KR100729953B1 - Method for manufacturing plastics substrate by plasma process and plastics substrate manufactured using the same - Google Patents

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KR100729953B1
KR100729953B1 KR20060026044A KR20060026044A KR100729953B1 KR 100729953 B1 KR100729953 B1 KR 100729953B1 KR 20060026044 A KR20060026044 A KR 20060026044A KR 20060026044 A KR20060026044 A KR 20060026044A KR 100729953 B1 KR100729953 B1 KR 100729953B1
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강진석
권지현
김인수
김희주
서영수
이영미
정기훈
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주식회사 엘지생명과학
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본 발명은 자발광이 낮고 특이도가 향상된 플라스틱 기판의 제조 방법에 있어서, a) 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q The present invention relates to a method of manufacturing the specificity of the enhanced plastic substrate low in self-luminous, a) 50 ㎛ × R in conditions of less than 50 ㎛ a <3 nm or R q < 4 nm인 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기를 갖는 플라스틱 기판을 성형하는 단계; <4 (Atomic Force Microscope) nm of AFM step of molding a plastic substrate having a surface roughness; b) 상기 플라스틱 기판에 플라즈마를 처리하는 단계; b) processing the plasma in the plastic substrate; 및 c) 상기 기판에 표면 개질용 모노머를 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법, 및 그에 의해 제조된 플라스틱 기판에 관한 것이다. It relates to a process comprising the, and the plastic substrate produced thereby and c) processing the surface modifying monomer for the substrate. 본 발명의 방법에 따르면 자발광이 현저히 감소되고 그에 의해 표적 생물분자의 검출 특이도를 현저히 향상시킬 수 있는 플라스틱 기판을 제공한다. According to the method of the present invention self-emission it is significantly reduced and provides a plastic substrate which can significantly enhance the specificity of the detection of a target biomolecule by him. 따라서 유리 기판에 비해 미세구조물을 포함하는 다양한 디자인이 용이한 장점에도 불구하고 높은 자발광의 단점 때문에 사용이 제한적이었던 플라스틱 기판이 마이크로어레이, 바이오칩 또는 웰플레이트용으로 널리 사용될 수 있다. Therefore, in spite of various advantages including the design it is easy compared to the microstructure of the glass substrate and a plastic substrate used was limited due to disadvantages of high self-emission can be widely used for the microarray, biochip, or well plate. 또한, 본 발명에 따르면 기판 표면의 특이도를 향상시킬 수 있고 특성을 용이하게 조절할 수 있다. Further, according to the present invention it is possible to improve the specificity of the substrate surface can be easily controlled properties.
플라스틱, 기판, 플라즈마, 표면개질, 자발광, 거칠기, 마이크로어레이, 바이오칩, 웰플레이트 Plastic substrates, plasma surface modification, a self-luminous, roughness, a microarray, biochip, well plate

Description

플라즈마 공정을 이용한 플라스틱 기판의 제조 방법 및 그에 의해 제조된 플라스틱 기판{Method for manufacturing plastics substrate by plasma process and plastics substrate manufactured using the same} Process for producing a plastic substrate by a plasma process, and a plastic substrate produced thereby {Method for manufacturing plastics substrate by plasma process and plastics substrate manufactured using the same}

도 1은 본 발명의 실시예에서 플라즈마 처리를 위해 사용된 플라즈마 생성 장치를 개략적으로 도시한 것이다. Figure 1 schematically shows a plasma generating apparatus used for plasma processing in an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 방법의 플라즈마 처리 단계 및 표면 개질용 모노머로서 알릴 글리시딜 에테르 처리 단계에서 발생하는 반응을 개략적으로 도시한 것이다. Figure 2 is a schematic illustration of a reaction occurring in the process step allyl glycidyl ether as a plasma treatment step and the surface-modified monomer for the process according to the invention.

도 3a는 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 사진이고, 도 3b는 미세유체 구조물을 포함하는 본 발명에 따른 플라스틱 기판을 개략적으로 도시한 것이다. Figure 3a is a photograph of a plastic substrate according to the invention, Figure 3b is a view schematically showing a plastic substrate according to the present invention including a microfluidic structure.

도 4는 본 발명에 따른 플라스틱 기판을 이용하여 프로브 생물분자를 고정화하고, 표적 생물분자를 혼성화 한 다음, 형광으로 검출한 결과를 도시한 것이다. Figure 4 illustrates the results of one, and by using a plastic substrate according to the invention, immobilizing a probe biomolecule, hybridization of the target biomolecule, and then detected by fluorescence.

본 발명은 표적 생물분자의 검출 특이도가 우수한 플라스틱 기판의 제조 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 플라스틱 기판에 관한 것이다. The present invention relates to a plastic substrate produced by the production method and the method of detecting specific plastic substrate is superior in the target biomolecule.

최근 생명공학이 발달함에 따라 개체의 유전정보를 구성하는 염기서열 및 단백질 서열 등이 밝혀지고 있으며, 이에 따라 서열 분석 및 질병 진단 등을 목적으로 하는 바이오칩을 개발하려는 움직임이 활발하다. Biotechnology has recently been sequenced and revealed protein sequences that make up the genetic information of an object as the development, so that the movement to develop biochips for the purpose of diagnosing diseases, such as sequencing and are active along. 바이오칩은 기판 상에 분석하고자 하는 DNA 또는 단백질 등의 생물분자를 고밀도로 마이크로어레이 형태로 집적시킨 것이다. A bio-chip is a microarray in which the integrated form of the biomolecule, such as DNA or protein to be analyzed on a substrate at a high density. 바이오칩은 제조 방법에 따라 포토리쏘그래피칩, 핀 방식의 스폿팅 칩 또는 잉크젯 방식의 스폿팅 칩 등으로 분류된다. Biochips are divided into photolithography chips, spotting pin way of a chip or an ink jet method in spotting chips depending on the production method.

상기 프로브 생물분자가 마이크로어레이 형태로 고정되어 있는 바이오칩에 분석하고자 하는 표적 생물분자를 결합 반응시키고, 상기 프로브 생물분자와 표적 생물분자의 상보적인 정도에 따른 상이한 결합도를 검출한다. The probe biomolecule and the binding of the target biomolecule to be analyzed for a bio-chip, which is fixed to a microarray reaction type, and detects a different coupling in accordance with the degree of complementary of the probe biomolecule and the target biomolecule. 상기 결합도의 검출은 일반적으로 형광물질로 표지된 표적 생물분자를 프로브 생물분자와 혼성화 반응시킨 뒤, 형광물질로부터 발산되는 시그날을 검출하는 광학적 방법에 의해 이루어진다. Detection of the degree of coupling is made by the general, the target biomolecule labeled with a fluorescent material on optical methods for detecting the probe biomolecule and the hybridization reaction was back, the signal emitted from the fluorescent material.

상기 마이크로어레이 기법은 DNA 또는 단백질 등의 생물분자를 극소량 사용하여, 다량의 생물학적 정보를 얻을 수 있다는 점이 가장 큰 장점이다. The microarray technique is a major advantage that the problem with a very small amount of biological molecules such as DNA or protein, to obtain the large amount of biological information. 바이오칩은 마이크로어레이 형태로 프로브 생물분자가 고정되어 있는 것을 포함하면서 표적 생물분자를 분리, 정제 및 증폭 등의 모든 전처리 과정과 분석까지 가능하도록 하나의 칩상에 구현하고자 하는 LOC(Lab on a chip) 개념으로, 응급현장에서 즉시 진단이 가능하도록 하는 POC(Point of care) 개념으로, 정보통신분야와의 융합을 통해 시간과 장소에 구애 받지 않고 개인 건강상태를 체크하고 예측할 수 있는 e-Healthcare 개념으로 점차 발전되어가고 있다. Biochips, containing that micro-array type probe biomolecules are fixed-target organisms to remove the molecule, refining and LOC (Lab on a chip) concept to be implemented on a single chip so as to be up to all pre-processing and analysis, such as amplification to gradually from an emergency scene as POC (Point of care) concept to enable immediate diagnosis, information, e-Healthcare concept that can not receive through the fusion bound by time and place, check the individual's health status and forecast of the telecommunications sector It becoming developed.

