KR100330955B1 - 분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 광촉매 복합체를 이용한 NOx 기체의 제거방법 - Google Patents

분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 광촉매 복합체를 이용한 NOx 기체의 제거방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100330955B1
KR100330955B1 KR1020000057263A KR20000057263A KR100330955B1 KR 100330955 B1 KR100330955 B1 KR 100330955B1 KR 1020000057263 A KR1020000057263 A KR 1020000057263A KR 20000057263 A KR20000057263 A KR 20000057263A KR 100330955 B1 KR100330955 B1 KR 100330955B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photocatalyst
particles
adhesive
photocatalytic
titanium oxide
Prior art date
Application number
KR1020000057263A
Other languages
English (en)
Inventor
무라사와사다오
무라까미하지메
후꾸이야스로
와따나베미쓰루
후지시마아끼라
하시모또가즈히또
Original Assignee
시게후치 마사토시
도토기키 가부시키가이샤
이시하라 겐조
이시하라 산교 가부시끼가이샤
하시모또가즈히또
후지시마 아끼라
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=26500844&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR100330955(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 시게후치 마사토시, 도토기키 가부시키가이샤, 이시하라 겐조, 이시하라 산교 가부시끼가이샤, 하시모또가즈히또, 후지시마 아끼라 filed Critical 시게후치 마사토시
Application granted granted Critical
Publication of KR100330955B1 publication Critical patent/KR100330955B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/06—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing polymers
    • B01J35/30—
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/26—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing in addition, inorganic metal compounds not provided for in groups B01J31/02 - B01J31/24
    • B01J31/38—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing in addition, inorganic metal compounds not provided for in groups B01J31/02 - B01J31/24 of titanium, zirconium or hafnium
    • B01J35/39—
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0215—Coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0215—Coating
    • B01J37/0219—Coating the coating containing organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/256—Coating containing TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3405—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of organic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
    • C03C2204/02—Antibacterial glass, glaze or enamel
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/212—TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/25—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/29—Mixtures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/445—Organic continuous phases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/45—Inorganic continuous phases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C03C2217/477—Titanium oxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C03C2217/479—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/71—Photocatalytic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/148—Light sensitive titanium compound containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/151—Matting or other surface reflectivity altering material

Abstract

비닐 에스테르 및/또는 비닐 에테르와 플루오로올레핀의 공중합체를 함유하는 플루오르화 중합체, 또는 규소 기재 중합체 또는 시멘트와 같은 분해성이 적은 접착제를 통해 접착된, 산화 티타늄과 같은 광촉매 입자를 가지는 기질을 함유함을 특징으로 하는 광촉매 복합체를 제공한다. 또한, 광촉매 복합체 및 광촉매 복합체를 함유하는 코팅 조성물의 제조 방법을 제공한다.

