KR100659044B1 - Solar cell with zinc oxide thin film and fabricating method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 산화아연에 수소화 처리를 하여 박막 태양전지의 특성을 향상할 수 있는 산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a solar cell having a zinc oxide thin film and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a solar cell having a zinc oxide thin film capable of improving the properties of a thin film solar cell by performing a hydrogenation treatment on zinc oxide. It is about.

본 발명의 산화아연 박막을 가지는 태양전지는 투명기판; 상기 투명기판 상에 위치하고 수소화된 산화아연 박막으로 구성된 제 1 투명 전도막; 상기 제 1 투명 전도막 상에 위치하고 비정질 실리콘으로 구성된 상부 셀; 상기 상부 셀 상에 위치하고 수소화된 산화아연 박막으로 구성된 제 2 투명 전도막; 상기 제 2 투명 전도막 상에 위치하고 금속막으로 구성된 배면 반사판 및 상기 제 2 투명 전도막과 배면 반사판 사이에 위치하고 마이크로 결정질 실리콘으로 구성된 하부 셀로 이루어짐에 기술적 특징이 있다.Solar cell having a zinc oxide thin film of the present invention is a transparent substrate; A first transparent conductive film formed on the transparent substrate and composed of a hydrogenated zinc oxide thin film; An upper cell disposed on the first transparent conductive film and composed of amorphous silicon; A second transparent conductive film disposed on the upper cell and composed of a hydrogenated zinc oxide thin film; Technical features include a bottom reflector plate disposed on the second transparent conductive film and formed of a metal film, and a lower cell disposed between the second transparent conductive film and the back reflector and composed of microcrystalline silicon.

따라서, 본 발명의 산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법은 종래의 실리콘 박막 태양전지의 전극 또는 반사막으로 사용되는 산화주석 박막 대신에 산화아연 박막을 증착하여 산화아연 박막의 특성을 향상시키고 열화 문제를 해결할 수 있는 장점이 있고, 실리콘 박막 태양전지의 효율 향상과 태양전지에서 발생하는 전력 손실을 최소화할 수 있는 효과가 있다.Therefore, the solar cell having the zinc oxide thin film of the present invention and a method of manufacturing the same, instead of the tin oxide thin film used as an electrode or reflecting film of a conventional silicon thin film solar cell by depositing a zinc oxide thin film to improve the characteristics of the zinc oxide thin film and deterioration There is an advantage to solve the problem, there is an effect to improve the efficiency of the silicon thin film solar cell and minimize the power loss generated in the solar cell.

산화아연, 박막, 수소, 태양전지Zinc Oxide, Thin Film, Hydrogen, Solar Cell

Description

산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법{Solar cell with zinc oxide thin film and fabricating method thereof} Solar cell with zinc oxide thin film and its manufacturing method {Solar cell with zinc oxide thin film and fabricating method             

도 1은 종래의 비정질/마이크로 결정질 적층형 실리콘 박막의 태양전지를 나타내는 모식도이다.1 is a schematic diagram showing a solar cell of a conventional amorphous / microcrystalline laminated silicon thin film.

도 2는 본 발명에 따른 산화아연 박막을 가지는 태양전지를 나타내는 모식도이다.2 is a schematic diagram showing a solar cell having a zinc oxide thin film according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 제 1 투명 전도막의 수소 플라즈마 처리를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the hydrogen plasma process of the 1st transparent conductive film which concerns on this invention.

도 4는 본 발명에 따른 제 2 투명 전도막의 수소 플라즈마 처리를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the hydrogen plasma process of the 2nd transparent conductive film which concerns on this invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>     <Explanation of symbols for main parts of the drawings>

100. 투명기판 110. 제 1 투명 전도막   100. Transparent substrate 110. First transparent conductive film

120. 상부 셀 130. 제 2 투명 전도막   120. Upper cell 130. Second transparent conductive film

140. 하부 셀 150. 배면 반사판   140. Bottom Cell 150. Back Reflector

본 발명은 산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 산화아연에 수소화 처리를 하여 박막 태양전지의 특성을 향상할 수 있는 산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a solar cell having a zinc oxide thin film and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a solar cell having a zinc oxide thin film capable of improving the properties of a thin film solar cell by performing a hydrogenation treatment on zinc oxide. It is about.