상기 발전 과정에 있어서 생물분자를 특정 기판에 고정화하기 위한 표면개질은 가장 기본이 되는 기술이며, 이를 위해 일반적으로 습식 공정이 사용되고 있다. In the development process, the surface-modified to immobilize the biomolecule on a specific substrate is a technology which is the most basic, is generally used in a wet process for this purpose. 종래의 습식공정은 에폭사이드, 아민 또는 알데히드 등의 관능기를 가지는 실란 화합물을 에탄올과 같은 용매로 희석한 후, 유리 기판에 딥 코팅과 같은 방식으로 코팅한 다음, 100 ℃ 이상의 온도에서 1시간 정도 열처리 하여 제조하는 방법이다. After diluting the silane compound having a functional group such as a conventional wet process, epoxides, amines or aldehydes in a solvent such as ethanol, was coated in a manner such as dip coating to the glass substrate, and then, about 1 hour at least 100 ℃ temperature heat treatment to a method for manufacturing. 이때 용매로 사용될 수 있는 물질은 에탄올 외에 메탄올, 프로판올 및 부탄올과 같은 알코올 용매, 또는 메틸에틸케톤 또는 디메틸포름아미드 등의 군에서 선택되어 질 수 있다. The materials that may be used as a solvent can be selected from the group of solvents such as alcohol, or methyl ethyl ketone or dimethyl formamide, such as methanol, propanol and butanol in addition to ethanol. 또한 코팅방법은 팁 코팅 방법 이외에 스프레이 코팅, 스핀 코팅 등의 다양한 방식이 적용될 수 있다. In addition, the coating method has a number of ways, such as spray coating, spin coating may be applied in addition to the tip coating method.

하지만, 종래의 습식공정의 가장 큰 기술적 한계는 마이크로 크기의 부분적으로 서로 다른 표면개질이 어렵다는 점이다. However, the greatest technical limitation of the prior art wet process is a part that is difficult to have different surface modification of the microscale. 따라서 종래의 습식공정이 가지고 있는 기술적 한계를 극복할 수 있는 새로운 공정기술이 점차 요구되고 있다. Therefore, the new process technology that can overcome the technical limitations in the conventional wet process has been increasingly required.

한편, 상기 마이크로어레이용 기판으로서 유리, 실리콘 또는 플라스틱과 같은 다양한 물질들이 사용되고 있다. On the other hand, as the microarray substrate using a variety of materials have been used such as glass, silicon or plastic. 상기 물질들 중 플라스틱은 다른 물질에 비해 미세구조물을 포함하는 다양한 디자인이 용이하고, 대량 생산이 용이하며, 경제적이라는 장점을 갖지만, 자발광이 상대적으로 높아 표적 생물분자의 검출 특이도가 낮다는 문제점 때문에 널리 이용되지 못하고 있는 실정이다. One of the materials plastic, and is easy to various designs including micro-structure, and facilitates the mass production as compared to other materials, has the economy of advantage, self-emission is relatively high target detection specificity is low is the problem of biomolecules since a situation that does not widely used.

본 발명자들은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하고자 연구를 거듭한 결과, 플라스틱 기판의 제조시 플라스틱 기판의 거칠기를 조절하고 표면 개질시 플 라즈마를 처리하면 자발광이 현저히 감소하여 생물분자의 검출 특이도가 우수한 플라스틱 기판을 제조할 수 있음을 확인하였다. The present inventors have repeated studies to solve the problems of the prior art, by controlling the roughness of the plastic substrate in the manufacture of a plastic substrate processing platform Raj forehead when the surface-modified self-emission is significantly reduced specific detection of biomolecules it was confirmed that the degree can be produced excellent plastic substrate.

따라서 본 발명의 목적은 자발광의 감소 및 생물분자의 검출 특이도가 향상되고, 특성 조절이 용이한 플라스틱 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다. It is therefore an object of the present invention is the detection of specific reduction of the self-luminous and a biomolecule is also improved, and to provide a method for producing a plastic substrate is easily controlled properties.

또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 방법에 의해 제조된 자발광의 감소 및 생물분자의 검출 특이도가 향상된 플라스틱 기판을 제공하는 것이다. It is another object of the invention to provide a plastic substrate specific detection is also improved in the reduction of the light-emitting character and biological molecules produced by the above method.

본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 플라스틱 기판의 제조 방법에 있어서, 본 발명은 a) 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q According to an aspect of the invention there is provided a method of manufacturing a plastic substrate, the invention is a) 50 ㎛ × R in conditions of less than 50 ㎛ a <3 nm or R q < 4 nm인 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기를 갖는 플라스틱 기판을 성형하는 단계; <4 (Atomic Force Microscope) nm of AFM step of molding a plastic substrate having a surface roughness; b) 상기 플라스틱 기판에 플라즈마를 처리하는 단계; b) processing the plasma in the plastic substrate; 및 c) 상기 기판에 표면 개질용 모노머를 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법을 제공한다. And c) there is provided a method comprising the step of treating the surface modifying monomer for the substrate.

본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q < 4 nm인 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기 를 갖고, 표면에 플라즈마 및 표면 개질용 모노머가 처리된 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판을 제공한다. In order to achieve the object of the present invention, the present invention has an R a <3 nm or R q <4 nm in (Atomic Force Microscope) AFM surface roughness under the following conditions 50 ㎛ × 50 ㎛, plasma and the surface of the surface providing a plastic substrate, characterized in that for modifying monomer is processed.

이하, 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 제조 방법을 단계별로 설명한다. Will be described below, step-by-step a method for manufacturing a plastic substrate according to the present invention.

본 발명에 따른 플라스틱 기판의 제조 방법은 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q < 4 nm인 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기를 갖는 플라스틱 기판을 성형하는 단계를 포함한다. Method of manufacturing a plastic substrate according to the present invention includes the step of molding a plastic substrate having a R a <3 nm or surface roughness R q <4 nm in (Atomic Force Microscope) AFM under the following conditions 50 ㎛ × 50 ㎛ .

본 발명에 따른 플라스틱 기판은 폴리스티렌(PS), 사이클로올레핀코폴리머(COC) 및 폴리카보네이트(PC)로 이루어진 군에서 선택되는 투명 수지 또는 폴리프로필렌(PP) 및 폴리에틸렌(PE)으로 이루어진 군에서 선택되는 반투명 수지일 수 있다. Plastics substrate according to the present invention is selected from the group consisting of polystyrene (PS), cyclo olefin copolymer (COC) and a polycarbonate transparent resin or polypropylene (PP) and polyethylene (PE) is selected from the group consisting of (PC) It can be a translucent resin. 바람직하게, 상기 플라스틱 기판은 상기 투명 수지일 수 있다. Preferably, the plastic substrate may be a transparent resin. 상기 플라스틱 기판은 내약품성 및 내열성을 가져야 한다. The plastic substrate should have a chemical resistance and heat resistance.

본 발명의 실시예에서는 높은 경제성, 낮은 수축률, 적절한 내열성을 만족하는 PS 수지를 사용하였다. According to an embodiment of the present invention was used as a PS resin that satisfies the high economic efficiency, low shrinkage, appropriate heat resistance. 플라스틱 기판의 자발광에 영향을 미치는 요인으로는 수지 자체 및 첨가제들에 기인할 뿐만 아니라, 가공단계에서의 국부적인 열분해, 잔류응력, 금형 거칠기 등에도 민감하게 작용하는 것으로 확인되었다. Factors influencing the self-emission of the plastic substrate was also found to act sensitively localized thermal decomposition, residual stresses, roughness or the like of the mold in, processing steps, as well as due to the resin itself and the additives.

낮은 표면 거칠기를 갖는 플라스틱 기판은 자발광이 현저히 감소됨을 확인하였다(실시예 1 참조). A plastic substrate having a low surface roughness are self-emission is markedly reduced confirmed (see Example 1). 구체적으로, 본 발명에 따른 플라스틱 기판은 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기가 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q < 4 nm인 것이 바람직하다. Specifically, a plastic substrate according to the present invention preferably has a surface roughness (Atomic Force Microscope) the AFM under the following conditions 50 ㎛ × 50 ㎛ R a < 3 nm or R q <4 nm.

상기에서, R a 는 평균 거칠기(Average Roughness)를 나타내고, R q 는 제곱평균 거칠기(Root-Mean-Square Roughness)를 나타낸다. In the above, R a represents a mean roughness (Average Roughness), R q represents a root-mean-square roughness (Root-Mean-Square Roughness) .

상기 본 발명에 따른 낮은 표면 거칠기를 갖는 플라스틱 기판은 예컨대 사출 성형 방법에 의해 제조될 수 있다. The plastic substrate has a low surface roughness according to the invention can be prepared for example by injection molding. 즉, 광학 렌즈 수준으로 경면 처리한 금형을 이용하여 상기 플라스틱 기판을 사출 성형하여 낮은 표면 거칠기를 갖는 플라스틱 기판을 제조할 수 있다. In other words, the plastic injection-molded substrate, using a mold mirror-processed by an optical lens level can be manufactured in a plastic substrate having a low surface roughness.

다음으로, 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 제조 방법은 상기 플라스틱 기판에 플라즈마를 처리하는 단계를 포함한다. Next, a manufacturing method of a plastic substrate according to the invention comprises the step of treating the plasma in the plastic substrate.

본 발명에 있어서, 상기 플라즈마는 아르곤 플라즈마가 바람직하다. In the present invention, the plasma is an argon plasma is preferred. 질소 또는 산소 플라즈마는 기판 표면에 라디칼 뿐만 아니라, 다양한 질소 또는 산소 화합물을 형성하기 때문에 다소 부적절 하다. Nitrogen or an oxygen plasma, as well as radicals on the substrate surface, it is somewhat inadequate because they form a wide range of nitrogen or oxygen compound.

