KR100283031B1 - Liquid Chemical Residue Check System in Semiconductor Process - Google Patents
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Abstract
목적 : 본 발명은 테프론제 저장 용기에 잔존하게 되는 화학 용제의 잔량을 극소화시켜 그 폐기량과, 화학 용제의 중화 처리에 소요되는 비용 및 공해물질의 산출량을 격감시킬 수 있는 반도체 공정의 액상 화학제 잔량 체크 시스템을 제공한다.PURPOSE: The present invention minimizes the residual amount of chemical solvent remaining in a Teflon storage container, thereby reducing the amount of waste, the cost of neutralizing the chemical solvent, and the amount of liquid chemical remaining in a semiconductor process that can reduce the yield of pollutants. Provide a check system.
구성 : 본 발명은 화학 용제의 잔량이 수집되는 저류실이 바닥보다 하측면으로 돌출 형성된 테프론제 저장용기와; 상기 저류실을 사이에 두고 대칭되는 위치로 배치되는 발광부 및 수광부와; 이들 발광부 및 수광부가 내부 소정 개소에 고정 배치되고 상기 테프론제 저장 용기를 안정되게 지지하여 주는 용기 받침대와; 상기 테프론제 저장용기로부터 스트로관을 통해 주출되는 화학 용제를 웨이퍼 측으로 또는 배기로에 선택적으로 연통시켜 주는 3상 밸브와; 상기 스트로관을 통해 공급되는 화학 용제로부터 이물, 진개 등을 여과하는 필터와; 상기 스트로관의 종단에 부착되어서 웨이퍼로 공급되는 화학 용제가 공급 정지인 때에 후적을 일으키지 않도록 상기 화학 용제를 흡인하는 흡기관을 갖춘 구성으로 된다.Composition: The present invention comprises a teflon storage container in which a storage chamber in which a residual amount of a chemical solvent is collected protrudes downward from a bottom; A light emitting portion and a light receiving portion disposed in symmetrical positions with the storage chamber therebetween; A container pedestal which is fixed to these light emitting portions and the light receiving portion at predetermined positions and stably supports the Teflon storage container; A three-phase valve for selectively communicating chemical solvents ejected from the Teflon storage container through the straw tube to the wafer side or the exhaust passage; A filter for filtering foreign substances, dust, etc. from the chemical solvent supplied through the straw tube; The inlet pipe is attached to the end of the straw tube and sucks the chemical solvent so that no chemical deposit is generated when the chemical solvent supplied to the wafer is stopped.
효과 : 본 발명은 저장 용기에 잔존하게 되는 화학 용제가 저류실의 체적에 해당되는 극소량으로 되기 때문에 이를 폐기하는 데에 소요되는 중화제 등의 사용량과, 중화 처리되어 폐기되는 공해물질의 산출량을 대폭 줄일 수 있다.EFFECTS: Since the present invention has a very small amount of chemical solvent remaining in the storage container, the amount of the neutralizing agent, etc. required to dispose of it, and the amount of pollutants that are disposed of by neutralization are greatly reduced. Can be.
Description
본 발명은 저장 용기에 수용된 액체의 잔량을 체크하는 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 다량의 순수, 화학용제가 사용되고 있는 반도체 공정에서 액상 화학용제의 수용 잔량을 체크하여 화학용제의 잔량이 초극소량으로 되게 하는 반도체 공정의 액상 화학용제 잔량 체크 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a system for checking the remaining amount of liquid contained in a storage container, and more particularly, in the semiconductor process in which a large amount of pure and chemical solvents are used, the residual amount of the chemical solvent is checked by checking the remaining amount of the liquid chemical solvent. The present invention relates to a liquid chemical solvent remaining amount check system of a semiconductor process.
종래부터, 유체의 수위 또는 액위를 검출하기 위한 여러 가지 방식이 알려져 있으며, 주로 사용되고 있는 방식은 미국 특허 제4,171,932호에 개시되어 있는 바와 같이, 수위 상승 혹은 액위 상승으로 인해 전기적으로 쇼트되는 시점에서 발생하는 전기적 신호를 일정 수위 또는 액위를 감지할 수 있도록 쌍을 이루어 배치된 프로브에 의하여 증폭 신호 처리함으로써 액위를 검출하는 방식이다. 이러한 방식은 간단하면서도 신뢰성 있게 수위나 액위를 검출할 수 있는 방법의 하나이나, 반도체 제조 설비에는 적용하기가 어려운 결점을 가지고 있다.Conventionally, various methods for detecting the fluid level or liquid level are known, and the method mainly used occurs at the time of electrical short due to the level rise or the liquid level rise, as disclosed in US Pat. No. 4,171,932. It is a method of detecting the liquid level by processing the amplified signal by a pair of probes arranged in pairs so as to detect a predetermined level or liquid level. This method is one of simple and reliable methods for detecting water level or liquid level, but has a drawback that is difficult to apply to semiconductor manufacturing equipment.
