KR100736345B1

KR100736345B1 - 격벽 전사용 원형의 제조방법 및 격벽 형성방법

Info

Publication number: KR100736345B1
Application number: KR1020010020105A
Authority: KR
Inventors: 도카이아키라; 도요다오사무; 베쯔이게이이치
Original assignee: 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
Priority date: 2000-10-05
Filing date: 2001-04-16
Publication date: 2007-07-06
Also published as: JP2002117756A; US6482575B2; KR20020027154A; US20020042025A1

Abstract

감광성 재료를 사용하여, 그 감광성 재료에 포토마스크를 통해 경사 방향에서 노광광을 조사함으로써, 측벽에 적절한 테이퍼가 있는 격벽 패턴을 갖는 격벽 전사용 원형을 안정된 높은 정밀도로 형성한다.

기판 위에 감광성 재료층을 형성하고, 그 감광성 재료층에 포토마스크를 통해서 경사 방향에서 노광광을 조사한 후, 현상함으로써 기판 위에 적절한 테이퍼가 있는 측벽을 갖는 격벽 패턴을 형성한다.

투명전극, 버스전극, 격벽, 형광체층, 포토마스크

Description

격벽 전사용 원형의 제조방법 및 격벽 형성방법{METHOD OF PREPARING BARRIER RIB MASTER PATTERN FOR BARRIER RIB TRANSFER AND METHOD OF FORMING BARRIER RIBS}

도 1은 AC형 3전극 면방전형식의 ALiS구조의 PDP를 부분적으로 나타낸 사시도.

도 2는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 1을 나타낸 설명도.

도 3은 격벽 전사용 원형을 사용한 전사용 오목판의 제조방법 및 전사에 의한 격벽 형성방법을 나타낸 설명도.

도 4는 경사 노광을 하지 않은 경우의 비교예를 나타낸 설명도.

도 5는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 2를 나타낸 설명도.

도 6은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 2를 나타낸 설명도.

도 7은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 2를 나타낸 설명도.

도 8은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 2를 나타낸 설명 도.

도 9는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 3을 나타낸 설명도.

도 10은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 3을 나타낸 설명도.

도 11은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 3을 나타낸 설명도.

도 12는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 3을 나타낸 설명도.

도 13은 격벽의 적정 테이퍼 각을 나타낸 설명도.

도 14는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 4를 나타낸 설명도.

도 15는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 4를 나타낸 설명도.

도 16은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 4를 나타낸 설명도.

도 17은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 4를 나타낸 설명도.

도 18은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 4를 나타낸 설명도.

도 19는 측면에 순(順) 테이퍼가 있는 격자상의 격벽을 전사법으로 형성하는 경우의 이형(離形) 상태를 나타낸 설명도.

도 20은 측면에 순 테이퍼가 있는 격자상의 격벽을 전사법으로 형성하는 경우의 이형 상태를 나타낸 설명도.

도 21은 도 19의 비교예로서, 측면에 순 테이퍼가 없는 격자상의 격벽을 전사법으로 형성하는 경우의 이형 상태를 나타낸 설명도.

도 22는 도 20의 비교예로서, 측면에 순 테이퍼가 없는 격자상의 격벽을 전사법으로 형성하는 경우의 이형 상태를 나타낸 설명도.

도 23은 전사용 오목판에 격벽재료를 충전할 때의 격벽의 길이 방향 단부의 상태를 나타낸 설명도.

도 24는 도 23의 비교예로서, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼가 없는 경우를 나타낸 설명도.

도 25는 격벽재료를 전사하여 이형할 때의 격벽의 길이 방향 단부의 상태를 나타낸 설명도.

도 26은 도 25의 비교예로서, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼가 없는 경우를 나타낸 설명도.

도 27은 AC형 3전극 면방전형식의 ALiS구조의 PDP의 종단면을 부분적으로 나타낸 설명도로서, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 PDP를 나타낸 도면.

도 28은 도 27의 비교예로서, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 없는 PDP를 나타낸 도면.

도 29는 AC형 3전극 면방전형식의 ALiS구조의 PDP의 셀 구조를 나타낸 설명도로서, 횡방향 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 PDP를 나타낸 도면.

도 30은 도 29의 비교예로서, 횡방향 격벽의 측면에 테이퍼가 없는 PDP를 나타낸 도면.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ※

10 : PDP

11 : 전면측의 기판

12 : 투명전극

13 : 버스전극

17, 24 : 유전체층

18 : 보호막

21 : 배면측의 기판

22 : 격벽

28R, 28G, 28B : 형광체층

29 : 격벽

30 : 방전공간

31 : 기판

32 : 감광성 재료층

33 : 포토마스크

35 : 격벽 패턴

36 : 투명한 유리기판

37 : 마스크 패턴

38 : 전사용 오목(凹)판

39 : 격벽재료

H, H1, H2, H3, H4, H5, H6 : 노광광

A : 어드레스 전극

X, Y : 표시 전극

본 발명은 격벽 전사용 원형의 제조방법 및 격벽 형성방법에 관한 것이며, 더 자세하게는 예를 들면 플라스마 디스플레이 패널(PDP)과 같은 표시패널의 격벽을 형성할 때에 사용하는 격벽 전사용 원형의 제조방법 및 격벽 형성방법에 관한 것이다.

최근, PDP와 같은 표시패널, 그 중에서도 면방전형의 PDP에서는 제조 프로세스가 확립되어, 대화면형의 PDP가 제품화되기에 이르고 있다. 그러나, 제조 프로세스는 확립되었지만, PDP의 발광효율은 낮아서 고효율화가 요구되고 있다. 이러한 상황하에서, 고성능화를 위해 인터레이스로 하이비젼의 영상소스가 표시 가능한 ALiS(Alternate Lighting of Surfaces) 구조의 PDP 등도 개발되었으나, 이 PDP에서는 유지방전을 일으키는 표시전극간의 갭이 일정하기 때문에, 구동 마진의 향상이 필요하게 되어 있다.

PDP에 있어서는, 현재 AC형의 3전극 면방전 구조를 갖는 패널이 주류로 되어 있다. 이 패널에서는 한쪽 기판(통상은 배면측의 기판)에, 복수의 어드레스(신호) 전극이 격벽(리브)을 통해서 종방향으로 평행하게 배치되고, 다른 쪽 기판(통상은 전면측의 기판)에, 일정한 방전 갭을 갖는 면방전용의 한쌍의 표시전극이 횡방향으로 평행하게 배치되어 있다.

이와 같은 벨트 형상의 격벽과 직선상의 표시전극으로 구성되는 면방전 구조의 PDP에서는, 42인치 와이드 VGA에서 화소 사이즈가 약 1mm이다. 따라서, 그대로의 구조로 HDTV 클래스의 해상도로 한 경우, 화소 사이즈가 500㎛로 되어, 제조가 곤란하게 된다. 그래서, 42인치 인터레이스로 HDTV를 실현할 수 있는 ALiS구조의 PDP가 개발되었다.

