KR100728770B1 - Electron gun assembly for cathode ray tube - Google Patents

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Abstract

전자빔의 수직측 집속 정도를 용이하게 제어할 수 있는 음극선관용 전자총을 제공한다. 전자총은 열전자를 방출하는 캐소드와, 상기 캐소드로부터 방출된 열전자를 제어하여 전자빔화하는 제어 전극 및 스크린 전극과, 상기 전자빔을 집속 및 가속시키는 포커스 전극 및 애노드 전극과, 상기 포커스 전극에서 전계 분포를 변화시켜 전자빔의 수직측 집속 정도를 제어하는 수단을 포함한다. 상기 포커스 전극은 공통대구경 타입으로서, 애노드 전극과 마주하며 하나의 공통된 전자빔 통과공을 갖는 제 1전극과, 제 1전극의 내부에 배치되며 세개의 전자빔 통과공을 갖는 제 2전극으로 이루어진다. 상기 수단은 포커스 전극의 제 2전극 내부에 구비되며, 전자빔의 상하측과 근접하여 전자빔의 수직측 집속 영역을 확장시키는 제 3전극으로 이루어진다.An electron gun for a cathode-ray tube capable of easily controlling the degree of vertical focusing of an electron beam. The electron gun includes a cathode for emitting hot electrons, a control electrode and a screen electrode for controlling the thermoelectrons emitted from the cathode to electron beam, a focus electrode and an anode electrode for focusing and accelerating the electron beam, And means for controlling the degree of vertical focusing of the electron beam. The focus electrode is of a common large diameter type and comprises a first electrode facing the anode electrode and a common electron beam passage hole and a second electrode disposed inside the first electrode and having three electron beam passing holes. The means is provided inside the second electrode of the focus electrode and comprises a third electrode which extends close to the upper and lower sides of the electron beam and extends the vertical side focusing region of the electron beam.

제 3전극을 제공함으로써 전자빔의 수직측 집속 정도를 용이하게 제어할 수 있으며, 최적의 전자빔경 구현을 위한 종횡비 설계를 용이하게 하고, 음극선관의 포커스 품질을 향상시킬 수 있다.By providing the third electrode, it is possible to easily control the degree of convergence on the vertical side of the electron beam, facilitate the design of the aspect ratio for optimum electron beam diameter, and improve the focus quality of the cathode ray tube.

음극선관, 전자총, 포커스전극, 캐소드, 제어전극, 스크린전극, 공통대구경A cathode ray tube, an electron gun, a focus electrode, a cathode, a control electrode, a screen electrode,

Description

음극선관용 전자총 {Electron gun assembly for cathode ray tube}Technical Field [0001] The present invention relates to an electron gun assembly for a cathode ray tube

도 1은 본 발명에 의한 전자총을 포함하는 음극선관의 단면도.1 is a sectional view of a cathode ray tube including an electron gun according to the present invention.

도 2는 본 발명에 의한 전자총의 단면도.2 is a sectional view of an electron gun according to the present invention;

도 3은 도 1의 A-A선을 기준으로 절개한 전자총의 단면도.3 is a cross-sectional view of the electron gun cut along the line A-A in Fig.

도 4는 본 발명에 의한 전자총 가운데 포커스 전극의 사시도.4 is a perspective view of a focus electrode in an electron gun according to the present invention.

도 5는 본 발명에 의한 전자총 가운데 포커스 전극의 단면도.5 is a sectional view of a focus electrode in an electron gun according to the present invention.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 의한 전자총 가운데 포커스 전극의 단면도.6 is a sectional view of a focus electrode in an electron gun according to another embodiment of the present invention.

도 7은 수직 저스트 포커스 전압별 수직측 전자빔의 경로를 나타낸 그래프.7 is a graph showing the path of the vertical side electron beam per vertical just focus voltage.

도 8은 종래 기술에 의한 전자총의 단면도.8 is a sectional view of an electron gun according to the prior art.

도 9는 종래 기술에 의한 전자총 가운데 포커스 전극의 사시도.9 is a perspective view of a focus electrode in an electron gun according to the related art.

도 10은 종래 기술에 의한 전자총 가운데 포커스 전극의 단면도.10 is a cross-sectional view of a focus electrode in an electron gun according to the prior art.