반도체 제조 설비에 투여되는 액체는 순수나 화학 용제 등이며, 이것의 존재 유무를 접촉 프로브에 의하여 감지하는 경우에는, 그 접촉단이 산화되는 등의 문제가 있고, 접촉 시에 프로브로부터 이물, 진개(塵芥: Particle) 등이 떨어져 나와 청정도를 저하시키는 문제가 있어 적용할 수 없는 것이다.The liquid administered to the semiconductor manufacturing equipment is pure water, a chemical solvent, or the like. When the presence or absence of the liquid is detected by a contact probe, there is a problem such that the contact end is oxidized. Note: There is a problem that the particles, etc., come off and deteriorate the cleanliness.
반도체 디바이스의 제조에 있어서 웨이퍼 표면의 청정화는 대단히 중요하다. 이 때문에 웨이퍼 제조 공정에는 농도가 짙은 산, 알칼리 용액이 세정수로 다량 사용되고 있고, 또 다른 패터닝 공정에서는 포토레지스트가 슬러리 형태로 이용되고 있다. 이와 같이 반도체 제조 공정에서 다량의 화학용제가 사용됨에 따라 그 폐기물의 환경 보호 차원적인 처리가 무엇보다 중요하게 대두되고 있다.The cleaning of the wafer surface is of great importance in the manufacture of semiconductor devices. For this reason, a large concentration of acid and alkaline solutions are used as washing water in the wafer manufacturing process, and photoresist is used in the form of slurry in another patterning process. As such a large amount of chemical solvents are used in the semiconductor manufacturing process, the environmental protection dimension of the waste is more important than ever.
반도체 제조 공정에서 화학적 폐기물은 사용 후 처리 공정을 거쳐 폐기되는 것과, 사용되지도 않고 폐기되는 것이 있다. 후자의 경우는 사용되지도 않고 폐기되는 것에 따른 경제적 낭비 문제는 물론, 폐기물의 산출량 증가를 불필요하게 초래하는 원인이 되는 문제점이 있어서 시급한 개선책이 요망되고 있는 분야이다.In the semiconductor manufacturing process, chemical waste is discarded through a post-treatment process, and discarded without being used. In the latter case, there is a problem in that economic waste caused by not being used and discarded, as well as a problem that causes an increase in the output of the waste unnecessarily, is an urgent field of improvement.
예로서, 도 1에 종래의 액상 화학용제 체크 시스템을 도시하였다.As an example, FIG. 1 illustrates a conventional liquid chemical solvent check system.
도 1에 도시된 액상 화학용제 체크 시스템은, 테프론제 저장용기(2)의 하단부 외주에 수위 레벨을 검출하기 위한 포토 커플러의 발광부(4a)와 수광부(4b)를 대향 배치하여 놓은 구성으로 되어 있다. 상기 테프론제 저장용기(2)에 수용되어 있는 화학용제는 스트로관(6)을 통해 외부로 인출된다. 이 때 스트로관(6)에 개재되어 있는 3상관(8)은 저장 용기(2)를 배기시키거나 또는 수용된 화학 용제가 필터(10)를 통과하여 웨이퍼(12) 상으로 공급되도록 관로를 교체하여 준다. 웨이퍼(12)로 공급되는 화학용제는 중간에 배치된 흡기관(14)의 작용으로 후적(後滴)이 발생하지 않게 된다.The liquid chemical solvent check system shown in FIG. 1 has a configuration in which the light emitting portion 4a and the light receiving portion 4b of the photocoupler for detecting the water level are arranged on the outer circumference of the lower end of the Teflon storage container 2. have. The chemical solvent contained in the Teflon storage container 2 is drawn out through the straw tube 6. At this time, the three-phase pipe 8 interposed in the straw tube 6 may exhaust the storage container 2 or replace the conduit so that the contained chemical solvent passes through the filter 10 and is supplied onto the wafer 12. give. The chemical solvent supplied to the wafer 12 does not generate a thickening by the action of the intake pipe 14 arranged in the middle.
