KR100639676B1 - Control system photolithography for manufacturing semiconductor and control method thereof - Google Patents

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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70491Information management and control, including software
    • G03F7/70525Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control, prediction of failure

Abstract

본 발명은 포토리소그라피 설비 제어시스템 및 제어방법에 관한 것으로, 본 발명은 포토리소그라피 설비와 이 포토리소그라피 설비에서 수행된 포토리소그라피 공정이 수행된 결과를 계측하는 계측수단과 이 계측수단으로부터 계측된 측정 데이터를 미리 등록된 수신처로 자동 전송하는 서버 및 이 서버와 네트워크로 연결되며 상기 측정 데이터를 수신하는 수신 단말기를 구비하여 포토리소그라피 설비의 해당 노광장치에서 변경점이 발생하였을 경우 그 변경점이 발생한 포토리소그라피 설비에서의 선폭이나 오버레이와 같은 웨이퍼 히스토리 동향을 작업자가 미리 등록한 기간 동안 작업자에게 전자메일로 전송하도록 한다. The present invention relates to photolithography equipment control system and control method, the present invention is the measurement data measured from the photolithographic equipment and the photolithography equipment with photolithography measurement means for processing the measurement of the performance results performed in this measurement means an automatic transmission with pre-registered destination server and is connected to the server and the network to obtain specific change point in the exposure apparatus of photolithography equipment provided with a receiving device for receiving the measurement data generated in photolithography equipment is the change point has occurred the historical trend of the wafer, such as line width and overlay to the operator to send a e-mail to the worker during the period registered in advance.

Description

반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템 및 그 제어방법{Control system photolithography for manufacturing semiconductor and control method thereof} Photolithography for semiconductor manufacturing plant control system and a control method {Control system photolithography for manufacturing semiconductor and control method thereof}

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템을 도시한 블럭 구성도이다. 1 is a configuration diagram showing a semiconductor manufacturing photolithography equipment control system in accordance with the present invention FIG.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 동작을 도시한 플로우 차트이다. 2 is a flow chart showing the operation of the semiconductor manufacturing photolithography equipment control system according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 통신서버에서 전송 데이터를 전송하는 단계를 도시한 플로우 차트이다. Figure 3 is a flow chart showing the step of transmitting the transmission data in the communication server in the semiconductor manufacturing photolithography equipment control system according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 통신서버에서 전송조건을 감지하는 단계를 도시한 플로우 차트이다. 4 is a flow chart showing the steps for detecting the transfer condition in a communication server in the semiconductor manufacturing photolithography equipment control system according to the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* * Description of the Related Art *

100, 110, 120...포토리소그라피 설비 100, 110, 120 ... photolithography equipment

200...선폭측정계측기 200 ... line width measuring instrument

210...정렬상태측정계측기 210 ... alignment measurement instruments

300...데이터 서버 300 ... data server

310...통신 서버 310 ... communication server

340...수신 단말기 340 ... receiving terminal

본 발명은 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템 및 그 제어방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 포토리소그라피 설비에서 발생하는 웨이퍼에 대한 측정 데이터를 작업자가 선택적으로 자동 수신하여 확인할 수 있도록 한 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템 및 그 제어방법에 관한 것이다. The present invention for semiconductor manufacturing photolithography equipment control system, and relates to a control method, and more particularly to a semiconductor which allows the measurement data for the wafer occurring in photolithography equipment be identified by the operator to optionally automatically received by preparative photolithography equipment It relates to a control system and a control method.

반도체 제조용 포토리소그라피 설비는 포토레지스트를 코팅하는 스핀코터, 노광장치, 현상장치 그리고 베이크 장치로 구성되어 있다. Photolithography for semiconductor manufacturing equipment is composed of a spin coater, an exposure device, developing device and the baking device for coating the photoresist.

여기서 노광장치는 광원과 조명 광학계로 이루어지는 조명계와 이 조명계로부터 조명된 광이 조사되는 레티클과 이 레티클을 지지하는 레티클 스테이지를 구비한다. Here, the exposure apparatus includes a reticle stage for supporting the reticle and a reticle to be illuminated from the illumination system and the illumination system comprising a light source and illumination optics illumination. 그리고 레티클로부터 출사된 조명광을 웨이퍼에 투사하는 투영광학계와 웨이퍼를 지지하는 웨이퍼 스테이지 그리고 이들의 구동을 제어하는 제어계 등으로 구성되어 있다. And consists of a wafer to support the wafer and the projection optical system which projects the illumination light emitted from the reticle to the wafer stage control system and the like to control the driving thereof.

그리고 포토리소그라피 설비 제어시스템은 포토리소그라피 설비와 이 포토리소그라피 설비에서의 노광작업과 현상작업 수행 후 웨이퍼 기판에 형성된 소자의 선폭을 주사형 전자 현미경을 이용하여 계측하는 선폭측정계측기와 소자의 오버레이 정렬상태를 계측하는 정렬상태측정계측기를 구비한다. And photolithography equipment control system includes an overlay alignment of the photolithographic equipment and the photolithography equipment exposure operation and the developing line width measuring instruments and devices for measuring, using the line width of the device with a scanning electron microscope formed on a wafer substrate and then performing operations on state an alignment and a measuring instrument for measuring.

또한 계측된 데이터가 저장되는 데이터 서버를 구비한다. Also it includes a is the measured data is stored in the data server. 이 데이터 서버는 저장된 데이터를 작업자가 필요할 때 불러들여 확인 및 관리할 수 있도록 하는 것이다. The data server is to make sure to call and let you manage the worker needs the stored data.

한편, 포토리소그라피 설비에서 노광장치의 동작 조건이나 노광장치 자체의 문제로 인하여 변경점이 발생하는 경우가 있다. On the other hand, there is a case, due to a problem in photolithography equipment for the operating conditions and exposure system of the exposure apparatus itself to the changing point occurs. 여기서 변경점이란 노광장치의 레티클을 거쳐 조명된 패턴의 선폭이나 오버레이 정렬에 영향을 주는 요소로써 부품 일부의 교환, 시스템 셋업 등의 경우를 말한다. The change point is exposed to the reticle exchange some of the components as an element that affects the line width and alignment of the overlay through a lighting pattern of the apparatus, refers to the case of the system set-up.