이 ALiS구조의 PDP는 표시전극 간격이 일정(거의 등간격)하여, 모든 표시전극간이 방전 갭으로서 사용된다. 이 경우, 열방향(종방향)의 결합을 억제하는 것은, 공간적인 장벽과 전위의 장벽 2가지이지만, 공간적인 장벽은 모든 전극간이 방전 갭으로서 사용되므로, 충분한 구동 마진을 얻을 수 없다. 그 때문에, 격벽을 격자상으로 하여 상하방향의 방전공간의 결합을 물리적으로 억제하는 방법을 생각하게 되었다.

이와 같은 전극구조가 개발되는 한편, 격벽의 형성방법도 각종 방법이 개발되어 있으며, 대표적인 형성방법으로서는 양산에 사용되는 샌드블래스트법 이외에, 감광성 격벽재료를 사용하는 방법이나 전사법 등이 알려져 있다.

샌드블래스트법은, 격벽재료의 건조막에 대하여, 마스크 패턴을 통해서 연마재를 내뿜어서 불요부분을 물리적으로 절삭하는 방법이며, 이 방법에서는 막의 강도나 연마재의 입자직경, 형상, 내뿜기(blasting) 시간 등에 의해서 격벽형상을 변화시킬 수 있다.

감광성 격벽재료를 사용하는 방법은, 네가티브형(광경화형)의 감광성 격벽재료막에 대하여, 마스크 패턴을 통해서 감광 파장(통상은 자외선)을 포함한 광을 조사하여, 현상에 의해서 불요부분을 제거하는 방법이며, 이 방법에서는 감광성 재료의 감도에 의해서 격벽형상을 변화시킬 수 있다.

전사법은, 통상 격벽과 동일한 형상을 갖는 원형을 제조하고, 그 원형로부터 격벽의 모형(母型)으로 되는 오목판을 실리콘 고무 등으로 전상(轉像)하고, 이 오목판에 격벽재료를 메워서 유리기판에 전사하여 격벽을 형성하는 방법이며, 이 방법에서는 원형의 형상에 의존하여 격벽형상을 변화시킬 수 있다.

그런데, 상술한 AC형의 3전극 면방전 구조의 PDP나, ALiS구조의 PDP에서는, 최소 발광단위인 셀(방전 공간)은, 좌우방향이 격벽으로 구획되고, 이 구획 내에 형광체층이 형성되어 있다. 따라서, 형광체층의 광이 격벽에서 반사되므로, 격벽의 형상, 특히 격벽의 측벽(측면)의 테이퍼 각에 의해서 발광효율이 변화된다. 즉, 격벽의 테이퍼 각에 따라서는 발광을 효율적으로 표시면측으로 향하게 할 수 없어, 셀 내에서 반사를 반복하여 이면 등으로 누설되는 광이 존재한다. 그리고, 격벽을 격자상으로 한 경우, 횡방향의 격벽의 테이퍼 각이 적정하지 않으면, 횡방향의 격벽에 의한 차광의 효과로 상하 방향에서의 시야각에 의존한 플리커가 발생하는 경우가 있다. 또한, 전사법으로 격벽을 형성하는 경우에는, 이형을 위해 격벽에 적정한 테이퍼를 형성해 둘 필요가 있다.

이와 같이, AC형의 3전극 면방전 구조의 PDP나 ALiS 구조의 PDP에서는 격벽의 형상, 특히 테이퍼 각이 발광효율에 큰 영향을 준다. 또한, 전사법으로 격벽을 형성하는 경우에는, 격벽의 테이퍼 각이 이형에 큰 영향을 준다.

그러나, 상술한 격벽의 형성방법 중 샌드블래스트법에서는, 막의 강도나 연마재의 형상, 입자직경, 내뿜기 시간 등으로 격벽의 테이퍼 각을 미묘하게 조정하기는 어렵다.

또한, 감광성 격벽재료를 사용한 방법도, 1회 노광인 경우에는, 광강도의 감쇠에 의해서 역테이퍼 형상(격벽의 정상부보다 아래쪽 부분이 좁은 형상)의 격벽으로 된다. 이에 대하여는, 복수회 노광이나, 감광성 격벽재료의 노광감도의 조정 등에 의해서, 일정한 단면형상은 형성할 수 있지만, 여러가지 테이퍼 각을 갖는 격벽의 형성은 어렵다. 특히, 감광성 격벽재료 중에 특정 파장의 광을 차광하는 필러 등이 포함되어 있으면, 감광제의 감도가 그 필러의 영향을 받기 때문에, 테이퍼 각의 제어가 어렵다.

또한, 전사에 의한 방법도 스트레이트 구조의 격벽으로 한정되면 형성이 가능하지만, 격자상의 격벽의 제조에는 많은 과제가 있다. 특히, 전사법에서는, 원형의 제조방법으로서 기계적 절삭에 의해서 금형을 형성하는 방법이 있지만, 이 방법에서는 격벽과 동형상의 원형제조시에는, 형상이 스트레이트 등의 구조로 한정되 어, 벌집이나 격자 등의 구조의 원형은 형성이 어렵다.

이와 같이, 종래의 격벽 형성방법에서는, 테이퍼 각을 미묘하게 조정한 격벽의 형성은 어렵고, 특히 격자상의 격벽의 형성은 곤란하였다. 이 때문에 효율적으로 광을 표시면으로 향하게 하여, 휘도차에 의한 플리커를 경감할 수 있는 형상의 격벽을 갖는 PDP를 제조하기는 곤란하였다.

본 발명은 이와 같은 사정을 고려하여 이루어진 것으로, 감광성 재료를 사용하여, 그 감광성 재료에 포토마스크를 통해서 경사 방향에서 노광광을 조사함으로써, 안정된 높은 정밀도로 측벽에 적절한 테이퍼가 있는 격벽 패턴을 갖는 격벽 전사용 원형을 만들거나, 또는 PDP용의 기판 위에 직접, 측벽에 적절한 테이퍼가 있는 격벽을 형성하고, 그에 따라 효율적으로 발광을 표시면측으로 향하게 하는 동시에, 플리커를 경감한 PDP를 제조하는 것이 가능한 격벽 전사용 원형의 제조방법 및 격벽 형성방법을 제공하는 것이다.

본 발명은 기판 위에 감광성 재료층을 형성하고, 그 감광성 재료층에 포토마스크를 통해서 경사 방향에서 노광광을 조사한 후, 현상함으로써 기판 위에 측벽이 테이퍼되어 있는 격벽 패턴을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 격벽 전사용 원형의 제조방법이다.