상기와 같은 종래의 시스템에서, 테프론제 저장 용기(2)에 수용된 화학 용제의 레벨은 저장 용기(2)의 밑부분 외주에 대칭되게 배치된 발광부(4a)와 수광부(4b)의 작용으로 검출된다. 즉, 저장 용기(2)에 수용된 화학용제의 액위가 일정 이하로 떨어지면 발광소자(4a)의 빛이 투명한 저장 용기(2)를 투과하여 수광소자(4b)를 감응시키게 되고, 이로 인해 수광소자(4b)가 턴-온 되어 통전 상태로 됨에 따라 경보장치(16)로 전원(Vcc)이 인가되어 경보음 또는 경광을 발함으로써 작업자는 용제의 잔량이 거의 소진되었음을 알게 되는 것이다.In the conventional system as described above, the level of the chemical solvent contained in the teflon storage container 2 is detected by the action of the light emitting portion 4a and the light receiving portion 4b which are arranged symmetrically on the outer periphery of the bottom of the storage container 2. do. That is, when the liquid level of the chemical solvent contained in the storage container 2 falls below a certain level, the light of the light emitting device 4a penetrates the transparent storage container 2 to sensitize the light receiving device 4b. As 4b) is turned on and energized, the power supply Vcc is applied to the alarm device 16 to emit an alarm sound or alarm, and the operator knows that the remaining amount of the solvent is almost exhausted.
이와 같은 시스템은 저장 용기(2)의 잔량을 미리 체크하여 화학 용제를 중단 없이 공정에 공급할 수 있는 장점이 있으나, 저장 용기(2)의 바닥에 남게 되는 화학 용제의 잔량이 비교적 다량으로 되어 용제의 경제적 낭비를 초래할 뿐만 아니라, 이를 중화 처리하는 데에 소요되는 비용의 증가를 초래하고, 또 폐기량도 많아져서 공해물질을 다량 산출하는 문제점이 있다. 물론 저장 용기(2)의 바닥에 잔존하는 화학 용제를 다시 수거하여 사용하는 방법도 고려할 수 있으나, 이를 수거할 때에 화학 용제가 외기와 접촉되어 물성 변화가 생기고, 또 수거 중에 이물, 진개 등이 혼입됨에 따라 공정의 양품 회수율이 저하되기 때문에 저장 용기(2)에 남아 있는 잔존량은 그대로 폐기함이 일반적이다.Such a system has an advantage of supplying a chemical solvent to a process without interruption by checking the remaining amount of the storage container 2 in advance, but the remaining amount of the chemical solvent remaining at the bottom of the storage container 2 becomes relatively large. Not only does it cause economic waste, but also causes an increase in the cost of neutralizing it, and there is a problem that a large amount of pollutant is produced due to a large amount of waste. Of course, a method of collecting and using the remaining chemical solvent at the bottom of the storage container 2 may be considered.However, the chemical solvent is brought into contact with the outside air to cause physical property changes during collection, and foreign matter and dust may be mixed during collection. As a result, the yield recovery rate of the process is lowered, so that the remaining amount remaining in the storage container 2 is generally discarded as it is.
또한, 발광부의 빛이 테프론제 저장 용기의 하부를 투과할 때에 빛의 손실과 굴절이 상당하여 수광부가 정밀하게 감응하지 못하여 체크 불량을 야기하는 일도 종종 발생한다.In addition, when the light of the light emitting portion passes through the lower portion of the Teflon storage container, the loss and refraction of the light is considerable, so that the light receiving portion cannot be accurately sensed, which often causes a check failure.
상기 기술한 바와 같이, 본 발명은 저장 용기에 잔존하는 화학 용제의 폐기로 초래될 수 있는 문제점을 근본적으로 해결하기 위하여 저장 용기에 잔존하게 되는 화학 용제의 잔량을 극소화시켜 그 폐기량을 줄이므로써, 화학 용제의 중화 처리에 소요되는 비용의 절감과, 공해물질의 산출량을 격감시킬 수 있는 반도체 공정의 액상 화학제 잔량 체크 시스템을 제공함에 그 목적을 두고 있다.As described above, the present invention minimizes the residual amount of chemical solvent remaining in the storage container to reduce the waste amount in order to fundamentally solve the problem that may be caused by the disposal of the chemical solvent remaining in the storage container. The aim of the present invention is to reduce the cost of neutralizing chemical solvents and to provide a system for checking the remaining amount of liquid chemicals in semiconductor processes that can reduce the amount of pollutant output.