본 발명은 음극선관용 전자총에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전자빔의 수직측 집속 정도를 제어할 수 있는 수단을 제공하여 최적 빔경 구현을 위한 종횡비 설계를 용이하게 하고, 음극선관의 포커스 품질을 향상시킬 수 있는 전자총에 관한 것이다.The present invention relates to an electron gun for a cathode-ray tube, and more particularly, to an electron gun for a cathode-ray tube, which provides a means for controlling the degree of vertical focusing of an electron beam to facilitate designing of an aspect ratio for an optimal beam diameter, Which is an electron gun.

일반적으로 음극선관에 사용되는 전자총은 도 8에서 도시하는 바와 같이, 캐소드(1)와 다수개의 전극들(G1, G2, G3, G4)을 일체로 구비하며, 가열된 히터에서 열을 전도받은 캐소드(1)에서 열전자를 방출하면 각 전극에 인가된 전위차에 의해 이 전자들이 집속 및 발산되면서 형광막 스크린(3)에 도달하여 형광체를 발광시키게 된다.As shown in FIG. 8, the electron gun used in the cathode ray tube generally includes a cathode 1 and a plurality of electrodes G1, G2, G3, and G4 integrally formed thereon, The electrons are focused and diverged by the potential difference applied to the respective electrodes to reach the phosphor screen 3 to emit the phosphors.

상기 캐소드(1)에서 방출된 전자들은 포커스 전극(G3)과 애노드 전극(G4) 사이에 형성된 메인 포커스 렌즈(5)에서 특히 강한 집속과 발산이 이루어지는데, 이 메인 포커스 렌즈(5)에 입사하는 전자빔의 분포는 형광막 스크린(3)상의 전자빔경에 영향을 미친다.Electrons emitted from the cathode 1 are particularly focused and diverged by the main focus lens 5 formed between the focus electrode G3 and the anode electrode G4. The distribution of the electron beam affects the electron beam diameter on the fluorescent screen 3.

상기한 포커스 전극(G3)은 이 메인 포커스 렌즈(5)에 입사하는 전자빔의 분포를 제어하게 되며, 수평측 저스트 포커스 전압과 수직측 저스트 포커스 전압이 다를 경우, 상퍼짐(halo) 현상을 방지하기 위하여 상기 포커스 전극(G3)에 인가되는 포커스 전압(VF)을 높은쪽의 저스트 포커스 전압 근처로 설정하는 것이 일반적이다.The focus electrode G3 controls the distribution of the electron beam incident on the main focus lens 5. When the horizontal side just focus voltage and the vertical side just focus voltage are different from each other, The focus voltage V F applied to the focus electrode G3 is set to a high near-focus voltage.

일례로, 수평측 저스트 포커스 전압이 수직측 저스트 포커스 전압보다 크고, 수평측 저스트 포커스 전압 근처로 포커스 전압(VF)을 설정한 경우, 전자빔의 수평측은 적정하게 포커싱되어 최소 빔경을 형성하지만, 수직측은 코어(core) 발생으로 빔경이 확대되면서 전자빔은 수직측 빔경이 수평측 빔경보다 큰 종장형이 된다. For example, when the horizontal side just focus voltage is larger than the vertical side just focus voltage and the focus voltage (V F ) is set near the horizontal side just focus voltage, the horizontal side of the electron beam is appropriately focused to form the minimum beam diameter, The beam is enlarged due to the generation of a core, and the electron beam becomes an oblong shape having a larger vertical beam diameter than the horizontal beam diameter.

이로서 전자빔의 종횡비는 수평측 저스트 포커스 전압과 수직측 저스트 포커스 전압의 차이로 그 정도를 예측할 수 있다.Thus, the aspect ratio of the electron beam can be predicted by the difference between the horizontal side just focus voltage and the vertical side just focus voltage.

그러나 전자빔은 형광막 스크린 중앙에서 주변으로 갈수록 이동거리가 길어지게 되므로, 형광막 스크린에 맺히는 수평빔경과 수직빔경은 이동거리에 따라 변화되어 전자빔의 종횡비 또한 전자총에서 형광막 스크린까지의 거리에 따라 변화하게 된다.However, since the distance of the electron beam from the center of the fluorescent screen to the periphery increases, the horizontal beam diameter and the vertical beam diameter formed on the fluorescent screen change according to the moving distance, so that the aspect ratio of the electron beam changes according to the distance from the electron gun to the fluorescent screen .

