KR100711767B1 - ELECTROLYTE FOR Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITION, PREPARING METHOD OF Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITED STEEL SHEET USING SAME AND STEEL SHEET PREPARED THEREBY - Google Patents

ELECTROLYTE FOR Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITION, PREPARING METHOD OF Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITED STEEL SHEET USING SAME AND STEEL SHEET PREPARED THEREBY Download PDF

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Abstract

본 발명은 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물, 이를 이용한 전기 도금 강판의 제조방법 및 이에 따라 제조된 아연-니켈 합금 전기 도금 강판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 아연 이온, 니켈 이온, 염소이온, 및 첨가제를 포함하며, 상기 니켈 이온은 0.11 내지 0.15의 농도비(Ni2+/(Zn2++Ni2+))로 포함된다. 또한 상기 첨가제는 사카린, 구연산염, 뇨산 및 술폰산염을 포함한다.The present invention relates to a zinc-nickel alloy electroplating composition, a method for producing an electroplated steel sheet using the same, and a zinc-nickel alloy electroplated steel sheet prepared according to the present invention. , Nickel ions, chlorine ions, and additives, and the nickel ions are included in a concentration ratio (Ni 2+ / (Zn 2+ + Ni 2+ )) of 0.11 to 0.15. The additive also includes saccharin, citrate, uric acid and sulfonate.

본 발명에 따른 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 균일한 전착층의 형성이 가능하고, 우수한 도금 밀착성을 나타내며, 부반응인 수소 발생을 최소화한다. 또한 상기 전기 도금 조성물로부터 형성된 전기 도금 강판은 우수한 표면외관 및 표면조도를 갖는다.The zinc-nickel alloy electroplating composition according to the present invention can form a uniform electrodeposition layer, exhibit excellent plating adhesion, and minimize side reaction hydrogen generation. In addition, the electroplated steel sheet formed from the electroplating composition has excellent surface appearance and surface roughness.

아연, 니켈, 도금 조성물, 첨가제, 염화물욕 Zinc, nickel, plating composition, additives, chloride bath

Description

아연-니켈 합금 전기 도금 조성물, 이를 이용한 전기 도금 강판의 제조방법 및 이에 따라 제조된 아연-니켈 합금 전기 도금 강판{ELECTROLYTE FOR Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITION, PREPARING METHOD OF Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITED STEEL SHEET USING SAME AND STEEL SHEET PREPARED THEREBY}ELECTROLYTE FOR Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITION, PREPARING METHOD OF Zn-Ni ALLOY ELECTRODEPOSITED STEEL SHEET USING SAME AND STEEL SHEET PREPARED THEREBY}

[기술분야][Technical Field]

본 발명은 균일한 전착(電着)층의 형성이 가능하고, 우수한 도금 밀착성을 나타내며, 부반응인 수소 발생을 최소화할 수 있는 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물, 이를 이용한 전기 도금 강판의 제조방법 및 이에 따라 제조된 아연-니켈 합금 전기 도금 강판에 관한 것이다.The present invention provides a zinc-nickel alloy electroplating composition capable of forming a uniform electrodeposition layer, exhibiting excellent plating adhesion, and minimizing side reaction hydrogen generation, and a method of manufacturing an electroplated steel sheet using the same. A zinc-nickel alloy electroplated steel sheet produced according to the present invention.

[종래기술][Private Technology]

일반적으로, 철 위에 금속 도금층을 형성하는 기술은 방청, 장식 등을 위해서 많이 사용된다. 특히 강판의 내식성을 확보에 우수한 아연 전기 도금이 개발된 이후, 가전, 자동차, 건설 등등의 분야에 아연 전기 도금법이 널리 사용되었다. 그러나 아연 전기 도금은 가혹한 분위기하에서 실시되기 때문에 내식성을 확보하기 위해서는 아연 도금층의 두께를 증가시켜야만 한다. 이로 인하여 비용의 증가, 밀 착성 저하 및 가공성 저하 등 여러 가지 문제점이 있었다.In general, a technique of forming a metal plating layer on iron is widely used for rust prevention, decoration and the like. In particular, since the development of zinc electroplating, which is excellent in securing corrosion resistance of steel sheets, zinc electroplating has been widely used in the fields of home appliances, automobiles, construction, and the like. However, since zinc electroplating is performed in a harsh atmosphere, it is necessary to increase the thickness of the galvanizing layer in order to secure corrosion resistance. Due to this, there are various problems such as an increase in cost, a decrease in adhesion, and a decrease in processability.

이와 같은 아연 전기 도금의 문제점을 해결하기 위해, 아연-니켈 합금 전기 도금이 개발되었다. 아연-니켈 합금 전기 도금은 욕의 성분에 따라서 분류되는데, 그 중 산성 욕을 기본으로 한 도금 제품 생산 방식이 일반적으로 널리 사용되고 있다. 산성욕에는 또한 황화물욕이 기본이 되는 것과 염화물욕이 기본이 되는 것 등이 있다. In order to solve this problem of zinc electroplating, zinc-nickel alloy electroplating has been developed. Zinc-nickel alloy electroplating is classified according to the components of the bath, of which the production method of plating products based on acidic baths is generally widely used. Acid baths also include sulfide baths as bases and chloride baths as bases.