상기의 목적을 구현하기 위하여, 본 발명의 반도체 공정의 액상 화학제 잔량 체크 시스템은, 화학 용제의 잔량이 수집되는 저류실이 바닥보다 하측면으로 돌출 형성된 테프론제 저장용기와; 상기 저류실을 사이에 두고 대칭되는 위치로 배치되어 포토 커플러를 형성하는 발광부 및 수광부와; 이들 발광부 및 수광부가 내부 소정 개소에 고정 배치되고 상기 테프론제 저장 용기를 안정되게 지지하여 주는 용기 받침대와; 상기 테프론제 저장용기로부터 스트로관을 통해 주출되는 화학 용제를 소정의 경로로 인도하거나 상기 스트로관을 배기로에 선택적으로 연통시켜 주는 3상 밸브와; 상기 스트로관을 통해 공급되는 화학 용제로부터 이물, 진개 등을 여과하는 필터와; 상기 스트로관의 종단에 부착되어서 웨이퍼로 공급되는 화학 용제가 공급 정지인 때에 후적을 일으키지 않도록 상기 화학 용제를 흡인하는 흡기관을 갖춘 구성으로 이루어진다.In order to achieve the above object, the liquid chemical residual amount check system of the semiconductor process of the present invention, the storage chamber for collecting the residual amount of the chemical solvent protruding to the lower side than the bottom; A light emitting part and a light receiving part disposed at symmetrical positions with the storage chamber interposed therebetween to form a photo coupler; A container pedestal which is fixed to these light emitting portions and the light receiving portion at predetermined positions and stably supports the Teflon storage container; A three-phase valve for guiding the chemical solvent discharged from the Teflon storage container through the straw tube through a predetermined path or selectively communicating the straw tube to the exhaust passage; A filter for filtering foreign substances, dust, etc. from the chemical solvent supplied through the straw tube; It consists of a structure provided with the intake pipe which affixes to the end of the said straw tube, and sucks the said chemical solvent so that it may not generate a trace when the chemical solvent supplied to a wafer is stopped supply.
이와 같은 본 발명의 구성에서, 테프론제 저장용기는 밑면에 지지각을 일체로 갖출 수 있고, 이것은 테프론제 저장 용기가 용기 받침대에 수납되었을 때에 이를 지지하기 위한 구조가 없어도 안정되게 놓여지도록 한다.In such a configuration of the present invention, the Teflon storage container may be integrally provided with a support angle on the bottom surface, so that the Teflon storage container is stably placed even when there is no structure for supporting the Teflon storage container when stored in the container holder.
또, 테프론제 저장 용기의 바닥에 일체로 형성되는 저류실은 그 직경이 상기 테프론제 저장 용기의 개구 내경보다 약간 작거나 거의 같은 크기로 되는 것이 바람직하며, 이것에 의해 화학 용제의 추출이 끝나 비어 있는 저장 용기를 적재하여 보관할 때 상당히 편리하게 이용할 수 있다.The storage chamber integrally formed at the bottom of the Teflon storage container preferably has a diameter that is slightly smaller than or approximately the same as the inner diameter of the opening of the Teflon storage container. It can be used quite conveniently when loading and storing storage containers.
상기 저류실은 원통형, 깔대기상의 원추형 등으로 형성할 수 있고, 자체 중심을 유지할 수 있도록 저류실의 주위로 지지각을 일체로 부여한 것이 더욱 사용하기 편리하다.The storage chamber may be formed in a cylindrical shape, a funnel-like cone, etc., and it is more convenient to use a support angle integrated around the storage chamber so as to maintain its own center.
상기한 바와 같은 본 발명은 저장 용기에 잔존하게 되는 화학 용제가 저류실의 체적에 해당되는 극소량으로 되기 때문에 이를 폐기하는 데에 소요되는 중화제 등의 사용량을 현저하게 절약할 수 있을 뿐만 아니라, 중화 처리되어 폐기되는 용제의 분량도 극소량으로 되어 공해물질의 산출량을 근본적으로 줄일 수 있게 된다.According to the present invention as described above, since the amount of the chemical solvent remaining in the storage container becomes a very small amount corresponding to the volume of the storage chamber, the amount of the neutralizing agent, etc. required to dispose of it can be remarkably saved, and the neutralization treatment is performed. As a result, the amount of solvent discarded is also very small, which can fundamentally reduce the amount of pollutant output.