이러한 변경점이 발생하면 작업을 진행하기 전에 해당 웨이퍼에 대한 분할과 샘플링을 진행하고, 선폭측정계측기와 정렬상태측정계측기를 사용하여 선폭과 정렬상태의 이상 유무를 측정한다. When this change point occurs proceed to divide the sampling for the wafer before going to work, and uses the line width measuring instruments and measuring instruments to measure the alignment error of the line width and alignment. 그리고 측정된 상태가 이상이 없을 경우에만 작업을 진행하게 된다. And the measured state is only working if no more. 이때 측정된 상태의 이상 유무는 작업 조건과 비교되어 확인된다. The error of the measurement condition is checked and compared with the operating conditions.

또한 변경점이 발생하게 되면 작업자는 데이터 서버를 통하여 패턴의 선폭이나 오버레이 정렬 동향(trend)을 일정 기간동안 계속해서 관찰하면서 확인을 하여야한다. Also, when the change point is generated operators are to be confirmed while continuously observed for a period of a line width or an overlay alignment trend (trend) of the pattern data through the server time. 이러한 관찰 작업을 수행하여 지속적으로 관리하여야만 이후 오작업이 발생하는 것을 최소화 할 수 있다. Hayeoyaman ongoing management tasks to perform these observations can be minimized to an erroneous operation occurs later.

이때의 관찰 작업은 포토리소그라피 설비의 노광장치에 대한 변화 요인에 대한 추적, 즉 노광장치에 입력된 웨이퍼의 히스토리를 취합하여 노광 후 데이터 서버에 저장된 결과치와 비교하는 작업을 말한다. Observation operation at this time is tracked for the change factor for the exposure apparatus for photolithography equipment, that is, by collecting the history of the wafer, enter the exposure apparatus refers to the tasks to be compared with the results stored in the data server after the exposure. 여기서 웨이퍼의 히스토리는 해당 웨이퍼의 상태, 해당 웨이퍼에 대한 공정 레시피(recipe), 보상 데이터와 같은 것들을 일컫는다. The history of the wafer refers to things such as the state of the wafer, the process recipe (recipe), the compensation data for the wafer.

그런데 이러한 관찰 작업은 작업자의 수작업에 의존한다. But this observation work is dependent on the hand of the operator. 즉 작업자가 필요 한 데이터를 관찰시마다 검색조건을 데이터 서버에 입력하여 필요한 데이터를 불러온 후 이를 별도의 프로그램 상에서 가공하여야만 확인이 가능하다. That is, make it possible hayeoyaman then turned on to input the data the operator needs to search every observation conditions and the data server up the necessary data processing them on a separate program. 따라서 관찰 작업이 상당히 번거로운 문제점이 있다. Thus, this observation work quite troublesome problems.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 변경점이 발생한 포토리소그라피 설비에서의 선폭이나 오버레이 동향과 같은 웨이퍼 히스토리에 대한 측정 데이터를 작업자에게 자동으로 전자메일로 전송하도록 한 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템을 제공하기 위한 것이다. The present invention for solving the above-mentioned problems, an object of the present invention for semiconductor manufacturing which to transmit measurement data for the wafer history, such as line width or overlay trends in photolithographic equipment the change point has occurred in automatic e-mail to the operator to provide a photolithographic equipment control system.

전술한 목적과 관련된 본 발명의 다른 목적은 변경점이 발생한 포토리소그라피 설비에서의 선폭이나 오버레이 동향과 같은 웨이퍼 히스토리에 대한 측정 데이터를 작업자가 미리 설정하여 등록한 전송조건으로 전송할 수 있도록 한 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법을 제공하기 위한 것이다. Another object of the present invention relating to the above-described object is a semiconductor manufacturing photolithography equipment to transmit the measurement data to the wafer history, such as line width or overlay trends in photolithographic equipment the change point has occurred in the transmission conditions are registered with the operator presets to provide a control method of the control system.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비의 제어 시스템은 웨이퍼에 대한 포토리소그라피 공정이 진행되는 포토리소그라피 설비; Photolithography for semiconductor manufacturing equipment of the control system of photolithography equipment which the photolithography process for the wafer proceeds in accordance with the present invention for achieving the above object; 상기 웨이퍼의 공정 수행 결과를 계측하는 계측수단; Measurement means for measuring the process execution result of the wafer; 상기 계측수단으로부터 계측된 측정 데이터를 미리 등록된 수신처로 자동 전송하는 서버; Server that automatically transmits the measurement data measured from the measuring means to a pre-registered destination; 상기 서버와 네트워크로 연결되며 상기 측정 데이터를 수신하는 수신 단말기를 구비한다. It is connected to the server with a network and a receiving terminal for receiving the measurement data.

그리고 바람직하게 상기 서버는 상기 측정 데이터가 자동 입력되어 저장되는 데이터 서버와, 상기 데이터 서버에 저장된 상기 측정 데이터를 상기 수신처의 전 자메일 어드레스로 자동 전송하는 통신서버를 포함한다. And preferably wherein the server comprises a communication server for automatically transmitting a data server and that the measurement data is automatically input storage, the measurement data stored in the data server with an email address of the destination.

또한 바람직하게 상기 데이터 서버는 상기 측정 데이터를 전송 데이터로 가공한다. In addition, preferably the data server processing the measurement data to the transmission data.

또한 바람직하게 상기 통신 서버는 미리 등록된 전송조건에 따라 상기 전송 데이터를 전송한다. Also preferably the communication server transmits the transmission data according to a pre-registered transmission condition.

또한 바람직하게 상기 전송조건은 상기 측정 데이터의 종류, 전송기간, 전송주기를 포함한다. Also preferably the transfer conditions include the type, the transmission period, the transmission period of the measurement data.

또한 바람직하게 상기 전송조건은 상기 측정 데이터의 상한데이터와 하한데이터를 포함하고, 상기 측정 데이터가 상한데이터와 하한데이터 이외의 데이터면 즉시 전송하도록 한다. Also preferably the transfer condition is to contain, and the measurement data is transmitted if data other than the upper data and the lower data immediately to the upper limit data and the lower data of the measurement data.