플라즈마의 성격을 규정짓는 플라즈마 에너지 밀도는 W/FM의 비율로 표시되며, 상기 W는 플라즈마 발생장치로부터 가해진 파워로 J/sec의 단위를, 상기 F는 유량으로 mole/sec의 단위를, 상기 M은 분자량으로 g/mole의 단위를 나타낸다. The plasma energy density that define the nature of the plasma W / are expressed as a percentage of the FM, the W is the unit of J / sec to the power applied from the plasma generation device, wherein F is the flow rate in the units of mole / sec, M represents a unit of g / mole molecular weight. 즉, 분모는 g/sec으로 질량유량 단위를 가지고, 전체는 J/g의 단위를 갖는다. That is, the denominator has a mass flow rate basis in g / sec, the whole has units of J / g.

본 발명에 있어서, 상기 플라즈마는 10 8 J/kg 이하의 에너지 밀도를 갖는 연속 플라즈마 또는 펄스 플라즈마가 바람직하다. In the present invention, the plasma is a continuous plasma or plasma pulse having an energy density of less than 10 8 J / kg is preferred. 펄스 플라즈마는 연속 플라즈마에 비해 관능기 손상을 최소화 한다는 장점을 가지고 있다. Pulsed plasma has the advantage of minimizing the functional damage than continuous plasma.

본 발명에 있어서, 상기 플라즈마는 10분 이하 동안 처리되는 것이 바람직하다. In the present invention, the plasma is preferably processed for more than 10 minutes.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 플라즈마의 주파수는 마이크로웨이브(2.45 GHz) 또는 RF(13.56 MHz)인 것이 바람직하다. In the present invention, the frequency of the plasma is preferably in a microwave (2.45 GHz) or RF (13.56 MHz).

본 발명에 따른 플라즈마 처리는 통상적인 방법 또는 장치에 의해 수행될 수 있다. Plasma treatment according to the invention can be carried out by a conventional method or device. 도 1은 본 발명의 실시예에서 플라즈마 처리를 위해 사용된 플라즈마 생성 장치를 개략적으로 도시한 것이다. Figure 1 schematically shows a plasma generating apparatus used for plasma processing in an embodiment of the present invention.

본 발명에서 사용한 플라즈마 공정은 저온/진공 플라즈마 군에 속하는 것으로, 처리과정에서 온도에 의한 변형 등의 손상 확률이 매우 적기 때문에, 플라스틱과 같은 재료도 가능하다. Since the plasma process used in the present invention is very little probability of damage such as deformation due to the temperature at, the processing to fall within the low-temperature / vacuum plasma group, it is also possible material, such as plastic. 따라서, 유리, 실리콘과 같은 무기재료 기판을 대신하여 플라스틱을 사용할 수 있다는 장점을 가지고 있다. Therefore, it has the advantage that it can be used a plastic in place of the inorganic material substrate, such as glass, silicon. 도 3b와 같이 플라스틱은 유리 또는 실리콘에 비해 미세구조물을 가진 제품의 대량생산이 용이하며 경제적이기 때문이다. Figure 3b is a plastic, such as because it is easy to mass production of products with a microstructure as compared to glass or silicon and economical. 아울러 플라즈마 공정은 진공조건에서 건식공정으로 처리되기 때문에 매우 균일하게 표면을 처리할 수 있으며, 마이크로 패턴을 가진 마스크를 사용하여 부분적으로 서로 다른 표면개질도 수행할 수 있다. In addition, the plasma process can process a very uniform surface treatment because a dry process in vacuum condition, by using a mask having a micro-pattern may be in part to each other perform other surface modification.

다음으로, 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 제조 방법은 상기 기판에 표면 개질용 모노머를 처리하는 단계를 포함한다. Next, a manufacturing method of a plastic substrate according to the invention comprises the step of treating the surface modifying monomer for the substrate.

본 발명에 있어서, 상기 처리되는 모노머는 에폭사이드 관능기를 포함하는 화학물질 군에서 선택되고, 바람직하게 탄소이중결합을 갖고 있는 화학식 1의 알릴 글리시딜 에테르(Allyl glycidyl ether) 또는 화학식 2의 글리시딜 메타크릴레이트(Glycidyl methacrylate)이고, 그에 의해 상기 플라스틱 표면은 에폭사이드 기로 개질되는 것일 수 있다. In the present invention, the monomer in which the treatment is selected from the chemical group comprises an epoxide functional group, preferably an allyl of the formula (1) having a carbon-carbon double bond glycidyl ether (Allyl glycidyl ether) or a glycidyl of the general formula (2) methacrylate (Glycidyl methacrylate), and wherein the plastic surface and thereby may be one that is modified epoxide groups. 자발광 증가 폭을 감소시킨다는 측면에서, 알릴 글리시딜 에테르가 글리시딜 메타크릴레이트에 비해 바람직하다. Here in terms of reducing the emission width increases, allyl glycidyl ether is preferred as compared to glycidyl methacrylate.

<화학식 1> <Formula 1>

Figure 112006019940508-pat00001

<화학식 2> <Formula 2>

Figure 112006019940508-pat00002

또한, 상기 처리되는 모노머는 알데히드기로 기판을 개질하는 경우에는 헥사날, 옥타날, 노나날, 데카날, 도데실 알데히드, 트랜스-2-펜테날, 트랜스-2-헥세날 등의 끊는점이 가급적 높은 화합물이 바람직하다. Further, the monomers of the above process is modified if the substrate to aldehyde is hexanal, octa-day, day-to-day furnace, decamethylene day, dodecyl aldehyde, trans-2-pen tenal, trans-2-hexyl, etc. senal high boiling point, preferably in the this compound is preferred.

또한, 상기 처리되는 모노머는 아민기로 기판을 개질하는 경우에는 (3-아미노프로필)트리메톡시실란, 3-(디에틸아미노)프로필아민, 프로필아민, 부틸아민, 1-아미노-2-프로판올, 트리스(2-아미노에틸)아민, 이소부틸아민, 이소펜틸아민 등과 같이 일차 아민 관능기를 포함하는 화합물질 군에서 선택되어 질 수 있으며, 탄소 이중결합을 갖고 있는 알릴 아민 또는 에테르 화합물인 3-메톡시프로필 아민이 보다 바람직하다. Further, the monomers of the process in the case of modifying the substrate an amine group (3-aminopropyl) trimethoxysilane, 3- (diethylamino) propylamine, propylamine, butylamine, 1-amino-2-propanol, tris (2-aminoethyl) amine, isobutyl amine, isopentyl amine may be selected from compounds containing a primary amine functional group, such as, carbon having a double bond in an allyl amine or an ether compound 3-methoxy the propylamine is more preferable.

본 발명에 있어서, 상기 플라즈마 처리 단계 및 표면 개질용 모노머 처리 단계는 개별적으로 수행될 수 있지만, 동시에 수행될 수도 있다. In the present invention, the plasma treatment step and the surface modification step for the monomers, but processing can be carried out separately, at the same time may be performed.

도 2는 본 발명에 따른 방법의 플라즈마 처리 단계 및 표면 개질용 모노머로서 알릴 글리시딜 에테르 처리 단계에서 발생하는 반응을 개략적으로 도시한 것이다. Figure 2 is a schematic illustration of a reaction occurring in the process step allyl glycidyl ether as a plasma treatment step and the surface-modified monomer for the process according to the invention. 상기 과정에 의해 기판 표면에 에폭사이드 관능기가 도입된다. The epoxide functional groups are introduced to the surface of the substrate by the process.

도 2(a)를 참조하면, 기판에 아르곤 플라즈마를 처리하면 상기 플라즈마는 기판에 화학적인 결합을 하지 않고, 단지 라디칼을 형성시킨다. Referring to Figure 2 (a), when the argon plasma treatment on the substrate on which the plasma does not chemically bond to the substrate, thereby forming a complex radical. 도 2(b)를 참조하 면, 상기에서 형성된 라디칼과 모노머의 탄소이중결합이 반응하고, 라디칼이 전이되면서 다양한 구조의 화합물이 형성된다. FIG surface, see 2 (b), the carbon-carbon double bond of the radical and the monomer and formed in the reaction, these compounds of various structures are formed as a radical transfer. 본 발명의 가장 중요한 특징은 플라즈마 공정단계 및 조건 조절을 통해, 화합물 구조를 특이도 향상에 기여할 수 있는 방향으로 유도할 수 있다는 점이다. The most important feature of the present invention is that through the plasma process step and the conditions controlled, the specific structure of the compound can also be induced in a direction to contribute to the improvement. 도 2(c)를 참조하면, 수소를 도입하여 라디칼을 종결한다. Referring to Figure 2 (c), and terminates the radical by introducing hydrogen.

