KR100624301B1 - Method for programming nand-type flash memory device - Google Patents

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KR100624301B1 KR1020050057313A KR20050057313A KR100624301B1 KR 100624301 B1 KR100624301 B1 KR 100624301B1 KR 1020050057313 A KR1020050057313 A KR 1020050057313A KR 20050057313 A KR20050057313 A KR 20050057313A KR 100624301 B1 KR100624301 B1 KR 100624301B1
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Abstract

본 발명은 선택 트랜지스터들에 가장 인접한 메모리 셀들에 접속된 엣지 워드라인들에 다른 워드라인에 인가되는 프로그램 금지 전압보다 낮은 채널 부스팅 디스터브 방지 전압을 인가하여, 엣지 워드라인들에 접속된 메모리 셀들과 선택 트랜지스터들 간의 전기장을 줄임으로써, 즉 핫 일렉트론의 에너지를 줄임으로써, 핫 일렉트론에 의한 프로그램 디스터브를 방지하는 비휘발성 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention applies a channel boosting prevention voltage lower than a program prohibition voltage applied to other word lines to edge word lines connected to memory cells closest to the select transistors to select the memory cells connected to the edge word lines. The present invention relates to a nonvolatile memory device which prevents program disturb caused by hot electrons by reducing electric fields between transistors, that is, by reducing energy of hot electrons.

핫 일렉트론, 엣지 워드라인, 프로그램 디스터브 Hot Electron, Edge Wordline, Program Disturbance

Description

낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법{Method for programming NAND-type flash memory device}Program method of NAND flash memory device {Method for programming NAND-type flash memory device}

도 1은 일반적인 낸드형 플래시 메모리 소자를 나타낸 도면이다.1 illustrates a general NAND flash memory device.

도 2는 도 1에서 각 워드라인에 따른 문턱전압(프로그램 속도)을 나타내는 그래프이다. FIG. 2 is a graph illustrating a threshold voltage (program speed) according to each word line in FIG. 1.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 낸드형 플래시 메모리 소자의 시퀀셜 프로그램 방법을 나타낸 흐름도이다.3 is a flowchart illustrating a sequential program method of a NAND flash memory device according to a preferred embodiment of the present invention.

도 4는 ISPP(Incremental Step Pulse Program)에 따른 프로그램 전압을 나타낸 타이밍도이다.4 is a timing diagram illustrating a program voltage according to an incremental step pulse program (ISPP).

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

MC : 메모리 셀 DSL : 드레인 선택 라인MC: memory cell DSL: drain select line

SSL : 소스 선택 라인 CSL : 공통 소스 라인SSL: source selection line CSL: common source line

본 발명은 낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법에 관한 것으로, 특히 프로그램 문턱전압 분포를 향상시키는 낸드형 플래시 메모리 소자의 시퀀셜 프로그램 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of programming a NAND flash memory device, and more particularly, to a sequential program method of a NAND flash memory device for improving a program threshold voltage distribution.

플래시 메모리란 전원이 차단되었을 때 데이터를 보관할 수 있는 비휘발성 메모리의 하나로 전기적으로 프로그램(program)과 소거(erase)가 가능하며, 일정 주기로 데이터(data)를 재작성하는 리프레쉬(refresh) 기능이 필요 없는 소자를 일컫는다. 여기서, 프로그램이란 데이터를 메모리 셀에 기록(write)하는 동작을 가리키며, 소거란 데이터를 메모리에서 삭제(erase)하는 동작을 가리킨다. 이러한 플래시 메모리 소자는 셀의 구조 및 동작 조건에 의해 크게 노아(NOR)와 낸드(NAND) 플래시로 나눠진다. 노아형 플래시 메모리는 각 메모리 셀 트랜지스터의 소스가 접지단자(VSS)에 연결되어 임의의 주소에 대한 프로그램 및 소거가 가능하며, 고속 동작을 요구하는 응용분야에 주로 사용되고 있다. 반면에 낸드형 플래시 메모리는 도 1에 도시한 바와 같이, 복수의 메모리 셀 트랜지스터 MC0~MC31이 직렬로 연결되어 한 개의 스트링(string)을 구성하고, 한 개의 스트링이 소스와 드레인에 연결되어 있는 구조로서 고집적 데이터 보관 응용분야에서 주로 사용된다. Flash memory is a non-volatile memory that can store data when power is cut off. It can be programmed and erased electrically. It requires refresh function to rewrite data at regular intervals. Refers to a device that is not present. Here, the program refers to an operation of writing data to a memory cell, and the erasing refers to an operation of erasing data from a memory. Such flash memory devices are largely divided into NOR and NAND flash according to the cell structure and operating conditions. Noah-type flash memory is a source of each memory cell transistor is connected to the ground terminal (VSS) can be programmed and erased to any address, it is mainly used in applications requiring high-speed operation. In contrast, as shown in FIG. 1, a NAND flash memory has a structure in which a plurality of memory cell transistors MC0 to MC31 are connected in series to form one string, and one string is connected to a source and a drain. It is mainly used in highly integrated data archiving applications.