본 발명에 의하면, 감광성 재료층에 포토마스크를 통해서 경사 방향에서 노광광을 조사하여, 기판 위에 측벽이 테이퍼되어 있는 격벽 패턴을 형성하므로, 격벽 패턴의 테이퍼 각을 임의로 조정한, 전사시의 이형이 양호한 격벽 전사용 원형을 용이하게 제조할 수 있다.

또한, 격자상의 격벽 패턴을 갖는 격벽 전사용 원형도 용이하게 제조할 수 있다.

따라서 이 격벽 전사용 원형을 사용하여 제조한 전사용 오목판을 사용함으로써, 전사에 의한 격벽형성에 있어서의 전사, 이형 공정을 안정적으로 행할 수 있어 수율이 향상된다.

또한, 이 격벽 전사용 원형을 사용하여 제조한 PDP이면, 격벽의 측면에 테이퍼가 있으므로, 효율적으로 발광을 표시면측으로 향하게 할 수 있다. 또한, 같은 효과로부터 격자상 격벽의 횡방향의 격벽에 의한 차광으로부터 생기는 플리커를 억제할 수 있다.

실시예

본 발명에 있어서, 기판은 유리, 석영, 세라믹스, 수지 등의 기판이나, 이들의 기판 위에 전극, 절연막, 유전체층, 보호막 등의 소망하는 구성물을 형성한 기판이 포함된다.

감광성 재료층은 액상의 레지스트를 소망하는 두께로 도포하여 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 또한, 일정한 두께의 시트 형상의 감광성 수지재료를 적층 장치(laminator)로 복수매 적층하여, 소망하는 두께로 형성하여도 좋다. 레지스트로서는 공지의 포토리소그래피 방법에서 사용되는 포토레지스트를 적용할 수 있다. 시트 형상의 감광성 수지재료로서는 아크릴계 수지, 광중합성 아크릴계 모노머, 첨가제 등으로 이루어진 드라이 필름 레지스트를 사용할 수 있다. 이와 같은 드라이 필름 레지스트로서는 닛뽕고세이가가꾸고교(주)제의 ALPHO NIT600시리즈의 드라이 필름 레지스트 등을 들 수 있다. 격벽 패턴의 높이를 일정하게 하기 위해서는, 드라이 필름 레지스트를 사용하는 것이 바람직하고, 두께가 균일한 드라이 필름 레지스트를 사용함으로써 높이 방향의 정밀도가 높은 원형을 용이하게 제조할 수 있다.

포토마스크를 거친 경사 방향에서의 노광광의 조사는, 일반적인 포토리소그래피에서 사용하는 공지의 평행광이 조사되는 노광장치를 사용할 수 있다. 이 평행광 노광장치에서는, 광원으로서 초고압 수은 램프 등을 사용하고, 이 광원으로부터의 광을 포물 미러 또는 프레넬 렌즈 등을 이용하여 평행광으로 하여 노광을 행한다.

경사 방향에서의 노광광의 조사는, 노광장치의 스테이지 위에 기판을 경사지게 유지하여 노광을 행하면 된다. 이 경사 방향에서의 노광에 대하여는, 기판을 경사지게 유지하는 것이 아니라, 광원을 기울이거나 또는 렌즈, 거울 등의 광굴절수단을 사용하여 경사 노광을 행하여도 좋다.

경사 방향에서의 노광에 의한 이점은, 정면에서의 노광에 비해서 노광에 필요한 균일한 조사 에어리어가 작기 때문에, 노광장치의 램프 주변부(포물 미러 등)의 대형화를 피할 수 있는 것 등을 들 수 있다.

이 경우, 노광의 방식은, 기판 전체를 동시에 노광하는 일괄 노광방식, 또는 기판의 분할된 복수의 작은 영역을 소영역마다 노광하는 분할 노광방식 중의 어느 방식을 채용한다. 노광 장치의 램프 주변부와 기판을 상대적으로 이동시키는 후자의 방식에서는 램프 주변부를 소형화할 수 있는 이점이 있다.

본 방법에 있어서는 경사 방향에서의 노광광의 조사시, 격벽 패턴의 단면형 상이 순 테이퍼를 갖는 산형(山型)이 되도록 격벽 패턴의 한쪽 측벽을 따른 방향과 다른 쪽 측벽을 따른 방향에서 2회 행하는 것이 바람직하다.

또한, 기판 위에 형성되는 격벽 패턴이, 평면에서 보아 격자상의 격벽 패턴인 경우에는, 경사 방향에서의 노광광의 조사는 격자상 격벽 패턴의 종방향 패턴의 한쪽 측벽을 따른 방향과 다른 쪽 측벽을 따른 방향과, 격자상 격벽 패턴의 횡방향 패턴의 한쪽 측벽을 따른 방향과 다른 쪽 측벽을 따른 방향에서 4회 행하는 것이 바람직하다.

이 경우, 경사 방향에서의 노광광의 조사가 4회 행하여지는 데에 있어서는, 완성된 격벽 전사용 원형을 사용하여 격벽 전사용 오목판을 만들고, 그 전사용 오목판으로 격벽재료를 기판에 전사한 후, 이형할 때에, 이형 방향을 따른 방향의 격벽의 테이퍼보다도 이형 방향에 교차되는 방향의 격벽의 테이퍼 쪽이 완만하게 되도록, 종방향 패턴과 횡방향 패턴으로 각도를 바꾸어, 노광광의 조사를 행하도록 하는 것이 바람직하다.

경사 방향에서의 노광광의 조사 후에는, 격벽 패턴의 길이 방향 단부가 완만한 경사를 갖도록, 격벽 패턴의 길이 방향 단부에 상당하는 부분에 경사 방향에서 노광광을 더 조사하여도 좋다.

상술의 방법에 의해서 격벽 전사용 원형을 제조한 후에는, 이 격벽 전사용 원형을 사용하여 전사용 오목판을 만들고, 이 전사용 오목판으로 전극 및 유전체층을 형성한 PDP용의 유리기판에 격벽재료를 전사함으로써 격벽을 형성한다.

구체적으로, 전사용 오목판은, 실리콘 고무 등으로 격벽 전사용 원형을 전상 함으로써 제조할 수 있다. 예를 들면, 격벽 전사용 원형을 인젝션 장치 내에 배치하고, 실리콘 고무의 액상 또는 페이스트상의 주제와 경화제를 혼합한 후, 인젝션 장치 내에 압입(壓入)하고, 그 후 방치 또는 가열함으로써 제조할 수 있다.

전사용 오목판에 의한 격벽재료의 전사는, 전사용 오목판의 오목부에 페이스트상의 격벽재료를 메우고, 메운 격벽재료를 PDP용의 유리기판에 압착함으로써 행할 수 있다.

