KR100747429B1 - Organic light emitting diode display device - Google Patents

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KR100747429B1
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이정훈
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주식회사 대우일렉트로닉스
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Abstract

An OLED(Organic Light Emitting Diode) display device is provided to perform an encapsulation process without a UV mask by forming an upper electrode layer to have a wider area than an organic light emitting layer. An OLED display device includes a substrate(110), a lower electrode layer(120), an insulating film(130), a separator(140), an organic light emitting layer(150), an upper electrode layer(160), and an encapsulation cap(170). The lower electrode layer(120) is formed on the substrate(110) in a stripe pattern extended in one direction. The insulating film(130) is formed on the lower electrode layer(120) to define a pixel area by exposing a part of the lower electrode layer(120). The separator(140) is formed on the insulating film(130), and crosses vertically the lower electrode layer(120). The organic light emitting layer(150) is formed on the exposed lower electrode layer(120) of the pixel area. The upper electrode layer(160) is formed on the organic light emitting layer(150), has a wider area than the organic light emitting layer(150), and has a thickness through which ultraviolet rays do not pass. The encapsulation cap(170) is formed on the substrate(110), and encapsulates the substrate(110).

Description

오엘이디 디스플레이 소자{Organic light emitting diode display device}OLED display device {Organic light emitting diode display device}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 오엘이디 디스플레이 소자를 설명하기 위해 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating an LED display device according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 "A" 부분을 확대 도시한 평면도이다.FIG. 2 is an enlarged plan view of a portion “A” of FIG. 1.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

110: 기판 120: 하부전극층110: substrate 120: lower electrode layer

130: 절연막 140: 격벽130: insulating film 140: partition wall

150: 발광유기물층 160: 상부전극층150: light emitting organic layer 160: upper electrode layer

170: 봉지캡 180: 실런트170: sealing cap 180: sealant

본 발명은 오엘이디 디스플레이 소자에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자외선(UV) 마스크를 사용하지 않고서도 봉지 공정을 수행할 수 있도록 함으로써, 고비용의 마스크 제작비용을 절약할 수 있을 뿐만 아니라, 오엘이디 소자의 모델이 바뀔 때마다 마스크를 교체할 필요가 없는 오엘이디 디스플레이 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an OLED display device, and more particularly, by allowing the encapsulation process to be performed without using an ultraviolet (UV) mask, not only can a cost saving of mask manufacturing cost but also an OLED display device It is related to an LED display device that does not need to replace the mask every time the model of the device changes.

일반적으로, 오엘이디(OLED: Organic Light Emitting Diode)는 낮은 전압에서 구동이 가능하고 박형화, 광시야각, 빠른 응답속도 등 LCD에서 문제로 지적되고 있는 결점을 해소할 수 있으며, 다른 디스플레이 소자에 비해 중형 이하에서는 TFT-LCD와 동등하거나 그 이상의 화질을 가질 수 있다는 점과 제조 공정이 단순하여 향후 가격 경쟁에서 유리하다는 등의 장점을 가진 차세대 디스플레이로 주목받고 있다.In general, organic light emitting diodes (OLEDs) can be driven at low voltages and can solve the drawbacks of LCDs such as thinning, wide viewing angles, and fast response speeds. In the following, it is attracting attention as a next-generation display having the advantages of having an image quality equal to or higher than that of a TFT-LCD and having a simple manufacturing process to be advantageous in future price competition.

이러한 오엘이디는 투명 유리 기판 상에 양전극으로서 ITO 투명 전극 패턴이 형성되어 있는 형태를 가진 하판과 기판 상에 음전극으로서 금속 전극이 형성되어 있는 상판 사이의 공간에 유기 발광성 소재가 형성되어, 투명 전극과 금속 전극 사이에 소정의 전압이 인가될 때 유기 발광성 소재에 전류가 흐르면서 빛을 발광하는 성질을 이용하는 디스플레이 장치이다.The OLED is formed of an organic light emitting material in a space between a lower plate having a form in which an ITO transparent electrode pattern is formed as a positive electrode on a transparent glass substrate and an upper plate in which a metal electrode is formed as a negative electrode on a substrate, thereby forming a transparent electrode and a transparent electrode. A display device using a property that emits light while a current flows through an organic light emitting material when a predetermined voltage is applied between metal electrodes.