따라서 화면의 중앙부와 주변부 모두에서 최적의 화질을 구현할 수 있도록 하면서, 화면의 크기와 곡률 등이 각기 다른 각각의 튜브 특성에 맞추어 전자빔경을 최적화해주는 작업이 필요하며, 이러한 작업을 종횡비 설계라고 한다.Therefore, it is necessary to optimize the electron beam diameter according to the characteristics of each tube having different screen size and curvature, while achieving an optimum image quality in both the center and the periphery of the screen. Such an operation is called aspect ratio design.

상기한 종횡비 설계 과정에서, 포커스 전극이 공통대구경 타입으로 이루어지는 경우, 전자빔의 집속 정도를 조절하는 하나의 방법으로 대구경 깊이를 조절하는 방법이 있다.In the above aspect ratio designing process, when the focus electrode is of the common large diameter type, there is a method of adjusting the depth of the large diameter by one method of controlling the focusing degree of the electron beam.

도 9와 도 10에서 도시하는 바와 같이, 공통대구경 타입의 포커스 전극(G3)은 애노드 전극(G4)과 마주하며 하나의 공통된 전자빔 통과공(7a)을 갖는 제 1전극(7)과, 제 1전극(7)의 안쪽에 배치되며 세개의 전자빔 통과공(9a)을 갖는 제 2전극(9)으로 이루어진다. 이와 같은 구성의 공통대구경 타입은 메인 포커스 렌즈를 크게하여 구면수차를 줄이고, 포커스 거리를 확대시키는데 유용하게 사용된다.As shown in Figs. 9 and 10, the common large-diameter type focus electrode G3 includes a first electrode 7 facing the anode electrode G4 and having one common electron beam passage hole 7a, And a second electrode 9 disposed inside the electrode 7 and having three electron beam passing holes 9a. The common large-diameter type lens having such a configuration is useful for reducing the spherical aberration and enlarging the focus distance by enlarging the main focus lens.

이와 같은 공통대구경 타입의 경우, 대구경 깊이, 즉 제 1전극(7)과 제 2전극(9) 사이의 간격(D)에 의해 전자빔의 집속 정도를 조절하는데, 상기 간격(D)이 커질수록 등전위선이 포커스 전극(G3) 내부로 더욱 침투하면서 전자빔 집속을 강하 게 하고, 저스트 포커스 전압을 상승시킨다.In such a common large diameter type, the degree of convergence of the electron beams is controlled by the large-diameter depth, that is, the distance D between the first electrode 7 and the second electrode 9. The larger the distance D, The line further penetrates into the focus electrode G3 to intensify the electron beam focusing and raise the just focus voltage.

그러나 위와 같은 간격 조절에 의한 방법은 수평측 저스트 포커스 전압과 수직측 저스트 포커스 전압을 동시에 변화시킨다.However, the above-described method of adjusting the distance simultaneously changes both the horizontal side just focus voltage and the vertical side just focus voltage.

따라서 전자빔의 수평측 집속 정도는 그대로 유지하면서 수직측 집속 정도만을 제어하고자 할 때, 기존의 공통대구경 타입 구조에서는 전자빔의 수직측 집속 정도만을 제어할 수 없는 한계가 있었다.Therefore, when only the vertical side focusing degree is to be controlled while maintaining the horizontal side focusing degree of the electron beam, there is a limitation in controlling only the vertical side focusing degree of the electron beam in the conventional common large-diameter type structure.

따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해소하기 위하여 고안된 것으로서, 본 발명의 목적은 공통대구경 구조에서 전자빔의 수직측 집속 정도만을 제어할 수 있는 수단을 제공하여, 보다 정밀한 종횡비 설계를 가능하게 하며, 최적 전자빔경 구현으로 음극선관의 화질을 향상시킬 수 있는 음극선관용 전자총을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a means for controlling only the degree of vertical focusing of an electron beam in a common large diameter structure to enable a more precise aspect ratio design, Which is capable of enhancing the image quality of the cathode ray tube by realizing a small size of the cathode ray tube.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,According to an aspect of the present invention,

열전자를 방출하는 캐소드와,A cathode for emitting a hot electron,

상기 캐소드로부터 방출된 열전자를 제어하여 전자빔화하는 제어 전극 및 스크린 전극과,A control electrode and a screen electrode for controlling the thermoelectrons emitted from the cathode to electron beam,

상기 전자빔을 집속 및 가속시키는 포커스 전극 및 애노드 전극과,A focus electrode and an anode electrode for focusing and accelerating the electron beam,

상기 캐소드와 다수개의 전극들을 일렬로 정렬시키는 한쌍의 지지체와,A pair of supports for aligning the cathode and the plurality of electrodes in a line,

상기 포커스 전극에서 전계 분포를 변화시켜 전자빔의 수직측 집속 정도를 제어하는 수단을 포함하는 음극선관용 전자총을 제공한다. And means for varying the electric field distribution in the focus electrode to control the degree of vertical focusing of the electron beam.                     