그 후 건조, 소성 등의 공지의 처리를 실시하여, PDP용의 유리기판에 격벽을 형성한다.

본 발명은, 또한 기판 위에 감광성의 격벽재료층을 형성하고, 그 격벽재료층에 포토마스크를 통해서 경사 방향에서 노광광을 조사한 후 현상함으로써, 기판 위에 측벽이 테이퍼되어 있는 격벽을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 격벽 형성방법이다.

본 격벽 형성방법에 있어서는, 격벽 전사용 원형의 제조시에 사용하는 기판 대신에 유리기판에 전극 및 유전체층을 형성한 PDP용의 유리기판을 사용하고, 감광성 재료층 대신에 예를 들면, 저융점 유리 프릿(frit), 바인더, 용제 등으로 이루어진 유리 페이스트와 같은 감광성 격벽재료를 사용하고, 이것을 PDP용의 유리기판 위에 도포하여 건조시켜서 감광성 격벽재료층으로 하면, 격벽 전사용 원형의 제조방법과 마찬가지인 방법으로 PDP용의 유리기판에 직접 격벽 패턴을 형성할 수 있다. 격벽 패턴의 형성 후에는 공지의 방법으로 건조하여 소성함으로써 격벽을 형성하면 좋다.

이하 본 발명의 실시형태를 실시예에 기초하여 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이것에 의해서 본 발명이 한정되는 것은 아니다.

우선, 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법 및 격벽형성방법이 적용되는 PDP의 구성에 대하여 설명한다. 본 발명의 방법은 격벽을 갖는 PDP이면 어떠한 구조의 PDP에도 적용가능하지만, AC형 3전극 면방전 형식의, 특히 ALiS구조의 PDP에 매우 적합하게 사용되므로, 이하에서는 본 발명을 이 PDP의 격벽의 형성에 적용한 예로 설명한다.

도 1은 AC형 3전극 면방전 형식의 ALiS구조의 PDP를 부분적으로 나타낸 사시도이다. 이 도면에 나타낸 것과 같이 PDP(10)는 전면측의 기판(11)을 포함한 전면측의 패널 어셈블리와, 배면측의 기판(21)을 포함한 배면측의 패널 어셈블리로 구성되어 있다. 전면측의 기판(11)과 배면측의 기판(21)은 유리로 형성된다.

전면측의 기판(11)의 내측면에 형성된 표시전극(X, Y)은 공지의 재료와 공지의 방법을 사용하여 형성된다. 예를 들면, ITO, SnO₂ 등의 투명전극(12)과, 전극의 저항을 내리기 위한, 예를 들면 Ag, Au, Al, Cu, Cr 및 그들 적층체(예를 들면 Cr/Cu/Cr의 적층구조) 등으로 이루어진 금속제의 버스 전극(13)으로 구성된다. 표시 전극(X, Y)은 Ag, Au에 대하여는 인쇄법을 사용하고, 그 외에 대하여는 증착법, 스퍼터법 등의 성막법과 에칭법을 조합함으로써, 소망하는 개수, 두께, 폭 및 간격으로 형성할 수 있다. 표시전극(X, Y)의 어느 한쪽이 스캔 전극으로서 사용된다.

유전체층(17)은 PDP에 통상 사용되고 있는 재료로 형성된다. 구체적으로는 예를 들면 저융점 유리 프릿, 바인더, 용제 등으로 이루어진 유리페이스트를 기판 위에 스크린 인쇄법 등으로 도포하여 소성함으로써 형성할 수 있다.

유전체층(17) 위에는, 통상, 표시시의 방전에 의해서 생기는 이온의 충돌에 의한 손상으로부터 유전체층(17)을 보호하기 위한 보호막(18)이 설치된다. 이 보호막(18)은 공지의 재료, 예를 들면 MgO, CaO, SrO, BaO 등으로 이루어진다.

배면측의 기판(21)의 내측면에 형성된 어드레스 전극(A)은, 공지의 재료와 공지의 방법을 사용하여 형성된다. 예를 들면, Ag, Au, Al, Cu, Cr 및 그들 적층체(예를 들면, Cr/Cu/Cr의 적층구조) 등으로 구성된다. 어드레스 전극(A)도 표시 전극(X, Y)과 마찬가지로, Ag, Au에 대하여는 인쇄법을 사용하고, 그 외에 대하여는 증착법, 스퍼터법 등의 성막법과 에칭법을 조합함으로써 소망하는 개수, 두께, 폭 및 간격으로 형성할 수 있다.

유전체층(24)은 유전체층(17)과 같은 재료, 같은 방법을 사용하여 형성할 수 있다.

격벽(29)은 후술하는 본 발명의 격벽 전사용 원형을 사용한 전사법으로 형성하거나, 또는 본 발명의 격벽형성방법을 사용하여 형성한다.

형광체 층(28R, 28G, 28B)은 공지의 재료와 공지의 방법을 사용하여 형성된다. 예를 들면, 형광체 분말과 바인더를 포함한 형광체 페이스트를 격벽(29)간의 홈 내에 스크린인쇄, 또는 디스펜서를 사용한 방법 등으로 도포하고, 이것을 각 색마다 반복한 후, 건조시켜서 소성함으로써 형성할 수 있다. 또한, 이 형광체 층(28R, 28G, 28B)은 형광체 분말과 바인더를 포함한 시트 형상의 감광성 형광체층 재료(이른바, 그린 시트)를 사용하고, 포토리소그래피법으로 형성할 수도 있다. 이 경우, 소망하는 색의 시트를 기판 위의 표시영역 전면에 붙여서 노광, 현상을 행하고, 이것을 각 색마다 반복하는 것으로, 대응하는 격벽간에 각 색의 형광체층을 형성할 수 있다.

PDP(10)는 상기한 전면측의 패널 어셈블리와 배면측의 패널 어셈블리를 표시전극(X, Y)과 어드레스 전극(A)이 직교하도록 대향 배치하여 주위를 밀봉하고, 격벽(29)으로 둘러싸인 방전 공간(30)에 네온, 크세논 등의 방전가스를 충전함으로써 제조된다. 이 PDP(10)에서는 표시전극(X－Y)간과 표시전극(Y－X)간의 모든 전극간과 어드레스 전극(A)의 교차부의 방전공간이 표시의 최소단위인 하나의 셀 영역(단위 발광영역)으로 된다.

또한, 이 구성은 일례이며, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 격벽을 갖는 PDP이면 어떠한 구조의 PDP에도 적용할 수 있다.

다음에, 상기 PDP(10)의 격벽(29)의 형성방법에 대하여 설명한다. 이하의 실시예에서는, 우선 격벽 전사용 원형을 제조하고, 다음에 이 원형을 사용하여 실리콘 고무 등으로 전사용 오목판(네가티브 오목판)을 제조하고, 그 전사용 오목판으로 PDP의 기판 위에 격벽재료를 전사 성형한다. 또는, 이 전사용 오목판을 프레스판으로서 사용하고, 격벽재료를 프레스하여 격벽을 형성한다.