태양전지는 크게 태양열 전지와 태양광 전지로 나눌 수 있다. 태양열을 이용하여 터빈을 회전시키는 데 필요한 증기를 발생시키는 장치는 태양열 전지이고, 태양빛을 반도체의 성질을 이용하여 전기에너지로 변환시키는 장치가 태양광 전지이다.Solar cells can be roughly divided into solar cells and solar cells. A device for generating steam required to rotate a turbine using solar heat is a solar cell, and a device for converting sunlight into electric energy using a semiconductor property is a solar cell.

산화아연(Zinc Oxide, ZnO) 박막은 투명 전극(Transparent electrode), 태양 전지, 디스플레이의 윈도우 물질(Window Material), 배리스터 소자(Varistors) 또는 소리 음향파 소자(Sound Acoustic Wave Device) 등의 광소자 분야에 널리 사용되어 온 물질이다. Zinc Oxide (ZnO) thin films are used in optical devices such as transparent electrodes, solar cells, window materials for displays, varistors or sound acoustic wave devices. It has been widely used in.

실리콘 박막을 이용하는 태양전지는 비정질 실리콘 박막 태양전지, 마이크로 결정질 실리콘 박막 태양전지, 실리콘-게르마늄 박막 태양전지 및 비정질/마이크로 결정질 적층형 실리콘 박막 태양전지 등이 있는데, 최근에는 비정질/마이크로 결정질 적층형 실리콘 박막 태양전지를 많이 사용한다. Solar cells using silicon thin films include amorphous silicon thin film solar cells, microcrystalline silicon thin film solar cells, silicon-germanium thin film solar cells, and amorphous / micro crystalline laminated silicon thin film solar cells. Recently, amorphous / micro crystalline laminated silicon thin film solar cells Use a lot of batteries.

도 1은 종래의 비정질/마이크로 결정질 적층형 실리콘 박막의 태양전지를 나 타내는 모식도이다. 도 1을 참조하면, 증착 방법은 SiH4, H2 가스를 기본으로 하는 플라즈마 화학기상증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD) 방법 또는 핫와이어(Hot Wire) 화학기상증착 방법이 주로 사용된다.1 is a schematic diagram showing a solar cell of a conventional amorphous / microcrystalline laminated silicon thin film. Referring to FIG. 1, the deposition method is mainly a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method or a hot wire chemical vapor deposition method based on SiH 4 , H 2 gas.

이때 전극으로 사용되는 투명 전도막 중에서 비정질 실리콘 박막의 경우에는 산화주석(SnO2) 박막을 적용하고, 마이크로 결정질 실리콘 박막의 경우에는 산화아연 박막을 적용하고 있다. In this case, a tin oxide (SnO 2 ) thin film is applied to an amorphous silicon thin film and a zinc oxide thin film is applied to a microcrystalline silicon thin film.

그러나 SiH4 가스를 기본으로 사용하기 때문에 SiH4 가스에 포함된 수소가 산화주석의 특성을 저하시켜 최근에는 유리기판 위의 투명 전도막 및 적층형 실리콘 박막 태양전지의 중간 반사막에 산화아연 박막을 적용하게 되는데, 상기와 같이 투명 전도막으로 사용되는 산화주석 박막은 수소 플라즈마에 노출되었을 경우에 비저항이 증가하고, 산화아연 박막은 수소 플라즈마에는 안정적이나 산화주석 박막에 비해 비저항이 높고 시간이 지남에 따라 산소와 결합하여 비저항이 높아지는 등 특성이 열화되는 문제점이 있었다.However, since SiH 4 gas is used as the base, hydrogen contained in SiH 4 gas degrades the characteristics of tin oxide. Recently, a zinc oxide thin film is applied to a transparent conductive film on a glass substrate and an intermediate reflective film of a laminated silicon thin film solar cell. As described above, the tin oxide thin film used as the transparent conductive film increases in the specific resistance when exposed to hydrogen plasma, and the zinc oxide thin film is stable in the hydrogen plasma but has a higher resistivity compared to the tin oxide thin film and increases oxygen over time. There is a problem in that the characteristics are deteriorated such that the specific resistance is increased in combination with.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 종래의 실리콘 박막 태양전지의 전극 또는 반사막으로 사용되는 산화주석 박막 대신에 산화아연 박막을 증착한 후 수소화 처리를 하여 수소가 N-형 불순물로 작용해 비저항을 감소시키고 산소의 흡착을 막아 시간에 따른 특성저하를 감소시킬 수 있는 산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법을 제공함에 본 발명의 목적이 있다.
Accordingly, the present invention is to solve the above-mentioned disadvantages and problems of the prior art, by depositing a zinc oxide thin film in place of the tin oxide thin film used as an electrode or a reflective film of a conventional silicon thin film solar cell and then subjected to hydrogenation treatment SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a solar cell having a zinc oxide thin film and a method of manufacturing the same, in which hydrogen acts as an N-type impurity to reduce specific resistance and to prevent adsorption of oxygen, thereby reducing the deterioration of characteristics with time.

