KR100286978B1 - Reflective typed LCD and method for fabricating the same - Google Patents

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윤종용
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Abstract

본 발명은 반사 효율을 높일 수 있는 반사형 액정표시기 및 그의 제조방법을 개시한다. The invention reflection type liquid crystal display which can increase the reflection efficiency, and discloses a method of manufacturing the same. 본 발명의 반사형 액정표시장치는, 반사전극의 돌기가 불규칙한 모양의 다각형으로 배치되고, 그 돌기 사이의 폭은 일정하다. A reflective liquid crystal display device of the present invention, the projection of reflective electrode are arranged in a polygon of irregular shape, the width between the projections is constant. 이처럼, 각 방향에서 돌기의 크기가 불규칙한 요철 구조를 갖고, 또한 평평한 영역이 최대한 감소하므로, 광 효율이 높으며, 깊은 요부에 의한 배향의 불균일성이 최소화된다. In this way, having a size of the projection irregular concave-convex structure in each direction, and so that the flat regions as much as possible reduced, high optical efficiency, and the unevenness of the alignment due to the deep recess is minimized.

Description

반사형 액정표시장치 및 그 제조방법{Reflective typed LCD and method for fabricating the same} A reflective liquid crystal display device and a method of manufacturing {Reflective typed LCD and method for fabricating the same}

본 발명은 반사형 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 요철구조의 반사전극을 갖는 반사형 액정표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a reflective liquid crystal display device, and more particularly, to a reflective liquid crystal display device and a method of manufacturing the reflective electrode having a textured structure.

텔레비전이나 컴퓨터용 모니터 등과 같은 표시기에 채용되고 있는 음극선관(CRT)은 중량, 장치공간, 소비 전력 등이 크기 때문에 설치 및 이동시에 제약을 받는다. A cathode ray tube which is incorporated in the indicator, such as a television or computer monitors (CRT) is subject to constraints on the installation and movement because of the like parts by weight, storage space, power consumption, size. 이러한 단점을 보완하기 위하여 액정을 이용하는 액정표시기, 면 방전을 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전계 발광을 이용한 표시기 등과 같이 평판패널을 이용한 표시기들이 제안되었고, 현재 널리 사용되고 있다. A plasma display panel (PDP) using a liquid crystal display, a surface discharge using the liquid crystal in order to make up for these shortcomings, an indicator that was proposed using the flat-panel display, such as using a light emitting, it is now widely used.

평판표시기들 중 액정표시기는 여타의 평판표시기에 비하여 저 소비전력, 저 전압구동과 함께 고정세화, 풀 컬러표시등 음극선관에 가까운 표시품질이 가능하고, 제조공정의 용이화 등의 이유로 여러 전자 장치들에서 적용되고 있다. Liquid crystal display of the flat panel display is of electronic equipment, such as possible and the display quality is close to the high-resolution, full-color display such as a cathode ray tube with a low power consumption, low voltage drive than the flat display of the other, and facilitate the manufacturing process Chemistry two euros It has been applied in the field.

이러한 액정표시기에는 외부광원을 이용하는 투사형 액정표시기와 외부 광원 대신 자연광을 이용하는 반사형 액정표시기가 있다. This liquid crystal display has a reflective liquid crystal display using a projection type liquid crystal display with the external light source rather than natural light using an external light source.

반사형 액정표시기는 저소비전력 뿐만 아니라 백라이트 장치가 불필요한 박형 경량이고, 옥외에서의 표시가 탁월하다는 장점을 가진다. Reflection type liquid crystal display is a low power consumption as well as the backlight unit is unnecessary thin and lightweight, and has the advantage of being an excellent display in a outdoors. 이런 특징 때문에 휴대형 기기에는 최적의 조건을 갖추고 있다. Because of these features, the portable device equipped with an optimal condition.

그러나, 현재의 반사형 액정표시기의 표시화면은 어둡고 고정세 표시 및 컬러 표시에 대응하지 못하기 때문에, 휴대형 기기 중에서도 숫자 등 간단한 패턴 표시만 요구되는 극히 저 가격 상품에만 사용되고 있었다. However, the display of the current reflection type liquid crystal display has been used only for very low-priced products that require only a simple pattern displayed because it does not correspond to dark and three fixed display and color display, handheld devices, etc. Among a number.

문서 뷰어(Document Viewer), 인터넷 뷰어(Internet Viewer)등의 기능을 갖는 휴대형 정보 기기에 반사형 액정표시기를 사용하기 위해서는 반사 휘도의 향상뿐만 아니라, 고정세화, 컬러화가 요구된다. Document viewer (Document Viewer), in order to use the reflection type liquid crystal display in a portable information device having a function such as the Internet, the viewer (Viewer Internet) as well as improvement of the reflection brightness, high resolution, color painter is required.

휴대형 정보 기기에서 주로 문자를 표시하는 단색(monochro) 표시 액정표시기를 보기 쉽게 하려면 반사 휘도 향상과 고정세화가 요구되고, 그 실현을 위해서는 박막 트랜지스터 등 스위칭 소자를 형성한 액티브 매트릭스 기판이 필요하다. To a mainly solid (monochro) show a liquid crystal display for displaying a character in a portable information equipment easier to see the increase reflective brightness and a high resolution is required, an active matrix substrate forming the switching elements such as thin film transistors are required for its realization. 그런데 단색 표시 기기에서는 표시 가능한 정보가 제한되기 때문에 기기 전체의 가격설정이 낮아질 수밖에 없어, 패널 단가가 높은 박막 트랜지스터 채용은 단색 표시 기기에는 치명적이다. However, monochrome display devices, the displayable information is no choice but to decrease due to the pricing of the total device is limited, the panel unit is employed, the higher the thin film transistor is a critical monochrome display device.

또, 장래적으로 휴대 정보 기기에서의 컬러화는 필수여서 단색 표시 기기의 상품수명은 짧다고도 볼 수 있으며, 이에 따라 반사형 액정표시기 개발은 컬러화 방향에서 진행중이다. In addition, in the future colorization of the mobile information device is required yeoseo product life of the solid display devices are shorter are also visible, so that a reflection type liquid crystal display development is under way in the direction colorization.

그런데 패널 기술과 시장의 양면에서 큰 전개가 있으면서도 반사형 컬러 액정은 지금까지 거의 실용화되지 않고 있다. But the panel technology and a large deployment from both sides, yet reflective color LCD market is hardly put to practical use so far. 이유는 밝기와 콘트라스트, 응답속도 측면에서 성능이 부족했기 때문이다. The reason is because the performance is low in brightness, contrast, response speed.