실시예 1

도 2a∼d는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 1을 나타낸 설명도이다.

본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법에 있어서는, 우선 유리, 석영, 세라믹스, 수지 등의 기판(31) 위에, 감광성 재료층(32)으로서 아크릴계 수지, 광중합성 아크릴계 모노머, 첨가제 등으로 이루어진 드라이 필름 레지스트를 적층 장치로 접합하여, 소망하는 격벽 높이에 따른 두께(약 100∼300㎛)까지 적층한다(도 2a 참조).

다음에, 감광성 재료층(32) 위에, 격벽 패턴 이외 부분의 광을 차폐하는 포토마스크(33)를 맞닿게 하여 배치한다. 그리고, 노광을 행한다. 이 노광에는 평행광이 조사되는 노광장치를 사용하고, 이 스테이지 상에 기판(31)을 경사지게 유지하여 노광한다. 즉, 기판(31)에 대하여 경사 방향에서 제1회째의 노광광(H1)을 조사하는, 이른바 경사 노광을 행한다(도 2b 참조).

다음에, 기판(31)의 경사를 역으로 하여, 재차 경사 노광을 행한다. 즉, 기판(31)에 수직인 방향에 대하여, 전회의 노광 방향의 반대측에서 제2회째의 노광광(H2)을 조사한다(도 2c 참조).

상기의 평행광 노광장치에서는, 광원으로서 초고압 수은 램프를 사용하고, 이 광원으로부터의 광을 포물 미러 또는 프레넬 렌즈 등을 사용하여 평행광으로서 노광한다.

경사 방향에서의 노광에 대하여는, 기판(31)을 경사지게 하여 유지하는 것이 아니라, 광원을 기울이거나 또는 렌즈, 거울 등의 광굴절수단을 사용하여 경사 노광을 행하여도 좋다. 이 경사 노광의 이점으로서는, 정면에서의 노광에 비해서 노광에 필요한 균일한 조사 에어리어가 작기 때문에, 노광장치의 램프 주변부(포물 미러 등)의 대형화를 피할 수 있는 것 등을 들 수 있다.

노광의 방식은 일괄노광방식, 분할노광방식 중의 어느 방식을 사용하여도 좋지만, 분할노광방식으로 노광한 경우에는 노광장치의 램프 주변부와 기판을 상대적으로 이동시키므로, 램프 주변부를 소형화할 수 있다.

다음에 탄산나트륨 수용액으로 감광성 재료층(32)의 샤워 현상을 행함으로써, 격벽 패턴(35)을 형성한다(도 2d 참조).

포토마스크(33), 및 노광광(H1, H2)을 조사하기 위한 노광장치는, 통상의 포토리소그래피 방법에서 사용하는 것을 적용할 수 있다. 현상에 대해서도 통상의 포토리소그래피 방법에서 사용하는 것을 적용할 수 있다.

본 예에서는, 감광성 재료층(32)은 닛뽕고세이가가꾸고교(주)제의 ALPHO NIT600 시리즈의 드라이 필름 레지스트를 사용하고, 이 막 두께가 50㎛인 것을 4층 적층함으로써, 200㎛의 두께로 형성하였다.

또한, 노광시의 틸트각도를 약 25∼45°로 하여 노광한 결과, 원형의 측벽 각도로 약 15∼25°의 형상을 얻을 수 있었다.

현상 후, 건조시켜서 전사용 오목판을 형성할 때의 압력이나 온도에 의한 변형이나 반응성을 억제하기 위해서, 노광광을 또한 전체에 조사하여 감광성 수지재료의 중합을 진행시켜, 전사용 오목판 형성시의 온도환경하까지 온도상승하면서 더욱 건조시켜 격벽 전사용 원형을 완성한다.

이와 같이 하여, 감광성 수지재료를 사용하여, 경사 방향에서의 노광을 2회 행함으로써, 단면이 순 테이퍼인 격벽 패턴을 갖는 격벽 전사용 원형을 제조할 수 있다.

도 3a∼d는 격벽 전사용 원형을 사용한 전사용 오목판의 제조방법 및 전사에 의한 격벽 형성방법을 나타낸 설명도이다.

격벽 전사용 원형을 제조한 후에는, 실리콘 고무로 격벽 패턴(35)을 전상함으로써 전사용 오목판(38)을 만든다(도 3a 참조). 구체적으로는, 격벽 전사용 원형을 인젝션 장치 내에 배치하고, 실리콘 고무의 액상 또는 페이스트상의 주제와 경화제를 혼합한 후, 인젝션 장치 내에 압입하고, 그 후 방치 또는 가열하여 전사용 오목판(38)을 제조한다.

그리고, 전사용 오목판(38)의 오목부에 페이스트상의 격벽재료(39)를 메우고(도 3b 참조), 메운 격벽재료(39)를 전극만을, 또는 전극과 유전체층을 형성한 PDP용의 배면측의 유리기판(21)에 압착하고(도 3c 참조), 전사용 오목판(38)을 이형함으로써 격벽재료(39)의 전사를 행한다(도 3d 참조).

그 후 건조, 소성 등의 공지 처리를 실시하여, PDP용의 배면측의 유리 기판(21)에 격벽을 형성한다.

도 4a∼c는 경사 노광을 하지 않은 경우의 비교예를 나타낸 설명도이다.

이 도면에 나타낸 것과 같이, 기판(31) 상에 감광성 재료층(32)을 형성하고(도 4a 참조), 포토마스크(33)을 통해, 기판(31)에 대하여 수직 방향에서 노광광(H)을 조사하고(도 4b 참조), 현상한 경우에는(도 4c 참조), 형성되는 격벽 패턴은, 노광광의 감쇠때문에 정상부보다도 아래 쪽이 좁게 형성된다.

실시예 2

도 5∼8은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 2를 나타낸 설명도이다. 이들 도면에 있어서, 도 6a, 도 7a 및 도 8a는 도 5의 A－A' 단면을 나타내고, 도 6b, 도 7b 및 도 8b는 도 5의 B－B' 단면을 나타낸다.

본 예에서는, 도 5에 나타낸 것과 같은 평면에서 보아 격자상인 격벽 패턴을 갖는 격벽 전사용 원형을 만든다. 기판(31), 감광성 재료층(32), 및 포토리소그래피 방법은 실시예 1과 동일한 것을 사용한다.

우선, 기판(1) 위에 감광성 재료층(32)을 형성한다(도 6a 및 도 6b 참조).