이와 같은 오엘이디는 발광에 사용되는 유기물이 온도 및 습도에 취약하여 소자의 제작이 완성된 후에 이를 금속이나 유리로 된 캡(cap)을 이용하여 전체 소자를 캐핑해주는 것이 필요한데, 이를 봉지(encapsulation) 공정이라고 한다. 따라서, 신뢰성 있는 오엘이디 소자를 제조하기 위해서는 봉지(encapsulation) 공정이 필수적이라고 할 수 있다.The OLED is required to cap the entire device using a metal or glass cap after the fabrication of the device is completed because the organic material used for light emission is vulnerable to temperature and humidity. Encapsulation It is called fair. Therefore, an encapsulation process is essential for manufacturing a reliable OLED device.

그런데, 종래의 오엘이디 디스플레이 소자는 이러한 봉지 공정을 수행하기 위해서 UV 마스크를 사용하였다. 하지만, UV 마스크는 투과율이 좋은 Quartz(석영) 로 제작하기 때문에 고가의 제작비용이 들 뿐만 아니라 오엘이디 소자의 모델이 바뀔 때마다 챔버를 열어 모델에 맞는 마스크로 교체해야 하는 불편함이 있었다.By the way, the conventional LED display device used a UV mask to perform this encapsulation process. However, since UV masks are made of quartz, which has good transmittance, they are expensive and costly to manufacture. Also, there is an inconvenience to open the chamber and replace the mask with the model every time the model of ODL element is changed.

따라서, 이러한 고가의 UV 마스크를 사용하지 않고서도 봉지 공정을 수행할 수 있는 오엘이디 디스플레이 소자가 요구되고 있다.Therefore, there is a need for an OLED display device capable of performing the encapsulation process without using such an expensive UV mask.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 UV 마스크를 사용하지 않고서도 봉지 공정을 수행할 수 있는 오엘이디 디스플레이 소자를 제공하는 데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide an OLED display device capable of performing an encapsulation process without using a UV mask.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기의 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 오엘이디 디스플레이 소자는, 기판; 상기 기판 상에 일 방향으로 길게 뻗는 스트라이프 패턴으로 형성되는 하부전극층; 상기 하부전극층 상에 상기 하부전극층의 일부 영역을 노출시켜 화소 영역이 정의되도록 형성되는 절연막; 상기 절연막 상에 상기 하부전극층과 수직 교차하는 방향으로 형성되는 역테이퍼 형상의 격벽; 상기 화소 영역의 노출된 상기 하부전극층 상에 형성되는 발광유기물층; 상기 발광유기물층 상에 상기 발광유기물층의 면적보다 넓은 면적으로 형성되며, 자외선 빔이 투과되지 않을 정도의 두께를 가지는 상부전극층; 및 상기 기판 상에 형성되어 상기 기판을 밀봉하는 봉지캡을 포함한다.In order to solve the above technical problem, the LED display device according to an embodiment of the present invention, the substrate; A lower electrode layer formed on the substrate in a stripe pattern extending in one direction; An insulating layer formed on the lower electrode layer to expose a portion of the lower electrode layer to define a pixel region; An inverse tapered partition formed on the insulating layer in a direction perpendicular to the lower electrode layer; A light emitting organic layer formed on the exposed lower electrode layer of the pixel region; An upper electrode layer formed on the light emitting organic material layer in an area larger than that of the light emitting organic material layer and having a thickness such that ultraviolet rays do not penetrate; And an encapsulation cap formed on the substrate to seal the substrate.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 상부전극층은 알루미늄을 포함하는 금속 물질인 것이 바람직하다.In an embodiment of the present invention, the upper electrode layer is preferably a metal material containing aluminum.

