KR100327788B1

KR100327788B1 - 배기가스의 질산제거방법

Info

Publication number: KR100327788B1
Application number: KR1019997000170A
Authority: KR
Inventors: 모치다이사오; 야수타케아키노리; 세토구치토시히코; 코바야시노리히사; 나카무라히토시; 카수타카히로; 요시카와마사아키
Original assignee: 마스다 노부유키; 미츠비시 쥬고교 가부시키가이샤; 료끼 신이찌로; 오사까 가스 가부시키가이샤
Priority date: 1996-07-11
Filing date: 1997-07-10
Publication date: 2002-03-15
Also published as: DE69738296D1; CA2260136A1; DE69738296T2; EP0913185B1; KR100327790B1; CA2260136C; ATE378101T1; JPH1024219A; WO1998002234A1; EP0913185A1; KR20000023711A; EP0913185A4; CN1227506A; CN1159088C; US6383463B1

Abstract

연소장치의 기동시 등의 배기가스저온 시의 대책용 혹은 배기가스의 저온부분에 있어서의 질산제거용에 적합한 연소배기가스의 질산제거방법을 제공한다.

그 질산제거방법은, 연소배기가스를 암모니아환원 질산제거장치를 거쳐 질산제거하는 방법에 있어서, 배기가스유로의 암모니아환원 질산제거장치의 후류측에 저온질산제거장치를 서리한 바이패스를 설치하고, 배기가스온도가 저온시에는, 배기가스를 상기 바이패스를 거쳐 저온질산제거장치에 의한 질산제거를 실시하고, 암모니아환원 질산제거장치가 충분히 기능하도록 된 시점에서, 암모니아환원 질산제거장치로 질산제거를 실시하도록 하며, 또한 바이패스가 닫혀져 있는 동안에 상기 저온질산제거장치의 촉매의 재생을 실시하도록 하는 것을 특징으로 한다. 또한, 그 질산제거방법은, 배기가스유로의 배기가스온도가 상온∼200℃의 부분에 복수계열의 저온질산제거장치를 병렬로 설치하고, 순차적으로 변환하여 질산제거 및 촉매의 재생을 실시하도록 할 수 있다.

Description

배기가스의 질산제거방법 {EXHAUST GAS DENITRATION METHOD}

종래에 실시되고 있는 배기가스처리시스템의 일예를 도 3에 나타낸다. 도 3에 있어서 보일러(1)의 출구에, 촉매를 사용한 질산제거장치(2:암모니아환원 질산제거장치)를 설치하여 배기가스 중의 질소산화물(NO_X)을 제거하고, 그 질산제거장치(2)의 출구로 공기예열기(3)를 설치하며, 배기가스온도가 130℃정도까지 저하되도록 하고 있다. 공기예열기(3)를 통과한 배기가스는, 집진기(4)에서 제진된 후, 가스·가스히터(5)를 경유하여 탈황장치(6)로 유도하여, 유황산화물(SO_X)을 제거시킨 후, 굴뚝(7)에서 대기중으로 방출시킨다.

현재 실용화되고 있는 배기가스 중의 질소산화물의 제거수단으로서는, V₂O₅를 TiO₂에 담지시킨 촉매를 사용하고, NH₃를 환원제로서, 질소산화물을 질소와 수증기로 분해하는 선택접촉환원법(SCR)에 의한 질산제거장치(암모니아환원 질산제거장치)를 보일러 출구에 설치하여 처리하는 방식이 채용되고 있다. 이 질산제거방법의 경우, 촉매의 성능 상, 질산제거장치가 정상적으로 기능하기 위해서는, 300∼400℃의 반응온도가 필요하다.

그런데, 보일러 등의 기동시에는 배기가스온도가 낮고, 300℃에 도달할 때까지는 20분 내지 2시간 정도의 시간을 필요로 한다. 이 때문에, 그 동안에는 상기 암모니아환원 질산제거장치가 충분한 질산제거효과를 얻을 수 없다. 한편, 근래의 환경규제의 강화때문에 배기가스 중의 질소산화물은 항상 낮은 레벨로 유지될 필요가 있고, 기동시와 같이 배기가스온도가 낮은 시기에 있어서의 질산제거효율의 향상이 문제로 되어 있다.

또한, 배기가스처리프로세스 중의 낮은 온도 부분에 있어서, 항상, 고효율의 질산제거가 가능하다면, 에너지효율 면에서도 유리하다.