도 1을 참조하면, 드레인 선택 트랜지스터(DST)와 소스 선택 트랜지스터(SST) 사이에 직렬로 연결되는 메모리 셀들(MC0~MC31)의 개수는 디바이스(device) 및 밀도(density)를 고려하여 16개, 32개, 또는 64개 등으로 한다. 도 1에서는 32개의 메모리 셀을 하나의 스트링으로 하여 N개의 스트링(1-1, 1-n)이 존재한다. 메 모리 셀들(예컨대 MC0)은 하나의 워드라인 WL0에 의해 제어되며, 하나의 페이지를 형성한다. 도 1에서는 32개의 페이지가 존재한다.Referring to FIG. 1, the number of memory cells MC0 to MC31 connected in series between the drain select transistor DST and the source select transistor SST is 16 in consideration of device and density. 32 or 64. In FIG. 1, N strings 1-1 and 1-n exist with 32 memory cells as one string. Memory cells (eg MC0) are controlled by one word line WL0 and form one page. In FIG. 1, there are 32 pages.

도 2는 시퀀셜(sequential) 방식을 사용하고 있는 도 1에 도시한 낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법을 나타낸 흐름도이다. FIG. 2 is a flowchart showing a program method of the NAND flash memory device shown in FIG. 1 using a sequential method.

낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법은, 먼저 첫번째 워드라인 WL0에 프로그램 바이어스, 즉 프로그램 전압을 인가하여 메모리 셀 MC0에 데이터를 프로그램한다(S11). 다음에, 메모리 셀 MC0에 데이터가 프로그램되었는지 아닌지를 검증한다(S12). 이때, 프로그램된 메모리 셀 MC0의 문턱전압 Vt가 타겟 문턱전압 Vt보다 작으면(S13), 메모리 셀 MC0에 정상적으로 데이터가 프로그램된 것이 아니므로 워드라인 WL0에 프로그램 전압에 다시 프로그램 바이어스 +0.5V를 더해서 워드라인 WLO에 인가하여(S14), 메모리 셀 MCO를 다시 프로그램한다. 반면에, 프로그램된 메모리 셀 MC0의 문턱전압 Vt가 타겟 문턱전압 Vt보다 크면(S13), 메모리 셀 MC0에 정상적으로 데이터가 프로그램된 것이므로, 메모리 셀 MC0에 대한 프로그램을 종료하고, 다음 워드라인 WL1에 프로그램 전압을 인가하여 MC1을 프로그램한다. 상술한 MC0의 프로그램 방법과 같은 방법으로 마지막 워드라인 WL31에 접속된 메모리 셀 MC31까지 프로그램을 순차적으로 진행한다. In the method of programming a NAND flash memory device, first, a program bias, that is, a program voltage is applied to the first word line WL0 to program data in the memory cell MC0 (S11). Next, it is verified whether or not data is programmed in the memory cell MC0 (S12). At this time, if the threshold voltage Vt of the programmed memory cell MC0 is smaller than the target threshold voltage Vt (S13), since data is not normally programmed in the memory cell MC0, the program voltage is added to the word line WL0 again with the program bias + 0.5V. It is applied to the word line WLO (S14) to program the memory cell MCO again. On the other hand, when the threshold voltage Vt of the programmed memory cell MC0 is greater than the target threshold voltage Vt (S13), since data is normally programmed in the memory cell MC0, the program for the memory cell MC0 is terminated, and the program is performed in the next word line WL1. Program MC1 by applying voltage. The program is sequentially performed to the memory cell MC31 connected to the last word line WL31 in the same manner as the program method of MC0 described above.