Description

분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 광촉매 복합체를 이용한 NOx 기체의 제거방법{METHOD FOR REMOVING NOx GAS USING PHOTOCATALYST COMPOSITE COMPRISING CEMENT AS LESS DEGRADATIVE ADHESIVE}
본 발명은 광촉매 입자가 기질상에 접착된 광촉매 복합체 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
광촉매 입자를 밴드 갭 (band gap) 에너지 이상에 해당하는 파장의 조사에 노출시키면 전자의 전도 밴드로의 광전이 및 그에 상응하는 밸런스 밴드 (valence band) 내에서의 홀 (hole) 의 생성이 일어난다. 이 광학적 전이에 의해 생성되는 전자의 강한 환원력 및 홀의 강한 산화력은 유기 물질의 분해 및 정제뿐만 아니라 물의 분해에서 활용할 수 있다. 이러한 처리에 사용되는 광촉매 입자는 통상적으로, 광촉매 입자보다 큰 크기의 기질상에 침착시켜 공기 중으로의 분산이나, 계에서의 배출을 방지하고, 처리 계로부터 광촉매의 용이한 분리를 제공한다.기질상에 광촉매 입자를 침착시키는 것은 400℃ 또는 그 이상의 온도에서 기질상에 광촉매 입자를 소결시켜, 기질에 상기 입자를 접착시키는 것으로 구성된 방법, 또는 기질상에 전구체를 분무하여 약 400℃ 의 온도로 가열하여 열분해를 통하여 광촉매로 전환시켜 입자를 기질에 접착시키는 것으로 구성된 방법으로 수행할 수 있다. 선택적으로, 특정 형태의 플루오르화 중합체를 사용하여 광촉매 입자를 응고시키는 방법이 제안되어 왔다. 예를 들면, 일본국 특개평 4 - 284851 호에 광촉매 입자와 플루오르화 중합체의 혼합물을 박판시키고, 박판을 가압하에 압축시키는 것으로 구성된 방법이 기재되어 있다. 일본국 특개평 4 - 334552 호에는 플루오르화 중합체를 열역학적으로 용융시켜 광촉매 입자를 접착시키는 방법이 기재되어 있다.
최근에는 주거 환경에서 일상적으로 생산되는 폐기물중의 유독한 물질, 악취성 물질 및 유성 물질의 분해뿐만 아니라 폐기물의 정제 및 소독용으로 광촉매 입자를 사용하려는 시도가 있었다. 따라서, 광촉매 입자는 그의 응용 영역을 넓혀가고 있다. 이러한 관점에서, 광촉매적 작용을 잃지 않고 장기간 유지될 수 있는, 광촉매 입자를 기질상에 견고히 접착시킬 수 있는 방법이 요구된다. 불행하게도, 상기한 선행 기술의 방법은 외부 가압하에서 불충분한 접착력을 나타내어 박판이 갈라지기 쉬운 단점이 있고, 고온에서 가열될 필요가 있으므로, 플라스틱과 같이 내열성이 없는 기질, 열을 가하기 어려운 사무실 벽 및 다양한 표면 제품과 같은 내부 장식 물질에 사용할 수 없다. 또한, 고온에서의 열처리는 광촉매 입자의 비표면적을 감소시켜 그의 광촉매적 작용의 감소를 일으킨다. 더욱이, 가압하에서의 접착 또는 가열하에서의 용융을 위한 장치와 같은 특별한 장치가 요구될 수도 있다.
본 발명의 목적은 분해성이 적은 접착제를 통해 접착된 광촉매 입자를 가지는 기질로 구성된 광촉매 복합체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 광촉매 복합체의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 광촉매 복합체를 사용한 코팅 조성물을 제공하는 것이다.
제 1 도는 실시예의 샘플 A 및 C 와 비교예의 샘플 E 에 흑색광을 조사시킴에 의한 광촉매 복합체 중의 접착제의 단위 면적당 중량 손실의 변화를 도시한다.
본 발명자들은 입자의 광촉매적 작용을 손상시킴 없이 장기간에 걸쳐 기질상에 광촉매 입자를 견고하게 접착시키는 방법을 발전시키기 위한 연구를 수행해왔다. 결과로써, 본 발명은,
(1) 광촉매 입자를 접착제와 함께 기질상에 접착시키는 경우, 광촉매 입자의 광촉매적 작용은 광촉매 입자를 기질로부터 유리시켜 접착제를 분해 및 열화시킬 수 있으나, 예상치 않게도 본 발명의 광촉매는, 분해성이 적은 접착제의 사용으로 광촉매 입자를 기질에서 유리시키지 않고 접착시키며, 충분한 광촉매적 작용을 나타내고,
(2) 광촉매 입자의 양이 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제의 총 부피 기준으로 5- 98 % 인 경우, 광촉매 입자를 생성 광촉매 복합체의 광촉매적 작용을 저하시키지 않고 기질에 접착시킬 수 있으며,
(3) 분해성이 적은 접착제로서 플루오르화 중합체 및 실리콘 기재 중합체와 같은 유기 접착제 또는 무기 접착제의 사용은 광촉매 입자의 광촉매적 작용에 기인한 접착제의 가장 감소된 분해를 일으키므로, 광촉매 입자를 장기간 견고하게 접착시킬 수 있으며, 특히 주로 비닐에테르 및/또는 비닐에스테르의 공중합체로 구성된 플루오르화 중합체 및 플루오로올레핀이 바람직하고,
(4) 광촉매 입자는 높은 광촉매적 작용, 높은 화학적 안정성 및 비독성을 갖는 산화 티타늄이 바람직하며,
(5) 다양한 표면 제품을 비교적 용이하게 광촉매적으로 만드는 데 응용가능하고, 가전 제품에서 광촉매적 작용을 용이하게 활용하기 위한 광촉매 입자의 접착 방법은, 바람직하게는 편리하고 용이한 방법으로서 기질상에 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제를 배치시킨 후, 접착제를 응고시키는 단계로 구성되거나, 더욱 상세하게는 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제를 광촉매 입자, 접착제 및 용매를 함유하는 코팅 조성물을 코팅시키거나, 분무하여 배치시킨 후 다양한 제품과 같은 기질의 표면상에서 접착제를 응고시키는 단계로 구성되어 있다.
즉, 본 발명은 입자의 광촉매적 작용을 잃지 않고 장기간 광촉매 입자가 견고하게 접착되는 기질을 함유하는 광촉매적 복합체를 제공하는 데 있다.
본 발명은 분해성이 적은 접착제를 통해 접착된 광촉매 입자를 가지는 기질을 함유하는 광촉매 복합체이다. 본 발명에 사용된 바와 같이 '분해성이 적은 접착제'라는 용어는 하기 실시예에 기재된 방법으로 측정하여 광촉매 복합체 중의 접착제의 중량 손실이 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 가장 바람직하게는 1% 이하인 광촉매 입자에 의한 광촉매적 작용에 기인하여 분해율이 현저한 감소를 나타내는 접착제를 의미한다. 10% 초과의 중량 손실은 바람직하지 않은 대량의 광촉매 입자의 유리 및 접착제의 심한 분해를 의미한다. 본 발명의 분해성이 적은 접착제로서는 시멘트를 사용할 필요가 있다. 사용되는 시멘트는 예를 들면, 급경화 시멘트, 일반용 시멘트, 중용열 시멘트, 내황산염 시멘트, 백시멘트, 유정 시멘트 및 지열정(geothermal well) 시멘트와 같은 보통 시멘트, 플라이 애쉬 (fly-ash) 시멘트, 황산염 슬랙 시멘트, 실리카 시멘트, 및 고로 시멘트, 알루미늄 시멘트 등과 같은 혼합 시멘트가 있다.
본 발명에 사용되는 바와 같이 '광촉매 입자'라는 용어는 밴드 갭 에너지 이상에 해당하는 파장의 광선을 사용한 조사시에 광촉매적 작용을 나타낼 수 있는 것을 의미한다. 사용되는 광촉매 입자는 산화 티타늄, 산화 아연, 산화 텅스텐, 산화 철, 티탄산 스트론튬 등과 같은 공지된 금속 화합물 반도체 1 또는 2 이상의 조합이 있다. 특히, 높은 광촉매적 작용, 높은 화학적 안정성 및 비독성을 나타내는 산화 티타늄이 바람직하다. 또한, 생성 광촉매 입자의 보다 높은 광촉매적 작용 때문에 제 2 성분으로서 상기 광촉매 입자 내부 및/또는 그의 표면상에 V, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ru, Rh, Pd, Ag, Pt 및 Au 로 구성된 군에서 선택된 1 이상의 금속 및/또는 그의 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 금속 화합물로는 예를 들면, 산화 금속, 수산화물, 옥시수산화물, 황산염, 할로겐화물, 질산염, 금속 이온까지 포함된다. 제 2 성분의 함량은 그의 종류에 따라 변할 수 있다. 상기 금속 및/또는 금속 화합물을 함유하는 광촉매 복합체로는 산화 티타늄이 바람직하다. 광촉매 입자의 함량은 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 5 - 98 부피 % 인 것이 바람직하다. 상기 정의된 범위 이하의 광촉매 입자의 함량은 생성 광촉매의 광촉매적 작용을 바람직하지 않게 감소시키는 경향이 있는 반면, 상기 기재된 범위 이상의 함량은 또한, 바람직하지 않게 접착력을 감소시킨다. 분해성이 적은 접착제로서 시멘트 또는 석고를 사용하는 경우, 광촉매 입자의 함량은 바람직하게는 5 - 40 %, 가장 바람직하게는 5 - 25 % 이다. 선택적으로, 분해성이 적은 접착제로서 시멘트 및 석고 이외의 유기 또는 무기 접착제를 사용하는 경우, 광촉매 입자의 함량은 바람직하게는 20 - 98 %, 보다 바람직하게는 50 - 98 %, 가장 바람직하게는 70 - 98 % 이다.
본 발명에 사용되는 광촉매 입자는 어떠한 공지의 기술에 의해서도 제조될 수 있다. 예를 들면, (1) 황산 티타늄, 염화 티타늄, 티타늄 알콕시드 등과 같은 티타늄 화합물을 필요하다면, 결정화 핵의 존재하에 열 가수분해시킴을 특징으로 하는 방법, (2) 황산 티타늄, 염화 티타늄, 티타늄 알콕시드 등과 같은 티타늄 화합물을 알칼리를 가함으로써, 필요하다면, 결정화 핵의 존재하에, 중화시킴을 특징으로 하는 방법, (3) 기체상에서 염화 티타늄, 티타늄 알콕시드 등을 산화시킴을 특징으로 하는 방법, 및 (4) (1) 및 (2) 중 하나의 방법으로 제조한 산화 티타늄을 연소시키거나 열수 처리함을 특징으로 하는 방법을 포함한 다수의 방법이 있다. 특히, (1) 방법에 의해 또는 100℃ 이상의 온도에서 열수 처리에 의해 수득된 산화 티타늄이 그의 보다 높은 광촉매적 작용으로 인해 바람직하다. 본 발명에서 사용된 바와 같은 '산화 티타늄'이라는용어는 산화 티타늄외에도, 그의 결정계와 무관하게 소위 산화 티타늄 수화물, 가수 산화 티타늄, 메타티탄산염, 오르토티탄산염, 수산화 티타늄을 의미한다. 제 2 성분으로서 V, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ru, Rh, Pd, Ag, Pt 및 Au 로 구성된 군 중에서 선택된 1 이상의 금속 및/또는 그의 화합물을 광촉매 입자 내부 및/또는 그의 표면상에 존재시키기 위해 광촉매 입자 제조 중에 금속 및/또는 화합물을 가해 흡착시킴을 특징으로 하는 방법, 또는 광촉매 입자의 제조 후, 금속 및/또는 화합물을 가해, 필요하다면, 가열하에, 또는 필요하다면, 환원법을 사용하여 흡착시킴을 특징으로 하는 방법을 사용할 수 있다.
본 발명에 사용되는 기질은 세라믹 및 유리와 같은 무기 제품, 플라스틱, 엘라스토머, 목재 및 종이 시트와 같은 유기 제품, 및 알루미늄과 같은 금속재 금속성 제품 또는 강철과 같은 합금이 있다. 기질의 크기 및 형태는 중요하지 않다. 코팅된 제품 또한 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 처리 물질을 흡착시키는 작용을 공존시킬 수 있으므로, 분해성이 적은 접착제를 통해 광촉매 입자 및 흡착제를 기질상에 부착시키는 것이 바람직하다. 사용되는 흡착제는 활성탄, 제올라이트, 실리카 겔 등과 같은 일반적 흡착제가 있다.
본 발명의 다른 측면에서, 광촉매 입자를 함유하지 않는 접착제로 구성된 제 1 층을 기질상에 제공한 후, 분해성이 적은 접착제 및 광촉매 입자로 구성된 제 2 층을 제 1 층상에 제공한다. 광촉매 입자를 함유하지 않는 제 1 층의 제공은, 광촉매 입자를 함유하는 제 2 층과 기질 사이를 더 견고하게 연결시켜 광촉매입자가 그를 지탱하는 기질상에 더 장기간 더 견고하게 접착되도록 한다. 더욱이, 제 1 층은 충전제로서 광촉매적 작용이 없는 무기 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 사용되는 무기 입자는 산화 티타늄, 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 마그네슘 등이 있으며, 이들의 표면은 산화 규소, 산화 알루미늄, 또는 산화 지르코늄 등으로 코팅되어 있다.
본 발명에 따르는 광촉매 복합체는 접착제를 사용하여 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제를 기질의 일부 이상에 배치시킨 후, 접착제를 응고시킴으로써 기질상에 광촉매 입자를 접착시켜 제조할 수 있다. 본 발명에서, 특히 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제를 용매 중에 분산시켜 코팅 조성물을 제조하여 기질상에 코팅 또는 분무하여 기질의 일부 이상에 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제를 배치시킨다. 사용되는 용매는 물 및 톨루엔, 알콜 등과 같은 유기 용매가 있다. 코팅 조성물 중에 함유된 분해성이 적은 접착제는 사용되는 용매에 용해성인 것이 바람직하다. 코팅 조성물 중에 함유된 분해성이 적은 접착제는 플루오르화 중합체 및 실리콘 기재 중합체로 구성된 군으로부터 선택된 1 이상의 중합체가 바람직하다. 광촉매 입자의 양은 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 5 - 98 부피 %, 바람직하게는 20 - 98 부피 %, 보다 바람직하게는 50 - 98 부피 %, 가장 바람직하게는 70 - 98 부피 % 이다. 코팅 조성물은 가교 결합제, 분산제 및 충전제를 사용하여 제제할 수 있다. 사용되는 가교 결합제는 통상적으로 이소시아네이트계, 멜라민계 중의 하나이고, 사용되는 분산제는 커플링제가 있다. 특히, 코팅 조성물중의 광촉매 입자의 함량이 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 40 - 98 부피 % 이고, 커플링제와 함께 코팅 조성물을 제제하는 것이 바람직하다. 첨가되는 커플링제의 양은 바람직하게는 5 - 50 %, 보다 바람직하게는 7 - 30 % 이다.
코팅 조성물의 도포는 침액, 딥 (dip) 코팅, 스핀 코팅, 블레이드 (blade) 코팅, 롤러 (roller) 코팅, 와이어 바 (wire bar) 코팅, 반전 롤 (reversal roll) 코팅 또는 분무 코팅과 같은 통상적인 코팅 기술중의 하나에 따라 코팅 또는 분무에 의해 기질의 일부 이상에 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제를 배치시킴에 의해 수행할 수 있다. 필요하다면, 기질상에 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제를 코팅 또는 분무에 의해 도포하기 전에, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지 등과 같은 유기 접착제, 또는 상기 기재한 바와 같은 분해성이 적은 접착제를 기질상에 코팅 또는 분무하여 제 1 층을 형성한 후, 이 제 1 층상에 코팅 조성물을 코팅 또는 분무하여 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제로 구성된 제 2 층을 제공한다. 유기 접착제는 통상적으로 사용되는 종류를 사용할 수 있다.
코팅 또는 분무 후, 조성물을 응고시켜 본 발명의 광촉매 복합체를 제조한다. 응고는 건조, 자외선 조사, 가열, 냉각, 또는 가교 결합제를 사용하는 기술에 의해 수행할 수 있으며, 400℃ 이하에서, 바람직하게는 실온에서 200℃ 의 온도에서 수행할 수 있다. 이러한 점에서, 400℃ 이상의 온도에서는 광촉매 입자가 유리시키기 쉬운 접착제의 바람직하지 않은 열분해를 일으킬 수 있다. 본 발명에서는 이소시아네이트계 및 멜라민계의 가교결합제를 사용하여 응고시키는방법을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르는 광촉매 복합체는 밴드 갭 에너지 이상에 해당하는 파장의 광을 조사시켜 광촉매 입자의 부근에서 부패성 물질, 악취성 물질 및 오일성 물질을 함유하는 생성물의 정제 및 소독뿐만 아니라 이러한 물질을 분해시킨다. 노출용으로 사용하는 방사광은 예를 들면, 태양광과 같은 자외선광, 형광 램프, 흑색 램프, 할로겐 램프, 제논 플래쉬 (zenon flash) 램프, 수은 램프 등의 광선이 있다. 특히, 300 - 400 nm 의 근자외선을 포함하는 광선이 바람직하다. 광선과 함께 방사 시간 및 세기는 처리되는 물질의 양에 의존하여 통상적으로 결정할 수 있다.
본 발명을 하기 실시예를 참고로 설명할 것이다.
실시예 1
황산 티타늄 (CS - N, Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 제조) 의 열 가수분해에 의하여 수득된 산성 이산화 티타늄 졸에 수산화 나트륨을 가해 pH 를 7 로 조정하고, 여과, 세척한다. 그후, 생성 산화 티타늄 웨트 케이크에 물을 가하여 TiO2로 환산하여 100 g/ℓ의 슬러리를 제조한다. 이 슬러리에 수산화 나트륨을 가해 pH 를 10으로 조정한 후, 오토 클레이브 중에서 150℃ 에서 3 시간 동안 열수 처리를 수행한다. 열수 처리 후, 슬러리를 질산을 가해 pH 7 로 중화하고, 여과, 수세한 후, 110℃ 에서 3 시간 동안 건조하여 산화 티타늄을 수득한다.
그후, 하기 명시된 조성물의 혼합물을 페인트 진탕기에서 3 시간 동안 진탕하여 충분한 혼합을 수행한 후, 분산시켜 코팅 조성물을 제조한다. 하기 기재된 LUMIFRON LF 200C 은 주로 비닐에테르 및 플루오로올레핀의 공중합체로 구성된 플루오르화 중합체이다.
산화 티타늄 9.80 g
플루오르화 중합체 (LUMIFRON LF200C, 0.80 g
Asahi Glass Co.,Ltd 제조)
경화제 기재 이소시아네이트 0.16 g
티타늄 커플링제 (PLANEACT 338X, 1.00 g
Ajinomoto Co., Inc 제조)
톨루엔 23.60 ml
상기 제제의 코팅 조성물을 20 cm2의 유리판 상에 코팅시킨 후, 120℃ 에서 20 분 동안 건조시켜 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 A) 를 제조한다. 이 샘플 A 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 90 부피% 이다.
실시예 2