종래, 저온에서 질산제거의 시도는 많이 있었지만, 어느 것도 활성이 불충분하고, 충분한 활성을 얻기 위해서는, 결국, 300℃ 이상의 반응온도가 필요하다.

본 발명은 상기 종래기술의 실상에 감안하여, 저온의 배기가스 중의 질소산화물을 효율 좋게 제거할 수 있고, 연소장치의 기동시 등의 배기가스 저온시의 대책용 혹은 배기가스의 저온부분에 있어서의 질소제거용에 적합한 연소배기가스의 질산제거방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 보일러, 가스터빈, 엔진, 연소로 등의 각종 연소장치에서 나오는 배기가스의 질산제거방법에 관한 것이고, 더욱 상세하게는, 연소장치의 기동시 등의 배기가스가 저온일 때의 질산제거, 혹은 배기가스유로의 배기가스온도가 낮은 부분에 있어서의 질산제거에 적합한 배기가스의 질산제거방법에 관한 것이다.

도 1은, 본 발명을 실시하기 위한 장치구성의 1 실시예를 나타내는 도이다.

도 2는, 본 발명을 실시하기 위한 장치구성의 다른 실시예를 나타내는 도이다.

도 3은, 종래 실시되고 있는 배기가스처리시스템의 1예를 나타내는 도이다.

본 발명은, 상기 목적을 달성하기 위한 수단으로서, 다음의 질산제거방법을 제공한다.

본 발명의 연소배기가스의 질산제거방법은, 연소장치로부터 나오는 연소배기가스의 질산을 암모니아환원 질산제거장치를 거쳐 제거하는 방법에 있어서, 배기가스유로의 상기 암모니아환원 질산제거장치의 후류측에 저온질산제거장치를 설치한 바이패스를 설치하여, 연소장치의 기동직후 등의 배기가스온도가 상기 암모니아환원 질산제거장치가 충분히 기능하지 않는 저온일 경우에는, 배기가스를 상기 바이패스를 거쳐 저온질산제거장치에 의한 질산제거를 실시하고, 암모니아환원 질산제거장치가 충분히 기능하도록 된 시점에서 바이패스를 닫고, 암모니아환원 질산제거장치에서 질산제거를 실시하도록 하고, 또한, 바이패스가 닫혀져 있는 동안에 상기 저온질산제거장치 내의 촉매의 재생을 실시하도록 하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 연소배기가스의 질산제거방법은, 연소장치에서 나오는 연소배기가스를 질산제거처리하는 방법에 있어서, 배기가스유로의 배기가스온도가 상온 내지 200℃의 부분에, 복수계열의 저온질산제거장치를 병렬로 설치하고, 순차적으로 변환하여 질산제거 및 저온질산제거장치 내의 촉매의 재생을 실시하도록 하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 방법에 의하면, 반응초기에 있어서는 비교적 저온영역에서 높은 활성을 나타내지만, 활성유지시간이 짧고, 재생에 비교적 긴 시간을 요구하는 저온질산제거장치를 사용하는 것에 의해, 다음과 같은 실용상 매우 가치가 큰 효과를 달성할 수 있다.

종래의 암모니아환원 질산제거장치를 채용한 배기가스처리시스템에 있어서, 배기가스유로에 바이패스를 설치하고, 상기 저온질산제거장치를 설치하는 것에 의해, 보일러 기동시 등의 배기가스온도가 낮은 시기에 있어서도 충분한 질산제거처리를 실시할 수 있다.

또한, 배기가스처리시스템에 있어서, 배기가스온도가 저온의 부분에 질산제거장치를 설치할 필요가 있는 경우에, 상기 저온질산제거장치를 복수개 병렬로 설치하는 것에 의해, 높은 질산제거효율을 달성할 수 있다.

본 발명의 방법에서 사용하는 저온질산제거장치는, 촉매로서 티타니아, 세리아, 마그네시아, 보리아, 알루미나, 지루코니아, 이트리아, 산화구리 등의 무기산화물, 구리이온교환 Y형 제오라이트, 철이온교환 Y형 제오라이트, 코발트이온교환 Y형 제오라이트, 동이온교환 ZSM-5, 코발트이온교환 ZSM-5 등의 금속이온교환 제오라이트, 동함유폴리아크릴로니트릴 등의 금속함유고분자, 동폴리페닐포르필린, 코발트후타로시아닌 등의 금속착체(金屬錯體), 야자껍질활성탄, 활성코크스 등의 활성탄류, 폴리아크릴로니트릴계, 페놀계, 셀룰로스계, 피치계 등의 활성탄소섬유 등을 사용하는 것이다. 이들 중에서도 특히 활성탄소섬유는, 활성의 지속시간이 길고, 바람직한 재료이다. 또한, 활성탄 및 활성탄소섬유는, 가열처리하는 것에 의해활성이 향상한다. 예컨대, 활성탄소섬유는, 질소, 아르곤, 헬륨 등의 불활성가스 상태하에서 600∼1200℃의 온도에서 열처리한다.