상기 포커스 전극은 애노드 전극과 마주하며 하나의 공통된 전자빔 통과공을 갖는 제 1전극과, 상기 제 1전극 내부에 위치하며 전자빔별 전자빔 통과공을 갖는 제 2전극을 포함한다.The focus electrode includes a first electrode facing the anode electrode and having one common electron beam passage hole, and a second electrode located inside the first electrode and having an electron beam passage hole for each electron beam.

상기 수단은 포커스 전극의 제 2전극 내부에 구비되며, 전자빔의 수직측과 근접하여 수직측 전계 분포를 변화시키는 제 3전극으로 이루어진다.The means is provided inside the second electrode of the focus electrode and comprises a third electrode which changes the electric field distribution on the vertical side close to the vertical side of the electron beam.

상기와 같이 제 3전극을 더욱 형성함으로써 전자빔의 수직측이 집속받는 영역을 더욱 확장하여 수직측 집속 정도를 강화시키는 등, 전자빔의 수평측 집속 정도에 영향을 주지 않으면서 전자빔의 수직측 집속 정도만을 용이하게 제어할 수 있는 장점을 갖는다.By further forming the third electrode as described above, only the vertical side focusing degree of the electron beam can be reduced without affecting the horizontal side focusing degree of the electron beam, for example, by further enlarging the area where the vertical side of the electron beam is focused, It has an advantage that it can be easily controlled.

이하, 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 실시예에 의한 전자총이 장착된 음극선관의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a cathode ray tube equipped with an electron gun according to the present embodiment.

도시하는 바와 같이, 음극선관은 내면에 형광막 스크린(2)이 형성된 패널(4)과, 내주면으로 전자총(6)을 장착하는 넥크부(8)와, 상기 패널(4)과 넥크부(8)를 연결하는 펀넬(10)을 포함하며, 상기 형광막 스크린(2) 안쪽으로 다수개의 빔통과용 어퍼쳐(12a)를 갖는 섀도우 마스크(12)를 고정 장착하고, 펀넬(10)의 외주면으로 편향 요크(14)를 장착한다.As shown in the figure, the cathode ray tube comprises a panel 4 having a phosphor screen 2 on its inner surface, a neck 8 for mounting an electron gun 6 on its inner circumferential surface, A shadow mask 12 having a plurality of beam passing apertures 12a is fixedly mounted inside the fluorescent screen screen 2 and is fixed to the outer peripheral surface of the funnel 10 The deflection yoke 14 is mounted.

상기 전자총(6)에서 형광막 스크린(2)을 향하여 세줄기의 전자빔(16)을 방출하면, 전자빔(16)은 편향 요크(14)가 발생한 수평 및 수직 자계에 의해 편향되고, 섀도우 마스크(12)에 형성된 빔통과용 어퍼쳐(12a)에 의해 해당 R, G, B 형광체로 분리된다.When the electron gun 16 emits three electron beams 16 toward the fluorescent screen screen 2, the electron beam 16 is deflected by the horizontal and vertical magnetic fields generated by the deflection yoke 14, and the shadow mask 12 G, and B phosphors by the beam passing aperture 12a formed in the phosphor layer 12a.

이로서 전자총(6)에서 방출된 세줄기의 전자빔(16)은 형광막 스크린(2)상에 라스터를 그리면서 해당 형광체를 발광시킨다.The three electron beams 16 emitted from the electron gun 6 cause the phosphor to emit light by drawing a raster on the phosphor screen 2.

도 2는 본 실시예에 의한 전자총의 확대 단면도이고, 도 3은 도 1의 A-A선을 기준으로 절개한 전자총의 확대 단면도이다.FIG. 2 is an enlarged sectional view of the electron gun according to the present embodiment, and FIG. 3 is an enlarged sectional view of the electron gun cut on the basis of the line A-A in FIG.