실시예 1 에서 사용된 것과 동일한 산화 티타늄을 사용하여, 하기 명시된 조성물의 혼합물을 페인트 진탕기에서 3 시간 동안 진탕하여 충분한 혼합을 수행한 후, 분산시켜 코팅 조성물을 제조한다.
산화 티타늄 7.64 g
플루오르화 중합체 (LUMIFRON LF200C, 2.36 g
Asahi Glass Co.,Ltd 제조)
경화제 기재 이소시아네이트 0.47 g
티타늄 커플링제 (PLANEACT 338X, 0.76 g
Ajinomoto Co., Inc 제조)
톨루엔 22.50 ml
상기 제제의 코팅 조성물을 20 cm2의 유리판 상에 코팅시킨 후, 120℃ 에서 20 분 동안 건조시켜 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 B) 를 제조한다. 이 샘플 B 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 70 부피% 이다.
실시예 3
실시예 1 에서 사용된 것과 동일한 산화 티타늄을 사용하여, 하기 명시된 조성물의 혼합물을 페인트 진탕기에서 1 시간 동안 진탕하여 충분한 혼합을 수행한 후, 분산시켜 코팅 조성물을 제조한다.
산화 티타늄 9.8 g
무기 접착제 기재 폴리오르가노실록산 2.7 g
(T2202A 및 T2202B 의 3:1 혼합물 ,
Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. 제조)
이소프로필 알콜 21.5 ml
상기 제제의 코팅 조성물을 20 cm2의 유리판 상에 코팅시킨 후, 180℃ 에서 10 분 동안 건조시켜 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 C) 을 제조한다. 이 샘플 C 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 90 부피% 이다.
실시예 4
황산 티타늄 (CS - N, Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 제조) 의 열 가수분해에 의하여 수득된 산성 이산화 티타늄 졸에 수산화 나트륨을 가해 pH 를 7 로 조정하고, 여과, 세척한다. 그후, 생성 산화 티타늄 웨트 케이크를 110℃에서 3 시간 동안 건조시켜 산화 티타늄을 수득한다.
하기 명시된 조성물의 혼합물을 페인트 진탕기에서 3 시간 동안 진탕하여 충분한 혼합을 수행한 후, 분산시켜 코팅 조성물을 제조한다.
산화 티타늄 7.0 g
무기 접착제 기재 폴리오르가노실록산 4.3 g
(T2202A 및 T2202B 의 3:1 혼합물,
Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. 제조)
이소프로필 알콜 22.5 ml
상기 제제의 코팅 조성물을 20 cm2의 유리판 상에 코팅시킨 후, 180℃ 에서 10 분 동안 건조시켜, 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 D) 를 제조한다. 이 샘플 D 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 80 부피% 이다.
비교예 1
실시예 1 에 사용된 것과 동일한 산화 티타늄을 사용하여, 하기 명시된 조성물의 혼합물을 페인트 진탕기에서 1 시간 동안 진탕하여 충분한 혼합을 수행한 후, 분산시켜 코팅 조성물을 제조한다.
산화 티타늄 9.8 g
비닐 아세테이트 - 아크릴 공중합체 0.7 g
(BONCOAT 6290, Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 제조)
물 24.8 ml
상기 제제의 코팅 조성물을 20 cm2의 유리판 상에 코팅시킨 후, 120℃ 에서 10 분 동안 건조시켜, 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 E) 를 제조한다. 이 샘플 E 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 90 부피% 이다.
실시예 및 비교예에서 수득된 광촉매 복합체 (샘플 A - E) 를 각 샘플의 표면상에 자외선 세기 7 mW/cm2의 흑색 광에 노출시킨다. 광촉매 복합체 중의 접착제를 흑색광을 조사시킨 전후의 중량을 칭량하여 중량 손실을 결정한다. 결과로써, 본 발명의 샘플 A - D 에서는 접착제의 분해를 나타내는 어떠한 중량 손실도 관찰되지 않는다. 그러나, 분해성이 적은 접착제를 사용하지 않은 비교예의 샘플 E는 산화 티타늄의 광촉매적 작용에 의해 접착제의 대부분이 분해됨을 나타내는 85 % 의 중량 손실을 나타낸다. 또한, 샘플 E 는 황색으로 되며, 산화 티타늄 입자는 부분적으로 유리됨을 관찰할 수 있다. 실시예의 각 샘플 A 및C 와 비교예의 샘플 E에 흑색광을 조사시킴에 의한 광촉매 복합체 중의 중량 손실의 변화를 제 1 도에 나타낸다. 실시예 1 및 실시예 2 의 각 샘플 A 및 B 는 광촉매 입자의 표면상에 흡착되어 분해성이 적은 접착제 및 광촉매 입자 사이에 다리를 형성하는 커플링제를 함유하여 광촉매 입자가 분해성이 적은 접착제를 덜 분해하도록 직접적 접촉을 피할 수 있다.
다음으로, 본 발명의 각 샘플 A - D 를 3 리터의 유리 용기에 넣고, 악취성 성분으로서 아세트알데히드를 90 ppm 의 농도로 용기에 가한 후, 용기를 봉한다. 그후, 용기를 각 샘플의 표면상에 자외선 세기 14mW/cm2의 수은 램프에 60 분 동안 노출시킨다. 조사 후, 유리 용기 중의 아세트알데히드의 농도를 측정한다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 샘플 A - D 는 산화 티타늄의 광촉매적 작용에 기인하여 아세트알데히드의 효과적인 분해를 나타낸다.
실시예 5
황산 티타늄 (CS - C, Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 제조) 의 열 가수분해에 의해 수득된 산성 이산화 티타늄 졸에 수산화 나트륨을 가해 pH 를 7 로 조정하고, 여과, 세척, 건조한 후, 분쇄하여 산화 티타늄을 제조한다. 0.2 g 산화티타늄, 0.8 g 백시멘트 (Onoda Cement Co., Ltd. 제조) 및 0.7 g 물을 혼합하여 전체를 면적 50 cm2의 유리판 상에 코팅, 실온에서 건조하여 본 발명의 광촉매 복합체를 제조한다 (샘플 F). 이 샘플 F 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 17 부피 % 이다.
실시예 6
백시멘트 대신에 0.8 g DENCA 고 알루미나 시멘트 (Hi, DENKI KAGAKU KOGYO K.K. 제조) 를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 5 와 동일한 방법을 반복하여 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 G) 를 제조한다. 이 샘플 G 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 17 부피 % 이다.
비교예 2
실시예 5 에서 사용한 것과 동일한 1.0 g 백시멘트 및 0.7 g 물을 혼합하고, 전체를 면적 50 cm2의 유리판 상에 코팅, 건조하여 샘플 H 을 제조한다.
비교예 3
실시예 6 에서 사용한 것과 같은 1.0 g DENCA 고 알루미나 시멘트 및 0.7 g 물을 혼합하고 전체를 면적 50 cm2의 유리판 상에 코팅, 건조하여 샘플 I 을 제조한다.실시예 및 비교예의 각 샘플 F - I 를 4 리터 용기에 넣고 표준 일산화 질소 기체를 용기로 주입한다. 그후, 용기를 각 샘플의 표면상에서 자외선 세기 1 mW/cm2의 흑색광에 노출시키고, 유리 용기내의 NOx 기체의 농도를 NOx 센서 (11L, GASTEC Co. Ltd 제조) 를 사용하여 시간과 함께 측정한다. 결과를 표 2 에 나타낸다. 실시예 5 및 실시예 6 의 샘플 F 및 G 는 NOx 기체 농도의 큰 감소를 일으키는 반면, 비교예 2 및 비교예 3의 샘플 H 및 I 는 NOx 기체 농도에서 거의 변화를 일으키지 않는다. 이 점으로부터 본 발명의 광촉매는 그의 산화에 의해 일산화 질소를 제거하는 데 효과적이다. 상기 기술한 방법에서 시멘트의 중량 손실을 측정하기 위해 각 샘플 F 및 G 중의 시멘트의 중량을 측정한다. 시멘트의 분해가 없음을 나타내는 중량 손실 없음이 관찰된다.
실시예 7
실시예 1 과 동일한 방법을 반복하여 수득된 코팅 조성물을 표면적 100 cm2의 투명한 아크릴 판상에 코팅하고, 120 ℃ 에서 20 분 동안 건조하여 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 J) 를 제조한다. 이 샘플 J 는 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 산화 티타늄의 함량이 90 부피 % 이다.
비교예 4
실시예 7 에서 사용된 것과 동일한 아크릴 판을 사용하여 샘플 K 로서 사용한다.
상기 실시예 및 비교예에서 각 샘플 J 및 K 를 50 리터의 수조의 내벽상에 넣는다. 수조에 물 45 리터 및 20 마리 금붕어 (Wakin) 를 넣고, 외부에서 20 W 형광 램프에서 광선을 조사시킨다.
금붕어를 2 주 동안 기른 후, 비교예 4 의 샘플 K 의 표면상에 조류가 침착된 반면, 실시예 7 의 샘플 J 의 표면상에는 조류가 관찰되지 않는다. 이것은 실시예 7 의 샘플 J 의 표면상에 조류가 침착된 경우라도, 광촉매적 작용에 의해 즉시 제거되기 때문이다. 상기 기재한 방법에서, 샘플 J 중의 플루오르화 중합체의 중량 손실을 측정한다. 플루오르화 중합체의 분해됨을 나타내는 어떠한 중량 손실도 관찰되지 않는다.
실시예 8
하기 명시된 조성물의 혼합물을 페인트 진탕기에서 1 시간 동안 진탕하여 충분한 혼합을 수행하고, 분산시켜 코팅 조성물을 제조하고, 스핀 코우터 (1000 r.p.m. x 10 sec) 를 사용하여 투명한 아크릴 판상에 코팅하고, 그의 표면상에 광촉매 입자가 존재하지 않는 분해성이 적은 접착제로 구성된 제 1 층이 있는 생성된 투명한 아크릴 판을 기질로 사용하는 것을 제외하고 실시예 7 과 동일한 방법을 반복하여, 본 발명의 광촉매 (샘플 L) 을 제조한다. 상기 샘플 L 의 제 2 층 중의 광촉매 입자의 산화 티타늄의 함량은 산화 티타늄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 90 부피 % 이다.
광촉매적 작용이 없는 산화 티타늄 3.3 g
(CR - 90, Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd 제조)
플루오르화 중합체 (LUMIFRON LF200C, 5.5 g
Asahi Glass Co., Ltd 제조)
경화제 기재 이소시아네이트 1.1 g
톨루엔 20.7 ml
상기 방법에서 샘플 L 을 위해 사용된 접착제의 중량 손실의 측정은 본 발명의 샘플 L 의 중량 변화가 없음을 나타내고, 접착제는 분해되지 않으며 산화 티타늄 광촉매 입자가 기질로부터 유리되지 않음을 나타낸다. 실시예 8의 샘플 L 의 필름 강도는 연필 경도로서 3 H 이며, 이것은 광촉매 입자가 견고하게 접착되어 있음을 나타내는 것이다. 더욱이, 샘플 L을 유수 중에 놓고, 외부에서 자외선 세기 2 mW/cm2으로 조사시키는 방식으로 3 주 동안 흑색광으로 조사시킨다. 그러나, 기질에서 산화 티타늄 촉매 입자의 유리는 관찰되지 않는다.
실시예 9
산화 티타늄 대신에 아연 화합물을 사용하여 코팅한 산화 티타늄 입자를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일한 방법을 반복하여 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 M) 를 제조한다. 이 샘플 M 중의 아연 화합물로 코팅된 광촉매 산화 티타늄 입자의 함량은 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 90 부피 % 이다.
아연 화합물로 코팅된 산화 티타늄 입자는 하기와 같이 제조한다:
황산 티타늄을 열 가수분해하여 수득된 산화 티타늄의 슬러리에 물 및 수산화 나트륨을 가하여, pH 가 10 이고 TiO2로 환산하여 100 g/ℓ 를 가지는 슬러리를 형성한다. 이 슬러리를 150℃ 의 오토 클레이브에서 5 시간 동안 열수처리시킨 후, 질산으로 중화하고, 여과, 수세한다. 생성 산화 티타늄 웨트 케이크에 물을 가하여 TiO2로 환산하여 100 g/ℓ를 함유하는 슬러리를 제조한다. 생성 슬러리에 염산을 가하여 pH 4 의 슬러리를 형성시킨다. 교반하에서 이 슬러리 1 리터에 7.2 ml 의 1 mol/ℓ 염화 아연 수용액을 적가한다. 그후, 슬러리를 2N 수산화 나트륨 용액으로 중화하고, 여과, 수세한다. 그후, 결과 생성물을 120 ℃ 에서 16 시간 동안 건조하고, 분쇄시켜 그 위에 ZnO:TiO2가 1:99 인 아연 화합물을 함유하는 산화 티타늄 입자를 형성시킨다.
실시예 10
산화 티타늄 대신에 철 화합물을 사용하여 코팅한 산화 티타늄 입자를 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일한 방법을 반복하여 본 발명의 광촉매 복합체 (샘플 N) 를 제조한다. 이 샘플 N 중의 아연 화합물로 코팅된 광촉매 산화 티타늄 입자의 함량은 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 90 부피 % 이다.
철 화합물로 코팅된 산화 티타늄 입자는 하기와 같이 제조한다:
황산 티타늄을 열 가수분해하여 수득된 10 g 산화 티타늄을 사용하여 TiO2로 환산하여 100 g/ℓ의 슬러리를 형성한다. 이 슬러리에 농도 5 g/ℓ 의 2.9 ml 염화 철 수용액 (FeCl3·6H2O) 를 가하고 1 시간 동안 교반을 계속한다. 이 슬러리에 희석된 암모니아 수용액을 가하여 pH 7 로 조정한다. 슬러리를 1 시간 동안 교반한 후, 슬러리를 여과하고, 수세, 110℃ 에서 3 시간 동안 건조하여 철 화합물로 코팅된 산화 티타늄 입자를 수득한다.
이 산화 티타늄 입자는 Fe/TiO2가 300 ppm 인 철 화합물을 함유한다.
실시예 11
염화 철 수용액의 농도가 50 g/ℓ인 것을 제외하고, 실시예 10과 동일한 방법을 반복하여 본 발명의 광촉매 (샘플 O)를 제조한다. 이 샘플 O 에서 철 화합물로 코팅된 광촉매 산화 티타늄 입자의 함량은 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 90 부피 % 이다.
이 산화 티타늄 입자는 Fe/TiO2가 3000 ppm 의 철 화합물을 함유한다.
실시예 12
8.9 g TiO2및 0.5 g 활성탄을 사용하는 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법을 반복하여 본 발명의 광촉매 (샘플 P) 를 제조한다. 이 샘플 P 의 활성탄 및 산화 티타늄의 총량을 기준으로 산화 티타늄, 활성탄 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 90 부피 % 이다.
실시예 13
활성탄을 0.8 g 의 제올라이트로 교체하는 것을 제외하고, 실시예 12와 동일한 방법을 반복하여 본 발명에 따르는 광촉매 복합체 (샘플 Q) 를 제조한다. 산화 티타늄 및 제올라이트의 총량은 산화 티타늄, 제올라이트 및 분해성이 적은 접착제의 총량을 기준으로 90 부피% 이다.
각 샘플 L - Q 에서 분해성이 적은 접착제의 관찰은 중량 손실이 없음을 나타낸다. 다시 말하면, 각 샘플 L - Q 에서 분해성이 적은 접착제는 분해되지 않고, 산화 티타늄 입자는 기질로부터 유리되지 않음을 나타낸다.
다음으로, 본 발명의 각 샘플 A, N 및 O 를 0.8 리터 유리 용기에 넣고, 악취성 성분으로서 아세트알데히드를 용기에 가해 농도 100 ppm 이 되도록 한 후, 용기를 봉한다. 그 후, 용기를 30 분 동안 방치한 다음, 각 샘플의 표면에 자외선 세기 1 mW/cm2의 흑색광으로 60 분 동안 조사시킨다. 조사 후, 유리 용기 중의 아세트알데히드의 농도를 측정한다. 결과를 표 3 에 나타낸다. 샘플 A, N 및 O 는 산화 티타늄의 광촉매적 작용으로 아세트알데히드를 효과적으로 분해한다.
그후, 샘플 M, P 및 Q 를 각각 0.8 리터 유리 용기에 분리하여 넣는다. 악취성 메틸메르캅탄을 유리 용기에 농도가 500 ppm 이 되도록 가한다. 그후,용기를 봉한다. 용기를 2 시간 동안 방치한 다음, 각 샘플의 표면에 자외선 세기 1 mW/cm2의 흑색광으로 60 분 동안 조사시킨다. 조사 후, 유리 용기 중의 메틸메르캅탄의 농도를 측정한다. 결과를 표 4 에 나타낸다. 표 4 를 통해, 샘플 M, P 및 Q 는 광촉매 입자의 작용으로 메틸메르캅탄을 효과적으로 제거한다는 것을 명백하게 알 수 있다.
상기 조사에서, 자외선 조사 없이 2 시간 동안 방치한 용기중의 메틸메르캅탄의 농도는 각 샘플 250 ppm 이다. 자외선 조사 없이 1 시간 동안 더 방치한 용기 중의 메틸메르캅탄의 농도는 샘플 M 및 Q 에 대하여 240 ppm, 샘플 P 에 대하여 220 ppm 이다.
본 발명의 광촉매 복합체는 분해성이 적은 접착제를 통해 접착된 광촉매 입자를 함유하는 기질로 구성되며, 광촉매적 작용에 기인하여 접착제의 분해를 거의 일으키지 않는다. 본 발명은 광촉매 작용을 잃지 않고 기질상에 광촉매 입자의 견고한 접착을 가능하게 한다. 본 발명의 광촉매 복합체의 활용은 부패성 물질, 악취성 물질, 오일성 조성물, 박테리아, 방사선균, 곰팡이, 조류 등의 효과적이고 신속한 제거를 가능하게 한다. 따라서, 광촉매 복합체는 가정 및 공장에서 탈취제 및 소독제로서 매우 유용하다. 또한, 본 발명의 광촉매 복합체는 장기간 동안 사용할 수 있으며, 높은 안정도를 가지고, 부패성 물질의 광범위한 분야에 사용할 수 있고, 환경을 오염시키지 않고 사용할 수 있다. 따라서, 공업적으로 유용하다. 본 발명에 따른 광촉매 복합체의 제조 방법에 있어서, 분해성이 적은 접착제로서 플루오르화 중합체를 사용하면 바람직한 광촉매 복합체를 제조할 수 있게 하고, 플루오르화 중합체의 약한 부착력으로 인해 그의 표면에서 먼지 및 오염물을 흡착시키는 경향이 더 작다.
본 발명의 광촉매 복합체를 제조하는 방법은 기질로서 플라스틱과 같은 물질을 사용할 수 있으며 편리하고 용이하게 균질의 광촉매 복합체를 제조하는 유용한 방법이다.
본 발명의 코팅 조성물을 어떠한 형태의 기질상에 또는 그의 원하는 면에 코팅 또는 분무시켜, 광촉매적 작용을 용이하게 활용할 수 있다. 따라서, 특히 가정용으로 유용하다.