본 발명의 상기 목적은 투명기판; 상기 투명기판 상에 위치하고 수소화된 산화아연 박막으로 구성된 제 1 투명 전도막; 상기 제 1 투명 전도막 상에 위치하고 비정질 실리콘으로 구성된 상부 셀; 상기 상부 셀 상에 위치하고 수소화된 산화아연 박막으로 구성된 제 2 투명 전도막; 상기 제 2 투명 전도막 상에 위치하고 금속막으로 구성된 배면 반사판 및 상기 제 2 투명 전도막과 배면 반사판 사이에 위치하고 마이크로 결정질 실리콘으로 구성된 하부 셀을 포함하여 구성된 산화아연 박막을 가지는 태양전지에 의해 달성된다.The object of the present invention is a transparent substrate; A first transparent conductive film formed on the transparent substrate and composed of a hydrogenated zinc oxide thin film; An upper cell disposed on the first transparent conductive film and composed of amorphous silicon; A second transparent conductive film disposed on the upper cell and composed of a hydrogenated zinc oxide thin film; It is achieved by a solar cell having a zinc oxide thin film positioned on the second transparent conductive film and comprising a bottom reflector formed of a metal film and a lower cell located between the second transparent conductive film and the back reflective plate and composed of microcrystalline silicon. .

또한, 본 발명의 다른 목적은 투명기판 상에 산화아연 박막을 형성한 후 수소 플라즈마를 도핑하여 제 1 투명 전도막을 형성하는 단계; 상기 제 1 투명 전도막 상에 비정질 실리콘으로 구성된 상부 셀을 형성하는 단계; 상기 상부 셀 상에 산화아연 박막을 형성한 후 수소 플라즈마를 도핑하여 제 2 투명 전도막을 형성하는 단계; 상기 제 2 투명 전도막 상에 마이크로 결정질 실리콘으로 구성된 하부 셀을 형성하는 단계 및 상기 하부 셀 상에 금속막으로 구성된 배면 반사판을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 산화아연 박막을 가지는 태양전지의 제조 방법에 의해 달성된다.In addition, another object of the present invention is to form a first transparent conductive film by forming a zinc oxide thin film on a transparent substrate and then doped with hydrogen plasma; Forming an upper cell made of amorphous silicon on the first transparent conductive film; Forming a zinc oxide thin film on the upper cell and then doping a hydrogen plasma to form a second transparent conductive film; A method of manufacturing a solar cell having a zinc oxide thin film comprising forming a bottom cell composed of micro crystalline silicon on the second transparent conductive film and forming a back reflector plate composed of a metal film on the bottom cell. Is achieved.

본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다.Details of the above object and technical configuration of the present invention and the effects thereof according to the present invention will be more clearly understood by the following detailed description with reference to the drawings showing preferred embodiments of the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 산화아연 박막을 가지는 태양전지를 나타내는 모식도이고, 도 3은 본 발명에 따른 제 1 투명 전도막의 수소 플라즈마 처리를 나타내는 모식도이며, 도 4는 본 발명에 따른 제 2 투명 전도막의 수소 플라즈마 처리를 나타내는 모식도이다.2 is a schematic diagram showing a solar cell having a zinc oxide thin film according to the present invention, Figure 3 is a schematic diagram showing a hydrogen plasma treatment of the first transparent conductive film according to the present invention, Figure 4 is a second transparent conductive according to the present invention It is a schematic diagram which shows the hydrogen plasma process of a film | membrane.

도 2 내지 도 4를 참조하여 설명하면, 본 발명에서의 박막 제조 방법은 다음과 같다. 먼저 투명기판(100) 상에 제 1 투명 전도막(110)을 형성한다. 상기 제 1 투명 전도막(110)은 산화아연 박막을 증착한 후 수소화 처리를 하여 수소가 N-형 불순물로 작용해 비저항을 감소시키고 산소의 흡착을 막아 시간에 따른 특성저하를 감소하기 위한 것이다. 상기 제 1 투명 전도막(110)은 산화아연 또는 산화주석을 포함한다.Referring to Figures 2 to 4, the thin film manufacturing method in the present invention is as follows. First, the first transparent conductive film 110 is formed on the transparent substrate 100. The first transparent conductive film 110 is formed by depositing a zinc oxide thin film and then performing a hydrogenation process to reduce hydrogen resistivity as an N-type impurity and to prevent adsorption of oxygen, thereby reducing the deterioration in characteristics over time. The first transparent conductive film 110 includes zinc oxide or tin oxide.