염화물욕은 황화물욕에 비하여 전기 전도도가 우수하여 고 전류 밀도 도금이 가능하며, 주로 가용성(용해성) 양극을 사용하기 때문에 불용성 양극을 사용하는 황화물욕에 비하여 용액의 제어가 편리하고 비용이 적게 든다. 이와 같은 가용성 양극은 주로 아연과 니켈을 사용하며, 일반적으로 아연이 약 85% 이상을 차지한다. 따라서 아연 양극의 균일한 용해성, 즉 슬러지(Sludge)나 이물질이 양극에 남아있지 않아야 양호한 도금 제품을 생산할 수 있다.Chloride baths have better electrical conductivity than sulfide baths, enabling high current density plating, and because they use soluble anodes, they are more convenient and less expensive to control than sulfide baths that use insoluble anodes. Such soluble anodes mainly use zinc and nickel, and zinc generally accounts for about 85% or more. Therefore, the uniform solubility of the zinc anode, that is, no sludge or foreign matter remains on the anode can produce a good plated product.

그러나 아연과 니켈은 염화물 도금욕에서 전위 차가 크기 때문에, 아연 양극에 니켈의 무 전해 치환에 의한 아연 수산화물 계통의 슬러지가 발생하기 쉽다. 생성된 슬러지는 양극의 표면에 붙어서 연속작업에 의한 아연 용해시 불균일하게 용해되어 도금액의 농도를 급격하게 변화시키고, 또한 통전을 방해하여 도금 전압을 상승시킬 뿐만 아니라 불균일한 전착을 발생시켜 도금층의 밀착성 저하 및 도금 제품의 표면 품질(표면 외관 및 표면 조도) 저하를 초래한다. However, since zinc and nickel have a large potential difference in the chloride plating bath, sludge in the zinc hydroxide system due to electroless substitution of nickel at the zinc anode is likely to occur. The produced sludge adheres to the surface of the anode and dissolves unevenly when zinc is melted by continuous operation, which rapidly changes the concentration of the plating solution, and also impedes the plating voltage to increase the plating voltage and causes uneven electrodeposition, resulting in adhesion of the plating layer. Deterioration and surface quality of the plated product (surface appearance and surface roughness).

이러한 문제점을 해결하기 위한 방법으로서, 도금액의 산도(pH)를 저하시켜 슬러지 발생을 억제하는 방법이 있다. 그러나 상기 방법의 경우 아연-니켈 도금시 pH가 1.5 이하가 되면 수소가 발생하기 때문에 도금재가 경화되는 문제점이 있다. As a method for solving such a problem, there is a method of reducing the acidity (pH) of the plating liquid to suppress sludge generation. However, the above method has a problem in that the plating material is cured because hydrogen is generated when the pH is 1.5 or less during zinc-nickel plating.

또한 영국특허 제189258호에는 아세틸렌알코올, 방향족 술폰산 등의 첨가제를 사용함으로써 도금층의 Ni 함량을 증가시키고, 전류 효율을 증대시키며 도금 균일성을 개선할 수 있는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 염화물욕에서 4시간 이상 장시간 도금시 슬러지 발생에 의한 조업 결함의 문제는 개선시키지 못하였다.In addition, British Patent No. 189258 discloses a method for increasing Ni content, increasing current efficiency, and improving plating uniformity by using additives such as acetylene alcohol and aromatic sulfonic acid. However, the problem of the operation defect by the sludge generation at the time of plating for 4 hours or more in the chloride bath did not improve.

일본특허 소 59-211589호에는 염화아연 및 염화니켈을 주성분으로 하는 염화물욕 및 황산염을 혼합한 도금액에 염화 암모늄을 일부 첨가하고 도금 조건을 변경함으로써 석출물에 부수적으로 수반되는 황갈색이나 청자색 산화물의 혼입 석출을 유효하게 억제하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 상기 방법은 조업 초기에만 슬러지의 발생이 억제될 뿐 시간이 지나면 슬러지가 발생된다. Japanese Patent No. 59-211589 discloses mixed precipitation of yellowish brown or blue violet oxide accompanying incidental to precipitates by adding a part of ammonium chloride to the plating solution containing zinc chloride and nickel chloride as a main component of a chloride bath and sulfate and changing plating conditions. A method of effectively suppressing is disclosed. However, the above method only suppresses the generation of sludge only at the beginning of operation, and generates sludge over time.

또한 일본특허 평 2-57695호에는 RS(R`O)nH 또는 S-((R`O)nH)2 (여기서, R는 탄소수 1 내지 24의 알킬렌기이다)를 첨가하여 광택 및 연성을 개선하는 방법이 개시되어 있으나, 슬러지 발생은 억제되지 않으며 또한 장시간 도금시 pH의 변화가 심하다.In addition, Japanese Patent No. Hei 2-57695 discloses gloss and ductility by adding RS (R`O) n H or S-((R`O) n H) 2 (where R is an alkylene group having 1 to 24 carbon atoms). Although a method of improving is disclosed, the generation of sludge is not suppressed, and also the pH is greatly changed during prolonged plating.

본 발명은 상기 문제를 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 양극의 반응성 및 전착(電着) 반응이 양호하여 균일한 전착층의 형성이 가능하고, 우수한 도금 밀착성을 나타내며, 부반응인 수소 발생을 최소화할 수 있는 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물, 이를 이용한 전기 도금 강판의 제조방법, 및 이에 따라 제조된 아 연-니켈 합금 전기 도금 강판을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to form a uniform electrodeposition layer due to good reactivity and electrodeposition reaction of the anode, showing excellent plating adhesion, and generating hydrogen as a side reaction. An object of the present invention is to provide a zinc-nickel alloy electroplating composition which can be minimized, a method of manufacturing an electroplated steel sheet using the same, and a zinc-nickel alloy electroplated steel sheet produced accordingly.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 제1실시예는 아연 이온, 니켈 이온, 염소 이온, 및 첨가제를 포함하며, 상기 니켈 이온은 0.11 내지 0.15의 농도비(Ni2+/(Zn2++Ni2+))로 포함되는 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물을 제공한다. In order to achieve the above object, a first exemplary embodiment of the present invention includes zinc ions, nickel ions, chlorine ions, and additives, wherein the nickel ions have a concentration ratio of 0.11 to 0.15 (Ni 2+ / (Zn 2+). + Ni 2+ )) to provide a zinc-nickel alloy electroplating composition.