상기 알루미늄은 700Å 이상의 두께를 가지는 것이 바람직하다.It is preferable that the aluminum has a thickness of 700 GPa or more.

상기 봉지캡은 유리를 포함하는 투명한 절연기판인 것이 바람직하다.The encapsulation cap is preferably a transparent insulating substrate containing glass.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 첨부 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the accompanying drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, only the present embodiments to make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

또한, 도면에서 층과 막 또는 영역들의 크기 두께는 명세서의 명확성을 위하여 과장되어 기술된 것이며, 어떤 막 또는 층이 다른 막 또는 층의 "상에" 형성된다라고 기재된 경우, 상기 어떤 막 또는 층이 상기 다른 막 또는 층의 위에 직접 존재할 수도 있고, 그 사이에 제3의 다른 막 또는 층이 개재될 수도 있다.In addition, in the drawings, the size and thickness of layers and films or regions are exaggerated for clarity of description, and when any film or layer is described as being formed "on" of another film or layer, It may be directly on top of the other film or layer, and a third other film or layer may be interposed therebetween.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 오엘이디 디스플레이 소자를 설명하기 위해 도시한 단면도이고, 도 2는 도 1의 "A" 부분을 확대 도시한 평면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating an LED display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged plan view of part “A” of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 오엘이디 디스플레이 소자는 기판(110), 하부전극층(120), 절연막(130), 격벽(140), 발광유기물층(150), 상부전극층(160) 및 봉지캡(170)을 포함한다.1 and 2, an OLED display device according to an exemplary embodiment of the present invention may include a substrate 110, a lower electrode layer 120, an insulating layer 130, a partition wall 140, a light emitting organic layer 150, and an upper electrode layer. 160 and an encapsulation cap 170.

기판(110)은 본 발명의 실시예에 따른 오엘이디 디스플레이 소자를 형성하기 위한 베이스 층으로서, 주로 유리기판과 같은 투명한 절연기판을 사용하여 형성한다. 하지만, 투명성이 뛰어난 플라스틱 기판을 사용하여 형성할 수도 있다.The substrate 110 is a base layer for forming an LED display device according to an embodiment of the present invention, and is mainly formed using a transparent insulating substrate such as a glass substrate. However, it can also be formed using a plastic substrate having excellent transparency.

하부전극층(120)은 기판(110) 상에 일 방향으로 길게 뻗는 스트라이프 패턴으로 형성된다. 하부전극층(120)은 홀(hole) 주입을 위한 애노드(Anode) 전극으로서, 일함수가 높고 발광된 빛을 투과시킬 수 있도록 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide: 이하 ITO) 또는 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide: 이하 IZO)과 같은 투명한 금속 산화물을 사용하여 형성한다.The lower electrode layer 120 is formed in a stripe pattern extending in one direction on the substrate 110. The lower electrode layer 120 is an anode electrode for hole injection, and has a high work function and indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide to transmit the emitted light. Oxide: Formed using a transparent metal oxide such as IZO).

이와 같이 홀 주입을 위한 애노드 전극으로서 투명한 금속 산화물을 사용함으로써 애노드 전극의 비발광 재결합에 의한 발광 효율의 감소를 막을 수 있다.Thus, by using the transparent metal oxide as the anode electrode for hole injection, it is possible to prevent the reduction of the luminous efficiency due to the non-emitting recombination of the anode electrode.

절연막(130)은 하부전극층(120) 상에 하부전극층(120)의 일부 영역을 노출시켜 화소 영역(Pixel)이 정의되도록 형성된다. 이러한 절연막(130)은 포토레지스트(Photo Resist)나 폴리이미드(Polyimide)와 같은 전기적으로 충분한 절연 효과가 있으면서 감광 특성을 가진 고분자 재료를 이용하여 형성할 수 있다.The insulating layer 130 is formed on the lower electrode layer 120 to expose a portion of the lower electrode layer 120 to define the pixel region Pixel. The insulating layer 130 may be formed using a polymer material having photosensitive characteristics while having an electrically sufficient insulating effect such as photoresist or polyimide.