이들의 촉매를 충전한 저온질산제거장치는, 상온(예컨대, 5℃전후)∼100℃의 저온영역에서 충분한 질산제거활성을 나타내고, 또한 300℃ 전후까지 실용적인 활성을 가지고 있고, 배기가스 중의 질소산화물에 대하여 같은 몰(mol)이상의 NH₃를 첨가하여 도입하는 것에 의해 최대 200ppm의 질소산화물을 50ppm이하로 저감시킬 수 있다.

본 발명에서 사용하는 저온질산제거장치는, 상온(예컨대, 5℃정도)∼100℃의 저온영역에서 높은 질산제거활성을 가지고, 또한 300℃ 전후까지 실용적인 활성을 가지는 것이지만, 촉매의 활성지속시간은 비교적 짧고, 최대 6시간 정도이며, 재생에 긴 시간을 필요로 한다. 즉, 통상, 사용시간과 동시간 이상의 재생시간을 필요로 한다. 이 때문에, 비교적 사용시간이 짧고, 긴 재생시간이 취해지는 질산제거장치의 기동시 등의 배기가스저온 시의 질산제거에 바람직하다. 또한, 저온영역에서 높은 질산활성을 나타내는 것으로부터 배기가스의 저온부분에 있어서의 질산제거용으로도 적합하지만, 이 경우는 질산제거장치를 복수개 병렬로 설치하여 순차재생하도록 하여 충분한 재생시간을 취하도록 하는 것이 필요하다.

본 발명에서, 사용하는 저온질산제거장치 내의 촉매의 재생은, 환원제의 첨가에 의하고, 그 촉매 상에서의 질소산화물의 환원에 의해 실시된다. 환원제로서는, 암모니아, 요소수, 탄화수소, 알콜 등으로 된 군에서 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. 탄화수소의 구체예로서는, 메탄, 에탄, 에틸렌, 프로판, 프로필렌 등의 상온에서 기화하기 쉬운 탄화수소, 바람직하게는 프로판, 프로필렌 등의 탄소수 3인 탄화수소를 들수 있고, 알콜의 구체예로서는, 메탄올, 에탄올 등, 바람직하게는 메탄올을 들 수 있다.

환원제의 첨가 시에 환원반응이 생기는 분위기 중의 온도는, 상온(5℃정도의 온도도 포함한다)∼150℃이고, 환원반응이 생기는 분위기 중의 수분량은, 0∼3용량%이다.

본 발명을 실시하기 위한 장치구성의 1실시예를 도 1에 나타낸다. 도 1은 본 발명에 관한 저온질산제거장치를 도 3에 나타낸 보일러배기가스의 처리시스템에 적용한 예이다.

통상, 보일러의 기동시에는, 배기가스온도는 외부공기온도와 거의 같은 온도(상온)부터 상승하고 있다. 이 상태에서, 일반적으로 배기가스 중의 NO_X농도는 거의 0에서 정상값까지 서서히 상승하고 있다. 이 때, 통상의 SCR용 질산제거촉매는 300℃정도에서 밖에 작용하지 않는다. 그 때문에 이 온도일 때의 20분∼2시간 정도의 동안 NO_X가 처리되지 않게 배출되는 것으로 된다. 그 때문에, 이 실시예에서는 도 1(a)에 나타내듯이 탈황장치(6)의 하류측에 바이패스를 설치하고, 도 1(b)에 그 상세를 나타내듯이 저온질산제거장치(8)를 설치하고 있다.

