KR100525888B1 - 화이트백 형성용 페이스트 조성물 및플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법 - Google Patents

화이트백 형성용 페이스트 조성물 및플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법 Download PDF

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Abstract

내마모성이 향상된 화이트백 형성용 페이스트 조성물 및 공정시간 및 비용을 절감시킬 수 있는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법이 개시된다.
본 발명은 수지의 함량을 높이거나 또는 가소제를 첨가하여 화이트백 형성용 페이스트의 내마모성을 향상시킬 수 있다.
또한, 내마모성이 향상된 화이트백 형성용 페이스트를 이용하여 화이트백을 형성함으로써, 별도의 소성공정이 필요하지 않게 되어 공정시간 및 비용이 크게 절감되는 효과가 기대된다.
따라서, 이와 같이 형성된 화이트백은 격벽 형성시 연마제 등에 의해 가해지는 충격으로부터 하판전극 내지는 기판을 보호할 수 있게 된다.

Description

화이트백 형성용 페이스트 조성물 및 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법{Paste composites for white-back formation and method for manufacturing a lower substrate in the plasma display panel}
본 발명은 플라즈마디스플레이패널에 관한 것으로, 특히 화이트백의 내마모성을 향상시키는 동시에 공정시간 및 비용을 절감할 수 있는 화이트백 형성용 페이스트 조성물 및 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널은 평판형 표시 장치 중에서 가장 실용성이 높은 차세대 표시장치로 각광받고 있다. 즉, 플라즈마 디스플레이 패널은 휘도가 높고 시야각이 넓어 옥외 광고탑 또는 벽걸이 티브이, 극장용 디스플레이와 같이 박형의 대형 디스플레이로서 응용성이 매우 넓다.
일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널은 방전셀 내에 봉입된 불활성 가스의 방전에 의해 발생된 자외선을 형광체에 조사하여 발광되는 가시광선을 이용한 표시 장치이다.
도 1a 내지 도 1h는 일반적인 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법을 단계적으로 나타낸다.
먼저, 하판을 제조하기 위한 유리기판(11)이 마련되고, 상기 유리기판(11) 상에 화이트백 형성용 페이스트(12)가 도포, 인쇄 또는 코팅된다(도 1a). 이때, 상기 화이트백 형성용 페이스트(12)를 도포하기 전에 인쇄법, 점착법(additive), 감광성 페이스트 등을 이용하여 상기 유리기판(11) 상에 하판전극(예컨대, 어드레스전극)(도시되지 않음)이 형성되는 것이 바람직하다.
이어서 상기 화이트백 형성용 페이스트(12)를 건조 및 소성함으로써, 화이트백(12a)이 형성된다(도 1b). 이때, 상기 화이트백(12a)은 인쇄법 또는 코팅법 중 어느 하나를 이용하여 형성될 수 있다. 여기서, 화이트백(12a)은 반사막 또는 절연막을 의미하는 것으로서, 방전시 하판전극을 보호하고, 가시광선을 반사시켜 발광효율을 향상시키도록 하는 한편, 하판전극이 쇼트되는 것을 방지하기 위한 절연체의 역할을 하게 된다. 이러한 화이트백(12a)을 형성하기 위한 화이트백 형성용 페이스트(12)에는 파우더(powder), 수지(resin), 용매(solvent) 등이 혼합하여 만들어지게 된다. 이러한 경우, 화이트백 형성용 페이스트의 조성물은 파우더를 대략 70중량% 정도로 하고, 수지 및 용매를 30중량%의 비율로 혼합되게 된다. 이때, 수지의 조성비는 대략 2~3중량%를 차지하게 된다. 파우더와 수지 등은 그 용도에 따라 다양한 재료들이 사용될 수 있다. 이러한 재료들에 대해서는 이미 널리 공지된 기술로서 더 이상의 설명은 생략한다.
도 1c에 나타낸 바와 같이, 상기 유리기판(11) 상에 형성된 화이트백(12a) 위에 소정의 격벽 높이가 되도록 격벽 형성용 페이스트(13)를 도포, 인쇄 또는 코팅한다. 이때, 격벽 형성용 페이스트(13)는 인쇄 또는 코팅법 중 어느 하나를 이용하여 도포, 인쇄 또는 코팅될 수 있다. 여기서, 상기 격벽 형성용 페이스트(13)에는 모상유리(PbO-SiO2-Al2O3계), 필러(Al2O3), 안료(TiO 2) 등으로 이루어지는 파우더와 상기 유리기판 또는 화이트백과의 부착을 용이하게 하는 수지 및 용매 등이 혼합되어 있다.