밝기의 향상은 2가지 기술의 조합, 즉 반사전극의 반사효율을 높이는 기술과 초고개구율 기술을 조합함으로써 실현되고 있다. Improvement in the brightness can be realized by combining the two techniques in combination, that is, the reflection electrode to increase the reflection efficiency technology and ultra-high aperture ratio technology. 반사효율을 높이는 기술은 이미 종래의 게스트 호스트 액정에 사용된 바 있으며, 반사기능을 부여한 전극에 미세한 요철을 만들어 반사효율을 최대로 하는 기술은, 미국 특허 번호 5,610,741에 개시되어 있다. Techniques to increase the reflection efficiency is already a bar, and technology to maximize the reflection efficiency create fine irregularities on the electrode given a reflecting function used for the conventional guest host liquid crystal is disclosed in U.S. Patent No. 5,610,741.

도 1은 상기한 선행기술의 반사형 액정표시기에서 반사전극의 표면을 개략적으로 도시한 평면도이다. Figure 1 is a schematic illustration of a surface of the reflective electrode in a reflective liquid crystal display of the above-described prior art floor plan.

도 1을 참조하면, 반사전극(10)은 돌출된 반구 형상의 마이크로 렌즈가 불규칙하게 배열된 구조를 가진다. 1, the reflection electrode 10 has the micro-lens of the projecting semi-spherical irregularly arranged structure.

그러나, 상기의 선행기술은 마이크로 렌즈(2)가 반구형이기 때문에, 마이크로 렌즈들 사이의 공간(4)은 위치에 따라 서로 크기가 다르다. However, the prior art is because the micro-lens (2) is semi-spherical, space 4 between the micro lenses are different in size from each other according to the position. 이러한 각 공간(4)의 크기에서의 차이는 마이크로 렌즈들간의 높이 차이로 나타나고, 결과적으로 서로 다른 영역에서의 반사율의 불균일성이 야기된다. The difference in size of each such space 4 is high appears as the difference between the micro-lens, and as a result caused by the non-uniformity of reflectance from each other in other areas. 이러한 반사율의 불균일성은 액정분자들의 배향의 불균일성을 야기하여, 화상을 표현하는데 있어서, 흑백의 대비비가 떨어지는 단점이 있다. This non-uniformity of the reflectance according to the causes of non-uniformity of the liquid crystal molecular alignment, representing the image, there is a disadvantage compared to the ratio of black and white falling.

또한, 반구형의 마이크로 렌즈와 렌즈 사이의 공간 크기는 위치에 따라 모두 다르기 때문에, 설계치와 같은 정확한 렌즈 형성이 힘들다. Further, since the space between the semi-spherical microlenses and lenses of different, are all based on the location, it is difficult to form a precise lens, such as a design value.

따라서, 본 발명은 상기의 종래 기술보다 더 효율적인 반사율을 실현하면서, 대비비 또한 증가시키는데 한 가지 목적이 있다. Accordingly, the present invention while providing a more efficient than the reflectivity of the prior art, there is one aims to contrast ratio also increases.

본 발명의 다른 목적은 반사전극의 마이크로 렌즈를 설계치와 같이 정확하게 형성하는데 있다. Another object of the present invention to accurately form the micro-lens of the reflective electrode, such as a design value.

도 1은 종래의 반사형 액정표시장치의 반사전극의 평면도. 1 is a plan view of the reflective electrode of a conventional reflective liquid crystal display device.

도 2는 일반적인 반사형 액정표시장치의 개략적 부분 단면도. Figure 2 is a schematic partial cross-sectional view of a typical reflective liquid crystal display device.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사전극의 부분 평면도. Figure 3 is a partial plan view of a reflecting electrode according to an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 II'선을 따라 절단된 단면도. Figure 4 is a cross-sectional view taken along the line II 'of FIG.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사전극의 부분 평면도. Figure 5 is a partial plan view of a reflecting electrode according to an embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절단된 단면도. 6 is Ⅱ-Ⅱ 'a cross-sectional view taken along the line of FIG.

도 7a와 도 7b는 종래와 본 발명의 실시예에 따른 반사형 액정표시기에서 수직 방향과 수평 방향에서의 반사율을 측정한 그래프. Figure 7a and Figure 7b is a measure of the reflectance of the vertical direction and the horizontal direction in the reflection type liquid crystal display according to an embodiment of the present invention and the conventional graph.

도 8a는 도 3의 반사전극을 형성하기 위한 포토 마스크의 제작과정을 설명하는 도면. Figure 8a is a view for explaining the manufacturing process of the photomask for forming the reflective electrode in FIG.

도 8b는 도 5의 반사전극을 형성하기 위한 포토 마스크의 제작과정을 설명하는 도면. Figure 8b is a view for explaining the manufacturing process of the photomask for forming the reflective electrode in FIG.

도 9a는 도 8a의 포토 마스크를 임의 방향으로 절단한 부분 단면도. Figure 9a is a partial cross-sectional view cutting the photomask of Figure 8a in a random direction.

도 9b는 도 8b의 포토 마스크를 임의 방향으로 절단한 부분 단면도. Figure 9b is a partial cross-sectional view cutting the photomask of Figure 8b in any direction.

도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반사형 액정표시장치의 박막 트랜지스터 기판의 부분 평면도. Figure 10 is a partial plan view of the TFT substrate of the reflective liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention.

도 11a 내지 도 11c는 도 10의 반사형 박막 트랜지스터 기판을 제조하는 과정을 설명하는 공정 흐름도. Figure 11a to Figure 11c is a process flow diagram illustrating a process for producing a reflective TFT array panel of FIG.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 반사형 액정표시장치는, 반사전극의 돌기가 불규칙한 모양의 다각형으로 배치되고, 그 돌기 사이의 폭은 일정하다. In order to achieve the above object, a reflection type liquid crystal display device of the present invention, the projection of reflective electrode are arranged in a polygon of irregular shape, the width between the projections is constant. 이처럼, 각 방향에서 돌기의 크기가 불규칙한 요철 구조를 갖고, 또한 평평한 영역이 최대한 감소하므로, 광 효율이 높으며, 깊은 요부에 의한 배향의 불균일성이 최소화된다. In this way, having a size of the projection irregular concave-convex structure in each direction, and so that the flat regions as much as possible reduced, high optical efficiency, and the unevenness of the alignment due to the deep recess is minimized.

선택적으로, 돌기의 표면으로부터 소정 깊이로 함몰된 오목부를 두므로써, 정면에서의 반사율을 높인다. Alternatively, meurosseo two projections from the surface of the recessed portion recessed to a predetermined depth, and to increase the reflectivity at the front.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 반사형 액정표시장치의 제조방법은, 먼저 스위칭 소자가 형성된 절연기판의 전면에 감광성의 유기 절연막을 도포한다. According to another aspect of the invention, a method of manufacturing a reflection type liquid crystal display device, an organic insulating layer is coated on the entire surface of the photosensitive insulating substrate on which a switching element is formed first. 유기 절연막의 표면이 불규칙한 모양의 다각형 돌기를 갖으며, 그 돌기들 사이의 골의 폭이 일정하도록 유기 절연막을 1차 노광한다. It had have a polygonal projection of the irregular surface shape of the organic insulating film, the first exposure of the organic insulating layer that the width of bone between the projections is constant. 다음으로, 스위칭 소자의 드레인 전극이 노출되도록, 유기 절연막의 소정 부분을 2차 노광한다. Next, so that the drain electrode is exposed in the switching device, the second exposure of the predetermined portion of the organic insulating film. 1차, 2차 노광된 부분을 한 번에 현상한다. First, a developing part of a second exposure at a time. 현상된 유기 절연막을 소정 온도에서 리플로우 한다. Given the developed organic insulating film is reflowed at a temperature. 다음으로, 전면에 알루미늄과 같은 반사형 금속을 증착하고 패터닝하여, 유기 절연막과 동일한 요철 구조를 갖는 반사전극을 형성한다. Next, by depositing a reflective metal such as aluminum in the front and patterned to form the reflective electrode having the same concavo-convex structure and an organic insulating film.