본 발명에 따른 플라스틱 기판의 제조 방법에 있어서, 상기 플라스틱 기판에 미세유체 구조물을 형성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. In the method for producing the plastic substrate according to the present invention, it may further comprise a step of forming a microfluidic structure to the plastic substrate. 상기 단계는 예컨대, 상기 플라스틱의 성형 단계와 동시에 수행될 수 있을 것이다. The step, for example, will be performed at the same time as the shaping of the plastic.

본 발명의 다른 측면에 있어서, 본 발명은 본 발명에 따른 방법에 의해 제조되는 플라스틱 기판을 제공한다. In another aspect of the invention, the invention provides a plastic substrate produced by the method according to the invention.

본 발명에 따른 플라스틱 기판은 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q < 4 nm인 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기를 갖고, 표면에 플라즈마 및 표면 개질용 모노머가 처리된 것을 특징으로 한다. Plastics substrate according to the present invention is having a R a <3 nm or surface roughness R q <4 nm in (Atomic Force Microscope) AFM under the following conditions 50 ㎛ × 50 ㎛, the plasma and the surface modifying monomer for the process on the surface and that is characterized.

상기 플라즈마는 아르곤 플라즈마일 수 있다. The plasma may be an argon plasma. 또한, 상기 플라즈마는 10 8 J/kg 이하의 에너지 밀도를 갖는 연속 플라즈마 또는 펄스 플라즈마일 수 있다. In addition, the plasma may be continuous or pulsed plasma having a plasma energy density of less than 10 8 J / kg. 또한, 상기 플라즈마는 10분 이하 동안 처리될 수 있다. In addition, the plasma may be treated for 10 minutes or less. 또한, 상기 플라즈마의 주파수는 마이크로웨이브(2.45 GHz) 또는 RF(13.56 MHz)일 수 있다. In addition, the frequency of the plasma may be a microwave (2.45 GHz) or RF (13.56 MHz).

바람직하게, 상기 플라스틱 기판은 폴리스티렌(PS), 사이클로올레핀코폴리머(COC) 및 폴리카보네이트(PC)로 이루어진 군에서 선택되는 투명 수지 또는 폴리프 로필렌(PP) 및 폴리에틸렌(PE)으로 이루어진 군에서 선택되는 반투명 수지일 수 있다. Preferably, the plastic substrate is polystyrene (PS), cyclo olefin copolymer (COC) and a transparent resin or a polyester selected from the group consisting of polycarbonate (PC) profile alkylene in the group consisting of (PP) and polyethylene (PE) is selected may be a translucent resin.

상기 처리되는 모노머는 에폭사이드 관능기를 포함하며 탄소이중결합을 갖고 있는 알릴 글리시딜 에테르(Allyl glycidyl ether) 또는 글리시딜 메타크릴레이트(Glycidyl methacrylate)이고, 그에 의해 상기 플라스틱 기판 표면은 에폭사이드기로 개질될 수 있다. Monomers in which the treatment comprises an epoxide functional group and the glycidyl ether (Allyl glycidyl ether) or glycidyl methacrylate (Glycidyl methacrylate), and the plastic substrate surface thereby notify that has a carbon-carbon double bond are groups epoxide It can be modified.

다르게는, 상기 처리되는 모노머는 알데히드기 관능기를 포함하며 끓는점이 80℃ 이상인 헥사날(Hexanal), 옥타날(Octanal) 또는 노나날(Nonanal)이고, 그에 의해 상기 플라스틱 기판 표면은 알데히드기로 개질될 수 있다. Alternatively, the monomer in which the processing includes an aldehyde functional group, and a hexanal than a boiling point of 80 ℃ (Hexanal), octa-day (Octanal) or no day-to-day (Nonanal), the plastic substrate surface thereby may be modified with an aldehyde group .

또 다르게는, 상기 처리되는 모노머는 일차 아민 관능기를 포함하며 탄소이중결합을 갖고 있는 알릴아민(Allylamine) 또는 에테르 화합물인 3-메톡시프로필 아민(3-Methoxypropylamine)이고, 그에 의해 상기 플라스틱 기판 표면은 아민기로 개질될 수 있다. Alternatively, the monomers of the above process comprises a primary amine functional group and is a 3-methoxy-propylamine (3-Methoxypropylamine) carbon allylamine (Allylamine) having a double bond or an ether compound, the plastic substrate surface is thereby an amine group can be modified.

도 3a는 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 사진이고, 도 3b는 미세유체 구조물을 포함하는 본 발명에 따른 플라스틱 기판을 개략적으로 도시한 것이다. Figure 3a is a photograph of a plastic substrate according to the invention, Figure 3b is a view schematically showing a plastic substrate according to the present invention including a microfluidic structure.

도 4는 본 발명에 따른 플라스틱 기판을 이용하여 프로브 생물분자를 고정화하고, 표적 생물분자를 혼성화 한 다음, 형광으로 검출한 결과를 도시한 것이다. Figure 4 illustrates the results of one, and by using a plastic substrate according to the invention, immobilizing a probe biomolecule, hybridization of the target biomolecule, and then detected by fluorescence.

본 발명의 실시예에서는 종래의 유리 기판 및 본 발명에 따른 방법으로 제조된 플라스틱 기판에 각각 프로브 생물분자를 고정화하고, 표적 생물분자를 혼성화 한 다음, 형광으로 검출한 결과를 비교하였다. According to an embodiment of the present invention it was compared to the respective fixing the probe biomolecule on the plastic substrate produced by the method according to the conventional glass substrate, and the present invention and hybridize to the target biomolecule, and then, a result of detection by fluorescence. 그 결과 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 특이도가 종래의 기판에 비해 현저히 우수하였다. As a result, the specificity was significantly superior to the conventional substrate of the plastic substrate according to the present invention.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 한다. It will be more detailed description of the present invention to the following examples. 이들 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이므로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되는 것으로 해석되지는 않는다. These embodiments will be appreciated that the present invention, the scope of the present invention is not construed as being limited to these examples.

<실시예 1> <Example 1>

표면 거칠기에 따른 자발광 측정 Self-emission measurements corresponding to the surface roughness

플라스틱 기판의 표면 거칠기가 자발광에 미치는 영향을 확인하기 위해, 일반 수준으로 경면 처리한 금형과 광학렌즈 수준으로 경면 처리한 금형을 이용하여 LG화학에서 생산하는 PS 15NFI 수지로 플라스틱을 성형하였다. For the surface roughness of the plastic substrate characters to determine the effect on light emission, using a mold mirror-treated with mirror processing a lens mold and an optical level of the normal level was molded by a plastic resin to produce PS 15NFI from LG Chem.

각각의 금형에서 제조된 플라스틱 기판의 거칠기는 AFM(atomic force microscope)을 이용하여 측정하였으며, 경면 처리 수준에 따른 경계값은 50 ㎛ × 50 ㎛의 조건에서 R a 는 3 nm 또는 R q 는 4 nm이었다. The roughness of the plastic substrate prepared in each of the mold was measured using an AFM (atomic force microscope), the boundary value of the mirror surface treatment level is R a is 3 nm or R q under the conditions of 50 ㎛ × 50 ㎛ is 4 nm respectively.

자발광 측정은 Axon사 GenePix 4000B 스캐너를 이용하여 수행하였고, 자발광 측정조건은 레이저 파워 100 %, PMT 튜브레벨 600이었다. Self-emission measurement was carried out using a four Axon GenePix 4000B scanner, a self-emission measurement conditions, was 100% of the laser power, the level 600 PMT tube.

그 결과를 표 1에 나타내었다. The results are shown in Table 1. 표 1에 나타낸 바와 같이, 표면 거칠기 개선을 통해 532 nm의 레이저의 경우에 약 26 % 수준으로, 635 nm 레이저의 경우에 약 44 % 수준으로 자발광을 낮출 수 있었다. As shown in Table 1, the surface to about 26% in the case of the 532 nm laser with a roughness improved, characters of about 44% in the case of the 635 nm laser was able to lower the emission.

상기 결과로부터 플라스틱 기판의 거칠기를 낮춤으로써 상기 플라스틱 기판의 자발광을 감소시킬 수 있음을 확인하였다. By lowering the roughness of the plastic substrate from the results it was confirmed that to reduce the self-emission of the plastic substrate.