이어서, 상기 격벽 형성용 페이스트(13) 상에 드라이 필름 레지스트(DFR : Dry Film Resist)를 라미네이팅(laminating) 기법을 이용하여 형성한다. 이후, 노광 및 현상 공정을 통해 상기 드라이 필름 레지스트를 패터닝(patterning)하여 드라이 필름 레지스트 패턴(14)을 형성한다(도 1d).
그리고, 도 1e에 나타낸 바와 같이, 상기 드라이 필름 레지스트 패턴(14)을 마스크로 하여 샌드 블라스트(sand blast)를 실시하여 격벽(13a)을 형성한다.
격벽(13a)이 형성되면, 상기 드라이 필름 레지스트 패턴(14)을 박리액 즉, NaOH 등과 같은 알칼리 수용액을 이용한 습식 공정으로 박리시킨다(도 1f).
이어서, 유리기판(11)에 형성된 격벽(13a)을 소성시킨다(1g).
그리고, 인쇄법 등을 이용하여 상기 격벽(13a) 내벽을 따라 형광체(15)를 도포함으로써, 하판이 제조되게 된다(1h).
상술한 바와 같이, 종래의 하판제조방법은 화이트백을 형성할 때, 소성 공정을 수행함으로써 내마모성을 강화하여 샌드 블라스팅에 의한 격벽 형성시 연마제 등의 충격으로부터 화이트백을 보호하고 나아가 하판전극을 보호할 수 있다.
하지만, 종래의 하판제조방법은 화이트백과 격벽을 형성할 때 각각을 별도로 소성하게 됨으로써, 소성공정이 중복되어 그만큼 공정시간이 증가하게 되어 생산성이 악화되게 되고, 또 소성공정의 중복으로 인한 공정비용이 증가하게 되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 가소제를 첨가하거나 또는 수지의 함량을 증가시켜 화이트백의 내마모성을 향상시킬 수 있는 화이트백 형성용 페이스트 조성물 및 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명은 화이트백의 내마모성이 향상됨으로써, 화이트백을 위한 별도의 소성공정이 필요없게 되어 공정시간 및 공정비용을 절감할 수 있는 화이트백 형성용 페이스트 조성물 및 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법을 제공함에 다른 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따르면, 화이트백 형성용 페이스트 조성물은, 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어진다.
본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따르면, 화이트백 형성용 페이스트 조성물은, 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 용매 25~35중량%로 이루어질 수 있다.
본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따르면, 화이트백 형성용 페이스트 조성물은, 파우더 65~75중량%, 수지 2~3중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어질 수 있다.
여기서, 상기 가소제는 디옥틸프탈레이트(DOP) 또는 디브틸프탈레이트(DBP) 중 어느 하나 또는 디옥틸프탈레이트(DOP) 및 디브틸프탈레이트(DBP)로 이루어지고, 상기 수지는 에틸셀룰로오즈 또는 아크릴 중 어느 하나 또는 에틸셀룰로오즈 및 아크릴로 이루어질 수 있다.
본 발명의 바람직한 제4 실시예에 따르면, 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법은, 기판 상에 화이트백 형성용 페이스트를 도포 및 건조하여 화이트백을 형성하는 단계; 상기 화이트백이 형성된 기판 상에 격벽 형성용 페이스트를 도포 및 건조하는 단계; 상기 도포 및 건조된 격벽 형성용 페이스트 상에 드라이 필름 레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 드라이 필름 레지스트 패턴을 마스크로 하여 샌드 블라스트를 실시하여 격벽을 형성하는 단계; 및 상기 화이트백 및 상기 격벽을 동시에 소성하는 단계를 포함한다.
상기 화이트백 형성용 페이스트의 조성물은, 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%의 조성물로 이루어지거나 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 용매 25~35중량%로 이루어지거나 파우더 65~75중량%, 수지 2~3중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어질 수 있다.
상기 형성된 화이트백은 상기 격벽이 형성된 후에 상기 격벽과 동시에 소성될 수 있다.
이때, 상기 소성은 530~570℃에서 20~30분 동안 수행되는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 바람직한 화이트백 형성용 페이스트 조성물 및 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법을 설명한다. 본 발명에서 종래와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면번호를 부여한다.
본 발명은 내마모성을 향상시킬 수 있도록 화이트백 형성용 페이스트 조성물을 가변시킴으로써, 이러한 화이트백 형성용 페이스트 조성물을 이용하여 화이트백을 형성하는 경우에 별도의 소성공정을 생략하여 공정시간 및 공정비용을 절감시킬 수 있는 방법이 제안한다.