도시하는 바와 같이, 본 실시예에 의한 전자총(6)은 열전자를 방출하는 캐소드(18)와, 캐소드(18)에서 방출된 열전자를 예비 집속하여 전자빔화하는 제어 전극(20) 및 스크린 전극(22)과, 상기 전자빔을 집속 및 가속시키는 포커스 전극(24) 및 애노드 전극(26)과, 상기 캐소드(18)와 다수개의 전극들을 일렬로 정렬시키는 한쌍의 지지체(28)를 포함한다.As shown in the drawing, the electron gun 6 according to the present embodiment includes a cathode 18 for emitting thermoelectrons, a control electrode 20 for pre-focusing the thermoelectrons emitted from the cathode 18 to electron beam, A focusing electrode 24 and an anode electrode 26 for focusing and accelerating the electron beam and a pair of supports 28 for aligning the cathode 18 and a plurality of electrodes in a line.

상기 캐소드(18)는 내장된 히터에 의해 가열되어 열전자를 방출하며, 캐소드(18) 전위와 스크린 전극(22)의 전위를 고정시킨 상태에서 화면 신호에 따라 제어 전극(20)의 전위를 조절하여 전류 밀도를 제어한다.The cathode 18 is heated by a built-in heater to emit thermoelectrons. The potential of the cathode 18 and the potential of the screen electrode 22 are fixed and the potential of the control electrode 20 is adjusted according to a screen signal Thereby controlling the current density.

이와 같이 전류 밀도가 제어된 전자는 스크린 전극(22)과 포커스 전극(24) 사이에 형성되는 프리 포커스 렌즈에서 예비 집속되고, 포커스 전극(24)과 애노드 전극(26) 사이에 형성되는 메인 포커스 렌즈에서 최종 집속 및 가속되어 형광막 스크린(2)으로 향한다.Electrons whose current density is controlled in this way are preliminarily focused at the prefocus lens formed between the screen electrode 22 and the focus electrode 24 and are prefocused by the main focus lens 24 formed between the focus electrode 24 and the anode electrode 26. [ And is directed to the fluorescent screen screen 2.

이 메인 포커스 렌즈에 입사하는 전자들을 제어하는 전극인 포커스 전극(24)은 앞서 설명한 공통대구경 타입으로, 도 4에 포커스 전극(24)의 일부를 도시하였다. The focus electrode 24, which is the electrode for controlling the electrons incident on the main focus lens, is of the above-described common large-diameter type, and FIG. 4 shows a part of the focus electrode 24.                     

도시하는 바와 같이, 포커스 전극(24)은 애노드 전극(26)과 마주하며 세줄기 전자빔 경로를 모두 포함하는 하나의 전자빔 통과공(34a)을 갖는 제 1전극(34)과, 상기 제 1전극(34) 내부에서 제 1전극(34)과 일정한 간격을 두고 위치하며 각각의 전자빔 경로에 따라 세개의 전자빔 통과공(36a)을 형성하는 제 2전극(36)을 구비한다.As shown in the figure, the focus electrode 24 includes a first electrode 34 facing the anode electrode 26 and having one electron beam passage hole 34a including all three electron beam paths, And a second electrode 36 that is spaced apart from the first electrode 34 by a predetermined distance and forms three electron beam passing holes 36a along the respective electron beam paths.

이 때, 본 실시예에 의한 전자총(6)은 메인 포커스 렌즈에 입사하는 수직측의 전자 분포를 변화시켜 전자빔의 수직측 집속 정도를 제어할 수 있는 수단을 제공하는바, 상기 수단은 제 2전극(36) 내부에서 제 2전극(36)과 일정한 간격을 두고 구비되는 제 3전극(38)으로 이루어진다.At this time, the electron gun 6 according to the present embodiment provides a means for changing the electron distribution on the vertical side incident on the main focus lens to control the degree of vertical focusing of the electron beam, And a third electrode 38 provided at a predetermined distance from the second electrode 36 in the second electrode 36.

상기 제 3전극(38)은 세줄기의 전자빔 경로를 모두 포함하는 하나의 전자빔 통과공(38a)을 가지며, 전자빔 중심을 향하여 돌출된 수직방향 너비(B1)가 수평방향 너비(B2)보다 크게 이루어진다.The third electrode 38 has one electron beam passage hole 38a including all three electron beam paths and the vertical width B1 protruding toward the center of the electron beam is larger than the horizontal width B2 .

