JPWO2023054531A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3965258B2 (ja) * 1999-04-30 2007-08-29 日本碍子株式会社 半導体製造装置用のセラミックス製ガス供給構造
JP5045000B2 (ja) * 2006-06-20 2012-10-10 東京エレクトロン株式会社 成膜装置、ガス供給装置、成膜方法及び記憶媒体
JP2010047780A (ja) * 2008-08-19 2010-03-04 Shibaura Mechatronics Corp 真空処理装置及び真空処理方法
JP2012009752A (ja) * 2010-06-28 2012-01-12 Sharp Corp 気相成長装置、及びガス吐出装置
CN103314134B (zh) * 2011-03-15 2015-07-15 东芝三菱电机产业系统株式会社 成膜装置
JP2015095551A (ja) * 2013-11-12 2015-05-18 東京エレクトロン株式会社 シャワーヘッドアセンブリ及びプラズマ処理装置
WO2018190220A1 (ja) * 2017-04-14 2018-10-18 住友電気工業株式会社 シャワーヘッド
CN107393802A (zh) * 2017-07-17 2017-11-24 江苏鲁汶仪器有限公司 一种等离子体刻蚀系统的喷淋头
JP7008497B2 (ja) * 2017-12-22 2022-01-25 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および温度制御方法
WO2020116246A1 (ja) * 2018-12-06 2020-06-11 東京エレクトロン株式会社 シャワープレート、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
US12516416B2 (en) * 2019-05-30 2026-01-06 Kyocera Corporation Flow path member

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