이를 위한 화이트백 형성용 페이스트 조성물은 다음과 같은 다양한 실시예로 나타내어질 수 있다.
[실시예 1]
먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 화이트백 형성용 페이스트 조성물은 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량% 및 용매 25~35중량%로 이루어질 수 있다. 이와 같이, 수지의 함량을 종래의 2~3중량%보다 2배 내지 7배 정도를 높임으로써, 화이트백의 내마모성을 향상시킬 수 있다. 이때, 수지로는 에틸셀룰로오즈(Ethyl Cellulose) 또는 아크릴(Acryl) 중 어느 하나가 사용될 수 있다.
즉, 수지의 함량을 높임으로써, 격벽형성을 위한 샌드 블라스팅시 연마제가 화이트백에 충격을 가하더라도, 보다 높은 수지 함량에 따라 파우더가 보다 강하게 결합됨으로 인해, 파우더 분자들이 잘 이탈이 되지 않기 때문에 결국 화이트백에 손상을 거의 주지 않게 된다.
상기와 같은 화이트백 형성용 페이스트 조성물을 이용하여 화이트백을 형성함으로써, 화이트백 형성시 수행되는 소성 공정이 필요없어지게 되어 공정시간 및 공정비용이 절감될 수 있다.
[실시예 2]
본 발명의 다른 실시예에 따른 화이트백 형성용 페이스트 조성물은 파우더 65~75중량%, 수지 2~3중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어질 수 있다. 즉, 수지의 함량을 종래와 같은 2~3중량%로 하는 대신에 가소제를 2중량%이하로 첨가된다. 이와 같이 제조된 화이백 형성용 페이스트 조성물로 화이트백을 형성하게 되면, 첨가된 가소제에 의해 화이트백의 유연성이 증가하게 되고, 격벽형성시 샌드 블라스팅에 의한 연마제의 가격시 반발력이 증가하게 됨으로써 내마모성이 향상되게 된다. 이에 따라 화이트백의 손상이 발생되지 않게 된다. 이때, 첨가되는 가소제로는 디옥틸프탈레이트(DOP) 또는 디브틸프탈레이트(DBP) 중 어느 하나가 사용될 수 있다.
[실시예 3]
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 화이트백 형성용 페이스트 조성물은 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어질 수 있다. 실시예 3은 실시예 1과 실시예 2를 모두 수용한 것으로서, 수지 함량을 종래에 비해 2배 내지 7배정도 높이는 동시에 2중량%이하의 가소제를 첨가되게 된다.
실시예 3과 같은 화이트백 형성용 페이스트 조성물로 화이트백을 형성하게 되면, 화이트백의 내마모성이 실시예 1 및 실시예 2와 마찬가지로 향상되게 된다.
이와 같은 실시예 1 내지 3을 이용하여 플라즈마디스플레이패널의 하판을 제조하는 방법을 설명한다.
도 2a 내지 도 2g는 본 발명에 따른 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법을 단계적으로 나타낸다.
먼저, 하판을 제조하기 위한 유리기판(11)이 마련되고, 상기 유리기판(11) 상에 화이트백 형성용 페이스트(12)가 도포, 인쇄 또는 코팅된다(도 2a). 이때, 상기 화이트백 형성용 페이스트(12)를 도포하기 전에 인쇄법, 점착법(additive), 감광성 페이스트 등을 이용하여 상기 유리기판(11) 상에 하판전극(예컨데, 어드레스전극)(도시되지 않음)이 형성되는 것이 바람직하다.
이어서 상기 화이트백 형성용 페이스트(12)를 건조함으로써, 화이트백(12a)이 형성된다. 이때, 본 발명에서는 건조 공정 다음에 소성공정을 수행하지 않는다. 종래에 도포된 화이트백 형성용 페이스트를 소성하는 것은, 나중에 격벽 형성시 연마제에 의해 가해지는 충격에 의한 손상을 방지하기 위한 것이다. 하지만, 본 발명에서는 실시예 1내지 실시예 3에서 살펴본 바와 같이 이미 화이트백 형성용 페이스트에 내마모성을 향상시킬 수 있는 기능을 부가하였기 때문에 별도의 소성 공정이 필요하지 않게 된다.