본 발명의 다른 목적과 특징 및 장점들은 첨부한 도면을 참고한 상세한 설명으로부터 보다 분명해질 것이다. Other objects, features and advantages of the invention will become more apparent from a detailed reference to the accompanying drawings described.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. With reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention.

도 2은 반사형 박막 트랜지스터 액정 표시 장치의 개략적인 단면도이다. Figure 2 is a schematic sectional view of a reflection-type thin film transistor liquid crystal display.

도 2를 참조하면, 반사형 액정표시장치는 내표면에 스위칭 소자인 박막 트랜지스터(114)와 돌기의 형상을 갖는 반사판으로 구성된 화소 전극(이하, 반사전극으로 언급함)(118)을 갖는 제 1 절연기판(112)과, 위상차판(146)과 편광판(148)이 외표면에 순차적으로 부착되고, 내표면측에는 블랙 매트릭스(134)와 적, 녹, 청의 컬러필터(136), 투명 공통전극(138)으로 이루어진 투광성의 제 2 절연기판(132)이 스페이서(142)를 이용하여 일정 간격으로 결합된 사이에 액정 물질(144)이 개재된 구성을 갖는다. 2, the reflection type liquid crystal display device includes a with the inner surface of the pixel electrode (also referred to below, the reflective electrode) 118 consisting of a reflector having a switching element in the shape of a thin film transistor 114 and the protrusions on the first an insulating substrate 112, a retardation plate 146, and are sequentially attached to the outer surface of the polarizing plate 148, the inner surface of the black matrix 134 and the red, green, and the color filter 136, the Agency side, a transparent common electrode ( 138) a second insulating substrate (132 of the light transmitting) has a construction made of a liquid crystal material 144 sandwiched between with a spacer (142) coupled at a predetermined interval.

반사전극(118)을 포함하는 제 1 절연기판(112)의 내표면과 공통전극을 포함하는 제 2 절연기판(132)의 내표면에는 액정의 배향을 위한 배향막(120, 140)이 각각 배치된다. A reflective electrode (118) a first isolated in the surface of the alignment film (120, 140) for the alignment of the liquid crystal of the second insulating substrate 132, including the inner surface and the common electrode of the substrate 112, including the arranged respective .

본 발명은, 상기의 구성에 있어서, 특히 반사전극(118)의 구성 및 형상에 관한 것이다. The present invention according to the above configuration, and more specifically, to the configuration and the shape of the reflective electrode 118.

〈실시예 1〉 <Example 1>

도 3은 도 2의 반사전극(118)의 부분적 평면도이다. Figure 3 is a partial plan view of a reflecting electrode 118 of Fig.

도 3에서 보는 바와 같이, 반사전극(118)은 개개의 폐곡선이 모양과 크기가 다른 다각형 구조를 갖고 있다. As shown in Figure 3, the reflective electrode 118 may have a particular shape and size of a closed curve having a different polygonal geometry. 예를 들어, 각 폐곡선(118a, 118c)은 각의 숫자가 다른 적어도 두개의 다각형으로 구성될 수 있다. For example, each closed curve (118a, 118c) is the number of each may be composed of at least two other of the polygon. 각 폐곡선(118a, 118c)은 돌출된 구조를 갖으며, 각 폐곡선(118a, 118c), 즉 돌기 사이의 공간(118b)은 골에 해당한다. Each closed curve (118a, 118c) were to have a protruding structure, the space (118b) between each closed curve (118a, 118c), that is the projections corresponds to the bone. 바람직하게는, 각 골(118b)은 돌기(118a, 118c)의 마루(정점) 사이의 평균 거리의 약 50% 이내에 해당하는 일정한 선폭을 가진다. Preferably, each valley (118b) has a constant line width corresponding to less than about 50% of the average distance between the floor (apex) of the projections (118a, 118c). 바람직하게는, 돌기(118a, 118c)의 마루(정점)와 인접한 마루 사이의 거리의 평균은 약 8 ~ 30μm의 범위에 있고, 예를 들어, 평균 거리가 약 10μm일 때, 골의 선폭은 약 1 ~ 5μm의 범위를 갖는다. Preferably, the projection average of the distance between the floor (top) and the adjacent floor (118a, 118c) is in the range of about 8 ~ 30μm, for example, when the average distance is about 10μm, the line width of the bone is from about in the range of 1 ~ 5μm.

도 4는 도 3의 Ⅰ-Ⅰ'의 선을 따라 절단된 단면도로서, 본 실시예 1의 특징을 잘 보여준다. 4 is a cross-sectional view taken along the line of Ⅰ-Ⅰ 'of Figure 3, showing better the characteristics of the first embodiment.

도 4에서와 같이 본 발명의 반사전극(118)은 금속 특히 반사율이 높은 알루미늄 등으로 이루어진다. A reflective electrode 118 of the present invention, as shown in 4 is made of metal, especially aluminum, high reflectance. 광효율을 높이기 위하여 반사전극(118)은 다수의 다각형이 불규칙하게 배치된 돌기 형상을 하고, 동일 구조의 유기절연막(116)의 위에 형성된다. A reflective electrode 118 in order to improve the light efficiency is the number of the polygons are irregularly arranged protruding shape, and is formed on the organic insulating layer 116 of the same structure. 즉, 반사전극(118)은 유기절연막(116)의 형상과 대응하는 형상을 가진다. That is, the reflective electrode 118 has a shape corresponding to the shape of the organic insulating film 116.

바람직하게는, 선택 방향에서 각 폐곡선의 골(118b)에서 또 다른 골 사이의 거리(W, W', W')는 각각 서로 다르게 배치된다. Preferably, the distance between another goal of the goal (118b) of each closed curve in the selected direction (W, W ', W') are arranged differently from each other, respectively. 돌기(118a, 118c)의 높이는 대략 인접 골(118b)에서 골 사이의 거리에 따라서 비례의 관계에 있지만 골들의 높이는 기판(112)의 표면으로부터 거의 동일하게 구성된다. The height of the projections (118a, 118c) are almost the same as the configuration from the surface of the substrate 112, the height of the bone, but the relationship between the proportion in accordance with the distance between adjacent bone marrow at approximately (118b).