<표 1> <Table 1>

금형 경면 처리 수준 Mold mirror processing level 강도 @ 532 nm Strength @ 532 nm 강도 @ 635 nm Strength @ 635 nm
일반 수준 General Level 2992 2992 442 442
광학렌즈 수준 Level optics 782 782 194 194

<실시예 2> <Example 2>

PS 수지에 따른 자발광 측정 Self-emission measurement according to the PS resin

PS 수지에 따른 자발광을 확인하기 위해, 양산 판매되고 있는 3종류의 PS 수지, 즉 LG화학 PS 15NFI, LG화학 PS 25SPI 및 BASF PS 147F를 비교하였다. To verify the self-emission of the PS resin, it was compared to mass production of three types of PS resin sold, i.e. LG Chemical PS 15NFI, LG Chemical 25SPI PS and PS BASF 147F. 이때 사용된 금형은 광학렌즈 수준으로 경면 처리한 금형이며, 자발광 측정조건은 실시예 1과 동일하였다. Wherein the mold used is the mold with a mirror-finished optical lens processing level, a self-luminous measurement conditions were the same as in Example 1.

그 결과를 표 2에 나타내었다. The results are shown in Table 2. 표 2에 나타낸 바와 같이, 상기 3종류의 PS수지는 자발광에서 현저한 차이를 나타내었으며 LG화학 PS 15NFI가 가장 우수한 결과를 나타내었다. As shown in Table 2, the three kinds of the PS resin exhibited a significantly different character at the emission exhibited the most excellent results LG Chemical PS 15NFI. 이는 PS 수지에 포함된 첨가제와 가공단계에서의 국부적인 열분해 및 잔류응력이 복합적으로 기여했기 때문이라고 판단된다. This is determined to be due to local thermal cracking and residual stress in the additive and the processing steps included in the PS resin was a contribution to the complex. 특히 첨가제 함량과 성분이 유사한 LG화학 PS 15NFI와 25SPI를 비교하면, 15NFI가 분자량이 낮고 유동성이 우수하여, 국부적인 열분해와 잔류응력이 발생할 가능성은 매우 적다. In particular, when the additive content of the component compared to a similar LG Chemical PS 15NFI and 25SPI, by 15NFI a low molecular weight is excellent in fluidity, the possibility that a local thermal cracking and residual stress caused is very small.

<표 2> <Table 2>

PS 수지 PS resin 강도 @ 532 nm Strength @ 532 nm 강도 @ 635 nm Strength @ 635 nm
LG화학 PS 15NFI LG Chemical PS 15NFI 782 782 194 194
LG화학 PS 25SPI LG Chemical PS 25SPI 1558 1558 308 308
BASF PS 147F BASF PS 147F 1800 1800 747 747

<실시예 3> <Example 3>

플라즈마 처리 시간에 따른 자발광 증가 측정 Self-luminous increase measured according to the plasma processing time

상기 실시예에서와 같이 LG화학 PS 15NFI 수지를 광학렌즈 수준으로 경면 처 리한 금형으로 제작한 플라스틱 기판에 대해 플라즈마 처리 시간에 따른 자발광 증가 수준을 확인하였다. LG Chem PS 15NFI emission level increase chair according to the plasma processing time for the resin to a plastic substrate made of mirror surface - treated with a mold-level optical lens as in the above Example were confirmed.

플라즈마 처리를 위해 사용된 플라즈마 생성 장치를 도 1에 개략적으로 도시하였다. A plasma generating apparatus used for plasma treatment was shown schematically in Figure 1. 아르곤 유량은 30 cc/min, 압력은 20 Pa, 플라즈마 파워는 100 W로 고정하였으며, 5분 간격으로 최대 30분까지 각각 처리하였다. Argon flow rate was 30 cc / min, the pressure is 20 Pa, the plasma power was fixed at 100 W, respectively, were treated with 5-minute intervals for up to 30 minutes. 상기와 같은 조건에서 플라즈마 에너지 밀도는 1.12×10 8 J/kg이었다. Under the same conditions as the plasma energy density was 1.12 × 10 8 J / kg. 자발광 측정 조건은 실시예 1과 동일하였다. Self-emission measurement conditions were the same as in Example 1.

상기 결과를 표 3에 나타내었다. It shows the results are shown in Table 3. 표 3에 나타낸 바와 같이, 처리 시간에 따라 1분당 약 110 수준의 직선증가를 나타내었다. As shown in Table 3, it was first shown a linear increase of about 110 per minute, depending on the level of processing time.

<표 3> <Table 3>

처리시간 Processing Time 5분 5 minutes 10분 10 minutes 15분 15 minutes 20분 20 minutes 25분 25 minutes 30분 30 minutes
강도 @ 532 nm Strength @ 532 nm 1615 1615 2253 2253 2627 2627 3171 3171 3551 3551 4641 4641

<실시예 4> <Example 4>

플라즈마 파워에 따른 자발광 증가 측정 Self-luminous increase measured according to the plasma power

실시예 3과 동일한 방법으로 제작된 플라스틱 기판을 사용하여 플라즈마 파워에 따른 자발광 증가수준을 파악하였다. It performed using a plastic substrate produced in the same manner as in Example 3 was identified to increase the light emitting power level character of the plasma. 아르곤 유량은 30 cc/min, 압력은 20 Pa, 처리시간은 10분으로 고정하였으며, 50 W 간격으로 최대 300 W까지 각각 처리하였다. Argon flow rate was 30 cc / min, the pressure is 20 Pa, the processing time was fixed at 10 min, were each treated with 50 W interval of up to 300 W. 상기와 같은 조건에서 플라즈마 에너지 밀도는 5.61×10 7 J/kg 내지 3.36×10 8 J/kg이었다. Under the same conditions as the plasma energy density was 5.61 × 10 7 J / kg to 3.36 × 10 8 J / kg. 자발광 측정조건은 실시예 1과 동일하였다. Self-emission measurement conditions were the same as in Example 1.

상기 결과를 표 4에 나타내었다. It shows the results are shown in Table 4. 표 4에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 파워 에 따라 10 W당 약 110 수준의 직선증가를 나타내었다. As shown in Table 4, it showed a linear increase in the level of 110 per 10 W, depending on the plasma power.

실시예 3 및 실시예 4의 결과를 종합하면, 100 W로 1분간 처리하는 것과 10 W로 10분간 처리할 경우 에너지 양(6 kJ)이 같기 때문에 동일한 자발광을 나타내었다. Example 3 and carrying out Taken together, the results of Example 4, showing the same self-luminous, because as for 1 min at 100 W to 10 W for 10 minutes and if the same amount of energy (6 kJ).

<표 4> <Table 4>

플라즈마 파워 Plasma Power 50 W 50 W 100 W 100 W 150 W 150 W 200 W 200 W 250 W 250 W 300 W 300 W
강도 @ 532 nm Strength @ 532 nm 1666 1666 2253 2253 2901 2901 3092 3092 3600 3600 4239 4239

<실시예 5> <Example 5>

압력에 따른 자발광 증가 측정 Self-emission measurement according to the pressure increase

실시예 3과 동일한 방법으로 제작된 플라스틱 기판을 사용하여 압력에 따른 자발광 증가수준을 파악하였다. Using the example 3 and the plastic substrate produced by the same method were investigated by the light emitting character of the pressure increase level. 아르곤 유량은 30 cc/min, 플라즈마 파워 100 W, 처리시간은 10분으로 고정하였으며, 20 Pa 간격으로 최대 100 Pa까지 각각 처리하였다. Argon flow rate was 30 cc / min, a plasma power of 100 W, treatment time was fixed at 10 minutes, and each processing up to 100 Pa to 20 Pa interval. 상기와 같은 조건에서 플라즈마 에너지 밀도는 1.12×10 8 J/kg이었고, 자발광 측정조건은 실시예 1과 동일하였다. It was a plasma energy density in the condition as described above is 1.12 × 10 8 J / kg, a self-luminous measurement conditions were the same as in Example 1.

상기 결과를 표 5에 나타내었다. It shows the results are shown in Table 5. 표 5에 나타낸 바와 같이, 압력에 따른 자발광 증가는 매우 미미하였다. As shown in Table 5, the self-emission increases due to pressure was so small. 본 발명에 사용된 방식과 같은 저온/진공 플라즈마는 압력이 증가하면 플라즈마가 발생되지 않는 특징을 가지고 있다. Low-temperature / vacuum plasma, such as the method used in the present invention has a feature that the plasma is not generated when the pressure increases.

<표 5> <Table 5>

압력 pressure 20 Pa 20 Pa 40 Pa 40 Pa 60 Pa 60 Pa 80 Pa 80 Pa 100 Pa 100 Pa
강도 @ 532 nm Strength @ 532 nm 2253 2253 2364 2364 2669 2669 2615 2615 2620 2620

<실시예 6> <Example 6>

유사 염기서열 생물분자 특이도 향상 Similar sequences improve biological specificity molecule

실시예 3과 동일한 방법으로 제작된 플라스틱 기판에 플라즈마 공정을 적용하여 에폭사이드 관능기를 가지는 표면으로 개질하였다. Carried out by applying a plasma process to the plastics substrate produced in the same manner as in Example 3 was modified with a surface containing an epoxide functional group.