도 1의 시스템에 있어서, 보일러 기동시 등 배기가스온도가 낮고, 질산제거장치(2:암모니아환원 질산제거장치)에서의 질산제거가 충분히 실행되지 않는 시기에서는, 흡수장치(10)를 열어 흡수장치(9)를 닫고, NH₃공급라인(11)에서 NH₃를 첨가하여 배기가스를 저온질산제거장치(8)로 유도하여 질산제거를 실시하도록 한다. 그리고, 배기가스의 온도가 300℃를 넘는 정상운전시에는, 질산제거장치(2)가 충분히 기능하여 질산제거가 실시되므로, 흡수장치(9)를 열고, 흡수장치(10)를 닫은 상태로 운전한다. 또한 정상운전 시의 빈 시간을 이용하여, 재생가스라인(13)에서 필요에 의해 히터(12)를 가열한 공기 등의 재생가스를 보내고, 저온질산제거장치(8) 내의 촉매재생을 실시한다.

본 발명을 실시하기 위한 장치구성의 다른 실시예를 도 2에 나타낸다. 도 2는, 본 발명에 관한 저온질산제거장치를 보일러배기가스처리시스템의 주질산제거장치로서 사용한 예이다. 도 2(a)에 나타내듯이, 보일러(1)를 나온 450℃정도의 배기가스는, 공기예열기(3), 집진기(4), 가스·가스히터(5), 탈황장치(6)의 순으로 통과하고, 약50℃정도의 저온으로 된다. 이 실시예에 있어서는, 도 2(a)에 나타내듯이 탈황장치(6)의 하류측에 저온질산제거장치(8)를 설치하고 있다.

이 예에서는 도 2(b)에 그 상세를 나타내듯이, 배기가스에 저온질산제거장치(8)를 복수개 병렬로 설치하고 있고, 각각의 저온질산제거장치(8)에는 배기가스도입용의 흡수장치(14), 질산제거 후의 배기가스 도출용의 흡수장치(15), 재생가스 도입용의 흡수장치(16), 재생가스 도출용의 흡수장치(17)가 접속되어 있다. 그리고, 질산제거를 실시하는 장치는 흡수장치(14,15)를 열고, 흡수장치(16,17)를 닫고 운전하며, 활성이 저하된 시점에서 다른 재생제의 장치로 변환한다. 활성이 저하된 장치는 흡수장치(14,15)를 닫고, 흡수장치(16,17)를 열어서 재생을 실시한다. 운전 중에는 순차적으로 이와 같이 장치를 변환하여 질산제거 및 재생을 실시하도록 하는 것에 의해, 고효율의 질산제거를 실시할 수 있고, 게다가 재생에 필요한 시간을 충분히 확보할 수 있다.

또, 저온질산제거장치의 설치위치는, 특히 도 1, 도 2의 위치에 한정되는 것은 아니다. 촉매활성유지를 위해서는, SO_X는 매우 작은 편이 바람직하고, SO_X를 함유하는 배기가스의 경우는, 질산제거장치의 후류(後流), 혹은 가스·가스히터의 후류에 설치하는 것이 바람직하다.

이하, 실시예에 의해 본 발명의 방법을 더욱 구체적으로 설명한다.

촉매를 충전한 관형상의 반응기를 사용하고, 각종 가스를 혼합하여 조정한 시료가스에 대하여 질산제거반응시험을 실시하였다. 가스 중의 질소산화물의 농도는, 류본사제의 질소산화물 측정장치를 사용하고, NH₃농도는 거의 산수용액의 흡수법에 의해 측정하였다.

(실시예1)

촉매로서 오사카가스사제 활성탄소섬유OG-8A를 질소기류 중에서 850℃에서 1시간 열처리한 시료(OG-8A-H850)를 사용하고, 표 1의 조건에서 처리시험을 실시하였다. 이 조건에서의 NO제거율은 초회가 99%, 재생 후 98%, 질산제거·재생을 15회 반복한 후(질산제거, 재생 각2시간의 반복)에는 95%였다.

또한, 이 조건에서는 초회의 처리시간을 길게 하면, 6시간까지는 NO제거율95%이상이었다. 이 6시간 사용후의 촉매에 대하여 재생시간을 2, 4, 6, 8시간으로 변화한 후, 각각의 NO제거율은 20, 50, 95, 96%로 되고, 10회 반복한 후는 각각 0. 10. 93. 95%로 되며, 처리시간 이상의 재생시간이 필요하다는 것이 판명되었다.