격벽(140)은 절연막(130) 상에 하부전극층(120)과 수직 교차하는 방향으로 형성된다. 이러한 격벽(140)은 상부전극층(160) 형성 시 상부전극층(160)에 의한 각 화소 영역들의 전기적 쇼트를 방지하기 위한 것으로, 전기적 절연 효과가 있으며 인접한 화소 영역들 간의 상부전극층(160)을 차단시킬 수 있는 역테이퍼(Reverse Taper) 형상의 형성이 가능한 네거티브 포토레지스트(Negative Photo Resist)를 사용하여 형성할 수 있다.The partition wall 140 is formed on the insulating layer 130 in a direction perpendicular to the lower electrode layer 120. The partition wall 140 is to prevent electrical short of each pixel region by the upper electrode layer 160 when the upper electrode layer 160 is formed, and has an electrical insulation effect to block the upper electrode layer 160 between adjacent pixel regions. It can be formed using a negative photoresist (Negative Photo Resist) capable of forming a reverse taper shape.

발광유기물층(150)은 절연막(130)에 의해 정의된 화소 영역의 노출된 하부전극층(120) 상에 형성되며, 발광층 등을 포함하여 단층 또는 다층 구조를 이룬다. 발광유기물층(150)은 전기장을 받으면 전기적으로 여기되어 그 결과 빛을 발생한다. 참고로, 발광층의 재료로는 일반적으로 알루미늄착체(Alq3)가 가장 많이 사용되고 있다.The light emitting organic layer 150 is formed on the exposed lower electrode layer 120 in the pixel region defined by the insulating layer 130 and includes a light emitting layer or the like to form a single layer or a multilayer structure. The light emitting organic layer 150 is electrically excited when subjected to an electric field, and thus generates light. For reference, as a material of the light emitting layer, aluminum complexes (Alq3) are generally used the most.

상부전극층(160)은 발광유기물층(150) 상에 격벽(140)과 동일한 방향, 즉 하부전극층(120)과 수직 교차하는 방향으로 길게 뻗는 스트라이프 패턴으로 형성된다. 상부전극층(160)은 전자를 주입하기 위한 캐소드(Cathode) 전극으로서, 알루미늄과 같이 일함수가 낮은 금속물질을 이용하여 형성하는데, 이는 상부전극층(160)과 발광유기물층(150) 사이에 형성되는 배리어(Barrier)를 낮춤으로써 전자 주입에 있어 높은 전류 밀도(Current Density)를 얻어 소자의 발광 효율을 증가시키기 위함이다.The upper electrode layer 160 is formed in a stripe pattern extending on the light emitting organic layer 150 in the same direction as the partition wall 140, that is, in a direction perpendicular to the lower electrode layer 120. The upper electrode layer 160 is a cathode electrode for injecting electrons, and is formed using a metal material having a low work function such as aluminum, which is a barrier formed between the upper electrode layer 160 and the light emitting organic layer 150. By lowering the barrier, a high current density is obtained in the electron injection to increase the luminous efficiency of the device.

이러한 상부전극층(160)을 알루미늄으로 형성할 경우, 상부전극층(160)은 발광유기물층(150)의 면적보다 넓은 면적으로 형성되며, 700Å 이상의 두께를 갖도록 형성되어야 하는바, 아래의 표 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.When the upper electrode layer 160 is formed of aluminum, the upper electrode layer 160 is formed to have a larger area than the area of the light emitting organic layer 150, and should be formed to have a thickness of 700 Å or more, referring to Table 1 below. The explanation is as follows.