플라즈마 처리조건은 2단계로 구분되며, 1단계에서는 아르곤 플라즈마를 이용하여 플라스틱 기판에 라디칼을 도입하였다. The plasma processing conditions are divided in two steps, the first step was introduced into a radical on a plastic substrate using an argon plasma. 아르곤 유량 20 cc/min, 압력 20 Pa, 플라즈마 파워 100 W, 처리시간 1분을 적용하였다. Argon flow rate of 20 cc / min, and applied pressure 20 Pa, a plasma power of 100 W, treatment time 1 minute. 이때의 플라즈마 에너지 밀도는 1.68×10 8 J/kg이었다. The energy density of the plasma was 1.68 × 10 8 J / kg.

2단계에서는 모노머인 알릴 글리시딜 에테르와 아르곤이 혼합된 플라즈마로 처리하였으며, 아르곤 유량과 압력은 1단계와 동일하며 처리시간은 5분이었다. In Step 2, was treated with a monomer of allyl glycidyl ether and a mixture of argon plasma, an argon flow rate and the pressure was the same as Step 1, and the processing time is 5 minutes. 이때, 관능기 손상 및 자발광 증가를 최소화하기 위해 플라즈마 파워 100 W를 펄스 방식으로 처리하였다. At this time, the plasma power of 100 W was treated in a pulsed manner in order to minimize damage to the functional group, and a self-luminous increased. 펄스 주기는 각각 1초, 2초, 5초 및 무한대로 설정하였으며, 각 주기 중 100 msec 동안만 ON 되었다. The pulse period was only ON for 100 msec of 1 seconds each, 2 seconds, 5 seconds, and was set to infinity, for each cycle. 펄스 주기가 1초인 경우, 900 msec 동안은 OFF되고 100 msec 동안은 ON 되었다. When the pulse period is one second, for 900 msec, and is OFF for 100 msec it was ON. 최종적으로 수소로 라디칼을 종결함으로써, 에폭사이드 플라스틱 기판을 제작하였다. By finally terminate the radical of hydrogen, to prepare an epoxide plastic substrate.

제작된 에폭사이드 플라스틱 기판 위에 Perkin-Elmer사의 압전 방식 마이크로어레이어(microarrayer)를 이용하여 염기서열이 유사하여 상호 구분이 어려운 프로브 생물분자 2종(서열번호 1 및 2)을 고정화하였다. Using a Perkin-Elmer Corp. piezoelectric over the plastic substrate making epoxide micro control layer (microarrayer) to the nucleotide sequence similar to hard-to-probe cross-nine minutes biomolecule two kinds were immobilized (SEQ ID NO: 1 and 2). 이때 사용된 버퍼는 3×SSC, 0.01 % SDS이었고, 60 ℃ 온도와 70 % 상대 습도 조건에서 16시간 동안 반응시켰다. At this time, using the buffer was a 3 × SSC, 0.01% SDS, and reacted at 60 ℃ temperature and 70% relative humidity for 16 hours. 그런 다음, 온도 50 ℃의 50 mM Tris-HCl(pH 9.0) 용액에서 30분간 반응 시키고, 0.2 % SDS로 2분간 2회 세척하고, 증류수로 2분간 2회 세척하여 1,000 rpm으로 5분간 원심 분리하여 건조하였다. Then, and for 30 min in 50 mM Tris-HCl (pH 9.0) solution of the temperature 50 ℃, washed 22 minutes twice with 0.2% SDS, washed 22 minutes twice with distilled water, separated for 5 minutes centrifugation at 1,000 rpm and dried.

한편, 표적 생물분자는 형광물질이 결합된 PCR 산물이며, 혼성화 용액(3×SSC, 0.001 % SSC)과 1:20의 비율로 혼합하여 55 ℃ 온도에서 30~60분간 반응시켰다. On the other hand, the target biological molecule is a fluorophore binding the PCR product, hybridization solution was reacted (3 × SSC, 0.001% SSC) and mixed in a ratio of 1:20 at 55 ℃ temperature of 30 to 60 minutes. 그런 다음, 1×SSC로 실온에서 5분간 세척하고, 0.1×SSC로 2분간 세척하여 실온에서 건조하였다. Washing then for 5 minutes at room temperature in 1 × SSC and washed 2 minutes with 0.1 × SSC and then dried at room temperature. 형광측정 조건은 실시예 1의 자발광 측정조건과 동일하였다. Fluorescence measurement conditions were the same as the condition of the self-emission measurement in Example 1.

염기서열이 유사하여 상호 구분이 어려운 생물분자 2종에 대한 특이도를 비교한 결과를 표 6에 나타내었다. The results of comparing the specificity of the two kinds of the cross-nine minutes difficult biomolecule to the nucleotide sequence similarity are shown in Table 6. 여기서 특이도는 다음 식과 같다. The specificity of the expression below.

특이도 = (프로브 A1와 반응한 표적 A1의 형광량) / (프로브 A2와 반응한 표적 A1의 형광량) Specificity = (A1 probe and the target reaction of the fluorescence amount A1) / (A2 probe and the fluorescence amount of a target reaction A1)

대조구로서 종래의 습식 공정으로 제작된 상용화된 에폭사이드 유리 기판을 사용하여 비교하였다. As a control were compared using the epoxide commercially available glass substrate produced by a conventional wet process.

표 6에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 방법에 있어서 플라즈마의 펄스 주기를 증가시킴으로써, 구분이 어려웠던 유사 생물분자에 대한 특이도를 증가시킬 수 있었다. As shown in Table 6, by increasing the pulse period of the plasma in the method according to the invention, it could be distinction is to increase the specificity of the similar biological molecules difficult.

<표 6> <Table 6>

구분 division 대조구 Control 주기: 1 초 Cycle: 1 second 주기: 2 초 Cycle: 2 seconds 주기: 5 초 Interval: 5 seconds 주기: 무한대 Cycle: Infinity
특이도 Specificity 1.3 1.3 1.8 1.8 5.3 5.3 6.3 6.3 7.2 7.2

<실시예 7> <Example 7>

특이도 비교 Specificity compared

실시예 6에 기재된 방법을 이용하여 비교적 특이도가 양호한 생물분자 B, C 및 D에 대하여 본 발명에 따른 플라스틱 기판 및 대조구에 대해 특이도를 비교하였다(각각 서열번호 3, 4 및 5). Example 6 were compared with methods used by relatively specificity is specific to the plastic substrate and the control according to the present invention with respect to a preferred biomolecule B, C and D described in the Figure (SEQ ID NO: 3, respectively, 4 and 5). 본 실시예에서 사용한 플라스틱 기판은 플라즈마의 펄스 주기를 3초로 한 점을 제외하고는 상기 실시예 6과 동일한 방법으로 제조하였다. A plastic substrate used in this example was prepared in the same manner as Example 6, except that one of the plasma pulse period to 3 seconds. 상기 대조구로서 종래의 에폭사이드 유리 기판을 사용하였다. The conventional epoxide glass substrate as the control group were used.

상기에서 확인한 특이도 결과를 표 7에 나타내었다. Specifically identified in the Figure The results are shown in Table 7. 표 7에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 특이도는 종래의 유리기판에 비해 약 2배 이상의 높은 값을 유지하였으며, 특히 저농도의 표적 생물분자에 대해서 월등한 성능을 나타내었다. As shown in Table 7, the specificity of the plastic substrate according to the present invention was maintained to a high value of at least about 2 times that of the conventional glass substrate, and particularly shows a superior performance with respect to a low concentration of the target biomolecule.

<표 7> <Table 7>

구분 division 표적 B Target B 표적 C Target C 표적 D D target
농도: 100 copy Density: 100 copy 농도: 100,000 copy Concentration: 100,000 copy
본 발명의 플라스틱 기판 Plastics substrate according to the present invention 84 84 16 16 33 33 67 67
대조구 Control 20 20 9 9 6 6 24 24
향상비율 Improvement rate 4.2 배 4.2 times 1.8 배 1.8 5.5 배 5.5 times 2.8 배 2.8 times

<실시예 8> <Example 8>

특이도 비교 Specificity compared

실시예 6과 유사한 방법으로 플라스틱 기판을 알데히드 관능기를 가지는 표면으로 개질하였다. Aldehyde embodiment a plastic substrate in a manner similar to Example 6 was modified surface with a functional group. 사용된 모노머는 옥타날이며, 펄스 주기는 0.5초였다. The monomers used are octa day, pulse period was 0.5 seconds.

상기 대조구로서 종래의 알데히드 유리기판 및 습식공정을 적용한 Greiner Bio-One사의 알데히드 플라스틱 기판을 사용하였다. The aldehyde plastic substrate Greiner Bio-One, Inc. applying the conventional aldehyde glass substrate and a wet process, as the control group were used.