다음에, 감광성 재료층(32) 상에, 격벽 패턴 이외 부분의 광을 차폐하는 포토마스크(33)를 배치하고, 기판(31)에 대하여 수직인 방향에서 노광광(H)을 조사한다(도 7a 및 도 7b 참조).

다음에, 현상을 행함으로써, 격벽 패턴(35)을 형성한다(도 8a 및 도 8b 참조).

실시예 3

도 9∼12는 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 3을 나타낸 설명도이다. 이들 도면에서, 도 9a, 도 10a, 도 11a 및 도 12a는 도 5의 A－A' 단면을 나타내고, 도 9b, 도 10b, 도 11b 및 도 12b는 도 5의 B－B' 단면을 나타낸다.

본 예에 있어서는, 도 5에 나타낸 것과 같은 평면에서 보아 격자상이며, 또한 단면이 순 테이퍼 형상인 격벽 패턴을 갖는 격벽 전사용 원형을 만든다. 기판(31) , 감광성 재료층(32), 및 포토리소그래피 방법은 실시예 1과 동일한 것을 사용한다.

우선, 기판(1) 위에 감광성 재료층(32)을 형성한다(도 9a 및 도 9b 참조).

다음에, 감광성 재료층(32) 상에, 격벽 패턴 이외 부분의 광을 차폐하는 포토마스크(33)를 맞닿게 하여 배치한다. 그리고 도 5의 A－A' 방향에 대하여 경사 방향에서 제1회째의 노광광(H1)을 조사하고, 그 후 기판(31)의 경사를 역으로 하여, 반대의 방향에서 제2회째의 노광광(H2)을 조사한다(도 10a 및 도 10b 참조).

다음에 도 5의 B－B' 방향에 대하여 경사 방향에서 제3회째의 노광광(H3)을 조사하고, 그 후 기판(31)의 경사를 역으로 하여, 반대 방향에서 제4회째의 노광광(H4)을 조사한다(도 11a 및 도 11b 참조).

다음에 현상을 행함으로써, 격벽 패턴(35)을 형성한다(도 12a 및 도 12b 참조).

상기 경사 노광에 의해서 형성하는 격벽 패턴의 측면(측벽)의 테이퍼 각은 이하와 같은 각도가 바람직하다.

어드레스 전극에 평행한 격벽의 테이퍼 각의 최대치는, 방전공간의 제한으로부터 구한다. 예를 들면, 42인치 와이드형의 PDP의 격벽 전사용 원형의 경우이면 도 13에 나타낸 것과 같이,

격벽 피치 P：360㎛

격벽 톱 폭 V：70㎛

격벽 높이 T：200㎛

어드레스 전극폭 W：80㎛

라고 하면, 격벽(29)과 어드레스 전극(A)의 위치맞춤 여유도 D：5㎛ 정도가 필요하기 때문에, 격벽의 확대 폭 K：100㎛로 되고, 이에 의해서 격벽 테이퍼 각의 최대치는 tan^-1(K／T)＝tan^-1(100／200)＝26.6°로 되고, 이로부터 42인치 와이드형의 PDP의 경우, 격벽의 테이퍼 각 θ의 범위는,

0°＜θ＜26.6°

로 된다.

평면에서 보아 격자상의 격벽 패턴이며, 또한 단면이 순 테이퍼 형상을 갖는 격벽 패턴의 격벽 전사용 원형을 제조하는 경우에는, 격벽재료를 전사하여 이형할 때의 이형 방향에 교차하는 방향의 격벽 패턴에, 이형 방향에 평행한 격벽 패턴의 테이퍼 각보다 큰 테이퍼 각을 설정해 둠으로써 이형이 용이하게 된다.

실시예 4

도 14∼18은 본 발명의 격벽 전사용 원형의 제조방법의 실시예 4를 나타낸 설명도이다. 이들 도면에서, 도 15∼18은 도 14의 C－C'단면을 나타내고 있다.

본 예에서는, 격벽 패턴의 길이 방향 단부에 보다 큰 순 테이퍼를 형성한 격벽 전사용 원형을 제조한다.

실시예 3의 노광을 행한 후, 도 14에 나타낸 것과 같이, 격벽 패턴의 격자상의 부분을 마스크(M)로 덮고, 종방향의 격벽 패턴의 길이 방향 단부에 경사 방향에서 제5회째의 노광광(H5)을 조사하고(도 15 참조), 다음에 기판(31)의 경사를 역으로 하여, 종방향의 격벽 패턴의 반대측의 길이 방향 단부에 경사 방향에서 제6회째 의 노광광(H6)을 조사한다(도 16 참조). 이 후, 필요에 따라서 횡방향의 격벽 패턴의 길이 방향 단부에 대하여도 경사 노광을 행하여도 좋다.

다음에, 현상을 행함으로써, 길이 방향 단부에 보다 큰 순 테이퍼가 형성된 격벽 패턴(35)을 형성한다(도 17 및 도 18 참조).

전사용 오목판의 이형 방향에 평행한 격벽의 테이퍼 각에 대하여는, 0∼26.6°의 범위가 바람직하고, 이형 방향에 수직인 격벽의 테이퍼 각은, 이형 방향에 평행한 격벽의 테이퍼 각보다 큰 각도가 바람직한 것은 앞에서 언급하였으나, 격벽재료를 전사할 때의 이형의 용이성을 고려하면, 격벽 패턴의 길이 방향 단부의 순 테이퍼의 각도는, 이 이형 방향에 수직인 격벽의 테이퍼 각보다도 더 큰 각도가 바람직하다.

이와 같이 하여, 격벽 패턴의 길이 방향 단부만을 노출한 상태로 노광시의 틸트각을 더 크게 하여 경사지게 노광함으로써, 격벽의 길이 방향 단부에 보다 큰 순 테이퍼를 갖는 평면에서 보아 격자상의 격벽 패턴을 형성한다. 격벽의 길이 방향 단부의 테이퍼 각을 크게 하는 방법으로서는, 이 방법에 한정되지 않고, 예를 들면 격벽 단부에 조사되는 광만을 더욱 굴절시키는 렌즈 등을 사용하여, 의사적으로 조사각을 이루도록 함으로써도 실현할 수 있다.

이상에서는, 격벽 전사용 원형의 제조방법에 대하여 설명했으나, 기판(31) 대신에 유리기판에 전극 및 유전체층을 형성한 PDP용의 유리기판을 사용하고, 감광성 재료층(32) 대신에 예를 들면, 저융점 유리 프릿, 바인더, 용제 등으로 이루어진 유리페이스트와 같은 감광성 격벽재료를 사용하고, 이것을 PDP용의 유리기판 위에 도포하여 건조시켜서 감광성 격벽재료층으로 하면, 상술한 격벽 전사용 원형의 제조방법과 마찬가지인 방법으로 PDP용의 유리기판에 직접 격벽 패턴을 형성할 수 있다. 격벽 패턴의 형성 후에는 공지의 방법으로 건조하여 소성함으로써 격벽을 형성하면 된다.