도 4에서 보는 바와 같이, 본 실시예는 특정한 방향으로 그러한 특징이 있는 것이 아니라 도 3의 어느 방향의 단면도에서도 마찬가지이다. As shown in Figure 4, it is the same in this embodiment is a cross-section of which the direction of Figure 3, rather than with such features in a particular direction. 예를 들면 도 3의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절단된 단면도(미도시)에서도 도 4와 유사한 단면이 얻어진다. For it is obtained in a similar cross-section and Fig. 4-g Ⅱ Ⅱ 'a cross-sectional view taken along a line (not shown) of Fig.

〈실시예 2〉 <Example 2>

본 발명의 제 2 실시예는 제 1 실시예에서 정면에서의 반사율을 높이기 위하여 도 2에서와 같은 폐곡선의 중앙부에 오목한 보조 형상을 두는 것이다. The second embodiment of the present invention is to place the auxiliary concave shape in the central portion of the closed curve such as in Figure 2 to enhance the reflectivity at the front in the first embodiment.

도 5는 제 2 실시예의 평면도이고, 도 6은 도 5의 Ⅲ-Ⅲ'선을 따라 절단된 단면도이다. 5 is a is a plan view of the second embodiment, Figure 6 is a cross-sectional view taken along a Ⅲ-Ⅲ 'line of Fig. 도 3, 도 4와 비교하여 보면, 제 2 실시예의 반사전극(218)은 돌기(218a, 218c)의 마루로부터 소정 깊이로 함몰된 작은 분화구(218d, 218e)가 추가로 형성된다. FIGS. 3, Compared with 4, a second embodiment of the reflective electrode 218 is formed with a protrusion (218a, 218c), a small crater (218d, 218e) recessed to a predetermined depth from the floor of an add.

분화구(218d, 218e)는 그 정점을 중심으로 상기 다각형의 폐곡선과 동일하거나 혹은 다를 수도 있지만, 돌기(218a, 218c) 직경의 약 30% 정도가 되도록 한다. Crater (218d, 218e) it is also the same as that of the closed curve or polygon or vary about its vertex, but, so that the degree of protrusion (218a, 218c) of about 30% of the diameter.

도 7a와 도 7b는 반사전극의 구조를 달리 하였을 때, 반사각에 따른 반사율의 변화를 도시한 그래프로서, 도 7a는 수직방향에서의 반사율의 변화, 도 7b는 수평방향에서의 반사율의 변화를 보여준다. Figure 7a and Figure 7b is a graph showing the change of reflectivity according to the angle of reflection when varying the structure of the reflective electrode, Figure 7a is the change in reflectance in the vertical direction, Figure 7b shows the change in the reflection factor in the horizontal direction . 여기서, 측정된 반사율은 입사각을 -30도로 하였을 때, 화면의 정면(즉 0도)에서 50도까지에서의 반사율의 변화값이다. Here, the measured reflectance when the incident angle of -30 degrees, a change value of the reflectance in from the front (i.e. 0 °) to the screen 50 Fig.

도 7a에 도시된 것처럼, 반사전극의 구조가 도 1에 도시된 것과 같이 원형인 것, 도 3에 도시한 다각형의 형상을 한 것, 그리고 도 5에 도시한 다각형의 형상의 돌기 중앙에 분화구가 형성된 경우에 있어서, 0도에서 약 23도까지와, 약 37도에서 50도까지의 범위에서는 도 3에 도시한 다각형의 반사전극과, 도 5에 도시한 다각형의 형상의 돌기 중앙에 분화구가 형성된 반사전극이 도 1의 원형 구조에 비하여 수직 반사율이 매우 높다. As shown in Figure 7a, is the structure of a reflective electrode that is circular, as shown in Figure 1, to the the shape of the illustrated polygonal in Figure 3, and a crater on the projection center of the image of a city polygon in Figure 5 in the case is formed, and from zero to about 23 degrees, a crater formed in the projection center of the shape of the polygon illustrated in Figure 5, the reflective electrode of illustrating polygon in Figure 3, the range from about 37 degrees to 50 degrees the reflective electrode is very high normal reflectivity as compared to the circular structure of Fig.

도 7b에 도시된 것처럼 수평 반사율은, 0도에서 약 18도까지와, 약 38도에서 약 50도까지의 범위에서 도 3에 도시한 다각형의 반사전극과 도 5에 도시한 다각형의 형상의 돌기 중앙에 분화구가 형성된 반사전극이 도 1의 원형 구조에 비하여 매우 높다. The as horizontal reflectance shown in Figure 7b is, and from zero to about 18 degrees, about 38 degrees about 50 degrees the projections of the shape of the polygon illustrated in Figure 5 and the reflective electrode of illustrating polygon in Figure 3 in the range of from the reflection electrode is formed in a crater in the center is also very high compared to the circular structure of Fig.

아울러, 상기한 측정 결과는 수직 반사율의 경우, 정면에서 보았을 때, 분화구가 있는 다각형 구조가 분화구가 없는 다각형 구조에 비하여 반사율이 높다는 것을 알 수 있다. In addition, the measured results can be seen that the case of the vertical reflection, when viewed from the front side, a polygonal structure with a crater higher reflectance than the polygonal structure with no craters. 또한, 분화구가 있는 다각형 구조가 분화구가 없는 다각형 구조에 비하여 측정각도에서 반사율의 변화가 적다는 것을 보여준다. In addition, it shows that the polygonal structure with the crater a change in reflectance at the measurement angle is less than the polygonal structure with no craters.

한편, 상기한 반사율 외에도 흑백 대비비(Contrast ratio)도 표시질을 좌우하는 중요한 요소이다. On the other hand, in addition to the above-mentioned reflectivity is an important factor influencing the display quality also in black and white contrast ratio (Contrast ratio).

하기의 표 1은 도 1에 도시한 원형의 반사전극과 도 3에 도시한 다각형 구조의 반사전극이 채용된 반사형 액정표시기에서 입사각이 -30도이고, 측정은 정면, 즉 0도에서 대비비를 측정한 결과로서, 본원발명의 다각형 구조의 반사전극의 경우가 종래의 원형 구조에 비하여 월등히 높은 대비비를 갖는다는 것을 보여준다. To a Table 1 shows the structure of a polygon of the reflective electrode is employed the angle of incidence at the reflective liquid crystal display shown in circles in the reflective electrode in FIG. 3 shown in FIG. 1-30, to measure the contrast ratio in the front, that is, 0 ° as a result of the measurement shows that in the case of the reflective electrode of the polygonal structure of the present invention is has a much higher contrast ratio in comparison with the conventional circular structure.

구 분 division 반사율(%) reflectivity(%) 대비비 Contrast ratio 기존 렌즈 구조(원) Conventional lens structure (W) 20 20 2:1 2:01 새로운 렌즈 구조(다각형) New lens structure (polygonal) 30 30 15:1 15:01

〈실시예 3〉 <Example 3>

다음으로, 상기한 제 1, 제 2 실시예들에서 제시한 반사전극의 구조를 형성하도록 마스크를 설계할 수 있는 설계방법을 설명한다. Next, a design method for designing a mask to form the structure of the reflection electrodes proposed in the above-described first and second embodiments.