이때 상기 첨가제는 사카린, 구연산염, 뇨산 및 술폰산염을 포함하며, 보다 바람직하게는 구연산염 1중량부에 대하여, 사카린 1.5 내지 4중량부, 뇨산 0.01 내지 0.1중량부 및 술폰산염 0.5 내지 2중량부를 포함한다. At this time, the additives include saccharin, citrate, uric acid and sulfonate, and more preferably 1.5 to 4 parts by weight of saccharin, 0.01 to 0.1 part by weight of uric acid and 0.5 to 2 parts by weight of sulfonate, based on 1 part by weight of citrate. .

또한, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 염화칼륨, 염화칼슘 및 염화나트륨 및 염화암모늄으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 것을 포함하는 염소 이온 농도 조절제에 의해 도금 조성물중의 염소 이온의 농도가 조절되는 것이 바람직하다. In addition, the zinc-nickel alloy electroplating composition is preferably adjusted by the concentration of chlorine ions in the plating composition by a chlorine ion concentration regulator comprising one or more selected from the group consisting of potassium chloride, calcium chloride and sodium chloride and ammonium chloride. Do.

본 발명의 예시적인 제2실시예는 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물을 pH 3.5 내지 5, 온도 50 내지 70℃, 전류밀도 40 내지 200A/dm2 및 강판에 대한 도금 조성물의 상대유속 0.5 내지 2.5m/sec의 조건하에서 소지강판에 도금하는 아연-니켈 합금 전기 도금 강판의 제조방법을 제공한다.In a second exemplary embodiment of the present invention, the zinc-nickel alloy electroplating composition may have a pH of 3.5 to 5, a temperature of 50 to 70 ° C, a current density of 40 to 200 A / dm 2, and a relative flow rate of 0.5 to 2.5 of the plating composition with respect to the steel sheet. Provided is a method for producing a zinc-nickel alloy electroplated steel sheet which is plated on a steel sheet under m / sec.

본 발명의 예시적인 제3실시예는 또한 상기 제조방법으로 제조된 아연-니켈 합금 전기 도금 강판을 제공한다.A third exemplary embodiment of the present invention also provides a zinc-nickel alloy electroplated steel sheet manufactured by the above manufacturing method.

이하 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 특정하게 조합된 첨가제를 포함하는 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물을 사용함으로써, 양극의 반응성 및 전착(電着) 반응이 양호하여 균일한 전착층의 형성이 가능하고, 우수한 도금 밀착성을 나타내며, 부반응인 수소 발생을 최소화할 수 있었다.The present invention uses a zinc-nickel alloy electroplating composition containing a specific combination of additives, so that the reactivity and electrodeposition reaction of the positive electrode is good to form a uniform electrodeposition layer, showing excellent plating adhesion In addition, it was possible to minimize the generation of hydrogen which is a side reaction.

상세하게는, 본 발명의 예시적인 제1실시예에 따른 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은Specifically, the zinc-nickel alloy electroplating composition according to the first exemplary embodiment of the present invention is

아연 이온;Zinc ions;

니켈 이온;Nickel ions;

염소 이온; 및 Chlorine ions; And

사카린, 구연산염, 뇨산 및 술폰산염을 포함하는 첨가제를 포함하며,Includes additives including saccharin, citrate, uric acid and sulfonates,

상기 니켈 이온은 0.11 내지 0.15의 농도비(Ni2+/(Zn2++Ni2+))로 포함된다.The nickel ions are included in a concentration ratio (Ni 2+ / (Zn 2+ + Ni 2+ )) of 0.11 to 0.15.

보다 바람직하게는, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중 니켈 이온의 농도비(Ni2+/(Zn2++Ni2+))는 0.12 내지 0.14이다. 도금층중 Ni 함량이 10%이상이면 우수한 내식성을 나타내게 되는데, 아연-니켈 전기 도금 조성물중의 니켈 이온의 농도비가 0.11 미만이면 도금층 중의 니켈 함량이 낮게 되어 내식성이 저하되며, 0.15를 초과하면 도금층중 Ni 함량이 14% 이상으로 높아져 경도 증가에 다른 성형 가공성 열화 및 가공시 박리가 일어날 우려가 있어 바람직하지 않다.More preferably, the concentration ratio (Ni 2+ / (Zn 2+ + Ni 2+ )) of nickel ions in the zinc-nickel alloy electroplating composition is 0.12 to 0.14. If the Ni content in the plating layer is 10% or more, it shows excellent corrosion resistance. If the concentration ratio of nickel ions in the zinc-nickel electroplating composition is less than 0.11, the nickel content in the plating layer is low, and the corrosion resistance is lowered. It is not preferable because the content is increased to 14% or more, and there is a risk of moldability deterioration and peeling during processing due to the increase in hardness.

또한 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중 아연 및 니켈의 금속이온(Zn2++Ni2+)은 70 내지 140g/L의 농도로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게 는 90 내지 110g/L이다. 총 금속 이온의 농도가 70g/L 미만이면 전류 효율이 저하되고, 금속이온 부족으로 고전류 조업시 수소 발생에 의하여 표면이 검게 될 우려가 있으며, 140g/L를 초과하면 도금층의 밀착성이 나쁘고 전착 비용이 높아져 바람직하지 않다.In addition, the metal ions (Zn 2+ + Ni 2+ ) of zinc and nickel in the zinc-nickel alloy electroplating composition are preferably included at a concentration of 70 to 140 g / L, more preferably 90 to 110 g / L. . If the total metal ion concentration is less than 70 g / L, the current efficiency may decrease, and the surface may become black due to hydrogen generation during high current operation due to the lack of metal ions. If it exceeds 140 g / L, the adhesion of the plating layer is bad and the electrodeposition cost is high. It is not preferable to become high.