또한 바람직하게 상기 계측수단은 상기 포토리소그라피 설비에서 공정이 수행된 상기 웨이퍼의 선폭을 측정하는 선폭측정계측기를 포함한다. In addition, preferably the line width measuring means includes a measuring instrument for measuring the line width of the wafer process is carried out in the photolithography equipment.

또한 바람직하게 상기 계측수단은 상기 포토리소그라피 설비에서 공정이 수행된 상기 웨이퍼의 오버레이 정렬상태를 측정하는 정렬상태측정계측기를 포함한다. Also preferably, said measurement means comprises a alignment measurement instruments for measuring the overlay alignment of the wafer process is carried out in the photolithography equipment.

또한 바람직하게 상기 네트워크는 유선 또는 무선 네트워크 중 어느 하나로 구비된다. Further preferably, the network is provided by one of wired or wireless network.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법은 웨이퍼를 포토리소그라피 설비에서 포토리소그라피 공정을 수행하는 공정 수행 단계; Control method for manufacturing a semiconductor photolithography equipment control system according to the present invention for achieving the above object is the process performed and performing a photolithography process in the photolithography equipment wafer; 노광이 수행된 상기 웨이퍼에서의 공정 결과를 계측하는 계측 단계; Measuring step of the exposure is carried out measuring the process output at the wafer; 계측된 데이터를 데이터 서버에 저장하는 저장 단계; Storage step of storing the measured data to the data server; 상기 측정 데이터를 통신용 서버에서 네트워크를 통하여 미리 등록된 수신처의 수신 단말기로 자동 전송하는 전송 단계로 마련된다. It is provided to the transmission method comprising: automatically transmitting the measured data to a receiving terminal of the pre-registered destination via the communication network from the server.

그리고 바람직하게 상기 계측 단계는 상기 웨이퍼의 선폭을 선폭측정계측기로 측정하는 선폭 계측 단계와, 상기 웨이퍼의 오버레이를 정렬상태측정계측기로 계측하는 오버레이 계측 단계를 포함한다. And preferably wherein the measuring step includes the step of measuring overlay and a line width measuring step of measuring the line width of the wafer in a line width measuring instrument, measuring the overlay of the wafer to the alignment measurement instruments.

또한 바람직하게 상기 수신처의 등록은 상기 수신 단말기의 전자메일 어드레스를 등록하는 단계를 포함하고, 상기 수신처의 등록시에 상기 측정 데이터의 종류를 함께 등록하도록 한다. Also preferably, the registration of the destination is to be registered with the sort of the measurement data at the time of registration of the destination, and a step of registering an e-mail address of the reception terminal.

또한 바람직하게 상기 수신처의 등록시에 전송기간과 전송주기를 함께 등록하도록 한다. Also it preferred to register with the transmission period and the transmission period at the time of registration of the destination.

또한 바람직하게 상기 수신처의 등록시에 상기 측정 데이터의 상한데이터와 하한데이터를 함께 등록하도록 한다. Also preferred is to register with the upper limit data and the lower data of the measurement data at the time of registration of the destination.

또한 바람직하게 상기 전송단계는 상기 측정 데이터가 미리 등록된 상한데이터와 하한데이터 이외의 데이터로 계측되면 상기 수신 단말기로 상기 선택된 측정 데이터를 즉시 전송한다. Also preferably, the transfer step is to immediately transfer the selected sample data to the called terminal when the measurement data in the measurement data than the previously registered data, the upper limit and lower limit data.

또한 바람직하게 상기 전송단계는 등록된 측정 데이터인가를 판단하는 단계; Also preferably the transmitting step is the step of determining is registered measurement data; 등록된 측정 데이터면 계측된 시간이 등록된 기간 이내인가를 판단하는 단계; If the registered data measurement step of determining is within a measurement time that the registration period; 계측된 시간이 등록된 전송기간 이내이면 전송용 데이터를 작성하는 단계; If the clocked time within the register transfer period, the steps to create the data for transmission; 작성된 전송용 데이터를 전송하는 등록된 전송주기인가를 판단하는 단계; Determining a transmission cycle is registered to transmit data for transmission is created; 등록된 주기이면 상 기 전송용 데이터를 상기 수신 단말기로 전송하는 단계로 구비된다. If the registered cycle is provided with the group data for transmission to the sending to the receiving terminal.

또한 바람직하게 상기 전송단계는 상기 등록된 측정 데이터가 미리 설정된 상한데이터와 하한데이터 이외의 데이터로 계측되면 상기 수신 단말기로 상기 선택된 측정 데이터를 즉시 전송하도록 한다. In addition, preferably the transmitting step is to immediately transfer the selected measurement data the registration if the measured data is previously set as the upper limit data and the measurement data out of the lower limit data to the called terminal.

또한 바람직하게 상기 네트워크는 유선 또는 무선 네트워크 중 어느 하나로 마련된다. Further preferably, the network is provided by one of wired or wireless network.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. With reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention. 한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. On the other hand, embodiments of the invention disclosed in the specification and drawings are only to those presented specific examples to aid understanding, and are not intended to limit the scope of the invention. 따라서 이하의 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 포함되는 범위 이내에서 실시예의 변형이 가능할 것이다. Therefore, in addition to the following examples it would be possible of the embodiment within the range included in the technical concept of the present invention variant.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어 시스템은 웨이퍼에 대한 노광 공정이 진행되는 3개의 포토리소그라피 설비(100)(110)(120)를 구비한다. The lithography for semiconductor manufacturing picture in accordance with the present invention as shown in FIG. 1, plant control system includes a three photolithographic equipment 100, 110, 120 that the exposure process for the wafer process. 이 포토리소그라피 설비(100)(110)(120)는 3개미만 또는 3개 초과하여 설치될 수 있다. The photolithography equipment 100, 110, 120 may be installed with three or more than three ants. 포토리소그라피 설비의 숫자에 대한 것은 본 실시예에서 단지 예시적으로 언급한 것뿐이다. For the number of the photolithographic equipment it will not only one illustrative only referred to in the present embodiment.