즉, 본 발명에서는 종래 보다 2배 내지 7배 함량이 높은 4~15중량%의 수지를 사용하거나(실시예 1), 화이트백 형성용 페이스트의 조성물 함량의 비율을 종래와 동일하게 하는 대신에 2중량%이하의 가소제를 첨가하거나 또는 수지의 함량을 종래에 비해 높이는 동시에 가소제도 첨가함으로써, 화이트백 형성용 페이스트의 내마모성을 향상시킬 수 있다. 그러므로, 이와 같은 조성으로 혼합 제조된 화이트백 형성용 페이스트를 이용하여 화이트백(12a)을 형성함으로써, 화이트백 형성시 별도의 소성공정을 생략하여도 나중에 격벽 형성시 연마제에 의해 화이트백이 손상되는 것을 방지할 수 있게 된다.
한편, 상기 화이트백(12a)은 인쇄법 또는 코팅법 중 어느 하나를 이용하여 형성될 수 있다. 여기서, 화이트백(12a)은 이미 설명한 바와 같이 반사막 또는 절연막을 의미하는 것으로서, 방전시 하판전극을 보호하고, 가시광선을 반사시켜 발광효율을 향상시키도록 하는 한편, 하판전극가 쇼트되는 것을 방지하기 위한 절연체의 역할을 하게 된다.
도 2b에 나타낸 바와 같이, 상기 유리기판(11) 상에 형성된 화이트백(12a) 위에 소정의 격벽 높이가 되도록 격벽 형성용 페이스트(13)를 도포, 인쇄 또는 코팅한다. 이때, 격벽 형성용 페이스트(13)는 인쇄 또는 코팅법 중 어느 하나를 이용하여 도포, 인쇄 또는 코팅될 수 있다. 여기서, 상기 격벽 형성용 페이스트(13)에는 모상유리(PbO-SiO2-Al2O3계), 필러(Al2O3), 안료(TiO 2) 등으로 이루어지는 파우더와 상기 유리기판 또는 화이트백과의 부착을 용이하게 하는 수지 및 용매 등이 혼합되어 있다. 일 예로, 상기 격벽 형성용 페이스트 조성물은 75~85중량%의 파우더, 1~2중량%의 수지 및 15~25중량%의 용매로 이루어질 수 있다. 물론, 이러한 격벽 형성용 페이스트 조성물은 그 용도에 따라 비율이 상이해짐은 자명하다 할 것이다.
이어서, 상기 격벽 형성용 페이스트(13) 상에 드라이 필름 레지스트(DFR : Dry Film Resist)를 라미네이팅(laminating) 기법을 이용하여 형성한다. 이후, 노광 및 현상 공정을 통해 상기 드라이 필름 레지스트를 패터닝(patterning)하여 드라이 필름 레지스트 패턴(14)을 형성한다(도 2c).
그리고, 도 2d에 나타낸 바와 같이, 상기 드라이 필름 레지스트 패턴(14)을 마스크로 하여 샌드 블라스트를 실시하여 격벽(13a)을 형성한다.
격벽(13a)이 형성되면, 상기 드라이 필름 레지스트 패턴(14)을 박리액 즉, NaOH 등과 같은 알칼리 수용액을 이용한 습식 공정으로 박리시킨다(도 2e).
이어서, 상기 유리기판(11) 상에 형성된 상기 화이트백(12a) 및 상기 격벽(13a)을 동시에 소성시킨다(2f). 이때, 소성 조건은 530~570℃에서 20~30분 수행되는 것이 바람직하다.
그리고, 인쇄법 등을 이용하여 상기 격벽(13a) 내벽을 따라 형광체(15)를 도포함으로써, 하판이 제조되게 된다(2g).
따라서, 플라즈마디스플레이패널의 하판제조시에 내모마성이 향상된 화이트백 형성용 페이스트를 이용하여 화이트백을 형성함으로써, 이러한 화이트백에 대한 별도의 소성공정이 필요없게 될 뿐만 아니라 격벽 형성에 사용되는 연마제 등에 의한 충격에도 화이트백이 손상되지 않게 된다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 화이트백 형성용 페이스트의 조성물에 수지의 함량을 증가시키거나 또는 가소제를 첨가함으로써, 내마모성이 향상된 화이트백 형성용 페이스트를 제조할 수 있다.
또한, 이와 같이 내마모성이 향상된 화이트백 형성용 페이스트를 이용하여 화이트백을 형성함으로써, 격벽 형성시에 연마제 등에 의해 가해지는 충격으로부터 화이트백이 손상되는 것을 방지하여 궁극적으로 하판전극 내지는 기판을 보호할 수 있다.