상술한 바와 같은 측면이 순 테이퍼를 갖는 격벽, 특히 격자상의 격벽은, 종래의 금형 절삭법에서는 형성할 수 없지만, 본 발명과 같이 포토리소그래피의 기술을 사용하여 경사 노광을 하면 제조가 용이하다. 특히 두께가 균일한 시트 형상의 감광성 재료를 사용하면 높이 방향의 정밀도가 높은 원형을 용이하게 만들 수 있다.

이와 같이 본 발명에서는, 직선상 또는 격자상의 격벽의 제조에 있어서, 테이퍼 각을 미묘하게 조정한 격벽을 형성할 수 있다.

다음에, 상술한 실시예에서 제조한 격벽 전사용 원형을 사용하여 전사용 오목판을 만들고, 그 전사용 오목판으로 PDP의 기판 위에 격벽재료를 전사 성형할 때의 이형에 대하여 설명한다.

도 19 및 도 20은 순 테이퍼를 갖는 격자상의 격벽을 전사법으로 형성하는 경우의 이형 상태를 나타낸 설명도이다. 도 19는 이형 방향에 평행한 방향의 격벽의 단면을 나타내고, 도 20은 이형 방향에 수직인 방향의 격벽의 단면을 나타내고 있다.

도 19에 나타낸 것과 같이 PDP의 배면측의 유리기판(21)에 전사용 오목판(38)을 사용하여 격벽재료(39)를 전사하고, 화살표(E)로 나타낸 것과 같이, 격벽과 평행한 방향으로 이형할 때, 측면이 순 테이퍼를 갖는 격벽이면, 전사용 오목판(38)과 격벽재료(39)의 마찰력(F)이 작고, 순 테이퍼가 없는 격벽에 비해서 박리의 관계가 우위로 되어, 박리에 요하는 힘이 작아지므로 이형 불량을 억제할 수 있다.

또한, 도 20에 나타낸 것과 같이 PDP의 배면측의 유리 기판(21)에 전사용 오목판(38)을 사용하여 격벽재료(39)를 전사하고, 화살표(E)로 나타낸 것과 같이, 격벽과 수직인 방향으로 이형할 때, 측면에 순 테이퍼가 없는 격벽이면, 전사용 오목판(38)과 격벽재료(39)가 간섭하여 격벽이 변형되지만, 격벽의 측면에 테이퍼 각을 형성함으로써, 양자 간섭을 막을 수 있기 때문에 격벽의 변형을 억제할 수 있다.

도 21 및 도 22는 도 19 및 도 20의 비교예이고, 측면에 순 테이퍼가 없는 격자상의 격벽을 전사법으로 형성하는 경우의 이형 상태를 나타낸 설명도이다. 도 21은 이형 방향으로 평행한 방향의 격벽의 단면을 나타내고, 도 22는 이형 방향에 수직인 방향의 격벽의 단면을 나타내고 있다.

도 21에 나타낸 것과 같이 PDP의 배면측의 유리기판(21)에 전사용 오목판(38)을 사용하여 격벽재료(39)를 전사하고, 화살표(E)로 나타낸 것과 같이 격벽과 평행한 방향으로 이형할 때, 측면에 순 테이퍼가 없는 격벽이면 전사용 오목판(38)과 격벽재료(39)의 마찰력(F)이 크게 작용하여 순 테이퍼를 갖는 격벽보다 박리에 요하는 힘이 커지므로 이형 불량이 발생하기 쉽다.

또한, 도 22에 나타낸 것과 같이, PDP의 배면측의 유리기판 (21)에 전사용 오목판(38)을 사용하여 격벽재료(39)를 전사하고, 화살표(E)로 나타낸 것과 같이 격벽과 수직인 방향으로 이형할 때, 측면에 순 테이퍼가 없는 격벽이면, 전사용 오목판(38)과 격벽재료(39)가 간섭하여 격벽의 변형이 생기기 쉬워진다.

도 23은 전사용 오목판에 격벽재료를 충전할 때의 격벽의 길이 방향 단부의 상태를 나타낸 설명도이다. 도 24는 도 23의 비교예이며, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼가 없는 경우를 나타낸 설명도이다.

이들 도면에 나타낸 것과 같이, 전사용 오목판(38)에 페이스트상의 격벽재료가 도면 중 화살표(i)의 방향에서 충전되면, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼가 없는 경우에는, 도 24에 나타낸 것과 같이 격벽의 길이 방향 단부(G)의 에어가 빠지기 어렵기 때문에 기포가 발생하기 쉽다. 한편, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼를 갖는 경우에는, 도 23에 나타낸 것과 같이 화살표(j)로 나타낸 방향으로 에어가 빠지기 쉽기 때문에 기포의 발생을 방지할 수 있다.

도 25는 격벽재료를 전사하여 이형할 때의 격벽의 길이 방향 단부의 상태를 나타낸 설명도이다. 도 26은 도 25의 비교예이며, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼가 없는 경우를 나타낸 설명도이다.

이들 도면에 나타낸 것과 같이, 전사용 오목판(38)에 의해서 격벽재료(39)가 전사된 후, 도면 중 화살표(m)로 나타낸 방향으로 전사용 오목판(38)이 이형(박리)된다고 하면, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼가 없는 경우와 있는 경우에는, 마찰력(F)이 달라지고, 테이퍼가 없는 경우에는 이형 불량이 생기기 쉽다.

즉, 격벽의 길이 방향 단부에 테이퍼가 없는 경우에는, 전사용 오목판(38)과 격벽재료(39)의 마찰력(F)이 크게 작용하여 이형 불량이 생기기 쉽다. 한편, 격벽 의 길이 방향 단부에 테이퍼가 있는 경우에는 박리의 관계가 우위로 되므로, 이형 불량을 저감할 수 있다.

도 27 및 도 28은 AC형 3전극 면방전 형식의 ALiS구조의 PDP의 종단면을 부분적으로 나타낸 설명도이다. 도 27은 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 PDP를 나타내고, 도 28은 비교예로서, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 없는 PDP를 나타내고 있다.

이들 도면에 나타낸 것과 같이, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 PDP의 경우에는 셀 내의 휘도차를 저감하여, 상하방향의 시야각에 의존한 플리커를 방지할 수 있다.

즉, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 없는 PDP의 경우에는, 도면 중 화살표(S)의 방향에서 화면을 본 경우, 셀 A와 셀 B에 방전 U가 발생했다고 하면, 격벽(29)에 의한 섀도윙 때문에, 외관상, 셀 A의 휘도는 셀 B의 휘도에 비해서 저하된다.