상기 수소화 처리는 수소 플라즈마 처리 또는 수소 열처리를 통해 산화아연에 수소를 도핑하는 것으로, 상기 수소 플라즈마 처리는, RF 파워를 인가해서 플라즈마를 발생시킨 후, 진공 챔버 내에서 시편을 수소 플라즈마만을 이용하거나 DC 바이어스를 인가해 수행할 수도 있다. 상기 수소 열처리는 열처리 노(Furnace)에서 수소 가스를 흘려주면서 어닐링(Annealing)하는 것이다.The hydrogenation treatment is hydrogen doping the zinc oxide through a hydrogen plasma treatment or a hydrogen heat treatment, the hydrogen plasma treatment, after generating a plasma by applying RF power, the specimen in a vacuum chamber using only hydrogen plasma or DC This can also be done by applying a bias. The hydrogen heat treatment is annealing while flowing hydrogen gas in a heat treatment furnace.

이것은 산화아연 박막을 형성한 후 수소 플라즈마에 노출시켜 수소가 충분히 도핑되게 처리하는 것으로 수소 플라즈마에 노출시켜도 특성 저하가 발생하지 않으며, 시간이나 공정조건의 변화에 따라 수소 도핑 농도를 조절할 수 있어 원하는 특 성을 가진 산화아연 박막을 형성할 수 있다.This is a process of forming a zinc oxide thin film and then exposing it to a hydrogen plasma so that hydrogen is sufficiently doped. No exposure deterioration occurs even when exposed to a hydrogen plasma. The hydrogen doping concentration can be adjusted according to changes in time or process conditions. It is possible to form a zinc oxide thin film having properties.

그 후에 상기 제 1 투명 전도막(110) 상에 비정질 실리콘으로 구성된 상부 셀(120)을 형성하고, 상기 상부 셀(120) 상에 상기 제 1 투명 전도막(110)과 같은 방법으로 제 2 투명 전도막(130)을 형성한다. 상기 상부 셀(120)은 1.7eV(electronic Volt)를 가지고, 상기 제 2 투명 전도막(130)은 산화아연 또는 산화주석을 포함한다.Thereafter, an upper cell 120 made of amorphous silicon is formed on the first transparent conductive film 110, and a second transparent layer is formed on the upper cell 120 in the same manner as the first transparent conductive film 110. The conductive film 130 is formed. The upper cell 120 has an electronic volt (1.7 eV), and the second transparent conductive layer 130 includes zinc oxide or tin oxide.

마지막으로 제 2 투명 전도막(130) 상에 마이크로 결정질 실리콘으로 구성된 하부 셀(140)을 형성하고, 상기 하부 셀(140) 상에 배면 반사판(150)을 형성한다. 상기 하부 셀(140)은 1.1eV를 가지고, 상기 배면 반사판(150)은 금속막 또는 금속막으로 구성된 투명 전도막 구조로 되어 있다.Finally, a lower cell 140 made of microcrystalline silicon is formed on the second transparent conductive film 130, and a rear reflector 150 is formed on the lower cell 140. The lower cell 140 has 1.1 eV, and the rear reflector 150 has a transparent conductive film structure composed of a metal film or a metal film.

상기와 같은 제조 방법은 적층형 구조로 제작한 것을 나타내고, 단일접합형 구조로 제작할 경우에는 상기 제 2 투명 전도막(130)을 형성하는 과정까지는 같으나 상기 제 2 투명 전도막(130) 상에 금속막으로 구성된 배면 반사판(150)을 형성하는 것이다.The manufacturing method as described above represents the fabrication of a laminated structure, and in the case of fabrication of a single junction structure, the same process is performed until the second transparent conductive film 130 is formed, but the metal film is formed on the second transparent conductive film 130. It is to form a back reflector plate 150 composed of.