먼저, 화소영역을 정하고, 그것의 한 변을 x축으로, x축과 교차하는 다른 한 변을 y축으로 하여 각 점의 좌표(x, y)를 컴퓨터의 불규칙 함수 발생기(random function generator)를 사용하여 생성한다. First, define a pixel region, its one side in the x-axis, to the other side crossing the x-axis in the y-axis coordinates (x, y) a random function generator (random function generator) in the computer for each point It generates, using. 이때, 이웃하는 각 좌표의 평균 거리는 단위 면적당 몇 개의 좌표수를 구할 것인가로 정하는데, 예를 들면 정점간의 거리를 평균 10μm로 설정한다면, mm 2 당 대략 14,000여개 이상의 좌표값을 구한다. At this time, to establish a means for each coordinate neighboring distance will obtain the number per unit area, number of coordinates, for example, if setting the distance between the vertex to the average 10μm, 2 mm is obtained over the substantially over 14,000 per coordinate value.

도 8a에 도시한 것처럼, 구한 좌표값에서 인접한 점을 연결하고, 그 중점에서 직각을 이루는 방향으로 직선을 그어서 만나는 선들을 통하여 이루는 다각형(152)을 형성한다. As shown in Figure 8a, the connecting point adjacent in the calculated coordinates, and forming a polygon (152) forming a straight line through the lines meet geueoseo in a direction perpendicular from the midpoint. 바람직하게는, 각각의 다각형(152)은 모양이 다르고, 크기 또한 다르게 형성한다. Preferably, each of the polygon 152 is different from the shape, size also formed differently. 각 다각형의 각 변의 양옆으로 1 ~ 5μm정도의 폭, 즉 다각형의 정점간의 평균 거리의 50% 이내의 폭으로 골(154)에 해당하는 선을 긋는다. To each side of the sides of each polygon 1 ~ 5μm degree width, that is, draw a line corresponding to the bone 154 by less than 50% of the average distance between the vertices of the polygon width.

도 8a와 같이, 다각형 패턴과 골이 설계되면, 마스크를 설계된 패턴과 같이 형성한다. As shown in Figure 8a, when the polygon pattern with ribs designed to form a pattern as a mask design. 즉, 예를 들어, 감광성 유기 절연막이 포지티브 형인 경우에는, 다각형 패턴(152)에 해당하는 부분에는 입사광을 차단하는 차광영역을 형성하고, 골(152)에 해당하는 부분에는 입사광을 투과하는 투광영역을 형성하여, 마스크(150)를 제작한다. That is, for example, when the photosensitive organic insulating film type positive has, in the part which is to form a light-shielding region for blocking the incident light portion corresponding to the polygonal pattern 152 and the bone 152, the transmissive area for transmitting light incident the form, a mask is fabricated on (150). 한편, 네거티브 형 감광성 유기 절연막의 노광을 위해서는, 투광영역과 차광영역이 서로 바뀐다. On the other hand, in order to exposure of the negative-type photosensitive organic insulating film, the light transmitting area and a light blocking region is changed with each other.

또한, 돌기 가운데에 분화구를 두는 경우에는 도 8a에서 설명한 것과 동일한 방법으로 다각형 패턴과 골 패턴을 설계하고, 도 8b에 도시한 것처럼, 다각형 돌기(252)의 정점을 중심으로 다각형의 폐곡선과 동일한 혹은 다를 수도 있지만, 직경의 30% 정도가 되도록 다각형의 분화구(256)를 그린다. Further, when placing a crater in the center of the projection is designed with a polygonal pattern and bone pattern in the same manner as that described in Figure 8a and, as shown in Figure 8b, about the vertices of the polygonal projection (252) the same, or as a closed curve of a polygon but it may be different, such that 30% of the diameter of the crater is drawn (256) of the polygon.

상기의 데이터를 바탕으로, 도 5와 도 6에 도시한 반사전극(218)의 골(218b)과 분화구(218e)에 해당하는 부분이 투광영역으로 되고, 돌기(218a, 218c)에 해당하는 부분이 차광영역으로 되는 포토 마스크(250)를 제작한다. Portion at which the portion corresponding to the bone (218b) and the craters (218e) of the reflection electrode 218 as shown in on the basis of the data, Fig. 5 and 6 and the light transmitting area, that the projections (218a, 218c) , to produce a photo mask 250 is in the light shielding region.

상기한 방법으로 제작한 포토 마스크의 단면도를 도 9a와 도 9b에 도시하였다. A cross-sectional view of a photo-mask produced by the method described above is illustrated in Figure 9b and Figure 9a.

도 9a는 분화구가 없는 다각형 구조의 반사전극을 형성하기 위한 포토 마스크(150)로서, 반사전극의 하부에 형성된 포지티브 포토 레지스트 특성을 갖는 유기 절연막을 노광하는데 사용된다. Figure 9a is used as a photo mask 150 for forming the reflective electrode of a polygonal structure with no craters, exposing the organic insulating film having positive photoresist features formed in the lower portion of the reflective electrode.

도 9a에서, 참조부호 151은 석영기판이고, 참조부호 152는 입사광을 차단하는 차광영역으로서 다각형 영역에 해당하고, 그리고 참조부호 154는 입사광을 투과하는 투광영역으로서, 골 영역에 해당한다. In Figure 9a, reference numeral 151 is a quartz substrate, reference numeral 152 corresponds to the polygonal region as a light-shielding region for blocking the incident light, and the reference numeral 154, and corresponds to a light-transmitting region for transmitting the incident light, and bone area.

만약에 네거티브 포토레지스트 성분이 유기 절연막인 경우에는 도 9a와 동일한 형상을 패터닝할 때는 반대로 형성되어 빛이 투과하는 부분이 돌기에 해당하고, 빛을 투과하지 못하는 영역이 골에 해당한다. If negative photoresist composition is formed on the other hand, when patterning the same shape as the case of Figure 9a, the organic insulating film to correspond to the protrusion portions, which light is transmitted, and that is not transmitted through the light areas of bone.

도 9b는 돌기부에 분화구 형태의 오목부를 두는 경우의 포토 마스크(250)로서, 포지티브 포토 레지스트 특성을 갖는 유기 절연막의 노광에 사용된다. Figure 9b is a photo mask 250, in the case of placing the concave parts form a crater in the projections, is used for the exposure of the organic insulating film having positive photoresist characteristics. 물론 네거티브 포토 레지스트 막을 사용하는 경우에는 반대의 상으로 형성한다. Of course, when using a negative photoresist film is formed onto the opposite.

〈실시예 4〉 <Example 4>

도 10은 박막 트랜지스터를 스위칭 소자로 이용하는 반사형 액정표시기의 개략적 부분 평면도로서, 단위 화소영역과 그 주변부를 보여준다. 10 is a schematic partial plan view of a reflective liquid crystal display using a TFT as a switching device, showing the unit pixel region and its peripheral portion.