이에 따라, 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중에서의 니켈 이온의 농도는 7.7 내지 21.9g/L인 것이 바람직하다. 니켈 이온의 농도가 7.7g/L 미만이면 도금층에 총 금속 이온의 부족으로 검게 그을리는 자국(burning)이 발생할 우려가 있고, 21.9g/L를 초과하면 분말형태로 도금되어 밀착성이 떨어진다. Accordingly, the concentration of nickel ions in the zinc-nickel alloy electroplating composition is preferably 7.7 to 21.9 g / L. If the concentration of nickel ions is less than 7.7 g / L, burning may be blackened due to the lack of total metal ions in the plating layer. If the concentration of nickel ions exceeds 21.9 g / L, the plating may be performed in the form of powder, resulting in poor adhesion.

상기 아연 이온의 농도는 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중 49 내지 133g/L인 것이 바람직하다. 아연 이온의 농도가 49g/L 미만이면 도금층의 내식성이 감소될 우려가 있고, 133g/L를 초과할 경우 가공성이 저하될 우려가 있어 바람직하지 않다.The concentration of the zinc ion is preferably 49 to 133 g / L in the zinc-nickel alloy electroplating composition. If the concentration of zinc ions is less than 49 g / L, the corrosion resistance of the plating layer may be reduced. If the concentration of zinc ions is more than 133 g / L, the workability may be lowered, which is not preferable.

또한 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중 염소 이온의 농도는 220 내지 340g/L인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 240 내지 300g/L 이다. 염소 이온의 농도가 220g/L 미만이면 전도도가 불량하여 도금층의 밀착성이 불량하고 표면이 검게 타는 결점이 나타나며, 양극의 표면 용해성도 불량하다. 또한 염소이온의 농도가 340g/L를 초과하면 염화물의 용해도가 불량하여 석출에 의하여 표면 흠이 발생할 우려가 있어 바람직하지 않다.In addition, the concentration of chlorine ions in the zinc-nickel alloy electroplating composition is preferably 220 to 340 g / L, more preferably 240 to 300 g / L. If the concentration of chlorine ions is less than 220 g / L, the conductivity is poor, the adhesion of the plating layer is poor, the surface burns black, and the surface solubility of the anode is also poor. In addition, when the concentration of the chlorine ion exceeds 340g / L, the chloride solubility is poor, there is a possibility that the surface scratches may occur due to precipitation is not preferable.

상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중에 포함되는 아연 이온은 아연을 함유하는 염, 예를 들어 염화아연으로부터 이온화된 것이고, 니켈 이온은 니켈을 포함하는 염, 예를 들어 염화니켈로부터 이온화된 것이다. 또한 염소 이온은 염소를 함유하는 염, 예를 들어 염화암모늄으로부터 이온화된 것이다.  Zinc ions included in the zinc-nickel alloy electroplating composition are ionized from zinc containing salts, such as zinc chloride, and nickel ions are ionized from salts containing nickel, such as nickel chloride. Chlorine ions are also ionized from salts containing chlorine, for example ammonium chloride.

따라서 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중에 포함되는 아연 이온, 니켈 이온 및 염소 이온의 농도는 이들을 포함하는 염이 함량에 따라 조절될 수 있다.Therefore, the concentration of zinc ions, nickel ions, and chlorine ions included in the zinc-nickel alloy electroplating composition may be adjusted according to the salt content thereof.

일례로 염소 이온의 경우, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 염화암모늄을 20 내지 60g/L의 양으로 포함하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 내지 40g/L로 포함한다. 염화암모늄의 양이 20g/L 미만이면 양극의 균일 용해가 저하되고, 60g/L를 초과하면 도금층이 암갈색으로 변화될 우려가 있어 바람직하지 않다. For example, in the case of chlorine ions, the zinc-nickel alloy electroplating composition preferably contains ammonium chloride in an amount of 20 to 60 g / L, more preferably 20 to 40 g / L. If the amount of ammonium chloride is less than 20 g / L, uniform dissolution of the positive electrode decreases, and if it exceeds 60 g / L, the plating layer may change to dark brown, which is not preferable.

또한, 상기 염소 이온의 경우, 염화칼륨, 염화칼슘, 염화나트륨 및 염화암모늄으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 것을 포함하는 염소 이온 농도 조절제를 사용하여 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중의 염소 이온의 농도를 추가적으로 조절할 수 있다. In addition, in the case of the chlorine ions, the concentration of chlorine ions in the zinc-nickel alloy electroplating composition is further added by using a chlorine ion concentration regulator including at least one selected from the group consisting of potassium chloride, calcium chloride, sodium chloride and ammonium chloride. I can regulate it.

상기 첨가제는 사카린, 구연산염, 뇨산 및 술폰산염을 포함하며, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중에 0.1 내지 4ml/L, 보다 바람직하게는 0.5 내지 3.5ml/L의 양으로 첨가된다. 첨가제의 양이 0.1ml/L 미만이면 도금 조성물의 슬러지가 억제되지 않아 균일 전착성이 확보되지 않으며, 표면외관의 백색도가 감소하여 바람직하지 않고, 4ml/L를 초과할 경우 농도의 과다에 의하여 금속이온의 소지 금속의 흡착 방해로 밀착성이 불량하게 되어 바람직하지 않다.The additives include saccharin, citrate, uric acid and sulfonate and are added in the zinc-nickel alloy electroplating composition in an amount of 0.1 to 4 ml / L, more preferably 0.5 to 3.5 ml / L. If the amount of the additive is less than 0.1ml / L, the sludge of the plating composition is not suppressed, uniform electrodeposition property is not secured, and the white appearance of the surface appearance is not reduced, which is undesirable. It is unpreferable because adhesiveness becomes poor by the adsorption | suction of ions carrying metals.