그러나, 이러한 종래의 낸드형 플래시 메모리 소자의 시퀀셜 방법은, 마지막 워드라인 WL31에 접속되는 메모리 셀 MC31의 프로그램 속도가 다른 메모리 셀들 MC0~MC30의 프로그램 속도보다 느리게 된다. 그 이유는 마지막 워드라인 WL31이 드레인 선택 라인 DSL에 인접해 있어 이들 드레인 선택 라인 DSL에 인가되는 전원전 압 VCC에 의한 간섭을 받기 때문이다. 좀 더 구체적으로 설명하면, 프로그램 동작 시에는 선택되지 않은 워드라인에는 대략 8V~10V에 해당하는 프로그램 금지 전압(Vpass)이 인가되는 것에 반해, 드레인 선택 라인 DSL에는 전원전압 VCC가 인가된다. 이렇게 되면, 메모리 셀들 MC31이 드레인 선택 트랜지스터 DST의 전위에 의해 간섭(interference effect)을 받게 되어, 메모리 셀 MC31의 프로그램 속도가 다른 메모리 셀들 MC0~MC30의 프로그램 속도보다 느리게 된다. However, in the sequential method of the conventional NAND flash memory device, the program speed of the memory cell MC31 connected to the last word line WL31 is slower than that of other memory cells MC0 to MC30. This is because the last word line WL31 is adjacent to the drain select line DSL and is subject to interference by the power supply voltage VCC applied to these drain select line DSL. In more detail, the program inhibit voltage Vpass corresponding to approximately 8V to 10V is applied to the unselected word line during the program operation, while the power supply voltage VCC is applied to the drain select line DSL. In this case, the memory cells MC31 are subjected to an interference effect by the potential of the drain select transistor DST, so that the program speed of the memory cell MC31 is lower than the program speeds of the other memory cells MC0 to MC30.

도 3은 각 워드라인에 따른 문턱전압을 나타낸 그래프인데, 문턱전압이 낮다는 것은 프로그램 속도가 느리다는 것을 의미한다. 그리고, 도면에서, 문자 A, B는 서로 다른 칩을 나타낸다.3 is a graph illustrating threshold voltages according to word lines, and a low threshold voltage indicates a slow program speed. In the drawings, letters A and B represent different chips.

도 3에 도시한 바와 같이, 드레인 선택 라인(DSL)에 가장 인접한 마지막 워드라인 WL31에 접속된 메모리 셀 MC31의 문턱 전압 Vt이 가장 낮다는 것을 알 수 있다. As shown in FIG. 3, it can be seen that the threshold voltage Vt of the memory cell MC31 connected to the last word line WL31 closest to the drain select line DSL is the lowest.

상술한 바와 같이 특정 메모리 셀(예컨대, DST에 인접한 MC31)의 문턱전압 Vt이 다른 메모리 셀 MC0~MC30의 문턱전압 Vt보다 낮게 됨으로써, 낸드형 플래시 메모리 소자의 칩 내의 문턱전압 분포가 넓어지게 된다. 그 결과, 낸드형 플래시 메모리 소자의 성능이 저하된다.As described above, the threshold voltage Vt of the specific memory cell (eg, MC31 adjacent to the DST) is lower than the threshold voltage Vt of the other memory cells MC0 to MC30, thereby widening the threshold voltage distribution in the chip of the NAND flash memory device. As a result, the performance of the NAND flash memory device is reduced.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 드레인 선택 라인에 가장 인접한 마지막 워드라인에 접속되는 메모리 셀들의 프로그램 문턱전압을 보상해주는 낸드형 플래시 메모리 소자를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a NAND flash memory device that compensates for program threshold voltages of memory cells connected to a last word line closest to a drain select line.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른, N(N은 자연수)개의 워드라인 각각에 연결된 복수개의 메모리 셀들을 포함하는 낸드형 플래시 메모리 장치의 프로그램 방법은, (a) 상기 N개 워드라인 중 하나에 프로그램 전압을 인가하여 상기 프로그램 전압이 인가된 워드라인에 연결된 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터를 프로그램하는 단계; (b) 상기 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터가 정상적으로 프로그램되었는지 검증하는 단계; (c) 상기 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터가 정상적으로 프로그램되었으면, 상기 프로그램 전압이 인가된 워드라인이 마지막 워드라인에 해당하는 N번째 워드라인인지를 판단하는 단계; (d) 상기 프로그램 전압이 인가된 워드라인이 상기 N번째 워드라인이면, 상기 프로그램 전압에 제1 포지티브 전압을 더해서 상기 N번째 워드라인에 인가하여 상기 N번째 워드라인에 접속된 상기 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터를 다시 프로그램하는 단계; 및 (e) 상기 프로그램 단계 (d) 후에, 상기 프로그램 검증 단계 (b)로 되돌아가지 않고, 모든 프로그램을 종료하는 단계를 포함한다.According to a preferred embodiment of the present invention for achieving the above object, a program method of a NAND flash memory device including a plurality of memory cells connected to each of the N (N is a natural number) word line, (a) the N Programming data into a first group of memory cells connected to the word line to which the program voltage is applied by applying a program voltage to one of the word lines; (b) verifying that data is normally programmed in the first group of memory cells; (c) if data is normally programmed in the first group of memory cells, determining whether a word line to which the program voltage is applied is an N-th word line corresponding to a last word line; (d) If the word line to which the program voltage is applied is the Nth word line, the first voltage of the first group connected to the Nth word line by adding the first positive voltage to the Nth word line is added to the program voltage. Reprogramming data into memory cells; And (e) after the program step (d), terminating all programs without returning to the program verifying step (b).