도 10을 참조하면, 행 방향으로 배열된 게이트 라인(103a)과, 게이트 라인(103a)으로부터 수직 분기된 게이트 전극(103)이 절연기판 위에 배치된다. Referring to Figure 10, the vertical branch of the gate electrode 103 from the gate line (103a) arranged in a row direction, a gate line (103a) is disposed on an insulating substrate. 스토리지 전극(162)이 게이트 라인(103a)과 소정 거리만큼 이격되고, 게이트 라인(103a)과 평행하게 배열되도록 절연기판 위에 배치된다. Storage electrode 162, a gate line (103a) and spaced apart by a predetermined distance, it is arranged on an insulating substrate arranged parallel to the gate line (103a).

게이트 전극(103) 위에는 비정질 실리콘 등으로 이루어진 반도체 막 패턴(106)이 배치된다. A semiconductor layer pattern 106 is made of amorphous silicon or the like is disposed above the gate electrode 103. 게이트 라인(103a)과 후술할 데이터 라인(111)이 교차하는 부분에도 선택적으로 반도체 막 패턴(107)이 배치된다. A gate line (103a) and a data line 111 is optionally a semiconductor layer pattern 107 in the crossing portion, which will be described later are disposed. 이 반도체 막 패턴(107)은 데이터 라인(111)의 오픈 불량이나 게이트 라인(103a)과 데이터 라인(111)간의 쇼트 불량을 방지하는 역할을 한다. A semiconductor layer pattern 107 serves to prevent short-circuit defects between the data line 111 open defect and the gate line (103a) and a data line 111 of the.

도 10에는 도시되지 않았지만, 게이트 전극과 반도체 막 패턴(106) 사이에는 절연을 위하여, 예를 들어 질화실리콘막으로 이루어진 게이트 절연막이 개재된다. 10, though not shown, to the insulation between the gate electrode and the semiconductor layer pattern 106, for example, via a gate insulating film made of a silicon nitride film.

게이트 절연막 위에, 게이트 라인(103a)과 직교하도록 데이터 라인(111)이 배치된다. On the gate insulating film, the data lines 111 are disposed so as to be perpendicular to the gate line (103a). 데이터 라인(111)의 소정 위치에서 분기된 소오스 전극(110a)은 반도체 막 패턴(106)의 일측 가장자리까지 연장된다. A source electrode (110a) branches at a predetermined position of the data line 111 is extended to the one side edge of the semiconductor layer pattern 106. 소오스 전극(110a)과 소정 간격을 두고 대향하도록, 반도체 막 패턴(106)의 타측 가장자리에 연장 형성된다. Placed so as to face the source electrode (110a) with a predetermined interval, it is formed extending to the other side edge of the semiconductor layer pattern 106.

도 10에 도시되지는 않았지만, 소오스 전극(110a)과 반도체 막 패턴(106)의 사이와, 드레인 전극(110b)과 반도체 막 패턴의 사이에 고농도의 n형 불순물이 도프된 오믹 콘택층이 개재된다. Although not shown in Figure 10, the source electrode (110a) and an ohmic contact layer between, and a high-concentration n-type impurity between the drain electrode (110b) and the semiconductor layer pattern doping of the semiconductor layer pattern 106 is interposed .

상기한 게이트 전극(103), 반도체 막 패턴(106), 소오스 전극(110a) 및 드레인 전극(110b)은 박막 트랜지스터를 구성한다. The gate electrode 103, a semiconductor layer pattern 106, a source electrode (110a) and a drain electrode (110b) constitutes a thin-film transistor.

박막 트랜지스터와 게이트 절연막을 포함하는 결과물의 전면에 다각형의 요철 구조의 절연막(미도시), 바람직하게는 감광막의 기능을 갖는 유기 절연막이 배치된다. Is the thin film transistor and a gate insulating film over the insulating film of the concavo-convex structure of the polygons to the result, including (not shown), preferably the organic insulating layer having the function of the photosensitive film is disposed. 유기 절연막의 상부에는 도 3 내지 도 6에서 도시된 것처럼 다각형의 요철구조를 갖는 반사전극(118)이 배치된다. The upper part of the organic insulating film, as shown in figures 3-6 is arranged a reflective electrode 118 having a concave-convex structure of the polygon. 도 10에서 참조부호 118BL은 반사전극의 경계선을 나타낸다. Reference numeral 10 in Fig. 118BL represents the boundary of the reflective electrode.

반사전극(118)은 유기절연막에 형성된 콘택홀(164)을 통하여 드레인 전극(110b)과 전기적으로 콘택된다. A reflective electrode 118 is in electrical contact with the drain electrode (110b) through a contact hole 164 formed on the organic insulating film.

도 10에서는 반사전극(118)이 한 쌍의 게이트 라인(103a)과 한 쌍의 데이터 라인(111)이 교차되는 영역으로 정의되는 단위 화소영역을 벗어나서 인접한 단위 화소영역까지 연장된 경우를 보이고 있는데, 이는 반사전극의 반사율을 높이기 위한 선택사항으로서 그 경계영역은 다양하게 변경될 수 있다. There is also 10, showing a case where the reflection electrode 118, a pair of the gate line (103a) and the pair of data line 111 is outside the unit pixel area defined by the intersection region extends to the adjacent unit pixel areas, This is the boundary area as a choice for increasing the reflectivity of the reflective electrode locations may be changed in various ways. 예를 들어, 반사전극은 박막 트랜지스터 부분을 제외한 단위 화소영역 내에 형성될 수 있다. For example, the reflective electrode may be formed in a unit pixel region other than the thin film transistor section.

도 10에 도시한 반사형 액정표시기의 박막 트랜지스터 기판의 제조과정을 도 11a 내지 도 11c를 참조하여 설명한다. It will be described with the manufacturing process of a reflection-type thin film transistor substrate of the liquid crystal display shown in FIG. 10, see Fig. 11a to Fig. 11c. 도 11c는 도 10의 Ⅳ-Ⅳ'선을 따라 절단된 단면도이다. Figure 11c is a cross-sectional view taken along the Ⅳ-Ⅳ 'line of Fig.

도 10과 11a를 참조하면, 절연 기판(112), 예를 들어 유리기판 상에 금속막을 패턴하여 게이트 전극(103) 및 게이트 라인(103a)이 형성된다. Referring to Figure 10 and 11a, the insulating substrate 112, such as a metal film pattern on a glass substrate by a gate electrode 103 and the gate line (103a) is formed. 이때, 스토리지 전극 패턴(162)가 함께 형성된다. In this case, the storage electrode pattern 162 is formed with. 게이트 전극(103), 게이트 라인(103a), 및 스토리지 전극 패턴(162)를 포함하는 기판(112)의 전면에 게이트 절연막(104)이 형성된다. A gate insulating film 104 is formed over the entire surface of the gate electrode 103, a gate line (103a), and a storage electrode pattern substrate 112, including the 162. The 게이트 절연막(104)으로서 실리콘 질화막(Si x N y , x, y는 정수) 또는 실리콘 산화막(SiO 2 )이 사용되고, 이들은 플라즈마 화학기상증착법으로 형성된다. As a gate insulating film 104, silicon nitride (Si x N y, x, y is a positive number) or silicon oxide (SiO 2) are used, and they are formed by plasma chemical vapor deposition method.