각각의 포토리소그라피 설비(100)(110)(120)는 도면에 도시하지 않았지만, 포토레지스트를 웨이퍼 상에 코팅하는 스핀코터, 노광장치, 현상장치 그리고 베이크 장치 등으로 구성된다. Each of the photolithography equipment 100, 110 and 120 is of a not shown in the drawing, a spin coater, an exposure apparatus, a developing apparatus for coating photoresist on a wafer and baking apparatus and the like. 그리고 여기서의 노광장치는 광원과 조명광학계로 이루어지는 조명계와 이 조명계로부터의 노광용 조명광에 의해 조사되는 마스크인 레티 클을 지지하는 레티클 스테이지를 구비한 스캐너 또는 스테퍼를 포함한다. And to an exposure apparatus here includes a scanner or a stepper provided with a reticle stage for supporting the mask, the reticles are illuminated by the exposure illumination light from the illumination system and the illumination system comprising a light source and illumination optical system.

또한 노광장치는 레티클로부터 출사된 조명광을 웨이퍼에 투사하는 투영광학계와 웨이퍼를 지지하는 웨이퍼 스테이지 그리고 언급한 구성요소들의 구동을 제어하는 제어계로 되어 있다. In addition, the exposure apparatus is a control system for controlling the driving of a wafer stage for supporting the wafer and a projection optical system which projects the illumination light emitted from the reticle to the wafer and the above-mentioned components. 이러한 노광장치를 제조하는 회사로는 ASML, CANON Corporation, NIKON Corporation 등이 있다. A company of manufacturing such an exposure apparatus and the like ASML, CANON Corporation, NIKON Corporation.

그리고 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템은 이미 언급한 장치들과 함께 포토리소그라피 공정이 수행된 후에 웨이퍼의 패턴 형성상태를 계측하는 계측장치(200)(210)를 구비한다. And semiconductor manufacturing photolithography equipment control system according to the invention is already provided with a measuring device 200, 210 for measuring the pattern formed state of the wafer after the photolithography process is performed with the above-mentioned device.

이 계측장치(200)(210)는 웨이퍼에 형성된 패턴의 선폭을 측정하는 선폭측정계측기(200)와 웨이퍼에 형성된 패턴의 오버레이를 측정하는 정렬상태측정계측기(210)로 마련된다. This measuring device 200, 210 is provided to the alignment measurement instrument 210 for measuring the overlay of the pattern formed in the line width measuring instruments 200 and the wafer for measuring the line width of the pattern formed on the wafer.

선폭측정계측기(200)는 주로 선폭 전자 주사빔 현미경(Critical Dimension Scanning Electronic beam Microscope :CD SEM)을 이용하여 웨이퍼 상에 형성된 패턴의 폭이 원하는 크기로 형성되었는지를 확인하는 것이다. A line width measuring instrument 200 is mainly width scanning electron beam microscope to confirm that the width of the (Critical Dimension Scanning Electronic Microscope beam CD SEM), the pattern formed on the wafer by forming the desired size.

그리고 정렬상태측정계측기(210)는 이전에 수행된 포토리소그라피 공정에 의해 형성된 패턴과 현재 수행된 포토리소그라피 공정에 의해 형성된 패턴과의 위치 정렬이 제대로 이루어졌는지를 확인하기 위한 것으로, 이러한 선폭측정계측기(200)와 정렬상태측정계측기(210)는 다양한 종류와 다수의 제조회사가 있다. And as for confirming whether alignment measuring instrument 210 is made the alignment of the previously photolithography process in formed by a pattern with a currently executing photolithography formed by pattern performed correctly, this line width measuring instrument ( 200) and the alignment of the measurement instrument 210 may have different types and number of the manufacturer.

계속해서 포토리소그라피 설비 제어시스템은 선폭측정계측기(200)와 정렬상태측정계측기(210)들로부터 측정된 측정 데이터가 저장됨과 함께 측정된 웨이퍼에 대한 히스토리가 저장되는 서버(300)(310)를 구비한다. Subsequently photolithographic equipment control system having a line width measuring instrument 200 and the alignment measurement instruments 210 of the server 300, 310 the history is stored for the wafer measured with soon as the measurement data obtained are stored from do. 또한 이 서버(300)(310)는 작업자의 등록여부에 따라 등록된 수신처로 측정 데이터를 자동 전송하는 기능을 함께 포함한다. The server 300, 310 also includes with the ability to automatically transfer the measured data to the registered destination depending on whether or not the registration of the operator.

이 서버는 선폭측정계측기(200)에서 측정된 선폭 데이터와 정렬상태측정계측기(210)로부터 측정된 정렬 상태 데이터가 저장되는 데이터 서버(300)를 포함한다. This server includes a data server 300 which is the measured alignment data is stored from the data line width and alignment of the measurement instrument 210, measured at a line width measuring instrument (200). 이 데이터 서버(300)는 작업장에서 산포 관리 시스템(trend control system)이라고 불리기도 한다. The data server 300 is also called dispersion management system (control system trend) in the workplace.

또한 서버는 데이터 서버(300)에 저장된 측정 데이터를 관리자의 수신 단말기(340)로 전자메일로 자동 전송하는 통신 서버(310)를 구비한다. The server also includes a communication server 310 to automatically e-mailed the measurement data stored in the data server 300 to the receiving terminal 340 of the administrator. 이 통신 서버(310)는 관리자의 수신 단말기(340)와 유선 또는 무선 네트워크로 연결되어 있다. The communication server 310 is connected to the receiving terminal 340 and the wired or wireless network manager.

유선 네트워크는 근거리 또는 광대역 네트워크가 적용될 수 있다. The wired network can be applied to a local area or wide area network. 또한 수신 단말기는 휴대용 컴퓨터, 데스크 탑 컴퓨터, PDA, 그 외 각종 휴대용 통신 단말기 등과 같은 것들이 사용될 수 있다. In addition, the receiving terminal may be used ones, such as a portable computer, desktop computer, PDA, or other various types of portable communication terminals.

이들 데이터 서버(300)와 통신 서버(310)는 기능상의 구분이며, 이들은 하나의 단말장치로 구현될 수 있다. The data server 300 and the communications server 310 is a functional classification, they may be implemented as a terminal device. 하나의 단말장치로 구현할 경우는 입출력 단말기(320)와 함께 도시되지 않은 데이터 입력부, 데이터 출력부, 데이터 저장부, 데이터 가공부, 네트워크 연결부 등으로 구성된다. When implemented as a terminal apparatus is of a not-shown data input unit with the input-output terminal 320, a data output unit, data storage, data processing unit, a network connection or the like. 또 다르게 각각 다른 단말장치로도 구현할 수 있다. Alternatively it can be implemented as each of the other station.