실시예1에 있어서의 시험조건

항목	시험조건 등
촉매, 사용량	OG-8A-H850 5g(50cc)
처리가스량	200cc/min(SV값240h^-1)
처리가스조성	NO : 200ppmNH₃: 200ppmO₂: 4%H₂O : 2%N₂: 나머지
처리가스온도	25℃
처리시간	2시간
재생가스량	200cc/min
재생가스조성	O₂: 18%H₂O : 2%N₂: 나머지
재생온도	25℃
재생시간	2시간

(실시예2)

처리가스온도를 100℃로 하고, 실시예1과 동일한 시험을 실시한 후, 재생가스의 온도를 200℃로 하면 동일한 활성을 나타내는 것이 판명되었다. 즉, 100℃의 가스를 6시간처리한 후, 200℃의 가스에서 재생하여 재생시간을 2, 4, 6, 8시간으로 변화시킨 경우, 각각의 NO제거율은 20, 50, 92, 94%로 되고, 10회 반복한 후는 각각 0, 10, 90, 93%로 되었다.

한편, 200ppm의 NH₃를 함유한 25℃의 공기에서 재생한 경우, 처리시간 6시간에 대하여, 재생시간 10시간을 필요로 하였다. 200ppm의 NH₃를 함유한 200℃의 공기는 재생시간 4시간에서 동일 활성을 나타내었다.

(실시예3)

촉매로서 산화구리를 사용하고, 표 2의 조건으로 처리시험을 실시하였다. 사용한 산화구리는 다음과 같이 하여 제조하였다. 시판시약의 질산구리를 증류수로 1몰농도의 수용액으로 하고, 이것에 3N의 암모니아수를 서서히 떨어뜨리고, 수산화구리의 침전을 형성시켰다. 얻어지는 침전을 거쳐, 세정하고, 110℃에서 24시간 건조후, 공기유통시키면서 전기노 내에서 65℃로 2시간 가열소성하여 CuO의 형태로 하고, 이것을 16∼80메쉬로 정립(整粒)하여 시료로 하였다.

실시예3에 있어서의 시험조건

항목	시험조건 등
촉매, 사용량	CuO(조제품) 10g
처리가스량	100cc/min(SV값 600h^-1)
처리가스조성	NO : 100ppmNH₃: 100ppmCO₂: 10%O₂: 5%H₂O : 2%N₂: 나머지
처리가스온도	70℃
처리시간	1시간
재생가스량	100cc/min
재생가스조성	O₂: 18%H₂O :2%N₂: 나머지
재생온도	30℃
재생시간	12시간

이 실시예에 있어서는 초회의 처리에서 NO제거율은 99%이고, 재생 후는 90%로 되었다. 이후 18회 반복(질산제거 1시간, 재생12시간의 반복)하여 NO제거율은 90±2%로 되었다. 또, 재생 시에 가열공기를 사용하면, 재생가스온도 300℃에서 재생시간은 2시간으로 단축되었다.

또, 재생처리 후의 공기는 어느 것도 NO를 함유하고 있고, 보일러의 연소공기로서 사용한다.

(실시예4)

촉매를 Cu이온교환 Y형 제오라이트로 실시예3과 동일한 시험을 실시하였다. 사용한 촉매는, 미국PQ사제 Y형 제오라이트PCV-100을 1M의 질산구리수용액에 분산시키고, 암모니아수로 pH8.5로 제조하여, 3시간 각반 후, 여과·세정하고, 110℃에서 24시간 건조 후, 공기유통시키면서 전기로 내에서 650℃로 1시간 가열소성하여 Cu이온교환 Y형 제오라이트(Cu-Y)로 하였다.

이 촉매를 사용하여 실시예3과 동일한 처리를 실시하면, 초회의 처리에서 NO제거율은 95%이고, 재생 후는 92%로 되었다. 이 후 15회의 반복(질산제거 1시간, 재생12시간의 반복)으로 NO제거율은 90±2%로 되었다. 또, 재생시에 NH₃를 100ppm첨가한 공기를 사용하면 재생시간에 변화를 주지만, 재생 후의 NO제거율이 2∼3%향상하였다. 이것은 재생 시의 NH₃에 의해 잔류NO의 질산제거반응이 약간 진행되고 있는 것을 나타낸다. 또한, NH₃의 첨가와 가열을 병용하여 NH₃농도 100ppm, 동도 300℃의 공기를 사용한 경우 재생시간이 1.5시간으로 단축되었다. 한편, 재생 후의 NO제거율에는 변화가 보이지 않았다.

(실시예5)

촉매로서 Cu함유 폴리아크릴로니트릴, Cu-폴리페닐포르피린, Cu-폴리프타로시아닌을 사용하여도 실시예1과 거의 같은 결과가 얻어진다.