한편, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 PDP의 경우에는, 도면 중 화살표(S)의 방향에서 화면을 본 경우, 셀 A와 셀 B에 방전 U가 발생해도, 격벽(29)에 의한 섀도윙이 없기 때문에, 외관상 셀 B에 비해 셀 A의 휘도 저하가 경감되고, 이에 따라 상하방향의 시야각에 의존한 플리커가 억제된다.

도 29 및 도 30은 AC형 3전극 면방전 형식의 ALiS구조의 PDP의 셀 구조를 나타낸 설명도이다. 도 29는 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 PDP를 나타내고, 도 30은 비교예로서, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 없는 PDP를 나타내고 있다.

이들 도면에 나타낸 것과 같이, 횡방향의 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 경우에는, 셀 내의 발광을 효율적으로 표시면측으로 향하게 할 수 있다. 즉, 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 경우나 없는 경우에도, 셀 내의 발광은 반사를 반복하는 동안에 광량(LO)만이 이면으로 누설되지만, 격벽의 측면에 테이퍼가 있는 경우에는, 격벽의 테이퍼에 의해서 셀 내의 발광은 경사 광량(LM)으로서 표시면측에 반사되므로, 셀 내의 발광을 효율적으로 표시면측에 발할 수 있다.

이상 언급한 바와 같이, 감광성의 원형 재료를 사용하여, 적어도 2회 이상의 경사 노광을 행함으로써, 측면이 순 테이퍼의 격벽 패턴을 갖는 격벽 전사용 원형을 만든다. 또한, 감광성의 격벽재료를 사용하여, 적어도 2회 이상의 경사 노광을 행함으로써, 측면이 순 테이퍼인 격벽을 갖는 배면측의 기판을 제조한다.

이와 같이, 감광성 재료를 사용함으로써, 종래의 금형 절삭에서는 형성이 곤란했던 격자 형상 등의 원형을 용이하게 형성할 수 있다.

또한, 경사 노광에 의해서 격벽 전사용 원형의 격벽 패턴의 측면에 여러가지로 조정한 테이퍼를 붙이거나, 격벽 패턴의 길이 방향 단부에 각도를 이루게 할 수 있고, 이에 의해서 이형성을 개선하여, 전사 격벽형성에 있어서의 제품 수율을 향상시킬 수 있다.

또한, 격벽의 측면에 순 테이퍼를 갖는 형상을 갖게 함으로써, 발광을 효율적으로 표시면측에 발하게 할 수 있다. 또한, 횡방향의 격벽의 측면에도 순 테이퍼를 갖게 함으로써, 셀 내의 휘도차를 경감하고, 상하 방향에서 본 경우의 시야각 에 의존한 플리커를 저감할 수 있다.

본 발명에 따르면, 기판 위에 감광성 재료층을 형성하고, 이 감광성 재료층에 포토마스크를 통해서 경사 방향에서 노광광을 조사하여, 기판 위에 측벽이 테이퍼되어 있는 격벽 패턴을 형성하므로, 격벽 패턴의 측벽의 테이퍼 각을 임의로 조정한, 전사시의 이형이 양호한 격벽 전사용 원형을 용이하게 제조할 수 있다.

Claims

플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 패널 기판 위에 평면에서 보아 격자상 패턴의 격벽을 전사용 오목판을 사용하여 전사 형성하는 격벽 형성 방법에서, 상기 오목판의 격벽 전사용 원형을 제조하는 때에,

소정의 원형 기판 위에 감광성 재료층을 형성한 후, 상기 감광성 재료층 위에 형성해야 할 격자상 격벽 패턴에 대응하는 포토마스크를 탑재 배치하고,

상기 포토마스크를 통해서, 상기 격자상 격벽 패턴의 종방향 격벽 패턴의 한쪽 측연(側緣)과 다른 쪽 측연에 대하여 각각 경사 방향에서 노광광을 조사하는 제 1 노광 공정과, 상기 격자상 격벽 패턴의 횡방향 격벽 패턴의 한쪽 측연과 다른 쪽 측연에 대하여 각각 경사 방향에서 노광광을 조사하는 제 2 노광 공정을 포함한 노광을 행하고,

그 후, 현상에 의해, 상기 원형 기판 위에 상기 제 1 및 제 2 노광 공정에 의해 경화된 단면 형상이 산형(山型)으로 순(順) 테이퍼진 측벽면을 갖는 감광성 재료 부분으로 이루어지는 격자상 격벽 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 격벽 전사용 원형의 제조방법.
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제1항에 있어서,

상기 종방향 패턴에 대한 제 1 노광 공정의 경사 조사 각도와 상기 횡방향 패턴에 대한 제 2 노광 공정의 경사 조사 각도를 다르게 하여, 조사 각도를 크게 기울여 단면의 테이퍼 각도를 완만하게 한 종방향 또는 횡방향 격벽 패턴에 교차하는 방향을 상기 전사용 오목판의 이형 방향으로 하도록 한 것을 특징으로 하는 격벽 전사용 원형의 제조방법.
제1항 또는 제4항에 있어서,

상기 제 1 노광 공정 및 제 2 노광 공정에 더하여, 상기 격자상 격벽 패턴의 최외주의 적어도 한 변에 해당하는 단부에 경사 방향에서 노광광을 조사하는 제 3 노광 공정을 포함한 노광을 행하고, 상기 제 3 노광 공정에 의해 상기 적어도 1변의 격벽 단면(端面)이 상기 종방향 및 횡방향 패턴의 격벽 단면(斷面)의 테이퍼보다도 완만한 경사를 갖도록 한 것을 특징으로 하는 격벽 전사용 원형의 제조방법.
제1항에 기재된 방법으로 제조된 격벽 전사용 원형에 실리콘 고무를 충전하여 상기 전사용 오목판을 제조하고, 상기 전사용 오목판에 격벽 재료의 페이스트를 매입한 상태로 상기 패널 기판의 소정 위치에 상기 격벽 재료를 전사하여 형성된 격자상 패턴의 격벽을 갖는 것을 특징으로 하는 플라스마 디스플레이 패널.
플라즈마 디스플레이를 구성하는 한 쌍의 패널 기판의 한 쪽 기판 위에 격자상 패턴의 격벽을 형성하는 방법으로서,

상기 한쪽 패널 기판 위에 감광성 격벽 재료층을 형성하고, 상기 격벽 재료층에 격자상 격벽 패턴을 갖는 포토마스크를 통하여 기판면에 대하여 경사 방향에서 노광광을 조사하는 노광을 행하고, 그 후 현상함으로써, 상기 패널 기판 위에 상기 경사 노광에 의해 경화된 단면 형상이 산형으로 순테이퍼진 측벽면을 갖는 격벽 재료 부분으로 이루어지는 격자상 격벽을 형성하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성 방법.