Claims (9)

  1. 광촉매 기능을 가지는 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 혼합물을 기질상에 접착시킨 광촉매 복합체에, 상기 광촉매 입자의 밴드캡(band gap) 이상의 에너지를 갖는 파장의 광을 조사하면서 NOx 를 포함하는 기체를 접촉시키는 것을 특징으로 하는 NOx 기체의 제거방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 광촉매 기능을 가지는 광촉매 입자의 양이, 광촉매 입자와 분해성이 적은 접착제의 총량에 대한 용적 기준으로 5 내지 40 % 인 광촉매 복합체를 사용하는 것을 특징으로 하는 NOx 기체의 제거방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 기질상에, 접착제로 이루어지고 광촉매 입자를 함유하지 않는 제 1 층을 설계하고, 또한 제 1 층상에, 광촉매 기능을 가지는 광촉매 입자 및 분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 제 2 층을 설계하여 이루어지는 광촉매 복합체를 사용하는 것을 특징으로 하는 NOx 기체의 제거방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 광촉매 기능을 가지는 광촉매 입자가, 광촉매 입자의 내부 및/또는 그의 표면에, 제 2 성분으로서 V, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ru, Rh, Pd, Ag, Pt 및 Au 금속 및 이들의 금속 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 함유하여 이루어진 입자인 광촉매 복합체를 사용하는 것을 특징으로 하는 NOx 기체의 제거방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 광촉매 기능을 가지는 광촉매 입자가 산화 티타늄인 광촉매 복합체를 사용하는 것을 특징으로 하는 NOx 기체의 제거방법.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
KR1020000057263A 1993-06-28 2000-09-29 분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 광촉매 복합체를 이용한 NOx 기체의 제거방법 KR100330955B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18183493 1993-06-28
JP93-181834 1993-06-28
JP93-291212 1993-10-26
JP29121293 1993-10-26

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940014865A Division KR100327997B1 (ko) 1993-06-28 1994-06-27 광촉매복합체및그의제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100330955B1 true KR100330955B1 (ko) 2002-04-03

Family

ID=26500844

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940014865A KR100327997B1 (ko) 1993-06-28 1994-06-27 광촉매복합체및그의제조방법
KR1020000057263A KR100330955B1 (ko) 1993-06-28 2000-09-29 분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 광촉매 복합체를 이용한 NOx 기체의 제거방법
KR1020010062569A KR100350256B1 (ko) 1993-06-28 2001-10-11 광촉매 복합체 및 그의 제조방법

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940014865A KR100327997B1 (ko) 1993-06-28 1994-06-27 광촉매복합체및그의제조방법

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010062569A KR100350256B1 (ko) 1993-06-28 2001-10-11 광촉매 복합체 및 그의 제조방법

Country Status (14)

Country Link
US (3) US5547823A (ko)
EP (4) EP1157742B1 (ko)
JP (2) JP2918787B2 (ko)
KR (3) KR100327997B1 (ko)
CN (2) CN1062194C (ko)
AT (4) ATE234679T1 (ko)
AU (1) AU676299B2 (ko)
CA (2) CA2126418C (ko)
DE (4) DE69433122T2 (ko)
DK (4) DK1157741T3 (ko)
ES (1) ES2169460T3 (ko)
MY (1) MY111700A (ko)
SG (1) SG73361A1 (ko)
TW (1) TW279175B (ko)