데이터 서버(300)는 측정 데이터를 자동 저장하는 기능과 함께 통신 서버(310)를 통하여 전송할 전송 데이터를 가공하는 기능을 포함한다. The data server 300 comprises a function for processing the transmission data to be transmitted via the communication server 310 with the ability to automatically store the measured data. 이 전송 데이터 의 가공은 다수의 포토리소그라피 설비(100)(110)(120) 중 특정 포토리소그라피 설비(100)를 선택하고, 선택된 포토리소그라피 설비(100)에서 측정된 데이터중 어떤 데이터를 전송할 것인가를 선별하는 것을 말한다. Processing of the transmitted data is the will select a particular photolithographic equipment 100 of a plurality of photolithography equipment 100, 110, 120, to transfer any data from the data measured at a selected photolithography equipment 100 It refers to screening. 이하 관찰 대상이 되는 포토리소그라피 설비를 포토리소그라피 설비 A를 특정하여 설명한다. It describes a photolithographic equipment that is less than the target observed by the particular photolithographic equipment A. 그러나 다른 포토리소그라피 설비 B와 C도 대상이 될 수 있다. But it may also be the subject other photolithographic equipment B and C.

그리고 이 전송 데이터의 가공은 미리 작업자가 데이터 서버(300)의 입출력단말기(320)를 통하여 가공 조건을 입력함으로써 이루어진다. And the processing of the transmission data is previously made by the operator inputs the processing conditions through the input-output terminal 320 of the data server 300. 이 데이터 서버(300)에는 공정이 수행된 웨이퍼에 대한 작업 히스토리(history)가 저장되어 있고, 또한 계속해서 저장된다. The data server 300 had a job history (history) for the wafer process is carried out is stored, and is subsequently stored. 여기서 히스토리란 웨이퍼가 공정이 진행되면서 발생한 웨이퍼의 상태, 레시피(recipe), 보상데이터 등을 말하는 것이다. The history is to say a wafer state of the wafer occurs as the process proceeds, the recipe (recipe), compensation data, and the like.

통신 서버(310)는 미리 등록된 전송조건에 따라 전송 데이터를 수신 단말기(340)로 전송하도록 하는 것이다. Communication server 310 is to be transmitted to the receiving terminal 340 to transmit data according to the transmission conditions registered in advance. 이때의 전송조건은 수신처의 전자메일 어드레스, 전송기간, 전송주기, 측정 데이터의 상한 데이터와 하한 데이터 등을 일컫는 것으로, 이들 전송조건은 작업자에 의하여 등록된다. Transmission condition at this time is such as that referring to the e-mail address, the transmission period of the destination, the transmission period, the upper limit data and the measurement data of the lower limit data, and these transmission condition is registered by the operator.

그리고 이때의 전송조건의 등록은 입출력 단말기(320)를 통하여 통신 서버(310)에 관리자가 억세스하고, 전자메일 자동전송 등록페이지를 열고, 여기에 준비된 소정의 형식으로 송신할 전자메일 어드레스를 등록한다. And registration of the transmission condition at that time is registered to open the administrator access, and e-mail automatically sending the registration page to the communication server 310 through the input-output terminal 320, here, a predetermined e-mail address to be sent in a format ready to . 그리고 계속해서 이미 언급한 바와 같은 전송조건을 기입한 후 입출력 단말기(320)에 마련된 등록스위치를 조작함으로써 이루어진다. And then continue to write the transfer conditions, as already mentioned, is made by operating the registration switch provided in the input and output terminal 320.

따라서 통신 서버(310)는 전송조건이 충족되었을 때 미리 준비하고, 축적되어 있는 전송 데이터를 등록되어 있는 전자메일 어드레스로 네트워크를 통하여 자동으로 전송한다. Therefore, the communication server 310 is automatically sent over the network to an email address which is registered the transmission data that has been prepared in advance, and stored when the transfer condition is met.

또한 이 통신 서버(310)는 데이터 서버(300)와 접속되어 데이터 서버(300)에 저장된 웨이퍼의 선폭과 정렬상태에 대한 측정 데이터를 항상 감시하고, 측정 데이터가 상한 데이터와 하한 데이터 이외의 데이터면 수신 단말기(240)로 즉시 전송하도록 하는 기능을 포함한다. In addition, the communication server 310 includes a data server 300 is connected to the always monitoring the measurement data for line width and alignment of the wafer stored in the data server 300 and, if the measurement data is data other than the upper data and the lower data It includes the ability to be immediately transmitted to the receiving terminal 240.

이하에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, description will be made to the control method of the semiconductor manufacturing photolithography equipment control system according to the present invention constructed as described above.

본 발명에 따른 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법은 도 2에 도시된 바와 같이 먼저 웨이퍼에 대한 노광이 포토리소그라피 설비(100)(110)(120)에서 수행된다.(S20) 이때의 포토리소그라피 설비(100)(110)(120) 중에서 작업 중 어떤 변경점이 발생한 포토리소그라피 설비(100)가 관찰대상이 된다. Control method of photolithography equipment control system according to the invention is carried out in the first exposure this photolithography equipment 100, 110 to the wafer 120 as shown in FIG. (S20) At this time, the photolithography equipment 100, 110, which photolithography equipment 100, the change point has occurred during the operation in 120 is the observation target.

다시 말해서 작업중 포토리소그라피 설비(100)의 해당 노광장치의 작업 조건이나 이 해당 노광장치 자체의 문제로 변경점이 발생하고, 이 변경점의 발생으로 인해 분할과 샘플링을 진행하여 선폭측정계측기(200)와 정렬상태측정계측기(210)를 사용하여 선폭과 정렬상태의 이상 유무가 확인된 포토리소그라피 설비(100)를 말한다. In other words, working photolithography equipment 100 corresponding to the problems of the working conditions and the corresponding exposure apparatus itself of the exposure apparatus and the occurrence change point, generated due to division with a line width measuring instrument (200) and arranged to proceed with the sampling of the changing point of the state using the measuring instrument (210) refers to the lithography error of the line width and alignment check picture equipment 100. the

여기서 변경점이란 해당 노광장치에 설치된 레티클을 거쳐 조명된 패턴의 선폭이나 오버레이 정렬에 영향을 주는 요소로써 부품 일부의 교환, 시스템 셋업 등의 경우를 말한다. Here refers to the change point is the case of the exposure apparatus reticle exchange some of the components as an element that affects the line width and alignment of the overlay through a lighting pattern is installed on the system setup.