도 1은 종래의 액상 화학용제 잔량 체크 시스템의 구성예를 도시하는 개략 측면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic side view which shows the structural example of the conventional liquid chemical residual amount checking system.
도 2는 본 발명에 관련된 반도체 공정의 액상 화학용제 잔량 체크 시스템의 구성을 도시하는 개략 측면도.2 is a schematic side view showing the configuration of a liquid chemical solvent remaining amount check system of a semiconductor process according to the present invention.
도 3은 도 2에 도시한 흡기관의 구조를 도시하는 측면도.FIG. 3 is a side view showing the structure of the intake pipe shown in FIG. 2. FIG.
도 4는 본 발명에 적합한 저장 용기의 다른 변형예를 중첩 보관한 상태로 도시한 측면도.Fig. 4 is a side view showing another modified example of a storage container suitable for the present invention in an overlapped state.
도 5는 도 4의 저면도이다.5 is a bottom view of FIG. 4.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
20 : 테프론제 저장용기 22 : 용기 받침대20: Teflon storage container 22: container support
24 : 저류실 26a : 포토커플러의 발광부24: storage chamber 26a: light emitting portion of the photocoupler
26b : 포토커플러의 수광부 28 : 경보수단26b: Receiver of photocoupler 28: Alarm means
30 : 스트로관 38 : 흡기관30: straw tube 38: intake pipe
202 : 지지각202: support angle
상술한 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면 도 2 내지 도 5에 따라 상세히 설명하면 다음과 같다.Preferred embodiments of the present invention described above will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 5 as follows.
도 2는 본 발명에 관련된 반도체 공정의 액상 화학용제 잔량 체크 시스템을 설명하는 측면도이다.2 is a side view illustrating a liquid chemical solvent remaining amount check system of a semiconductor process according to the present invention.
도시한 실시예에서, 테프론제 저장 용기(20)는 용기 받침대(22)에 의해 그 밑면 주위가 안정되게 지지되고 있으며, 또 밑면의 중심부에는 작은 직경의 원통형으로 형성된 저류실(24)이 하방으로 돌출 형성되어서 상기 용기 받침대(22)의 바닥 면에 근접하는 구성으로 되어 있다. 이러한 용기 받침대(22)는 그 내부에 상기 저류실(24)을 사이에 두고 포토커플러의 발광부(26a)와 수광부(26b)가 대칭을 이루는 위치로 고정 배치되어서 하나의 포토 커플러를 형성하고 있다. 또한, 상기 발광부(26a)는 전원(Vcc)에 의해 항상 통전되어 빛을 발하고 있는 것이고 대향 배치된 수광부(26b)는 상기 발광부(26a)의 빛을 감응하였을 때에 턴-온 되어서 통전상태로 됨에 따라 전원(Vcc)이 경보수단(28)으로 인가되어 화학 용제가 소모되었음을 작업자에게 알려 줄 수 있게 되어 있다.In the illustrated embodiment, the teflon storage container 20 is stably supported around its bottom by the container support 22, and the storage chamber 24 formed in a cylindrical shape having a small diameter is downward in the center of the bottom. It is formed so that it may protrude and come close to the bottom surface of the said container base 22. As shown in FIG. The container pedestal 22 is fixedly arranged at a position where the light emitting portion 26a and the light receiving portion 26b of the photocoupler are symmetrical with the storage chamber 24 therebetween to form a single photo coupler. . In addition, the light emitting unit 26a is always energized by the power supply Vcc and emits light, and the light receiving unit 26b disposed opposite is turned on when the light of the light emitting unit 26a is sensed and is in an energized state. As the power supply (Vcc) is applied to the alarm means 28 to inform the worker that the chemical solvent has been consumed.