[표 1]TABLE 1

Al 두께(Å)Al thickness UV 투과량(mJ/㎠)UV transmittance (mJ / ㎠) UV 투과량(%)UV transmittance (%) 5050 73667366 92.07592.075 100100 32093209 40.11340.113 150150 1365.31365.3 17.06617.066 200200 552.4552.4 6.9056.905 250250 226.5226.5 2.8312.831 300300 99.3499.34 1.2421.242 350350 35.6235.62 0.4450.445 400400 31.2431.24 0.3910.391 450450 28.1428.14 0.3520.352 500500 2.822.82 0.0350.035 550550 0.930.93 0.0120.012 600600 0.540.54 0.0070.007 650650 0.1250.125 0.0020.002 700700 00 0.0000.000 750750 00 0.0000.000

표 1은 UV(자외선) 조사량이 8000mJ/㎠인 경우 알루미늄(Al)의 두께에 따른 UV의 투과량을 측정한 실험 도표이다.Table 1 is an experimental chart measuring the amount of UV transmission according to the thickness of aluminum (Al) when the UV (ultraviolet) irradiation amount is 8000mJ / ㎠.

표 1을 참조하면, 알루미늄 재질의 상부전극층(160)을 발광유기물층(150)의 면적보다 넓게 형성할 경우, 알루미늄의 두께가 700Å 이상일 때 알루미늄을 투과하는 UV 투과량은 0mJ/㎠가 된다. 따라서, 알루미늄 재질의 상부전극층(160)을 발광유기물층(150)의 면적보다 넓게 형성하고, 그 두께를 700Å 이상으로 형성하면, UV 마스크를 사용하지 않고서도 봉지 공정을 수행할 수 있게 된다. 이에 따라, 고비용의 마스크 제작비용을 절약할 수 있을 뿐만 아니라, 오엘이디 소자의 모델이 바뀔 때마다 마스크를 교체할 필요도 없게 된다.Referring to Table 1, when the upper electrode layer 160 made of aluminum is formed to be wider than the area of the light emitting organic layer 150, when the thickness of aluminum is 700 Å or more, the amount of UV transmission through aluminum is 0 mJ / cm 2. Therefore, when the upper electrode layer 160 made of aluminum is formed to be wider than the area of the light emitting organic layer 150 and the thickness thereof is 700 Å or more, the encapsulation process can be performed without using a UV mask. This not only saves expensive mask manufacturing costs, but also eliminates the need to replace the mask every time the model of the ODL element changes.

한편, 상부전극층(160)을 알루미늄 이외의 다른 금속물질, 즉 일함수가 낮은 칼슘(Ca), 마그네슘(Mg) 등과 같은 재질로 형성할 경우, 상기와 같이 상부전극층(160)을 발광유기물층(150)의 면적보다 넓게 형성하며, UV 빔(Beam)이 투과되지 않을 정도의 두께로 형성한다. 여기서, UV 빔이 투과되지 않을 정도의 두께는 표 1에서와 같이 실험에 의해 결정될 수 있다.Meanwhile, when the upper electrode layer 160 is formed of a material other than aluminum, that is, a material such as calcium (Ca) or magnesium (Mg) having a low work function, the upper electrode layer 160 is formed as described above. It is formed wider than the area of), and is formed to a thickness such that the UV beam (Beam) is not transmitted. Here, the thickness such that the UV beam is not transmitted can be determined by experiment as shown in Table 1.

봉지캡(170)은 하부전극층(120), 절연막(130), 격벽, 발광유기물층(150) 및 상부전극층(160)이 형성된 기판(110) 상에 형성되어 기판(110)을 밀봉한다. 즉, 봉지캡(170)은 기판(110)을 봉지하여 외부에서 오엘이디 소자 내부로 유입되는 습기로부터 발광재료와 전극의 산화를 방지하며, 외부의 충격으로부터 소자를 보호한다. 이때, 봉지캡(170)은 실런트(Sealant)(180)에 의해 기판(110)과 합착되며, 유리를 포함하는 투명한 절연기판을 이용하여 형성하는 것이 바람직하다.The encapsulation cap 170 is formed on the substrate 110 on which the lower electrode layer 120, the insulating layer 130, the partition wall, the light emitting organic layer 150, and the upper electrode layer 160 are formed to seal the substrate 110. That is, the encapsulation cap 170 encapsulates the substrate 110 to prevent oxidation of the light emitting material and the electrode from moisture introduced into the ODL element from the outside and protects the device from external shock. In this case, the encapsulation cap 170 is bonded to the substrate 110 by a sealant 180 and is preferably formed by using a transparent insulating substrate including glass.