Families Citing this family (339)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU676299B2 (en) 1993-06-28 1997-03-06 Akira Fujishima Photocatalyst composite and process for producing the same
JP3653761B2 (ja) * 1994-11-11 2005-06-02 東陶機器株式会社 光触媒を有する部材の形成方法
US5849200A (en) * 1993-10-26 1998-12-15 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
TW431907B (en) * 1994-02-07 2001-05-01 Ishihara Sangyo Kaisha Method of removing harmful materials
JP3693363B2 (ja) * 1994-03-30 2005-09-07 松下エコシステムズ株式会社 光触媒層を形成する担持方法
JP3729880B2 (ja) * 1994-10-27 2005-12-21 松下エコシステムズ株式会社 二酸化チタン粒子の担持方法
US6387844B1 (en) 1994-10-31 2002-05-14 Akira Fujishima Titanium dioxide photocatalyst
JP3282184B2 (ja) * 1994-11-16 2002-05-13 東陶機器株式会社 光触媒機能材及びその製造方法
DE69610232T2 (de) * 1995-02-15 2001-03-01 Kuraray Co Deodorisierende Fasern und Verfahren zu ihrer Herstellung
US6830785B1 (en) 1995-03-20 2004-12-14 Toto Ltd. Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with a superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof
DK1304366T4 (da) * 1995-03-20 2013-01-14 Toto Ltd Anvendelse af en overflade, der er gjort fotokatalytisk superhydrofil med dug-hindrende virkning
JP3094897B2 (ja) * 1995-03-20 2000-10-03 東陶機器株式会社 フッ素樹脂部材表面の親水化方法
JPH09129012A (ja) * 1995-03-31 1997-05-16 Toshiba Lighting & Technol Corp 光触媒体、蛍光ランプおよび照明器具
JPH08318166A (ja) * 1995-05-25 1996-12-03 Agency Of Ind Science & Technol 固定化光触媒及び光触媒の固定化方法
US5686372A (en) * 1995-05-26 1997-11-11 University Technologies International Inc. Photocatalyst with modified alkyl silicate ester support and process for production thereof
WO1996040430A1 (en) * 1995-06-07 1996-12-19 Wisconsin Alumni Research Foundation Method for making and using platinized microporous ceramic materials
US5875384A (en) * 1995-06-12 1999-02-23 California Institute Of Technology TiO2 -coated fiber optic cable reactor
JP3461227B2 (ja) * 1995-06-16 2003-10-27 チタン工業株式会社 二酸化チタンを含有したシリカ膜を有する物品
JPH09613A (ja) * 1995-06-16 1997-01-07 Titan Kogyo Kk 機能性物質粉末を含有したシリカ膜を有する物品
ATE391553T1 (de) 1995-06-19 2008-04-15 Nippon Soda Co Trägerstruktur mit photokatalysator und photokatalytisches beschichtungsmaterial
US6037157A (en) * 1995-06-29 2000-03-14 Abbott Laboratories Method for improving pharmacokinetics
JPH0978454A (ja) * 1995-07-08 1997-03-25 Toto Ltd 屋外用シート製品
JPH0938191A (ja) * 1995-07-31 1997-02-10 Toyoda Gosei Co Ltd 抗菌脱臭シート
JP4295833B2 (ja) * 1995-07-31 2009-07-15 東芝ライテック株式会社 ガラス成形体の製造方法
JP3652742B2 (ja) * 1995-09-04 2005-05-25 株式会社竹中工務店 無機粒状材料及びその製造方法
FR2738813B1 (fr) * 1995-09-15 1997-10-17 Saint Gobain Vitrage Substrat a revetement photo-catalytique
KR100377606B1 (ko) * 1995-09-15 2003-08-25 로디아 쉬미 이산화티타늄-기재광촉매코팅기판,및이산화티타늄-기재유기분산액
JPH09100437A (ja) * 1995-10-05 1997-04-15 Yamagata Pref Gov Techno Porisu Zaidan 塗料組成物
JP2939524B2 (ja) * 1995-10-16 1999-08-25 工業技術院長 光触媒シート及びその製造方法
JPH09173783A (ja) * 1995-10-27 1997-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 板ガラスと樹脂板とその製造方法と汚染物質の除去方法
JP2991096B2 (ja) * 1995-12-15 1999-12-20 松下電器産業株式会社 光触媒を備えた有底容器と成形方法
JP3647954B2 (ja) * 1995-12-20 2005-05-18 日本曹達株式会社 光触媒担持照明用光源
JPH09227779A (ja) * 1995-12-22 1997-09-02 Toto Ltd 建築用ゴム部材及びその表面の親水性付与方法
JPH09231821A (ja) * 1995-12-22 1997-09-05 Toto Ltd 照明器具及び照度維持方法
JP3930591B2 (ja) * 1995-12-22 2007-06-13 東陶機器株式会社 光触媒性親水性コーティング組成物、親水性被膜の形成方法および被覆物品
JP2004306036A (ja) * 1995-12-22 2004-11-04 Toto Ltd 光触媒性親水性部材
US5786414A (en) * 1995-12-22 1998-07-28 Toto Ltd. Building rubber members and method for imparting hydrophilic surface thereto
US6090489A (en) * 1995-12-22 2000-07-18 Toto, Ltd. Method for photocatalytically hydrophilifying surface and composite material with photocatalytically hydrophilifiable surface
DE19600681C1 (de) * 1996-01-10 1997-09-18 Linde Ag Aus einem Schichtverbund bestehende katalytisch wirkende Beschichtung, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JP3274054B2 (ja) * 1996-01-22 2002-04-15 東芝キヤリア株式会社 空気調和機
JP3844823B2 (ja) * 1996-01-22 2006-11-15 財団法人石油産業活性化センター 光触媒、光触媒の製造方法および光触媒反応方法
JP3732279B2 (ja) * 1996-08-06 2006-01-05 三菱マテリアル株式会社 舗装用ＮＯｘ 浄化ブロック
JP3319301B2 (ja) * 1996-09-24 2002-08-26 三菱マテリアル株式会社 粗面化したｎｏｘ 浄化ブロック
JP3293449B2 (ja) * 1996-02-26 2002-06-17 三菱マテリアル株式会社 Ｎｏｘ 浄化用混練物を適用する方法
JP3622404B2 (ja) * 1996-02-29 2005-02-23 東芝ライテック株式会社 表示ユニット
JPH09234375A (ja) * 1996-03-01 1997-09-09 Mitsubishi Paper Mills Ltd 光反応性有害物除去材
JPH09249871A (ja) * 1996-03-14 1997-09-22 Toli Corp Ltd 防汚消臭構造およびそれを利用した内装材
US5939194A (en) * 1996-12-09 1999-08-17 Toto Ltd. Photocatalytically hydrophilifying and hydrophobifying material
JP3690864B2 (ja) 1996-03-29 2005-08-31 株式会社ティオテクノ 光触媒体の製造法
JPH09271731A (ja) * 1996-04-08 1997-10-21 Toto Ltd 被対象物質除去方法
DE19613992A1 (de) * 1996-04-09 1997-10-16 Agfa Gevaert Ag Farbfotografisches Silberhalogenidmaterial
JPH09277463A (ja) * 1996-04-09 1997-10-28 Dainippon Printing Co Ltd 抗菌化粧シート
JP3778307B2 (ja) * 1996-04-30 2006-05-24 富士電機システムズ株式会社 光触媒体及びこれを用いた水処理方法
JP3291678B2 (ja) * 1996-05-08 2002-06-10 三菱マテリアル株式会社 Ｎｏｘ 浄化用吸音部材
JPH09303576A (ja) * 1996-05-14 1997-11-25 Ngk Spark Plug Co Ltd セラミックバルブ
JP3384930B2 (ja) * 1996-05-16 2003-03-10 日新製鋼株式会社 光触媒被覆金属板の製造方法
US6472346B1 (en) * 2000-01-25 2002-10-29 University Of Central Florida Photocatalytic nuisance organism inhibitor agents
JP4169762B2 (ja) * 1996-05-27 2008-10-22 日東電工株式会社 防汚フィルムおよびその製造方法
JP3797743B2 (ja) * 1996-05-27 2006-07-19 日東電工株式会社 防汚フィルムの製造方法
JP3860252B2 (ja) * 1996-05-28 2006-12-20 独立行政法人産業技術総合研究所 光触媒シート
JP3759651B2 (ja) * 1996-05-28 2006-03-29 日本パーカライジング株式会社 光触媒表面を有する樹脂または樹脂被覆材料およびその製造方法
CN1303173C (zh) * 1996-05-31 2007-03-07 东陶机器株式会社 防污性构件及防污涂层组合物
JPH10363A (ja) * 1996-06-13 1998-01-06 Dainippon Toryo Co Ltd 光化学活性を有する塗膜の形成方法
JP3786474B2 (ja) * 1996-07-02 2006-06-14 四郎 緒方 光触媒シート材
DK0913447T3 (da) * 1996-07-19 2006-06-19 Toto Ltd Fotokatalytisk hydrofil coatingsammensætning
US6165256A (en) * 1996-07-19 2000-12-26 Toto Ltd. Photocatalytically hydrophilifiable coating composition
JPH1081840A (ja) * 1996-07-19 1998-03-31 Toto Ltd 光触媒性親水性塗料組成物
DE69732285D1 (de) * 1996-08-05 2005-02-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd Photokatalysator und methode zu seiner herstellung
JP3863599B2 (ja) 1996-08-06 2006-12-27 株式会社ティオテクノ アモルファス型過酸化チタンのコーティング方法
JPH1043549A (ja) * 1996-08-06 1998-02-17 Mitsubishi Materials Corp Ｎｏｘ 浄化部材の製造方法
IT1286492B1 (it) * 1996-08-07 1998-07-15 Italcementi Spa Legante idraulico con migliorate proprieta' di costanza di colore
US6238738B1 (en) * 1996-08-13 2001-05-29 Libbey-Owens-Ford Co. Method for depositing titanium oxide coatings on flat glass
JPH1088061A (ja) * 1996-09-10 1998-04-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> フッ素樹脂塗料及びその塗膜
JP3949788B2 (ja) * 1996-09-17 2007-07-25 大野 隆司 物品収納容器
JP4305001B2 (ja) * 1996-09-20 2009-07-29 株式会社日立製作所 光触媒薄膜を備えた物品
JPH10102722A (ja) * 1996-09-26 1998-04-21 Toto Ltd 防汚性外壁用建材
ATE271918T1 (de) * 1996-10-08 2004-08-15 Nippon Soda Co Photokatalytische überzugszusammensetzung und photokatalysator enthaltendes system
JPH10130037A (ja) * 1996-10-24 1998-05-19 Toto Ltd 防汚性と水滴付着防止性を兼ね備えた乗物用窓ガラス
JPH10130540A (ja) * 1996-10-28 1998-05-19 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 粉体塗料及び塗膜及び塗装方法
JP2920204B2 (ja) * 1996-10-31 1999-07-19 工業技術院長 雑菌繁殖防止複合材料
JPH10128229A (ja) * 1996-11-01 1998-05-19 Toto Ltd 防汚性膜構造材
JPH10137329A (ja) * 1996-11-15 1998-05-26 Sharp Corp 空気浄化膜及びその製造方法
JP3291558B2 (ja) * 1996-11-18 2002-06-10 三菱マテリアル株式会社 光触媒塗料及びその製造方法並びにこれを塗布した塗膜
JP3182107B2 (ja) * 1996-12-13 2001-07-03 松下電工株式会社 機能性塗装品とその製造方法および用途
JP3867382B2 (ja) * 1996-12-17 2007-01-10 日本曹達株式会社 光触媒担持テント地キャンバスおよび光触媒担持テント地キャンバスを使用した構造体
US6106955A (en) * 1997-01-14 2000-08-22 Takenaka Corporation Metal material having photocatalytic activity and method of manufacturing the same
JP3996969B2 (ja) * 1997-01-21 2007-10-24 東レ・ダウコーニング株式会社 シリコーンエラストマーコーティングシート状物およびその製造方法
DE69826342T2 (de) * 1997-02-06 2005-10-06 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Beschichtungszusammensetzungen, hydrophiler Film und mit hydrophilem Film beschichtete Gegenstände
JP3004934B2 (ja) * 1997-02-07 2000-01-31 株式会社鈴寅 消臭性布帛
JPH10237794A (ja) * 1997-02-20 1998-09-08 Titan Kogyo Kk 紙およびその製造方法
JPH10237352A (ja) * 1997-02-24 1998-09-08 Tao:Kk 多機能コーティング剤
JP4672822B2 (ja) * 1997-02-24 2011-04-20 株式会社ティオテクノ 親水性コーティング剤及び表面親水性基体
JP3863620B2 (ja) * 1997-02-24 2006-12-27 株式会社ティオテクノ 光触媒体及びその製造法
JPH10235204A (ja) * 1997-02-27 1998-09-08 Toto Ltd 光触媒性親水性部材
JP3759806B2 (ja) * 1997-02-28 2006-03-29 積水化学工業株式会社 光触媒活性を有する薄膜の形成方法
JP3107202B2 (ja) * 1997-03-13 2000-11-06 大日本塗料株式会社 光化学活性を有する塗膜の形成方法
US6027766A (en) 1997-03-14 2000-02-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same
US6221498B1 (en) 1997-03-14 2001-04-24 Matsushita Electric Works, Ltd. Antifouling silicone emulsion coating-composition, process for producing the same and antifouling article coated therewith
JPH10249210A (ja) * 1997-03-14 1998-09-22 Titan Kogyo Kk 光触媒体及びその製造方法ならびにその用途
US7096692B2 (en) 1997-03-14 2006-08-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same
JPH10316820A (ja) * 1997-03-18 1998-12-02 Toto Ltd 超撥水性表面を有する部材及び超撥水性コ−ティング組成物
JPH10259320A (ja) * 1997-03-18 1998-09-29 Mitsubishi Materials Corp 光触媒塗料およびその製造方法並びにそれを塗布した塗膜
JPH10259324A (ja) * 1997-03-18 1998-09-29 Mitsubishi Materials Corp 光触媒塗料およびその製造方法並びにそれを塗布した塗膜
JP3384945B2 (ja) * 1997-03-26 2003-03-10 日新製鋼株式会社 耐汚染性に優れた塗装金属板及びその製造方法
JP3192606B2 (ja) * 1997-04-03 2001-07-30 四国化成工業株式会社 壁面塗装方法
JP3338627B2 (ja) * 1997-04-09 2002-10-28 株式会社ホンダアクセス 車体または車体取付部品の外表面処理方法
JP3509462B2 (ja) * 1997-04-10 2004-03-22 株式会社ホンダアクセス 光触媒被覆体
JPH10292215A (ja) * 1997-04-15 1998-11-04 Fukujiyu Corp:Kk 機能性人工観賞用植物およびその製造法
US5880067A (en) * 1997-05-20 1999-03-09 University Of Central Florida Photocatalytic surfacing agents with varying oxides for inhibiting algae growth
JP3518251B2 (ja) * 1997-05-20 2004-04-12 株式会社日立製作所 酸化物光触媒薄膜、及びそれを備えた物品
JP3510082B2 (ja) * 1997-05-20 2004-03-22 株式会社日立製作所 低温硬化型高活性酸化物光触媒薄膜を備えた電気製品
US6337129B1 (en) 1997-06-02 2002-01-08 Toto Ltd. Antifouling member and antifouling coating composition
JP3951366B2 (ja) * 1997-06-13 2007-08-01 Ｊｓｒ株式会社 水系分散体
US6406536B1 (en) * 1997-06-19 2002-06-18 Italcementi S.P.A. Organic additives for the preparation of cementitious compositions with improved constancy of color
IT1292378B1 (it) * 1997-06-19 1999-02-08 Italcementi Spa Uso di additivi organici per la preparazione di composizioni cementizie con migliorate proprieta' di costanza di colore
JPH1110784A (ja) * 1997-06-20 1999-01-19 Fuji Shikiso Kk 超微粒子酸化チタン保持体
JPH1110802A (ja) * 1997-06-26 1999-01-19 Achilles Corp 積層シート
JP3384949B2 (ja) * 1997-06-26 2003-03-10 日新製鋼株式会社 耐汚染性に優れた金属パネル
JPH1121511A (ja) * 1997-07-01 1999-01-26 Toto Ltd 光触媒性親水性部材、及び光触媒性親水性塗料組成物
JPH1135851A (ja) * 1997-07-11 1999-02-09 Honda Access Corp 汚染防止膜及びその形成方法
JPH1133413A (ja) * 1997-07-18 1999-02-09 Mitsubishi Materials Corp 大気浄化用構造物の製造方法
FR2766494B1 (fr) * 1997-07-22 2003-09-26 Rhodia Chimie Sa Dispersion de particules de titane comprenant un liant a base d'un polyorganosiloxane
DE69841947D1 (de) * 1997-08-08 2010-11-25 Dainippon Printing Co Ltd Verfahren zur Herstellung einer Linse
JPH1176375A (ja) * 1997-09-12 1999-03-23 Toto Ltd 浴室部材、浴室部材用コーティング組成物及び浴室部材用シート
JPH11100771A (ja) * 1997-09-24 1999-04-13 Toray Ind Inc 繊維構造物
JPH11100543A (ja) * 1997-09-29 1999-04-13 Daikin Ind Ltd 塗料組成物