제작된 알데히드 플라스틱 기판 및 2종의 대조구 기판 위에 실시예 6과 동일한 방식으로 프로브 생물분자 E, F, G 및 F1(각각 서열번호 6, 7, 8 및 9)를 고정 하였다. Probe in the same manner as in Example 6, the aldehyde produced on the plastic substrate and the control substrate of two biomolecules E, F, G and F1 was set to (respectively SEQ ID NO: 6, 7, 8 and 9). 단, 알데히드 기판의 특성상 환원반응이 요구되는데, 0.625g NaBH 4 /(120mL 100% EtOH + 375mL 1X PBS)용액에서 10분간 반응시켰다. However, there is required the nature of the reduction reaction of the aldehyde substrate, 0.625g NaBH 4 / and reacted for 10 minutes at (120mL 100% EtOH + 375mL 1X PBS) solution.

표 8에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 특이도는 종래의 유리기판과 동등 수준의 값을 유지하였고, 종래의 습식공정으로 제작된 플라스틱 기판에 대해서는 월등한 성능을 나타내었다. As shown in Table 8, the specificity of the plastic substrate according to the present invention was maintained to a conventional glass substrate and the same level of the value, and showed a superior performance on a plastic substrate produced by the conventional wet process.

표적 F에 대한 특이도는 서열번호 7의 프로브 생물분자와 반응한 표적 F의 형광량을 서열번호 9의 프로브 생물분자와 반응한 표적 F의 형광량으로 나눈 값으로, 상기 값이 전반적으로 낮은 이유는 상기 염기서열들이 유사하여 상호 구분이 어렵기 때문이다. The value specificity was calculated by dividing the fluorescence amount of SEQ ID NO: 7 of the probe biomolecule and a reaction target F in the fluorescence amount of SEQ ID NO: 9 of a probe biomolecule and a reaction target F for the target F, why the value lower overall is because the cross-nine minutes difficult by the nucleotide sequence are similar.

<표 8> <Table 8>

구분 division 표적 E E target 표적 F Target F 표적 G Target G
본 발명의 플라스틱 기판 Plastics substrate according to the present invention 28 28 3 3 29 29
대조구(유리) Control (glass) 31 31 2 2 30 30
대조구(플라스틱) Control (plastic) 10 10 1.5 1.5 9 9

<실시예 9> <Example 9>

특이도 비교 Specificity compared

실시예6과 유사한 방법으로 플라스틱 기판을 아민 관능기를 가지는 표면으로 개질하였다. Subjected to a plastic substrate in a manner similar to Example 6 it was modified on the surface with amine functional groups. 사용된 모노머는 3-메톡시프로필 아민이며, 펄스 주기는 5초였다. The monomer used is a 3-methoxy-propylamine, pulse period was 5 seconds. 상기 대조구로서 습식공정을 적용한 Greiner Bio-One사의 아민 플라스틱 기판을 사용하였다. Amine plastic substrate Greiner Bio-One, Inc. applying the wet process, as the control group were used.

실시예 6과 유사한 방식으로 프로브 생물분자 H, I 및 J(각각 서열번호 10, 11, 및 12)을 고정하였다. In the similar manner as in Example 6 was fixed to a probe biomolecule H, I and J (each of SEQ ID NO: 10, 11, and 12). 단, 프로브 생물분자는 PCR 산물이며, 고정화 반응 온도는 80 ℃였다. However, the probe biomolecule is a PCR product, immobilizing the reaction temperature was 80 ℃. 사용된 프로브 특성상 열 변성 반응이 요구되는데, 이를 위해 100 ℃ 증류수에서 2분간 처리하였다. There is a heat-denatured probe nature of the reaction needs to use, was treated for 2 minutes at 100 ℃ distilled water for this purpose.

표 9에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 플라스틱 기판의 특이도는 종래의 습식공정으로 제작된 플라스틱 기판과 동등수준의 값을 유지하였다. As shown in Table 9, the specificity of the plastic substrate according to the present invention was maintained for the plastic substrate and the same level of value produced by the conventional wet process.

<표 9> <Table 9>

구분 division 표적 H Target H 표적 I I target 표적 J Target J
본 발명의 플라스틱 기판 Plastics substrate according to the present invention 3.3 3.3 2.3 2.3 3.0 3.0
대조구 Control 1.6 1.6 2.4 2.4 1.5 1.5

본 발명의 방법에 따르면 자발광이 현저히 감소되고 그에 의해 표적 생물분자의 검출 특이도를 현저히 향상시킬 수 있는 플라스틱 기판을 제공한다. According to the method of the present invention self-emission it is significantly reduced and provides a plastic substrate which can significantly enhance the specificity of the detection of a target biomolecule by him. 따라서 유기 기판에 비해 미세구조물을 포함하는 다양한 디자인이 용이한 장점에도 불구하고 높은 자발광의 단점 때문에 사용이 제한적이었던 플라스틱 기판이 마이크로어레이, 바이오칩 또는 웰플레이트용으로 널리 사용될 수 있다. Therefore, in spite of various advantages including the design it is easy compared to the microstructure of a glass substrate and a plastic substrate used was limited due to disadvantages of high self-emission can be widely used for the microarray, biochip, or well plate. 또한, 본 발명에 따르면 기판 표면의 특이도를 향상시킬 수 있고 특성을 용이하게 조절할 수 있다. Further, according to the present invention it is possible to improve the specificity of the substrate surface can be easily controlled properties.

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Claims (20)