또한, 내마모성이 향상된 화이트백 형성용 페이스트를 이용하여 화이트백을 형성할 때, 화이트백 형성을 위한 별도의 소성 공정 없이 나중에 격벽이 형성되면 화이트백과 격벽을 동시에 소성하여 줌으로써, 종래의 2번의 소성공정을 한번의 소성공정으로 대체할 수 있어 공정시간 및 비용을 절감할 수 있다.
도 1a 내지 도 1h는 일반적인 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법을 단계적으로 나타낸 도면.
도 2a 내지 도 2g는 본 발명에 따른 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법을 단계적으로 나타낸 도면.

Claims (19)

  1. 플라즈마디스플레이패널의 화이트백 형성용 페이스트 조성물에 있어서,
    파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어지는 화이트백 형성용 페이스트 조성물.
  2. 플라즈마디스플레이패널의 화이트백 형성용 페이스트 조성물에 있어서,
    파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 용매 25~35중량%로 이루어지는 화이트백 형성용 페이스트 조성물.
  3. 플라즈마디스플레이패널의 화이트백 형성용 페이스트 조성물에 있어서,
    파우더 65~75중량%, 수지 2~3중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어지는 화이트백 형성용 페이스트 조성물.
  4. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 가소제는 디옥틸프탈레이트(DOP) 또는 디브틸프탈레이트(DBP) 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화이트백 형성용 페이스트 조성물.
  5. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 가소제는 디옥틸프탈레이트(DOP) 및 디브틸프탈레이트(DBP)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화이트백 형성용 페이스트 조성물.
  6. 제1항 내지 제3항의 어느 한 항에 있어서, 상기 수지는 에틸셀룰로오즈 또는 아크릴 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화이트백 형성용 페이스트 조성물.
  7. 제1항 내지 제3항의 어느 한 항에 있어서, 상기 수지는 에틸셀룰로오즈 및 아크릴로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화이트백 형성용 페이스트 조성물.
  8. 기판 상에 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%의 조성물로 이루어진 화이트백 형성용 페이스트를 도포 및 건조하여 화이트백을 형성하는 단계;
    상기 화이트백이 형성된 기판 상에 격벽 형성용 페이스트를 도포 및 건조하는 단계;
    상기 도포 및 건조된 격벽 형성용 페이스트 상에 드라이 필름 레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 드라이 필름 레지스트 패턴을 마스크로 하여 샌드 블라스트를 실시하여 격벽을 형성하는 단계; 및
    상기 화이트백 및 상기 격벽을 동시에 소성하는 단계
    를 포함하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  9. 기판 상에 파우더 65~75중량%, 수지 4~15중량%, 용매 25~35중량%로 이루어진 화이트백 형성용 페이스트를 도포 및 건조하여 화이트백을 형성하는 단계;
    상기 화이트백이 형성된 기판 상에 격벽 형성용 페이스트를 도포 및 건조하는 단계;
    상기 도포 및 건조된 격벽 형성용 페이스트 상에 드라이 필름 레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 드라이 필름 레지스트 패턴을 마스크로 하여 샌드 블라스트를 실시하여 격벽을 형성하는 단계; 및
    상기 화이트백 및 상기 격벽을 동시에 소성하는 단계
    를 포함하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  10. 기판 상에 파우더 65~75중량%, 수지 2~3중량%, 가소제 2중량%이하 및 용매 25~35중량%로 이루어진 화이트백 형성용 페이스트를 도포 및 건조하여 화이트백을 형성하는 단계;
    상기 화이트백이 형성된 기판 상에 격벽 형성용 페이스트를 도포 및 건조하는 단계;
    상기 도포 및 건조된 격벽 형성용 페이스트 상에 드라이 필름 레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 드라이 필름 레지스트 패턴을 마스크로 하여 샌드 블라스트를 실시하여 격벽을 형성하는 단계; 및
    상기 화이트백 및 상기 격벽을 동시에 소성하는 단계
    를 포함하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 화이트백을 형성하는 전에, 상기 기판 상에 하판전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  12. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 소성 공정 후, 상기 격벽 내면을 따라 형광체를 도포하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  13. 삭제
  14. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가소제는 디옥틸프탈레이트(DOP) 또는 디브틸프탈레이트(DBP) 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  15. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가소제는 디옥틸프탈레이트(DOP) 및 디브틸프탈레이트(DBP)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  16. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지는 에틸셀룰로오즈 또는 아크릴 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  17. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지는 에틸셀룰로오즈 및 아크릴로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  18. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 형성된 화이트백은 상기 격벽이 형성된 후에 상기 격벽과 동시에 소성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
  19. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 소성은 530~570℃에서 20~30분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법.
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