위와 같이 수직방향 너비(B1)를 크게 형성함으로써 제 3전극(38)은 전자빔의 상하부와 근접 배치되어 전자빔의 수직측 전계 분포를 변화시켜 수직측의 집속 정도를 제어하게 된다.The third electrode 38 is disposed close to the upper and lower portions of the electron beam so as to change the vertical electric field distribution of the electron beam to control the convergence degree on the vertical side.

다른 실시예로서, 상기 제 3전극(38)은 도 5에서 도시하는 바와 같이, 세줄기의 전자빔 경로를 모두 포함하며 포커스 전극(24) 내주면의 상하부에서 일정 높이로 수직하게 형성되는 한쌍의 수평부재(38b, 38c)로 이루어질 수 있다.5, the third electrode 38 includes all three electron beam paths, and includes a pair of horizontal members (not shown) formed vertically at upper and lower portions of the inner circumferential surface of the focus electrode 24, (38b, 38c).

상기 한쌍의 수평부재(38b, 38c)에 의해 제 3전극(38)은 전자빔의 상하부와 근접 배치되어 전자빔의 수직측 전계 분포를 변화시키면서, 전자빔의 수평측 전계 분포에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.The third electrode 38 is disposed close to the upper and lower portions of the electron beam by the pair of horizontal members 38b and 38c to minimize the influence on the horizontal electric field distribution of the electron beam while changing the electric field distribution on the vertical side of the electron beam .

상기한 제 3전극(38) 형성에 의한 전자빔의 수직측 전계 분포 변화를 살펴보면 다음과 같다.The change in the vertical electric field distribution of the electron beam due to the formation of the third electrode 38 will be described below.

도 6은 포커스 전극(24)의 단면도로서, 도시하는 바와 같이 제 3전극(38)에 인가된 전위의 영향으로 등전위선은 제 3전극(38) 안쪽으로 더욱 깊게 침투하게 되어 전자빔의 집속 영역이 더욱 확장되었음을 알 수 있다.6 is a sectional view of the focus electrode 24. As shown in the drawing, the equipotential line penetrates deeper into the third electrode 38 due to the influence of the potential applied to the third electrode 38, It can be seen that it has been further expanded.

이로서 전자빔의 수직측은 집속이 더 강하게 되어 형광막 스크린(2)에 도달하기 전에 포커싱되므로 더 높은 포커스 전압을 인가해야 형광막 스크린(2)에 정확히 포커싱된다. 따라서 전자빔의 수직측 저스트 포커스 전압이 높아지는 결과를 나타낸다.So that the vertical side of the electron beam is focused before it reaches the fluorescent screen 2 so that it is focused more accurately on the fluorescent screen screen 2 by applying a higher focus voltage. Therefore, the result is that the just-focus voltage on the vertical side of the electron beam becomes high.

이와 같이 제 3전극(38)을 제공함으로써 전자빔의 수직측 전계 분포를 변화시켜 수직측 저스트 포커스 전압을 제어할 수 있으며, 제 2전극(36)과 제 3전극(38) 사이의 간격(C)을 변화시키거나 제 3전극(38)의 수직방향 너비(B1)에 변화를 주는 것으로써 전자빔의 수직측 집속 정도를 용이하게 제어할 수 있다.By providing the third electrode 38 as described above, the vertical side just focus voltage can be controlled by varying the electric field distribution on the vertical side of the electron beam, and the interval C between the second electrode 36 and the third electrode 38 can be controlled. And the degree of vertical focusing of the electron beam can be easily controlled by varying the vertical width B1 of the third electrode 38. [

이 때, 제 2전극(36)과 제 3전극(38) 사이의 간격(C)이 작아질수록 집속 영역을 확대시키는 효과가 저하되고, 이 간격(C)이 커질수록 제 2전극(36)과 제 3전극(38)이 발생하는 전기력이 각각 독립적으로 분리되어 메인 포커스 렌즈(32)에 미치는 영향을 감소시키게 되므로, 위와 같은 사항을 고려하여 제 2전극(36)과 제 3전극(38) 사이의 간격(C)을 설정한다.As the distance C between the second electrode 36 and the third electrode 38 is reduced, the effect of enlarging the focusing region is deteriorated. As the distance C is increased, The third electrode 38 and the third electrode 38 are separated from each other to reduce the influence of the second electrode 36 and the third electrode 38 on the main focus lens 32. Therefore, (C).