다음으로, 게이트 전극(103)에 그의 일단이 위치하도록, 게이트 절연막(104) 위에 비정질 실리콘층으로 된 반도체 층(106)과, 인 등의 n형 불순물이 고농도로 도핑된 비정질실리콘층으로 된 오믹 콘택층(108)이 형성된다. Next, the gate electrode 103, its one end is to be located, a gate insulating film 104 on an n-type of semiconductor layer 106, the amorphous silicon layer, the impurities are ohmic of the amorphous silicon layer doped with a high concentration in the contact layer 108 is formed. 도 11a에서는 반도체 층(106)과 오믹 콘택층(108)이 게이트 전극(103)의 양 옆까지 연장된 구조를 보이고 있지만, 선택적으로 이들은 게이트 전극의 상부에만 형성될 수 있다. In Figure 11a, but showing a structure extending to both side of the semiconductor layer 106 and the ohmic contact layer 108, a gate electrode 103, which may optionally be formed on only the upper portion of the gate electrode.

다음으로, 오믹 콘택층(108)과 전기적으로 콘택되도록, 금속으로 소오스 전극(110a), 드레인 전극(110b) 및 데이터 라인(111)이 형성된다. Next, the ohmic contact layer 108, and so that electrical contact with, a source electrode (110a) of a metal, a drain electrode (110b) and the data line 111 is formed. 상기한 단계를 거쳐서 박막 트랜지스터가 형성된다. Via the above-described step to form the thin film transistor.

다음으로, 도 11b를 참조하면, 박막 트랜지스터가 형성된 결과적인 기판에 유기절연막을 1 ~ 3μm의 두께로 코팅 등의 방법으로 형성하고, 도 3 내지 도 6에 도시된 다각형의 돌기를 형성하기 위한 제 1 차 포토 노광 공정을 행한다. Next, referring to Figure 11b, a thin film transistor is first to form the projection of the polygon shown an organic insulating layer on the resultant substrate formed in the 1 ~ 3μm thickness of 3 to 6, to form, for example by coating with a It performs the primary photo exposure process. 제 1 차 노광 공정을 위하여 도 9a와 도 9b에서 도시된 포토 마스크가 사용된다. Claim that the photo mask shown in Figure 9a and Figure 9b for the first exposure process are used.

반사 전극(118)과 드레인 전극(110b)을 연결하기 위한 콘택홀을 형성하기 위하여 별도의 포토 마스크(미도시)를 통하여 제 2 차 노광한다. To form a contact hole for connecting the reflection electrode 118 and the drain electrode (110b) and the second exposure through a separate photo-mask (not shown). 다음으로, 제 1 차 노광된 부분과, 제 2 차 노광된 부분을 한 번 현상한다. Next, a first exposed portion and the second exposed portion is developed at a time. 다음으로, 현상된 유기 절연막을 소정 온도에서 가열하여 플로우 시키는 것에 의하여 콘택홀(264)과 다각형 구조의 돌기가 형성된다. Next, the projection of the contact hole 264 and the polygonal structure by a phenomenon that an organic insulating film which is heated to flow at a predetermined temperature is formed.

도 11c를 참조하면, 그 후에, 알루미늄 등의 금속층을 전면에 증착하고, 일반적인 사진 식각공정으로 패턴하여 요철 구조의 다각형 패턴을 갖는 반사전극(118)을 형성한다. Referring to Figure 11c, then, depositing a metal layer such as aluminum in the front and to the pattern in the normal photolithography process to form a reflective electrode 118 having a polygonal pattern of a concavo-convex structure.

한편, 도면에는 도시되지 않았지만, 반사전극(118)을 포함하는 유기 절연막(116)의 전면에는 액정분자들을 선택된 각으로 프리틸트(pretilt)시키기 위한 배향막이 도포된다. On the other hand, though not shown, the front of the reflective organic dielectric film 116 including the electrode 118, the alignment film for the pre-tilt (pretilt) the liquid crystal molecules in each of the selected applied.

이하, 상기한 구성을 갖는 반사형 액정표시장치의 동작을 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, it will be described with the operation of the reflective liquid crystal display device having the above configuration with reference to FIG. 2 as follows.

액정에 전압이 인가되지 않은 오프(Off)상태에서는, 컬러필터 기판의 상부로부터 입사된 빛이 편광판(148)을 통과하면서 직선편광으로 바뀌게 되고 다시 위상차판(146)을 통과하면서 좌원(우원)편광이 된다. The off that the voltage to the liquid crystal is not applied (Off) state, while the light incident from the top of the color filter substrate passing through the polarizing plate 148, and changed to linearly polarized light while passing through the phase difference plate 146 again left circularly (circularly) polarized this is. 이때의 편광(144)은 액정층을 통과하면서 다시 직선편광으로 바뀌고 반사전극(118)에 도달하게 된다. At this time, the polarization 144 of the linearly polarized light is changed again while passing through the liquid crystal layer reaches the reflective electrode 118. 반사된 직선편광은 다시 액정층(144)을 통과하면서 좌원(우원)편광으로 바뀌고 위상차판(146)을 통과하면서는 입사시의 직선편광으로 바뀌어서 편광자(148)를 통과하게 되고 화이트(White) 상태를 나타낸다. The reflected linearly polarized light again passes through the liquid crystal layer 144, left circularly (right circular) changes the polarization and to pass through the polarizer 148 bakkwieoseo to linearly polarized light at the time of incidence passes through the retarder 146, White (White) state It represents an.

반대로 액정(144)에 전압이 인가되면 액정층(144)에 들어가는 좌원(우원)편광이 복굴절을 느끼지 못하여 액정층을 그대로 통과하게 되고 반사판(118)에 의해 위상이 시프트 되면서 우원(좌원)편광으로 바뀌게 된다. In contrast to the as when a voltage is applied to the liquid crystal 144 to the left circularly (circularly) polarized light entering the liquid crystal layer 144 passes through the liquid crystal layer mothayeo feel birefringence as being phase shifted by the reflection plate 118 is right circular (left circularly) polarized It is changed. 방향이 바뀐 우원(좌원)편광은 위상차판을 통과하면서는 입사할 때보다 90도 회전한 직선편광으로 바뀌어서 편광자에 의해 흡수되고 다크(Dark) 상태를 나타낸다. Right circular (left circularly) polarized light direction is changed than when the incident is passing through the phase difference plate is absorbed by the 90-degree linearly polarized light rotating in one bakkwieoseo polarizer shows the dark (Dark) state.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 반사형 액정표시기는, 반사전극의 반사전극의 마이크로 렌즈를 불규칙한 다각형 구조의 다수의 돌기로 구성하고, 그 돌기 사이의 골의 폭은 일정하게 하므로써, 서로 다른 영역에서의 액정분자들의 배향의 불균일성을 방지한다. As described above, the reflection type liquid crystal display of the present invention By the width of bone between the micro lens of the reflective electrode of the reflective electrode of a plurality of projections of the irregular polygonal structure, and the projection is constant, different areas to prevent non-uniformity of the orientation of liquid crystal molecules in the. 그 결과, 화상을 표현하는데 있어서, 반사율의 향상뿐만 아니라 흑백의 대비비를 향상시킨다. As a result, according to express an image, as well as improvement of reflectance and improves the contrast ratio of the black and white.