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며 통상의 지식을 가진자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면 상에서 동일 참조부호는 동일한 기능을 수행하는 동일 부재(member)를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, only the embodiments to complete the disclosure of the present invention and complete the scope of the invention to those skilled in the art. It is provided to inform you. Like reference numerals in the drawings denote like members performing the same functions.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법을 나타낸 흐름도이고, 도 5는 ISPP 프로그램 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 5에서 Tpw는 펄스 폭, Tury는 검증 시간, Tpgm은 총 프로그램 시간을 나타낸다.4 is a flowchart illustrating a program method of a NAND flash memory device according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a diagram for describing an ISPP program method. In FIG. 5, Tpw represents a pulse width, Tury represents a verify time, and Tpgm represents a total program time.

이하, 도 1에 나타낸 일반적인 낸드형 플래시 메모리 셀의 프로그램 문턱전압 분포를 좁혀서 프로그램 속도를 균일하게 하는 프로그램 방법을 도 4 및 도 5를 참조하여 설명하기로 한다. Hereinafter, a program method of narrowing the program threshold voltage distribution of the general NAND flash memory cell shown in FIG. 1 to make the program speed uniform will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

먼저, 첫번째 워드라인 WL0에 프로그램 바이어스로서 예컨대 15.5V를 인가하여 선택된 스트링 내의 메모리 셀들 MC0에 데이터를 프로그램한다(S21). First, for example, 15.5 V is applied to the first word line WL0 as a program bias to program data in the memory cells MC0 in the selected string (S21).

다음에, 메모리 셀들 MC0에 데이터가 정상적으로 프로그램되었는지를 검증한다(S22). 이때, 프로그램된 메모리 셀들 MC0의 문턱전압 Vt가 타겟 문턱전압 Vt보다 작으면(S23), 메모리 셀들 MC0에 데이터가 정상적으로 프로그램되지 않은 것이므로 상기 언급한 프로그램 바이어스 15.5V에 0.5V를 더해서(S24), 16V의 프로그램 바이어스를 워드라인 WL0에 인가하여 다시 메모리 셀들 MC0에 데이터를 프로그램한다. Next, it is verified whether data is normally programmed into the memory cells MC0 (S22). At this time, if the threshold voltage Vt of the programmed memory cells MC0 is smaller than the target threshold voltage Vt (S23), since 0.5V is added to the aforementioned program bias 15.5V since data is not normally programmed in the memory cells MC0 (S24). A program bias of 16V is applied to the word line WL0 to program data back into the memory cells MC0.

한편, 프로그램된 메모리 셀 MC0의 문턱전압 Vt가 타겟 문턱전압 Vt보다 크면(S23), 메모리 셀들 MC0에 데이터가 정상적으로 프로그램된 것이므로, 단계 S25 로 가서 워드라인 WL0가 마지막 워드라인 WL31에 해당하는지를 판단한다. 이때, 워드라인 WL0는 마지막 워드라인 WL31이 아니므로, 어드레스를 +1증가시켜서(S26), 다음 워드라인 WL1에 프로그램 바이어스를 인가하여 선택된 스트링 내의 메모리 셀들 MC1에 데이터를 프로그램한다. 상기와 같은 방법으로 메모리 셀 MC30까지 프로그램 동작을 수행한다.On the other hand, if the threshold voltage Vt of the programmed memory cell MC0 is greater than the target threshold voltage Vt (S23), since data is normally programmed in the memory cells MC0, the process proceeds to step S25 to determine whether the word line WL0 corresponds to the last word line WL31. . At this time, since the word line WL0 is not the last word line WL31, the address is increased by +1 (S26), and a program bias is applied to the next word line WL1 to program data in the memory cells MC1 in the selected string. In the same manner as described above, the program operation is performed up to the memory cell MC30.