이와 같이 전자빔의 수직측 집속 정도를 변화시키는 제 3전극(38)은 그 둘레 부가 포커스 전극(24) 내부에서 레이저로 용접되어 일체로 구성되거나, 포커스 전극(34)의 내부와 마주하는 일정 폭의 단을 형성하여 제 3전극(38) 자체를 포커스 전극(24) 내부에 삽입하여 일체로 구성할 수 있다.The third electrode 38 that changes the degree of vertical focusing of the electron beam may be integrally formed by welding the periphery of the third electrode 38 with a laser in the focus electrode 24, And the third electrode 38 itself may be inserted into the focus electrode 24 to form an integral structure.

상기한 제 3전극(38)의 형성으로 전자빔의 수직측 집속 정도를 제어할 수 있으며, 이는 전자총의 포커스 매칭 작업에 이용될 수 있다. 특히, 튜브 특성에 따라 최적의 빔경을 찾아서 포커스 품질을 향상시키는 종횡비 설계에 유용하게 이용될 수 있다.The formation of the third electrode 38 can control the degree of convergence of the electron beam on the vertical side, and this can be used for the focus matching operation of the electron gun. Particularly, it can be usefully used for the aspect ratio design which improves the focus quality by finding the optimum beam diameter according to the tube characteristics.

상기한 제 3전극(38)으로 인한 수직측 저스트 포커스 전압의 변화가 종횡비 설계에 적용되는 과정을 개략적으로 살펴보면 다음과 같다.The process of applying the change of the vertical focus just-focus voltage due to the third electrode 38 to the aspect ratio design will be briefly described below.

도 7은 수직측 저스트 포커스 전압별 수직측 전자빔의 경로를 나타낸 그래프로서, 포커스 전극(24)의 포커스 전압(VF)을 수평측 저스트 포커스 전압에 가깝게 설정한 경우를 가정한다.7 is a graph showing the path of the vertical side electron beam for each vertical focus just focus voltage, assuming that the focus voltage V F of the focus electrode 24 is set close to the horizontal side just focus voltage.

상기 그래프에서, 실선은 높은 수직측 저스트 포커스 전압(E)을 가진 경우, 쇄선은 낮은 수직측 저스트 포커스 전압(F)을 가진 경우에 있어서 수직측 전자빔의 경로를 나타낸 것이다.In the graph, the solid line indicates the path of the vertical side electron beam in the case of having the high vertical side just focus voltage (E), and the chain line indicates the path of the vertical side electron beam in the case of having the low vertical side just focus voltage (F).

일반적으로 수평측 저스트 포커스 전압이 수직측 저스트 포커스 전압보다 높게 설정되고, 종횡비는 높은쪽 저스트 포커스 전압과 낮은쪽 저스트 포커스 전압과의 차이이므로, 높은 수직측 저스트 포커스 전압(E)을 가지면 종횡비는 작아지고, 낮은 수직측 저스트 포커스 전압(F)을 가지면 종횡비는 커지게 된다. Since the horizontal side just focus voltage is generally set higher than the vertical side just focus voltage and the aspect ratio is the difference between the higher just focus voltage and the lower just focus voltage, the aspect ratio is small when having the high vertical side just focus voltage E And the aspect ratio becomes large if it has a low vertical side just focus voltage (F).                     

그리고 스크린 중앙 및 주변에서 전자빔의 수직빔경을 살펴보면, 높은 수직측 저스트 포커스 전압(E)을 가진 경우, 수직빔경은 스크린 중앙에서 주변으로 갈수록 확대된다. 반면, 낮은 수직측 저스트 포커스 전압(F)을 가진 경우, 수직빔경은 스크린 중앙에서 주변으로 갈수록 축소된다.Looking at the vertical beam diameter of the electron beam at the center and the periphery of the screen, when the vertical beam has a high focus side focus voltage (E), the vertical beam diameter expands from the center of the screen toward the periphery. On the other hand, with a lower vertical side just-focus voltage (F), the vertical beam diameter decreases from the center of the screen toward the periphery.