JPH11100526A (ja) * 1997-09-29 1999-04-13 Toto Ltd 光触媒性親水性部材、及び光触媒性親水性コ−ティング組成物
JPH11114330A (ja) * 1997-10-13 1999-04-27 Mitsubishi Paper Mills Ltd 光触媒フィルター
JPH11116805A (ja) * 1997-10-15 1999-04-27 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化性組成物
JP3963541B2 (ja) * 1997-10-23 2007-08-22 日東電工株式会社 太陽光照射式空気清浄用シート及び空気の浄化方法
JP3800460B2 (ja) * 1997-11-20 2006-07-26 清水建設株式会社 コンクリートからのアウトガス抑制方法およびアウトガス抑制部材
JPH11152447A (ja) * 1997-11-21 1999-06-08 Toto Ltd 光触媒被膜形成用表面処理剤及びこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法
KR100253095B1 (ko) * 1997-12-05 2000-04-15 윤종용 반도체소자제조용용수처리설비의광산화처리장치
JP3361046B2 (ja) * 1997-12-15 2003-01-07 三菱マテリアル株式会社 大気浄化用セメント製品
EP1064999B1 (en) 1997-12-25 2009-02-18 JAPAN as Represented by DIRECTOR GENERAL OF AGENCY OF INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY Photocatalyst powder for environmental purification, polymer composition containing the powder and molded article thereof, and processes for producing these
JP4119507B2 (ja) * 1997-12-26 2008-07-16 株式会社ダイショウー 機能性被覆体の製造法
JPH11227091A (ja) * 1998-02-13 1999-08-24 Ne Chemcat Corp 光触媒担持基板の製造法
JP3601651B2 (ja) * 1998-02-19 2004-12-15 大日本塗料株式会社 二酸化チタン含有懸濁重合体ビーズの製造方法及び屋外用塗料組成物の製造方法
FR2776944B1 (fr) * 1998-04-03 2000-05-12 Ahlstrom Paper Group Research Composition photocatalytique
JPH11285643A (ja) * 1998-04-03 1999-10-19 Matsushita Seiko Co Ltd 光触媒脱臭体および光触媒脱臭装置
JP3327207B2 (ja) * 1998-04-06 2002-09-24 信越化学工業株式会社 親水性塗膜を有する物品及びその製造方法
JPH11323188A (ja) * 1998-05-14 1999-11-26 Mitsubishi Materials Corp 光触媒膜およびその形成方法と光触媒塗料
JPH11323192A (ja) * 1998-05-15 1999-11-26 Mitsubishi Materials Corp 帯電防止効果のある光触媒膜とその形成用の光触媒塗料
JP4067177B2 (ja) * 1998-05-21 2008-03-26 小松精練株式会社 消臭、抗菌および防汚機能を有する繊維布帛およびその製造方法
JPH11343006A (ja) * 1998-06-03 1999-12-14 Gifu Plast Ind Co Ltd ゴミ容器用の蓋
FR2779751B1 (fr) * 1998-06-10 2003-11-14 Saint Gobain Isover Substrat a revetement photocatalytique
WO1999064357A1 (fr) * 1998-06-12 1999-12-16 Kabushiki Kaisha Himeka Engineering Appareil a reaction photocatalytique et procede de fixation d'un photocatalyseur
JP3523787B2 (ja) * 1998-06-25 2004-04-26 昭 藤嶋 光触媒層を有する屋外で使用される建築用材料
JP2000027124A (ja) * 1998-07-10 2000-01-25 Japan Highway Public Corp 光触媒を担持した道路付帯設備物構成材及び該道路付帯設備物構成材を用いてなる道路付帯設備物
US6699577B2 (en) 1998-07-29 2004-03-02 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Air purification-functioning road and method for purifying polluted air over road
JP2000110064A (ja) * 1998-07-31 2000-04-18 Toray Ind Inc 機能性を有する繊維構造物
JP2000051334A (ja) * 1998-08-05 2000-02-22 Nitto Denko Corp 通気性光触媒シ−ト及び空気浄化用ユニット
KR20000016856A (ko) 1998-08-05 2000-03-25 가마이 고로 공기정화장치
JP3709719B2 (ja) * 1998-09-02 2005-10-26 東陶機器株式会社 窯業系多機能建材の製造方法
JP2000070673A (ja) * 1998-09-03 2000-03-07 Daido Steel Co Ltd 抗菌脱臭性光触媒型フィルタ及びその製造方法
JP4126778B2 (ja) * 1998-10-09 2008-07-30 Ｊｓｒ株式会社 建材
JP2000119958A (ja) * 1998-10-15 2000-04-25 Toray Ind Inc 機能性繊維構造物
CN1198886C (zh) 1998-10-19 2005-04-27 东陶机器株式会社 防污性材料、其制造方法及用于该方法的涂料组合物和装置
JP2000191943A (ja) * 1998-10-19 2000-07-11 Nts:Kk 塗膜形成組成物及びその製造方法
TW473400B (en) 1998-11-20 2002-01-21 Asahi Chemical Ind Modified photocatalyst sol
US6228796B1 (en) * 1998-12-28 2001-05-08 Orient Chemical Industries, Ltd. Organic-inorganic hybrid materials and processes for preparing the same
JP2000197824A (ja) * 1999-01-08 2000-07-18 Kawasaki Steel Corp 大気浄化用材料
ATE389703T1 (de) * 1999-01-19 2008-04-15 Jsr Corp Verfahren zur herstellung von photokatalysatoren- enthaltenden beschichtungen und photokatalysatoren-enthaltende beschichtungsfilme
JP2000202363A (ja) * 1999-01-19 2000-07-25 Jsr Corp 塗膜の形成方法およびそれより得られる硬化体
JP2000303670A (ja) * 1999-04-20 2000-10-31 Central Glass Co Ltd 抗菌性木質板材
JP2000328439A (ja) * 1999-05-19 2000-11-28 Toray Ind Inc ポリエステル系繊維布帛物
JP2000334309A (ja) * 1999-05-25 2000-12-05 Shinichi Harigai 光触媒
JP2000334308A (ja) * 1999-05-25 2000-12-05 Shinichi Harigai 光触媒用担体及びそれを用いた光触媒
JP2000350908A (ja) * 1999-06-11 2000-12-19 Kanai Hiroaki 油煙粒子捕集用フィルタ材及びこれを用いた換気扇フィルタ
IT1312119B1 (it) 1999-06-25 2002-04-04 Italcementi Spa Uso di preparazioni fotocatalitiche di titanio biossido colloidale per conservare l'aspetto originario di manufatti camentizi,lapidei o
FR2797262B1 (fr) 1999-08-05 2001-12-07 Mci Sa Procede de traitement de materiau architectural
JP3622585B2 (ja) * 1999-08-05 2005-02-23 日本板硝子株式会社 光触媒活性を有する物品
JP2001096154A (ja) * 1999-09-29 2001-04-10 Yamada Sangyo Kk バナジウム酸化物／チタニアハイブリッド光触媒とその製造方法
US6479141B1 (en) 1999-09-30 2002-11-12 Showa Denko K.K. Photocatalytic coating composition and product having photocatalytic thin film
EP1153999B1 (en) * 1999-09-30 2012-05-23 Showa Denko K.K. Photocatalytic coating composition and product having thin photocatalytic film
JP2001105535A (ja) * 1999-10-13 2001-04-17 Hiraoka & Co Ltd 変退色防止性に優れた着色シート
JP3346474B2 (ja) * 1999-10-15 2002-11-18 平岡織染株式会社 防汚性シート
JP3871662B2 (ja) * 1999-11-08 2007-01-24 平岡織染株式会社 雨筋汚れ防止性に優れたテント用防汚性シート
JP3868405B2 (ja) * 1999-11-08 2007-01-17 平岡織染株式会社 雨筋汚れ防止性に優れたテント用防汚性シート
JP2001199014A (ja) * 1999-11-08 2001-07-24 Hiraoka & Co Ltd 防汚性シート
JP3868394B2 (ja) * 1999-11-08 2007-01-17 平岡織染株式会社 雨筋汚れ防止性に優れたテント用防汚性シート
JP4300280B2 (ja) * 1999-12-06 2009-07-22 日東電工株式会社 光触媒体
US6653356B2 (en) * 1999-12-13 2003-11-25 Jonathan Sherman Nanoparticulate titanium dioxide coatings, and processes for the production and use thereof
JP3818811B2 (ja) 1999-12-27 2006-09-06 日本パーカライジング株式会社 空気浄化用光触媒フィルター
EP1273692B1 (en) 2000-02-08 2012-05-23 Nippon Soda Co., Ltd. Photocatalyst-carrying tent cloth canvas and production method therefor
KR20010085420A (ko) * 2000-02-23 2001-09-07 기타지마 요시토시 전계발광소자와 그 제조방법
US6569520B1 (en) † 2000-03-21 2003-05-27 3M Innovative Properties Company Photocatalytic composition and method for preventing algae growth on building materials
JP2001270025A (ja) * 2000-03-27 2001-10-02 Matsushita Electric Works Ltd 無機質塗装板とその製造方法
JP2001347258A (ja) * 2000-04-07 2001-12-18 Yamaha Corp 廃液処理方法とそれに用いる廃液処理装置およびこれを用いた洗浄装置
JP2001302944A (ja) * 2000-04-25 2001-10-31 Nts:Kk 塗膜形成組成物及びその製造方法並びにコーティング膜
EP1291033A4 (en) * 2000-05-15 2005-08-31 Kanagawa Kagaku Gijutsu Akad MEDICAL CARE TUBE AND METHOD OF MAKING SAME
JP2001327872A (ja) * 2000-05-24 2001-11-27 Cleanup Corp 光触媒性被膜及びその製造方法
JP4663065B2 (ja) * 2000-06-09 2011-03-30 日本曹達株式会社 光触媒コーティング剤及び光触媒担持構造体
EP1166871A1 (en) 2000-06-21 2002-01-02 Fuji Photo Film B.V. Photocalytic sheet of film and its manufacturing process
AU2001269489A1 (en) * 2000-07-10 2002-01-21 Mutsuo Himeno Coating composition
JP2002085981A (ja) * 2000-09-14 2002-03-26 Fuji Kihan:Kk 酸素欠乏傾斜構造を有する酸化金属被膜
JP4465841B2 (ja) * 2000-09-21 2010-05-26 富士電機ホールディングス株式会社 有害ガス処理シートとその製造方法
JP2002097013A (ja) * 2000-09-22 2002-04-02 Japan Science & Technology Corp 透明薄膜とその製造方法
AU783565B2 (en) * 2000-10-20 2005-11-10 Sumitomo Chemical Company, Limited Photocatalyst, process for producing the same and photocatalyst coating composition comprising the same
WO2002034966A1 (fr) * 2000-10-23 2002-05-02 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Structure composite et procede et appareil destines a sa fabrication
KR100510620B1 (ko) * 2000-12-28 2005-08-31 도시바 라이텍쿠 가부시키가이샤 탈취장치
JP2001253754A (ja) * 2001-02-26 2001-09-18 Mitsubishi Materials Corp 大気浄化用セメント製品
US6972010B2 (en) * 2001-04-17 2005-12-06 The Procter & Gamble Company Absorbent article comprising an agent able to convey a perception to the wearer, without the need to create the external condition perceived
CN1401085A (zh) * 2001-06-11 2003-03-05 株式会社村上开明堂 防雾元件及其形成方法
US6589625B1 (en) * 2001-08-01 2003-07-08 Iridigm Display Corporation Hermetic seal and method to create the same
US7029707B2 (en) * 2001-10-03 2006-04-18 Herbalscience, Llc Method of producing a processed kava product having an altered kavalactone distribution and processed kava products produced using the same
JP2003126702A (ja) * 2001-10-25 2003-05-07 Yamaha Corp 光触媒顆粒体、その機能回復方法、およびこれらを用いた有害有機物の分解除去装置
JP3763352B2 (ja) * 2001-12-20 2006-04-05 三菱マテリアル株式会社 粗面化したＮＯｘ浄化ブロック及びその製造方法
US7378371B2 (en) * 2001-12-21 2008-05-27 Show A Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
US7414009B2 (en) * 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
JP2003213610A (ja) * 2002-01-25 2003-07-30 Taiheiyo Cement Corp 光触媒担持セメント系組成物の施工方法
CA2477160A1 (en) * 2002-02-28 2003-09-04 Japan Science And Technology Agency Titania nanosheet alignment thin film, process for producing the same and article including the titania nanosheet alignment thin film
JP4296533B2 (ja) * 2002-03-01 2009-07-15 テイカ株式会社 窒素酸化物除去性能にすぐれた酸化チタン光触媒
US7764950B2 (en) * 2002-05-24 2010-07-27 Kodiak Networks, Inc. Advanced voice services architecture framework
AU2002306213A1 (en) * 2002-06-03 2003-12-19 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photocatalyst composition
JP2003089566A (ja) * 2002-07-15 2003-03-28 Mitsubishi Materials Corp 大気浄化用セメント製品
JP3990951B2 (ja) * 2002-07-19 2007-10-17 株式会社 シグナスエンタープライズ 光触媒含有基材
JP2004052423A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Matsushita Electric Works Ltd 光触媒機能建材とその製造方法
KR100679944B1 (ko) * 2002-07-23 2007-02-08 도꾸리쯔교세이호진 상교기쥬쯔 소고겡뀨죠 광촉매 기능을 갖는 수경성 복합재료 및 그 제조방법
US6902397B2 (en) * 2002-08-01 2005-06-07 Sunstar Americas, Inc. Enhanced dental hygiene system with direct UVA photoexcitation
KR100511564B1 (ko) * 2002-08-05 2005-09-02 (주) 세라컴 화학공정 배출 유독가스 및 악취 물질 동시제거용 촉매,이의 제조방법 및 용도
JP4169557B2 (ja) * 2002-09-19 2008-10-22 旭化成ケミカルズ株式会社 光触媒体
JP3840552B2 (ja) * 2002-09-24 2006-11-01 平岡織染株式会社 変退色防止性に優れた着色シート
EP1403357A3 (en) * 2002-09-27 2004-12-29 Osada Giken Co., Ltd. Method for decomposing organic substance
TW200422260A (en) 2002-11-07 2004-11-01 Sustainable Titania Technology Titania-metal complex and method for preparation thereof, and film forming method using dispersion comprising the complex
US7521039B2 (en) * 2002-11-08 2009-04-21 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Photocatalytic rutile titanium dioxide
JP2003231204A (ja) * 2002-12-09 2003-08-19 Toto Ltd 機能材及び機能性コーティング組成物
US20040149307A1 (en) * 2002-12-18 2004-08-05 Klaus Hartig Reversible self-cleaning window assemblies and methods of use thereof
US7666410B2 (en) 2002-12-20 2010-02-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Delivery system for functional compounds
JP4129537B2 (ja) * 2002-12-24 2008-08-06 株式会社遊天セラミックス 複合壁
US6884752B2 (en) * 2002-12-31 2005-04-26 Prizmalite Industries, Inc. Photocatalytically-active, self-cleaning aqueous coating compositions and methods
US20040145060A1 (en) * 2003-01-23 2004-07-29 Dominic Christopher J Laser marking passivation film for semiconductor package
JP4048266B2 (ja) * 2003-01-29 2008-02-20 株式会社ゼンワールド 光触媒組成物の物品表面塗布方法および物品表面塗布剤
JP4306264B2 (ja) * 2003-02-03 2009-07-29 堺化学工業株式会社 アナタース型酸化チタン、組成物及び製造方法
ITMI20030291A1 (it) * 2003-02-18 2004-08-19 Italcementi Spa Massello per pavimentazione fotocatalitica a base cementizia
US20040224145A1 (en) * 2003-05-05 2004-11-11 Weir John Douglas Self-decontaminating or self-cleaning coating for protection against hazardous bio-pathogens and toxic chemical agents
JP2005009784A (ja) * 2003-06-19 2005-01-13 Sanyo Electric Co Ltd 冷却貯蔵庫
US20070000407A1 (en) * 2003-10-09 2007-01-04 York International Corporation Nano composite photocatalytic coating
US7678367B2 (en) 2003-10-16 2010-03-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using metal-modified particles
