물리며 교차하면서 제2 엔드 이펙터(255E)에 로딩되어 있던 프로세스 대상 기판(w)이 제1 사이드 로봇암(225)의 제1 엔드 이펙터(225E) 측으로 전달된다. Subsequently, referring to FIG. 8, the first
또한, 동시에, 제2 수직 구동 장치(232)를 구동하여 제2 사이드 로봇암(235)를 하강시킨다. 그러면, 제2 사이드 로봇암(235)의 제1 엔드 이펙터(235E)가 제2 중앙 로봇암(256)의 제2 엔드 이펙터(256E)와 맞물리며 교차하면서 제1 엔드 이펙터(235E)에 로딩되어 있던 프로세스된 기판(w')이 제2 중앙 로봇암(256)의 제2 엔드 이펙터(265E) 측으로 전달된다.At the same time, the second
이후, 제1 및 제2 사이드 직선 구동 장치(220, 230)를 구동시켜 제1 및 제2 사이드 로봇암(225, 235)을 프로세스 모듈(300) 측으로 이동시키고, 중앙 직선 구동 장치(250)를 구동시켜 제1 및 제2 중앙 로봇암(255, 256)을 기판 로드부(100) 측으로 이동시킨다. 이어서, 제1 및 제2 수직 구동 장치(222, 232)를 구동시켜 제1 및 제2 사이드 로봇암(225, 235)을 원래의 높이대로 조절한다. 물론 이와 같은 높이의 조절은 기판의 로딩/언로딩 이후에 이루어질 수도 있다. Thereafter, the first and second side
이후, 프로세스 모듈(300) 측에서는 제1 사이드 로봇암(225)에 로딩되어 있던 프로세스 대상 기판(w)이 언로딩되고, 프로세스된 기판(w')이 프로세스 모듈(300)로부터 제2 사이드 로봇암(235) 측으로 로딩된다. 또한, 기판 로드부(100) 측에서는 제2 중앙 로봇암(256)에 로딩된 기판(w')이 기판 로드부(100)로 언로딩되고, 기판 로드부(100)에 대기중인 프로세스 대상 기판(w)이 제1 중앙 로봇암(255) 에 로딩된다. 즉, 도 5에 도시된 바와 같은 단계로 회귀하며, 동일한 공정이 반복된다. Subsequently, on the
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 의하면, 프로세스 대상 기판의 제공 및 프로세스된 기판의 회수가 동시에 이루어질 수 있음을 알 수 있다. 따라서, 공정 속도가 증가하고 공정 효율이 개선할 수 있다. As described above, according to the substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, it can be seen that the provision of the process target substrate and the recovery of the processed substrate may be simultaneously performed. Thus, process speed can be increased and process efficiency can be improved.
또, 상기한 기판 이송 장치에서 제1 및 제2 사이드 로봇암은 전체 챔버 중, 프로세스 모듈에 인접한 영역에서만 왕복 운동을 할 뿐이며, 제1 및 제2 중앙 로봇암은 전체 챔버 중, 기판 로드부에 인접한 영역에서만 왕복 운동을 할 뿐이다. 다시 말해, 동시에 이동되는 로봇암들의 각 이동 거리가 절반으로 줄어들게 되므로 공정 속도가 더욱 빨라질 수 있다. In the above substrate transfer apparatus, the first and second side robot arms only reciprocate only in an area adjacent to the process module in the entire chamber, and the first and second central robot arms are placed in the substrate rod part of the entire chamber. It only reciprocates in the adjacent area. In other words, because the moving distance of the robot arms moving simultaneously is reduced by half, the process speed can be further increased.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 이송 장치를 설명하기 위한 구성도이다. 9 is a configuration diagram illustrating a substrate transfer apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 9를 참조하면, 본 실시예에 따른 기판 이송 장치는 각 로봇암(225', 235', 255', 256')이 듀얼 엔드 이펙터(225E', 235E', 255E', 256E')를 구비하는 점이 도 1의 실시예와 다르다. 듀얼 엔드 이펙터(225E', 235E', 255E', 256E')는 동시에 2개의 기판을 이송할 수 있기 때문에, 공정 속도가 더욱 개선될 수 있다. Referring to FIG. 9, in the substrate transfer apparatus according to the present embodiment, each
이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.As mentioned above, embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the above embodiments, but can be manufactured in various forms, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. Those skilled in the art will appreciate that the present invention may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.
상술한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치에 의하면, 프로세스 대상 기판의 제공 및 프로세스된 기판의 회수가 동시에 이루어지므로, 공정 속도가 증가한다. 또, 제1 및 제2 사이드 로봇암은 전체 챔버 중, 프로세스 모듈에 인접한 영역에서만 왕복 운동을 할 뿐이며, 제1 및 제2 중앙 로봇암은 전체 챔버 중, 기판 로드부에 인접한 영역에서만 왕복 운동을 할 뿐이다. 즉, 동시에 이동되는 로봇암들의 각 이동 거리가 절반으로 줄어들게 되므로 공정 속도가 더욱 빨라지며, 공정 효율이 개선될 수 있다.As described above, according to the substrate transfer apparatus according to the exemplary embodiment of the present invention, since the provision of the process target substrate and the recovery of the processed substrate are simultaneously performed, the process speed is increased. In addition, the first and second side robot arms reciprocate only in the region adjacent to the process module in the entire chamber, and the first and second central robot arms reciprocate only in the region adjacent to the substrate rod in the entire chamber. I just do it. That is, since each movement distance of the robot arms moved simultaneously is reduced by half, the process speed is further increased, and the process efficiency can be improved.
Claims (9)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060126990A KR100782540B1 (en) | 2006-12-13 | 2006-12-13 | Apparatus for conveying substrate |
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KR1020060126990A KR100782540B1 (en) | 2006-12-13 | 2006-12-13 | Apparatus for conveying substrate |
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Citations (2)
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JPH11238775A (en) | 1998-02-20 | 1999-08-31 | Hirata Corp | Robot apparatus |
US6464789B1 (en) | 1999-06-11 | 2002-10-15 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
-
2006
- 2006-12-13 KR KR1020060126990A patent/KR100782540B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH11238775A (en) | 1998-02-20 | 1999-08-31 | Hirata Corp | Robot apparatus |
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