마지막으로, 워드라인 WL31에 프로그램 바이어스로서 예컨대 15.5V를 인가하여 선택된 스트링 내의 메모리 셀들 MC31에 데이터를 프로그램한다. Finally, for example, 15.5 V is applied to the word line WL31 as a program bias to program data in the memory cells MC31 in the selected string.

그 다음, 메모리 셀들 MC31에 데이터가 정상적으로 프로그램되었는지를 검증한다(S22). 이때, 프로그램된 메모리 셀 MC31의 문턱전압 Vt가 타겟 문턱전압 Vt보다 작으면(S23), 메모리 셀들 MC31에 데이터가 정상적으로 프로그램되지 않은 것이므로, 상기 언급한 프로그램 바이어스 15.5V에 0.5V를 더해서(S24), 16V의 프로그램 바이어스를 워드라인 WL31에 인가하여 다시 메모리 셀 MC31에 데이터를 프로그램한다. Next, it is verified whether data is normally programmed in the memory cells MC31 (S22). At this time, if the threshold voltage Vt of the programmed memory cell MC31 is smaller than the target threshold voltage Vt (S23), since data is not normally programmed in the memory cells MC31, 0.5V is added to the aforementioned program bias 15.5V (S24). The program bias of 16V is applied to the word line WL31 to program data into the memory cell MC31 again.

한편, 프로그램된 메모리 셀들 MC31의 문턱전압 Vt가 타겟 문턱전압 Vt보다 크면(S23), 메모리 셀들 MC31에 데이터가 정상적으로 프로그램된 것이므로, 단계 S25로 가서 워드라인 WL31가 마지막 워드라인 WL31에 해당하는지를 판단한다. 이때, 워드라인 WL31은 마지막 워드라인 WL31이므로, 단계 S27로 가서 워드라인 WL31에 프로그램 바이어스, 예컨대 16V에 0.5V를 더한 16.5V를 인가하여 메모리 셀 MC31에 대한 프로그램을 다시 수행한다. 여기서, 마지막에 해당하는 워드라인 WL31에 접속된 메모리 셀들 MC31에 대한 프로그램 동작 후에는 프로그램 검증 없이 프 로그램 동작을 종료한다. On the other hand, if the threshold voltage Vt of the programmed memory cells MC31 is greater than the target threshold voltage Vt (S23), since data is normally programmed in the memory cells MC31, the process proceeds to step S25 to determine whether the word line WL31 corresponds to the last word line WL31. . At this time, since the word line WL31 is the last word line WL31, the process proceeds to step S27 to apply the program bias, for example, 16.5V, which is equal to 0.5V to 16V to the word line WL31, and re-programs the memory cell MC31. Here, after the program operation on the memory cells MC31 connected to the last word line WL31, the program operation is terminated without program verification.

도 4에 도시한 바와 같이 프로그램 검증 없이 프로그램 전압에 무조건적으로 0.5V를 더해서 메모리 셀들 MC31을 프로그램하는 이유는 마지막 워드라인 WL31에 접속된 메모리 셀들 MC31의 문턱전압 Vt를 높여서 프로그램 속도를 향상시키기 위함이다.As shown in FIG. 4, the reason for programming the memory cells MC31 unconditionally by adding 0.5V to the program voltage without program verification is to increase the program speed by increasing the threshold voltage Vt of the memory cells MC31 connected to the last word line WL31. .

이렇게 드레인 선택 라인 DSL에 가장 인접한 워드라인 WL31에 프로그램 검증동작 없이 프로그램 바이어스에 +0.5V를 추가로 더해서 인가하여 메모리 셀 MC31을 프로그램하면, 메모리 셀 MC31의 문턱전압 Vt이 높아져서, 전체 문턱전압 분포가 좁아진다. 이렇게 되면, 이들 메모리 셀 MC31의 프로그램 속도가 다른 메모리 셀들 MC0 내지 MC30의 프로그램 속도와 비슷해진다. When the memory cell MC31 is programmed by adding + 0.5V to the program bias without the program verifying operation to the word line WL31 closest to the drain select line DSL, the threshold voltage Vt of the memory cell MC31 is increased, resulting in an overall threshold voltage distribution. Narrows. In this case, the program rates of these memory cells MC31 are similar to those of other memory cells MC0 to MC30.