US7488520B2 (en) 2003-10-16 2009-02-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. High surface area material blends for odor reduction, articles utilizing such blends and methods of using same
US7794737B2 (en) * 2003-10-16 2010-09-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Odor absorbing extrudates
US7754197B2 (en) 2003-10-16 2010-07-13 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using coordinated polydentate compounds
US7879350B2 (en) 2003-10-16 2011-02-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using colloidal nanoparticles
US7413550B2 (en) 2003-10-16 2008-08-19 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Visual indicating device for bad breath
US7438875B2 (en) 2003-10-16 2008-10-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using metal-modified silica particles
US7837663B2 (en) 2003-10-16 2010-11-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Odor controlling article including a visual indicating device for monitoring odor absorption
WO2005083013A1 (en) * 2004-01-30 2005-09-09 Millennium Chemicals Coating composition having surface depolluting properties
JP2005224727A (ja) * 2004-02-13 2005-08-25 Asahi Kasei Chemicals Corp 変性光触媒
JP4624698B2 (ja) * 2004-03-12 2011-02-02 有限会社ヤマカツラボ 光触媒担持ボード
DE102004018338A1 (de) * 2004-04-15 2005-11-10 Sto Ag Beschichtungsmaterial
US7959980B2 (en) * 2004-05-28 2011-06-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Hydrophilic compositions, methods for their production, and substrates coated with such compositions
US7259449B2 (en) * 2004-09-27 2007-08-21 Idc, Llc Method and system for sealing a substrate
US20060076631A1 (en) * 2004-09-27 2006-04-13 Lauren Palmateer Method and system for providing MEMS device package with secondary seal
US20060076634A1 (en) * 2004-09-27 2006-04-13 Lauren Palmateer Method and system for packaging MEMS devices with incorporated getter
EP1652827A1 (fr) * 2004-10-27 2006-05-03 Eurovia Système dépolluant pour espaces confinés
US20060120929A1 (en) * 2004-11-23 2006-06-08 Patrick Ward Quartz gas discharge lamp providing photocatalytic oxidation
US7358211B2 (en) * 2004-11-24 2008-04-15 E.I. Du Pont De Nemours And Company Catalyst for the production of 1,3-propanediol by catalytic hydrogenation of 3-hydroxypropanal
US7763061B2 (en) 2004-12-23 2010-07-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Thermal coverings
JP4716776B2 (ja) * 2005-04-18 2011-07-06 旭化成ケミカルズ株式会社 光触媒体
US7358218B2 (en) 2005-06-03 2008-04-15 Research Foundation Of The University Of Central Florida, Inc. Method for masking and removing stains from rugged solid surfaces
US7625835B2 (en) * 2005-06-10 2009-12-01 Gm Global Technology Operations, Inc. Photocatalyst and use thereof
ITMI20051385A1 (it) * 2005-07-20 2007-01-21 Para S P A Tessuto per esterno avente caratteristiche migliorate e processo per la sua produzione
US7561334B2 (en) * 2005-12-20 2009-07-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and apparatus for reducing back-glass deflection in an interferometric modulator display device
US20070141319A1 (en) * 2005-12-21 2007-06-21 Shulong Li Photocatalytic substrate and process for producing the same
TWI324948B (en) * 2005-12-22 2010-05-21 Ind Tech Res Inst Photocatalystic composite material, method for producing the same and application thereof
US7922950B2 (en) 2006-03-14 2011-04-12 3M Innovative Properties Company Monolithic building element with photocatalytic material
JP2009532312A (ja) * 2006-03-30 2009-09-10 ローディア インコーポレイティド 改質された表面、および表面を改質するための方法
WO2007120887A2 (en) * 2006-04-13 2007-10-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc Packaging a mems device using a frame
WO2007149475A2 (en) * 2006-06-21 2007-12-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method for packaging an optical mems device
EP1878711A1 (en) * 2006-07-10 2008-01-16 Global Engineering and Trade S.p.A. Cementitious surface coating with photocatalytic activity
US7862691B2 (en) * 2006-10-31 2011-01-04 Kusatsu Electric Co., Ltd. Decomposition method of waste plastics and organics
TWI497019B (zh) * 2007-01-30 2015-08-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 烹調器具及其製造方法
US20080187457A1 (en) * 2007-02-05 2008-08-07 Mangiardi John R Antibacterial Titanium Dioxide Compositions
JP4772818B2 (ja) * 2007-03-30 2011-09-14 国立大学法人北海道大学 酸化タングステン光触媒体
CN101679134A (zh) * 2007-05-31 2010-03-24 住友大阪水泥股份有限公司 卫生陶器及其制造方法
US8153547B2 (en) * 2007-06-05 2012-04-10 The University Of Tokyo Photocatalyst material, process for producing the photocatalyst material, and method for decomposing contaminant using the material
KR100925689B1 (ko) * 2007-07-25 2009-11-10 한국생명공학연구원 항체와 나노입자를 세포 내로 동시에 전달할 수 있는다기능성 단백질
DE102007034683A1 (de) * 2007-07-25 2009-01-29 BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH Schichtkörper
US8883084B2 (en) * 2007-07-31 2014-11-11 Carrier Corporation Siloxane removal via silicate formation for lifetime extension of photocatalytic devices
US9358502B2 (en) 2007-08-31 2016-06-07 Cristal Usa Inc. Photocatalytic coating
CN101888905B (zh) * 2007-11-06 2013-07-10 罗迪亚公司 具有位于聚合物表面与改性玻璃表面之间的界面的制品
EP2246304B1 (en) * 2008-01-04 2016-11-30 National University Corporation Kumamoto University Titanium oxide and method of producing the same
KR100945035B1 (ko) * 2008-01-29 2010-03-05 재단법인서울대학교산학협력재단 텅스텐계 산화물을 이용한 가시광 응답형 광촉매 조성물 및 그 제조방법
US7776954B2 (en) * 2008-01-30 2010-08-17 Millenium Inorganic Chemicals, Inc. Photocatalytic coating compositions
JP2009208470A (ja) * 2008-02-04 2009-09-17 Metal Tech:Kk 塗装鋼板
JP2009185107A (ja) * 2008-02-04 2009-08-20 Pialex Technologies Corp 親水性塗料と親水性塗布体
WO2009121396A1 (en) * 2008-03-31 2009-10-08 Rockwood Italia Spa Use of photocatalytically coated particles for decomposition of air pollutants
US20090281207A1 (en) * 2008-05-06 2009-11-12 John Stratton De-polluting and self-cleaning epoxy siloxane coating
JP2010115635A (ja) * 2008-06-05 2010-05-27 Sumitomo Chemical Co Ltd 光触媒体分散液、その製造方法およびその用途
US20100020382A1 (en) * 2008-07-22 2010-01-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Spacer for mems device
FR2934177B1 (fr) * 2008-07-25 2011-06-10 Neoformula Consulting Dev Composition photocatalytique transparente pour elements de construction interieurs et exterieurs des batiments
WO2010021122A1 (ja) * 2008-08-20 2010-02-25 草津電機株式会社 最適な粒子特性を有する酸化チタンの顆粒体を使用した廃プラスチック・有機物の分解方法
DE102009014600C5 (de) † 2009-03-24 2015-04-02 Dyckerhoff Gmbh Photokatalytisch aktivierte Bauteile aus einer mit einem mineralischen Bindemittel gebundenen Matrix sowie Verfahren zur Herstellung der Bauteile
ITLO20090001A1 (it) * 2009-04-16 2010-10-17 Walter Navarrini Fotocatalizzatori autopulenti a base di ossido di titanio e metodo per la loro produzione
CN101530789B (zh) * 2009-04-16 2011-05-04 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 纳米二氧化钛复合光催化剂及其制备方法
KR101143474B1 (ko) * 2009-07-29 2012-05-08 주식회사 이건창호 이산화티탄 제조 방법과 이 방법을 이용한 염료 감응 태양 전지 제조 방법
JP2011224534A (ja) * 2009-09-16 2011-11-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 光触媒複合体、およびこれを用いた光触媒機能製品
US8379392B2 (en) 2009-10-23 2013-02-19 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light-based sealing and device packaging
CN102821944A (zh) 2009-11-16 2012-12-12 塔姆网络株式会社 光催化剂涂层
JP5636705B2 (ja) * 2010-03-16 2014-12-10 株式会社Ｌｉｘｉｌ 抗菌機能材
JP5627006B2 (ja) * 2010-06-10 2014-11-19 三井化学株式会社 光触媒およびその製造方法
JP2013198826A (ja) 2010-07-23 2013-10-03 Toto Ltd 光触媒層を備えてなる複合材の使用
WO2012014877A1 (ja) 2010-07-29 2012-02-02 Toto株式会社 光触媒塗装体および光触媒コーティング液
CN102153318B (zh) * 2010-12-10 2012-11-21 山东宏艺科技股份有限公司 光催化水泥基材料的制备方法和光催化剂的制备方法
WO2012105407A1 (ja) * 2011-02-02 2012-08-09 シャープ株式会社 触媒担持多孔質膜、触媒部材、空気清浄機、および、触媒担持多孔質膜の作製方法
DE102011017090B3 (de) * 2011-04-14 2012-08-30 Kronos International Inc. Verfahren zur Herstellung eines Photokatalysators auf Basis von Titandioxid
TW201243384A (en) * 2011-04-27 2012-11-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Touch screen
US9517459B2 (en) * 2011-06-07 2016-12-13 Daicel Corporation Photocatalytic coating film and method for producing same
MX341100B (es) 2011-06-17 2016-08-08 Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp Metal con superficie tratada y metodo para producirlo.
KR101691136B1 (ko) 2012-05-30 2016-12-29 니폰샤신인사츠가부시키가이샤 시인성과 내구성이 우수한 정전 용량 투명 터치 시트
US20140183141A1 (en) 2012-12-31 2014-07-03 Ms. Deepika Saraswathy Kurup Photocatalytic Composition for Water Purification
GB201412383D0 (en) * 2014-07-11 2014-08-27 Univ Aberdeen A method of photocatalytically oxidising nitrogen oxides
DE102015114757A1 (de) 2014-09-04 2016-03-10 Seoul Viosys Co., Ltd Photokatalytischer filter, verfahren zu dessen herstellung und verfahren zu dessen reaktivierung
TWI609718B (zh) * 2014-09-30 2018-01-01 首爾偉傲世有限公司 用於降解混合氣體的光催化過濾器及其製造方法
WO2016125175A1 (en) 2015-02-08 2016-08-11 Yissum Research Development Company Of The Hebrew University Of Jerusalem Ltd. Additive-incorporated building materials
GB201502250D0 (en) 2015-02-11 2015-03-25 Tioxide Europe Ltd Coated product
KR101619019B1 (ko) * 2015-03-03 2016-05-11 서울대학교산학협력단 질소산화물 환원 촉매
RU2581359C1 (ru) * 2015-03-20 2016-04-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) Фотокаталитическое покрытие
CZ2015329A3 (cs) * 2015-05-18 2016-07-07 Miloš Heršálek Nanofotokatalytické filtrační zařízení
US10556230B2 (en) * 2015-05-29 2020-02-11 Nitto Denko Corporation Photocatalyst coating
KR101634903B1 (ko) 2015-05-29 2016-06-29 이현정 얼굴 마사지장치
JP6243995B2 (ja) * 2015-11-17 2017-12-06 イビデン株式会社 化粧板
JP6200569B2 (ja) * 2015-11-20 2017-09-20 イビデン株式会社 抗ウィルス性の化粧板及び抗ウィルス性の化粧板の製造方法
CN105439528A (zh) * 2015-11-30 2016-03-30 洛阳绿仁环保设备有限公司 杂化光催化剂涂料及其制备方法
KR20170068692A (ko) * 2015-12-09 2017-06-20 한국전자통신연구원 센서 섬유 및 이의 제조 방법
WO2018042804A1 (ja) * 2016-08-29 2018-03-08 信越化学工業株式会社 光触媒積層体
JP6961931B2 (ja) * 2016-12-12 2021-11-05 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 メタチタン酸粒子及びその製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、並びに、構造体
CN107597117A (zh) * 2017-09-27 2018-01-19 宝鸡市永盛泰钛业有限公司 一种用于促进有机物光分解的纳米材料及其制备方法
CN108479752B (zh) * 2018-04-26 2021-04-06 青岛科技大学 一种二维碳层负载的BiVO4/TiO2异质可见光催化剂的制备方法
RO134047A2 (ro) 2018-10-11 2020-04-30 Răzvan Cătălin Bucureşteanu Compoziţie de glazură ceramică fotocatalitică biocidă, şi metodă fotocatalitică pentru dezinfecţia suprafeţelor produselor ceramice, a obiectelor din porţelan sanitar şi a celor acoperite cu plăci ceramice
RO134027A2 (ro) 2018-10-24 2020-04-30 Răzvan Cătălin Bucureşteanu Compoziţie de răşini polimerice de acoperire, cu proprietăţi fotocatalitice biocide, şi metodă fotocatalitică pentru dezinfecţia suprafeţelor acoperite cu răşini polimerice
JP2022078384A (ja) * 2019-03-29 2022-05-25 日本電産株式会社 光学部材及びその製造方法
CN110328127A (zh) * 2019-04-09 2019-10-15 中南大学 一种基于光催化粉体的高活性涂层及其制备方法和应用
CN109966916A (zh) * 2019-04-10 2019-07-05 南京九品莲华环保科技有限公司 纳米贵金属多效光触媒
CN110589928A (zh) * 2019-09-23 2019-12-20 上海市农业科学院 一种固定式光催化剂及其制备方法和应用
CN111155388B (zh) * 2019-12-31 2022-02-25 赵梓权 光催化路面铺设方法
RO136026A1 (ro) 2021-04-15 2022-10-28 Răzvan Cătălin Bucureşteanu Pigment anorganic cu funcţia de catalizator activat de lumină
CN113842908A (zh) * 2021-09-27 2021-12-28 天津理工大学 氧化钒基光催化剂对c-c键有氧氧化裂解的产物调控
CN115180976B (zh) * 2022-07-22 2023-03-31 济南大学 一种光催化水泥基材料的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05253544A (ja) * 1992-03-13 1993-10-05 Toto Ltd 脱臭機能を備えた板状部材の製造方法