계속해서 이러한 노광장치를 가진 포토리소그라피 설비에서 포토리소그라피 공정이 수행되면, 포토리소그라피 공정이 수행된 웨이퍼에 대한 선폭을 선폭측정계측기(200)를 통하여 측정하여 산출하고(S21), 웨이퍼 오버레이를 정렬상태측정계측기(210)를 통하여 측정하여 산출한다(S22). Subsequently when the photolithography process is performed in the photolithography equipment with this exposure apparatus, a photolithography process is the line width for the wafers do calculated by measuring via a line width measuring instrument 200 is arranged to (S21), the wafer overlay state It is determined by measurement by the measurement instrument (210) (S22). 그리고 측정된 데이터는 데이터 서버(300)에 자동 저장된다.(S23) And the measured data are automatically saved in the data server (300). (S23)

그리고 데이터 서버(300)에서는 저장된 데이터를 전송 데이터로 가공한다.(S24) 즉 작업자가 미리 입출력단말기(320)를 통하여 데이터 서버(300)에 전송이 요구되는 데이터 예를 든다면 선폭측정 데이터 또는 정렬상태 측정 데이터 등을 등록하면 데이터 서버(300)는 측정 데이터가 저장된 후에 전송 데이터를 별도로 생성한다. And data from the server 300 to process the stored data to the transmission data. (S24) that is an operator in advance if the costs of data for example, the required transmission input and output terminal 320, the data server 300 through the line width measured data, or sort by registering the state measurement data such as data server 300 generates transmission data separately after the measurement data is stored. 그리고 전송용 데이터는 다시 통신 서버(310)에 저장된다.(S25) And data for transmission is stored again in the communication server (310). (S25)

여기서 선폭측정계측기(200)와 정렬상태측정계측기(210)는 각각에 별도의 제어기능이 포함되어 있다. The line width measuring instruments 200 and the alignment measurement instrument 210 includes a separate control for each. 따라서 계측된 데이터가 작업 수행을 위한 조건을 만족하지 않으면, 포토리소그라피 설비(100)를 제어하여 불량 이라고 판단된 웨이퍼의 포토레지스트를 제거(strip)한다. Therefore, the measured data does not satisfy the conditions for the work performed, photolithography equipment to remove the photoresist of the wafer judged to be defective by the control (100) (strip).

그리고 포토레지스트를 제거한 후 다시 해당 웨이퍼를 세정을 한 후 포토레지스트 코팅, 얼라인먼트 노광 그리고 현상을 실시하여 정확한 작업이 이루어지도록 한다. And after removing the photoresist after the cleaning the wafer again by carrying out the photoresist coating, exposure and development to the alignment so that the correct job done. 이때의 제어작업은 노광장치의 웨이퍼 스테이지와 레티클 스테이지 등을 재 정렬한 후 재측정 상태로 진행시키거나 또는 작업 수행이 불가능한 경우에는 인터락을 발생시킨다.(S26) Control operation of this case is if it can not, to then proceed to the re-sorting and the like of the wafer stage and the reticle stage exposure apparatus remeasurement condition or operation is performed to generate the interlock. (S26)

그리고 작업조건이 충족되면 포토리소그라피 설비(100)에서는 다시 웨이퍼에 대한 포토리소그라피 작업을 수행하고, 계속해서 이미 설명한 바와 같은 측정과 데이터 저장 단계를 반복해서 수행한다. Once this condition is met, and photolithography equipment 100 again performs the photolithographic operations on a wafer, and continue to be carried out already repeat the measurement and data storing step as described.

한편, 통신 서버(310)에는 미리 전송조건을 입출력단말기(320)를 통하여 입력하도록 되어 있고, 입력된 전송조건에 따라 전송 데이터를 전송하게 되어 있다. On the other hand, the communication server 310 is configured to input from the input-output terminal 320, the transmission condition in advance, and is transferred to the transmission data based on the input transmission condition. 그리고 통신 서버(310)에는 전송 데이터가 이미 저장되어 있다. And there is transmission data has already been saved communication server 310.

이 전송 데이터의 조건 및 전송은 도 3에 도시된 바와 같이 수신처의 전자메일 어드레스를 등록하는 단계(S30)를 거치고, 그 다음 전송조건을 등록하는 단계(S31)를 거침으로써 이루어진다. Condition, and transfer of the transmitted data is going through the step (S30) for registering the email address of the destination as shown in Figure 3, and then made a step (S31) for registering a transmission condition by performing.

구체적인 전송조건은 수신처의 전자메일 어드레스와 함께 수신기간의 등록과 수신 주기의 등록과 측정 데이터 범위의 등록으로 이루어진다. Specific transmission condition is composed of a register and the register of the measurement data of the range register and the reception period of the receiver with the electronic mail address of the destination. 즉 변경점이 발생한 포토리소그라피 설비(100)의 해당 노광장치의 경우 일정기간 동안의 관찰기간이 통상적으로 설정된다. That is, in the case of the exposure apparatus of photolithography equipment 100, the change point has occurred is up period over a period of time is usually set to. 따라서 관찰대상이 되는 포토리소그라피 설비(100)의 해당 노광장치에 대한 관찰 기간을 등록하게 되고, 또한 관찰 기간 동안 주기적으로 측정 데이터를 수신하는 것이 필요하다. Then, as the properties of the observation period for the exposure apparatus for photolithography equipment 100 that is the observation object, it is also necessary to periodically receives the measurement data during the period of observation.

그리고 측정 데이터 범위는 측정 데이터가 오차 범위 이내인 경우 포토리소그라피 공정이 수행되는 것에 문제가 없다고 볼 수 있다. And the measured data range can be seen that there is no problem if the data is being measured is within the error range photolithography process is performed. 그러나 측정 데이터가 오차 범위 이외가 되면 포토리소그라피 공정의 수행에 이상이 발생한다. However, if the measured data is outside the error range is generated at least to perform a photolithography process.