본 발명은, 셀 스트링에서의 메모리 셀의 개수가 증가하는 경우에 더 효과적이다.The present invention is more effective when the number of memory cells in the cell string is increased.

또한, 본 발명은 싱글레벨 셀(single-level cell)의 플래시 메모리 소자에 대해서만 설명했지만, 보다 빠른 프로그램 속도와 좁은 프로그램 문턱전압 분포를 이용하는 멀티레벨 셀(multi-level cell)의 플래시 메모리 소자에서 더 효과적이다.In addition, although the present invention has been described only for flash memory devices of single-level cells, the present invention is further described in flash memory devices of multi-level cells that use faster program speeds and narrower program threshold voltage distributions. effective.

상기에서 설명한 본 발명의 기술적 사상은 바람직한 실시예에서 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.Although the technical spirit of the present invention described above has been described in detail in a preferred embodiment, it should be noted that the above embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, the present invention will be understood by those of ordinary skill in the art that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 드레인 선택 라인에 인접한 마지막 워드라인에 접속되는 메모리 셀들의 문턱전압을 종래보다 높여서 프로그램 문턱전압 분포를 종래보다 좁힐 수 있다. 그 결과, 낸드형 플래시 메모리 소자의 성능을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, the threshold voltage distribution of the memory cells connected to the last word line adjacent to the drain select line may be higher than in the related art, thereby narrowing the program threshold voltage distribution. As a result, the performance of the NAND flash memory device can be improved.

Claims (4)

N(N은 자연수)개의 워드라인 각각에 연결된 복수개의 메모리 셀들을 포함하는 낸드형 플래시 메모리 장치의 프로그램 방법에 있어서,A program method of a NAND flash memory device including a plurality of memory cells connected to each of N word lines, wherein N is a natural number. (a) 상기 N개 워드라인 중 하나에 프로그램 전압을 인가하여 상기 프로그램 전압이 인가된 워드라인에 연결된 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터를 프로그램하는 단계;(a) programming data into a first group of memory cells connected to the word line to which the program voltage is applied by applying a program voltage to one of the N word lines; (b) 상기 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터가 정상적으로 프로그램되었는지 검증하는 단계;(b) verifying that data is normally programmed in the first group of memory cells; (c) 상기 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터가 정상적으로 프로그램되었으면, 상기 프로그램 전압이 인가된 워드라인이 마지막 워드라인에 해당하는 N번째 워드라인인지를 판단하는 단계; (c) if data is normally programmed in the first group of memory cells, determining whether a word line to which the program voltage is applied is an N-th word line corresponding to a last word line; (d) 상기 프로그램 전압이 인가된 워드라인이 상기 N번째 워드라인이면, 상기 프로그램 전압에 제1 포지티브 전압을 더해서 상기 N번째 워드라인에 인가하여 상기 N번째 워드라인에 접속된 상기 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터를 다시 프로그램하는 단계; 및(d) If the word line to which the program voltage is applied is the Nth word line, the first voltage of the first group connected to the Nth word line by adding the first positive voltage to the Nth word line is added to the program voltage. Reprogramming data into memory cells; And (e) 상기 프로그램 단계 (d) 후에, 상기 프로그램 검증 단계 (b)로 되돌아가지 않고, 모든 프로그램을 종료하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법.(e) after the program step (d), ending all programs without returning to the program verifying step (b). 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1 그룹의 메모리 셀들에 데이터가 정상적으로 프로그램되어 있지 않으면, 상기 프로그램 전압에 상기 제1 포지티브 전압을 더해서 상기 워드라인에 다시 인가하여 상기 제1 그룹의 메모리 셀들을 다시 프로그램하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법.If data is not normally programmed in the first group of memory cells, reprogramming the first group of memory cells by adding the first positive voltage to the program voltage and reapplying the word line. Program method of a NAND flash memory device, characterized in that. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프로그램 전압이 인가된 워드라인이 상기 N번째 워드라인이 아니면, 어드레스를 순차적으로 하나씩 증가시켜서 상기 N번째 워드라인이 될 때까지 상기 (a) 내지 (c)를 반복적으로 수행하는 것을 특징으로 하는 낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법.If the word line to which the program voltage is applied is not the N-th word line, steps (a) to (c) are repeatedly performed until the N-th word line is sequentially increased by one address. Program method of NAND flash memory device. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제1 포지티브 전압은 0.5V인 것을 특징으로 하는 낸드형 플래시 메모리 소자의 프로그램 방법.And the first positive voltage is 0.5V.
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