상기 구연산염으로는 구연산 나트륨 등을 사용할 수 있다.As the citrate, sodium citrate and the like can be used.

상기 사카린은 구연산염 1중량부에 대하여 1.5 내지 4의 중량부로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 내지 3의 중량비이다. 구연산염에 대한 사카린의 중량비가 1.5 미만이면 도금층의 표면 불균일로 광택이 나지 않으며, 4를 초과하면 이온 흡착 방해가 심하여 도금층 밀착성이 불량해진다. The saccharin is preferably included in an amount of 1.5 to 4 parts by weight, more preferably 2 to 3 by weight based on 1 part by weight of citrate. If the weight ratio of saccharine to citrate is less than 1.5, the gloss is not polished due to the surface unevenness of the plated layer, and if it exceeds 4, the ion adsorption interference is severe and the plated layer adhesion is poor.

상기 뇨산은 구연산염 1중량부에 대하여 0.01 내지 0.1 중량부로 포함되는 것는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.02 내지 0.05의 중량비이다. 구연산 나트륨에 대한 뇨산의 중량비가 0.01 미만에서는 도금층 백색도 향상이 없으며, 0.1을 초과할 경우 표면에 흑색 무늬가 발생한다. The uric acid is preferably included in 0.01 to 0.1 parts by weight with respect to 1 part by weight of citrate, more preferably in the weight ratio of 0.02 to 0.05. If the weight ratio of uric acid to sodium citrate is less than 0.01, there is no improvement in the whiteness of the plated layer, and if it exceeds 0.1, a black pattern occurs on the surface.

상기 술폰산염은 구연산염 1중량부에 대하여 0.5 내지 2중량부로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 1.5의 중량비로 포함된다. 구연산염에 대한 술폰산염의 중량비가 0.5 미만이면 도금 조직 형상 제어가 되지 않아 백색도 향상이 없으며, 2를 초과하면 이온 흡착 방해로 밀착성이 감소된다. 이와 같은 술폰산염으로는 술폰산나트륨 등을 들 수 있다.The sulfonate is preferably included in an amount of 0.5 to 2 parts by weight, more preferably 1 to 1.5 by weight, based on 1 part by weight of citrate. If the weight ratio of citrate to sulfonate is less than 0.5, the plating structure shape is not controlled and there is no improvement in whiteness. Examples of such sulfonates include sodium sulfonate and the like.

상기 첨가제는 물에 용해된 용액 상태로 사용되는데, 이때 물은 상기 첨가제 1중량부에 대하여 1.5 내지 3 중량부, 보다 바람직하게는 1.5 내지 2 중량부로 혼합된다. 중량비가 1.5 미만이면 수소 발생 억제 효과가 적어서 도금효율이 저하된다. 3을 초과하면 첨가제간의 상호 반응이 어려워 도금층의 표면 백색도 및 광택도 및 밀착성이 저하된다.The additive is used as a solution dissolved in water, wherein water is mixed at 1.5 to 3 parts by weight, more preferably 1.5 to 2 parts by weight, based on 1 part by weight of the additive. If the weight ratio is less than 1.5, the effect of suppressing hydrogen generation is small and the plating efficiency is lowered. When it exceeds 3, the mutual reaction between additives becomes difficult and the surface whiteness, glossiness, and adhesiveness of a plating layer fall.

본 발명의 예시적인 제1실시예에 따른 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 사카린, 구연산염, 뇨산 및 술폰산염을 포함하는 첨가제를 포함함으로써, 양극의 반응성 및 전착(電着) 반응이 양호하여 균일한 전착층을 형성할 수 있으며, 또한 우수한 도금 밀착성을 나타내며, 부반응인 수소 발생을 최소화할 수 있다.The zinc-nickel alloy electroplating composition according to the first exemplary embodiment of the present invention includes an additive including saccharin, citrate, uric acid, and sulfonate, so that the reactivity and electrodeposition of the positive electrode are good and uniform. The electrodeposition layer can be formed, also exhibits excellent plating adhesion, and can minimize the generation of hydrogen as a side reaction.

본 발명의 예시적인 제2실시예에 따르면, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물을 이용한 아연-니켈 합금 전기 도금 강판의 제조방법을 제공한다.According to a second exemplary embodiment of the present invention, a method of manufacturing a zinc-nickel alloy electroplated steel sheet using the zinc-nickel alloy electroplating composition is provided.

보다 상세하게는, 본 발명의 예시적인 제2실시예에 따른 아연-니켈 합금 전기 도금 강판의 제조방법은 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물을 pH 3.5 내지 5.0, 온도 50 내지 70℃, 전류밀도 40 내지 200A/dm2 및 강판에 대한 도금 조성물의 상대유속 0.5 내지 2.5m/sec의 조건하에서 소지강판에 도금하는 단계를 포함한다.More specifically, the manufacturing method of the zinc-nickel alloy electroplating steel sheet according to the second exemplary embodiment of the present invention is a zinc-nickel alloy electroplating composition pH 3.5 to 5.0, temperature 50 to 70 ℃, current density 40 To 200 A / dm 2 and the plated steel sheet under conditions of a relative flow rate of 0.5 to 2.5 m / sec of the plating composition for the steel sheet.

상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 앞서 설명한 바와 동일하다.The zinc-nickel alloy electroplating composition is the same as described above.