Family Cites Families (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3340222A (en) * 1963-06-28 1967-09-05 Du Pont Hydrofluorocarbon polymer filmforming composition
US3899333A (en) * 1964-04-15 1975-08-12 Itek Corp Photosensitive composition containing TiO{HD 2 {B having a particle size of about 25 millimicrons and the use thereof in physical development
US3324069A (en) * 1964-10-23 1967-06-06 Pennsalt Chemicals Corp Vinylidene fluoride polymer dispersions
US3977888A (en) 1969-12-08 1976-08-31 Kansai Paint Company, Ltd. Inorganic coating compositions with alkali silicate
US3640712A (en) * 1969-12-08 1972-02-08 Hughes Aircraft Co Hydrophilic-hydrophobic photon-sensitive medium
CA994026A (en) * 1972-05-18 1976-07-27 Pennwalt Corporation Vinylidene fluoride polymer film-forming composition in aqueous dispersion
US3998644A (en) 1973-05-07 1976-12-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkali metal silicate-zinc hydroxychloride coating composition
JPS5146671A (ja) * 1974-10-18 1976-04-21 Hitachi Ltd Denjibureeki
US4039170A (en) * 1975-09-08 1977-08-02 Cornwell Charles E System of continuous dustless mixing and aerating and a method combining materials
US4211839A (en) * 1975-09-17 1980-07-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing light-sensitive composition for use in thermally developable light-sensitive elements and elements so produced
JPS5420720A (en) * 1977-07-15 1979-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd Thermodevelopable photosensitive material
JPS54150424A (en) 1978-05-18 1979-11-26 Kubota Ltd Production of decorative cement articles
JPS56121661A (en) 1980-02-29 1981-09-24 Pentel Kk Applying method of heat resistant paint
CA1163615A (en) * 1980-03-11 1984-03-13 Atsushi Nishino Catalyst for purifying exhaust gases and method for manufacturing same
JPS57174145A (en) * 1981-04-20 1982-10-26 Kawasaki Heavy Ind Ltd Platelike catalytic body for denitration
JPS5820701A (ja) * 1981-07-23 1983-02-07 Mitsubishi Electric Corp 水素発生用半導体素子
US4355060A (en) 1981-08-13 1982-10-19 Cornwell Charles E High temperature cementitious coatings with improved corrosion resistance and methods of application
US4495228A (en) 1981-08-19 1985-01-22 Cornwell Charles E Hydraulic cement composition and method for use as protective coating for substrates
US5230937A (en) * 1983-04-13 1993-07-27 Chemfab Corporation Reinforced fluoropolymer composite
DE3428231A1 (de) * 1983-12-16 1985-07-04 Süd-Chemie AG, 8000 München Verfahren zur entfernung von stickoxiden aus abgasen
WO1985005119A1 (fr) * 1984-04-30 1985-11-21 Stiftung, R., E. Procede de sensibilisation d'un photo-catalyseur d'oxydo-reduction et photo-catalyseur ainsi obtenu
JPS60232251A (ja) 1984-05-02 1985-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 排ガス浄化用触媒体
US4544470A (en) * 1984-05-31 1985-10-01 Ford Motor Company Electrochemical photocatalytic structure
JPS6186458A (ja) 1984-10-03 1986-05-01 日曹マスタ−ビルダ−ズ株式会社 コンクリ−ト床の非酸化性表面強化材
JPH06652B2 (ja) 1984-11-20 1994-01-05 松下電器産業株式会社 圧電セラミツクス粉末の製造方法
JPS61133125A (ja) * 1984-11-29 1986-06-20 Tsutomu Kagitani 紫外線脱硝法
JPS62193696A (ja) * 1986-02-20 1987-08-25 Nomura Micro Sci Kk 超純水の製造法
JPS635301A (ja) * 1986-06-25 1988-01-11 Matsushita Electric Works Ltd 反射鏡
JPH06102155B2 (ja) 1988-02-29 1994-12-14 株式会社日立製作所 脱臭剤・脱臭剤の製造方法・脱臭方法・脱臭装置およびこの脱臭装置を備えた冷凍サイクル装置
JPH01232966A (ja) 1988-03-11 1989-09-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光触媒による脱臭方法
JPH0262297A (ja) 1988-08-29 1990-03-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 集積回路装置およびそれを用いたｉｃカード
US5349003A (en) * 1988-09-20 1994-09-20 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Aqueous fluorine-containing polymer dispersion and aqueous dispersion containing fluorine-containing polymer and water-soluble resin and/or water dispersible resin
JPH0716613B2 (ja) * 1988-11-14 1995-03-01 株式会社信州セラミックス 生物の活性抑制用光触媒機能体
JPH02144146A (ja) 1988-11-28 1990-06-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd オゾン分解用触媒
JP2669039B2 (ja) * 1989-03-22 1997-10-27 松下電器産業株式会社 光触媒装置の製造方法
JPH0787891B2 (ja) * 1989-04-14 1995-09-27 日本ゼオン株式会社 被酸化性有害物質の除去剤及び除去方法
JP2564421B2 (ja) 1989-08-24 1996-12-18 工業技術院長 自動車道トンネル用換気設備
US4997576A (en) 1989-09-25 1991-03-05 Board Of Regents, The University Of Texas System Materials and methods for photocatalyzing oxidation of organic compounds on water
US5194161A (en) 1989-09-25 1993-03-16 Board Of Regents, The University Of Texas System Materials and methods for enhanced photocatalyzation of organic compounds with palladium
US5202162A (en) * 1989-10-06 1993-04-13 Ferro Corporation Thermoplastic coating compositions and process using same for the preparation of decorative coatings
US5203941A (en) * 1989-10-19 1993-04-20 Avery Dennison Corporation Process for manufacturing plastic siding panels with outdoor weatherable embossed surfaces
US5190804A (en) 1989-11-27 1993-03-02 Toshiba Silicone Co., Ltd. Coated inorganic hardened product
DE69016609T2 (de) 1989-11-27 1995-06-29 Toshiba Silicone Beschichtungszusammensetzung, beschichtetes anorganisches gehärtetes Produkt und Verfahren zur Herstellung dieses Produktes.
JP3008448B2 (ja) * 1990-06-28 2000-02-14 カシオ計算機株式会社 データ出力装置
JP3033995B2 (ja) * 1990-08-03 2000-04-17 オキツモ株式会社 脱臭材およびそれを用いた製品
US5104539A (en) * 1990-08-06 1992-04-14 Wisconsin Alumni Research Foundation Metal oxide porous ceramic membranes with small pore sizes
US5200479A (en) * 1990-10-19 1993-04-06 Atochem Hardenable fluorinated copolymer, the process for making the same, and its application in paints and varnishes
US5212267A (en) * 1990-10-19 1993-05-18 Atochem Hardenable fluorinated copolymer, the process for making the same, and its application in paints and varnishes
JPH0774318B2 (ja) * 1990-10-30 1995-08-09 住友電気工業株式会社 弗素樹脂塗料組成物
JP2618287B2 (ja) * 1990-11-06 1997-06-11 日本ゼオン株式会社 光反応性有害物質除去剤及びこれを用いる有害物質除去方法
US5616532A (en) * 1990-12-14 1997-04-01 E. Heller & Company Photocatalyst-binder compositions
DE4040130A1 (de) * 1990-12-15 1992-06-17 Hoechst Ag Vernetzbare, fluorhaltige copolymere, lacke auf basis dieser copolymeren und deren verwendung
US5278113A (en) * 1991-03-08 1994-01-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Catalytic body and process for producing the same
JP3374143B2 (ja) * 1991-03-14 2003-02-04 日本電池株式会社 光触媒体
JP2971169B2 (ja) * 1991-05-08 1999-11-02 三菱重工業株式会社 光触媒複合材料
JPH05111673A (ja) 1991-05-21 1993-05-07 Toagosei Chem Ind Co Ltd セメント系基材の塗装方法
JPH05146646A (ja) * 1991-11-29 1993-06-15 Inax Corp 多孔膜濾過装置
JPH05146671A (ja) * 1991-12-02 1993-06-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 二酸化炭素の光固定化方法
CN1036051C (zh) * 1991-12-13 1997-10-08 中国科学院兰州化学物理研究所 用于净化空气的光催化剂
US5302356A (en) * 1992-03-04 1994-04-12 Arizona Board Of Reagents Acting On Behalf Of University Of Arizona Ultrapure water treatment system
WO1993017971A1 (en) 1992-03-05 1993-09-16 Board Of Regents, The University Of Texas System Materials and methods for enhanced photocatalyzation of organic compounds
DE69327230T2 (de) 1992-03-12 2000-07-13 Nylok Fastener Corp Vorrichtung zur herstellung beschichteter befestigungsmittel
JP3592727B2 (ja) 1992-05-11 2004-11-24 日本電池株式会社 光触媒体
NZ245901A (en) * 1992-06-02 1994-07-26 Atochem North America Elf Pigmented blend for powder coatings containing a vdf/tfe/hfp terpolymer
EP0572914B1 (en) * 1992-06-03 1995-08-09 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Titanium oxide particles and method of producing same
US5595813A (en) * 1992-09-22 1997-01-21 Takenaka Corporation Architectural material using metal oxide exhibiting photocatalytic activity
DE69421734T2 (de) 1993-03-11 2000-07-13 Fuji Electric Co Ltd Verfahren zur Schadstoffbeseitigung
JPH06315614A (ja) * 1993-03-11 1994-11-15 Agency Of Ind Science & Technol 汚染物質の除去方法及び浄化材
JP3123330B2 (ja) * 1993-03-24 2001-01-09 日本ゼオン株式会社 悪臭物質または成長促進物質の除去方法ならびにそれらの除去装置
JP3554343B2 (ja) * 1993-04-19 2004-08-18 日揮ユニバーサル株式会社 シート状エチレン分解触媒およびエチレン分解装置
AU676299B2 (en) 1993-06-28 1997-03-06 Akira Fujishima Photocatalyst composite and process for producing the same
US5518992A (en) * 1994-08-05 1996-05-21 University Of Central Florida Photocatalytic surfacing agents for inhibiting algae growth
JP3233100B2 (ja) 1998-05-11 2001-11-26 井関農機株式会社 コンバインの穀稈搬送装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05253544A (ja) * 1992-03-13 1993-10-05 Toto Ltd 脱臭機能を備えた板状部材の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1157742B1 (en) 2003-09-03
EP0875289B1 (en) 2002-02-20
DE69433122D1 (de) 2003-10-09
CN1256172A (zh) 2000-06-14
DK1157741T3 (da) 2003-04-22
EP0633064A1 (en) 1995-01-11
ATE213433T1 (de) 2002-03-15
EP0633064B1 (en) 1998-12-23
ATE174812T1 (de) 1999-01-15
ATE248651T1 (de) 2003-09-15
KR950000216A (ko) 1995-01-03
MY111700A (en) 2000-11-30
DE69432327T2 (de) 2004-01-15
EP1157742A1 (en) 2001-11-28
US6498000B2 (en) 2002-12-24
JP2918787B2 (ja) 1999-07-12
ES2169460T3 (es) 2002-07-01
CN1062194C (zh) 2001-02-21
DE69433122T2 (de) 2004-07-08
DK1157742T3 (da) 2003-12-29
JPH07171408A (ja) 1995-07-11
JP4695700B2 (ja) 2011-06-08
JP2009160581A (ja) 2009-07-23
US20010046937A1 (en) 2001-11-29
KR100327997B1 (ko) 2002-08-08
EP1157741A1 (en) 2001-11-28
ATE234679T1 (de) 2003-04-15
CA2371166C (en) 2003-04-29
DE69415420T2 (de) 1999-06-02
CA2126418A1 (en) 1994-12-29
DK0633064T3 (da) 1999-08-23
EP1157741B1 (en) 2003-03-19
CN1101591A (zh) 1995-04-19
DK0875289T3 (da) 2002-03-25
DE69429934D1 (de) 2002-03-28
US6277346B1 (en) 2001-08-21
EP0875289A1 (en) 1998-11-04
DE69429934T2 (de) 2002-08-14
DE69432327D1 (de) 2003-04-24
AU6481094A (en) 1995-01-05
KR100350256B1 (ko) 2002-08-24
SG73361A1 (en) 2005-12-29
CA2371166A1 (en) 1994-12-29
AU676299B2 (en) 1997-03-06
TW279175B (ko) 1996-06-21
US5547823A (en) 1996-08-20
CN1116932C (zh) 2003-08-06
DE69415420D1 (de) 1999-02-04
CA2126418C (en) 2002-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100330955B1 (ko) 분해성이 적은 접착제로서 시멘트를 포함하는 광촉매 복합체를 이용한 NOx 기체의 제거방법
CA2222869C (en) Photocatalytic body and method for making same
KR100361564B1 (ko) 광촉매기능을 갖는 다기능 재료 및 그의 제조방법
JP3356437B2 (ja) 光触媒、その製造法及び多機能部材
JP3027739B2 (ja) 光触媒体およびその製造方法
US8343282B2 (en) Photocatalytic auto-cleaning process of stains
JP3952238B2 (ja) 光触媒による有害物質等の除去方法
JPH10286456A (ja) 吸着機能体
JP4347925B2 (ja) 光触媒体およびその製造方法
JP4629700B2 (ja) 光触媒体およびそれを形成するための塗料組成物のセット
JP3844875B2 (ja) 光触媒体およびその製造方法
JPH11124546A (ja) 塗料組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
N231 Notification of change of applicant
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
AMND Amendment
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130221

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140211

Year of fee payment: 13

EXPY Expiration of term