Claims

연소장치로부터 나온 연소배기가스의 질산을 암모니아환원 질산제거장치를 거쳐 제거하는 방법에 있어서, 저온질산제거장치를 설치한 바이패스유로를 설치하고, 연소장치의 기동직후 등의 배기가스온도가 상기 암모니아환원 질산제거장치가 충분히 기능하지 않는 상온에서 200℃의 범위에 있을 때는, 배기가스를 상기 바이패스유로를 통하여 저온질산제거장치에 의한 질산제거를 실시하고, 암모니아환원 질산제거장치가 충분히 기능하도록 된 시점에서 바이패스유로를 닫아, 암모니아환원 질산제거장치로 질산제거를 실시하도록 하고, 또한 바이패스유로가 닫혀져 있는 동안에 상기 저온질산제거장치의 촉매의 재생을 실시하도록 하는 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 질산제거방법.
제1항에 있어서, 배기가스유로의 상기 암모니아환원 질산제거장치의 후류측에 저온질산제거장치를 설치한 바이패스유로를 설치한 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 질산제거방법.
삭제
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 저온질산제거장치에서 사용하는 촉매가, 무기산화물, 금속이온교환제오라이트, 금속함유고분자, 금속착제, 활성탄 또는 활성탄소섬유의 어느 것인가 1종 이상인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 질산제거방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 저온질산제거장치 내의 촉매가, 아르곤, 헬륨 등의 불활성가스 분위기 하에서, 600∼1200℃의 온도로 열처리한 피치계, 폴리아크릴로니트릴계, 셀룰로즈계, 또는 페놀계 중 어느 하나의 활성탄소섬유인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 질산제거방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 질산제거 및 저온질산제거장치 내의 촉매재생이, 환원제의 첨가에 의한, 그 촉매 상에서의 질소산화물의 환원에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 질산제거방법.
제6항에 있어서, 상기 환원제가, 암모니아, 요소수, 탄화수소, 알콜로 된 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 질산제거방법.
제7항에 있어서, 상기 환원제의 첨가 시의 환원반응이 생기는 분위기에서의 온도가, 상온∼150℃이고, 환원반응이 생기는 분위기 중의 수분량이, 0∼3용량%인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 질산제거방법.
연소장치로부터 나온 연소배기가스를 처리하는 시스템에 있어서, 암모니아환원 질산제거장치를 거쳐 질산을 제거하는 방법에 있어서, 저온질산제거장치를 설치한 바이패스유로를 구비하고, 연소장치의 기동직후 등의 배기가스를 상기 바이패스유로를 거쳐 충분히 기능하도록 된 시점에서 바이패스유로를 닫아 암모니아환원 질산제거장치로 질산제거를 실시하도록 하고, 또한 바이패스유로가 닫혀져 있는 사이에 상기 저온질산제거장치의 촉매재생을 실시하도록 한 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 처리시스템.
제9항에 있어서, 배기가스유로의 상기 암모니아환원 질산제거장치의 후류측에 저온질산제거장치를 설치한 바이패스유로를 설치한 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 처리시스템.
삭제
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 저온질산제거장치서 사용되는 촉매가, 무기산화물, 금속이온교환제오라이트, 금속함유고분자, 금속착체, 활성탄 또는 활성탄소섬유 중 어느 것인가 1종 이상인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 처리시스템.
제9항 또는 제12항에 있어서, 상기 저온질산제거장치 내의 촉매가, 질소, 아르곤, 헬륨 등의 불활성가스 분위기 하에서, 600∼1200℃의 온도로 열처리한 피치계, 폴리아크릴로니트릴계, 셀룰로즈계, 또는 페놀계 중 어느 것인가의 활성탄소섬유인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 처리시스템.
제9항 또는 제12항에 있어서, 상기 질산제거 및 저온질산제거장치 내의 촉매재생이, 환원제의 첨가에 의한, 그 촉매상에서의 질소산화물의 환원에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 처리시스템.
제14항에 있어서, 상기 환원제가, 암모니아, 요소수, 탄화수소, 알콜로 된 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 처리시스템.
제15항에 있어서, 상기 환원제의 첨가 시의 환원반응이 생기는 분위기 중의 온도가, 상온∼150℃이고, 환원반응이 생기는 분위기 중의 수분량이, 0∼3용량%인 것을 특징으로 하는 연소배기가스의 처리시스템.