또한, 본 발명의 반사형 액정표시장치의 제조방법은, 반구형의 마이크로 렌즈와 렌즈 사이의 공간 크기가 위치에 따라 모두 거의 동일하므로, 설계치와 같은 정확한 렌즈 형성이 가능해진다. Further, the method of manufacturing a reflective liquid crystal display device of the present invention, since the space between the semi-spherical microlenses and lenses substantially the same both according to the location, it is possible to correct the lens formation such as a design value.

한편, 여기에서는 본 발명의 특정 실시예에 대하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명의 상세한 설명으로부터 통상의 지식을 가진 자에 의하여 그 변형이 가능할 것이다. On the other hand, where it has been described a particular embodiment of the invention shown, the deformation may be possible by those of ordinary skill from the following detailed description of the invention. 따라서, 이하 특허청구범위는 본 발명의 사상과 정신을 벗어나지 않는 한 이러한 변형과 변경을 포함하는 것으로 간주된다. Thus, the following claims are to be regarded as including such changes and modifications which do not depart from the spirit and scope of the present invention.

Claims (11)

  1. 내표면에 투명전극을 갖는 투명한 제 1 절연기판; Transparent first insulating substrate having a transparent electrode on the inner surface;
    골과 마루를 갖는 복수의 돌기를 포함하는 반사전극을 포함하며, 상기 돌기들의 서로 이웃하는 골이 이루는 다수의 선들과 상기 반사전극의 경계선을 연결하는 선이 다수의 닫힌 폐곡선 영역을 정의하는 제 2 절연기판; Includes a reflective electrode including a plurality of projections having a bone and the floor, and the that the line connecting the neighboring bone are a number of lines and the borders of the reflective electrode constituting that of said projections defining a plurality of closed closed curve area 2 an insulating substrate;
    상기 제 1 절연기판과 상기 제 2 절연기판 사이에 개재되어, 상기 투명전극과 상기 반사전극에 인가되는 전기장에 따라 배열상태가 변화되는 액정층; The first insulating substrate and the second insulating substrate is interposed between the liquid crystal layer where the array status changes according to an electric field applied to the transparent electrode and the reflective electrode;
    상기 투명전극과 상기 반사전극간에 전기장을 발생시키기 위한 전기장 발생수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. A reflective liquid crystal display device characterized in that it comprises an electric field generating means for generating an electric field between the transparent electrode and the reflective electrode.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 폐곡선은 다각형인 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. The method of claim 1 wherein the closed curve is a reflective liquid crystal display device, characterized in that the polygon.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 다각형은 적어도 각의 숫자가 다른 두 개 이상의 다각형을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. The method of claim 2, wherein the polygon is a reflection type liquid crystal display device comprises a polygonal, at least the number of each at least two different dogs.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 반사전극은 상기 마루의 표면으로부터 소정 깊이로 함몰된 오목부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the reflective electrode is a reflective liquid crystal display device, characterized in that further comprises the recessed portions recessed to a predetermined depth from the surface of the floor.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 각 마루의 정점에서 이웃하는 마루의 정점의 거리의 평균은 약 8 ~ 30μm인 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the reflective liquid crystal display device, characterized in that the average distance of the apex of the neighboring tile at the height of each floor is of about 8 ~ 30μm.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 골의 선폭은 이웃하는 마루의 정점의 거리의 50%를 넘지 않는 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the line width of the bone is a reflective liquid crystal display device, characterized in that not more than 50% of the distance of the apex of the neighboring tile.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 절연기판의 표면으로부터 상기 각 골의 높이는 거의 동일하고, 상기 마루의 높이는 서로 다른 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the reflective liquid crystal display device, characterized in that substantially the same, and the height of the tile a different height of said each bone from the surface of the second insulating substrate.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 절연기판의 표면으로부터 상기 각 마루의 높이는 거의 동일하고, 상기 골의 높이는 서로 다른 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치. The method of claim 1, wherein the reflective liquid crystal display device, characterized in that substantially the same, and the height of the bone of different height of each floor from the surface of the second insulating substrate.
  9. 소오스, 드레인 및 게이트 전극을 포함하는 스위칭 소자가 형성된 절연기판의 전면에 감광성의 유기 절연막을 소정 두께로 도포하는 단계; Comprising: an organic insulating layer of a predetermined sensitive to the entire surface of the insulating substrate is formed of a switching element is applied to a thickness including the source, drain and gate electrodes;
    불규칙한 다각형 구조의 차광영역과, 상기 차광영역들 사이에 일정폭의 투광영역을 갖는 마스크를 사용하여, 상기 유기 절연막의 두께보다 작은 깊이로 상기 유기 절연막을 1차 노광하는 단계; Using a mask having a light transmitting area of ​​a predetermined width between the light-shielding region and the light blocking area of ​​the irregular polygonal structure comprising the steps of: exposing the first organic insulating film with a small depth than the thickness of the organic insulating layer;
    상기 스위칭 소자의 드레인 전극이 노출되도록, 상기 유기 절연막의 소정 부분을 2차 노광하는 단계; Such that the drain electrode is exposed in the switching element, the method comprising exposing a predetermined portion of the organic insulating layer secondary;
    상기 1차, 2차 노광된 부분을 현상하는 단계; The first, comprising the steps of developing a portion of the second exposure;
    상기 현상된 유기 절연막을 소정 온도에서 가열하여 플로우 시키는 단계; The step of heating the flow at a predetermined temperature the developing organic insulating film; And
    상기 결과물의 전면에 반사형 금속을 증착하고 패터닝하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치의 제조방법. Method of manufacturing a reflective liquid crystal display device comprising the step of depositing and patterning the reflective metal on the entire surface of the resultant product.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 감광성 유기절연막의 두께는 약 1 ~ 3μm인 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치의 제조방법. The method of claim 9, wherein the method for manufacturing a reflection type liquid crystal display device, characterized in that the thickness of the photosensitive organic insulating layer is about 1 ~ 3μm.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 마스크는 상기 차광영역 내의 소정 부분에 투광영역을 갖는 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치의 제조방법. 10. The method of claim 9, wherein the mask is a method of manufacturing a reflective liquid crystal display device characterized in that it has a light transmitting area to a predetermined portion in the light blocking region.
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