이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 오엘이디 디스플레이 소자는 상부전극층(160)을 발광유기물층(150)보다 넓은 면적을 갖도록 형성하고, 상부전극층(160)의 두께를 UV 빔이 투과하지 못할 정도도 형성함으로써, UV 마스크를 사용하지 않고서도 봉지 공정을 수행할 수 있도록 한다. 이에 따라, 고비용의 마스크 제작비용을 절약할 수 있을 뿐만 아니라, 오엘이디 소자의 모델이 바뀔 때마다 마스크를 교체할 필요가 없다.As described above, the OLED display device according to the embodiment of the present invention forms the upper electrode layer 160 to have a larger area than the light emitting organic layer 150, and the UV beam does not transmit the thickness of the upper electrode layer 160. By forming, the encapsulation process can be performed without using a UV mask. As a result, not only the cost of manufacturing expensive masks can be saved, but also the masks need not be replaced every time the model of the ODL element is changed.

이상 첨부된 도면 및 표를 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings and tables, the present invention is not limited to the above embodiments, but may be manufactured in various forms, and common knowledge in the art to which the present invention pertains. Those skilled in the art can understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

본 발명의 실시예에 따른 오엘이디 디스플레이 소자에 의하면, UV 마스크를 사용하지 않고서도 봉지 공정을 수행할 수 있도록 함으로써, 고비용의 마스크 제작비용을 절약할 수 있을 뿐만 아니라, 오엘이디 소자의 모델이 바뀔 때마다 마스크를 교체할 필요가 없다.According to the LED display device according to an embodiment of the present invention, by performing the encapsulation process without using a UV mask, not only can the cost of mask manufacturing cost is expensive, but also the model of the LED display device is changed. There is no need to replace the mask every time.

Claims (4)

기판;Board; 상기 기판 상에 일 방향으로 길게 뻗는 스트라이프 패턴으로 형성되는 하부전극층;A lower electrode layer formed on the substrate in a stripe pattern extending in one direction; 상기 하부전극층 상에 상기 하부전극층의 일부 영역을 노출시켜 화소 영역이 정의되도록 형성되는 절연막;An insulating layer formed on the lower electrode layer to expose a portion of the lower electrode layer to define a pixel region; 상기 절연막 상에 상기 하부전극층과 수직 교차하는 방향으로 형성되는 역테이퍼 형상의 격벽;An inverse tapered partition formed on the insulating layer in a direction perpendicular to the lower electrode layer; 상기 화소 영역의 노출된 상기 하부전극층 상에 형성되는 발광유기물층;A light emitting organic layer formed on the exposed lower electrode layer of the pixel region; 상기 발광유기물층 상에 상기 발광유기물층의 면적보다 넓은 면적으로 형성되며, 자외선 빔이 투과되지 않을 정도의 두께를 가지는 상부전극층; 및An upper electrode layer formed on the light emitting organic material layer in an area larger than that of the light emitting organic material layer and having a thickness such that ultraviolet rays do not penetrate; And 상기 기판 상에 형성되어 상기 기판을 밀봉하는 봉지캡을 포함하는 오엘이디 디스플레이 소자.And an encapsulation cap formed on the substrate to seal the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부전극층은 알루미늄을 포함하는 금속 물질인 것을 특징으로 하는 오엘이디 디스플레이 소자.The upper electrode layer is an LED display device, characterized in that the metal material containing aluminum. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 알루미늄은 700Å 이상의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 오엘이디 디스플레이 소자.The aluminum LED display device, characterized in that having a thickness of 700Å or more. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 봉지캡은 유리를 포함하는 투명한 절연기판인 것을 특징으로 하는 오엘이디 디스플레이 소자.The encapsulation cap is an LED display device, characterized in that the transparent insulating substrate containing a glass.
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