즉 해당 포토리소그라피 공정에서 정렬과 노광작업이 수행되더라도 웨이퍼에 패턴은 정확하게 형성되지 않고 공정 불량이 발생하게 되거나 포토리소그라피 설비(100)가 더 이상의 작업을 수행하지 않는 상태가 된다. That is, even if the alignment and exposure operation is performed in the wafer photolithography pattern is does not perform any more, or a process failure occurs is not formed correctly photolithography equipment 100 work state. 이러한 경우 신속한 작업자 의 관리가 필요하게 된다. In this case, the management of the Rapid operator is required.

계속해서 도 3에 도시된 바와 같이 전송조건이 등록되고, 포토리소그라피 공정이 수행되어 전송 데이터가 데이터 서버(300)로부터 통신 서버(310)에 입력되면 통신 서버(310)는 등록된 전송조건여부를 계속해서 감시하게 된다. Then 3 of the transmission condition is registered, as shown in, the photolithography process is performed to transfer the data is input to the communication server 310 from the data server 300, whether the communication server 310 registered transmission condition It is continuously monitored. 그리고 전송조건이 일치하게 되면 통신 서버(310)는 네트워크를 통하여 전송 데이터를 수신 단말기(340)로 자동 전송하게 된다. And if the transmission condition to match the communication server 310 will automatically be sent the data to be transferred over the network to the receiving terminal 340.

이때의 조건 감시는 도 4에 도시된 바와 같이 측정 데이터가 발생하여 입력되면(S40), 데이터 서버(300)는 입력된 데이터가 등록된 측정 데이터인가를 판단한다(S41). At this time, the condition monitored is when input data generated by the measurement as shown in Figure 4 (S40), the data server 300 is determined whether the input data is registered measurement data (S41). 그리고 등록된 측정 데이터 이면 전송 데이터를 작성한다(S42). And if the registered measured data to create the transmission data (S42). 반면에 등록되지 않은 데이터이면 전송 데이터를 작성하지 않고, 계속해서 입력되는 데이터가 등록된 데이터인가를 감시한다.(S41) On the other hand, without creating non-registered data is transmitting data to, and subsequently monitors the authorized data that is input is registered data. (S41)

그리고 전송 데이터가 작성되면, 통신 서버(310)에서 등록기간 이내인가를 판단한다(S43). And when the transfer data is created, it is determined whether the registration period within the communication server (310) (S43). 이때 등록기간 이내라고 판단되면 다음 단계로 진행하지만 등록기간 이내가 아니라가 판단되면 전송 데이터를 폐기 처리하던가 아니면 계속해서 등록기간 이내여부를 감시하게 된다. At this time, if it is determined to be within the registration period to proceed while monitoring the hadeonga disposed of the transmitted data, or continuously within the registration period if it is determined that not less than the registration period to the next step.

이때 등록기간이 아닌 경우에도 등록기간 이내인가의 여부를 감시하는 경우는 작업자가 실수로 관찰기간인 등록기간을 잘못 설정하거나, 또는 작업자의 추가적인 관찰기간이 요청되는 경우 전송 데이터를 백업 데이터로 보유하기 위한 것이다. In this case, when monitoring whether the application within the registration period, even if non-registration period is to retain the backup data, the transmission data if the operator set-up period of the registration period by mistake, or request additional observation period of worker intended. 물론 이때 측정 데이터는 데이터 서버(300)에 저장되어 있다. Of course, this time measurement data are stored in the data server 300. 그러나 백업 데이터를 보유한 상태에서 등록기간을 재설정하게 되면 백업 데이터 또한 수신하여 전체 웨이퍼 히스토리에 대한 트렌드를 보다 정확하게 확인할 수 있을 것이다. However, when the reset period in the register that holds the backup data state will also be determined by receiving the backup data more accurate trend history for the entire wafer.

그리고 등록기간 이내라고 판단되면, 통신 서버(310)는 입력된 전송 데이터의 전송주기인가를 판단한다(S44). And if the determination results in less than the registration period, the communication server 310 it is determined whether the transmission period of the input transmission data (S44). 즉 측정 데이터는 측정 데이터가 입력될 때 마다 전송되는 것이 아니라 특정 주기를 작업자가 미리 등록하여 그 등록 주기 마다 데이터를 전송하도록 한다. I.e., measurement data is not transmitted every time the measurement data is entered by the operator to pre-registered specific period and to transmit data of each of its registration period. 그리고 이때 등록 주기가 아니라고 판단되면 계속해서 등록 주기에 대한 감시동작을 통신 서버(310)에서 실시한다. And wherein when the registration period is not determined to continue the monitoring operation is performed for the registration period at a communication server (310). 반면에 등록 주기라고 판단되면 통신 서버(310)는 즉시 등록된 전자메일 어드레스의 수신 단말기(340)로 전송 데이터를 전송한다.(S46) Period, while if the determination results registered in the communication server 310 immediately transmits the transmission data to the receiving terminal 340 of the registered e-mail address. (S46)

한편, 등록 주기가 아니라도 판단된 후에 측정 데이터가 등록한 범위 이내인가를 판단한다(S45). On the other hand, after the well is also determined registration period is determined whether within a range of the measurement data registered (S45). 즉 측정 데이터가 작업자가 미리 등록한 측정 데이터 범위가 아닌 경우에는 포토리소그라피 설비(100)의 노광 공정이 설정 레시피로 이루어지지 않는 것을 의미한다. That is, if the measurement data is not a measurement data range the operator to pre-registered, it means that the exposure step of the photolithographic equipment 100 does not occur as set recipe.

이러한 경우는 심각한 변경점이 발생하거나 다른 작업자가 이 포토리소그라피 설비(100)의 레시피를 바꾼 경우 일 수 가 있다. If this is the case can be serious Changes occur or other workers have changed the recipe of the photolithography equipment 100. 이때에는 등록주기와 상관없이 즉시 메일을 등록된 전자메일 어드레서의 수신 단말기(340)로 송부함으로써 즉각적인 사후 조치가 이루어지도록 한다. At this time, there is an immediate follow-up action is to occur by sending a registration period with the e-mail reception control device 340 of the addressable register immediately the mail regardless.