  1. 마이크로어레이, 바이오칩, 또는 웰플레이트에 사용되는 플라스틱 기판의 제조 방법에 있어서, In the method for producing a plastic substrate used in a microarray, biochip, or a well plate,
    a) 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q < 4 nm인 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기를 갖는 플라스틱 기판을 성형하는 단계; comprising the steps of: a) molding the plastic substrate having a surface roughness R a <3 nm or R q <4 nm in Atomic Force Microscope (AFM) under the following conditions 50 ㎛ × 50 ㎛;
    b) 상기 플라스틱 기판에 플라즈마를 처리하는 단계; b) processing the plasma in the plastic substrate; And
    c) 상기 기판에 에폭사이드 관능기, 알데히드 관능기 및 아민 관능기로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 관능기를 포함하는 표면 개질용 모노머를 처리하는 단계; c) treating the surface-modified monomers comprising one or more than one functional group selected from the group consisting of epoxide functional groups, the aldehyde functional groups and amine functional groups in the substrate;
    를 포함함으로써 표적 생물분자의 검출 특이도가 우수한 플라스틱 기판의 제조방법. The method of detecting specific target organisms plastic substrate is superior in the molecule by including.
  2. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 플라즈마 처리 단계 및 표면 개질용 모노머 처리 단계는 동시에 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. The plasma processing step, and the surface-modified monomers processing steps for the method being performed at the same time.
  3. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 플라즈마는 아르곤 플라즈마인 것을 특징으로 하는 방법. The plasma is characterized in that the argon plasma.
  4. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 플라즈마는 10 8 J/kg 이하의 에너지 밀도를 갖는 연속 플라즈마 또는 펄스 플라즈마인 것을 특징으로 하는 방법. The plasma is characterized in that a continuous plasma or plasma pulse having an energy density of less than 10 8 J / kg.
  5. 제 4항에 있어서, 5. The method of claim 4,
    상기 플라즈마는 10분 이하 동안 처리되는 것을 특징으로 하는 방법. The plasma is characterized in that the treatment for up to 10 minutes.
  6. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 플라즈마의 주파수는 마이크로웨이브(2.45 GHz) 또는 RF(13.56 MHz)인 것을 특징으로 하는 방법. A method as the frequency of the plasma, characterized in that the microwave (2.45 GHz) or RF (13.56 MHz).
  7. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 플라스틱 기판은 폴리스티렌(PS), 사이클로올레핀코폴리머(COC) 및 폴리카보네이트(PC)로 이루어진 군에서 선택되는 투명 수지 또는 폴리프로필렌(PP) 및 폴리에틸렌(PE)으로 이루어진 군에서 선택되는 반투명 수지인 것을 특징으로 하는 방법. The plastic substrate is polystyrene (PS), cyclo olefin copolymer (COC) and the polycarbonate is selected from the (PC) the group consisting of transparent resin or polypropylene (PP) and polyethylene (PE) is selected from the group consisting of semi-transparent resin the method characterized.
  8. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 표면 개질용 모노머는 에폭사이드 관능기를 포함하며 탄소이중결합을 갖고 있는 알릴 글리시딜 에테르(Allyl glycidyl ether) 또는 글리시딜 메타크릴레이트(Glycidyl methacrylate)이고, 그에 의해 상기 플라스틱 표면은 에폭사이드기로 개질되는 것을 특징으로 하는 방법. The surface-modified monomers are epoxide containing the side functional group, and a glycidyl ether (Allyl glycidyl ether) or glycidyl methacrylate (Glycidyl methacrylate), and wherein the plastic surface and thereby notify that has a carbon-carbon double bond for the group epoxide characterized in that the modification.
  9. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 표면 개질용 모노머는 알데히드기 관능기를 포함하며 끓는점이 80℃ 이상인 헥사날(Hexanal), 옥타날(Octanal) 또는 노나날(Nonanal)이고, 그에 의해 상기 플라스틱 표면은 알데히드기로 개질되는 것을 특징으로 하는 방법. The surface modifying monomer for is characterized in that the included, and a boiling point of modified with 80 ℃ or higher hexanal (Hexanal), octa-day (Octanal) or no day-to-day (Nonanal), and wherein the plastic surface and thereby is an aldehyde group the aldehyde functional group .
  10. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 표면 개질용 모노머는 일차 아민 관능기를 포함하며 탄소이중결합을 갖고 있는 알릴아민(Allylamine) 또는 에테르 화합물인 3-메톡시프로필 아민(3-Methoxypropylamine)이고, 그에 의해 상기 플라스틱 표면은 아민기로 개질되는 것을 특징으로 하는 방법. Wherein the surface modification comprises a monomer for the primary amine functionality and is a 3-methoxy-propylamine (3-Methoxypropylamine) carbon allylamine (Allylamine) having a double bond or an ether compound, wherein the plastic surface is thereby modified is an amine group the method characterized.
  11. 제 1항에 있어서, According to claim 1,
    상기 플라스틱 기판에 미세유체 구조물을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. Characterized in that further including the step of forming a microfluidic structure to the plastic substrate.
  12. 50 ㎛ × 50 ㎛ 이하의 조건에서 R a < 3 nm 또는 R q < 4 nm인 AFM(Atomic Force Microscope) 표면 거칠기를 갖고, 표면에 플라즈마 및 에폭사이드 관능기, 알데히드 관능기 및 아민 관능기로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 관능기를 포함하는 표면 개질용 모노머가 처리된 것을 특징으로 하는 마이크로어레이, 바이오칩, 또는 웰플레이트에 사용되고 표적 생물분자의 검출 특이도가 우수한 플라스틱 기판. Under the following conditions 50 ㎛ × 50 ㎛ R a < 3 nm or R q <4 nm of AFM (Atomic Force Microscope) has a surface roughness, on the surface of the plasma and the epoxide functional groups, the aldehyde functional group and an amine selected from the group consisting of functional groups one or more than one functional group surface modified monomer is used in the microarray, biochip, or a well plate, characterized in that the processing-target organisms detection specificity of the molecule have excellent plastic substrate comprising a.
  13. 제 12항에 있어서, 13. The method of claim 12,
    상기 플라즈마는 아르곤 플라즈마인 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. The plasma is a plastic substrate, characterized in that the argon plasma.
  14. 제 12항에 있어서, 13. The method of claim 12,
    상기 플라즈마는 10 8 J/kg 이하의 에너지 밀도를 갖는 연속 플라즈마 또는 펄스 플라즈마인 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. The plasma is a plastic substrate, it characterized in that a continuous plasma or plasma pulse having an energy density of less than 10 8 J / kg.
  15. 제 14항에 있어서, 15. The method of claim 14,
    상기 플라즈마는 10분 이하 동안 처리되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. The plasma is a plastic substrate, characterized in that the treatment for up to 10 minutes.
  16. 제 12항에 있어서, 13. The method of claim 12,
    상기 플라즈마의 주파수는 마이크로웨이브(2.45 GHz) 또는 RF(13.56 MHz)인 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. A plastic substrate, characterized in that the frequency of the plasma is a microwave (2.45 GHz) or RF (13.56 MHz).
  17. 제 12항에 있어서, 13. The method of claim 12,
    폴리스티렌(PS), 사이클로올레핀코폴리머(COC) 및 폴리카보네이트(PC)로 이루어진 군에서 선택되는 투명 수지 또는 폴리프로필렌(PP) 및 폴리에틸렌(PE)으로 이루어진 군에서 선택되는 반투명 수지인 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. Polystyrene (PS), cyclo olefin copolymer (COC) and a polycarbonate characterized in that the semi-transparent resin is selected from the group consisting of transparent resin or polypropylene (PP) and polyethylene (PE) is selected from the group consisting of (PC) plastic substrates.
  18. 제 12항에 있어서, 13. The method of claim 12,
    상기 표면 개질용 모노머는 에폭사이드 관능기를 포함하며 탄소이중결합을 갖고 있는 알릴 글리시딜 에테르(Allyl glycidyl ether) 또는 글리시딜 메타크릴레이트(Glycidyl methacrylate)이고, 그에 의해 표면은 에폭사이드기로 개질되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. The surface modifying monomers for comprising an epoxide functional group, and when allyl glycidyl ether having a carbon-carbon double bond (Allyl glycidyl ether) or glycidyl methacrylate (Glycidyl methacrylate), and whereby the surface is to be modified groups epoxide a plastic substrate, characterized in that.
  19. 제 12항에 있어서, 13. The method of claim 12,
    상기 표면 개질용 모노머는 알데히드기 관능기를 포함하며 끓는점이 80℃ 이상인 헥사날(Hexanal), 옥타날(Octanal) 또는 노나날(Nonanal)이고, 그에 의해 표면은 알데히드기로 개질되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. The surface-modified monomer is a plastic substrate, characterized in that contained, and a hexanal (Hexanal), octa-day (Octanal) or no day-to-day (Nonanal) less than a boiling point of 80 ℃, the surface is modified with an aldehyde whereby the aldehyde functional group for.
  20. 제 12항에 있어서, 13. The method of claim 12,
    상기 표면 개질용 모노머는 일차 아민 관능기를 포함하며 탄소이중결합을 갖고 있는 알릴아민(Allylamine) 또는 에테르 화합물인 3-메톡시프로필 아민(3-Methoxypropylamine)이고, 그에 의해 표면은 아민기로 개질되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 기판. Wherein the surface-modified monomer comprises primary amine functionality, and allyl amine having a carbon-carbon double bond (Allylamine) or an ether compound is 3-methoxy-propylamine (3-Methoxypropylamine) for, it characterized in that the surface is modified by an amine group thereof plastic board of.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100805816B1 (en) 2006-12-04 2008-02-21 한국전자통신연구원 Surface modification of cycloolefin copolymer substrate

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8629053B2 (en) * 2010-06-18 2014-01-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Plasma treatment for semiconductor devices

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000514848A (en) * 1996-06-28 2000-11-07 エヌケイティ リサーチ センター アクティーゼルスカブ Modification method and the resulting product of the solid polymer substrate surface
KR20030020232A (en) 2001-09-01 2003-03-08 삼성전자주식회사 A method of preparing a hydrogel biochip by using satar-like PEG derivatives
KR20030027379A (en) * 2001-09-28 2003-04-07 김성훈 Protein chip plate and manufacturing method of the same plate using plasma
JP2003183425A (en) 2001-12-17 2003-07-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd Plastic substrate for microchip and method for producing the same
JP2004198402A (en) * 2002-12-02 2004-07-15 Sumitomo Bakelite Co Ltd Microarray and its manufacturing method

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19618926A1 (en) * 1996-05-10 1997-11-13 Boehringer Mannheim Gmbh coated with amino groups surface
CN1217009C (en) 2001-09-01 2005-08-31 三星电子株式会社 Process for producing hydrogel biochip by using epoxy-contained radial polyethylene glycol derivative
JP2003329678A (en) * 2002-05-08 2003-11-19 Kyocera Corp Test substrate for biochemical test and solid-phase carrier
JP2004016071A (en) * 2002-06-14 2004-01-22 Kawamura Inst Of Chem Res Method for selective adsorption of polynucleotide and judging method
US20060096884A1 (en) * 2002-06-20 2006-05-11 Zeon Corporation Alicyclic structure-containing polymer resin container and optical analysis method using the container
US20040185445A1 (en) * 2003-03-19 2004-09-23 Ye Fang Universal readout for target identification using biological microarrays
JP2004294385A (en) * 2003-03-28 2004-10-21 Fuji Photo Film Co Ltd Biochemical analysis unit
JP2006337285A (en) * 2005-06-03 2006-12-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Biomolecule immobilizing plate and method for manufacturing biomolecule immobilizing plate

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000514848A (en) * 1996-06-28 2000-11-07 エヌケイティ リサーチ センター アクティーゼルスカブ Modification method and the resulting product of the solid polymer substrate surface
KR20030020232A (en) 2001-09-01 2003-03-08 삼성전자주식회사 A method of preparing a hydrogel biochip by using satar-like PEG derivatives
KR20030027379A (en) * 2001-09-28 2003-04-07 김성훈 Protein chip plate and manufacturing method of the same plate using plasma
JP2003183425A (en) 2001-12-17 2003-07-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd Plastic substrate for microchip and method for producing the same
JP2004198402A (en) * 2002-12-02 2004-07-15 Sumitomo Bakelite Co Ltd Microarray and its manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100805816B1 (en) 2006-12-04 2008-02-21 한국전자통신연구원 Surface modification of cycloolefin copolymer substrate

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