상기 테프론제 저장 용기(20)에 수용된 화학 용제는 스트로관(30)을 통해 외부로 주출된다. 스트로관(30)의 도중에는 3상 밸브(32)가 개재되어 있는데, 이것은 화학 용제를 주출하는 동안에는 스트로관(30)을 필터(34)로 연통시키고, 화학 용제의 공급이 중단된 때에는 배기 측으로 연통시키는 작용을 한다.The chemical solvent contained in the teflon storage container 20 is discharged to the outside through the straw tube 30. The three-phase valve 32 is interposed in the middle of the straw tube 30, which communicates the straw tube 30 to the filter 34 while discharging the chemical solvent, and to the exhaust side when the supply of the chemical solvent is stopped. To act.
필터(34)로 공급된 화학 용제는 여기를 통과하면서 혼입되어 있는 이물, 진개 등이 걸러져 청정화되고, 이렇게 청정화된 화학 용제는 웨이퍼(36) 상으로 공급된다.The chemical solvent supplied to the filter 34 is cleaned by filtering foreign matter, dust, and the like, which are mixed while passing through the filter 34, and the chemical solvent thus cleaned is supplied onto the wafer 36.
이와 같이 웨이퍼(36)로 공급되는 화학 용제를 공급 중단하게 되면, 즉시로 흡기관(38)이 작동하여 공급 중에 있는 화학 용제를 거꾸로 흡인하여 후적에 의한 웨이퍼(36)의 불량이 생기지 않게 작용한다.When the chemical solvent supplied to the wafer 36 is stopped in this manner, the intake pipe 38 immediately operates to suck up the chemical solvent being supplied upside down so that the defect of the wafer 36 due to the deposit does not occur. .
흡기관(38)은 도 3에 도시한 바와 같이, 스트로관(30)의 주위를 둘러싸는 2중관 구조로 배치된 것이며, 이 흡기관(38)을 통해 발생되는 부압의 작용으로 스트로관(30)에서 추출되고 있던 화학 용제는 후적을 일으키지 않고 깨끗하게 차단되어 웨이퍼(36)의 표면에 흔적을 남기지 않게 되는 것이다.As shown in FIG. 3, the intake pipe 38 is disposed in a double pipe structure surrounding the straw tube 30, and the straw tube 30 is formed by the action of negative pressure generated through the intake pipe 38. ), The chemical solvent extracted in the c) is cut off cleanly without causing any traces, and no trace is left on the surface of the wafer 36.
상술한 과정에 따라 화학 용제가 공급되면서 공정이 진행되어 상기 테프론제 저장 용기(20)에 수용된 화학 용제의 수용량은 점차 줄어들게 되고, 최종적으로는 제한된 저류실(24)에만 남게 된다.The process proceeds while the chemical solvent is supplied according to the above-described process, so that the capacity of the chemical solvent contained in the Teflon storage container 20 gradually decreases, and finally remains only in the limited storage chamber 24.
그러나 상기 저류실(24)에 남아 있는 화학 용제의 수위가 일정 이상, 더 구체적으로는 발광부(26a)와 수광부(26b)를 잇는 수평선과 일치하는 수위보다 낮아지게 되면, 상기 수광부(26b)가 발광부(26a)의 빛을 감응하게 되어 경보수단(28)이 작동하게 된다.However, when the water level of the chemical solvent remaining in the storage chamber 24 is lower than a certain level, more specifically, the level corresponding to the horizontal line connecting the light emitting part 26a and the light receiving part 26b, the light receiving part 26b becomes The light from the light emitting portion 26a is sensitive to the alarm means 28 is activated.
경보수단(28)의 신호는 작업자에 고지되어서 소모된 테프론제 저장 용기(20)를 교체하게 되는 것이다.The signal of the alarm means 28 is to notify the operator to replace the spent teflon storage container 20.
상술한 바와 같은 본 발명의 반도체 공정의 액상 화학제 잔량 체크 시스템에서, 테프론제 저장 용기(20)는 도 4의 도시와 같이 변형 실시될 수 있다.In the liquid chemistry remaining amount check system of the semiconductor process of the present invention as described above, the teflon storage container 20 may be modified as shown in FIG.