따라서, 본 발명에 따른 태양전지의 단일접합형 구조는 투명기판(100) 상에 산화아연 박막을 수소로 도핑한 제 1 투명 전도막(110)이 있고, 그 위에 비정질 실리콘인 상부 셀(120)이 위치해 있다. 상기 상부 셀(120) 위에 산화아연 박막을 수소로 도핑한 제 2 투명 전도막(130)이 있고, 그 위에 금속막으로 구성된 배면 반사판(150)의 구조를 가지고, 적층형 구조는 투명기판(100) 상에 산화아연 박막을 수소로 도핑한 제 1 투명 전도막(110)이 있고, 그 위에 비정질 실리콘인 상부 셀 (120)이 위치해 있다. 상기 상부 셀(120) 위에 산화아연 박막을 수소로 도핑한 제 2 투명 전도막(130)이 있고, 그 위에 마이크로 결정질 실리콘인 하부 셀(140)이 위치하며, 그 위에 금속막으로 구성된 배면 반사판(150)의 구조를 가진다.Therefore, the single junction structure of the solar cell according to the present invention has a first transparent conductive film 110 doped with a zinc oxide thin film on the transparent substrate 100 with hydrogen, the upper cell 120 of amorphous silicon thereon Is located. There is a second transparent conductive film 130 doped with a zinc oxide thin film with hydrogen on the upper cell 120, and has a structure of a back reflector 150 formed of a metal film thereon, the laminated structure is a transparent substrate 100 A first transparent conductive film 110 doped with a zinc oxide thin film with hydrogen is disposed thereon, and an upper cell 120 made of amorphous silicon is positioned thereon. The second transparent conductive film 130 doped with a zinc oxide thin film with hydrogen is disposed on the upper cell 120, and the lower cell 140, which is microcrystalline silicon, is positioned thereon, and a rear reflector plate composed of a metal film is disposed thereon. 150).

또한 본 발명에서는 종래에 널리 사용되고 있는 산화주석/투명기판(Asahi U-형 투명기판)에도 산화아연 박막을 얇게 증착하고 수소화 처리를 할 수 있어 종래의 공정과도 호환이 가능하다.In addition, in the present invention, a thin zinc oxide thin film can be deposited and hydrogenated on a tin oxide / transparent substrate (Asahi U-type transparent substrate), which is widely used in the related art, and thus it is compatible with a conventional process.

본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.Although the present invention has been shown and described with reference to the preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments and those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Various changes and modifications will be possible.

따라서, 본 발명의 산화아연 박막을 가지는 태양전지 및 그 제조 방법은 종래의 실리콘 박막 태양전지의 전극 또는 반사막으로 사용되는 산화주석 박막 대신에 산화아연 박막을 증착하여 산화아연 박막의 특성을 향상시키고 열화 문제를 해결할 수 있는 장점이 있고, 실리콘 박막 태양전지의 효율 향상과 태양전지에서 발생하는 전력 손실을 최소화할 수 있는 효과가 있다.Therefore, the solar cell having the zinc oxide thin film of the present invention and a method of manufacturing the same, instead of the tin oxide thin film used as an electrode or reflecting film of a conventional silicon thin film solar cell by depositing a zinc oxide thin film to improve the characteristics of the zinc oxide thin film and deterioration There is an advantage to solve the problem, there is an effect to improve the efficiency of the silicon thin film solar cell and minimize the power loss generated in the solar cell.

Claims (7)

삭제delete 삭제delete 산화아연 박막을 가지는 태양전지의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the solar cell which has a zinc oxide thin film, (a) 투명 기판상에 산화아연 박막을 형성한 후 수소 열처리를 이용한 수소 도핑으로 수소화된 제 1 투명 전도막을 형성하는 단계;(a) forming a zinc oxide thin film on the transparent substrate and then forming a hydrogenated first transparent conductive film by hydrogen doping using hydrogen heat treatment; (b) 상기 제 1 투명 전도막 상에 비정질 실리콘으로 구성된 상부 셀을 형성하는 단계;(b) forming an upper cell composed of amorphous silicon on the first transparent conductive film; (c) 상기 상부 셀 상에 산화아연 박막을 형성한 후 수소 열처리를 이용한 수소 도핑으로 수소화된 제 2 투명 전도막을 형성하는 단계;(c) forming a zinc oxide thin film on the upper cell and then forming a hydrogenated second transparent conductive film by hydrogen doping using hydrogen heat treatment; (d) 상기 제 2 투명 전도막 상에 금속막으로 구성된 배면 반사판을 형성하는 단계(d) forming a rear reflector comprising a metal film on the second transparent conductive film 를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 산화아연 박막을 가지는 태양전지의 제조 방법.Method for manufacturing a solar cell having a zinc oxide thin film, characterized in that made. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 (c) 단계 후 제 2 투명 전도막 상에 마이크로 결정질 실리콘으로 구성된 하부 셀을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 산화아연 박막을 가지는 태양전지의 제조 방법.And forming a lower cell composed of micro crystalline silicon on the second transparent conductive film after the step (c). 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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