따라서 수직측 저스트 포커스 전압의 제어에 따라 종횡비와 전자빔경을 용이하게 제어할 수 있으며, 최적의 전자빔경을 구현하는 종횡비 설계에 유용하게 이용될 수 있다.Therefore, it is possible to easily control the aspect ratio and the electron beam diameter according to the control of the vertical side just focus voltage, and it can be usefully used for designing the aspect ratio to realize the optimum electron beam diameter.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Of course.

이와 같이 본 발명에 의한 전자총은 전자빔의 수평측 집속 정도에는 변화 없이, 수직측 집속 정도만을 용이하게 제어할 수 있다. 따라서 보다 정밀한 포커스 매칭 작업이 가능해지고, 튜브 특성에 따라 최적의 전자빔경을 구현하여 음극선관의 포커스 품질과 화질을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the electron gun of the present invention, only the vertical side focusing degree can be easily controlled without changing the degree of horizontal focusing of the electron beam. Accordingly, a more precise focus matching operation becomes possible, and the optimum electron beam diameter can be realized according to the tube characteristics, thereby improving the focus quality and image quality of the cathode ray tube.

Claims (6)

열전자를 방출하는 캐소드와;A cathode for emitting a hot electron; 상기 캐소드로부터 방출된 열전자를 제어하여 전자빔화하는 제어 전극 및 스크린 전극과;A control electrode and a screen electrode for controlling the thermoelectrons emitted from the cathode to electron beam; 메인 포커스 렌즈를 형성하여 상기 전자빔을 집속 및 가속시키는 포커스 전극 및 애노드 전극과;A focus electrode and an anode electrode for focusing and accelerating the electron beam by forming a main focus lens; 상기 캐소드와 복수개의 전극들을 일렬로 정렬시키는 한쌍의 지지체와;A pair of supports for aligning the cathode and the plurality of electrodes in a line; 상기 포커스 전극 내부에서 전자빔의 상하측에 근접 배치되어 상기 메인 포커스 렌즈로 입사하는 전자빔의 수직측 전계를 상기 포커스 전극 내부로 확장시켜 전자빔의 수직측 집속 정도를 제어하는 수단을 포함하는 음극선관용 전자총.And means for expanding the vertical side electric field of the electron beam incident on the main focus lens toward the upper and lower sides of the electron beam inside the focus electrode and controlling the vertical side focusing degree of the electron beam. 제 1항에 있어서, 상기 포커스 전극은,The apparatus of claim 1, wherein the focus electrode comprises: 상기 애노드 전극과 마주하며 세줄기 전자빔 경로를 모두 포함하는 하나의 전자빔 통과공을 갖는 제 1전극과,A first electrode facing the anode electrode and having one electron beam passage hole including all tristate electron beam paths, 상기 제 1전극 내부에 배치되며 각각의 전자빔 경로를 포함하는 세개의 전자빔 통과공을 갖는 제 2전극을 포함하는 음극선관용 전자총.And a second electrode disposed inside the first electrode and having three electron beam apertures including respective electron beam paths. 제 2항에 있어서, 상기 수단은3. The apparatus of claim 2, 상기 포커스 전극의 제 2전극 내부에 구비되며, 전자빔의 상하측과 근접하여 전자빔의 수직측 집속 영역을 확장시키는 제 3전극으로 이루어짐을 특징으로 하는 음극선관용 전자총.And a third electrode provided inside the second electrode of the focus electrode, the third electrode being adjacent to upper and lower sides of the electron beam to expand the vertical side focusing region of the electron beam. 제 3항에 있어서, 상기 제 3전극은The plasma display panel of claim 3, wherein the third electrode 세줄기 전자빔 경로를 모두 포함하는 하나의 전자빔 통과공을 형성하는 음극선관용 전자총.And an electron beam passing hole including all three electron beam paths. 제 4항에 있어서, 상기 제 3전극은The method of claim 4, wherein the third electrode 전자빔 중심을 향하여 돌출된 수직방향 너비가 수평방향 너비보다 크게 이루어지는 음극선관용 전자총.Wherein the width in the vertical direction protruding toward the center of the electron beam is larger than the width in the horizontal direction. 제 3항에 있어서, 상기 제 3전극은The plasma display panel of claim 3, wherein the third electrode 상기 포커스 전극 내주면의 상, 하부에 각각 형성되는 한쌍의 수평부재로 이루어지는 음극선관용 전자총.And a pair of horizontal members formed on upper and lower portions of the inner circumferential surface of the focus electrode, respectively.
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