예시한 테프론제 저장 용기(20)는 밑면에 지지각(202)을 갖추고 있고, 또 저류실(24)의 외경 Φ1보다 주출구 측 내경 Φ2가 약간 더 큰 치수로 된 구성을 가지고 있다. 그리고 상기 지지각(202)은 도 5로 도시한 바와 같이 테프론제 저장 용기(20)의 밑면에서 저류실(24)을 중심으로 4방 배치되어 상기 발광부(26a)와 수광부(26b) 사이의 장애물로 작용하지 않도록 함과 동시에 그 종단이 저류실(24)의 종단과 일치하는 치수로 설정하여 두는 것이 바람직하다.The illustrated Teflon storage container 20 has a support angle 202 at its bottom surface, and has a configuration in which the outlet-side inner diameter Φ 2 is slightly larger than the outer diameter Φ 1 of the storage chamber 24. As shown in FIG. 5, the support angle 202 is disposed at four sides of the storage chamber 24 at the bottom of the Teflon storage container 20 to be disposed between the light emitting part 26a and the light receiving part 26b. It is preferable not to act as an obstacle, and to set the end to a dimension that matches the end of the storage chamber 24.
이와 같은 변형예는 테프론제 저장 용기(20)를 도 4에 도시한 바와 같이 다단으로 적재하여 보관할 수 있어, 보관시에 부피가 최소로 되게 된다. 다시 말해서 어느 하나의 테프론제 저장 용기(20)를 다른 테프론제 저장 용기(20)에 적재하여 보관할 때에, 한쪽 저류실(24)을 다른 쪽 주출구에 끼워 넣어 적재할 수 있어서 점유 공간을 최소화할 수 있다. 이 때 4개의 지지각(202)은 대응하는 테프론제 저장 용기(20)의 어깨부분과 접촉하여 지지됨에 따라 안정되게 적재하여 둘 수 있는 것이다.In such a modified example, the teflon storage container 20 can be stored in multiple stages as shown in FIG. 4, so that the volume is minimized during storage. In other words, when one teflon storage container 20 is loaded and stored in another teflon storage container 20, one storage chamber 24 can be inserted into the other outlet to minimize the space to be occupied. Can be. At this time, the four support angles 202 can be stably loaded as they are supported in contact with the shoulder portion of the corresponding Teflon storage container 20.
이상 설명한 바와 같이 본 발명은 발광부와 수광부로 이루어진 포토 커플러의 작용으로 테프론제 저장 용기에 잔존하는 화학 용제의 잔량을 체크하여 경보하는 시스템에 있어서, 상기 테프론제 저장 용기의 밑면에 작은 부피를 가진 저류실을 일체로 형성하여 화학 용제의 잔량을 극소화시킴에 따라, 반도체 제조 공정에서 소비되는 값비싼 화학 용제의 사용량을 최소로 줄이고, 또한 이를 중화 처리하는 데에 소요되는 중화제의 소비량을 대폭 절감시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has a small volume at the bottom of the Teflon storage container in a system for checking and alerting the remaining amount of chemical solvent remaining in the Teflon storage container by the action of a photo coupler consisting of a light emitting unit and a light receiving unit. By minimizing the residual amount of chemical solvents by forming the storage chamber integrally, the amount of expensive chemical solvents consumed in the semiconductor manufacturing process can be minimized and the consumption of neutralizing agents required to neutralize them can be greatly reduced. It can be effective.
이에 따라 공정 가동에 필연적으로 생기는 공해물질의 산출량도 비례적으로 저감되며, 발광부의 빛이 저류실을 투과할 때에 야기되는 광 손실도 줄어들어 정밀한 잔량 체크를 구현하는 효과도 가지고 있다.Accordingly, the amount of pollutants inevitably generated during the operation of the process is also reduced proportionally, and the light loss caused when the light of the light emitting part passes through the storage chamber is also reduced, thereby making it possible to implement accurate residual check.
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019980039595A KR100283031B1 (en) | 1998-09-24 | 1998-09-24 | Liquid Chemical Residue Check System in Semiconductor Process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980039595A KR100283031B1 (en) | 1998-09-24 | 1998-09-24 | Liquid Chemical Residue Check System in Semiconductor Process |
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| KR20000020814A KR20000020814A (en) | 2000-04-15 |
| KR100283031B1 true KR100283031B1 (en) | 2001-04-02 |
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ID=19551722
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| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100283031B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210142957A (en) | 2020-05-19 | 2021-11-26 | 엘지이노텍 주식회사 | Adapter tube assembly and dispenser including the same |
-
1998
- 1998-09-24 KR KR1019980039595A patent/KR100283031B1/en not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210142957A (en) | 2020-05-19 | 2021-11-26 | 엘지이노텍 주식회사 | Adapter tube assembly and dispenser including the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| KR20000020814A (en) | 2000-04-15 |
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