도금시 pH는 3.5 내지 5인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3.5 내지 4.5이다. pH가 3.5미만이면 음극에 수소 발생 등으로 도금 효율이 저하되고 도금층의 표면에 흑색 빗살 무늬가 발생되며, 5.0를 초과하면 수산화물 등의 생성 및 도금 용액의 오염이 심하게 발생된다. It is preferable that pH at the time of plating is 3.5-5, More preferably, it is 3.5-4.5. If the pH is less than 3.5, the plating efficiency is lowered due to hydrogen generation at the cathode, and black comb fringes are generated on the surface of the plating layer. If the pH is higher than 5.0, the formation of hydroxides and the contamination of the plating solution are severely generated.

또한 온도는 50 내지 70℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 내지 60℃이다. 온도가 50℃ 미만이면 각종 염의 용해도가 낮아지고 도금층에 합금 금속인 니켈의 함량이 저하되며, 70℃를 초과할 경우 도금 조성물의 증발로 인하여 증기 발생이 심하며 설비 부식이 심하게 일어난다. Moreover, it is preferable that temperature is 50-70 degreeC, More preferably, it is 50-60 degreeC. If the temperature is less than 50 ℃, solubility of various salts is lowered, the content of nickel, which is an alloy metal in the plating layer is lowered, and if it exceeds 70 ℃ steam generation is severe due to the evaporation of the plating composition and the equipment corrosion occurs badly.

또한 전류밀도는 40 내지 200A/dm2 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 60 내지 120A/dm2 이다. 전류밀도가 40A/dm2 미만이면 도금층의 광택도가 저하되 고, 도금층에 니켈이 과다 석출되는 결점이 나타난다. 그러나 전류 밀도가 증가하면 도금 속도가 빨라져서 생산성이 향상되지만, 200A/dm2를 초과하면 도금층에 버닝 현상이 나타나고 강판과 통전체와의 접촉성에도 문제가 발생하기 때문에 바람직하지 않다. The current density is preferably 40 to 200 A / dm 2 , more preferably 60 to 120 A / dm 2 . If the current density is less than 40A / dm 2, the glossiness of the plating layer is lowered, and a defect of excessive precipitation of nickel appears in the plating layer. However, if the current density is increased, the plating speed is increased, and the productivity is improved. However, if the current density exceeds 200 A / dm 2 , burning phenomenon occurs in the plated layer and the contact between the steel sheet and the current collector is not preferable.

아연-니켈 합금의 피도금체인 강판에 대한 도금 조성물의 상대유속은 0.5 내지 2.5m/sec인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 2m/sec이다. 상대유속이 0.5m/sec 미만인 경우 도금 결정의 조대화 및 도금층의 버닝(burning) 발생 등으로 도금성이 열화될 우려가 있고, 2.5m/sec를 초과하면 실용 범위를 넘어서기 때문에 바람직하지 않다.It is preferable that the relative flow velocity of the plating composition with respect to the steel plate which is a to-be-plated body of a zinc- nickel alloy is 0.5-2.5 m / sec, More preferably, it is 1-2 m / sec. If the relative flow rate is less than 0.5 m / sec, the plating property may deteriorate due to coarsening of the plating crystals and burning of the plating layer, and it is not preferable because the relative flow rate exceeds 2.5 m / sec because it exceeds the practical range.

본 발명의 예시적인 제3실시예에 따르면, 상기 제조방법에 의해 제조된 아연-니켈 합금 전기 도금 강판을 제공한다.According to a third exemplary embodiment of the present invention, there is provided a zinc-nickel alloy electroplated steel sheet manufactured by the above manufacturing method.

본 발명의 예시적인 제3실시예에 따른 아연-니켈 합금 전기 도금 강판은 백색도, 광택도, 밀착성 및 표면조도가 우수하다.The zinc-nickel alloy electroplated steel sheet according to the third exemplary embodiment of the present invention is excellent in whiteness, glossiness, adhesion and surface roughness.

이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples and comparative examples of the present invention are described. However, the following examples are only preferred embodiments of the present invention and the present invention is not limited to the following examples.

[실시예]EXAMPLE

실시예Example 1 내지 11 1 to 11

소지 금속으로 냉연강판에 도금 조성물중 아연 이온과 니켈 이온의 농도 합 =100g/L, 도금 조성물중의 Ni이온의 농도비[Ni/(Ni+Zn)] = 0.12(아연 이온 88g/L, 니켈이온 12g/L, 염소 이온 270g/L)에 하기 표 1과 같이 구성되는 첨가제가 각각 표 1에 기재된 양으로 첨가된 도금 조성물을 온도 60℃, pH 4.5, 강판에 대한 도금 조성물의 상대유속 1.5m/sec, 전류 밀도 80A/dm2 도금조건으로 하여 도금량을 30g/m2으로 적용하여 비교예 및 실시예의 시편을 제조하였다. Cold rolled steel plate with a base metal, the sum of the concentrations of zinc ions and nickel ions in the plating composition = 100 g / L, the concentration ratio of Ni ions in the plating composition [Ni / (Ni + Zn)] = 0.12 (zinc ion 88 g / L, nickel ions 12 g / L, 270 g / L of chlorine ions) were added to the plating composition in which the additives as shown in Table 1 were added in the amounts shown in Table 1, respectively, at a temperature of 60 ° C., pH 4.5, and a relative flow rate of 1.5 m / sec, a current density of 80A / dm 2 under the plating conditions were applied to the coating amount of 30g / m 2 to prepare a specimen of Comparative Examples and Examples.

각 시편의 물성을 평가하여 하기 표 1에 나타내었다.The physical properties of each specimen were evaluated and shown in Table 1 below.

도금층의 백색도는 색차계(Color and Color Difference Meter)로 측정하여 68 이상을 양호, 68 미만을 불량으로 평가하였다.The whiteness of the plating layer was measured by a color and color difference meter, and evaluated as 68 or more and less than 68 as poor.