이상과 같은 본 발명에 따른 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템 및 그 제어방법은 포토리소그라피 설비의 해당 노광장치에서 변경점이 발생하였을 경우 그 변경점이 발생한 포토리소그라피 설비에서의 선폭이나 오버레이와 같은 웨 이퍼 히스토리 동향을 작업자가 미리 등록한 기간 동안 작업자에게 전자메일로 전송하도록 함으로써 작업자가 변경점이 발생한 포토리소그라피 설비의 관리와 웨이퍼 히스토리 동향의 확인을 주기적으로 보다 용이하게 관찰할 수 있도록 하고, 또한 측정 데이터가 특정 범위 이외의 데이터로 측정 될 경우 신속하게 사후처리가 가능하도록 하는 효과가 있다. Or more and the same semiconductor manufacturing photolithography equipment control system and a control method according to the invention To obtain specific change point occurs in the exposure apparatus of photolithography equipment wafer history trends such as linewidth or overlay in photolithography equipment is the change point has occurred to allow an operator to observe the operator to more easily confirm the control and wafer history trends in photolithographic equipment a change point generated periodically by to transmit to the operator as an e-mail for the period registered in advance, and also non-measured data is a specific range for the data to be measured has the effect of rapidly to be able to be post-processed.

Claims (18)

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  10. 웨이퍼를 포토리소그라피 설비에서 포토리소그라피 공정을 수행하는 포토리소그라피 공정수행 단계; Performing photo lithography process performing a photolithography process to the wafer in photolithography equipment;
    수신처, 계측 데이터, 계측 데이터 전송기간 및 계측 데이터 전송주기를 등록하는 단계; Registering the destination, the measurement data, the measurement data transmission period, and a measurement data transmission period;
    상기 공정이 수행된 상기 웨이퍼의 공정 수행 결과에 따른 데이터를 계측하는 계측 단계; Measuring step for measuring a data corresponding to the process operation of the wafer is the processed execution results;
    상기 계측된 데이터를 데이터 서버에 저장하는 저장 단계; A storage step of storing the measurement data to the data server;
    상기 등록된 계측 데이터 여부, 상기 등록된 전송기간 여부 및 상기 등록된 전송주기 여부를 판단하고, 상기 계측된 데이터를 통신용 서버에서 네트워크를 통하여 상기 등록된 수신처의 수신 단말기로 자동 전송하는 전송 단계를 포함하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. A transmission step of determining the registered measuring data, whether the whether the registered transmission period, and whether the register transfer period, and automatically transmitted to the reception terminal of the registration via the network to the said measurement data from the communication server destination a control method of a semiconductor manufacturing plant control system for photolithography.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 계측 단계는 상기 웨이퍼의 선폭을 선폭측정계측기로 계측하고, The method of claim 10, wherein the measuring step measures a line width of the wafer in a line width measuring instrument,
    상기 웨이퍼의 오버레이를 정렬상태측정계측기로 계측하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. A control method for manufacturing a semiconductor photolithography equipment control system, characterized in that, comprising: measuring the overlay of the wafer to the alignment measurement instruments.
  12. 제 10항에 있어서, 상기 수신처의 등록은 상기 수신 단말기의 전자메일 어드레스를 등록하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. The method of claim 10, wherein the registration of the destination is the control method of the semiconductor manufacturing photolithography equipment control system, characterized in that, comprising: registering an e-mail address of the reception terminal.
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  14. 제 12항에 있어서, 상기 수신처의 등록시에 상기 계측 데이터의 상한데이터와 하한데이터를 함께 등록하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. 14. The method of claim 12, wherein the control of the semiconductor manufacturing photolithography equipment control system, characterized in that to register the upper limit data and the lower data of the measurement data with the time of registration of the destination.
  15. 제 10항에 있어서, 상기 전송단계는 상기 계측 데이터가 미리 등록된 상한데이터와 하한데이터 사이의 범주를 벗어난 데이터로 계측되면 상기 수신 단말기로 상기 계측 데이터를 즉시 전송하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. 11. The method of claim 10, wherein the transmission step is for semiconductor manufacturing photolithography, characterized in that to immediately send the measurement data to the called terminal when the measurement to the data out of the scope of the between the measured data is registered in advance the upper data and the lower data the control method of the plant control system.
  16. 제 10항에 있어서, 상기 전송단계는 상기 등록된 측정 데이터인가를 판단한 후, 상기 등록된 계측 데이터이면 계측된 시간이 상기 등록된 기간 이내인가를 판단하고, The method of claim 10, wherein said transmitting step is determined whether the application after determining the registered measurement data, the measurement data if the registered time measured within said registration period,
    상기 계측된 시간이 상기 등록된 전송기간 이내이면 전송용 데이터를 작성하고, When the above measurement time within said register transfer period and creates the data for transmission,
    상기 작성된 전송용 데이터를 전송하는 주기가 상기 등록된 전송주기인가를 판단하고, 및 Determined whether the period of transmitting the transmission data created for the transmission cycle and the register, and
    상기 등록된 주기이면 상기 전송용 데이터를 상기 수신 단말기로 전송하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. A control method for manufacturing a semiconductor photolithography equipment control system, characterized in that when the registered cycle include transmitting the data for the transmission to the called terminal.
  17. 제 16항에 있어서, 상기 전송단계는 상기 등록된 계측 데이터가 미리 설정된 상한데이터와 하한데이터 사이의 범주를 벗어난 데이터로 계측되면 상기 수신 단말기로 상기 계측 데이터를 즉시 전송하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. 17. The method of claim 16 wherein the transfer step is for semiconductor manufacturing picture, characterized in that to immediately transmit the measured data when the registered measurement data measured by the data out of the scope of between pre-set upper limit data and the lower data to the called terminal the control method of lithography equipment control system.
  18. 제 10항에 있어서, 상기 네트워크는 유선 또는 무선 네트워크 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 포토리소그라피 설비 제어시스템의 제어방법. 11. The method of claim 10, wherein said network is a method of controlling a semiconductor manufacturing photolithography equipment control system, characterized in that at least one of a wired or wireless network.
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