광택도는 Erichsen의 광도기(Glossmeter)로 측적하여 70 이상을 양호, 70 미만을 불량으로 평가하였다.Glossiness was measured by Erichsen's Glossmeter (Glossmeter), evaluated as 70 or more good, less than 70 as poor.

도금층의 밀착성은 시편을 120°로 구부려서 압축되는 부위에 테이프를 밀착시킨 후 테이프에 도금층이 묻어나지 않는 경우를 양호, 묻어나는 경우를 불량으로 평가하였다.The adhesion of the plated layer was evaluated to be good and the case where the plated layer was not adhered to the tape after the specimen was bent at 120 ° and adhered to the tape to be compressed.

또한 도금층의 표면조도는 도금후 강판의 조도와 도금전 강판의 조도차가 Rmax 기준으로 0.5㎛ 이하이면 양호, 0.5㎛를 초과할 경우 불량으로 평가하였다.In addition, the surface roughness of the plating layer was good if the roughness difference between the roughness of the steel sheet after plating and the steel sheet before plating was 0.5 µm or less on the basis of Rmax.

구분division 첨가제 조성 (중량비)Additive Composition (Weight Ratio) 첨가제 첨가량 (ml/L)Additive amount (ml / L) 도금 품질Plating quality 구연산 나트륨 : 사카린Sodium Citrate: Saccharin 구연산나트륨 : 술폰산 나트륨Sodium Citrate: Sodium Sulfonate 구연산 나트륨 : 뇨산Sodium Citrate: Uric Acid 물: 첨가제 총 합Water: total additive 도금층 백색도Plating layer whiteness 도금층 광택도Plated Glossiness 밀착성Adhesion 표면조도Surface roughness 실시예Example 1One 1:1.51: 1.5 1:11: 1 1:0.21: 0.2 1:21: 2 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 22 1:4.01: 4.0 1:11: 1 1:0.21: 0.2 1:21: 2 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 33 1:21: 2 1:0.51: 0.5 1:0.021: 0.02 1:21: 2 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 44 1:21: 2 1:21: 2 1:0.021: 0.02 1:21: 2 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 55 1:21: 2 1:11: 1 1:0.011: 0.01 1:21: 2 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 66 1:21: 2 1:11: 1 1:0.11: 0.1 1:21: 2 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 77 1:21: 2 1:11: 1 1:0.021: 0.02 1:1.51: 1.5 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 88 1:21: 2 1:11: 1 1:0.021: 0.02 1:31: 3 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 99 1:21: 2 1:11: 1 1:0.021: 0.02 1:21: 2 0.10.1 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1010 1:21: 2 1:11: 1 1:0.021: 0.02 1:21: 2 0.50.5 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1111 1:21: 2 1:11: 1 1:0.021: 0.02 1:21: 2 4.04.0 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good

상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 첨가제 성분들의 함량비 범위내에서 첨가제를 포함하는 실시예 1 내지 11의 니켈-아연 합금 전기 도금 조성물로부터 도금된 강판에서의 도금 품질은 모두 우수함을 확인할 수 있었다.As shown in Table 1, it can be confirmed that the plating quality in the steel plate plated from the nickel-zinc alloy electroplating composition of Examples 1 to 11 including the additive within the content ratio range of the additive components of the present invention are all excellent. there was.

실시예Example 12~19 및  12-19 and 비교예Comparative example 1~8 1-8

소지 금속으로 냉연강판에 하기 표2와 같이 구성되는 도금 조성물을 온도 60℃, pH 3.5, 강판에 대한 도금 조성물의 상대유속 1.5m/sec, 전류 밀도 80A/dm2 도금조건으로 하여 도금량을 30g/m2으로 적용하여 비교예 및 실시예의 시편을 제조하였다. 이때 도금 조성물중에 첨가되는 첨가제로는 상기 실시예 1에서의 첨가제를 0.5ml/L 사용하였다.The plating amount is 30g / on a cold rolled steel sheet having a metal as shown in Table 2 below at a temperature of 60 ° C., pH 3.5, and a relative flow rate of 1.5 m / sec of the plating composition for the steel sheet and a current density of 80 A / dm 2. Samples of Comparative Examples and Examples were prepared by applying m 2 . In this case, 0.5 ml / L of the additive in Example 1 was used as the additive added in the plating composition.

각 시편의 물성을 앞서와 동일한 방법으로 평가하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The physical properties of each specimen were evaluated in the same manner as before, and the results are shown in Table 2 below.

구분division 도금 조성물의 조성Composition of Plating Composition 도금 품질Plating quality (Zn2 ++Ni2 +)의 농도 (g/L)Concentration of (Zn 2 + + Ni 2 + ) (g / L) Ni2 +/ (Zn2 ++Ni2 +)의 농도비Concentration ratio of Ni 2 + / (Zn 2 + + Ni 2 + ) NH4Cl (g/L)NH 4 Cl (g / L) Cl-의 농도 (g/L)Cl - concentration (g / L) 백색도Whiteness 광택도Glossiness 밀착성Adhesion 조도Roughness 실시예Example 1212 7070 0.130.13 3030 270270 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1313 140140 0.130.13 3030 270270 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1414 9090 0.110.11 3030 270270 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1515 9090 0.150.15 3030 270270 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1616 9090 0.130.13 2020 270270 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1717 9090 0.130.13 6060 270270 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1818 9090 0.130.13 3030 220220 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 1919 9090 0.130.13 3030 340340 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 비교예Comparative example 1One 6565 0.130.13 3030 270270 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad 22 145145 0.130.13 3030 270270 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad 33 9090 0.1050.105 3030 270270 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad 44 9090 0.1550.155 3030 270270 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad 55 9090 0.130.13 1919 270270 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad 66 9090 0.130.13 6161 270270 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad 77 9090 1313 3030 210210 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad 88 9090 1313 3030 350350 불량Bad 불량Bad 불량Bad 불량Bad

상기 표 2에 나타난 바와 같이, 본 발명의 도금 조성물의 함량 범위내에 포함되는 실시예 12 내지 19에서 형성된 도금층은 모두 양호한 표면 품질과 밀착성, 조도 등을 나타내었으나, 본 발명의 도금 조성물의 함량범위를 벗어난 비교예 1 내지 8의 경우 표면 품질, 밀착성 및 조도가 모두 불량하였다.As shown in Table 2, all of the plating layers formed in Examples 12 to 19 included in the content range of the plating composition of the present invention exhibited good surface quality, adhesion, roughness, and the like, but the content range of the plating composition of the present invention Deviations of Comparative Examples 1 to 8 were all poor in surface quality, adhesion and roughness.

본 발명에 따른 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 균일한 전착층의 형성이 가능하고, 우수한 도금 밀착성을 나타내며, 부반응인 수소 발생을 최소화한다. 또한 상기 전기 도금 조성물로부터 형성된 전기 도금 강판은 우수한 표면외관 및 표면조도를 갖는다.The zinc-nickel alloy electroplating composition according to the present invention can form a uniform electrodeposition layer, exhibit excellent plating adhesion, and minimize side reaction hydrogen generation. In addition, the electroplated steel sheet formed from the electroplating composition has excellent surface appearance and surface roughness.

Claims (9)

아연 이온;Zinc ions; 니켈 이온;Nickel ions; 염소 이온; 및 Chlorine ions; And 사카린, 구연산염, 뇨산 및 술폰산염을 포함하는 첨가제를 포함하며,Includes additives including saccharin, citrate, uric acid and sulfonates, 상기 니켈 이온은 0.11 내지 0.15의 농도비(Ni2+/(Zn2++Ni2+))로 포함되고,The nickel ions are contained in a concentration ratio of 0.11 to 0.15 (Ni 2+ / (Zn 2+ + Ni 2+ )), 상기 첨가제는 구연산염 1중량부에 대하여, 사카린 1.5 내지 4중량부; 뇨산 0.01 내지 0.1중량부; 및 술폰산염 0.5 내지 2중량부를 포함하는 것인 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물.The additive is based on 1 part by weight of citrate, saccharin 1.5 to 4 parts by weight; 0.01 to 0.1 parts by weight of uric acid; And sulfonate 0.5 to 2 parts by weight of zinc-nickel alloy electroplating composition. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 아연 및 니켈의 금속 이온(Zn2++Ni2+)을 70 내지 140g/L의 농도로 포함하는 것인 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물.The zinc-nickel alloy electroplating composition is a zinc-nickel alloy electroplating composition comprising a metal ion (Zn 2+ + Ni 2+ ) of zinc and nickel in a concentration of 70 to 140g / L. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 염소 이온을 220 내지 340g/L의 농도로 포함하는 것인 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물.The zinc-nickel alloy electroplating composition is a zinc-nickel alloy electroplating composition comprising chlorine ions at a concentration of 220 to 340g / L. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은, 염화칼륨, 염화칼슘, 염화나트륨 및 염화암모늄으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 것을 포함하는 염소 이온 농도 조절제에 의해 염소 이온 농도가 조절되는 것인 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물.The zinc-nickel alloy electroplating composition is a zinc-nickel alloy electroplating in which the chlorine ion concentration is controlled by a chlorine ion concentration regulator including at least one selected from the group consisting of potassium chloride, calcium chloride, sodium chloride and ammonium chloride. Composition. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 첨가제는 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물중에 0.1 내지 4ml/L의 양으로 포함되는 것인 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물.And the additive is included in the zinc-nickel alloy electroplating composition in an amount of 0.1 to 4 ml / L. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물은 첨가제 1중량부에 대하여 1.5 내지 3의 중량부로 물을 더 포함하는 것인 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물.The zinc-nickel alloy electroplating composition is a zinc-nickel alloy electroplating composition further comprises water in an amount of 1.5 to 3 parts by weight based on 1 part by weight of the additive. 제1항 내지 제5항 및 제7항중 어느 한 항에 따른 아연-니켈 합금 전기 도금 조성물을 pH 3.5 내지 5, 온도 50 내지 70℃, 전류밀도 40 내지 200A/dm2 및 강판에 대한 도금 조성물의 상대유속 0.5 내지 2.5m/sec의 조건하에서 소지 강판에 도금하는 아연-니켈 합금 전기 도금 강판의 제조방법.The zinc-nickel alloy electroplating composition according to any one of claims 1 to 5 and 7 may be prepared at a pH of 3.5 to 5, a temperature of 50 to 70 ° C, a current density of 40 to 200 A / dm 2 and a plating composition for a steel sheet. A method for producing a zinc-nickel alloy electroplated steel sheet, which is plated on a steel sheet under conditions of a relative flow rate of 0.5 to 2.5 m / sec. 제8항에 따른 제조방법으로 제조된 아연-니켈 합금 전기 도금 강판.Zinc-nickel alloy electroplated steel sheet manufactured by the manufacturing method according to claim 8.
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US4597838A (en) * 1985-08-29 1986-07-01 Omi International Corporation Additive agent for zinc alloy electrolyte and process
KR20000037997A (en) * 1998-12-03 2000-07-05 이구택 Method for producing zinc-nickel electric gilding solution having high nickel precipitation rati0
KR20030053585A (en) * 2001-12-22 2003-07-02 주식회사 포스코 Zn-ni alloy electrodeposition electrolyte for obtaining good adhesion, brightness and reducing burned area of coating layer

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